特許7925459IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

半導体装置および半導体装置の製造方法

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1A】 半導体装置100の上面図の一例を示す。
【図1B】 半導体装置100の上面の拡大図の一例を示す。
【図1C】 図1Bにおけるa-a'断面の一例を示す。
【図2A】 半導体装置100の回路構成の一例を示す。
【図2B】 半導体装置100の回路構成の変形例を示す。
【図3A】 比較例の半導体装置に流れるコレクタ電流Ic'およびセンス電流Ise'の波形を示す。
【図3B】 半導体装置100に流れるコレクタ電流Icおよびセンス電流Iseの波形を示す。
【図4A】 電流センスパッド190およびゲートパッド150の周辺における上面の拡大図の一例を示す。
【図4B】 図4Aにおけるb-b'断面の一例を示す。
【図5A】 図4Aにおけるc-c'断面の一例を示す。
【図5B】 ダイオード素子部61の上面図の一例を示す。
【図5C】 抵抗部62の上面図の一例を示す。
【図6A】 図4Aにおけるd-d'断面の一例を示す。
【図6B】 図4Aにおけるe-e'断面の一例を示す。
【図7A】 抵抗調整部60を有する半導体装置100の製造方法の一例を示す。
【図7B】 抵抗調整部60を有する半導体装置100の製造方法の一例を示す。
【図8】 図4Aにおけるc-c'断面の変形例を示す。
【図9A】 図4Aにおけるc-c'断面の変形例を示す。
【図9B】 図4Aにおけるc-c'断面の変形例を示す。
【図10】 抵抗調整部60の上面図の一例を示す。
10・・・半導体基板、12・・・エミッタ領域、14・・・ベース領域、15・・・コンタクト領域、16・・・蓄積領域、17・・・ウェル領域、18・・・ドリフト領域、20・・・バッファ領域、21・・・おもて面、22・・・コレクタ領域、23・・・裏面、24・・・コレクタ電極、25・・・接続部、30・・・ダミートレンチ部、32・・・ダミー絶縁膜、34・・・ダミー導電部、38・・・層間絶縁膜、40・・・ゲートトレンチ部、41・・・延伸部分、42・・・ゲート絶縁膜、43・・・接続部分、44・・・ゲート導電部、52・・・エミッタ電極、53・・・コンタクトホール、54・・・コンタクトホール、55・・・コンタクトホール、56・・・コンタクトホール、57・・・コンタクトホール、60・・・抵抗調整部、61・・・ダイオード素子部、62・・・抵抗部、63・・・抵抗領域、64・・・抵抗調整絶縁膜、65・・・抵抗調整トレンチ部、70・・・トランジスタ部、71・・・メサ部、81・・・第1絶縁部、82・・・第2絶縁部、83・・・第3絶縁部、90・・・電流センス部、91・・・第1ポリシリコン層、92・・・第2ポリシリコン層、93・・・界面、100・・・半導体装置、102・・・端辺、104・・・活性部、106・・・外周部、110・・・おもて面側金属層、120・・・裏面側ライフタイム制御領域、130・・・アノードパッド、132・・・アノード配線、140・・・カソードパッド、142・・・カソード配線、150・・・ゲートパッド、152・・・ゲート金属配線、160・・・メイン調整部、161・・・メイン用オン側ダイオード、162・・・メイン用オフ側ダイオード、166・・・メイン用オン側抵抗、167・・・メイン用オフ側抵抗、171・・・第1コンタクト部、172・・・第2コンタクト部、173・・・第3コンタクト部、180・・・温度センス部、190・・・電流センスパッド、194・・・ゲート導電部、260・・・センス調整部、261・・・センス用オン側ダイオード、262・・・センス用オフ側ダイオード、266・・・センス用オン側抵抗、267・・・センス用オフ側抵抗、271・・・第1開口、272・・・第2開口、273・・・第3開口、361・・・カソード領域、362・・・アノード領域

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