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特許 7899781出願番号 特願 2023-121456
モノマー、ポリマー、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
出願人 信越化学工業株式会社（識別番号 2060）
2026年 特許公開件数ランキング 52位 306件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 59位 264件（※）
公報発行日 2026年8月4
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7899781 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
モノマー、ポリマー、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、パターン形成時の解像性を向上し、かつ、ＬＥＲ、パターン忠実性及びドーズマージンが改善されたレジストパターンを得ることができる化学増幅ネガ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明者は、前記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、所定の脱水官能基を有するモノマーに由来する繰り返し単位を含むポリマーを化学増幅ネガ型レジスト組成物に導入した場合、良好な解像性やパターン形状を示し、ＬＥＲ、パターン忠実性及びドーズマージンが改善され、かつエッチング耐性にも優れるパターンが得られることを知見し、本発明をなすに至った。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明のモノマーから得られるポリマーをベースポリマーとして含む化学増幅ネガ型レジスト組成物を用いてパターン形成を行った場合、良好な感度にて脱水反応を伴う極性変化が進行し、高い解像性及びパターン忠実性を有しつつ、ＬＥＲ及びドーズマージンが改善され、かつエッチング耐性にも優れるパターンを形成できるため、微細加工技術、特にＥＵＶリソグラフィーやＥＢリソグラフィーに好適に用いることができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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