特許7919730IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

微酸化銅含有粒子の製造方法および微酸化銅被覆銅粒子

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献2と特許文献3では、混合粒子に含まれる酸化銅粒子の製造に、酢酸銅などの銅塩を出発原料としているが、銅塩は嵩高く重量も重い上、銅塩の溶媒への溶解を含めて反応工程に長時間を要していた。また、還元初期に銅イオンの濃度が高いにもかかわらず、反応過程で濃度が変化することから、特に濃厚系においては反応制御ならびに得られる粒子径の制御が困難となる。よって、工業的に量産するには、更なる検討が必要であると考えられる。また、得られた混合粒子は、金属銅粒子と微細な酸化銅粒子がそれぞれ凝集しやすく、これらが互いに分散した状態を得ることが難しい。事情に鑑みてなされたものであり、その目的の1つは、低温での焼結に有用なCu64OとCu8Oのうちの1以上の微酸化銅を少なくとも表面に有する微酸化銅含有粒子を、量産性よく製造する方法を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の態様1は、 CuOとCu2Oのうちの1以上を含む酸化銅を少なくとも表面に有する原料粒子を用意すること、および 前記原料粒子と、アミン系化合物および錯形成剤を含む溶液とを混合し、次いで還元剤を加え、酸素含有雰囲気で反応させること を含む、Cu64OとCu8Oのうちの1以上の微酸化銅を少なくとも表面に有する微酸化銅含有粒子の製造方法である。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、低温での焼結に有用なCu64OとCu8Oのうちの1以上の微酸化銅を少なくとも表面に有する微酸化銅含有粒子を、量産性よく製造する方法を提供できる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図1は、実施例1~3の反応過程でのXRDパターンである。
【図2】 図2は、比較例1~3の反応過程でのXRDパターンである。
【図3】 図3は、比較例4~6の反応過程でのXRDパターンである。
【図4】 図4は、実施例1~3で得られた粒子のTEM像である。
【図5】 図5は、実施例1(出発原料Cu2O)で得られた粒子のSTEM像である。
【図6】 図6は、実施例2(出発原料CuO)で得られた粒子のSTEM像である。
【図7】 図7は、実施例4~6の反応過程でのXRDパターンである。
【図8】 図8は、実施例7、8および比較例7の反応過程でのXRDパターンである。
【図9】 図9は、実施例4の出発原料と24時間反応後の粒子のSEM像である。
【図10】 図10は、実施例4で得られた粒子のTEM像である。
【図11】 図11は、実施例4で得られた粒子のSTEM像であり、右側のSTEM像は、左側のSTEM像に示した各々の格子面間隔の拡大像である。
【図12】 図12は、実施例5の出発原料と24時間反応後の粒子のSEM像である。
【図13】 図13は、実施例5で得られた粒子のTEM像である。
【図14】 図14は、実施例6で得られた粒子のTEM像である。
【図15】 図15は、実施例7の出発原料と24時間反応後の粒子のSEM像である。
【図16】 図16は、実施例7で得られた粒子のTEM像である。
【図17】 図17は、実施例8の出発原料と24時間反応後の粒子のSEM像である。
【図18】 図18は、実施例4AにおけるTG-DTA測定結果である。
【図19】 図19は、実施例4Aの接合焼成評価用サンプルの作製手順を示す図である。
【図20A】 図20Aは、実施例4Aでの接合焼成評価用サンプルの作成に用いた銅試験片の模式図である。
【図20B】 図20Bは、実施例4Aでの接合焼成評価用サンプルの作成に用いたメタルマスクの模式図である。
【図20C】 図20Cは、実施例4Aでの接合焼成評価試験におけるホットプレスを説明した模式図である。
【図20D】 図20Dは、実施例4Aでの接合焼成評価試験の方法を説明した模式断面図である。
【図21】 図21は、実施例4Aでの接合焼成評価試験の結果を示す図である。
【図22】 図22は、実施例4Aでの接合焼成評価試験後の破断面を観察したSEM像である。
【図23】 図23は、実施例4Aでの接合時間が1分の場合のホットプレスでの温度プロファイルである。
【図24】 図24は、実施例4Aでの導電性評価結果を示す図である。
【図25】 図25は、実施例4Aでの導電性評価におけるペーストの焼成前後のXRDパターンである。
【図26】 図26は、実施例4Aでの導電性評価における焼成物のSEM像である。
【図27】 図27は、実施例9の反応過程でのXRDパターンである。
【図28】 図28は、実施例9の出発原料と24時間反応後の粒子のSEM像である。
【図29】 図29は、実施例9で得られた粒子のTEM像である。

代表図 図1本件の代表的な図

1、2 銅試験片 3 微酸化銅被覆銅微粒子を含むペースト 4 試験機の固定用治具

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