特許 7910297出願番号特願 2021-63959
イットリウムスパッタリングターゲット及びその製造方法

出願人東ソー株式会社（識別番号 3300）

2026年特許公開件数ランキング 165位 145件（※）

2026年特許取得件数ランキング 85位 209件（※）

公報発行日　2026年8月25

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7910297　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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薄膜形成用イットリウムスパッタリングターゲット及びその製造方法に関するものである。

本発明の目的は、高出力での製膜が可能であり、パーティクルの少ないイットリウムスパッタリングターゲットを提供することである。

本発明者らは、イットリウムスパッタリングターゲットについて鋭意検討を行った結果、パーティクルの発生の少ないイットリウムスパッタリングターゲットが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明のイットリウムスパッタリングターゲットはバッキングプレートと高い接着率を有し、スパッタリングターゲットとして用いた場合、高出力下においても割れが無く、高い生産性を得ることが可能である。

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