特許7917355IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

情報処理装置、情報処理方法、及びプログラム

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

放射線画像には、手指の骨の輪郭や、ペースメーカー等の細い金属線等で、高コントラストのエッジが存在する場合がある。特許文献１に記載の補正方法では、図１７に示すように、幅が１画素程度の細い線が線欠陥に対して斜め方向に交わっている場合に、線欠陥に隣接する横方向の正常画素のみを用いて補間処理を行うので、補正精度が十分でなく補正残差が生じる。このような場合は、斜め方向の正常画素を用いた補間処理を行うことが必要である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

目的を達成するために、本開示の情報処理装置は、放射線撮影することにより得られた放射線画像の欠陥画素を補正する処理を行う情報処理装置であって、プロセッサを備え、プロセッサは、放射線画像に含まれる１つの欠陥画素を補正対象画素として選択し、選択した補正対象画素の周辺のエッジの有無を検出し、エッジがある場合には、補正対象画素を中心として設定したマスク内の正常画素の各々に、補正対象画素からの正常画・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 放射線撮影システムの構成例を示す図である。
【図2】 エッジ方向について説明する図である。
【図3】 検出部が用いる２つの微分フィルタの一例を示す図である。
【図4】 微分フィルタの係数の位置に欠陥画素が存在させる場合に、係数を移動させる例を示す図である。
【図5】 エッジ上に存在する点欠陥の補正処理について説明する図である。
【図6】 エッジ上に存在する欠陥画素を含む線欠陥の補正処理について説明する図である。
【図7】 式（４）で表される重みの差分角度に対する依存性を示す図である。
【図8】 式（４Ａ）で表される重みの差分角度に対する依存性を示す図である。
【図9】 画像処理部による画像処理の流れの一例を示すフローチャートである。
【図10】 Ｐｒｅｗｉｔｔフィルタを示す図である。
【図11】 Ｓｏｂｅｌフィルタを示す図である。
【図12】 斜め方向に微分を行う微分フィルタの例を示す図である。
【図13】 エッジ検出に用いる複数のマスクの一例を示す図である。
【図14】 エッジ検出に用いる複数のマスクの他の例を示す図である。
【図15】 一対の画素の角度を維持しつつ正常画素を探索する例を示す図である。
【図16】 変形例に係る画像処理部による画像処理の流れを示すフローチャートである。
【図17】 従来の補正方法による問題点を説明する図である。

代表図 図1本件の代表的な図

２ 放射線撮影システム ３ 放射線発生装置 ４ 放射線管 ６ 情報処理装置 ７ カセッテホルダ ７Ａ 検出面 ８ 散乱線除去グリッド １０ 制御部 １１ ディスプレイ １２ 操作部 １３ 記憶部 １４ 画像処理部 １５ プログラム １６ 欠陥画素データ ２０ 取得部 ２１ 検出部 ２２ 補正部 α エッジ角度 Ｆｘ，Ｆｙ 微分フィルタ Ｈ 被写体 Ｐｉ 正常画素 Ｐｓ 補正対象画素 Ｒ 放射線

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