特許7835310半導体装置及びその製造方法

発明の名称　半導体装置及びその製造方法

出願人　富士電機株式会社　（識別番号 5234）

　　　　特許公開件数ランキング 36 位（146件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 33 位（159件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7835310

公報発行日　2026年3月25

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7835310

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