技術分野
銅セラミックス接合体、ろう材、および、銅セラミックス接合体の製造方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示の目的は、銅セラミックス接合体における接合強度を高めることにある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示の一態様によれば、
CuまたはCu合金からなる銅材と、
前記銅材に接合され、SiまたはAlの窒化物からなるセラミックス材と、
前記銅材と前記セラミックス材との接合面に形成され、Cuと、Mgと、を含み、Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Ca,Y,Ce,La,Sm,Yb,Nd,Gd,Erからなる群より選択される少なくとも一種の活性金属元素をさらに含む接合層と、を・・・ 続きを
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示によれば、銅セラミックス接合体における接合強度を高めることが可能となる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本開示の一態様における銅セラミックス接合体100の部分断面拡大図である。
【図2】
(a)は図1の要部Aを撮影した部分断面拡大写真であり、(b)は図1の要部Bを撮影した部分断面拡大写真である。
【図3】
図1の要部Cを撮影した部分断面拡大写真である。
【図4】
(a)は接合層30に加わるせん断応力を模式的に示す図であり、(b)は接合層30に加わる引張応力を模式的に示す図である。
【図5】
(a)は、銅材10とセラミックス材20とをろう材50を介して配置した様子を、(b)は、銅材10とセラミックス材20との積層体を加圧しながら加熱する様子を、(c)は、製造された銅セラミックス接合体100をそれぞれ示す図である。
【図6】
せん断強度試験を実施する際の様子を模式的に示す図である。
【図7】
サイズの大きなボイド33Lが発生した接合層の部分断面拡大写真である。
100 銅セラミックス接合体
100’ 積層体
10 銅材
10s 接合面
20 セラミックス材
20s 接合面
30 接合層
31 第1層
31A 固溶相
31B 化合物相
32 第2層
33L ボイド(円相当径8μm以上)
33S ボイド(円相当径8μm未満)
50 ろう材
D 界面近傍領域
X 窒化物結晶
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