特許7928457IP Force 特許公報全文掲載

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シリカガラス部材およびその製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ところで、製品ウエハの凹凸パターンは年々微細化が進んでおり、これに伴ってダミーウエハの表面積を更に向上させる必要が生じている。 凹凸パターンが形成されたダミーウエハにおいて、表面積を更に向上させるには、通常、凹凸のピッチを狭くする必要がある。ところが、ピッチが狭い凹凸を形成すると、凸部が細長い形状となるので、欠けが生じやすくなる場合がある。欠けは、パーティクルとなり、歩留り低下の原因となり得る。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、以下の［１］～［１０］に関する。 ［１］ 複数の気泡を有し、 前記複数の気泡の一部または全部は連通気泡であり、 Ｓ／Ｓ０が１．５以上である、シリカガラス部材。 Ｓ：前記シリカガラス部材から切り出した４０ｍｍ×８ｍｍ×０．５ｍｍのサンプルについてＢＥＴ法により求めた表面積 Ｓ０：前記サンプルの外形寸法に基づいて求めた幾何表面積 ［２］ 前記Ｓ／Ｓ０は４以上である、［１］に・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、表面積を向上させながらも、パーティクルの発生が抑制された、ダミーウエハを得ることができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図１は、一シリカガラス部材を表す図であり、図１の（Ａ）は部材の斜視図であり、図１の（Ｂ）は（Ａ）のＸ－Ｘ’矢視断面図である。
【図2】 図２は、一シリカガラス部材の上面のみを洗浄したと想定した場合の構造変化を示す図である。
【図3】 図３は、一シリカガラス部材の製造方法を示すフローチャートである。
【図4】 図４は、例１に係るシリカガラス部材の切断面を光学研磨して撮影した光学顕微鏡画像である。
【図5】 図５は、例３に係るシリカガラス部材の切断面を光学研磨して撮影した光学顕微鏡画像である。
【図6A】 図６Ａは、平均気泡径の算出方法を説明するための図であり、評価対象物の表面を光学研磨して得られたサンプルについて、ノイズ除去したＸ線ＣＴ画像である。
【図6B】 図６Ｂは、平均気泡径の算出方法を説明するための図であり、図６Ａを二値化処理した後の画像である。
【図6C】 図６Ｃは、平均気泡径の算出方法を説明するための図であり、図６ＢをＷａｔｅｒｓｈｅｄ分割化処理した後の画像である。

代表図 図1本件の代表的な図

１ シリカガラス部材 １０ シリカガラス部 １２ 気泡 １４ 非連通気泡 １６ 連通気泡 １８ ピット

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