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特許 7924393出願番号 特願 2024-520380
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
出願人 富士フイルム株式会社（識別番号 306037311）
2026年 特許公開件数ランキング 33位 461件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 11位 821件（※）
公報発行日 2026年9月24
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7924393 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
近年、ＥＵＶ又は電子線を用いて形成されるパターンの微細化が進められており、レジスト組成物の性能の更なる向上が求められている。特に、感度と解像性のトレードオフを脱却することが強く求められている。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明者らは、以下の構成により課題を解決できることを見出した。
＜１＞
（Ａ）酸の作用により極性が増大する樹脂、
活性光線又は放射線の照射により、ｐＫａが１．５以下の酸を発生する化合物（Ｂ）、及び
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、極微細（例えば、線幅２５ｎｍ以下のラインアンドスペースパターンや孔径２５ｎｍ以下のホールパターン等）のパターン形成において、感度及び解像性に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供できる。
また、本発明によれば、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いる感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供できる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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