【図1】
エアロゾル供給デバイス及びエアロゾル生成物品の概略断面図であり、エアロゾル供給デバイスは、複数の誘導コイルを備え、エアロゾル生成物品は、エアロゾル生成材料の複数の部分と、対応するサセプタ部分とを備える。
【図2】
エアロゾル生成物品と組み合わせたエアロゾル供給デバイスを示す図であり、エアロゾル生成物品は、エアロゾル生成材料の複数の部分を備え、エアロゾル供給デバイスは、単一の誘導加熱要素と、単一の誘導加熱要素に対してエアロゾル生成物品を回転させるための移動機構とを備える。
【図3A】
エアロゾル生成物品の平面図である。
【図3B】
エアロゾル生成物品の端面図であり、エアロゾル生成物品に埋め込まれた複数のサセプタを示している。
【図3C】
エアロゾル生成物品の側面図であり、エアロゾル生成物品に埋め込まれた複数のサセプタを示している。
【図4A】
吸い口を有するエアロゾル供給デバイスの上側蓋部を下側基部に固定するために摺動可能な留め具が使用されている、エアロゾル供給デバイスの斜視図である。
【図4B】
摺動可能な留め具が取り外された状態の斜視図である。
【図4C】
エアロゾル供給デバイスの蓋が開いており、エアロゾル供給デバイスにエアロゾル生成物品が挿入されている状態を示す斜視図である。
【図5】
様々な実施形態によるエアロゾル供給デバイスの一部を示す図であり、エアロゾルチャンバ及び吸い口は取り外されており、1つ又は複数の磁石がエアロゾル供給デバイスの上側蓋部内に配置されており、1つ又は複数の磁石は、エアロゾル供給デバイスの基部に配置された1つ又は複数のインダクタコイルによって放出される磁束を集中させるように、1つ又は複数の磁場成形要素又は磁束集中要素として機能する。
【図6】
エアロゾル供給デバイスを示す図であり、カード基材、アルミニウム箔サセプタ層及びエアロゾル生成材料層を備えるエアロゾル生成物品は、エアロゾル生成物品がインダクタコイルの上方及びエアロゾル供給デバイスの蓋部に配置された1つ又は複数の永久磁石の下方に配置されるように、エアロゾル供給デバイスの受け入れ領域内に配置され、1つ又は複数の永久磁石は、1つ又は複数のインダクタコイルによって生成された磁場を成形するように構成されている。
【図7】
最初の4秒間の較正期間中にアルミニウム箔サセプタ層の温度がどのように変化すると決定されたかを示す図であり、温度(TC)は、熱電対によって直接測定されており、誘導加熱要素の共振周波数を監視する制御システムによって決定される計算された温度(TCalc)は、比較目的のために示されており、図示する結果は、磁場を成形するためにアルミニウム箔サセプタの近傍に磁石を配置することなく得られている。
【図8】
最初の4秒間の較正期間中にアルミニウム箔サセプタ層の温度がどのように変化すると決定されたかを示す図であり、温度(TC)は、熱電対によって直接測定され、誘導加熱素子の共振周波数を監視する制御システムによって決定される計算された温度(TCalc)は、比較目的のために示されており、図示する結果は、永久磁石がアルミニウム箔サセプタ層の上方に配置された状態で得られており、磁石は、磁場成形要素又は磁束集中要素として機能していた。
【図9】
様々な実施形態による、磁場を成形する磁石が存在する場合の最大直接測定温度(TCMax)への到達時間が1.8秒(磁石が存在しない場合)から1.2秒にどのように短縮されたかを示す、アルミニウム箔サセプタ層の上に永久磁石を配置した場合と配置しなかった場合の両方で得られた試験データを要約した表である。
【図10】
様々な実施形態による、磁場を成形するために、磁石がアルミニウム箔サセプタ層の上方に配置されていない場合、及び永久磁石がアルミニウム箔サセプタ層の上方に配置されている場合の両方で、共振回路の決定された共振(したがって、アルミニウム箔サセプタ層の計算された温度)が時間に応じてどのように減少すると決定されたかを示す図である。
【図11】
エアロゾル供給デバイスに使用されたアルミニウム箔サセプタ層を備える試験エアロゾル生成物品を示し、アルミニウム箔サセプタ層に異なるサイズのブリスタがどのように形成されたかを示す図であり、ブリスタのサイズは、磁石がアルミニウム箔サセプタ層及び関連するインダクタ加熱要素の上方に位置するか否かに依存した。