特許7805861半導体装置及び半導体装置の製造方法

発明の名称　半導体装置及び半導体装置の製造方法

出願人　新電元工業株式会社　（識別番号 2037）

　　　　特許公開件数ランキング 1151 位（6件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 382 位（22件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7805861

公報発行日　2026年1月26

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7805861

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