公報発行日 2026年5月19
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7861563 ログイン済みの方はこのURLへ
[この特許公報を共有したい場合]あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
本開示により、後処理工程を必須とせず、なおかつ、銅を含有するCHA型ゼオライトを結晶化する従来の方法より収率の高い、銅を含有するCHA型ゼオライトの製造方法を提供すること、ができる。
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
[広告欄]
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります