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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2026-01-07
(45)【発行日】2026-01-16
(54)【発明の名称】狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
(51)【国際特許分類】
H01S 3/10 20060101AFI20260108BHJP
【ＦＩ】
H01S3/10 Z
【請求項の数】
20
(21)【出願番号】P 2024508881
(86)(22)【出願日】2022-03-23
(86)【国際出願番号】 JP2022013452
(87)【国際公開番号】W WO2023181159
(87)【国際公開日】2023-09-28
【審査請求日】2025-02-10
(73)【特許権者】
【識別番号】300073919
【氏名又は名称】ギガフォトン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001818
【氏名又は名称】弁理士法人Ｒ＆Ｃ
(74)【代理人】
【識別番号】100105212
【弁理士】
【氏名又は名称】保坂 延寿
(72)【発明者】
【氏名】岸本 繁人
(72)【発明者】
【氏名】宮本 浩孝
(72)【発明者】
【氏名】庭野 素己
【審査官】淺見 一喜
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１８－５１７２７８（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／０１５９２９７（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特表２０１７－５３８９６３（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１４／１９２７０４（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０１３－５１１８４２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２００２／１４１４６４（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００１－３０７９９７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｓ ３／００－３／３０
Ｇ０３Ｆ ７／２０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光共振器の光路に位置する光学素子及び回折光学素子と、前記光学素子を動かすことで前記回折光学素子に入射する光の入射角を変更する波長アクチュエータと、
前記波長アクチュエータを駆動する波長ドライバと、
前記光共振器から出力されるパルスレーザ光の波長が周期的に変化するように前記波長ドライバに波長制御信号を出力するプロセッサと、
前記波長制御信号の経路に配置され、前記波長アクチュエータの駆動周波数と異なるノッチ周波数で作用するノッチフィルタと、
を備える、狭帯域化レーザ装置。
【請求項2】
請求項１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチ周波数は、前記駆動周波数よりも高い周波数である、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項3】
請求項１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチ周波数は、前記駆動周波数の１倍より大きい奇数倍である、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項4】
請求項１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチ周波数は、前記波長アクチュエータの周期的な駆動によって振動する波長振り機構の振動系の共振周波数に合わせて設定される、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項5】
請求項１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチフィルタは、直列に接続された第１及び第２の帯域除去フィルタを含む、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項6】
請求項５に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記第１及び第２の帯域除去フィルタは、同一のノッチ周波数で作用する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項7】
請求項６に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記第１及び第２の帯域除去フィルタは、同一のノッチゲイン深さで作用する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項8】
請求項１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチフィルタは、前記プロセッサによってノッチパラメータを調整可能に構成された、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項9】
請求項８に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチパラメータは、前記ノッチ周波数とノッチゲイン深さとを含み、
前記プロセッサは、前記ノッチ周波数を調整した後で前記ノッチゲイン深さを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項10】
請求項８に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記パルスレーザ光の光路に位置する波長モニタをさらに備え、
前記プロセッサは、前記波長モニタの出力に基づいて前記パルスレーザ光の計測波長を算出し、前記計測波長に基づいて前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項11】
請求項１０に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記プロセッサは、前記計測波長と前記パルスレーザ光の目標波長との偏差を算出し、前記偏差に基づいて前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項12】
請求項１１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記プロセッサは、前記偏差と閾値とを比較し、前記偏差が前記閾値より大きいパルスが所定パルス数にわたって連続した場合に前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項13】
請求項１２に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチパラメータは、前記ノッチ周波数を含み、
前記プロセッサは、前記ノッチ周波数を増減させて前記偏差を算出し、前記偏差が０に近づくような前記ノッチ周波数を探索する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項14】
請求項１２に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチパラメータは、ノッチゲイン深さをさらに含み、
前記プロセッサは、前記ノッチゲイン深さを増減させて前記偏差を算出し、前記偏差が０に近づくような前記ノッチゲイン深さを探索する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項15】
請求項１０に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記プロセッサは、前記パルスレーザ光の目標波長が異なる複数のパルスの前記計測波長の波長差を算出し、前記波長差に基づいて前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項16】
請求項１５に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記プロセッサは、前記波長差を複数回算出して前記波長差の平均値を算出し、前記平均値が閾値より大きい場合に前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項17】
請求項１に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記ノッチフィルタは、直列に接続された第１及び第２の帯域除去フィルタを含み、
前記第１及び第２の帯域除去フィルタは、前記プロセッサによってそれぞれノッチパラメータを調整可能に構成された、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項18】
請求項１７に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記プロセッサは、前記第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチ周波数で作用するように、前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項19】
請求項１８に記載の狭帯域化レーザ装置であって、前記プロセッサは、前記第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチゲイン深さで作用するように、前記ノッチパラメータを調整する、
狭帯域化レーザ装置。
【請求項20】
電子デバイスの製造方法であって、光共振器の光路に位置する光学素子及び回折光学素子と、
前記光学素子を動かすことで前記回折光学素子に入射する光の入射角を変更する波長アクチュエータと、
前記波長アクチュエータを駆動する波長ドライバと、
前記光共振器から出力されるパルスレーザ光の波長が周期的に変化するように前記波長ドライバに波長制御信号を出力するプロセッサと、
前記波長制御信号の経路に配置され、前記波長アクチュエータの駆動周波数と異なるノッチ周波数で作用するノッチフィルタと、
を備える狭帯域化レーザ装置によって前記パルスレーザ光を生成し、
前記パルスレーザ光を露光装置に出力し、
前記電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記パルスレーザ光を露光する
ことを含む電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体露光装置においては、半導体集積回路の微細化及び高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。例えば、露光用のガスレーザ装置としては、波長約２４８ｎｍのレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長約１９３ｎｍのレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。
【0003】
ＫｒＦエキシマレーザ装置及びＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振光のスペクトル線幅は、３５０～４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過させる材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を含む狭帯域化モジュール（Line Narrowing Module：ＬＮＭ）が備えられる場合がある。スペクトル線幅が狭帯域化されるガスレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２００６－２７６１２８号公報
【文献】特開２００４－２６６６２４号公報
【文献】特開平０５－１０４４２１号公報
【文献】米国特許第４９６３８０６号明細書
【概要】
【0005】
本開示の１つの観点において、狭帯域化レーザ装置は、光共振器の光路に位置する光学素子及び回折光学素子と、光学素子を動かすことで回折光学素子に入射する光の入射角を変更する波長アクチュエータと、波長アクチュエータを駆動する波長ドライバと、光共振器から出力されるパルスレーザ光の波長が周期的に変化するように波長ドライバに波長制御信号を出力するプロセッサと、波長制御信号の経路に配置され、波長アクチュエータの駆動周波数と異なるノッチ周波数で作用するノッチフィルタと、を備える。
【0006】
本開示の１つの観点において、電子デバイスの製造方法は、光共振器の光路に位置する光学素子及び回折光学素子と、光学素子を動かすことで回折光学素子に入射する光の入射角を変更する波長アクチュエータと、波長アクチュエータを駆動する波長ドライバと、光共振器から出力されるパルスレーザ光の波長が周期的に変化するように波長ドライバに波長制御信号を出力するプロセッサと、波長制御信号の経路に配置され、波長アクチュエータの駆動周波数と異なるノッチ周波数で作用するノッチフィルタと、を備える狭帯域化レーザ装置によってパルスレーザ光を生成し、パルスレーザ光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上にパルスレーザ光を露光することを含む。
【図面の簡単な説明】
【0007】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【実施形態】
【0008】
＜内容＞
１．比較例
１．１ 露光システム
１．１．１ 構成
１．１．２ 動作
１．２ 狭帯域化レーザ装置１００
１．２．１ 構成
１．２．２ 動作
１．３ 狭帯域化モジュール１４
１．３．１ 構成
１．３．２ 動作
１．４ 周期的な波長の変化
１．５ 比較例の課題
２．固定ノッチフィルタ１８ａを含む狭帯域化レーザ装置１００ａ
２．１ 構成
２．２ 動作
２．３ 作用
３．複数段の帯域除去フィルタを含む固定ノッチフィルタ１８ｂ
３．１ 構成
３．２ 動作
３．３ 作用
４．可変ノッチフィルタ１８ｃを含む狭帯域化レーザ装置１００ｃ
４．１ 構成
４．２ 動作
４．２．１ 計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２に基づくノッチパラメータ調整
４．２．１．１ ノッチ周波数Ｆｎの調整
４．２．１．２ ノッチゲイン深さＧｎの調整
４．２．２ 計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差に基づくノッチパラメータ調整
４．３ 複数段の帯域除去フィルタを含む可変ノッチフィルタ
４．４ 作用
５．その他
１．比較例
１．１ 露光システム
１．１．１ 構成
１．１．２ 動作
１．２ 狭帯域化レーザ装置１００
１．２．１ 構成
１．２．２ 動作
１．３ 狭帯域化モジュール１４
１．３．１ 構成
１．３．２ 動作
１．４ 周期的な波長の変化
１．５ 比較例の課題
２．固定ノッチフィルタ１８ａを含む狭帯域化レーザ装置１００ａ
２．１ 構成
２．２ 動作
２．３ 作用
３．複数段の帯域除去フィルタを含む固定ノッチフィルタ１８ｂ
３．１ 構成
３．２ 動作
３．３ 作用
４．可変ノッチフィルタ１８ｃを含む狭帯域化レーザ装置１００ｃ
４．１ 構成
４．２ 動作
４．２．１ 計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２に基づくノッチパラメータ調整
４．２．１．１ ノッチ周波数Ｆｎの調整
４．２．１．２ ノッチゲイン深さＧｎの調整
４．２．２ 計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差に基づくノッチパラメータ調整
４．３ 複数段の帯域除去フィルタを含む可変ノッチフィルタ
４．４ 作用
５．その他
【0009】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【0010】
１．比較例
１．１ 露光システム
図１は、比較例における露光システムの構成を概略的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。
露光システムは、狭帯域化レーザ装置１００と、露光装置２００と、を含む。図１においては狭帯域化レーザ装置１００が簡略化して示されている。
１．１ 露光システム
図１は、比較例における露光システムの構成を概略的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。
露光システムは、狭帯域化レーザ装置１００と、露光装置２００と、を含む。図１においては狭帯域化レーザ装置１００が簡略化して示されている。
【0011】
狭帯域化レーザ装置１００は、レーザ制御プロセッサ１３０を含む。レーザ制御プロセッサ１３０は、制御プログラムが記憶されたメモリ１３２と、制御プログラムを実行するＣＰＵ（central processing unit）１３１と、を含む処理装置である。レーザ制御プロセッサ１３０は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。レーザ制御プロセッサ１３０は本開示におけるプロセッサに相当する。狭帯域化レーザ装置１００は、パルスレーザ光を露光装置２００に向けて出力するように構成されている。
【0012】
１．１．１ 構成
図１に示されるように、露光装置２００は、照明光学系２０１と、投影光学系２０２と、露光制御プロセッサ２１０と、を含む。
図１に示されるように、露光装置２００は、照明光学系２０１と、投影光学系２０２と、露光制御プロセッサ２１０と、を含む。
【0013】
照明光学系２０１は、狭帯域化レーザ装置１００から入射したパルスレーザ光によって、レチクルステージＲＴ上に配置された図示しないレチクルのレチクルパターンを照明する。
投影光学系２０２は、レチクルを透過したパルスレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しないワークピースに結像させる。ワークピースはレジスト膜が塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。
投影光学系２０２は、レチクルを透過したパルスレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しないワークピースに結像させる。ワークピースはレジスト膜が塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。
【0014】
露光制御プロセッサ２１０は、制御プログラムが記憶されたメモリ２１２と、制御プログラムを実行するＣＰＵ２１１と、を含む処理装置である。露光制御プロセッサ２１０は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。露光制御プロセッサ２１０は、露光装置２００の制御を統括する。
【0015】
１．１．２ 動作
露光制御プロセッサ２１０は、目標波長λｔ１及びλｔ２と電圧指令値ＨＶとを含む各種パラメータと、トリガ信号と、をレーザ制御プロセッサ１３０に送信する。レーザ制御プロセッサ１３０は、これらのパラメータ及び信号に従って狭帯域化レーザ装置１００を制御する。目標波長λｔ１及びλｔ２は波長の目標値である。目標波長λｔ２は目標波長λｔ１より大きい波長とする。
露光制御プロセッサ２１０は、目標波長λｔ１及びλｔ２と電圧指令値ＨＶとを含む各種パラメータと、トリガ信号と、をレーザ制御プロセッサ１３０に送信する。レーザ制御プロセッサ１３０は、これらのパラメータ及び信号に従って狭帯域化レーザ装置１００を制御する。目標波長λｔ１及びλｔ２は波長の目標値である。目標波長λｔ２は目標波長λｔ１より大きい波長とする。
【0016】
露光制御プロセッサ２１０は、レチクルステージＲＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して互いに逆方向に平行移動させる。これにより、レチクルパターンを反映したパルスレーザ光でワークピースが露光される。
このような露光工程によって半導体ウエハにレチクルパターンが転写される。その後、複数の工程を経ることで電子デバイスを製造することができる。
このような露光工程によって半導体ウエハにレチクルパターンが転写される。その後、複数の工程を経ることで電子デバイスを製造することができる。
【0017】
１．２ 狭帯域化レーザ装置１００
１．２．１ 構成
図２は、比較例における狭帯域化レーザ装置１００の構成を概略的に示す。図２においては露光装置２００が簡略化して示され、また互いに垂直なＶ軸、Ｈ軸、及びＺ軸が示されている。
１．２．１ 構成
図２は、比較例における狭帯域化レーザ装置１００の構成を概略的に示す。図２においては露光装置２００が簡略化して示され、また互いに垂直なＶ軸、Ｈ軸、及びＺ軸が示されている。
【0018】
狭帯域化レーザ装置１００は放電励起型レーザ装置であり、レーザ制御プロセッサ１３０の他に、レーザチャンバ１０と、パルス電源１３と、狭帯域化モジュール１４と、出力結合ミラー１５と、波長モニタ１７と、を含む。狭帯域化モジュール１４及び出力結合ミラー１５は光共振器を構成する。
【0019】
レーザチャンバ１０は、光共振器の光路に配置されている。レーザチャンバ１０にはウインドウ１０ａ及び１０ｂが設けられている。
レーザチャンバ１０は、放電電極１１ａ及びこれと対をなす図示しない放電電極を内部に備えている。図示しない放電電極は、Ｖ軸の方向において放電電極１１ａと重なるように位置している。レーザチャンバ１０には、例えばレアガスとしてアルゴンガス又はクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガス、バッファガスとしてネオンガス等を含むレーザガスが封入される。
レーザチャンバ１０は、放電電極１１ａ及びこれと対をなす図示しない放電電極を内部に備えている。図示しない放電電極は、Ｖ軸の方向において放電電極１１ａと重なるように位置している。レーザチャンバ１０には、例えばレアガスとしてアルゴンガス又はクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガス、バッファガスとしてネオンガス等を含むレーザガスが封入される。
【0020】
パルス電源１３は、図示しない充電器、充電コンデンサ、及びスイッチを含む。充電器は充電コンデンサに供給するための電気エネルギーを保持しており、充電コンデンサに接続されている。充電コンデンサはスイッチを介して放電電極１１ａに接続される。
【0021】
狭帯域化モジュール１４は、プリズム４１～４３と、グレーティング５３と、ミラー６３と、回転ステージ１４３及び１６３と、を含む。回転ステージ１４３は波長ドライバ１２に接続され、回転ステージ１６３は波長ドライバ１８に接続されている。グレーティング５３は本開示における回折光学素子に相当する。ミラー６３は本開示における光学素子に相当する。回転ステージ１６３は本開示における波長アクチュエータに相当する。狭帯域化モジュール１４の詳細については後述する。
出力結合ミラー１５は、部分反射ミラーで構成されている。
出力結合ミラー１５は、部分反射ミラーで構成されている。
【0022】
出力結合ミラー１５から出力されたパルスレーザ光の光路に、パルスレーザ光の一部を高い透過率で透過させ、他の一部を反射するビームスプリッタ１６が配置されている。ビームスプリッタ１６によって反射されたパルスレーザ光の光路に、波長モニタ１７が配置されている。波長モニタ１７は、図示しないエタロン分光器を含み、干渉縞の光強度分布を取得するように構成されている。この干渉縞の半径は波長の変化に依存する。
ビームスプリッタ１６を透過したパルスレーザ光の光路に、シャッター１９が配置されている。
ビームスプリッタ１６を透過したパルスレーザ光の光路に、シャッター１９が配置されている。
【0023】
１．２．２ 動作
レーザ制御プロセッサ１３０は、露光制御プロセッサ２１０から目標波長λｔ１及びλｔ２と、電圧指令値ＨＶと、を含む各種パラメータを取得する。レーザ制御プロセッサ１３０は、目標波長λｔ１及びλｔ２に基づいて波長ドライバ１２及び１８に波長制御信号を出力することにより狭帯域化モジュール１４を制御する。レーザ制御プロセッサ１３０は、電圧指令値ＨＶをパルス電源１３に含まれる充電器に設定する。
レーザ制御プロセッサ１３０は、露光制御プロセッサ２１０から目標波長λｔ１及びλｔ２と、電圧指令値ＨＶと、を含む各種パラメータを取得する。レーザ制御プロセッサ１３０は、目標波長λｔ１及びλｔ２に基づいて波長ドライバ１２及び１８に波長制御信号を出力することにより狭帯域化モジュール１４を制御する。レーザ制御プロセッサ１３０は、電圧指令値ＨＶをパルス電源１３に含まれる充電器に設定する。
【0024】
レーザ制御プロセッサ１３０は、露光制御プロセッサ２１０からトリガ信号を受信する。レーザ制御プロセッサ１３０は、トリガ信号に基づく発振トリガ信号をパルス電源１３に送信する。パルス電源１３に含まれるスイッチは、レーザ制御プロセッサ１３０から発振トリガ信号を受信するとオン状態となる。パルス電源１３は、スイッチがオン状態となると、充電器に充電された電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を放電電極１１ａに印加する。
【0025】
放電電極１１ａに高電圧が印加されると、放電電極１１ａ及び図示しない放電電極の間の放電空間に放電が起こる。この放電のエネルギーにより、レーザチャンバ１０内のレーザガスが励起されて高エネルギー準位に移行する。励起されたレーザガスが、その後、低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた波長の光を放出する。
【0026】
レーザチャンバ１０内で発生した光は、ウインドウ１０ａ及び１０ｂを介してレーザチャンバ１０の外部に出射する。ウインドウ１０ａから出射した光は、狭帯域化モジュール１４に入射する。狭帯域化モジュール１４に入射した光のうちの所望波長付近の光が、狭帯域化モジュール１４によって折り返されてレーザチャンバ１０に戻される。
【0027】
出力結合ミラー１５は、ウインドウ１０ｂから出射した光のうちの一部を透過させてパルスレーザ光として出力し、他の一部を反射してレーザチャンバ１０に戻す。
【0028】
このようにして、レーザチャンバ１０から出射した光は、狭帯域化モジュール１４と出力結合ミラー１５との間で往復する。この光は、レーザチャンバ１０内の放電空間を通過する度に増幅される。また、この光は、狭帯域化モジュール１４によって折り返される度に狭帯域化され、狭帯域化モジュール１４による選択波長の範囲の一部を中心波長とした急峻な波長分布を有する光となる。こうしてレーザ発振し狭帯域化された光が、出力結合ミラー１５からパルスレーザ光として出力される。パルスレーザ光の波長とは、特に断らない限り中心波長をいうものとする。
【0029】
波長モニタ１７は、パルスレーザ光によって生成される干渉縞の光強度分布をレーザ制御プロセッサ１３０に送信する。レーザ制御プロセッサ１３０は、干渉縞の光強度分布に基づいて計測波長を算出し、計測波長に基づいて波長ドライバ１２及び１８に波長制御信号を出力することにより狭帯域化モジュール１４をフィードバック制御する。
【0030】
シャッター１９は、露光装置２００へ向けてパルスレーザ光を通過させる第１の状態と、露光装置２００へのパルスレーザ光の通過を抑制する第２の状態とに切り替え可能に構成されている。第１の状態と第２の状態との切り替えはレーザ制御プロセッサ１３０によって制御される。
【0031】
シャッター１９が第１の状態であるときにシャッター１９を通過したパルスレーザ光は、露光装置２００へ入射する。露光装置２００に含まれる図示しないエネルギーモニタがパルスレーザ光のパルスエネルギーを計測する。計測されたパルスエネルギーと目標パルスエネルギーとに基づいて露光制御プロセッサ２１０が電圧指令値ＨＶを算出し、レーザ制御プロセッサ１３０に送信する。パルスレーザ光のパルスエネルギーは電圧指令値ＨＶに従って制御される。
【0032】
１．３ 狭帯域化モジュール１４
１．３．１ 構成
プリズム４１、４２、及び４３は、ウインドウ１０ａから出射した光ビームの光路にこの順で配置されている。プリズム４１～４３は、光ビームが入出射するプリズム４１～４３の表面がいずれもＶ軸に平行となるように配置され、それぞれ図示しないホルダによって支持されている。プリズム４３は、回転ステージ１４３によってＶ軸に平行な軸周りに回転可能となっている。回転ステージ１４３の例としては、ステッピングモータを備えた可動範囲の大きい回転ステージが挙げられる。
１．３．１ 構成
プリズム４１、４２、及び４３は、ウインドウ１０ａから出射した光ビームの光路にこの順で配置されている。プリズム４１～４３は、光ビームが入出射するプリズム４１～４３の表面がいずれもＶ軸に平行となるように配置され、それぞれ図示しないホルダによって支持されている。プリズム４３は、回転ステージ１４３によってＶ軸に平行な軸周りに回転可能となっている。回転ステージ１４３の例としては、ステッピングモータを備えた可動範囲の大きい回転ステージが挙げられる。
【0033】
ミラー６３は、プリズム４１～４３を透過した光ビームの光路に配置されている。ミラー６３は、光ビームを反射する表面がＶ軸に平行となるように配置されており、回転ステージ１６３によってＶ軸に平行な軸周りに回転可能となっている。回転ステージ１６３の例としては、ピエゾ素子を備えた応答性の高い回転ステージが挙げられる。
【0034】
あるいは、プリズム４２を回転ステージ１４３によって回転可能とし、プリズム４３を回転ステージ１６３によって回転可能とし、ミラー６３は回転させなくてもよい。この場合、プリズム４３は本開示における光学素子に相当する。
【0035】
グレーティング５３は、ミラー６３によって反射された光ビームの光路に配置されている。グレーティング５３の溝の方向は、Ｖ軸に平行である。グレーティング５３は、図示しないホルダによって支持されている。
【0036】
１．３．２ 動作
ウインドウ１０ａから出射した光ビームは、プリズム４１～４３の各々によって、Ｖ軸に垂直な面であるＨＺ面に平行な面内で進行方向を変えられ、ＨＺ面に平行な面内でビーム幅を拡大させられる。
プリズム４１～４３を透過した光ビームは、ミラー６３によって反射されてグレーティング５３に入射する。
ウインドウ１０ａから出射した光ビームは、プリズム４１～４３の各々によって、Ｖ軸に垂直な面であるＨＺ面に平行な面内で進行方向を変えられ、ＨＺ面に平行な面内でビーム幅を拡大させられる。
プリズム４１～４３を透過した光ビームは、ミラー６３によって反射されてグレーティング５３に入射する。
【0037】
グレーティング５３に入射した光ビームは、グレーティング５３の複数の溝によって反射されるとともに、光の波長に応じた方向に回折させられる。グレーティング５３は、ミラー６３からグレーティング５３に入射する光ビームの入射角と、所望波長の回折光の回折角と、が一致するようにリトロー配置とされる。
【0038】
ミラー６３は、グレーティング５３から戻された光をプリズム４３に向けて反射する。プリズム４１～４３は、ミラー６３によって反射された光のビーム幅をＨＺ面に平行な面内で縮小させるとともに、その光を、ウインドウ１０ａを介してレーザチャンバ１０の内部に戻す。
【0039】
波長ドライバ１２及び１８は、波長制御信号に基づく駆動信号を出力することにより、それぞれ回転ステージ１４３及び１６３を駆動する。回転ステージ１４３及び１６３の回転角度に応じて、グレーティング５３に入射する光ビームの入射角が変化し、狭帯域化モジュール１４によって選択される波長が変化する。回転ステージ１４３は主に粗調整に使用され、回転ステージ１６３は主に微調整に使用される。
【0040】
１．４ 周期的な波長の変化
図３は、パルスレーザ光の目標波長を周期的に変化させる例を示すグラフである。図３において、横軸は時間を示し、縦軸は目標波長を示す。
狭帯域化レーザ装置１００は、露光制御プロセッサ２１０からのトリガ信号に従い、ある期間にわたって一定以上の繰り返し周波数でレーザ発振を行う。一定以上の繰り返し周波数でレーザ発振を行い、パルスレーザ光を出力することを「バースト発振」という。
図３は、パルスレーザ光の目標波長を周期的に変化させる例を示すグラフである。図３において、横軸は時間を示し、縦軸は目標波長を示す。
狭帯域化レーザ装置１００は、露光制御プロセッサ２１０からのトリガ信号に従い、ある期間にわたって一定以上の繰り返し周波数でレーザ発振を行う。一定以上の繰り返し周波数でレーザ発振を行い、パルスレーザ光を出力することを「バースト発振」という。
【0041】
露光制御プロセッサ２１０からのトリガ信号が休止すると、狭帯域化レーザ装置１００はバースト発振を休止する。その後、露光制御プロセッサ２１０からのトリガ信号に従い、狭帯域化レーザ装置１００は再度バースト発振を行う。
【0042】
バースト発振が行われる期間は、例えば、露光装置２００において半導体ウエハの１つの露光エリアの露光を行う期間に相当する。バースト発振を休止する期間は、例えば、露光装置２００において１つの露光エリアから他の露光エリアにレチクルパターンの結像位置を移動する期間や、半導体ウエハを交換する期間に相当する。休止期間において各種パラメータを調整するための調整発振が行われてもよい。
【0043】
レーザ制御プロセッサ１３０は、露光制御プロセッサ２１０から受信した目標波長λｔ１及びλｔ２に基づいて、ミラー６３の姿勢が複数のパルスごとに周期的に変化するように波長ドライバ１８に波長制御信号を出力することにより、回転ステージ１６３を制御する。これにより、パルスレーザ光の波長が複数のパルスごとに周期的に変化する。
【0044】
図３に示される例では、目標波長λｔ１及びλｔ２の間で、波長が４パルスごとに周期的に変化する。１番目及び４番目のパルスは目標波長λｔ１で生成され、２番目及び３番目のパルスは目標波長λｔ２で生成される。その後も同様に、目標波長λｔ１で２パルス生成され、目標波長λｔ２で２パルス生成されることが繰り返される。波長制御信号は矩形波として生成され、例えば、波長変化の周期は１ｍｓ、すなわち波長制御信号の周波数は１ｋＨｚである。この場合、波長ドライバ１８から回転ステージ１６３に出力される駆動信号も、駆動周波数１ｋＨｚの矩形波となる。パルスレーザ光の繰り返し周波数は４ｋＨｚである。
【0045】
ここではパルスレーザ光の波長を２つの目標波長λｔ１及びλｔ２に周期的に変化させる場合について説明したが、３つ以上の目標波長が設定されてもよい。このようにして、狭帯域化レーザ装置１００は２波長発振又は多波長発振を行うことができる。
【0046】
露光装置２００における焦点距離は、パルスレーザ光の波長に依存する。目標波長の周期的な変化により、パルスレーザ光の光路軸の方向における結像位置が周期的に変化するので、実質的に焦点深度を大きくすることができる。例えば、膜厚の大きいレジスト膜を露光する場合でも、レジスト膜の厚み方向での結像性能を維持し得る。あるいは、現像されたレジスト膜の断面形状を示すレジストプロファイルを調整し得る。
【0047】
１．５ 比較例の課題
しかしながら、目標波長を周期的に、高速で変化させると、回転ステージ１６３の動作が目標波長の変化に正確に追随できず、パルスレーザ光の波長を正確に制御できないことがある。
しかしながら、目標波長を周期的に、高速で変化させると、回転ステージ１６３の動作が目標波長の変化に正確に追随できず、パルスレーザ光の波長を正確に制御できないことがある。
【0048】
図４は、比較例における波長振り機構の振動系の周波数応答特性を示すグラフである。図４の横軸は周波数を示し、縦軸はゲインを示す。本開示における波長振り機構の振動系とは、回転ステージ１６３等の波長アクチュエータの周期的な駆動によって振動する振動系であり、波長アクチュエータと、波長アクチュエータを保持する機械部品と、波長アクチュエータによって駆動されるミラー６３等の光学素子と、波長アクチュエータと光学素子とを結合する部品と、光学素子に駆動力を伝達する機械的駆動部品と、を含む。波長振り機構の振動系は少なくとも１つの共振周波数Ｆｒを有する。波長振り機構の振動系は回転ステージ１６３の駆動周波数より高い共振周波数Ｆｒを有することが望ましい。図４に示される例では、共振周波数Ｆｒは３ｋＨｚである。
【0049】
図５は、比較例において回転ステージ１６３を駆動周波数１ｋＨｚで駆動したときの波長振り機構の振動系の振動周波数のスペクトルを示すグラフである。図５の横軸は周波数を示し、縦軸はパワースペクトル密度（ＰＳＤ）を示す。
回転ステージ１６３に入力される駆動信号が駆動周波数１ｋＨｚの矩形波である場合、その駆動信号は、フーリエ級数展開によって駆動周波数の奇数倍の周波数成分の和として表される。このため、駆動信号に含まれる駆動周波数の奇数倍の周波数成分が、波長振り機構の振動系を振動させることがある。例えば、駆動周波数の奇数倍である３ｋＨｚが波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒ（図４参照）と一致すると、この振動系は駆動周波数１ｋＨｚで振動するだけでなく、３ｋＨｚでも大きく振動することがある。
回転ステージ１６３に入力される駆動信号が駆動周波数１ｋＨｚの矩形波である場合、その駆動信号は、フーリエ級数展開によって駆動周波数の奇数倍の周波数成分の和として表される。このため、駆動信号に含まれる駆動周波数の奇数倍の周波数成分が、波長振り機構の振動系を振動させることがある。例えば、駆動周波数の奇数倍である３ｋＨｚが波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒ（図４参照）と一致すると、この振動系は駆動周波数１ｋＨｚで振動するだけでなく、３ｋＨｚでも大きく振動することがある。
【0050】
図６は、比較例における目標波長と計測波長との関係を示すグラフである。図６の横軸はパルス番号を示し、縦軸は目標波長λｔ１及びλｔ２の平均を０としたときの波長の偏差を示す。パルスレーザ光の繰り返し周波数を４ｋＨｚとし、回転ステージ１６３に入力される駆動信号の駆動周波数を１ｋＨｚとし、目標波長λｔ１及びλｔ２の差を２ｐｍとしたところ、計測波長が目標波長から大きく外れることがあった。
【0051】
２．固定ノッチフィルタ１８ａを含む狭帯域化レーザ装置１００ａ
２．１ 構成
図７は、第１の実施形態における狭帯域化レーザ装置１００ａの構成を概略的に示す。第１の実施形態において、レーザ制御プロセッサ１３０と波長ドライバ１８との間の波長制御信号の経路に、固定ノッチフィルタ１８ａが配置されている。固定ノッチフィルタ１８ａは、本開示におけるノッチフィルタの一例である。ノッチフィルタは、波長制御信号に含まれる波長成分のうちの一部の周波数成分を減衰して通過させる電気回路である。
２．１ 構成
図７は、第１の実施形態における狭帯域化レーザ装置１００ａの構成を概略的に示す。第１の実施形態において、レーザ制御プロセッサ１３０と波長ドライバ１８との間の波長制御信号の経路に、固定ノッチフィルタ１８ａが配置されている。固定ノッチフィルタ１８ａは、本開示におけるノッチフィルタの一例である。ノッチフィルタは、波長制御信号に含まれる波長成分のうちの一部の周波数成分を減衰して通過させる電気回路である。
【0052】
図８は、第１の実施形態に含まれる固定ノッチフィルタ１８ａの一例を示す回路図である。固定ノッチフィルタ１８ａは、並列に接続されたローパスフィルタＬＰＦ及びハイパスフィルタＨＰＦと、ローパスフィルタＬＰＦ及びハイパスフィルタＨＰＦの出力側に接続されたオペアンプＯＡ１と、オペアンプＯＡ１の出力側に接続されたオペアンプＯＡ２と、を含む。
【0053】
ローパスフィルタＬＰＦは抵抗素子Ｒ１及びＲ２とコンデンサＣ３とを含む。ローパスフィルタＬＰＦは入力信号ＩＮのうちの高周波成分を減衰し、低周波成分を通過させる。
ハイパスフィルタＨＰＦはコンデンサＣ１及びＣ２と抵抗素子Ｒ３とを含む。ハイパスフィルタＨＰＦは入力信号ＩＮのうちの低周波成分を減衰し、高周波成分を通過させる。
ハイパスフィルタＨＰＦはコンデンサＣ１及びＣ２と抵抗素子Ｒ３とを含む。ハイパスフィルタＨＰＦは入力信号ＩＮのうちの低周波成分を減衰し、高周波成分を通過させる。
【0054】
抵抗素子Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の抵抗値をそれぞれＲ１、Ｒ２、及びＲ３とし、その関係をＲ１＝Ｒ２＝２Ｒ３とする。コンデンサＣ１、Ｃ２、及びＣ３の静電容量値をそれぞれＣ１、Ｃ２、及びＣ３とし、その関係をＣ１＝Ｃ２＝Ｃ３／２とする。
【0055】
オペアンプＯＡ１は、ローパスフィルタＬＰＦを通過した低周波成分と、ハイパスフィルタＨＰＦを通過した高周波成分と、を合成した信号を増幅して出力する。ローパスフィルタＬＰＦ及びハイパスフィルタＨＰＦの両方で減衰された周波数はノッチ周波数Ｆｎ（図９参照）と呼ばれ、１／（２πＣ１Ｒ１）で与えられる。固定ノッチフィルタ１８ａは、ノッチ周波数Ｆｎの周波数成分を他の周波数成分よりも減衰して通過させる。
【0056】
オペアンプＯＡ２は、オペアンプＯＡ１の出力信号ＯＵＴの一部をローパスフィルタＬＰＦのコンデンサＣ３とハイパスフィルタＨＰＦの抵抗素子Ｒ３との間に正帰還する。オペアンプＯＡ２による帰還率は分圧器を構成する抵抗素子Ｒ４及びＲ５の抵抗値の比率によって決まる。オペアンプＯＡ２を配置することで、固定ノッチフィルタ１８ａによるノッチ周波数Ｆｎ以外の周波数成分のゲインを０に近づけ、図９を参照しながら後述する固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を示す曲線のうちの、ノッチ周波数Ｆｎの近傍の部分をより急峻にし得る。
【0057】
２．２ 動作
図９は、第１の実施形態における波長振り機構の振動系及び固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を示すグラフである。
波長振り機構の振動系の周波数応答特性は図４に示されるものと同様であり、例えば３ｋＨｚの共振周波数Ｆｒを有する。
図９は、第１の実施形態における波長振り機構の振動系及び固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を示すグラフである。
波長振り機構の振動系の周波数応答特性は図４に示されるものと同様であり、例えば３ｋＨｚの共振周波数Ｆｒを有する。
【0058】
固定ノッチフィルタ１８ａは、ノッチ周波数Ｆｎにおいて波長制御信号を大幅に減衰し、他の周波数領域では波長制御信号を大幅に減衰せずに通過させる。ノッチ周波数Ｆｎは、回転ステージ１６３の駆動周波数と異なる周波数であり、好ましくは駆動周波数よりも高い周波数であり、より好ましくは駆動周波数の１倍よりも大きい奇数倍の周波数である。その結果、固定ノッチフィルタ１８ａを介して駆動された波長振り機構の振動系の周波数応答特性においては、ノッチ周波数Ｆｎにおけるゲインが抑制される。
【0059】
ノッチ周波数Ｆｎは、例えば、波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒに合わせて、約３ｋＨｚに設定される。その場合、固定ノッチフィルタ１８ａを介して駆動された波長振り機構の振動系の周波数応答特性においては、３ｋＨｚの共振周波数Ｆｒにおける共振が抑制される。
【0060】
図１０は、第１の実施形態における目標波長と計測波長との関係の第１の例を示すグラフである。第１の実施形態においては、バースト先頭において目標波長と計測波長とに若干のずれがあるものの、１０パルス目のあたりからは計測波長が目標波長から大きく外れることなく、目標波長の変化に良く追随するようになっている。
【0061】
２．３ 作用
（１）第１の実施形態によれば、狭帯域化レーザ装置１００ａは、ミラー６３及びグレーティング５３と、回転ステージ１６３と、波長ドライバ１８と、レーザ制御プロセッサ１３０と、固定ノッチフィルタ１８ａと、を備える。ミラー６３及びグレーティング５３は、光共振器の光路に位置する。回転ステージ１６３は、ミラー６３を動かすことで、グレーティング５３に入射する光の入射角を変更する。波長ドライバ１８は、回転ステージ１６３を駆動する。レーザ制御プロセッサ１３０は、光共振器から出力されるパルスレーザ光の波長が周期的に変化するように波長ドライバ１８に波長制御信号を出力する。固定ノッチフィルタ１８ａは、波長制御信号の経路に配置され、回転ステージ１６３の駆動周波数と異なるノッチ周波数Ｆｎで作用する。
これによれば、固定ノッチフィルタ１８ａを波長制御信号の経路に配置したので、波長制御信号のうちの駆動周波数と異なるノッチ周波数Ｆｎの周波数成分を固定ノッチフィルタ１８ａで減衰し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
（１）第１の実施形態によれば、狭帯域化レーザ装置１００ａは、ミラー６３及びグレーティング５３と、回転ステージ１６３と、波長ドライバ１８と、レーザ制御プロセッサ１３０と、固定ノッチフィルタ１８ａと、を備える。ミラー６３及びグレーティング５３は、光共振器の光路に位置する。回転ステージ１６３は、ミラー６３を動かすことで、グレーティング５３に入射する光の入射角を変更する。波長ドライバ１８は、回転ステージ１６３を駆動する。レーザ制御プロセッサ１３０は、光共振器から出力されるパルスレーザ光の波長が周期的に変化するように波長ドライバ１８に波長制御信号を出力する。固定ノッチフィルタ１８ａは、波長制御信号の経路に配置され、回転ステージ１６３の駆動周波数と異なるノッチ周波数Ｆｎで作用する。
これによれば、固定ノッチフィルタ１８ａを波長制御信号の経路に配置したので、波長制御信号のうちの駆動周波数と異なるノッチ周波数Ｆｎの周波数成分を固定ノッチフィルタ１８ａで減衰し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0062】
（２）第１の実施形態によれば、ノッチ周波数Ｆｎは、駆動周波数よりも高い周波数である。
これによれば、駆動周波数より高いノッチ周波数Ｆｎの周波数成分を固定ノッチフィルタ１８ａで減衰し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
これによれば、駆動周波数より高いノッチ周波数Ｆｎの周波数成分を固定ノッチフィルタ１８ａで減衰し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0063】
（３）第１の実施形態によれば、ノッチ周波数Ｆｎは、駆動周波数の１倍より大きい奇数倍である。
これによれば、駆動周波数の１倍より大きい奇数倍の周波数成分を固定ノッチフィルタ１８ａで減衰し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
これによれば、駆動周波数の１倍より大きい奇数倍の周波数成分を固定ノッチフィルタ１８ａで減衰し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0064】
（４）第１の実施形態によれば、ノッチ周波数Ｆｎは、回転ステージ１６３の周期的な駆動によって振動する波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒに合わせて設定される。
これによれば、波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒを固定ノッチフィルタ１８ａで減衰することで振動系の固有振動を抑制し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
その他の点については、第１の実施形態は比較例と同様である。
これによれば、波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒを固定ノッチフィルタ１８ａで減衰することで振動系の固有振動を抑制し、駆動周波数による周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
その他の点については、第１の実施形態は比較例と同様である。
【0065】
３．複数段の帯域除去フィルタを含む固定ノッチフィルタ１８ｂ
３．１ 構成
図１１は、第２の実施形態に含まれる固定ノッチフィルタ１８ｂの一例を示す回路図である。固定ノッチフィルタ１８ｂは、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を含む。第１の帯域除去フィルタ１８１の出力側に第２の帯域除去フィルタ１８２が直列に接続されている。第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２の各々の構成は、図８に示される固定ノッチフィルタ１８ａと同様である。第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２は互いに同じ特性を有し、例えばノッチ周波数Ｆｎは、いずれも１／（２πＣ１Ｒ１）である。後述のノッチゲイン深さＧｎも、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２で同一である。固定ノッチフィルタ１８ｂは、本開示におけるノッチフィルタの一例である。
３．１ 構成
図１１は、第２の実施形態に含まれる固定ノッチフィルタ１８ｂの一例を示す回路図である。固定ノッチフィルタ１８ｂは、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を含む。第１の帯域除去フィルタ１８１の出力側に第２の帯域除去フィルタ１８２が直列に接続されている。第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２の各々の構成は、図８に示される固定ノッチフィルタ１８ａと同様である。第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２は互いに同じ特性を有し、例えばノッチ周波数Ｆｎは、いずれも１／（２πＣ１Ｒ１）である。後述のノッチゲイン深さＧｎも、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２で同一である。固定ノッチフィルタ１８ｂは、本開示におけるノッチフィルタの一例である。
【0066】
３．２ 動作
図１２は、第１の実施形態における固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を示すグラフである。図１２は、図９に示される固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を縦軸の縮尺を変えて再掲したものに相当する。ノッチフィルタのゲインの最小値をノッチゲイン深さＧｎという。
図１２は、第１の実施形態における固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を示すグラフである。図１２は、図９に示される固定ノッチフィルタ１８ａの周波数応答特性を縦軸の縮尺を変えて再掲したものに相当する。ノッチフィルタのゲインの最小値をノッチゲイン深さＧｎという。
【0067】
図１３は、第１の実施形態における目標波長と計測波長との関係の第２の例を示すグラフである。目標波長λｔ１及びλｔ２の差が、図１０に示される第１の例においては２ｐｍであったのに対し、図１３に示される第２の例においては約１５ｐｍとなっている。第１の例においては計測波長が目標波長に十分に追随していたが、第２の例においては目標波長λｔ１及びλｔ２の差が大きくなったため、計測波長が目標波長に十分に追随できない場合がある。
【0068】
図１４は、第２の実施形態における固定ノッチフィルタ１８ｂの周波数応答特性を示すグラフである。第２の実施形態においては、固定ノッチフィルタ１８ａと同様の第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を直列に接続したことにより、ノッチゲイン深さＧｎが第１の実施形態より大きくなっている。
【0069】
図１５は、第２の実施形態における目標波長と計測波長との関係の例を示すグラフである。目標波長λｔ１及びλｔ２の差は、図１３と同様に約１５ｐｍとなっている。図１３においては計測波長が目標波長に十分に追随できない場合があったが、図１５においては計測波長が目標波長から大きく外れることなく、目標波長の変化に良く追随するようになっている。
【0070】
３．３ 作用
（５）第２の実施形態によれば、固定ノッチフィルタ１８ｂは、直列に接続された第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を含む。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を含む複数段の帯域除去フィルタで固定ノッチフィルタ１８ｂを構成することで、ノッチゲイン深さＧｎを大きくすることができる。
（５）第２の実施形態によれば、固定ノッチフィルタ１８ｂは、直列に接続された第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を含む。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を含む複数段の帯域除去フィルタで固定ノッチフィルタ１８ｂを構成することで、ノッチゲイン深さＧｎを大きくすることができる。
【0071】
（６）第２の実施形態によれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２は、同一のノッチ周波数Ｆｎで作用する。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２のノッチ周波数Ｆｎを同一とすることで、ノッチ周波数Ｆｎでのノッチゲイン深さＧｎを大きくすることができる。ノッチ周波数Ｆｎが同一であるとは、ノッチゲイン深さＧｎを大きくする作用を失わない程度の相違を許容する趣旨である。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２のノッチ周波数Ｆｎを同一とすることで、ノッチ周波数Ｆｎでのノッチゲイン深さＧｎを大きくすることができる。ノッチ周波数Ｆｎが同一であるとは、ノッチゲイン深さＧｎを大きくする作用を失わない程度の相違を許容する趣旨である。
【0072】
（７）第２の実施形態によれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２は、同一のノッチゲイン深さＧｎで作用する。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を構成する半導体素子の特性を統一することで、回路の製造コストを低減し得る。ノッチゲイン深さＧｎが同一であるとは、回路の製造コストを低減する作用を失わない程度の相違を許容する趣旨であり、製造上の誤差の範囲は同一に含まれる。
その他の点については、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタ１８１及び１８２を構成する半導体素子の特性を統一することで、回路の製造コストを低減し得る。ノッチゲイン深さＧｎが同一であるとは、回路の製造コストを低減する作用を失わない程度の相違を許容する趣旨であり、製造上の誤差の範囲は同一に含まれる。
その他の点については、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
【0073】
４．可変ノッチフィルタ１８ｃを含む狭帯域化レーザ装置１００ｃ
４．１ 構成
図１６は、第３の実施形態における狭帯域化レーザ装置１００ｃの構成を概略的に示す。第３の実施形態において、レーザ制御プロセッサ１３０と波長ドライバ１８との間の波長制御信号の経路に、可変ノッチフィルタ１８ｃが配置されている。可変ノッチフィルタ１８ｃは、本開示におけるノッチフィルタの一例である。
４．１ 構成
図１６は、第３の実施形態における狭帯域化レーザ装置１００ｃの構成を概略的に示す。第３の実施形態において、レーザ制御プロセッサ１３０と波長ドライバ１８との間の波長制御信号の経路に、可変ノッチフィルタ１８ｃが配置されている。可変ノッチフィルタ１８ｃは、本開示におけるノッチフィルタの一例である。
【0074】
図１７は、第３の実施形態に含まれる可変ノッチフィルタ１８ｃの一例を示す回路図である。
可変ノッチフィルタ１８ｃは、抵抗素子Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の代わりに、それぞれ可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３を含む。可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３にはそれぞれ制御回路Ｃｃ１、Ｃｃ２、及びＣｃ３が接続されている。制御回路Ｃｃ１、Ｃｃ２、及びＣｃ３は、レーザ制御プロセッサ１３０から出力される制御信号に基づいて、それぞれ可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３の抵抗値Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３を変更する。例えば、Ｒ１＝Ｒ２＝２Ｒ３の関係を維持したまま抵抗値Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３を変更する。これにより、１／（２πＣ１Ｒ１）で与えられるノッチ周波数Ｆｎを変更することができる。
他の点については、可変ノッチフィルタ１８ｃは固定ノッチフィルタ１８ａと同様である。
可変ノッチフィルタ１８ｃは、抵抗素子Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の代わりに、それぞれ可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３を含む。可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３にはそれぞれ制御回路Ｃｃ１、Ｃｃ２、及びＣｃ３が接続されている。制御回路Ｃｃ１、Ｃｃ２、及びＣｃ３は、レーザ制御プロセッサ１３０から出力される制御信号に基づいて、それぞれ可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３の抵抗値Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３を変更する。例えば、Ｒ１＝Ｒ２＝２Ｒ３の関係を維持したまま抵抗値Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３を変更する。これにより、１／（２πＣ１Ｒ１）で与えられるノッチ周波数Ｆｎを変更することができる。
他の点については、可変ノッチフィルタ１８ｃは固定ノッチフィルタ１８ａと同様である。
【0075】
図１８は、第３の実施形態に含まれる可変ノッチフィルタ１８ｄの一例を示す回路図である。可変ノッチフィルタ１８ｄは、図１７に示される可変ノッチフィルタ１８ｃとは以下の点で異なるが、可変ノッチフィルタ１８ｃの代わりに狭帯域化レーザ装置１００ｃにおいて用いられてもよい。
可変ノッチフィルタ１８ｄは、抵抗素子Ｒ４及びＲ５の代わりに、可変分圧器ＶＤを含む。可変分圧器ＶＤは制御回路Ｃｃ４に接続されている。制御回路Ｃｃ４は、レーザ制御プロセッサ１３０から出力される制御信号に基づいて、可変分圧器ＶＤの分圧比を変更する。可変分圧器ＶＤの分圧比を変更することにより、オペアンプＯＡ２による帰還率を変更し、可変ノッチフィルタ１８ｄのノッチゲイン深さＧｎを変更することができる。
可変ノッチフィルタ１８ｄは、抵抗素子Ｒ４及びＲ５の代わりに、可変分圧器ＶＤを含む。可変分圧器ＶＤは制御回路Ｃｃ４に接続されている。制御回路Ｃｃ４は、レーザ制御プロセッサ１３０から出力される制御信号に基づいて、可変分圧器ＶＤの分圧比を変更する。可変分圧器ＶＤの分圧比を変更することにより、オペアンプＯＡ２による帰還率を変更し、可変ノッチフィルタ１８ｄのノッチゲイン深さＧｎを変更することができる。
【0076】
可変抵抗器ＶＲ１、ＶＲ２、及びＶＲ３の抵抗値Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３を変更することにより可変ノッチフィルタ１８ｄのノッチ周波数Ｆｎを変更すると、可変ノッチフィルタ１８ｄの位相特性が変化する場合がある。ノッチ周波数Ｆｎを変更した場合に、さらに位相特性を調整するために、ノッチゲイン深さＧｎを調整してもよい。
一方、可変分圧器ＶＤの分圧比を変更することによりノッチゲイン深さＧｎを変更しても、ノッチ周波数Ｆｎは大きく変化しない。そこで、図２１及び図２４を参照しながら後述するように、ノッチ周波数Ｆｎを適切な値に調整した後で、そのノッチ周波数Ｆｎを維持したままノッチゲイン深さＧｎを調整してもよい。
他の点については、可変ノッチフィルタ１８ｄは可変ノッチフィルタ１８ｃと同様である。
一方、可変分圧器ＶＤの分圧比を変更することによりノッチゲイン深さＧｎを変更しても、ノッチ周波数Ｆｎは大きく変化しない。そこで、図２１及び図２４を参照しながら後述するように、ノッチ周波数Ｆｎを適切な値に調整した後で、そのノッチ周波数Ｆｎを維持したままノッチゲイン深さＧｎを調整してもよい。
他の点については、可変ノッチフィルタ１８ｄは可変ノッチフィルタ１８ｃと同様である。
【0077】
４．２ 動作
図１９は、第３の実施形態における波長振り機構の振動系及び可変ノッチフィルタ１８ｃの周波数応答特性を示すグラフである。
光学素子や機械部品などの温度変化により、波長振り機構の振動系の周波数応答特性が変化することがある。例えば、波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒが、図９においては３ｋＨｚであったのに対し、図１９に示されるように約３．２ｋＨｚになることがある。このような場合に、ノッチ周波数Ｆｎを３ｋＨｚとしたままでは、波長制御信号において共振周波数Ｆｒの成分を十分に減衰できないことがある。
図１９は、第３の実施形態における波長振り機構の振動系及び可変ノッチフィルタ１８ｃの周波数応答特性を示すグラフである。
光学素子や機械部品などの温度変化により、波長振り機構の振動系の周波数応答特性が変化することがある。例えば、波長振り機構の振動系の共振周波数Ｆｒが、図９においては３ｋＨｚであったのに対し、図１９に示されるように約３．２ｋＨｚになることがある。このような場合に、ノッチ周波数Ｆｎを３ｋＨｚとしたままでは、波長制御信号において共振周波数Ｆｒの成分を十分に減衰できないことがある。
【0078】
図２０は、第３の実施形態における目標波長と計測波長との関係の例を示すグラフである。図１０においては計測波長が目標波長に十分に追随していたが、図２０においては波長振り機構の振動系の周波数応答特性が変化したことにより計測波長が目標波長に十分に追随できない場合がある。
そこで、可変ノッチフィルタ１８ｃのノッチ周波数Ｆｎを調整し、あるいは可変ノッチフィルタ１８ｄのノッチ周波数Ｆｎ及びノッチゲイン深さＧｎを調整することで、計測波長が目標波長に十分に追随できるようにする。
そこで、可変ノッチフィルタ１８ｃのノッチ周波数Ｆｎを調整し、あるいは可変ノッチフィルタ１８ｄのノッチ周波数Ｆｎ及びノッチゲイン深さＧｎを調整することで、計測波長が目標波長に十分に追随できるようにする。
【0079】
４．２．１ 計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２に基づくノッチパラメータ調整
図２１は、第３の実施形態におけるノッチパラメータ調整の第１の例を示すフローチャートである。ノッチパラメータは、ノッチ周波数Ｆｎとノッチゲイン深さＧｎとを含む。あるいは、ノッチ周波数Ｆｎだけでもよい。図２１において、ノッチパラメータを調整するかどうかは、計測波長λｃ１と目標波長λｔ１との偏差Ｄλ１及び計測波長λｃ２と目標波長λｔ２との偏差Ｄλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態がＮｍａｘパルスにわたって連続したか否かによって判断される。Ｎｍａｘは２以上の整数である。例えば、Ｎｍａｘは３０以上６０以下でもよい。
図２１は、第３の実施形態におけるノッチパラメータ調整の第１の例を示すフローチャートである。ノッチパラメータは、ノッチ周波数Ｆｎとノッチゲイン深さＧｎとを含む。あるいは、ノッチ周波数Ｆｎだけでもよい。図２１において、ノッチパラメータを調整するかどうかは、計測波長λｃ１と目標波長λｔ１との偏差Ｄλ１及び計測波長λｃ２と目標波長λｔ２との偏差Ｄλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態がＮｍａｘパルスにわたって連続したか否かによって判断される。Ｎｍａｘは２以上の整数である。例えば、Ｎｍａｘは３０以上６０以下でもよい。
【0080】
Ｓ１１において、レーザ制御プロセッサ１３０は、目標波長λｔ１及びλｔ２を取得する。目標波長λｔ１及びλｔ２は、露光制御プロセッサ２１０から受信したものでもよい。
【0081】
Ｓ１２において、レーザ制御プロセッサ１３０は、閾値Ｓλ１及びＳλ２を以下の式により算出する。
Ｓλ１＝λｔ１×Ｄ１
Ｓλ２＝λｔ２×Ｄ２
閾値Ｓλ１及びＳλ２は、それぞれ、目標波長λｔ１及びλｔ２に０より大きい定数Ｄ１及びＤ２を乗算したものである。定数Ｄ１及びＤ２は例えば０．０５である。
Ｓλ１＝λｔ１×Ｄ１
Ｓλ２＝λｔ２×Ｄ２
閾値Ｓλ１及びＳλ２は、それぞれ、目標波長λｔ１及びλｔ２に０より大きい定数Ｄ１及びＤ２を乗算したものである。定数Ｄ１及びＤ２は例えば０．０５である。
【0082】
Ｓ１３において、レーザ制御プロセッサ１３０は、カウンタｎの値を初期値１にセットする。
Ｓ１４において、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の出力に基づいて計測波長λｃ１又はλｃ２を算出し、目標波長λｔ１又はλｔ２との偏差Ｄλ１又はＤλ２を以下の式により算出する。
Ｄλ１＝｜λｔ１－λｃ１｜
Ｄλ２＝｜λｔ２－λｃ２｜
目標波長λｔ１に従って狭帯域化モジュール１４を制御したときは計測波長λｃ１が算出され、目標波長λｔ２に従って狭帯域化モジュール１４を制御したときは計測波長λｃ２が算出される。
Ｓ１４において、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の出力に基づいて計測波長λｃ１又はλｃ２を算出し、目標波長λｔ１又はλｔ２との偏差Ｄλ１又はＤλ２を以下の式により算出する。
Ｄλ１＝｜λｔ１－λｃ１｜
Ｄλ２＝｜λｔ２－λｃ２｜
目標波長λｔ１に従って狭帯域化モジュール１４を制御したときは計測波長λｃ１が算出され、目標波長λｔ２に従って狭帯域化モジュール１４を制御したときは計測波長λｃ２が算出される。
【0083】
Ｓ１５において、レーザ制御プロセッサ１３０は、偏差Ｄλ１又はＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１又はＳλ２より大きいか否かを判定する。偏差Ｄλ１が閾値Ｓλ１より大きく、あるいは、偏差Ｄλ２が閾値Ｓλ２より大きい場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１６に処理を進める。偏差Ｄλ１が閾値Ｓλ１以下であり、あるいは、偏差Ｄλ２が閾値Ｓλ２以下である場合（Ｓ１５：ＮＯ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１３に処理を戻す。
【0084】
Ｓ１６において、レーザ制御プロセッサ１３０は、カウンタｎの値がＮｍａｘ以上であるか否かを判定する。カウンタｎの値がＮｍａｘ以上である場合（Ｓ１６：ＹＥＳ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ２０に処理を進める。カウンタｎの値がＮｍａｘ未満である場合（Ｓ１６：ＮＯ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１７に処理を進める。
【0085】
Ｓ１７において、レーザ制御プロセッサ１３０は、カウンタｎの値に１を加算してｎの値を更新する。Ｓ１７の後、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１４に処理を戻して次のパルスの計測波長λｃ１又はλｃ２と目標波長λｔ１又はλｔ２との偏差Ｄλ１又はＤλ２を算出する。
偏差Ｄλ１又はＤλ２が閾値Ｓλ１又はＳλ２より大きい場合に（Ｓ１５：ＹＥＳ）、カウンタｎの値がＮｍａｘに達するまでＳ１４及びＳ１５の処理を繰り返すことで、偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態がＮｍａｘパルスにわたって連続したか否かが判定される。
偏差Ｄλ１が閾値Ｓλ１以下であるか、あるいは、偏差Ｄλ２が閾値Ｓλ２以下である場合に（Ｓ１５：ＮＯ）、Ｓ１３に処理を戻すことで、偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態の連続が途切れたらカウンタｎを１からカウントし直す。
偏差Ｄλ１又はＤλ２が閾値Ｓλ１又はＳλ２より大きい場合に（Ｓ１５：ＹＥＳ）、カウンタｎの値がＮｍａｘに達するまでＳ１４及びＳ１５の処理を繰り返すことで、偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態がＮｍａｘパルスにわたって連続したか否かが判定される。
偏差Ｄλ１が閾値Ｓλ１以下であるか、あるいは、偏差Ｄλ２が閾値Ｓλ２以下である場合に（Ｓ１５：ＮＯ）、Ｓ１３に処理を戻すことで、偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態の連続が途切れたらカウンタｎを１からカウントし直す。
【0086】
Ｓ２０において、レーザ制御プロセッサ１３０は、図１７又は図１８に示される制御回路Ｃｃ１～Ｃｃ３に制御信号を出力することでノッチ周波数Ｆｎの調整を行う。Ｓ２０の詳細については図２２を参照しながら後述する。
【0087】
Ｓ２２において、レーザ制御プロセッサ１３０は、図１８に示される制御回路Ｃｃ４に制御信号を出力することでノッチゲイン深さＧｎの調整を行う。Ｓ２２の詳細については図２３を参照しながら後述する。
Ｓ２０及びＳ２２を実行している期間内においては、レーザ制御プロセッサ１３０はシャッター１９を第２の状態として露光装置２００へのパルスレーザ光の通過を抑制してもよい。
Ｓ２２の後、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１３に処理を戻す。
Ｓ２０及びＳ２２を実行している期間内においては、レーザ制御プロセッサ１３０はシャッター１９を第２の状態として露光装置２００へのパルスレーザ光の通過を抑制してもよい。
Ｓ２２の後、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１３に処理を戻す。
【0088】
４．２．１．１ ノッチ周波数Ｆｎの調整
図２２は、第３の実施形態におけるノッチ周波数Ｆｎの調整の例を示すフローチャートである。図２２に示される処理は、図２１のＳ２０のサブルーチンに相当する。計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態がＮｍａｘパルスにわたって連続した場合（Ｓ１６：ＹＥＳ）、以下の処理が行われる。
図２２は、第３の実施形態におけるノッチ周波数Ｆｎの調整の例を示すフローチャートである。図２２に示される処理は、図２１のＳ２０のサブルーチンに相当する。計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きい状態がＮｍａｘパルスにわたって連続した場合（Ｓ１６：ＹＥＳ）、以下の処理が行われる。
【0089】
Ｓ２０１において、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の新たな出力に基づいて計測波長λｃ１及びλｃ２を算出し、目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｍを以下の式により算出する。
Ｍ＝｜λｔ１－λｃ１｜＋｜λｔ２－λｃ２｜
偏差Ｍは、ノッチ周波数Ｆｎを変更して適切なノッチ周波数Ｆｎを探索するための基準となる。
Ｍ＝｜λｔ１－λｃ１｜＋｜λｔ２－λｃ２｜
偏差Ｍは、ノッチ周波数Ｆｎを変更して適切なノッチ周波数Ｆｎを探索するための基準となる。
【0090】
Ｓ２０２において、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを以下の式により高くする。
Ｆｎ＝Ｆｎ＋ｄＦｎｐ
ｄＦｎｐは、ノッチ周波数Ｆｎを１回上げるときのノッチ周波数Ｆｎの変動量を示す。例えば、ｄＦｎｐは１Ｈｚ以上１０Ｈｚ以下である。
Ｆｎ＝Ｆｎ＋ｄＦｎｐ
ｄＦｎｐは、ノッチ周波数Ｆｎを１回上げるときのノッチ周波数Ｆｎの変動量を示す。例えば、ｄＦｎｐは１Ｈｚ以上１０Ｈｚ以下である。
【0091】
Ｓ２０３において、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の新たな出力に基づいて計測波長λｃ１及びλｃ２を算出し、目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｍｃを以下の式により算出する。
Ｍｃ＝｜λｔ１－λｃ１｜＋｜λｔ２－λｃ２｜
Ｍｃ＝｜λｔ１－λｃ１｜＋｜λｔ２－λｃ２｜
【0092】
Ｓ２０４において、レーザ制御プロセッサ１３０は、偏差Ｍｃが基準となる偏差Ｍ以下であるか否かを判定する。偏差Ｍｃが偏差Ｍ以下である場合（Ｓ２０４：ＹＥＳ）、レーザ制御プロセッサ１３０はＳ２０５に処理を進める。
【0093】
Ｓ２０５において、レーザ制御プロセッサ１３０は、以後の基準となる偏差ＭとしてＳ２０３で算出された偏差Ｍｃの値を設定する。Ｓ２０５の後、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ２０２に処理を戻す。
このように、ノッチ周波数Ｆｎを上げることで偏差Ｍｃが小さくなったか、変わらない場合には（Ｓ２０４：ＹＥＳ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを上げることにより、偏差Ｍｃが極小値となるまでノッチ周波数Ｆｎを調整することができる。
ノッチ周波数Ｆｎを上げることで偏差Ｍｃが大きくなった場合には（Ｓ２０４：ＮＯ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを上げることはせず、Ｓ２０７に処理を進める。
このように、ノッチ周波数Ｆｎを上げることで偏差Ｍｃが小さくなったか、変わらない場合には（Ｓ２０４：ＹＥＳ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを上げることにより、偏差Ｍｃが極小値となるまでノッチ周波数Ｆｎを調整することができる。
ノッチ周波数Ｆｎを上げることで偏差Ｍｃが大きくなった場合には（Ｓ２０４：ＮＯ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを上げることはせず、Ｓ２０７に処理を進める。
【0094】
Ｓ２０７において、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを以下の式により低くする。
Ｆｎ＝Ｆｎ－ｄＦｎｎ
ｄＦｎｎは、ノッチ周波数Ｆｎを１回下げるときのノッチ周波数Ｆｎの変動量を示す。ｄＦｎｎはｄＦｎｐと同じでもよい。
Ｆｎ＝Ｆｎ－ｄＦｎｎ
ｄＦｎｎは、ノッチ周波数Ｆｎを１回下げるときのノッチ周波数Ｆｎの変動量を示す。ｄＦｎｎはｄＦｎｐと同じでもよい。
【0095】
Ｓ２０８からＳ２１０までの処理は、Ｓ２０３からＳ２０５までの処理と同様である。
ノッチ周波数Ｆｎを下げることで偏差Ｍｃが小さくなったか、変わらない場合には（Ｓ２０９：ＹＥＳ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを下げることにより、偏差Ｍｃが極小値となるまでノッチ周波数Ｆｎを調整することができる。
ノッチ周波数Ｆｎを下げることで偏差Ｍｃが大きくなった場合には（Ｓ２０９：ＮＯ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを下げることはせず、Ｓ２１１に処理を進める。
ノッチ周波数Ｆｎを下げることで偏差Ｍｃが小さくなったか、変わらない場合には（Ｓ２０９：ＹＥＳ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを下げることにより、偏差Ｍｃが極小値となるまでノッチ周波数Ｆｎを調整することができる。
ノッチ周波数Ｆｎを下げることで偏差Ｍｃが大きくなった場合には（Ｓ２０９：ＮＯ）、さらにノッチ周波数Ｆｎを下げることはせず、Ｓ２１１に処理を進める。
【0096】
Ｓ２１１において、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを以下の式により高くする。
Ｆｎ＝Ｆｎ＋ｄＦｎｎ
Ｓ２１１の処理を行うのは、Ｓ２０７でノッチ周波数Ｆｎを下げることで偏差Ｍｃが大きくなった場合であるので、Ｓ２０７の１回分の処理をキャンセルすることで、ノッチ周波数Ｆｎを最適値に調整することができる。
Ｆｎ＝Ｆｎ＋ｄＦｎｎ
Ｓ２１１の処理を行うのは、Ｓ２０７でノッチ周波数Ｆｎを下げることで偏差Ｍｃが大きくなった場合であるので、Ｓ２０７の１回分の処理をキャンセルすることで、ノッチ周波数Ｆｎを最適値に調整することができる。
【0097】
Ｓ２１１の後、レーザ制御プロセッサ１３０は本フローチャートの処理を終了し、図２１に示される処理に戻る。
以上のようにして、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを増減させて偏差Ｍｃを算出し、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチ周波数Ｆｎを探索する。
以上のようにして、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを増減させて偏差Ｍｃを算出し、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチ周波数Ｆｎを探索する。
【0098】
４．２．１．２ ノッチゲイン深さＧｎの調整
図２３は、第３の実施形態におけるノッチゲイン深さＧｎの調整の例を示すフローチャートである。図２３に示される処理は、図２１のＳ２２のサブルーチンに相当する。ノッチ周波数Ｆｎの調整（Ｓ２０）の後で、以下の処理が行われる。
図２３は、第３の実施形態におけるノッチゲイン深さＧｎの調整の例を示すフローチャートである。図２３に示される処理は、図２１のＳ２２のサブルーチンに相当する。ノッチ周波数Ｆｎの調整（Ｓ２０）の後で、以下の処理が行われる。
【0099】
【0100】
Ｓ２０２ｄにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチゲイン深さＧｎを以下の式により大きくする。
Ｇｎ＝Ｇｎ＋ｄＧｎｐ
ｄＧｎｐは、ノッチゲイン深さＧｎを１回大きくするときのノッチゲイン深さＧｎの変動量を示す。例えば、ｄＧｎｐは１ｄＢ以上１０ｄＢ以下である。
Ｇｎ＝Ｇｎ＋ｄＧｎｐ
ｄＧｎｐは、ノッチゲイン深さＧｎを１回大きくするときのノッチゲイン深さＧｎの変動量を示す。例えば、ｄＧｎｐは１ｄＢ以上１０ｄＢ以下である。
【0101】
Ｓ２０７ｄにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチゲイン深さＧｎを以下の式により小さくする。
Ｇｎ＝Ｇｎ－ｄＧｎｎ
ｄＧｎｎは、ノッチゲイン深さＧｎを１回小さくするときのノッチゲイン深さＧｎの変動量を示す。ｄＧｎｎはｄＧｎｐと同じでもよい。
Ｇｎ＝Ｇｎ－ｄＧｎｎ
ｄＧｎｎは、ノッチゲイン深さＧｎを１回小さくするときのノッチゲイン深さＧｎの変動量を示す。ｄＧｎｎはｄＧｎｐと同じでもよい。
【0102】
Ｓ２１１ｄにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチゲイン深さＧｎを以下の式により大きくする。
Ｇｎ＝Ｇｎ＋ｄＧｎｎ
Ｓ２０７ｄの１回分の処理をキャンセルすることで、ノッチゲイン深さＧｎを最適値に調整することができる。
Ｇｎ＝Ｇｎ＋ｄＧｎｎ
Ｓ２０７ｄの１回分の処理をキャンセルすることで、ノッチゲイン深さＧｎを最適値に調整することができる。
【0103】
以上のようにして、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチゲイン深さＧｎを増減させて偏差Ｍｃを算出し、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチゲイン深さＧｎを探索する。
他の点については、図２３に示される処理は図２２に示される処理と同様である。
他の点については、図２３に示される処理は図２２に示される処理と同様である。
【0104】
４．２．２ 計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差に基づくノッチパラメータ調整
図２４は、第３の実施形態におけるノッチパラメータ調整の第２の例を示すフローチャートである。図２４において、ノッチパラメータを調整するかどうかは、計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差をＮｍａｘ回算出し、その平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きいか否かによって判断される。
図２４は、第３の実施形態におけるノッチパラメータ調整の第２の例を示すフローチャートである。図２４において、ノッチパラメータを調整するかどうかは、計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差をＮｍａｘ回算出し、その平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きいか否かによって判断される。
【0105】
Ｓ１１の処理は、図２１を参照しながら説明したものと同様である。
Ｓ１２ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、閾値ＳＤを以下の式により算出する。
ＳＤ＝（λｔ２－λｔ１）×Ｄ
閾値ＳＤは、目標波長λｔ１及びλｔ２の差に１より大きい定数Ｄを乗算したものである。定数Ｄは例えば１．０５である。
Ｓ１２ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、閾値ＳＤを以下の式により算出する。
ＳＤ＝（λｔ２－λｔ１）×Ｄ
閾値ＳＤは、目標波長λｔ１及びλｔ２の差に１より大きい定数Ｄを乗算したものである。定数Ｄは例えば１．０５である。
【0106】
Ｓ１３ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長差の積算値Ａλｃを初期値０にセットし、カウンタｎの値を初期値１にセットする。
Ｓ１４ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の出力に基づいて目標波長が異なる２つのパルスの計測波長λｃ１及びλｃ２を算出し、計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差の積算値Ａλｃを以下の式により算出する。
Ａλｃ＝Ａλｃ＋λｃ２－λｃ１
Ｓ１４ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の出力に基づいて目標波長が異なる２つのパルスの計測波長λｃ１及びλｃ２を算出し、計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差の積算値Ａλｃを以下の式により算出する。
Ａλｃ＝Ａλｃ＋λｃ２－λｃ１
【0107】
Ｓ１６において、レーザ制御プロセッサ１３０は、カウンタｎの値がＮｍａｘ以上であるか否かを判定する。カウンタｎの値がＮｍａｘ以上である場合（Ｓ１６：ＹＥＳ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１８ｃに処理を進める。カウンタｎの値がＮｍａｘ未満である場合（Ｓ１６：ＮＯ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１７に処理を進める。
【0108】
Ｓ１７において、レーザ制御プロセッサ１３０は、カウンタｎの値に１を加算してｎの値を更新する。Ｓ１７の後、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１４ｃに処理を戻し、目標波長が異なる次の２つのパルスの計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差λｃ２－λｃ１を積算値Ａλｃに加算する。
【0109】
Ｓ１８ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｎｍａｘ回算出された波長差λｃ２－λｃ１を積算することによって得られた積算値Ａλｃを用いて、以下の式により波長差の平均値Ｄλｃを算出する。
Ｄλｃ＝Ａλｃ／Ｎｍａｘ
Ｄλｃ＝Ａλｃ／Ｎｍａｘ
【0110】
Ｓ１９ｃにおいて、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長差の平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きいか否かを判定する。波長差の平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きい場合（Ｓ１９ｃ：ＹＥＳ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ２０に処理を進める。波長差の平均値Ｄλｃが閾値ＳＤ以下である場合（Ｓ１９ｃ：ＮＯ）、レーザ制御プロセッサ１３０は、Ｓ１３ｃに処理を戻す。
【0111】
Ｓ２０及びＳ２２の処理は、図２１～図２３を参照しながら説明したものと同様である。
図２４においては波長差の平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きい場合にノッチパラメータを調整することとしているのに対し、図２２及び図２３においては波長差の平均値Ｄλｃを考慮せずにノッチパラメータを調整している。ノッチパラメータを調整した後で、Ｓ１３ｃ～Ｓ１９ｃの処理を再度行うことで、ノッチパラメータが適切に調整されているかどうかを確認することができる。
図２４においては波長差の平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きい場合にノッチパラメータを調整することとしているのに対し、図２２及び図２３においては波長差の平均値Ｄλｃを考慮せずにノッチパラメータを調整している。ノッチパラメータを調整した後で、Ｓ１３ｃ～Ｓ１９ｃの処理を再度行うことで、ノッチパラメータが適切に調整されているかどうかを確認することができる。
【0112】
あるいは、図２２のＳ２０１、Ｓ２０３、及びＳ２０８、及び図２３のＳ２０１ｄ、Ｓ２０３ｄ、及びＳ２０８ｄにおいて、計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２を算出する代わりに、計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差の平均値Ｄλｃを算出してもよい。例えば、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを増減させて波長差の平均値Ｄλｃを算出し、平均値Ｄλｃが極小値に近づくようなノッチ周波数Ｆｎを探索してもよい。また、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチゲイン深さＧｎを増減させて波長差の平均値Ｄλｃを算出し、平均値Ｄλｃが極小値に近づくようなノッチゲイン深さＧｎを探索してもよい。
【0113】
図２４においては計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差をＮｍａｘ回算出するごとに平均値Ｄλｃを算出する場合について説明したが、平均値Ｄλｃの代わりに移動平均を算出してもよい。例えば、波長差を１回算出するごとに、直近のＮｍａｘ回分の波長差の平均値を算出してもよい。
他の点については、図２４に示される処理は図２１に示される処理と同様である。
他の点については、図２４に示される処理は図２１に示される処理と同様である。
【0114】
第３の実施形態において、図２１に示される計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２に関する条件と、図２４に示される計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差の平均値Ｄλｃに関する条件と、の両方が満たされた場合にノッチパラメータを調整することとしてもよい。
【0115】
４．３ 複数段の帯域除去フィルタを含む可変ノッチフィルタ
第３の実施形態においては、可変ノッチフィルタ１８ｃ及び１８ｄをそれぞれ１段の帯域除去フィルタで構成する場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。可変ノッチフィルタ１８ｃ又は１８ｄの代わりに、直列に接続された図示しない第１及び第２の帯域除去フィルタを含む可変ノッチフィルタが用いられてもよい。第１及び第２の帯域除去フィルタは、レーザ制御プロセッサ１３０によってそれぞれノッチパラメータを調整可能であってもよい。レーザ制御プロセッサ１３０は、第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチ周波数Ｆｎで作用するように調整してもよい。レーザ制御プロセッサ１３０は、第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチゲイン深さＧｎで作用するように調整してもよい。
第３の実施形態においては、可変ノッチフィルタ１８ｃ及び１８ｄをそれぞれ１段の帯域除去フィルタで構成する場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。可変ノッチフィルタ１８ｃ又は１８ｄの代わりに、直列に接続された図示しない第１及び第２の帯域除去フィルタを含む可変ノッチフィルタが用いられてもよい。第１及び第２の帯域除去フィルタは、レーザ制御プロセッサ１３０によってそれぞれノッチパラメータを調整可能であってもよい。レーザ制御プロセッサ１３０は、第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチ周波数Ｆｎで作用するように調整してもよい。レーザ制御プロセッサ１３０は、第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチゲイン深さＧｎで作用するように調整してもよい。
【0116】
４．４ 作用
（８）第３の実施形態によれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃに含まれる可変ノッチフィルタ１８ｃ又は１８ｄは、レーザ制御プロセッサ１３０によってノッチパラメータを調整可能に構成される。
これによれば、ノッチパラメータを変更可能とすることで、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
（８）第３の実施形態によれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃに含まれる可変ノッチフィルタ１８ｃ又は１８ｄは、レーザ制御プロセッサ１３０によってノッチパラメータを調整可能に構成される。
これによれば、ノッチパラメータを変更可能とすることで、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0117】
（９）第３の実施形態によれば、ノッチパラメータは、ノッチ周波数Ｆｎとノッチゲイン深さＧｎとを含み、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを調整した後でノッチゲイン深さＧｎを調整する。
ノッチ周波数Ｆｎを変えると位相特性が変化することがあるが、ノッチゲイン深さＧｎを調整することで、位相特性を調整することができる。一方、ノッチゲイン深さＧｎを変えてもノッチ周波数Ｆｎは大きく変化しないので、ノッチ周波数Ｆｎを先に調整し、ノッチゲイン深さＧｎを後で調整することで、ノッチ周波数Ｆｎとノッチゲイン深さＧｎとを適切に調整することができる。
ノッチ周波数Ｆｎを変えると位相特性が変化することがあるが、ノッチゲイン深さＧｎを調整することで、位相特性を調整することができる。一方、ノッチゲイン深さＧｎを変えてもノッチ周波数Ｆｎは大きく変化しないので、ノッチ周波数Ｆｎを先に調整し、ノッチゲイン深さＧｎを後で調整することで、ノッチ周波数Ｆｎとノッチゲイン深さＧｎとを適切に調整することができる。
【0118】
（１０）第３の実施形態によれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃは、パルスレーザ光の光路に位置する波長モニタ１７を備え、レーザ制御プロセッサ１３０は、波長モニタ１７の出力に基づいてパルスレーザ光の計測波長λｃ１及びλｃ２を算出し、計測波長λｃ１及びλｃ２に基づいてノッチパラメータを調整する。
これによれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に起因する計測波長λｃ１及びλｃ２の変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
これによれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に起因する計測波長λｃ１及びλｃ２の変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0119】
（１１）第３の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ１３０は、計測波長λｃ１及びλｃ２とパルスレーザ光の目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｄλ１及びＤλ２を算出し、偏差Ｄλ１及びＤλ２に基づいてノッチパラメータを調整する。
これによれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に起因する偏差Ｄλ１及びＤλ２の変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
これによれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に起因する偏差Ｄλ１及びＤλ２の変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0120】
（１２）第３の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ１３０は、偏差Ｄλ１及びＤλ２と閾値Ｓλ１及びＳλ２とを比較し、偏差Ｄλ１及びＤλ２がそれぞれ閾値Ｓλ１及びＳλ２より大きいパルスがＮｍａｘパルスにわたって連続した場合にノッチパラメータを調整する。
これによれば、偏差Ｄλ１及びＤλ２が大きい場合にノッチパラメータを調整し、偏差Ｄλ１及びＤλ２を小さくすることができる。
これによれば、偏差Ｄλ１及びＤλ２が大きい場合にノッチパラメータを調整し、偏差Ｄλ１及びＤλ２を小さくすることができる。
【0121】
（１３）第３の実施形態によれば、ノッチパラメータは、ノッチ周波数Ｆｎを含み、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチ周波数Ｆｎを増減させて計測波長λｃ１及びλｃ２と目標波長λｔ１及びλｔ２との偏差Ｍｃを算出し、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチ周波数Ｆｎを探索する。
これによれば、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチ周波数Ｆｎを探索することで、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に対応した適切なノッチ周波数Ｆｎを見つけることができる。
これによれば、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチ周波数Ｆｎを探索することで、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に対応した適切なノッチ周波数Ｆｎを見つけることができる。
【0122】
（１４）第３の実施形態によれば、ノッチパラメータは、ノッチゲイン深さＧｎを含み、レーザ制御プロセッサ１３０は、ノッチゲイン深さＧｎを増減させて偏差Ｍｃを算出し、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチゲイン深さＧｎを探索する。
これによれば、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチゲイン深さＧｎを探索することで、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に対応した適切なノッチゲイン深さＧｎを見つけることができる。
これによれば、偏差Ｍｃが０に近づくようなノッチゲイン深さＧｎを探索することで、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に対応した適切なノッチゲイン深さＧｎを見つけることができる。
【0123】
（１５）第３の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ１３０は、パルスレーザ光の目標波長が異なる複数のパルスの計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差を算出し、波長差に基づいてノッチパラメータを調整する。
これによれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に起因する複数のパルスの計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差の変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
これによれば、狭帯域化レーザ装置１００ｃの特性変化に起因する複数のパルスの計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差の変化に対応して、周期的な波長の変更を正確に行うことができる。
【0124】
（１６）第３の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ１３０は、計測波長λｃ１及びλｃ２の波長差を複数回算出して波長差の平均値Ｄλｃを算出し、平均値Ｄλｃが閾値ＳＤより大きい場合にノッチパラメータを調整する。
これによれば、波長差の平均値Ｄλｃが大きい場合にノッチパラメータを調整し、波長差の平均値Ｄλｃを小さくすることができる。
これによれば、波長差の平均値Ｄλｃが大きい場合にノッチパラメータを調整し、波長差の平均値Ｄλｃを小さくすることができる。
【0125】
（１７）第３の実施形態によれば、ノッチフィルタは、直列に接続された第１及び第２の帯域除去フィルタを含み、第１及び第２の帯域除去フィルタは、レーザ制御プロセッサ１３０によってそれぞれノッチパラメータを調整可能に構成される。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタを直列に接続し、それぞれノッチパラメータを調整可能とすることで、ノッチパラメータのダイナミックレンジを大きくすることができる。
これによれば、第１及び第２の帯域除去フィルタを直列に接続し、それぞれノッチパラメータを調整可能とすることで、ノッチパラメータのダイナミックレンジを大きくすることができる。
【0126】
（１８）第３の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ１３０は、第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチ周波数Ｆｎで作用するように、ノッチパラメータを調整する。
これによれば、同一のノッチ周波数Ｆｎで作用するようにノッチパラメータを調整することで、ノッチ周波数Ｆｎでのノッチゲイン深さＧｎを大きくすることができる。
これによれば、同一のノッチ周波数Ｆｎで作用するようにノッチパラメータを調整することで、ノッチ周波数Ｆｎでのノッチゲイン深さＧｎを大きくすることができる。
【0127】
（１９）第３の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ１３０は、第１及び第２の帯域除去フィルタが同一のノッチゲイン深さＧｎで作用するように、ノッチパラメータを調整する。
これによれば、ノッチゲイン深さＧｎを同一とすることで、ノッチパラメータの調整を容易にすることができる。
その他の点については、第３の実施形態は第１の実施形態と同様である。
これによれば、ノッチゲイン深さＧｎを同一とすることで、ノッチパラメータの調整を容易にすることができる。
その他の点については、第３の実施形態は第１の実施形態と同様である。
【0128】
５．その他
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
【0129】
本明細書及び特許請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」、「有する」、「備える」、「具備する」などの用語は、「記載されたもの以外の構成要素の存在を除外しない」と解釈されるべきである。また、修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきである。さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
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【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】