特許7923953IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

複合材料及びその製造方法に関する。より詳しくは、酸素還元触媒、半導体等として好適に用いることができる複合材料及びその製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、酸素還元性能に優れる新規な材料が望まれるところであった。なお、酸素還元性能に優れる新規な材料を開発し、そのバリエーションを増やすことは、材料の選択の幅を拡げることになり、大きな技術的意義がある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者らは、酸素還元性能に優れる材料を得る方法について種々検討し、酸化黒鉛と安価な炭素材料とを含む混合物中の酸化黒鉛に窒素原子を導入（ドープ）することで、酸素還元性能に優れる複合材料を好適に得ることができることを見出し、また、含窒素酸化黒鉛と、含窒素酸化黒鉛のシート上に存在する炭素材料とを含む複合材料が、その酸素還元性能が顕著なものとなることを見出し、課題をみごとに解決することができること・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の複合材料は、酸素還元性能に優れる。本発明の複合材料の製造方法は、酸素還元性能に優れる複合材料を好適に得ることができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 窒素ドープ処理を行う装置を示す写真である。
【図2】 本発明の複合材料を作製する工程を示す模式図である。
【図3】 本発明の複合材料の電子顕微鏡写真である。
【図4】 本発明の複合材料の電子顕微鏡写真である。
【図5】 本発明の複合材料の電子顕微鏡写真である。
【図6】 窒素ドープ還元型酸化黒鉛、窒素ドープケッチェンブラック、及び、本発明の複合材料それぞれの、回転電極による酸素還元反応活性を評価した結果を示すグラフである。
【図7】 窒素ドープ還元型酸化黒鉛、窒素ドープケッチェンブラック、及び、本発明の複合材料それぞれの、オンセット電位及び電位－０．１Ｖにおける電流密度を示す棒グラフである。
【図8】 窒素ドープ還元型酸化黒鉛、窒素ドープケッチェンブラック、及び、本発明の複合材料それぞれの、窒素ドープ量、オンセット電位、及び、電位－０．１Ｖにおける電流密度を示す棒グラフである。
【図9】 酸化黒鉛を水熱処理して窒素ドープ還元型酸化黒鉛を作製する工程を示す模式図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１：酸化黒鉛の水分散液 ２：炭素材料 ３：混合溶液 ４：混合物 １１：酸化グラフェン（不揮発分）１．４質量％の水溶液 １２：テフロン製の容器 １３：窒素ドープ還元型酸化黒鉛

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