【図1】
本発明の一実施形態による、処理方法の製造段階におけるナノシート・トランジスタを示す図である。
【図2】
図1のナノシート・トランジスタの断面側面図であり、同様の参照番号は、同様のフィーチャを指し、処理方法のその後の製造段階におけるものである。
【図3】
図1のナノシート・トランジスタの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は、同様のフィーチャを指し、処理方法のその後の製造段階におけるものである。
【図4】
図7の製造段階におけるナノシート・トランジスタの概略上面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指す。
【図5】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図6】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図7】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図8】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図9】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図10】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図11】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図12】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図13】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図14】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図15】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図16】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図17】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図18】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図19】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。
【図20】
図4に示す各位置におけるナノシート・トランジスタの4つの断面側面図であり、前の図の同様の参照番号は同様のフィーチャを指し、直前の図に続く処理方法の製造段階におけるものである。