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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2026-02-16
(45)【発行日】2026-02-25
(54)【発明の名称】露光システム、及びデバイス製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20260217BHJP
H10P 72/70 20260101ALI20260217BHJP
H10P 72/30 20260101ALI20260217BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 521
G03F7/20 502
H01L21/68 N
H01L21/68 A
【請求項の数】
20
(21)【出願番号】P 2023576511
(86)(22)【出願日】2022-01-28
(86)【国際出願番号】 JP2022003289
(87)【国際公開番号】W WO2023144993
(87)【国際公開日】2023-08-03
【審査請求日】2024-07-18
(73)【特許権者】
【識別番号】000004112
【氏名又は名称】株式会社ニコン
(74)【代理人】
【識別番号】100161207
【弁理士】
【氏名又は名称】西澤 和純
(74)【代理人】
【識別番号】100140774
【弁理士】
【氏名又は名称】大浪 一徳
(74)【代理人】
【識別番号】100175824
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 淳一
(72)【発明者】
【氏名】落野 新
(72)【発明者】
【氏名】淺井 健太
(72)【発明者】
【氏名】木田 佳己
(72)【発明者】
【氏名】毛呂 将俊
(72)【発明者】
【氏名】辻 浩明
(72)【発明者】
【氏名】吉田 正浩
(72)【発明者】
【氏名】須田 隆行
【審査官】鷲崎 亮
(56)【参考文献】
【文献】特開２００６－２６９８６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２１－１３６２５８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－１７７３０３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００１－１８５６０７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０３Ｆ ７／２０－７／２４
Ｇ０３Ｆ ９／００－９／０２
Ｈ０１Ｌ ２１／６８３
Ｈ０１Ｌ ２１／６７７
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ウエハ上に感光剤を塗布可能な塗布装置から搬送される前記ウエハを露光可能な露光システムであって、前記塗布装置から搬送された前記ウエハの第１面を保持する第１保持部を有する保持装置と、
少なくとも第１測定領域を有し、前記第１保持部によって保持された前記ウエハの前記第１面とは反対側の第２面において第１方向の位置を測定可能な第１測定部と、前記第１測定領域とは異なる、少なくとも一つの第２測定領域を有し、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第１方向の位置を測定可能な第２測定部と、を含む測定装置と、
前記ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、
前記測定装置から前記露光装置の間で前記ウエハを搬送する搬送装置と、
制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記第１測定部による測定結果及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハを露光装置へ向けて搬送するか否かを判断し、
前記保持装置は、前記第１保持部を、前記ウエハの前記第１面と交差する第１軸回りに回転させる移動部を有し、
前記移動部により前記第１保持部を回転させることで、前記ウエハを前記第１軸回りに回転させ、
前記第２測定部は、複数の前記第２測定領域を備え、
前記複数の第２測定領域と前記第１軸との距離は、互いに異なり、
前記複数の第２測定領域は、複数の外側測定領域と前記複数の外側測定領域よりも前記ウエハの径方向内側に配置された複数の内側測定領域を有し、
前記複数の外側測定領域の間隔は、前記複数の内側測定領域の間隔よりも狭くなるように、前記第２測定部が配置されている、露光システム。
【請求項2】
前記移動部を用いて前記第１軸回りに前記ウエハを回転させることにより、前記ウエハの複数の回転位置において前記第１方向の位置を測定可能である、請求項１に記載の露光システム。
【請求項3】
前記制御装置は、予め厚さ及び反り量が知られた基準ウエハの前記第１測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの厚さを測定し、前記基準ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの反り量を測定する、請求項１又は２に記載の露光システム。
【請求項4】
ウエハ上に感光剤を塗布可能な塗布装置から搬送される前記ウエハを露光可能な露光システムであって、前記塗布装置から搬送された前記ウエハの第１面を保持する第１保持部を有する保持装置と、
少なくとも第１測定領域を有し、前記第１保持部によって保持された前記ウエハの前記第１面とは反対側の第２面において第１方向の位置を測定可能な第１測定部と、前記第１測定領域とは異なる、少なくとも一つの第２測定領域を有し、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第１方向の位置を測定可能な第２測定部と、を含む測定装置と、
前記ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、
前記測定装置から前記露光装置の間で前記ウエハを搬送する搬送装置と、
制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記第１測定部による測定結果及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハを露光装置へ向けて搬送するか否かを判断し、
前記制御装置は、予め厚さ及び反り量が知られた基準ウエハの前記第１測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの厚さを測定し、
前記基準ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの反り量を測定する、露光システム。
【請求項5】
前記第１測定部は、前記第１測定領域において前記第２面の前記第１方向の位置を測定可能であり、前記第２測定部は、前記第２測定領域において前記第１面の前記第１方向における位置を測定可能である、請求項１～４のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項6】
ウエハ上に感光剤を塗布可能な塗布装置から搬送される前記ウエハを露光可能な露光システムであって、前記塗布装置から搬送された前記ウエハの第１面を保持する第１保持部を有する保持装置と、
少なくとも第１測定領域を有し、前記第１保持部によって保持された前記ウエハの前記第１面とは反対側の第２面において第１方向の位置を測定可能な第１測定部と、前記第１測定領域とは異なる、少なくとも一つの第２測定領域を有し、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第１方向の位置を測定可能な第２測定部と、を含む測定装置と、
前記ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、
前記測定装置から前記露光装置の間で前記ウエハを搬送する搬送装置と、
制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記第１測定部による測定結果及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハを露光装置へ向けて搬送するか否かを判断し、
前記第１測定部は、前記第１測定領域において前記第２面の前記第１方向の位置を測定可能であり、
前記第２測定部は、前記第２測定領域において前記第１面の前記第１方向における位置を測定可能である、露光システム。
【請求項7】
前記第１保持部は、前記第１面の中心を含む中心領域を保持し、前記中心領域と前記第１測定領域は、前記ウエハの前記第１面と交差する第１軸上に位置し、
前記第２測定領域は前記第１面に位置する、請求項１～６のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項8】
前記露光装置によって露光された前記ウエハは、現像装置で現像される、請求項１～７のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項9】
前記ウエハの前記第２面は、前記感光剤の表面又は前記感光剤を覆う膜の表面を含み、前記露光装置において前記第２面にエネルギビームが照射される、請求項１～８のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項10】
前記保持装置は、前記ウエハの前記第１面の第１位置を保持し、前記第１方向は、前記第１位置における前記ウエハの厚さ方向であり、
前記第１測定部は、前記ウエハの前記第２面の第２位置における前記厚さ方向の位置を測定し、
前記第２測定部は、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第２位置とは異なる第３位置における前記厚さ方向の位置を測定する、請求項１～９のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項11】
前記制御装置は、前記測定結果に基づいて、前記搬送装置が前記ウエハを搬送する速度又は加速度を制御する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項12】
前記制御装置は、前記測定結果に基づいて、前記搬送装置が前記ウエハを搬送する搬送経路を制御する、請求項１～１１のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項13】
前記制御装置は、前記測定結果に基づいて、前記搬送装置が前記ウエハに与えるスクイズ力を制御する、請求項１～１２のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項14】
前記搬送装置は、前記ウエハを吸引保持する吸引装置を含み、前記制御装置は、前記測定結果に基づいて、前記吸引装置による吸引力を制御する、請求項１～１３のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項15】
前記制御装置は、前記測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハが前記露光装置へ向けて搬送されないように制御する、請求項１～１４のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項16】
前記露光装置に搬送される前記ウエハの温度を調整するための温調装置をさらに備える、請求項１～１５のいずれか一項記載の露光システム。
【請求項17】
ホスト装置に管理されており、前記制御装置は、前記測定結果に関する情報を、前記ホスト装置に転送する、請求項１～１６のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項18】
前記制御装置は、前記測定結果に関する情報を、ログデータとして記録する、請求項１～１７のいずれか一項に記載の露光システム。
【請求項19】
露光ステップを含むデバイス製造方法であって、前記露光ステップは、
請求項１～１８のいずれか一項に記載の露光システムを用いてレジストが塗布されたウエハを露光することと、
露光された前記ウエハを現像することと、を含む、デバイス製造方法。
【請求項20】
露光ステップを含むデバイス製造方法であって、前記露光ステップは、
請求項１～１８のいずれか一項に記載の露光システムを用いて表面にレジストが塗布された前記ウエハを露光することと、
露光された前記ウエハを現像することと、を含む、デバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、露光システム、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、ウエハを保持して搬送する装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】米国特許第６８５２６４４号明細書
【発明の概要】
【0004】
本発明の露光システムの第１の態様は、ウエハ上に感光剤を塗布可能な塗布装置から搬送される前記ウエハを露光可能な露光システムであって、前記塗布装置から搬送された前記ウエハの第１面を保持する第１保持部を有する保持装置と、少なくとも第１測定領域を有し、前記第１保持部によって保持された前記ウエハの前記第１面とは反対側の第２面において第１方向の位置を測定可能な第１測定部と、前記第１測定領域とは異なる、少なくとも一つの第２測定領域を有し、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第１方向の位置を測定可能な第２測定部と、を含む測定装置と、前記ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、前記測定装置から前記露光装置の間で前記ウエハを搬送する搬送装置と、制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記第１測定部による測定結果及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハを露光装置へ向けて搬送するか否かを判断し、前記保持装置は、前記第１保持部を、前記ウエハの前記第１面と交差する第１軸回りに回転させる移動部を有し、前記移動部により前記第１保持部を回転させることで、前記ウエハを前記第１軸回りに回転させ、前記第２測定部は、複数の前記第２測定領域を備え、前記複数の第２測定領域と前記第１軸との距離は、互いに異なり、前記複数の第２測定領域は、複数の外側測定領域と前記複数の外側測定領域よりも前記ウエハの径方向内側に配置された複数の内側測定領域を有し、前記複数の外側測定領域の間隔は、前記複数の内側測定領域の間隔よりも狭くなるように、前記第２測定部が配置されている。
【0005】
本発明の露光システムの第２の態様は、ウエハ上に感光剤を塗布可能な塗布装置から搬送される前記ウエハを露光可能な露光システムであって、前記塗布装置から搬送された前記ウエハの第１面を保持する第１保持部を有する保持装置と、少なくとも第１測定領域を有し、前記第１保持部によって保持された前記ウエハの前記第１面とは反対側の第２面において第１方向の位置を測定可能な第１測定部と、前記第１測定領域とは異なる、少なくとも一つの第２測定領域を有し、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第１方向の位置を測定可能な第２測定部と、を含む測定装置と、前記ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、前記測定装置から前記露光装置の間で前記ウエハを搬送する搬送装置と、制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記第１測定部による測定結果及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハを露光装置へ向けて搬送するか否かを判断し、前記制御装置は、予め厚さ及び反り量が知られた基準ウエハの前記第１測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの厚さを測定し、前記基準ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの反り量を測定する。
【0006】
本発明の露光システムの第３の態様は、ウエハ上に感光剤を塗布可能な塗布装置から搬送される前記ウエハを露光可能な露光システムであって、前記塗布装置から搬送された前記ウエハの第１面を保持する第１保持部を有する保持装置と、少なくとも第１測定領域を有し、前記第１保持部によって保持された前記ウエハの前記第１面とは反対側の第２面において第１方向の位置を測定可能な第１測定部と、前記第１測定領域とは異なる、少なくとも一つの第２測定領域を有し、前記ウエハの前記第１面又は前記第２面において前記第１方向の位置を測定可能な第２測定部と、を含む測定装置と、前記ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、前記測定装置から前記露光装置の間で前記ウエハを搬送する搬送装置と、制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記第１測定部による測定結果及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記搬送装置によって前記ウエハを露光装置へ向けて搬送するか否かを判断し、前記第１測定部は、前記第１測定領域において前記第２面の前記第１方向の位置を測定可能であり、前記第２測定部は、前記第２測定領域において前記第１面の前記第１方向における位置を測定可能である。
【0016】
本発明のデバイス製造方法の第１の態様は、露光ステップを含むデバイス製造方法であって、前記露光ステップは、前記のいずれかに記載の露光システムを用いてレジストが塗布されたウエハを露光することと、露光された前記ウエハを現像することと、を含む。
本発明のデバイス製造方法の第２の態様は、露光ステップを含むデバイス製造方法であって、前記露光ステップは、前記のいずれかに記載の露光システムを用いて表面にレジストが塗布された前記ウエハを露光することと、露光された前記ウエハを現像することと、を含む。
本発明のデバイス製造方法の第２の態様は、露光ステップを含むデバイス製造方法であって、前記露光ステップは、前記のいずれかに記載の露光システムを用いて表面にレジストが塗布された前記ウエハを露光することと、露光された前記ウエハを現像することと、を含む。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明の第１実施形態の搬送システムに用いられる、アンブレラ形に反ったウエハの斜視図である。
【図2】フリスビー形に反ったウエハの斜視図である。
【図3】パラボラ形に反ったウエハの斜視図である。
【図4】鞍形に反ったウエハの斜視図である。
【図5】搬送システムを模式的に示す平面図である。
【図6】搬送システムにおける測定装置の一部の平面図である。
【図8】露光装置のウエハステージを模式的に示す正面視した断面図である。
【図9】搬送システムの搬送ロボットにおける要部の平面図である。
【図13】従来の保持装置の動作を説明する断面図である。
【図14】ウエハの厚さに対する反り量閾値の変化の一例を示す図である。
【図15】本発明の第２実施形態の搬送システムにおける要部の一部の平面図である。
【図17】本発明の第３実施形態の搬送システムにおける要部の断面図である。
【図18】本発明の４実施形態の搬送システムにおける要部の平面図である。
【図20】搬送システムの第５保持装置の斜視図である。
【図21】第５保持装置の動作を説明する断面図である。
【図22】従来の保持装置の動作を説明する断面図である。
【図23】下方に向かって凸となる形状に反っているウエハが、保持装置に接触する状態を説明する断面図である。
【図24】上方に向かって凸となる形状に反っているウエハが、保持装置に接触する状態を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態を、図１から図１３を参照しながら説明する。以下の説明において、第１、第２等の序数は説明のためにつけているが、序数は無くてもよいし、序数の序数は変わってもよい。
以下では、まず、後述する搬送システムで搬送されるウエハ２００について、図１～図４を用いて説明する。図１～図４では、例として、水平な面上に置かれたウエハ２００の形状を示している。なお、以下の図では、ウエハ２００の反り量（反り）を実際の反り量よりも多く示している。
反りが無い状態のウエハ２００は、平面視で円形の平板形状である。例えば、ウエハ２００の径は３００ｍｍである。
図１に示すウエハ２００は、いわゆるアンブレラ形に反っている。アンブレラ形のウエハ２００では、平面視におけるウエハ２００の中心から外縁に向かうに従い漸次、ウエハ２００が下方に向かう形状を有している。
以下、本発明の第１実施形態を、図１から図１３を参照しながら説明する。以下の説明において、第１、第２等の序数は説明のためにつけているが、序数は無くてもよいし、序数の序数は変わってもよい。
以下では、まず、後述する搬送システムで搬送されるウエハ２００について、図１～図４を用いて説明する。図１～図４では、例として、水平な面上に置かれたウエハ２００の形状を示している。なお、以下の図では、ウエハ２００の反り量（反り）を実際の反り量よりも多く示している。
反りが無い状態のウエハ２００は、平面視で円形の平板形状である。例えば、ウエハ２００の径は３００ｍｍである。
図１に示すウエハ２００は、いわゆるアンブレラ形に反っている。アンブレラ形のウエハ２００では、平面視におけるウエハ２００の中心から外縁に向かうに従い漸次、ウエハ２００が下方に向かう形状を有している。
【0019】
なお、ウエハ２００の反り形状は、アンブレラ形に限定されない。
図２に示すウエハ２００は、いわゆるフリスビー形に反っている。フリスビー形のウエハ２００では、平面視におけるウエハ２００の中心部２０１は上凸状の緩やかな傾斜部を有しており、外周部２０２は漸次下方に向かうよう急な傾斜部を有する。中心部２０１の傾斜部よりも外周部２０２の傾斜部の方が急な傾斜部である。なお、中心部２０１は平坦であってもよい。中心部２０１を囲うウエハ２００の外周部２０２は、外縁に向かうに従い漸次、下方に向かう形状を有している。
図３に示すウエハ２００は、いわゆるパラボラ形に反っている。パラボラ形のウエハ２００では、平面視におけるウエハ２００の中心から外縁に向かうに従い漸次、ウエハ２００が上方に向かう形状を有している。
図２に示すウエハ２００は、いわゆるフリスビー形に反っている。フリスビー形のウエハ２００では、平面視におけるウエハ２００の中心部２０１は上凸状の緩やかな傾斜部を有しており、外周部２０２は漸次下方に向かうよう急な傾斜部を有する。中心部２０１の傾斜部よりも外周部２０２の傾斜部の方が急な傾斜部である。なお、中心部２０１は平坦であってもよい。中心部２０１を囲うウエハ２００の外周部２０２は、外縁に向かうに従い漸次、下方に向かう形状を有している。
図３に示すウエハ２００は、いわゆるパラボラ形に反っている。パラボラ形のウエハ２００では、平面視におけるウエハ２００の中心から外縁に向かうに従い漸次、ウエハ２００が上方に向かう形状を有している。
【0020】
図４に示すウエハ２００は、いわゆる鞍形に反っている。ここで、ウエハ２００の厚さ方向（以下では、単に厚さ方向と言う）Ｄ３に直交するとともに、互いに交差する方向を、第１直交方向Ｄ１及び第２直交方向Ｄ２と規定する。図４では、厚さ方向Ｄ３は、ウエハ２００が置かれている水平面に直交する方向であってもよい。鞍形のウエハ２００において、平面視におけるウエハ２００の中心に対して第１直交方向Ｄ１に位置する部分は、この中心から外縁に向かうに従い漸次、下方に向かう形状を有している。平面視におけるウエハ２００の中心に対して第２直交方向Ｄ２に位置する部分は、この中心から外縁に向かうに従い漸次、上方に向かう形状を有している。
【0021】
次に、露光システム１について説明する。なお、以降の説明において、水平面とほぼ平行な面内に、互いに直交するＸ軸とＹ軸を規定するとともに、Ｘ軸およびＹ軸に直交する方向にＺ軸を規定する。なお、Ｘ軸とＹ軸で規定される面が、ほぼ水平でなくてもよい。
図５に示すように、本実施形態の露光システム１は、ウエハ２００を露光するためのシステムである。露光システム１は、搬送システム１５と、露光装置３５と、計測ステーション４５と、制御装置ＣＯＮＴと、を備える。なお、露光システム１が、計測ステーション４５を備えていなくてもよい。
なお、図５において円形の部材は、ウエハ２００であり、コータ・デベロッパ１０から露光システム１に搬入されたウエハ２００の移動経路の一例を示している。黒い矢印Ａ６は、露光前のウエハ２００の移動経路の一例を示し、白い矢印Ａ７は露光後のウエハ２００の移動経路の一例を示す。
図５に示すように、本実施形態の露光システム１は、ウエハ２００を露光するためのシステムである。露光システム１は、搬送システム１５と、露光装置３５と、計測ステーション４５と、制御装置ＣＯＮＴと、を備える。なお、露光システム１が、計測ステーション４５を備えていなくてもよい。
なお、図５において円形の部材は、ウエハ２００であり、コータ・デベロッパ１０から露光システム１に搬入されたウエハ２００の移動経路の一例を示している。黒い矢印Ａ６は、露光前のウエハ２００の移動経路の一例を示し、白い矢印Ａ７は露光後のウエハ２００の移動経路の一例を示す。
【0022】
露光システム１は、インターフェース装置５０を介してコータ・デベロッパ１０に接続されている。コータ・デベロッパ１０は、塗布装置１１を有する。塗布装置１１は、ウエハ２００上に感光剤を塗布可能である。なお、感光剤が塗布されたウエハ２００も、以下の説明においては、単にウエハ２００と呼ぶことがある。感光剤が塗布されたウエハ２００が、コータ・デベロッパ１０から搬送システム１５を介して露光装置３５に搬入され、露光される。
また、コータ・デベロッパ１０は、現像装置１２を含み、露光装置３５で露光されたウエハ２００が、搬送システム１５からコータ・デベロッパ１０に搬入され、現像装置１２で現像される。
インターフェース装置５０は、感光剤が塗布された露光前のウエハ２００、露光後のウエハ２００の少なくとも一方を一時的に保持することができる。なお、インターフェース装置５０を設けなくてもよい。
また、コータ・デベロッパ１０は、現像装置１２を含み、露光装置３５で露光されたウエハ２００が、搬送システム１５からコータ・デベロッパ１０に搬入され、現像装置１２で現像される。
インターフェース装置５０は、感光剤が塗布された露光前のウエハ２００、露光後のウエハ２００の少なくとも一方を一時的に保持することができる。なお、インターフェース装置５０を設けなくてもよい。
【0023】
搬送システム１５は、測定装置１６と、搬送ロボット１７と、バッファ１８と、搬送ロボット１９と、ロード・ロボット２０と、アンロード・ロボット２１と、を有する。
なお、図５に示す搬送システム１５の構成、配置などは、一例であり、一部の構成を省いてもよい。例えば、ロード・ロボット２０とアンロード・ロボット２１の一方を省いて、一つのロボットを、ウエハ２００のロード作業とアンロード作業の両方に使ってもよい。
なお、図５に示す搬送システム１５の構成、配置などは、一例であり、一部の構成を省いてもよい。例えば、ロード・ロボット２０とアンロード・ロボット２１の一方を省いて、一つのロボットを、ウエハ２００のロード作業とアンロード作業の両方に使ってもよい。
【0024】
測定装置１６は、コータ・デベロッパ１０で感光剤が塗布された露光前のウエハ２００の形状を測定する。
図６及び図７に示すように、測定装置１６は、第１フレーム２４と、第２フレーム２５と、保持装置２６と、移動部２７と、第１測定部２８と、複数の第２測定部２９ａ，２９ｂ，２９ｃ，２９ｄと、を備える。制御装置ＣＯＮＴは、測定装置１６の制御も行う。なお、図６では、フレーム２４，２５は省略されている。
図７に示すように、第１フレーム２４及び第２フレーム２５は、互いに対向するようにＺ軸方向に離れて配置される。
図６及び図７に示すように、測定装置１６は、第１フレーム２４と、第２フレーム２５と、保持装置２６と、移動部２７と、第１測定部２８と、複数の第２測定部２９ａ，２９ｂ，２９ｃ，２９ｄと、を備える。制御装置ＣＯＮＴは、測定装置１６の制御も行う。なお、図６では、フレーム２４，２５は省略されている。
図７に示すように、第１フレーム２４及び第２フレーム２５は、互いに対向するようにＺ軸方向に離れて配置される。
【0025】
保持装置２６は、第１フレーム２４に設けられており、搬送システム１５に搬入されたウエハを保持する。例えば、保持装置２６は、吸着等によりウエハ２００を保持する。保持装置２６は、ウエハ２００の厚さ方向Ｄ３の第１側を向く第１面２０３における第１位置２０３ａを保持する。この例では、厚さ方向Ｄ３は、Ｚ軸と平行であり、保持装置２６に保持されたウエハ２００の第１面２０３は、Ｚ２側を向いている。
また、保持装置２６に保持されたウエハ２００の第２面２０４は、ウエハ２００の厚さ方向Ｄ３における第１側とは反対側の第２側を向く。すなわち、第２面２０４は、フレーム２５と対向するようにＺ１側を向いている。
移動部２７は、例えば、図示しない駆動モータを有する。移動部２７は、例えば、保持装置２６を第１軸Ｏ１回りに回転させることにより、ウエハ２００を、ウエハ２００の第１面２０３と交差する第１軸Ｏ１回りに回転させる。この例では、第１軸〇１は、Ｚ軸と平行である。
また、保持装置２６に保持されたウエハ２００の第２面２０４は、ウエハ２００の厚さ方向Ｄ３における第１側とは反対側の第２側を向く。すなわち、第２面２０４は、フレーム２５と対向するようにＺ１側を向いている。
移動部２７は、例えば、図示しない駆動モータを有する。移動部２７は、例えば、保持装置２６を第１軸Ｏ１回りに回転させることにより、ウエハ２００を、ウエハ２００の第１面２０３と交差する第１軸Ｏ１回りに回転させる。この例では、第１軸〇１は、Ｚ軸と平行である。
【0026】
第１測定部２８は、第２フレーム２５に、保持装置２６に対向するように固定される。例えば、第１測定部２８は、静電容量センサを含む。第１測定部２８は、保持装置２６によって保持されたウエハ２００における、第２位置２０４ａにおける厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能である。この例では、第２位置２０４ａは、ウエハ２００の第１面２０３とは反対側の第２面２０４内に位置する。
この例では、ウエハ２００の第１面２０３は、感光剤の表面であるが、感光剤上に塗布された別の材料の表面であってもよい。第１位置２０３ａと第２位置２０４ａは、第１軸Ｏ１上に位置し、ウエハ２００のほぼ中心である。
この例では、ウエハ２００の第１面２０３は、感光剤の表面であるが、感光剤上に塗布された別の材料の表面であってもよい。第１位置２０３ａと第２位置２０４ａは、第１軸Ｏ１上に位置し、ウエハ２００のほぼ中心である。
【0027】
第２測定部２９ａ～２９ｄは、第１フレーム２４に固定される。図６に示すように、第２測定部２９ａ～２９ｄは、第１軸Ｏ１を通る同一直線上に配置される。この例では、第２測定部２９ａ～２９ｄは、Ｘ軸に沿って配置される。
なお、第２測定部２９ａ～２９ｄは、第１軸Ｏ１を通る同一直線上に配置されなくてもよい。第２測定部２９ａ～２９ｄは、すべてが第２フレーム２５に固定されてもよいし、第２測定部２９ａ～２９ｄの一部が第１フレーム２４に固定され、第２測定部２９ａ～２９ｄの残部が第２フレーム２５に固定されてもよい。
なお、第２測定部２９ａ～２９ｄは、第１軸Ｏ１を通る同一直線上に配置されなくてもよい。第２測定部２９ａ～２９ｄは、すべてが第２フレーム２５に固定されてもよいし、第２測定部２９ａ～２９ｄの一部が第１フレーム２４に固定され、第２測定部２９ａ～２９ｄの残部が第２フレーム２５に固定されてもよい。
【0028】
第２測定部２９ａ～２９ｄと第１軸Ｏ１との距離は、互いに異なる。第２測定部２９ａ～２９ｄは、第２測定部２９ａ，２９ｂ，２９ｃ，２９ｄの順で、ウエハ２００の径方向の外側に向かうにつれて、第１軸〇１からの距離が大きくなるように配置される。この例では、第２測定部２９ａ～２９ｄは、ウエハ２００の径方向の外側の第２測定部２９ｃ，２９ｄ間の間隔が、径方向の内側の第２測定部２９ａ，２９ｂ間の間隔よりも大きくなるように配置されているが、等しい間隔で配置されてもよい。
例えば、第２測定部２９ａ～２９ｄは、静電容量センサを含む。なお、第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄは静電容量センサに限定されず、誘導型センサ等でもよいし、受光部を含む光学センサであってもよい。また第１測定部２８と第２測定部２９ａ～２９ｄとが、異なる種類のセンサであってもよい。
例えば、第２測定部２９ａ～２９ｄは、静電容量センサを含む。なお、第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄは静電容量センサに限定されず、誘導型センサ等でもよいし、受光部を含む光学センサであってもよい。また第１測定部２８と第２測定部２９ａ～２９ｄとが、異なる種類のセンサであってもよい。
【0029】
図７に示すように、第２測定部２９ａ～２９ｄは、ウエハ２００の第１面２０３において、ウエハ２００の径方向において第２位置２０４ａよりも外周側の第３位置２０３ｂのそれぞれにおける厚さ方向Ｄ３（Ｚ軸方向）の位置を測定可能である。第２測定部２９ａ～２９ｄのそれぞれは、移動部２７によって、第１軸Ｏ１回りに回転したウエハ２００の周方向の複数の位置における厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能である。
なお、測定装置１６が備える第２測定部の数は、１つから３つ、５つ以上のいずれでもよい。
なお、測定装置１６が備える第２測定部の数は、１つから３つ、５つ以上のいずれでもよい。
【0030】
制御装置ＣＯＮＴは、露光システム１に接続されており、搬送システム１５、露光装置３５等の動作を制御する。制御装置ＣＯＮＴは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、メモリ等を有している。メモリには、ＣＰＵを制御する制御プログラム等が記憶される。ＣＰＵは、制御プログラムに基づいて動作する。
ウエハ２００の形状（例えば、厚さ及び反り量）の測定には、予め厚さｔ０及び反り量ｗ０が知られた基準ウエハ２１０を用いてもよい。例えば、基準ウエハ２１０の外径、厚さｔ０は、ウエハ２００の外径、厚さｔ１と同程度である。
この場合、制御装置ＣＯＮＴのメモリには、厚さｔ０、反り量ｗ０、後述する距離Ｄ１０、平面度Ｄ２０等が記憶される。
ウエハ２００の形状（例えば、厚さ及び反り量）の測定には、予め厚さｔ０及び反り量ｗ０が知られた基準ウエハ２１０を用いてもよい。例えば、基準ウエハ２１０の外径、厚さｔ０は、ウエハ２００の外径、厚さｔ１と同程度である。
この場合、制御装置ＣＯＮＴのメモリには、厚さｔ０、反り量ｗ０、後述する距離Ｄ１０、平面度Ｄ２０等が記憶される。
【0031】
制御装置ＣＯＮＴは、基準ウエハ２１０の第１測定部２８による測定結果と、ウエハ２００の第１測定部２８による測定結果に基づいて、ウエハ２００の厚さを測定する（ウエハ２００の厚さに関する情報を取得する）。具体的には、例えば、第１測定部２８による、ウエハ２００の第２位置２０４ａまでの距離（測定結果）を、距離Ｄ１１とする。第１測定部２８による、基準ウエハ２１０の第２位置２０４ａまでの距離を、距離Ｄ１０とする。
このとき、例えば、ウエハ２００の厚さｔ１は（１）式から求められる。
ｔ１＝ｔ０－（Ｄ１１－Ｄ１０） ・・（１）
このとき、例えば、ウエハ２００の厚さｔ１は（１）式から求められる。
ｔ１＝ｔ０－（Ｄ１１－Ｄ１０） ・・（１）
【0032】
制御装置ＣＯＮＴは、基準ウエハ２１０の第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄによる測定結果と、ウエハ２００の第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄによる測定結果に基づいて、ウエハ２００の反り量を測定する（ウエハ２００の反り量に関する情報を取得する）。
例えば、ウエハ２００の反り量は、以下のように求められる。互いに平行に配置された一対の平面Ｐ１でウエハ２００を挟んだ時の、一対の平面Ｐ１間の距離を、平面度Ｄ２１とする。平面度Ｄ２１は、第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄによる測定結果から求められる。
予め、基準ウエハ２１０に対する平面度Ｄ２０を求めておく。基準ウエハ２１０の反り量ｗ０は、（Ｄ２０－ｔ０）の式から求められる。このとき、例えば、ウエハ２００の反り量ｗ１は（２）式から求められる。
ｗ１＝ｗ０＋（Ｄ２１－Ｄ２０） ・・（２）
例えば、ウエハ２００の反り量は、以下のように求められる。互いに平行に配置された一対の平面Ｐ１でウエハ２００を挟んだ時の、一対の平面Ｐ１間の距離を、平面度Ｄ２１とする。平面度Ｄ２１は、第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄによる測定結果から求められる。
予め、基準ウエハ２１０に対する平面度Ｄ２０を求めておく。基準ウエハ２１０の反り量ｗ０は、（Ｄ２０－ｔ０）の式から求められる。このとき、例えば、ウエハ２００の反り量ｗ１は（２）式から求められる。
ｗ１＝ｗ０＋（Ｄ２１－Ｄ２０） ・・（２）
【0033】
搬送ロボット１７は、測定装置１６とバッファ１８との間で、ウエハ２００を移動させるロボットである。
バッファ１８は、ウエハ２００を一時的に蓄える装置である。
搬送ロボット１９は、搬送システム１５と計測ステーション４５との間でウエハ２００のやり取りを行うロボットである。
ロード・ロボット２０は、バッファ１８からウエハ２００を搬出し、露光装置３５に、露光前のウエハ２００を受け渡すロボットである。
アンロード・ロボット２１は、露光装置３５から露光後のウエハ２００を受け取り、バッファ１８に受け渡すロボットである。
搬送システム１５内には、着脱式のキャリア（例えば、FOUP:Front-Opening Unified Pod）３１が配置されている。キャリア３１は、ウエハ２００の搬送及び保管に用いられる。ロード・ロボット２０は、バッファ１８からキャリア３１へウエハ２００を搬送可能である。
バッファ１８は、ウエハ２００を一時的に蓄える装置である。
搬送ロボット１９は、搬送システム１５と計測ステーション４５との間でウエハ２００のやり取りを行うロボットである。
ロード・ロボット２０は、バッファ１８からウエハ２００を搬出し、露光装置３５に、露光前のウエハ２００を受け渡すロボットである。
アンロード・ロボット２１は、露光装置３５から露光後のウエハ２００を受け取り、バッファ１８に受け渡すロボットである。
搬送システム１５内には、着脱式のキャリア（例えば、FOUP:Front-Opening Unified Pod）３１が配置されている。キャリア３１は、ウエハ２００の搬送及び保管に用いられる。ロード・ロボット２０は、バッファ１８からキャリア３１へウエハ２００を搬送可能である。
【0034】
露光装置３５は、ウエハ２００をエネルギビームで露光する。露光装置３５は、ロードスライダ３８と、ウエハステージ３９と、アンロードスライダ４０と、不図示のビーム照射システムと、を有する。
【0035】
ウエハステージ３９は、ウエハ２００を置くステージである。図８に示すように、例えば、ウエハステージ３９は、ホルダ３９Ａと、複数の可動ピン３９ｂと、を有する。
ホルダ３９Ａのウエハ保持面３９ａは、平面であり、図８においては、ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行である。なお、図８においてホルダ３９Ａの上面には複数の凸部（不図示）が形成され、複数の凸部の上端部によりウエハ保持面３９ａが規定される。
ホルダ３９Ａのウエハ保持面３９ａは、平面であり、図８においては、ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行である。なお、図８においてホルダ３９Ａの上面には複数の凸部（不図示）が形成され、複数の凸部の上端部によりウエハ保持面３９ａが規定される。
【0036】
複数の可動ピン３９ｂは、ホルダ３９Ａ（ウエハ保持面３９ａ）に対して上下方向（Ｚ軸方向）に移動できる。複数の可動ピン３９ｂは、ウエハ２００の中心部２０１を、この中心部２０１の下方から支持する。ウエハステージ３９が、ロード位置（図５において、ロードスライダ３８に近い点線矩形の位置）に移動すると、複数の可動ピン３９ｂは上昇し、ロードスライダ３８から露光前のウエハを受け取る。図８は、この状態を示している。
複数の可動ピン３９ｂは、ウエハ２００を受け取ると、下降し、ホルダ３９Ａ（ウエハ保持面３９ａ）にウエハ２００を載置する。ホルダ３９Ａは、その上面に形成された複数の吸気孔（不図示）を介して、ウエハ２００とホルダ３９Ａとの間の空間の気体（例えば空気）を排出することにより、ウエハ２００のほぼ全面を、ウエハ保持面３９ａに沿うように吸着し、ウエハ２００を保持する。
複数の可動ピン３９ｂは、ウエハ２００を受け取ると、下降し、ホルダ３９Ａ（ウエハ保持面３９ａ）にウエハ２００を載置する。ホルダ３９Ａは、その上面に形成された複数の吸気孔（不図示）を介して、ウエハ２００とホルダ３９Ａとの間の空間の気体（例えば空気）を排出することにより、ウエハ２００のほぼ全面を、ウエハ保持面３９ａに沿うように吸着し、ウエハ２００を保持する。
【0037】
図８のように、ウエハ２００が反り形状を有していても、反り形状（反り量）が許容範囲内であれば、上述の気体排出による吸引力によって、ウエハ保持面３９ａにウエハ２００をほぼ平面状に保持することができる。ホルダ３９Ａに保持されたウエハ２００は、ウエハステージ３９上において、不図示のビーム照射系からのエネルギビームで露光される。
【0038】
ウエハ２００の露光が終了し、ウエハステージ３９がアンロード位置（図５において、アンロードスライダ４０に近い点線矩形の位置）に移動すると、ホルダ３９Ａの排気（吸引）が停止され、複数の可動ピン３９ｂの上昇により、ウエハ２００も保持面から離れ上昇する。
アンロードスライダ４０は、複数の可動ピン３９ｂに支持されたウエハ２００をウエハステージ３９から搬出する。
アンロードスライダ４０は、複数の可動ピン３９ｂに支持されたウエハ２００をウエハステージ３９から搬出する。
【0039】
計測ステーション４５は、ローディング装置４６と、ウエハステージ４７と、アンローディング装置４８と、を有する。
ローディング装置４６は、搬送システム１５の搬送ロボット１９から受け取ったウエハ２００を、ウエハステージ４７に受け渡す。
ウエハステージ４７は、計測ステーション４５に設けられ、ウエハ２００を載せる可動のステージである。計測ステーション４５は、図示しないマーク検出装置等を有する。
アンローディング装置４８は、ウエハ２００をウエハステージ４７から受け取る。搬送システム１５の搬送ロボット１９は、アンローディング装置４８からウエハ２００を受け取り、計測ステーション４５からウエハ２００を搬出する。
ローディング装置４６は、搬送システム１５の搬送ロボット１９から受け取ったウエハ２００を、ウエハステージ４７に受け渡す。
ウエハステージ４７は、計測ステーション４５に設けられ、ウエハ２００を載せる可動のステージである。計測ステーション４５は、図示しないマーク検出装置等を有する。
アンローディング装置４８は、ウエハ２００をウエハステージ４７から受け取る。搬送システム１５の搬送ロボット１９は、アンローディング装置４８からウエハ２００を受け取り、計測ステーション４５からウエハ２００を搬出する。
【0040】
次に、図９に示すように、例えば、搬送システム１５の搬送ロボット１７等に用いられる第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂについて説明する。第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂは、搬送システム１５に含まれ、露光システム１に含まれる。
搬送ロボット１７は、保持フレーム５４と、第１保持装置５５Ａと、第２保持装置５５Ｂと、を備える（含む）。
搬送ロボット１７は、保持フレーム５４と、第１保持装置５５Ａと、第２保持装置５５Ｂと、を備える（含む）。
【0041】
図９から図１１に示すように、第１保持装置５５Ａは、第１基台５６Ａと、第１壁部５７Ａと、第２壁部５８Ａと、を備える。
例えば、第１基台５６Ａは平板状であり、水平面に沿って配置される。第１基台５６Ａの上面である第３面５６ａＡには、第１開口５６ｂＡが形成される。
第１基台５６Ａには、排気孔５６ｃＡが形成される。排気孔５６ｃＡの一方の端は、第１開口５６ｂＡに接続されている。排気孔５６ｃＡは、第１基台５６Ａ内において第３面５６ａＡに沿って延びる。排気孔５６ｃＡの他方の端は、吸引装置Ｖａｃ１に接続される。
例えば、第１基台５６Ａは平板状であり、水平面に沿って配置される。第１基台５６Ａの上面である第３面５６ａＡには、第１開口５６ｂＡが形成される。
第１基台５６Ａには、排気孔５６ｃＡが形成される。排気孔５６ｃＡの一方の端は、第１開口５６ｂＡに接続されている。排気孔５６ｃＡは、第１基台５６Ａ内において第３面５６ａＡに沿って延びる。排気孔５６ｃＡの他方の端は、吸引装置Ｖａｃ１に接続される。
【0042】
図９及び図１０に示すように、第１壁部５７Ａは、環状に形成される。より詳しく説明すると、第１壁部５７Ａで囲まれた領域が長円形状となるように環状に形成される。図９に示すように、第１壁部５７Ａで囲まれた領域は、ウエハ２００の外周部２０２に沿って配置される。
図９から図１１に示すように、第１壁部５７Ａは、第１開口５６ｂＡを囲うように第３面５６ａＡに設けられる。第１壁部５７Ａは、第１基台５６Ａよりも、第３面５６ａＡと交差する第１方向Ｚ（Ｚ軸方向）におけるＺ１側（以下では、単に第１側Ｚ１とも言う）に突出する。ここで、第３面５６ａＡに対して平行な方向の１つを、第２方向（Ｘ軸方向）と規定する。
図９から図１１に示すように、第１壁部５７Ａは、第１開口５６ｂＡを囲うように第３面５６ａＡに設けられる。第１壁部５７Ａは、第１基台５６Ａよりも、第３面５６ａＡと交差する第１方向Ｚ（Ｚ軸方向）におけるＺ１側（以下では、単に第１側Ｚ１とも言う）に突出する。ここで、第３面５６ａＡに対して平行な方向の１つを、第２方向（Ｘ軸方向）と規定する。
【0043】
図９及び図１０に示すように、第１開口５６ｂＡは、第１壁部５７Ａで囲まれた領域における長軸方向（Ｙ軸方向）の中間部に形成される。第１開口５６ｂＡのＹ軸方向の径は、第１開口５６ｂＡのＸ軸方向の径よりも長くてもよいが、図９及び図１０に示すように、第１開口５６ｂＡのＹ軸方向の径が、第１開口５６ｂＡのＸ軸方向の径とほぼ同じであってもよい。
搬送ロボット１７がウエハ２００を保持している状態において、第１壁部５７Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。
搬送ロボット１７がウエハ２００を保持している状態において、第１壁部５７Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。
【0044】
図９から図１１に示すように、第２壁部５８Ａは、第１開口５６ｂＡに対して第１壁部５７Ａよりも外側に設けられる。第２壁部５８Ａは、第３面５６ａＡにおいて第１壁部５７Ａよりも、第１開口５６ｂＡの径方向の外側に設けられる。第２壁部５８Ａは、第１壁部５７Ａを囲むように設けられる。第２壁部５８Ａは、第３面５６ａＡから第１側Ｚ１に突出する。この例では、第２壁部５８Ａは、第２壁部５８Ａの内側側面が第１壁部５７Ａの外側側面に、第１壁部５７Ａの全周にわたって接触する。
第１基台５６Ａは、第２壁部５８Ａよりも第１開口５６ｂＡの径方向の外側に突出する。
第１基台５６Ａは、第２壁部５８Ａよりも第１開口５６ｂＡの径方向の外側に突出する。
【0045】
第２壁部５８Ａの第１側Ｚ１の先端（上面）の高さは、第１壁部５７Ａの第１側Ｚ１の先端（上面）の高さよりも低い。すなわち、第２壁部５８Ａの第１側Ｚ１の先端は、第１壁部５７Ａの第１側Ｚ１の先端よりも、第１方向（Ｚ軸方向）における第１側Ｚ１とは反対側の第２側Ｚ２（以下では、単に第２側Ｚ２も言う）に位置する。
例えば、第１壁部５７Ａと第２壁部５８Ａとの高さの差は、数百μｍ（マイクロメートル）～数千μｍである。例えば、第１壁部５７Ａと第２壁部５８Ａとの高さの差は３００μｍ～１０００μｍであってもよい。
Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第２壁部５８Ａは、第１壁部５７Ａよりも厚い。例えば、第２壁部５８Ａの第２方向Ｘの長さは、第１壁部５７Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い。
例えば、第１壁部５７Ａと第２壁部５８Ａとの高さの差は、数百μｍ（マイクロメートル）～数千μｍである。例えば、第１壁部５７Ａと第２壁部５８Ａとの高さの差は３００μｍ～１０００μｍであってもよい。
Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第２壁部５８Ａは、第１壁部５７Ａよりも厚い。例えば、第２壁部５８Ａの第２方向Ｘの長さは、第１壁部５７Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い。
【0046】
第１保持装置５５Ａを構成する第１基台５６Ａ、第１壁部５７Ａ、及び第２壁部５８Ａは、セラミックス等により一体に形成される。
図９に示すように、第１保持装置５５Ａの第１基台５６Ａは、保持フレーム５４に移動可能に支持される。
前記吸引装置Ｖａｃ１を動作させると、排気孔５６ｃＡ、第１開口５６ｂＡを介して、第１基台５６Ａとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
図９に示すように、第１保持装置５５Ａの第１基台５６Ａは、保持フレーム５４に移動可能に支持される。
前記吸引装置Ｖａｃ１を動作させると、排気孔５６ｃＡ、第１開口５６ｂＡを介して、第１基台５６Ａとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
【0047】
図９に示すように、第２保持装置５５Ｂは、第１保持装置５５Ａと同様に構成される。第２保持装置５５Ｂは、第１基台５６Ａと同様の第２基台５６Ｂと、第１壁部５７Ａと同様に設けられた第３壁部５７Ｂと、第２壁部５８Ａと同様に設けられた第４壁部５８Ｂと、を備える。
例えば、第２基台５６Ｂは平板状であり、水平面に沿って配置される。第２基台５６Ｂの上面である第４面５６ａＢには、第２開口５６ｂＢが形成される。
第２基台５６Ｂには、図示しない排気孔が形成される。
例えば、第２基台５６Ｂは平板状であり、水平面に沿って配置される。第２基台５６Ｂの上面である第４面５６ａＢには、第２開口５６ｂＢが形成される。
第２基台５６Ｂには、図示しない排気孔が形成される。
【0048】
第３壁部５７Ｂは、環状に形成される。第３壁部５７Ｂで囲まれた領域が長円形状となるように第３壁部５７Ｂが配置されている。第３壁部５７Ｂは、第２開口５６ｂＢを囲うように第４面５６ａＢに設けられる。第３壁部５７Ｂは、第２基台６６Ａよりも第１側Ｚ１に突出する。
【0049】
図９に示すように、第２開口５６ｂＢは、第２壁部５８Ａで囲まれた領域における長軸方向（Ｙ軸方向）の中間部に形成される。第２開口５６ｂＢのＹ軸方向の径は、図９に示すように、第２開口５６ｂＢのＸ軸方向（第２方向）の径とほぼ同じであってもよいし、第２開口５６ｂＢのＸ軸方向（第２方向）の径よりも長くてもよい。
第４壁部５８Ｂは、第２開口５６ｂＢに対して第３壁部５７Ｂよりも外側に設けられる。第４壁部５８Ｂは、第４面５６ａＢにおける第３壁部５７Ｂよりも、第２開口５６ｂＢの径方向の外側に設けられる。第４壁部５８Ｂは、第３壁部５７Ｂを囲むように設けられる。第４壁部５８Ｂは、第４面５６ａＢから第１側Ｚ１に突出する。第４壁部５８Ｂの内側側面は、第３壁部５７Ｂの外側側面に、第３壁部５７Ｂの全周にわたって接触する。
第４壁部５８Ｂは、第２開口５６ｂＢに対して第３壁部５７Ｂよりも外側に設けられる。第４壁部５８Ｂは、第４面５６ａＢにおける第３壁部５７Ｂよりも、第２開口５６ｂＢの径方向の外側に設けられる。第４壁部５８Ｂは、第３壁部５７Ｂを囲むように設けられる。第４壁部５８Ｂは、第４面５６ａＢから第１側Ｚ１に突出する。第４壁部５８Ｂの内側側面は、第３壁部５７Ｂの外側側面に、第３壁部５７Ｂの全周にわたって接触する。
【0050】
第４壁部５８Ｂの第１側Ｚ１の先端（上面）の高さは、第３壁部５７Ｂの第１側Ｚ１の先端（上面）の高さよりも低い。すなわち、第４壁部５８Ｂの第１側Ｚ１の先端は、第３壁部５７Ｂの第１側Ｚ１の先端よりも第２側Ｚ２に位置する。
なお、第３壁部５７Ｂと第４壁部５８Ｂとの高さの差は、それぞれ数百μｍ（マイクロメートル）～数千μｍである。例えばそれぞれの高さの差は３００μｍ～１０００μｍであってもよい。
Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第４壁部５８Ｂは、第３壁部５７Ｂよりも厚い。例えば、第４壁部５８Ｂの第２方向Ｘ（Ｘ軸方向）の長さは、第３壁部５７Ｂの第２方向Ｘの長さよりも長い。
なお、第３壁部５７Ｂと第４壁部５８Ｂとの高さの差は、それぞれ数百μｍ（マイクロメートル）～数千μｍである。例えばそれぞれの高さの差は３００μｍ～１０００μｍであってもよい。
Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第４壁部５８Ｂは、第３壁部５７Ｂよりも厚い。例えば、第４壁部５８Ｂの第２方向Ｘ（Ｘ軸方向）の長さは、第３壁部５７Ｂの第２方向Ｘの長さよりも長い。
【0051】
第２保持装置５５Ｂは、第１保持装置５５Ａと同様の材料で形成される。
図９に示すように、第２保持装置５５Ｂの第２基台５６Ｂは、保持フレーム５４に移動可能に支持される。
第２開口５６ｂＢを介して、第２基台５６Ｂとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
なお、この例では、壁部（５８Ａ、５８Ｂ）は、壁部（５７Ａ、５７Ｂ）の全周を囲むように連続的に形成されているが、壁部（５７Ａ、５７Ｂ）を囲むように断続的に形成されてもよいし、壁部（５７Ａ、５７Ｂ）の周囲の一部のみ（例えば、第１壁部５７Ａの＋Ｘ軸方向側のみ、第３壁部５７Ｂの―Ｘ軸方向側のみ）に設けてよい。
図９に示すように、第２保持装置５５Ｂの第２基台５６Ｂは、保持フレーム５４に移動可能に支持される。
第２開口５６ｂＢを介して、第２基台５６Ｂとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
なお、この例では、壁部（５８Ａ、５８Ｂ）は、壁部（５７Ａ、５７Ｂ）の全周を囲むように連続的に形成されているが、壁部（５７Ａ、５７Ｂ）を囲むように断続的に形成されてもよいし、壁部（５７Ａ、５７Ｂ）の周囲の一部のみ（例えば、第１壁部５７Ａの＋Ｘ軸方向側のみ、第３壁部５７Ｂの―Ｘ軸方向側のみ）に設けてよい。
【0052】
図９に示すように、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第３面５６ａＡ及び第４面５６ａＢとそれぞれ垂直な第２軸Ｏ２に対して対称的な形状である。なお、第２軸Ｏ２は、第３面５６ａＡ又は第４面５６ａＢと垂直であればよい。
言い換えると、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂが対向する対向方向に直交する基準面に対して、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂは、基準面に対して面対称である。
さらに言い換えると、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して対称的な位置に配置される。第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂは、ウエハ２００を挟んで対向するように配置される。なお、この例において、第２軸〇２は、Ｚ軸と平行である。
言い換えると、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂが対向する対向方向に直交する基準面に対して、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂは、基準面に対して面対称である。
さらに言い換えると、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して対称的な位置に配置される。第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂは、ウエハ２００を挟んで対向するように配置される。なお、この例において、第２軸〇２は、Ｚ軸と平行である。
【0053】
なお、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第３面５６ａＡ又は第４面５６ａＢと平行な軸に対して対称的な形状であってもよい。言い換えれば、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第３面５６ａＡ又は第４面５６ａＢと平行な軸に対して対称的な位置に配されてもよい。なお、第３面５６ａＡ又は第４面５６ａＢと平行な軸は、上記第２軸〇２を通り、かつＹ軸と平行な軸である。
【0054】
図９に示すように、第１保持装置５５Ａは、ウエハ２００の外周部２０２の一部を保持する。第２保持装置５５Ｂは、ウエハ２００の外周部２０２における前記一部とは異なる部分を保持する。
【0055】
なお、図１２に示すように、第１開口５６ｂＡの径方向において、第１基台５６Ａの外側の端、及び第２壁部５８Ａの外側の端は、互いに同等の位置に配置されてもよい。同様に、Ｘ軸とＹ軸で規定される面内において、第２基台５６Ｂの外側の端と第４壁部５８Ｂの外側の端が、互いに同じ位置に形成されてもよい。
また、ここまでは、搬送ロボット１７の保持装置５５Ａ、５５Ｂについて説明したが、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１の少なくとも一つが、保持装置５５Ａ、５５Ｂを備えていてもよい。
また、ここまでは、搬送ロボット１７の保持装置５５Ａ、５５Ｂについて説明したが、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１の少なくとも一つが、保持装置５５Ａ、５５Ｂを備えていてもよい。
【0056】
次に、以上のように構成された露光システム１の動作について、搬送システム１５に重点をおいて説明する。
塗布装置１１により感光剤が塗布された露光前のウエハ２００が、インターフェース装置５０を介してコータ・デベロッパ１０から搬送システム１５に搬送される。その後で、ウエハ２００は、測定装置１６において、形状（厚さｔ１、反り量ｗ１等）が測定される。
塗布装置１１により感光剤が塗布された露光前のウエハ２００が、インターフェース装置５０を介してコータ・デベロッパ１０から搬送システム１５に搬送される。その後で、ウエハ２００は、測定装置１６において、形状（厚さｔ１、反り量ｗ１等）が測定される。
【0057】
測定装置１６でのウエハ２００の測定が終了すると、搬送ロボット１７がウエハ２００を保持し、測定装置１６からウエハ２００を搬出する。例えば、搬送ロボット１７の保持装置５５Ａ，５５Ｂによりウエハ２００が保持される際に、図１１に示すように、ウエハ２００がパラボラ形に反っていると仮定する。
【0058】
第１壁部５７Ａの外側に、第２壁部５８Ａが設けられている。このため、吸引装置を動作させると、第２壁部５８Ａが設けられない場合に比べて、第１壁部５７Ａの周囲において、第１基台５６Ａ（第２壁部５８Ａ）とウエハ２００との距離が比較的狭くなり、これらの間を通して、気体が第１壁部５７Ａ内に流れ込み難くなる。これにより、第１壁部５７Ａで囲まれた領域（空間）の真空度が下がりやすく、第１保持装置５５Ａの吸引力（ウエハ保持力）を高めることができる。従って、図１１中に二点鎖線Ｌ１で示すように、ウエハ２００の外周部２０２の一部が、第１保持装置５５Ａの第１壁部５７Ａにより保持される。同様にして、ウエハ２００の外周部２０２における前記一部とは異なる部分が、第２保持装置５５Ｂの第３壁部５７Ｂにより保持される。
【0059】
ここで、図１３を用いて、従来の保持装置５５Ｃについて説明する。保持装置５５Ｃは、第１保持装置５５Ａと異なり第２壁部５８Ａを備えない。
このため、第１壁部５７Ａの外側における第１基台５６Ａとウエハ２００との距離が比較的広くなり、これらの間を通して、気体が第１壁部５７Ａ内に流れ込み易くなる。従って、ウエハ２００の外周部２０２が、保持装置５５Ｃの第１壁部５７Ａにより保持され難い。
このため、第１壁部５７Ａの外側における第１基台５６Ａとウエハ２００との距離が比較的広くなり、これらの間を通して、気体が第１壁部５７Ａ内に流れ込み易くなる。従って、ウエハ２００の外周部２０２が、保持装置５５Ｃの第１壁部５７Ａにより保持され難い。
【0060】
搬送ロボット１７が、ウエハ２００を所定位置まで移動し、吸引装置Ｖａｃ１の動作を停止させると、保持装置５５Ａ，５５Ｂによるウエハ２００の保持が解除される。ウエハ２００は、搬送ロボット１７からバッファ１８に移動される。
図５中において矢印Ａ６で示すように、搬送ロボット１９は、露光前のウエハ２００をバッファ１８から取り出し、計測ステーション４５のローディング装置４６に受け渡す。ローディング装置４６は、ウエハ２００をウエハステージ４７に受け渡す。計測ステーション４５は、マーク検出装置を用いたウエハ２００のアライメントマークの検出など、ウエハステージ４７に保持されたウエハ２００の計測処理を行う。
計測処理後のウエハ２００は、ウエハステージ４７からアンローディング装置４８に移動され、アンローディング装置４８からウエハ２００を受け取った搬送ロボット１９により計測ステーション４５から搬出される。
図５中において矢印Ａ６で示すように、搬送ロボット１９は、露光前のウエハ２００をバッファ１８から取り出し、計測ステーション４５のローディング装置４６に受け渡す。ローディング装置４６は、ウエハ２００をウエハステージ４７に受け渡す。計測ステーション４５は、マーク検出装置を用いたウエハ２００のアライメントマークの検出など、ウエハステージ４７に保持されたウエハ２００の計測処理を行う。
計測処理後のウエハ２００は、ウエハステージ４７からアンローディング装置４８に移動され、アンローディング装置４８からウエハ２００を受け取った搬送ロボット１９により計測ステーション４５から搬出される。
【0061】
搬送ロボット１９は、計測ステーション４５から搬出されたウエハ２００をバッファ１８に受け渡す。
ロード・ロボット２０は、バッファ１８から、露光装置３５のロードスライダ３８にウエハ２００を受け渡し、ロードスライダ３８からウエハ２００がウエハステージ３９に搬送される。
ウエハステージ３９において、エネルギビームでウエハ２００を露光する。
図５中において白抜きの矢印Ａ７で示すように、アンロードスライダ４０は、露光されたウエハ２００をウエハステージ３９から搬出する。
ロード・ロボット２０は、バッファ１８から、露光装置３５のロードスライダ３８にウエハ２００を受け渡し、ロードスライダ３８からウエハ２００がウエハステージ３９に搬送される。
ウエハステージ３９において、エネルギビームでウエハ２００を露光する。
図５中において白抜きの矢印Ａ７で示すように、アンロードスライダ４０は、露光されたウエハ２００をウエハステージ３９から搬出する。
【0062】
搬送システム１５のアンロード・ロボット２１は、ウエハ２００を受け取り、バッファ１８に受け渡す。
搬送ロボット１７は、露光後のウエハ２００を測定装置１６に移動し、露光後のウエハ２００が搬送システム１５（露光システム１）から搬出される。なお、搬送ロボット１７が測定装置１６とは異なる位置に配置されたテーブルにウエハ２００を移動し、そのテーブルから露光後のウエハ２００が搬出されてもよい。
露光後のウエハ２００は、インターフェース装置５０を介して、コータ・デベロッパ１０の現像装置１２に送られる。現像装置１２は、ウエハ２００を現像する。現像されたウエハ２００は、コータ・デベロッパ１０から搬出される。
以上の工程により、半導体デバイス製造工程におけるウエハ２００の露光処理、及び露光後のウエハ２００現像処理が終了する。
搬送ロボット１７は、露光後のウエハ２００を測定装置１６に移動し、露光後のウエハ２００が搬送システム１５（露光システム１）から搬出される。なお、搬送ロボット１７が測定装置１６とは異なる位置に配置されたテーブルにウエハ２００を移動し、そのテーブルから露光後のウエハ２００が搬出されてもよい。
露光後のウエハ２００は、インターフェース装置５０を介して、コータ・デベロッパ１０の現像装置１２に送られる。現像装置１２は、ウエハ２００を現像する。現像されたウエハ２００は、コータ・デベロッパ１０から搬出される。
以上の工程により、半導体デバイス製造工程におけるウエハ２００の露光処理、及び露光後のウエハ２００現像処理が終了する。
【0063】
なお、本実施形態の露光方法は、ウエハ２００を露光するための方法である。この露光方法は、搬送システム１５によって、露光装置３５に搬送されたウエハ２００にエネルギビームを照射することにより、ウエハ２００を露光することを含む。
【0064】
以上説明したように、本実施形態の第１保持装置５５Ａでは、第２壁部５８Ａの第１方向Ｚの先端の高さは、第１壁部５７Ａの第１方向Ｚの先端の高さよりも低い。このため、第１保持装置５５Ａに第２壁部５８Ａが設けられない場合に比べて、第１壁部５７Ａの外側においてウエハ２００との距離が比較的狭くなり、第１壁部５７Ａの外側を通して、気体が第１壁部５７Ａ内に流れ込み難くなる。従って、ウエハ２００の外周部２０２を、第１壁部５７Ａで吸引により確実に保持することができる。
なお、第１保持装置５５Ａは、ウエハ２００の中心部２０１を保持してもよい。
なお、第１保持装置５５Ａは、ウエハ２００の中心部２０１を保持してもよい。
【0065】
第２壁部５８Ａの第２方向Ｘの長さが、第１壁部５７Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い場合がある。この場合には、第２壁部５８Ａとウエハ２００との間の気体がより流れ難くなり、ウエハ２００の外周部２０２を、第１壁部５７Ａで吸引により、さらに確実に保持することができる。
第１壁部５７Ａで囲まれた領域が長円形状となるように第１壁部が配置されており、第１開口５６ｂＡは第１壁部５７Ａにおける長軸方向の中間部に形成されている。このため、第１開口５６ｂＡが第１壁部５７Ａにおける長軸方向の端部に形成されている場合に比べて、第１壁部５７Ａ内を流れる気体の圧力損失を低減させることができる。
第１壁部５７Ａで囲まれた領域が長円形状となるように第１壁部が配置されており、第１開口５６ｂＡは第１壁部５７Ａにおける長軸方向の中間部に形成されている。このため、第１開口５６ｂＡが第１壁部５７Ａにおける長軸方向の端部に形成されている場合に比べて、第１壁部５７Ａ内を流れる気体の圧力損失を低減させることができる。
【0066】
第１壁部５７Ａの長軸方向における第１開口５６ｂＡの径は、第１壁部５７Ａの短軸方向における第１開口５６ｂＡの径よりも長い場合がある。この場合には、第１開口５６ｂＡが、長円形状である第１壁部５７Ａに沿った形状となり、第１壁部５７Ａ内に第１開口５６ｂＡを効率的に配置することができる。
第１壁部５７Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。従って、ウエハ２００の外周部２０２を、第１壁部５７Ａで吸引により保持することができる。
第１壁部５７Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。従って、ウエハ２００の外周部２０２を、第１壁部５７Ａで吸引により保持することができる。
【0067】
また、本実施形態の搬送システム１５は、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂとを含む。第２保持装置５５Ｂでは、第４壁部５８Ｂの第１方向Ｚの先端の高さは、第３壁部５７Ｂの第１方向Ｚの先端の高さよりも低い。このため、第２保持装置５５Ｂに第４壁部５８Ｂが設けられない場合に比べて、第３壁部５７Ｂの外側においてウエハ２００との距離が比較的狭くなり、第３壁部５７Ｂの外側を通して、気体が第３壁部５７Ｂ内に流れ込み難くなる。従って、ウエハ２００の外周部２０２を、第３壁部５７Ｂで吸引により確実に保持することができる。
さらに、第２保持装置５５Ｂによっても、ウエハ２００の外周部２０２を、第３壁部５７Ｂで吸引により確実に保持することができる。
さらに、第２保持装置５５Ｂによっても、ウエハ２００の外周部２０２を、第３壁部５７Ｂで吸引により確実に保持することができる。
【0068】
第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して対称的な形状である。これにより、ウエハ２００における複数の部分を、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂで保持することができる。
第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して対称的な位置に配置される。従って、ウエハ２００における複数の部分を、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂで保持することができる。
第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して対称的な位置に配置される。従って、ウエハ２００における複数の部分を、第１保持装置５５Ａ及び第２保持装置５５Ｂで保持することができる。
【0069】
また、本実施形態の測定装置１６は、第１測定部２８と、第２測定部２９ａ～２９ｄと、を備える。このため、保持装置２６によりウエハ２００を保持した状態で、第１測定部２８により第２位置２０４ａにおける厚さ方向Ｄ３の位置を測定することができる。さらに、第２測定部２９ａ～２９ｄにより、ウエハ２００の第１面２０３において、ウエハ２００の径方向において第２位置２０４ａよりも外周側の第３位置２０３ｂにおける厚さ方向Ｄ３の位置を測定することができる。
【0070】
測定装置１６は、移動部２７を備える。これにより、ウエハ２００を第１軸Ｏ１回りに回転させることができる。
一般的に、反りのあるウエハにおいて、径方向の外側に向かうに従い、厚さ方向の変位量（反り量、変形量、たわみ量と呼んでもよい）が多くなる傾向があるが、第２測定部２９ｃ、２９ｄを用いてウエハ２００の外周部２０２の変位を、精度良く測定することができる。
ウエハ２００の反りを考慮して、保持装置５５Ａ，５５Ｂは、厚さ方向の変位量が比較的少ない、ウエハ２００の中心部２０１側を保持してもよい。
一般的に、反りのあるウエハにおいて、径方向の外側に向かうに従い、厚さ方向の変位量（反り量、変形量、たわみ量と呼んでもよい）が多くなる傾向があるが、第２測定部２９ｃ、２９ｄを用いてウエハ２００の外周部２０２の変位を、精度良く測定することができる。
ウエハ２００の反りを考慮して、保持装置５５Ａ，５５Ｂは、厚さ方向の変位量が比較的少ない、ウエハ２００の中心部２０１側を保持してもよい。
【0071】
第１位置２０３ａと第２位置２０４ａは第１軸Ｏ１上に位置し、第２位置２０４ａは第２面２０４に位置する。このため、第１測定部２８により、ウエハ２００の回転中心である第１軸Ｏ１上の第２面２０４（例えば、中心を含む領域）における厚さ方向Ｄ３の位置を測定することができる。
【0072】
制御装置ＣＯＮＴは、基準ウエハ２１０の第１測定部２８による測定結果と、ウエハ２００の第１測定部２８による測定結果に基づいて、ウエハ２００の厚さを測定する。制御装置ＣＯＮＴは、基準ウエハ２１０の第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄによる測定結果と、ウエハ２００の第１測定部２８及び第２測定部２９ａ～２９ｄによる測定結果に基づいて、ウエハ２００の反り量を測定する。このように、基準ウエハ２１０を用いることにより、ウエハ２００の厚さ及び反り量を容易に測定することができる。
なお、基準ウエハ２１０を測定せずに、基準ウエハ２１０の厚さなどの情報を制御装置ＣＯＮＴが保持しておき、この情報と、測定装置１６によるウエハ２００の測定結果とに基づいてウエハ２００の形状（厚さ、反り量）を求めてもよい。
なお、基準ウエハ２１０を測定せずに、基準ウエハ２１０の厚さなどの情報を制御装置ＣＯＮＴが保持しておき、この情報と、測定装置１６によるウエハ２００の測定結果とに基づいてウエハ２００の形状（厚さ、反り量）を求めてもよい。
【0073】
第１測定部２８は、静電容量センサを含む。このため、第２位置２０４ａにおける厚さ方向Ｄ３の位置を正確に測定することができる。
第２測定部２９ａ～２９ｄは、静電容量センサを含む。従って、第３位置２０３ｂにおける厚さ方向Ｄ３の位置を正確に測定することができる。
第２測定部２９ａ～２９ｄは、静電容量センサを含む。従って、第３位置２０３ｂにおける厚さ方向Ｄ３の位置を正確に測定することができる。
【0074】
第１測定部２８は、第２面２０４の第２位置２０４ａを測定可能であり、第２測定部２９ａ～２９ｄは、第１面２０３の第３位置２０３ｂを測定可能である。両測定部２８，２９ａ～２９ｄにより、ウエハ２００の厚さ方向Ｄ３の両側の位置を測定することができる。
また、本実施形態の露光システム１は、搬送システム１５と、露光装置３５と、を備える。これにより、ウエハ２００の外周部２０２を、壁部５７Ａ，５７Ｂで吸引により確実に保持することができる搬送システム１５を用いて、露光システムを構成することができる。
また、本実施形態の露光システム１は、搬送システム１５と、露光装置３５と、を備える。これにより、ウエハ２００の外周部２０２を、壁部５７Ａ，５７Ｂで吸引により確実に保持することができる搬送システム１５を用いて、露光システムを構成することができる。
【0075】
また、本実施形態の露光方法は、搬送システム１５によって搬送されたウエハ２００にエネルギビームを照射することにより、ウエハ２００を露光することを含む。本実施形態の露光方法によれば、ウエハ２００の反り量などの変形が大きくても、ウエハ２００を確実に保持して搬送し、搬送されたウエハ２００をエネルギビームで露光することができる。
【0076】
なお、測定装置１６において測定したウエハ２００の反り量ｗ１が、予め定められた反り量閾値以上である場合には、ウエハ２００をインターフェース装置５０に戻し（リジェクトし）てもよいし、搬送ロボット１７とロード・ロボット２０を用いて、露光装置３５に搬送せずに、キャリア３１に搬送してもよい（リジェクトしてもよい）。なお、反り量閾値は、ウエハ２００の厚さ等に基づいて変化させてもよい。この場合、閾値を決めるウエハ２００の厚さは、測定装置１６の測定結果を用いてもよいし、露光システム１を管理するホストコンピュータなどから予め受け取ったウエハ２００の厚さ情報を用いていもよい。
図１４に示すように、例えば、ウエハ２００の厚さが厚くなるのに従い漸次、反り量閾値が小さくなってもよい。
図１４に示すように、例えば、ウエハ２００の厚さが厚くなるのに従い漸次、反り量閾値が小さくなってもよい。
【0077】
なお、測定装置１６によるウエハ２００の形状測定（反り量測定など）は、露光システム１に搬入される、すべてウエハ２００に実施しなくてもよい。例えば、半導体デバイス製造工程では、所定枚数（例えば、２５枚）のウエハ２００を１ロットとして製造管理されることが多いので、１つのロット内の一部（１枚または複数枚）のウエハ２００だけ、測定装置１６で形状測定を行い、そのロット内の残りのウエハ２００の形状は、その一部のウエハ２００の測定結果を用いてもよい。
【0078】
なお、第２壁部５８Ａおよび第４壁部５８Ｂの第２方向Ｘの長さは、それぞれ第１壁部５７Ａおよび第３壁部５７Ｂの第２方向Ｘの長さ以下でもよい。
第１開口５６ｂＡおよび第２開口５６ｂＢは、それぞれ第１壁部５７Ａおよび第３壁部５７Ｂにおける長軸方向の端部に形成されていてもよい。第１壁部５７Ａで囲まれる領域および第３壁部５７Ｂで囲まれる領域は、それぞれ円形状、多角形状等でもよい。
第１壁部５７Ａの長軸方向における第１開口５６ｂＡの径、および第３壁部５７Ｂの長軸方向における第２開口５６ｂＢの径は、それぞれ第１壁部５７Ａの短軸方向および第３壁部５７Ｂの短軸方向の径以下でもよい。
第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して非対称的な形状であってもよい。すなわち、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して非対称的な位置に配置されてもよい。
第１開口５６ｂＡおよび第２開口５６ｂＢは、それぞれ第１壁部５７Ａおよび第３壁部５７Ｂにおける長軸方向の端部に形成されていてもよい。第１壁部５７Ａで囲まれる領域および第３壁部５７Ｂで囲まれる領域は、それぞれ円形状、多角形状等でもよい。
第１壁部５７Ａの長軸方向における第１開口５６ｂＡの径、および第３壁部５７Ｂの長軸方向における第２開口５６ｂＢの径は、それぞれ第１壁部５７Ａの短軸方向および第３壁部５７Ｂの短軸方向の径以下でもよい。
第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して非対称的な形状であってもよい。すなわち、第１保持装置５５Ａと第２保持装置５５Ｂは、第２軸Ｏ２に対して非対称的な位置に配置されてもよい。
【0079】
測定装置１６は、フレーム２４，２５、および移動部２７を備えなくてもよい。
第１位置２０３ａと第２位置２０４ａは、第１軸Ｏ１上に位置しなくてもよい。第２位置２０４ａは、第１面２０３に位置してもよい。
第１位置２０３ａと第２位置２０４ａは、第１軸Ｏ１上に位置しなくてもよい。第２位置２０４ａは、第１面２０３に位置してもよい。
【0080】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について図１５及び図１６を参照しながら説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略する。
本実施形態の露光システム１の搬送システム１５Ａは、図１５及び図１６に示すように、測定装置１６に替えて測定装置７５を備えている点で、第１実施形態と異なる。第２実施形態においても制御装置ＣＯＮＴが測定装置７５を制御する。
次に、本発明の第２実施形態について図１５及び図１６を参照しながら説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略する。
本実施形態の露光システム１の搬送システム１５Ａは、図１５及び図１６に示すように、測定装置１６に替えて測定装置７５を備えている点で、第１実施形態と異なる。第２実施形態においても制御装置ＣＯＮＴが測定装置７５を制御する。
【0081】
測定装置７５も、ウエハの形状に関する情報を取得可能である。測定装置７５は、保持装置７０は、第１保持部７１と、移動部７２と、第１測定部７６と、複数の第２測定部７７ａ，７７ｂ，７７ｃ，７７ｄと、を有する。
例えば、第１保持部７１は、吸着等によりウエハ２００を保持する。第１保持部７１は露光前のウエハ２００の第１面２０３を保持する。より詳しく説明すると、第１保持部７１は、第１面２０３の中心を含む中心領域２０３ｄを保持する。
移動部７２は、第１保持部７１を、ウエハ２００の第１面２０３と交差する第１軸Ｏ４回りに回転させる。移動部７２により第１保持部７１を回転させることで、ウエハ２００をＺ軸と平行な第１軸Ｏ４回りに回転させる。移動部７２は、第１フレーム７３に固定される。
例えば、第１保持部７１は、吸着等によりウエハ２００を保持する。第１保持部７１は露光前のウエハ２００の第１面２０３を保持する。より詳しく説明すると、第１保持部７１は、第１面２０３の中心を含む中心領域２０３ｄを保持する。
移動部７２は、第１保持部７１を、ウエハ２００の第１面２０３と交差する第１軸Ｏ４回りに回転させる。移動部７２により第１保持部７１を回転させることで、ウエハ２００をＺ軸と平行な第１軸Ｏ４回りに回転させる。移動部７２は、第１フレーム７３に固定される。
【0082】
第１測定部７６は、第１測定領域２０４ｃを有する。第１測定領域２０４ｃは、ウエハ２００において第１測定部７６が測定する領域である。第１測定部７６は、ウエハ２００の第２面２０４においてＺ軸と平行な厚さ方向（第１方向）Ｄ３の位置を測定可能である。第１測定部７６は、第１測定領域２０４ｃにおいて第２面２０４のＺ軸と平行な厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能である。
中心領域２０３ｄと第１測定領域２０４ｃは、第１軸Ｏ４上に位置する。すなわち、第１軸Ｏ４は中心領域２０３ｄ内を通過する。第１軸Ｏ４は、第１測定領域２０４ｃ内を通過する。
第１測定部７６は、第２フレーム７９に固定される。前記第１フレーム７３及び第２フレーム７９は、互いに対向するように、Ｚ軸方向に離れて配置される。
なお、第１測定部７６は、第１測定領域２０４ｃとは異なる測定領域を有してもよい。
中心領域２０３ｄと第１測定領域２０４ｃは、第１軸Ｏ４上に位置する。すなわち、第１軸Ｏ４は中心領域２０３ｄ内を通過する。第１軸Ｏ４は、第１測定領域２０４ｃ内を通過する。
第１測定部７６は、第２フレーム７９に固定される。前記第１フレーム７３及び第２フレーム７９は、互いに対向するように、Ｚ軸方向に離れて配置される。
なお、第１測定部７６は、第１測定領域２０４ｃとは異なる測定領域を有してもよい。
【0083】
図１５に示すように、第２測定部７７ａ～７７ｄは、第２測定部７７ａ，７７ｂ，７７ｃ，７７ｄの順で、ウエハ２００の径方向の外側に向かうように配置される。第２測定部７７ａ～７７ｄは、Ｘ軸に沿って、ウエハ２００と接触しないように第１フレーム７３に固定される。なお、第２測定部７７ａ～７７ｄは、Ｘ軸に沿って配置せずに、第１軸〇４周りの異なる位置に配置されてもよい。
図１５及び図１６に示すように、第２測定部７７ａ～７７ｄは、それぞれ第２測定領域２０３ｅを有する。複数の第２測定領域２０３ｅは、第１面２０３に位置する。複数の第２測定領域２０３ｅは、ウエハ２００において第２測定部７７ａ～７７ｄが測定する領域である。第２測定部７７ａ～７７ｄのそれぞれは、第２測定領域２０３ｅにおいて第１面２０３の厚さ方向Ｄ３（Ｚ軸方向）における位置を測定可能である。
複数の第２測定領域２０３ｅは、第１測定領域２０４ｃとは異なる領域である。複数の第２測定領域２０３ｅと第１軸Ｏ４との距離は、互いに異なる。
図１５及び図１６に示すように、第２測定部７７ａ～７７ｄは、それぞれ第２測定領域２０３ｅを有する。複数の第２測定領域２０３ｅは、第１面２０３に位置する。複数の第２測定領域２０３ｅは、ウエハ２００において第２測定部７７ａ～７７ｄが測定する領域である。第２測定部７７ａ～７７ｄのそれぞれは、第２測定領域２０３ｅにおいて第１面２０３の厚さ方向Ｄ３（Ｚ軸方向）における位置を測定可能である。
複数の第２測定領域２０３ｅは、第１測定領域２０４ｃとは異なる領域である。複数の第２測定領域２０３ｅと第１軸Ｏ４との距離は、互いに異なる。
【0084】
以下では、複数の第２測定領域２０３ｅのうち、第２測定部７７ｃ，７７ｄ（複数の第２測定領域２０３ｅの一部）に対応する２つの第２測定領域２０３ｅを含む領域を、外側測定領域２０３ｅ１と言う。複数の第２測定領域２０３ｅのうち、第２測定部７７ａ，７７ｂ（複数の第２測定領域２０３ｅの残部）に対応する２つの第２測定領域２０３ｅを含む領域、内側測定領域２０３ｅ２と言う。
内側測定領域２０３ｅ２は、外側測定領域２０３ｅ１よりもウエハ２００の径方向内側に、第１軸Ｏ４の近くに配置されている。
内側測定領域２０３ｅ２は、外側測定領域２０３ｅ１よりもウエハ２００の径方向内側に、第１軸Ｏ４の近くに配置されている。
【0085】
例えば、ウエハ２００が３００ｍｍの直径を有している場合、Ｘ軸とＹ軸とで規定される面内において第１軸〇４から７５ｍｍの円形領域を内側測定領域２０３ｅ２、その外側の円環上の領域を外側測定領域２０３ｅ１と規定してもよい。図１５，図１６の例では、外側測定領域２０３ｅ１に含まれる２つの第２測定領域２０３ｅの間隔が、内側測定領域２０３ｅ２に含まれる２つの第２測定領域２０３ｅの間隔よりも狭い。すなわち、第１軸〇４から第２測定部７７ｃまでの距離と、第１軸〇４から第２測定部７７ｄまでの距離との差が、第１軸〇４から第２測定部７７ａまでの距離と、第１軸〇４から第２測定部７７ｄまでの距離との差が小さい。
【0086】
移動部７２を用いて第１軸Ｏ４回りにウエハ２００を回転させることにより、ウエハ２００の複数の回転位置において、第２測定部７７ａ～７７ｄのそれぞれが厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能である。
なお、第２測定部７７ａ～７７ｄは、ウエハ２００の第２面２０４において厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能であってもよい。すなわち、第２測定部７７ａ～７７ｄの少なくとも一つは、第２フレーム７９に設けられてもよい。測定装置７５が含む第２測定部の数は、１つから３つ、５つ以上のいずれでもよい。
また、外側測定領域２０３ｅ１に含まれる第２測定部の数が、内側測定領域２０３ｅ２に含まれる第２測定部の数が多くてもよい。
また、第１測定部７６及び第２測定部７７ａ～７７ｄは静電容量センサであってもよいし、誘導型センサ等でもよいし、受光部を含む光学センサであってもよい。また第１測定部７６と第２測定部７７ａ～７７ｄとが、異なる種類センサであってもよい。
なお、第２測定部７７ａ～７７ｄは、ウエハ２００の第２面２０４において厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能であってもよい。すなわち、第２測定部７７ａ～７７ｄの少なくとも一つは、第２フレーム７９に設けられてもよい。測定装置７５が含む第２測定部の数は、１つから３つ、５つ以上のいずれでもよい。
また、外側測定領域２０３ｅ１に含まれる第２測定部の数が、内側測定領域２０３ｅ２に含まれる第２測定部の数が多くてもよい。
また、第１測定部７６及び第２測定部７７ａ～７７ｄは静電容量センサであってもよいし、誘導型センサ等でもよいし、受光部を含む光学センサであってもよい。また第１測定部７６と第２測定部７７ａ～７７ｄとが、異なる種類センサであってもよい。
【0087】
第１実施形態と同様に、測定装置７５は、露光前のウエハ２００の形状を測定する。制御装置ＣＯＮＴは、第１測定部７６による測定結果及び第２測定部７７ａ～７７ｄによる測定結果に基づいて、搬送システム１５の搬送ロボットを使ってウエハ２００を露光装置３５へ向けて搬送するか否かを判断してもよい。
【0088】
例えば、測定結果は、ウエハ２００の反り量である。制御装置ＣＯＮＴのメモリには、予め定められた反り量閾値が記憶される。
例えば、制御装置ＣＯＮＴは、測定結果による反り量が反り量閾値未満の場合には、搬送システム１５からウエハ２００を露光装置へ向けて搬送すると判断する。制御装置ＣＯＮＴは、測定結果による反り量が反り量閾値以上の場合には、搬送システム１５によってウエハ２００を露光装置３５へ向けて搬送しないと判断する。搬送しないと判断されたウエハ２００は、インターフェース装置５０に戻してもよいし、搬送ロボット１７、ロード・ロボット２０を使ってキャリア３１に移動してもよい。
例えば、制御装置ＣＯＮＴは、測定結果による反り量が反り量閾値未満の場合には、搬送システム１５からウエハ２００を露光装置へ向けて搬送すると判断する。制御装置ＣＯＮＴは、測定結果による反り量が反り量閾値以上の場合には、搬送システム１５によってウエハ２００を露光装置３５へ向けて搬送しないと判断する。搬送しないと判断されたウエハ２００は、インターフェース装置５０に戻してもよいし、搬送ロボット１７、ロード・ロボット２０を使ってキャリア３１に移動してもよい。
【0089】
以上説明したように、本実施形態の露光システム１では、測定装置７５の保持装置７０の第１保持部７１により、ウエハ２００の第１面２０３を保持する。測定装置７５の第１測定部７６により、第２面２０４の第１測定領域２０４ｃにおける厚さ方向Ｄ３の位置を測定する。測定装置７５の第２測定部７７ａ～７７ｄにより、第１面２０３の第２測定領域２０３ｅにおける厚さ方向Ｄ３の位置を測定する。そして、制御装置ＣＯＮＴは、これらの第１測定部７６による測定結果及び第２測定部７７ａ～７７ｄによる測定結果に基づいて、搬送システム１５によってウエハ２００を露光装置へ向けて搬送するか否かを判断することができる。
【0090】
保持装置７０は移動部７２を有し、移動部７２により第１保持部７１を回転させることでウエハ２００を第１軸Ｏ４回りに回転させる。従って、保持装置７０が有する移動部７２により、ウエハ２００を第１軸Ｏ４回りに回転させることができる。
一般的に、反りのあるウエハにおいて、径方向の外側に向かうに従い、厚さ方向の変位量が多くなる。外側測定領域２０３ｅ１の間隔が、内側測定領域２０３ｅ２の間隔よりも狭くなるように、第２測定部７７ａ～７７ｄが配置されている。このため、変位量が多いウエハ２００の外周部２０２の変位を、精度良く測定することができる。
一般的に、反りのあるウエハにおいて、径方向の外側に向かうに従い、厚さ方向の変位量が多くなる。外側測定領域２０３ｅ１の間隔が、内側測定領域２０３ｅ２の間隔よりも狭くなるように、第２測定部７７ａ～７７ｄが配置されている。このため、変位量が多いウエハ２００の外周部２０２の変位を、精度良く測定することができる。
【0091】
第１保持部７１は第１面２０３の中心領域２０３ｄを保持し、中心領域２０３ｄと第１測定領域２０４ｃは第１軸Ｏ４上に位置する。そして、複数の第２測定領域２０３ｅは第１面２０３に位置する。
第１保持部７１により、中心領域２０３ｄを保持する。この状態で、第１軸Ｏ４上に位置する第１測定領域２０４ｃを第１測定部７６により測定することで、第１軸Ｏ４上において、ウエハ２００の保持と第１測定領域２０４ｃによる測定とを同時に行うことができる。第２測定部７７ａ～７７ｄにより、ウエハ２００を保持する第１面２０３側から、ウエハ２００を測定することができる。
第１保持部７１により、中心領域２０３ｄを保持する。この状態で、第１軸Ｏ４上に位置する第１測定領域２０４ｃを第１測定部７６により測定することで、第１軸Ｏ４上において、ウエハ２００の保持と第１測定領域２０４ｃによる測定とを同時に行うことができる。第２測定部７７ａ～７７ｄにより、ウエハ２００を保持する第１面２０３側から、ウエハ２００を測定することができる。
【0092】
第１測定部７６は、第１測定領域２０４ｃにおいて第２面２０４の厚さ方向Ｄ３の位置を測定可能であり、第２測定部７７ａ～７７ｄは第２測定領域２０３ｅにおいて第１面２０３の厚さ方向Ｄ３における位置を測定可能である。これにより、ウエハ２００の厚さ方向Ｄ３の両側の面２０３，２０４において、厚さ方向Ｄ３における位置を測定することができる。
【0093】
なお、制御装置ＣＯＮＴは、前記基準ウエハ２１０の第１測定部７６による測定結果と、ウエハ２００の第１測定部７６による測定結果に基づいて、ウエハ２００の厚さを測定してもよい。そして、基準ウエハ２１０の第１測定部７６及び第２測定部７７ａ～７７ｄによる測定結果と、ウエハ２００の第１測定部７６及び第２測定部７７ａ～７７ｄによる測定結果に基づいて、ウエハ２００の反り量を測定してもよい。
この場合、基準ウエハ２１０を用いることにより、これらウエハ２００の厚さ及び反り量を容易に測定することができる。なお、第１実施形態で述べたように基準ウエハ２１０を測定しなくてもよい。
この場合、基準ウエハ２１０を用いることにより、これらウエハ２００の厚さ及び反り量を容易に測定することができる。なお、第１実施形態で述べたように基準ウエハ２１０を測定しなくてもよい。
【0094】
なお、保持装置７０は、移動部７２を有さなくてもよい。
第１保持部７１は、ウエハ２００の外周部２０２を保持してもよい。
第１保持部７１は、ウエハ２００の外周部２０２を保持してもよい。
【0095】
なお、上述の各実施形態および変形例において、測定装置（１６，７５）は、カメラを用いてウエハ２００の反り形状を測定する３次元形状測定装置であってもよい。
また、上述の各実施形態および変形例において、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、搬送システム（１５、１５Ａ）および露光装置３５の少なくとも一方の動作を制御してもよい。例えば、測定結果に基づいて、ロボット１７，１９，２０，２１、スライダ３８，４０、可動ピン３９ｂの少なくとも一つを制御しても良い。
また、上述の各実施形態および変形例において、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、搬送システム（１５、１５Ａ）および露光装置３５の少なくとも一方の動作を制御してもよい。例えば、測定結果に基づいて、ロボット１７，１９，２０，２１、スライダ３８，４０、可動ピン３９ｂの少なくとも一つを制御しても良い。
【0096】
以下、ロボット１７，１９，２０，２１、スライダ３８，４０、可動ピン３９ｂ、ローディング装置４６、アンローディング装置４８のそれぞれを搬送装置と呼んでもよい。
例えば、測定結果に基づいて、複数の搬送装置の少なくとも一つの、ウエハ２００を搬送する速度又は加速度又は両方を制御してもよい。例えば、測定結果としてのウエハ２００の反り量が閾値よりも大きい場合には、ウエハ搬送速度又はウエハ搬送加速度又は両方を、反り量が閾値よりも小さいウエハ２００を搬送する場合に比べて小さくしてもよい。
このようにすることにより、例えば、ウエハ２００の搬送中に、ウエハ２００が搬送装置から落下したり、搬送装置上でウエハ２００がずれたりすることを抑制できる。
例えば、測定結果に基づいて、複数の搬送装置の少なくとも一つの、ウエハ２００を搬送する速度又は加速度又は両方を制御してもよい。例えば、測定結果としてのウエハ２００の反り量が閾値よりも大きい場合には、ウエハ搬送速度又はウエハ搬送加速度又は両方を、反り量が閾値よりも小さいウエハ２００を搬送する場合に比べて小さくしてもよい。
このようにすることにより、例えば、ウエハ２００の搬送中に、ウエハ２００が搬送装置から落下したり、搬送装置上でウエハ２００がずれたりすることを抑制できる。
【0097】
前記各実施形態及び変形例において、複数の搬送装置の少なくとも一つは、各保持装置のウエハ保持面の水平面に対する傾きを調整可能に構成してもよい。例えば、ウエハ保持面は、第１壁部５７Ａの上面と第３壁部５７Ｂの上面の少なくとも一方を含む。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、複数の搬送装置のうちの少なくとも一つのウエハ保持面の傾きを調整してもよい。なお、第１壁部５７Ａの上面の傾きと第３壁部５７Ｂの上面の傾きを、測定結果に別々に制御できるようにしてもよい。
このようにすることにより、ウエハ２００の形状に合わせてウエハ保持面の傾きが調整され、ウエハ２００を確実に保持することができる。
このようにすることにより、ウエハ２００の形状に合わせてウエハ保持面の傾きが調整され、ウエハ２００を確実に保持することができる。
【0098】
前記各実施形態及び変形例おいて、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、露光システム１内におけるウエハ２００の搬送経路を制御してもよい。例えば、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、ウエハ２００が露光装置３５へ向けて搬送されないように制御してもよい。例えば、測定結果としてのウエハ２００反り量が閾値以上の場合等に、インターフェース装置５０にウエハ２００を戻したり、キャリア３１へウエハ２００を移動してもよい。このようにすることで、例えば、ウエハステージ３９で適切に保持できない、露光不可能なウエハ２００が露光装置３５に搬入されることを防止できる。
【0099】
前記各実施形態及び変形例において、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、複数の搬送装置のうちの少なくとも一つの、ウエハ２００に与えるスクイズ力を制御してもよい。ここで言うスクイズ力とは、ウエハ２００を吸着等により保持する力のことを意味する。より詳しく説明すると、スクイズ力とは、ウエハの下降時にウエハとウエハホルダ間に発するスクイズフィルム力のことを意味する。
一般的に、ウエハの中心からステージに接触すると、ウエハにしわがよらずにウエハが置かれることが知られている。したがって、平坦よりもやや下方に向かって凸の形状でステージにウエハをおくことが、理想的なウエハの載き方になる。
一般的に、ウエハの中心からステージに接触すると、ウエハにしわがよらずにウエハが置かれることが知られている。したがって、平坦よりもやや下方に向かって凸の形状でステージにウエハをおくことが、理想的なウエハの載き方になる。
【0100】
スクイズフィルム力は速度の関数なので、ウエハ２００の速度を変えることでスクイズ力を変えることができる。速度（スクイズフィルム力）をウエハ２００の形状に応じて変えることで、ウエハ２００を最適な形でウェハホルダに置くことができると考えられる。
ウエハステージ３９が有する複数の可動ピン３９ｂでウエハ２００を吸引保持しつつ速い速度で下降させると、遅い速度で下降させた場合に比べて、ウエハ２００をの下面端側に上に向かう強い力が働く。ウエハステージ３９が保持しているウエハ２００の形状が下方に向かって凸の場合に比べて、上方に向かって凸の場合は、ウエハ２００を高速で下降させることで、ウエハ２００を下方に向かって凸の形状に調整します。速度が遅いと、ウエハ２００が上方に向かって凸のままになる。
ウエハステージ３９が有する複数の可動ピン３９ｂでウエハ２００を吸引保持しつつ速い速度で下降させると、遅い速度で下降させた場合に比べて、ウエハ２００をの下面端側に上に向かう強い力が働く。ウエハステージ３９が保持しているウエハ２００の形状が下方に向かって凸の場合に比べて、上方に向かって凸の場合は、ウエハ２００を高速で下降させることで、ウエハ２００を下方に向かって凸の形状に調整します。速度が遅いと、ウエハ２００が上方に向かって凸のままになる。
【0101】
なお、計測ステーション４５において、ローディング装置４６からウエハステージ４７にウエハ２００を載せる場合も、スクイズ力を調整することにより、最適な形状でウエハ２００をウエハステージ４７のウエハホルダに載置することできる。
【0102】
測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、スクイズ力を制御することにより、例えば、最適な形状でウエハ２００をウエハステージ（３９，４７）のホルダに載置することができ、ウエハ２００を所望形状(例えば、ほぼ平坦状)で、ウエハステージ（３９，４７）に保持することができる。なお、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、スクイズ力を制御することは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、複数の搬送装置のうちの少なくとも一つを制御することであってもよい。
【0103】
前記各実施形態及び変形例おいて、複数の搬送装置の少なくとも一つは、ウエハ２００を吸引保持する吸引装置（例えばＶａｃ１）を含んでもよい。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、吸引装置を備える少なくとも一つの搬送装置の、吸引装置による吸引力を制御してもよい。
このようにすることにより、例えば、搬送装置からウエハ２００が落下したり、搬送装置上でウエハ２００が位置ずれしたり、ウエハ２００の形状を調整したりすることができる。
このようにすることにより、例えば、搬送装置からウエハ２００が落下したり、搬送装置上でウエハ２００が位置ずれしたり、ウエハ２００の形状を調整したりすることができる。
【0104】
前記各実施形態及び変形例において、露光システム１の搬送システム（１５、１５Ａ）は、温調装置を備えていてもよい。この温調装置は、露光装置３５に搬送されるウエハ２００の温度を調整する。露光システム１が温調装置を備えている場合、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６，７５）の測定結果に基づいて、温調装置によるウエハ２００の温度調整を制御してもよい。
例えば、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、温調装置がウエハ２００を加熱する時間、又は、ウエハ２００を冷却する時間を制御してもよい。
例えば、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、温調装置がウエハ２００を加熱する時間、又は、ウエハ２００を冷却する時間を制御してもよい。
【0105】
また、温調装置がウエハ２００を吸引保持するための吸引装置を含んでいる場合には、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、温調装置の吸引装置による吸引力を制御してもよい。
また、温調装置が、保持されたウエハ２００を回転させる回転装置を含んでいる場合には、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、温調装置の回転装置によるウエハ２００の回転速度、又は回転加速度、又は両方を制御してもよい。
このようにすることにより、ウエハ２００が適正温度に調整される。また適正温度に調整されたウエハ２００を露光装置３５に搬送することができる。
また、温調装置が、保持されたウエハ２００を回転させる回転装置を含んでいる場合には、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）による測定結果に基づいて、温調装置の回転装置によるウエハ２００の回転速度、又は回転加速度、又は両方を制御してもよい。
このようにすることにより、ウエハ２００が適正温度に調整される。また適正温度に調整されたウエハ２００を露光装置３５に搬送することができる。
【0106】
前記各実施形態及び各変形例において、露光システム１の搬送システム（１５、１５Ａ）が、ウエハ２００を回転させる回転装置を備えていてもよい。
搬送システム（１５、１５Ａ）が回転装置を備えている場合、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、回転装置によるウエハ２００の回転速度、又は、回転の加速度、又は両方を制御してもよい。
このようにすることにより、回転装置からウエハ２００が落下したり、回転装置上でウエハ２００が位置ずれしたりすることが抑制できる。
搬送システム（１５、１５Ａ）が回転装置を備えている場合、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、回転装置によるウエハ２００の回転速度、又は、回転の加速度、又は両方を制御してもよい。
このようにすることにより、回転装置からウエハ２００が落下したり、回転装置上でウエハ２００が位置ずれしたりすることが抑制できる。
【0107】
なお、前記各実施形態及び各変形例において、測定装置（１６，７５）は、移動部（２７、７２）を備えているが、測定装置（１６，７５）の測定結果に基づいて、移動部（２７，７２）によるウエハ２００の回転を制御してもよい。例えば、移動部（２７，７２）によりウエハ２００を回転させる前に、第１測定部（２８、７６）と第２測定部（２９ａ～２９ｄ、７７ａ～７７ｄ）を用いてウエハ２００の形状（反り量など）を測定し、その測定結果に基づいて、移動部（２７，７２）によるウエハ２００の回転を制御してもよい。
【0108】
前記各実施形態及び各変形例において、露光装置３５では、ウエハ２００に照射されるエネルギビームの焦点位置とウエハ２００の表面（２０４）との位置関係を調整するフォーカス調整が行われる。
制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、露光装置３５のフォーカス調整を制御してもよい。例えば、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、露光装置３５のフォーカス調整をフィードフォワード制御してもよい。
このようにすることにより、露光装置３５において、エネルギビームの焦点位置とウエハ２００の表面とを適切に位置合わせした状態で、エネルギビームをウエハ２００に照射することができる。
制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、露光装置３５のフォーカス調整を制御してもよい。例えば、測定装置（１６、７５）の測定結果に基づいて、露光装置３５のフォーカス調整をフィードフォワード制御してもよい。
このようにすることにより、露光装置３５において、エネルギビームの焦点位置とウエハ２００の表面とを適切に位置合わせした状態で、エネルギビームをウエハ２００に照射することができる。
【0109】
前記各実施形態及び各変形例において、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６，７５）の測定結果に関する情報を、露光システム１を管理するホストコンピュータに転送してもよい。
このようにすることで、例えば、測定装置（１６、７５）の測定結果に関する情報を、ホストコンピュータを介して、コータ・デベロッパ１０、他の露光システム、露光システムとは異なる半導体製造装置などと共有することができる。
このようにすることで、例えば、測定装置（１６、７５）の測定結果に関する情報を、ホストコンピュータを介して、コータ・デベロッパ１０、他の露光システム、露光システムとは異なる半導体製造装置などと共有することができる。
【0110】
前記各実施形態及び各変形例において、制御装置ＣＯＮＴは、測定装置（１６，７５）の測定結果に関する情報を、露光システム１のログデータとして記録してもよい。
このようにすることで、例えば、露光システム１のオペレータは、ログデータにアクセスすることにより、露光システム１が実行した処理及び露光システムが実行しなかった処理等を認識することができる。
このようにすることで、例えば、露光システム１のオペレータは、ログデータにアクセスすることにより、露光システム１が実行した処理及び露光システムが実行しなかった処理等を認識することができる。
【0111】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について図１７を参照しながら説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
図１７に示すように、本実施形態の露光システム１は、搬送システム１５に替えて搬送システム１５Ｂを備え、搬送システム１５Ｂは、第３保持装置８５Ａと、第４保持装置８５Ｂと、を備える点で、搬送システム１５と異なる。
次に、本発明の第３実施形態について図１７を参照しながら説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
図１７に示すように、本実施形態の露光システム１は、搬送システム１５に替えて搬送システム１５Ｂを備え、搬送システム１５Ｂは、第３保持装置８５Ａと、第４保持装置８５Ｂと、を備える点で、搬送システム１５と異なる。
【0112】
本実施形態においては、搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１が、第３保持装置８５Ａ、第４保持装置８５Ｂを備えている。なお、搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１の一部（一つまたは複数）が、第３保持装置８５Ａ、第４保持装置８５Ｂ以外の保持装置（例えば、第１保持装置５５Ａ、第２保持装置５５Ｂ）を備えていてもよい。
第３保持装置８５Ａは、第３開口８６ａＡと、第５壁部８７Ａと、複数の第１突部８８Ａと、を備える。
第３保持装置８５Ａは、第３開口８６ａＡと、第５壁部８７Ａと、複数の第１突部８８Ａと、を備える。
【0113】
例えば、第３開口８６ａＡは、第１基台８６Ａに形成される。第１基台８６Ａは平板状であり、水平面に沿って配置される。第３開口８６ａＡは、第１基台８６Ａの上面である第５面８６ｂＡに形成される。第１基台８６Ａには、第３開口８６ａＡの底部に排気孔８６ｃＡが形成される。排気孔８６ｃＡの一方の端は、第３開口８６ａＡである。排気孔８６ｃＡの他方の端は、吸引装置Ｖａｃ２に接続される。
この吸引装置Ｖａｃ２を動作させると、排気孔８６ｃＡを介して第３開口８６ａＡ内の気体を吸引可能である。
この吸引装置Ｖａｃ２を動作させると、排気孔８６ｃＡを介して第３開口８６ａＡ内の気体を吸引可能である。
【0114】
第５壁部８７Ａは、環状に形成される。より詳しく説明すると、Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第５壁部８７Ａで囲まれた領域が長円形状となるように第５壁部８７Ａは配置されている。第５壁部８７Ａは、第３開口８６ａＡを囲うように第５面８６ｂＡに設けられる。第５壁部８７Ａは、第１基台８６Ａよりも、第５面８６ｂＡと交差する第１方向Ｚにおける第１側Ｚ１に突出する。すなわちＺ１方向に突出する。ここで、第５面８６ｂＡに平行な方向の１つを、第２方向Ｘ（Ｘ軸方向）と規定する。第５壁部８７Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。
第３開口８６ａＡは、第５壁部８７Ａで囲まれた領域における長軸方向（Ｙ軸方向）の中間部に形成される。
第３開口８６ａＡは、第５壁部８７Ａで囲まれた領域における長軸方向（Ｙ軸方向）の中間部に形成される。
【0115】
本実施形態においては、複数の第１突部８８Ａが、第５壁部８７Ａの周囲の突部領域Ｒ１に設けられる。複数の第１突部８８Ａは、第３開口８６ａＡに対して第５壁部８７Ａよりも外側に設けられる。複数の第１突部８８Ａは、互いに間隔を空けて配置される。複数の第１突部８８Ａは、第５壁部８７Ａに沿って互いに間隔を空けて配置されている。複数の第１突部８８Ａは、第５壁部８７Ａから外側に離間して、第５壁部８７Ａを囲むように配置されている。
Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第５壁部８７Ａの壁は、複数の第１突部８８Ａのそれぞれよりも厚いが、突部領域Ｒ１の長さは、第５壁部８７Ａの厚さよりも長い。
Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な面内において、第５壁部８７Ａの壁は、複数の第１突部８８Ａのそれぞれよりも厚いが、突部領域Ｒ１の長さは、第５壁部８７Ａの厚さよりも長い。
【0116】
例えば、第５壁部８７Ａの第２方向Ｘの長さは、各第１突部８８Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い。例えば、複数の第１突部８８Ａが配置される突部領域Ｒ１の第２方向Ｘの長さは、第５壁部８７Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い。
なお、第３保持装置８５が備える第１突部８８Ａの数は、１つでもよい。
第１突部８８Ａの第１側Ｚ１の先端の高さ（Ｚ１方向の高さ）は、第５壁部８７Ａの第１側Ｚ１の先端の高さ（Ｚ１方向の高さ）よりも低い。すなわち、第１突部８８Ａの第１側Ｚ１の先端は、第５壁部８７Ａの第１側Ｚ１の先端よりも、第１方向Ｚの第２側Ｚ２に位置する。
なお、第３保持装置８５が備える第１突部８８Ａの数は、１つでもよい。
第１突部８８Ａの第１側Ｚ１の先端の高さ（Ｚ１方向の高さ）は、第５壁部８７Ａの第１側Ｚ１の先端の高さ（Ｚ１方向の高さ）よりも低い。すなわち、第１突部８８Ａの第１側Ｚ１の先端は、第５壁部８７Ａの第１側Ｚ１の先端よりも、第１方向Ｚの第２側Ｚ２に位置する。
【0117】
以上説明したように、本実施形態の第３保持装置８５Ａでは、第１突部８８Ａの第１方向Ｚの先端の高さは、第５壁部８７Ａの第１方向Ｚの先端の高さよりも低い。このため、第３保持装置８５Ａに第１突部８８Ａが設けられない場合に比べて、第５壁部８７Ａの外側においてウエハ２００との距離が比較的狭くなり、第５壁部８７Ａの外側を通して、気体が第５壁部８７Ａ内に流れ込み難くなる。従って、例えば、第３開口８６ａＡを介して気体を吸引した場合には、ウエハ２００の外周部２０２を、第５壁部８７Ａで吸引により確実に保持することができる。
【0118】
複数の第１突部８８Ａは、第２方向Ｘに互いに間隔を空けて配置される。これにより、ウエハ２００との距離が比較的狭くなり気体が流れ難くなる範囲を、第２方向Ｘに広く確保することができる。
突部領域Ｒ１の第２方向Ｘの長さは、第５壁部８７Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い。このため、ウエハ２００との距離が比較的狭くなり気体が流れ難くなる範囲を、第２方向Ｘに広く確保することができる。
突部領域Ｒ１の第２方向Ｘの長さは、第５壁部８７Ａの第２方向Ｘの長さよりも長い。このため、ウエハ２００との距離が比較的狭くなり気体が流れ難くなる範囲を、第２方向Ｘに広く確保することができる。
【0119】
複数の第１突部８８Ａは、第５壁部８７Ａに沿って互いに間隔を空けて配置されている。従って、ウエハ２００との距離が比較的狭くなり気体が流れ難くなる範囲を、第５壁部８７Ａに沿って広く確保することができる。
第５壁部８７Ａは長円形状であり、第３開口８６ａＡは第５壁部８７Ａにおける長軸方向の中間部に形成される。このため、第３開口８６ａＡが第５壁部８７Ａにおける長軸方向の端部に形成されている場合に比べて、第５壁部８７Ａ内を流れる気体の圧力損失を低減させることができる。
第５壁部８７Ａは長円形状であり、第３開口８６ａＡは第５壁部８７Ａにおける長軸方向の中間部に形成される。このため、第３開口８６ａＡが第５壁部８７Ａにおける長軸方向の端部に形成されている場合に比べて、第５壁部８７Ａ内を流れる気体の圧力損失を低減させることができる。
【0120】
第５壁部８７Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。従って、ウエハ２００の外周部２０２を、第５壁部８７Ａで吸引により保持することができる。
また、ここまでは、第３保持装置８５Ａについて説明したが、第４保持装置８５Ｂも同様の構成である。
また、ここまでは、第３保持装置８５Ａについて説明したが、第４保持装置８５Ｂも同様の構成である。
【0121】
第３保持装置８５Ａの第１突部８８Ａに対応する、第４保持装置８５Ｂの第２突部８８Ｂの第１方向Ｚの先端の高さは、第３保持装置８５Ａの第５壁部８７Ａに対応する、第４保持装置８５Ｂの第６壁部８７Ｂの第１方向Ｚの先端の高さよりも低い。このため第４保持装置８５Ｂに複数の第２突部８８Ｂが設けられない場合に比べて、第６壁部８７Ｂの外側においてウエハ２００との距離が比較的狭くなり、第３保持装置８５Ａの第３開口８６ａＡに対応する、第４保持装置８５Ｂの第４開口８６ａＢを介して排気動作を行った場合に、第６壁部８７Ｂの外側を通して、気体が第６壁部８７Ｂ内に流れ込み難くなる。従って、第４保持装置８５Ｂも、ウエハ２００の外周部２０２を、第６壁部８７Ｂで吸引により確実に保持することができる。
さらに、第３保持装置８５Ａによっても、ウエハ２００の外周部２０２を、第５壁部８７Ａで吸引により確実に保持することができる。
さらに、第３保持装置８５Ａによっても、ウエハ２００の外周部２０２を、第５壁部８７Ａで吸引により確実に保持することができる。
【0122】
第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、第５面８６ｂＡ又は第６面８６ｂＢと平行な軸に対して対称的な形状である。これにより、ウエハ２００を挟んで第３保持装置８５Ａ及び第４保持装置８５Ｂが対向するように配置することができる。
第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、第５面８６ｂＡ又は第６面８６ｂＢと平行な軸に対して対称的な位置に配置される。従って、ウエハ２００を挟んで第３保持装置８５Ａ及び第４保持装置８５Ｂが対向するように配置することができる。
第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、第５面８６ｂＡ又は第６面８６ｂＢと平行な軸に対して対称的な位置に配置される。従って、ウエハ２００を挟んで第３保持装置８５Ａ及び第４保持装置８５Ｂが対向するように配置することができる。
【0123】
なお、本実施形態おいて、複数の突部（８８Ａ、８８Ｂ）は、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）の全周を囲むように連続的に形成されているが、複数の突部（８８Ａ、８８Ｂ）の少なくとも一つは、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）を囲むように断続的に形成されてもよいし、複数の突部（８８Ａ、８８Ｂ）の少なくとも一つは、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）の周囲の一部のみ（例えば、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）のＸ軸方向の一側のみ）に設けてよい。
また、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）と突部（８８Ａ、８８Ｂ）との高さの差は、それぞれ数百μｍ（マイクロメートル）～数千μｍであり、例えば３００μｍ～１０００μｍであってもよい。
また、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）と突部（８８Ａ、８８Ｂ）との高さの差は、それぞれ数百μｍ（マイクロメートル）～数千μｍであり、例えば３００μｍ～１０００μｍであってもよい。
【0124】
なお、複数の第１突部８８Ａのそれぞれの高さは同じ高さで無くてもよい。例えば、第５壁部８７Ａから離れるにつれて、複数の第１突部８８Ａが徐々に低くなるようにしてもよい。
また、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）の第２方向Ｘ（Ｘ軸方向）の長さは、各突部（８８Ａ、８８Ｂ）の第２方向Ｘの長さ以下でもよい。
また、複数の突部（８８Ａ，８８Ｂ）が形成される突部領域の第２方向Ｘの長さは、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）の第２方向Ｘの長さ以下でもよい。
開口（８６ａＡ、８６ａＢ）は、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）における長軸方向（Ｙ軸方向）の端部に形成されていてもよい。また、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）で囲まれた領域の形状は、円形状、多角形状等でもよい。
また、第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、平行な軸に対して非対称的な形状であってもよい。第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、軸に対して非対称的な位置に配置されてもよい。
また、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）の第２方向Ｘ（Ｘ軸方向）の長さは、各突部（８８Ａ、８８Ｂ）の第２方向Ｘの長さ以下でもよい。
また、複数の突部（８８Ａ，８８Ｂ）が形成される突部領域の第２方向Ｘの長さは、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）の第２方向Ｘの長さ以下でもよい。
開口（８６ａＡ、８６ａＢ）は、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）における長軸方向（Ｙ軸方向）の端部に形成されていてもよい。また、壁部（８７Ａ、８７Ｂ）で囲まれた領域の形状は、円形状、多角形状等でもよい。
また、第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、平行な軸に対して非対称的な形状であってもよい。第３保持装置８５Ａと第４保持装置８５Ｂは、軸に対して非対称的な位置に配置されてもよい。
【0125】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について図１８から図２２を参照しながら説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
図１８に示すように、本実施形態の露光システム１は、搬送システム１５に替えて、搬送システム１５Ｃを備え、搬送システム１５Ｃは、第５保持装置１０５Ａと、第６保持装置１０５Ｂと、第７保持装置１０５Ｃと、を備える。本実施形態において、搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１が、第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、第７保持装置１０５Ｃを備えている。
次に、本発明の第４実施形態について図１８から図２２を参照しながら説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
図１８に示すように、本実施形態の露光システム１は、搬送システム１５に替えて、搬送システム１５Ｃを備え、搬送システム１５Ｃは、第５保持装置１０５Ａと、第６保持装置１０５Ｂと、第７保持装置１０５Ｃと、を備える。本実施形態において、搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１が、第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、第７保持装置１０５Ｃを備えている。
【0126】
なお、搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１の一部（一つまたは複数）が、第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、第７保持装置１０５Ｃ以外の保持装置（例えば、保持装置５５Ａ、５５Ｂ、あるいは保持装置８５Ａ、８５Ｂ）を備えていてもよい。
図１９、２０に示すように、第５保持装置１０５Ａは、基台１０６Ａと、第７壁部１０７Ａと、複数の第３突部１０８Ａと、を備える。
図１９、２０に示すように、第５保持装置１０５Ａは、基台１０６Ａと、第７壁部１０７Ａと、複数の第３突部１０８Ａと、を備える。
【0127】
例えば、基台１０６Ａは平板状であり、水平面に沿って配置され、Ｘ軸とＹ軸で規定される面と平行な第７面１０６ａＡを有している。基台１０６Ａの上面である第７面１０６ａＡには、第５開口１０６ｂＡが形成される。
基台１０６Ａには、排気孔１０６ｃＡが形成される。排気孔１０６ｃＡの一方の端は、第５開口１０６ｂＡである。排気孔１０６ｃＡは、第７面１０６ａＡに沿って延びる。排気孔１０６ｃＡの他方の端は、図示しない吸引装置に接続される。
基台１０６Ａには、排気孔１０６ｃＡが形成される。排気孔１０６ｃＡの一方の端は、第５開口１０６ｂＡである。排気孔１０６ｃＡは、第７面１０６ａＡに沿って延びる。排気孔１０６ｃＡの他方の端は、図示しない吸引装置に接続される。
【0128】
図２０に示すように、第７壁部１０７Ａは、環状に形成される。より詳しく説明すると、第７壁部１０７Ａで囲まれる領域は、Ｙ軸方向に長い長円形状である。第７壁部１０７Ａは、第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡと、一対の連結壁１０７ｃＡと、を有する。第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡは、第１方向Ｚから見たときに、基準点Ｐ３を中心とする円弧状にそれぞれ形成される。第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡは、ウエハ２００の周方向に互いに間隔を空けて配置される。
一対の連結壁１０７ｃＡは、ウエハ２００の外周部２０２に沿ってそれぞれ配置される。一対の連結壁１０７ｃＡは、第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡの端部同士を互いに連結する。
一対の連結壁１０７ｃＡは、ウエハ２００の外周部２０２に沿ってそれぞれ配置される。一対の連結壁１０７ｃＡは、第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡの端部同士を互いに連結する。
【0129】
第７壁部１０７Ａは、第５開口１０６ｂＡを囲うように第７面１０６ａＡに設けられる。第７壁部１０７Ａは、基台１０６Ａよりも、第７面１０６ａＡと交差する第１方向Ｚ（Ｚ軸方向）における第１側Ｚ１（以下では、単に第１側Ｚ１とも言う）に突出する。ここで、第７面１０６ａＡに対して平行な方向の１つを、第２方向Ｘ（Ｘ軸方向）と規定する。
Ｙ軸方向における第５開口１０６ｂＡの径は、Ｘ軸方向における第５開口１０６ｂＡの径よりも長い。
Ｙ軸方向における第５開口１０６ｂＡの径は、Ｘ軸方向における第５開口１０６ｂＡの径よりも長い。
【0130】
図１９及び図２０に示すように、複数の第３突部１０８Ａは、第７壁部１０７Ａ上（第７壁部１０７Ａにおける第１側Ｚ１の端面）に設けられる。第３突部１０８Ａそれぞれの第１側Ｚ１の先端の高さは、第７壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の先端（第７壁部１０７Ａの上面）の高さよりも高い。すなわち、第３突部１０８Ａそれぞれの第１側Ｚ１の先端は、Ｚ軸方向において、第７壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の先端よりも第１側Ｚ１に位置する。
第７壁部１０７Ａを形成する第１円弧壁１０７ａＡ、第２円弧壁１０７ｂＡ、及び一対の連結壁１０７ｃＡのそれぞれの上面は、幅を有しており、第３突部１０８Ａのそれぞれは、第７壁部１０７Ａの中央部に設けられる。第３突部１０８Ａの幅は、第７壁部１０７Ａの幅よりも狭い。すなわち、第７壁部１０７Ａは、第３突部１０８Ａよりも第２方向Ｘの両側にそれぞれ突出する。第３突部１０８Ａの第１方向Ｚの長さは、第７壁部１０７Ａの第１方向Ｚの長さよりも短い。
第７壁部１０７Ａを形成する第１円弧壁１０７ａＡ、第２円弧壁１０７ｂＡ、及び一対の連結壁１０７ｃＡのそれぞれの上面は、幅を有しており、第３突部１０８Ａのそれぞれは、第７壁部１０７Ａの中央部に設けられる。第３突部１０８Ａの幅は、第７壁部１０７Ａの幅よりも狭い。すなわち、第７壁部１０７Ａは、第３突部１０８Ａよりも第２方向Ｘの両側にそれぞれ突出する。第３突部１０８Ａの第１方向Ｚの長さは、第７壁部１０７Ａの第１方向Ｚの長さよりも短い。
【0131】
複数の第３突部１０８Ａは、第７壁部１０７Ａに沿って互いに間隔を空けて配置される。複数の第３突部１０８Ａは、第７壁部１０７Ａの第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡのみに設けられてもよい。複数の第３突部１０８Ａは、一対の連結壁１０７ｃＡのみに設けられてもよい。複数の第３突部１０８Ａは、一対の連結壁１０７ｃＡのうちの一方のみ（例えば、軸〇８に近い連結壁１０７ｃＡのみ）に設けてもよい。
複数の第３突部１０８Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。
なお、第５保持装置１０５Ａが備える第３突部１０８Ａの数は、１つでもよい。
複数の第３突部１０８Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。
なお、第５保持装置１０５Ａが備える第３突部１０８Ａの数は、１つでもよい。
【0132】
前記吸引装置を動作させると、第５保持装置１０５Ａは、排気孔１０６ｃＡの第５開口１０６ｂＡを介して、基台１０６Ａとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
【0133】
図１８及び図１９に示すように、第６保持装置１０５Ｂ及び第７保持装置１０５Ｃは、第５保持装置１０５Ａと同様に構成される。
図１９に示すように、第６保持装置１０５Ｂは、基台１０６Ｂと、第８壁部１０７Ｂと、複数の第４突部１０８Ｂと、を備える。
例えば、基台１０６Ｂは平板状であり、水平面に沿って配置される。第３基台１０６Ｂの上面である第８面１０６ａＢには、第６開口１０６ｂＢが形成される。
基台１０６Ｂには、排気孔１０６ｃＢが形成される。排気孔１０６ｃＢの一方の端は、第６開口１０６ｂＢである。排気孔１０６ｃＢは、第８面１０６ａＢに沿って延びる。排気孔１０６ｃＢの他方の端は、図示しない吸引装置に接続される。
図１９に示すように、第６保持装置１０５Ｂは、基台１０６Ｂと、第８壁部１０７Ｂと、複数の第４突部１０８Ｂと、を備える。
例えば、基台１０６Ｂは平板状であり、水平面に沿って配置される。第３基台１０６Ｂの上面である第８面１０６ａＢには、第６開口１０６ｂＢが形成される。
基台１０６Ｂには、排気孔１０６ｃＢが形成される。排気孔１０６ｃＢの一方の端は、第６開口１０６ｂＢである。排気孔１０６ｃＢは、第８面１０６ａＢに沿って延びる。排気孔１０６ｃＢの他方の端は、図示しない吸引装置に接続される。
【0134】
第８壁部１０７Ｂは、環状に形成される。第８壁部１０７Ｂは、第６開口１０６ｂＢを囲うように第８面１０６ａＢに設けられる。第８壁部１０７Ｂは、第１側Ｚ１に突出する。
複数の第４突部１０８Ｂは、第８壁部１０７Ｂ上（第８壁部１０７Ｂにおける第１側Ｚ１の端面）に、第８壁部１０７Ｂに沿って設けられる。
複数の第４突部１０８Ｂの第１側Ｚ１における先端の高さは、第８壁部１０７Ｂの第１側Ｚ１における先端の高さよりも高い。すなわち、第４突部１０８Ｂの第１側Ｚ１の先端は、第８壁部１０７Ｂの第１側Ｚ１の先端よりも第１側Ｚ１に位置する。
前記吸引装置を動作させると、第６保持装置１０５Ｂは、排気孔１０６ｃＢの第６開口１０６ｂＢを介して、基台１０６Ｂとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
複数の第４突部１０８Ｂは、第８壁部１０７Ｂ上（第８壁部１０７Ｂにおける第１側Ｚ１の端面）に、第８壁部１０７Ｂに沿って設けられる。
複数の第４突部１０８Ｂの第１側Ｚ１における先端の高さは、第８壁部１０７Ｂの第１側Ｚ１における先端の高さよりも高い。すなわち、第４突部１０８Ｂの第１側Ｚ１の先端は、第８壁部１０７Ｂの第１側Ｚ１の先端よりも第１側Ｚ１に位置する。
前記吸引装置を動作させると、第６保持装置１０５Ｂは、排気孔１０６ｃＢの第６開口１０６ｂＢを介して、基台１０６Ｂとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
【0135】
第７保持装置１０５Ｃは、基台１０６Ｃと、第９壁部１０７Ｃと、複数の第５突部１０８Ｃと、を備える。
基台１０６Ｃの上面である第９面１０６ａＣには、第７開口１０６ｂＣが形成される。
基台１０６Ｃには、排気孔１０６ｃＣが形成される。排気孔１０６ｃＣの一方の端は、第７開口１０６ｂＣである。排気孔１０６ｃＣは、第９面１０６ａＣに沿って延びる。排気孔１１０６ｃＣの他方の端は、図示しない吸引装置に接続される。
基台１０６Ｃの上面である第９面１０６ａＣには、第７開口１０６ｂＣが形成される。
基台１０６Ｃには、排気孔１０６ｃＣが形成される。排気孔１０６ｃＣの一方の端は、第７開口１０６ｂＣである。排気孔１０６ｃＣは、第９面１０６ａＣに沿って延びる。排気孔１１０６ｃＣの他方の端は、図示しない吸引装置に接続される。
【0136】
第９壁部１０７Ｃは、環状に形成される。第９壁部１０７Ｃは、第７開口１０６ｂＣを囲うように第９面１０６ａ７Ｃに設けられる。第９壁部１０７Ｃは、第１側Ｚ１に突出する。
複数の第５突部１０８Ｃは、第９壁部１０７Ｃ上に、第９壁１０７Ｃに沿って設けられる。
複数の第５突部１０８Ｃの第１側Ｚ１の先端の高さは、第９壁部１０７Ｃの第１側Ｚ１の先端の高さよりも高い。
前記吸引装置を動作させると、排気孔１０６ｃＣの第７開口１０６ｂＣを介して、基台１０６Ｃとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
複数の第５突部１０８Ｃは、第９壁部１０７Ｃ上に、第９壁１０７Ｃに沿って設けられる。
複数の第５突部１０８Ｃの第１側Ｚ１の先端の高さは、第９壁部１０７Ｃの第１側Ｚ１の先端の高さよりも高い。
前記吸引装置を動作させると、排気孔１０６ｃＣの第７開口１０６ｂＣを介して、基台１０６Ｃとウエハ２００との間に位置する気体を吸引可能である。
【0137】
ここで、図１８に示すように、第５保持装置１０５Ａの第７面１０６ａＡ、第６保持装置１０５Ｂの第８面１０６ａＢ、及び第７保持装置１０５Ｃの第９面１０６ａＣと、それぞれ交差する第３軸Ｏ８を規定する。
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的（複数回転対称）な形状である。
言い換えると、第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的に配置される。
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８回りに等角度ごとに配置されているが、等間隔でなくてもよい。
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的（複数回転対称）な形状である。
言い換えると、第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的に配置される。
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８回りに等角度ごとに配置されているが、等間隔でなくてもよい。
【0138】
例えば、第５保持装置１０５Ａの吸引装置を動作させると、図２１に示すように、基台１０６Ａとウエハ２００との間の気体が、吸引される。図２１中に二点鎖線Ｌ３で示すように、反っていたウエハ２００が、複数の第３突部１０８Ａの第１側Ｚ１の端面にそれぞれ接触する。このときウエハ２００は、第７壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の端面には接触しない。
こうして、ウエハ２００が、第５保持装置１０５Ａにより保持される。同様にして、ウエハ２００が、保持装置１０５Ｂ，１０５Ｃによりそれぞれ保持される。
こうして、ウエハ２００が、第５保持装置１０５Ａにより保持される。同様にして、ウエハ２００が、保持装置１０５Ｂ，１０５Ｃによりそれぞれ保持される。
【0139】
ここで、図２２を用いて、保持装置１０５Ｄの一例について説明する。
保持装置１０５Ｄでは、保持装置１０５Ａにおいて、複数の第３突部１０８Ａが壁部１０７Ａの内側に配置される。
保持装置１０５Ｄの吸引装置を動作させると、図２２中に二点鎖線Ｌ４で示すように、反っていたウエハ２００が、複数の突部１０８Ａの第１側Ｚ１の端面にそれぞれ接触する。このとき、ウエハ２００は、壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の端面に接触する虞がある。
なお、図２１に示す本実施形態の第５保持装置１０５Ａでは、壁部（１０７Ａ）の内側に突部が形成されていないため、壁部（１０７Ａ）の内側空間において、開口（１０６ｂＡ）に向かう気体の流れを遮るものがなく、保持装置１０５Ｄに比べて、壁部（１０７Ａ）の内側空間の気体をスムースに排出することがき、ウエハ２００をより確実に保持することができる。
保持装置１０５Ｄでは、保持装置１０５Ａにおいて、複数の第３突部１０８Ａが壁部１０７Ａの内側に配置される。
保持装置１０５Ｄの吸引装置を動作させると、図２２中に二点鎖線Ｌ４で示すように、反っていたウエハ２００が、複数の突部１０８Ａの第１側Ｚ１の端面にそれぞれ接触する。このとき、ウエハ２００は、壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の端面に接触する虞がある。
なお、図２１に示す本実施形態の第５保持装置１０５Ａでは、壁部（１０７Ａ）の内側に突部が形成されていないため、壁部（１０７Ａ）の内側空間において、開口（１０６ｂＡ）に向かう気体の流れを遮るものがなく、保持装置１０５Ｄに比べて、壁部（１０７Ａ）の内側空間の気体をスムースに排出することがき、ウエハ２００をより確実に保持することができる。
【0140】
以上説明したように、本実施形態の第５保持装置１０５Ａでは、第３突部１０８Ａの第１側Ｚ１の先端の高さは、第７壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の先端の高さよりも高い。このため、例えば、第５開口１０６ｂＡを介して気体を吸引し、ウエハ２００の外周部２０２を保持したときに、ウエハ２００が第７壁部１０７Ａの第１側Ｚ１の端面に接触するのを防止することができる。
【0141】
第３突部１０８Ａの第１方向Ｚの長さは、第７壁部１０７Ａの第１方向Ｚの長さよりも短い。例えば、第３突部１０８Ａの幅が第７壁部１０７Ａの幅よりも狭い場合等には、第３突部１０８Ａが折れたり等しないように、第３突部１０８Ａの構造を安定させることができる。
複数の第３突部１０８Ａは、第２方向Ｘに互いに間隔を空けて配置される。従って、複数の第３突部１０８Ａにより、第２方向Ｘの比較的広い範囲でウエハ２００を支持することができる。
複数の第３突部１０８Ａは、第２方向Ｘに互いに間隔を空けて配置される。従って、複数の第３突部１０８Ａにより、第２方向Ｘの比較的広い範囲でウエハ２００を支持することができる。
【0142】
複数の第３突部１０８Ａは、第７壁部１０７Ａに沿って互いに間隔を空けて配置される。これにより、第７壁部１０７Ａに沿った比較的広い範囲で、複数の第３突部１０８Ａによりウエハ２００を支持することができる。
複数の第３突部１０８Ａは、第７壁部１０７Ａにおける第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡのみに設けられる場合がある。従って、第７壁部１０７Ａにおけるウエハ２００が接触しやすい部分のみに、複数の第３突部１０８Ａを設けることができる。
複数の第３突部１０８Ａは、第７壁部１０７Ａにおける第１円弧壁１０７ａＡ及び第２円弧壁１０７ｂＡのみに設けられる場合がある。従って、第７壁部１０７Ａにおけるウエハ２００が接触しやすい部分のみに、複数の第３突部１０８Ａを設けることができる。
【0143】
第７壁部１０７Ａの長軸方向における第５開口１０６ｂＡの径は、短軸方向の径よりも長い場合がある。この場合には、第５開口１０６ｂＡが、長円形状である第７壁部１０７Ａに沿った形状となり、第７壁部１０７Ａ内に第５開口１０６ｂＡを効率的に配置することができる。
【0144】
複数の第３突部１０８Ａの少なくとも一部は、ウエハ２００に接触する。従って、ウエハ２００の外周部２０２を、第３突部１０８Ａで支持することができる。
また、本実施形態の搬送システム１５Ｃでは、ウエハ２００が壁部１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃの端面（例えば、壁部１０７Ａの第１側Ｘ１の端面）に接触するのをそれぞれ防止することができる。
また、本実施形態の搬送システム１５Ｃでは、ウエハ２００が壁部１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃの端面（例えば、壁部１０７Ａの第１側Ｘ１の端面）に接触するのをそれぞれ防止することができる。
【0145】
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的な形状である。このため、ウエハ２００の外周部２０２を保持装置１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃで均等に支持することができる。
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的に配置される。このため、ウエハ２００の外周部２０２を保持装置１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃで均等に支持することができる。
第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、及び第７保持装置１０５Ｃは、第３軸Ｏ８に対して対称的に配置される。このため、ウエハ２００の外周部２０２を保持装置１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃで均等に支持することができる。
【0146】
なお、本実施形態において、保持装置（１０５Ａ、１０５Ｂ、１０５Ｃ）では、突部（１０８Ａ、１０８Ｂ，１０８Ｃ）の第１方向Ｚの長さは、壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）の第１方向Ｚの長さ以上でもよい。
複数の突部（１０８Ａ、１０８Ｂ，１０８Ｃ）は、壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）における一対の連結壁のみに設けられてもよい。
開口（１０６ｂＡ、１０６ｂＢ、１０６ｂＣ）は、壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）における長軸方向の端部に形成されてもよい。
壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）の長軸方向における開口（１０６ｂＡ、１０６ｂＢ、１０６ｂＣ）の径は、短軸方向の径以下でもよい。
複数の突部（１０８Ａ、１０８Ｂ，１０８Ｃ）は、壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）における一対の連結壁のみに設けられてもよい。
開口（１０６ｂＡ、１０６ｂＢ、１０６ｂＣ）は、壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）における長軸方向の端部に形成されてもよい。
壁部（１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ）の長軸方向における開口（１０６ｂＡ、１０６ｂＢ、１０６ｂＣ）の径は、短軸方向の径以下でもよい。
【0147】
また、本実施形態においては、搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１の少なくとも一つが、第５保持装置１０５Ａ、第６保持装置１０５Ｂ、第７保持装置１０５Ｃを備えている。搬送ロボット１７、搬送ロボット１９、ロード・ロボット２０、アンロード・ロボット２１の少なくとも一つが、２つ保持装置（例えば、第５保持装置１０５Ａ、第７保持装置１０５Ｃ）のみを備えていてもよい。
【0148】
なお、上述の各実施形態および各変形例において、測定装置（１６、７５）を設けなくてもよい。例えば、コータ・デベロッパ１０内で、ウエハ２００の形状測定が行われていれば、その計測結果に関する情報を制御装置ＣＯＮＴで受け取り、上述のように露光システム１の各装置の動作制御に用いてもよい。また、ウエハ２００の形状に関する情報が無くても、上述の保持装置を用いることにより、例えば図1～図４に示した、変形した（反った）ウエハ２００も確実に保持することができる。
【0149】
また、上述の各実施形態及び各変形例の保持装置を、コータ・デベロッパ１０内に設けて、ウエハ２００の保持あるいは搬送に用いてもよい。
また、上述の各実施形態及び各変形例において、露光装置３５は、エネルギビームとして、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などを用いてもよいし、エネルギビームを射出する光源としてＬＥＤ光源を用いてよい。
また、上述の各実施形態及び各変形例において、露光装置３５は、投影光学系とウエハ２００との間の液浸水を介してエネルギビームをウエハ２００に照射する液浸露光装置であってもよい。
また、上述の各実施形態及び各変形例において、露光装置３５は、複数のウエハステージを備えるツインステージ型の露光装置であってもよい。
また、上述の各実施形態及び各変形例において、露光装置３５は、エネルギビームとして、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などを用いてもよいし、エネルギビームを射出する光源としてＬＥＤ光源を用いてよい。
また、上述の各実施形態及び各変形例において、露光装置３５は、投影光学系とウエハ２００との間の液浸水を介してエネルギビームをウエハ２００に照射する液浸露光装置であってもよい。
また、上述の各実施形態及び各変形例において、露光装置３５は、複数のウエハステージを備えるツインステージ型の露光装置であってもよい。
【0150】
以上、本発明の第１実施形態から第４実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更、組み合わせ、削除等も含まれる。さらに、各実施形態で示した構成のそれぞれを適宜組み合わせて利用できることは、言うまでもない。
例えば、第３、第４実施形態の保持装置を、第１実施形態の保持装置の替わりに用いてもよい。
例えば、前記露光システム１を用いたデバイス製造方法を行ってもよい。このデバイス製造方法は、露光ステップを含む。露光ステップは、前記露光システム１を用いて、表面にレジストが塗布されたウエハ２００を露光することと、前記コータ・デベロッパ１０を用いて、露光されたウエハ２００を現像することと、を含む。
例えば、第３、第４実施形態の保持装置を、第１実施形態の保持装置の替わりに用いてもよい。
例えば、前記露光システム１を用いたデバイス製造方法を行ってもよい。このデバイス製造方法は、露光ステップを含む。露光ステップは、前記露光システム１を用いて、表面にレジストが塗布されたウエハ２００を露光することと、前記コータ・デベロッパ１０を用いて、露光されたウエハ２００を現像することと、を含む。
【0151】
図２３に示すように、ウエハ２００が下方に向かって凸となる形状に反っていると、保持装置５５Ａ，５５Ｂは、ターンテーブル１２５よりも高い位置でウエハ２００に接触する。なお、図２３中に、ターンテーブル１２５上の平坦なウエハ２００を、二点鎖線で示す。
一方で、図２４に示すように、ウエハ２００が上方に向かって凸となる形状に反っていると、保持装置５５Ａ，５５Ｂは、ターンテーブル１２５よりも低い位置でウエハ２００に接触する。
予めウエハ２００の反り量が分かっていれば、保持装置５５Ａ，５５Ｂがウエハ２００に接触する高さ近傍で、保持装置５５Ａ，５５Ｂの移動速度を落とすことにより、ウエハ２００の受け渡し精度を向上させることができる。
一方で、図２４に示すように、ウエハ２００が上方に向かって凸となる形状に反っていると、保持装置５５Ａ，５５Ｂは、ターンテーブル１２５よりも低い位置でウエハ２００に接触する。
予めウエハ２００の反り量が分かっていれば、保持装置５５Ａ，５５Ｂがウエハ２００に接触する高さ近傍で、保持装置５５Ａ，５５Ｂの移動速度を落とすことにより、ウエハ２００の受け渡し精度を向上させることができる。
【0152】
なお、本明細書には、以下に記載した発明も開示されている。
（付記請求項１）
ウエハの厚さ方向の第１面の第１位置を保持する保持装置と、
前記保持装置によって保持された前記ウエハの第２位置における前記厚さ方向の位置を測定可能な第１測定部と、
前記ウエハの前記第１面又は前記第１面とは反対側の第２面において、前記ウエハの径方向において前記第２位置よりも外周側の第３位置における前記厚さ方向の位置を測定可能な第２測定部と、
を備える、測定装置。
（付記請求項２）
前記ウエハを、前記ウエハの前記第１面と交差する第１軸回りに回転させる移動部を備える、付記請求項１に記載の測定装置。
（付記請求項３）
前記第２測定部は、前記移動部によって、前記第１軸回りに回転した前記ウエハの複数の位置における前記厚さ方向の位置を測定可能である、付記請求項２に記載の測定装置。
（付記請求項１）
ウエハの厚さ方向の第１面の第１位置を保持する保持装置と、
前記保持装置によって保持された前記ウエハの第２位置における前記厚さ方向の位置を測定可能な第１測定部と、
前記ウエハの前記第１面又は前記第１面とは反対側の第２面において、前記ウエハの径方向において前記第２位置よりも外周側の第３位置における前記厚さ方向の位置を測定可能な第２測定部と、
を備える、測定装置。
（付記請求項２）
前記ウエハを、前記ウエハの前記第１面と交差する第１軸回りに回転させる移動部を備える、付記請求項１に記載の測定装置。
（付記請求項３）
前記第２測定部は、前記移動部によって、前記第１軸回りに回転した前記ウエハの複数の位置における前記厚さ方向の位置を測定可能である、付記請求項２に記載の測定装置。
【0153】
（付記請求項４）
前記第２測定部を複数備え、
前記複数の第２測定部と前記第１軸との距離は、互いに異なり、
前記複数の第２測定部は、前記ウエハの径方向の外側の前記第２測定部間の間隔が前記径方向の内側の前記第２測定部間の間隔よりも狭くなるように配置されている、付記請求項２又は３に記載の測定装置。
（付記請求項５）
前記第１位置と前記第２位置は、前記第１軸上に位置し、
前記第２位置は前記第２面に位置する、付記請求項１～４のいずれか一項に記載の測定装置。
（付記請求項６）
制御部をさらに備え、
前記制御部は、
予め厚さ及び反り量が知られた基準ウエハの前記第１測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの厚さを測定し、
前記基準ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの反り量を測定する、付記請求項１～５のいずれか一項に記載の測定装置。
前記第２測定部を複数備え、
前記複数の第２測定部と前記第１軸との距離は、互いに異なり、
前記複数の第２測定部は、前記ウエハの径方向の外側の前記第２測定部間の間隔が前記径方向の内側の前記第２測定部間の間隔よりも狭くなるように配置されている、付記請求項２又は３に記載の測定装置。
（付記請求項５）
前記第１位置と前記第２位置は、前記第１軸上に位置し、
前記第２位置は前記第２面に位置する、付記請求項１～４のいずれか一項に記載の測定装置。
（付記請求項６）
制御部をさらに備え、
前記制御部は、
予め厚さ及び反り量が知られた基準ウエハの前記第１測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの厚さを測定し、
前記基準ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果と、前記ウエハの前記第１測定部及び前記第２測定部による測定結果に基づいて、前記ウエハの反り量を測定する、付記請求項１～５のいずれか一項に記載の測定装置。
【0154】
（付記請求項７）
前記第１測定部は静電容量センサを含む、付記請求項１～６のいずれか一項に記載の測定装置。
（付記請求項８）
前記第２測定部は静電容量センサを含む、付記請求項１～７のいずれか一項に記載の測定装置。
（付記請求項９）
前記第１測定部は、前記第２面の前記第２位置を測定可能であり、
前記第２測定部は、前記第１面の前記第３位置を測定可能である、付記請求項１～８のいずれか一項に記載の測定装置。
前記第１測定部は静電容量センサを含む、付記請求項１～６のいずれか一項に記載の測定装置。
（付記請求項８）
前記第２測定部は静電容量センサを含む、付記請求項１～７のいずれか一項に記載の測定装置。
（付記請求項９）
前記第１測定部は、前記第２面の前記第２位置を測定可能であり、
前記第２測定部は、前記第１面の前記第３位置を測定可能である、付記請求項１～８のいずれか一項に記載の測定装置。
【0155】
（付記請求項１０）
付記請求項１～９のいずれか一項に記載の測定装置と、
ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、を備える、露光システム。
（付記請求項１１）
付記請求項１～９のいずれか一項に記載の測定装置によって測定された前記ウエハをエネルギビームで露光することを含む、露光方法。
付記請求項１～９のいずれか一項に記載の測定装置と、
ウエハをエネルギビームで露光する露光装置と、を備える、露光システム。
（付記請求項１１）
付記請求項１～９のいずれか一項に記載の測定装置によって測定された前記ウエハをエネルギビームで露光することを含む、露光方法。
【産業上の利用可能性】
【0156】
【符号の説明】
【0157】
１…露光システム、１０…コータ・デベロッパ、１１…塗布装置、１２…現像装置、１５(１５Ａ、１５Ｂ、１５Ｃ)…搬送システム、１６…測定装置、３５…露光装置、４５…計測ステーション、７５…測定装置、５５Ａ…第１保持装置、５５Ｂ…第２保持装置、第３保持装置…８５Ａ、第４保持装置８６Ａ，第５保持装置…１０５Ａ、第６保持装置…１０５Ｂ、第７保持装置１０５Ｃ、ＣＯＮＴ…制御装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】