特許 7930764出願番号特願 2022-121252
発光デバイスおよび受光デバイスの製造装置

出願人株式会社半導体エネルギー研究所（識別番号 153878）

2026年特許公開件数ランキング 10位 1,009件（※）

2026年特許取得件数ランキング 18位 764件（※）

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公報発行日　2026年10月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7930764　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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技術分野

本発明の一態様は、発光デバイスおよび受光デバイスの製造装置および製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

フルカラー表示が可能な有機ＥＬ表示装置では、白色発光デバイスとカラーフィルタとを組み合わせた構成と、ＲＧＢの発光デバイスをそれぞれ同一面上に形成する構成が知られている。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様は、発光デバイスおよび受光デバイスの製造装置

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様を用いることで、発光デバイスおよび受光デバイスが有する有機化合物膜の加工から封止までの工程を連続処理できる製造装置を提供することができる。または、発光デバイスおよび受光デバイスの形成から封止までの工程を連続処理できる製造装置を提供することができる。または、メタルマスクを用いずに発光デバイスおよび受光デバイスを形成することができる製造装置を提供することができる。または、発光デバイスおよび受光デバイスの製造方法を提供することができる。

なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から抽出することが可能である。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図１は、製造装置を説明する図である。

【図2】図２（Ａ）および図２（Ｂ）は、製造装置を説明する図である。

【図3】図３は、製造装置を説明する図である。

【図4】図４は、製造装置を説明する図である。

【図5】図５は、製造装置を説明するブロック図である。

【図6】図６（Ａ）および図６（Ｂ）は、製造装置を説明する図である。

【図7】図７（Ａ）および図７（Ｂ）は、製造装置を説明する図である。

【図8】図８は、製造装置を説明する図である。

【図9】図９は、製造装置を説明するブロック図である。

【図10】図１０（Ａ）および図１０（Ｂ）は、製造装置を説明する図である。

【図11】図１１（Ａ）および図１１（Ｂ）は、カセットの搬出入を説明する図である。図１１（Ｃ）は、搬送車および搬送容器を説明する図である。

【図12】図１２（Ａ）は、真空プロセス装置を説明する図である。図１２（Ｂ）は、真空プロセス装置への基板の搬入を説明する図である。

【図13】図１３（Ａ）乃至図１３（Ｃ）は、基板１枚あたりの表示装置の取り数の一例を示す図である。

【図14】図１４（Ａ）乃至図１４（Ｈ）は、真空プロセス装置を説明する図である。

【図15】図１５は、表示装置を説明する図である。

【図16】図１６（Ａ）乃至図１６（Ｃ）は、表示装置を説明する図である。

【図17】図１７（Ａ）乃至図１７（Ｅ）は、表示装置の作製方法を説明する図である。

【図18】図１８（Ａ）乃至図１８（Ｅ）は、表示装置の作製方法を説明する図である。

【図19】図１９（Ａ）乃至図１９（Ｅ）は、表示装置の作製方法を説明する図である。

【図20】図２０（Ａ）乃至図２０（Ｅ）は、表示装置の作製方法を説明する図である。

【図21】図２１（Ａ）乃至図２１（Ｅ）は、表示装置を説明する図である。

【図22】図２２は、製造装置を説明する図である。

【図23】図２３（Ａ）および図２３（Ｂ）は、ＡＬＤ装置で成膜したＡｌＯｘ膜の膜質を説明する図である。

【図24】図２４（Ａ）および図２４（Ｂ）は、ＡＬＤ装置で成膜したＡｌＯｘ膜の膜質を説明する図である。

代表図図1本件の代表的な図

Ａ常圧プロセス装置Ａ１常圧プロセス装置Ａ２常圧プロセス装置Ａ３常圧プロセス装置Ａ４常圧プロセス装置Ａ５常圧プロセス装置Ａ６常圧プロセス装置Ａ７常圧プロセス装置Ａ８常圧プロセス装置ＡＭ搬送装置ＡＭａ搬送装置ＡＭｂ搬送装置ＡＭｃ搬送装置ＡＭｄ搬送装置ＡＭｅ搬送装置ＡＭｆ搬送装置ＡＭｇ搬送装置ＡＭｈ搬送装置ＡＭｉ搬送装置ＡＭｊ搬送装置Ｂバッファ室Ｂ１バッファ室Ｂ２バッファ室Ｂａバッファ室Ｂｂバッファ室Ｂｃバッファ室Ｂｄバッファ室Ｂｅバッファ室Ｂｆバッファ室Ｃ１クラスタＣ２クラスタＣ３クラスタＣ４クラスタＣ５クラスタＣ６クラスタＣ７クラスタＣ８クラスタＣ９クラスタＣ１０クラスタＣ１１クラスタＣ１２クラスタＣ１３クラスタＣ１４クラスタＣ１５クラスタＣ１５ａクラスタＣ１５ｂクラスタＣ１５ｃクラスタＣ１５ｄクラスタＣ１５ｅクラスタＣ１５ｆクラスタＣ１５ｇクラスタＣ１５ｈクラスタＣ１６クラスタＣＮプラズマ処理装置ＣＳカセットＣＴ塗布装置Ｄ成膜装置Ｅａエッチング装置Ｅｂエッチング装置Ｅｃエッチング装置Ｅｄエッチング装置Ｅｆエッチング装置Ｅｇエッチング装置Ｅｈエッチング装置ＥＸＰａ露光装置ＥＸＰｂ露光装置ＨＴａベーク装置ＨＴｂベーク装置ＨＴｃベーク装置ＨＴｄベーク装置ＴＦトランスファー室ＴＦａトランスファー室ＴＦｂトランスファー室ＴＦｃトランスファー室ＴＦｄトランスファー室ＴＦｅトランスファー室ＴＦｆトランスファー室ＴＦｇトランスファー室ＴＦｈトランスファー室ＴＦｉトランスファー室ＴＦｊトランスファー室Ｖ真空プロセス装置Ｖ１真空プロセス装置Ｖ２真空プロセス装置Ｖ３真空プロセス装置Ｖ４真空プロセス装置Ｖ５真空プロセス装置Ｖ６真空プロセス装置Ｖ７真空プロセス装置Ｖ８真空プロセス装置Ｖ９真空プロセス装置Ｖ１０真空プロセス装置Ｖ１１真空プロセス装置ＬＤロード室ＵＬＤアンロード室Ｗ待機室１０製造装置２０ゲートバルブ３０成膜装置３１成膜材料供給部３２マスク治具３３基板アライメント部３５開口部５１基板ホルダー５２蒸着源５３シャッター５４排気口５５導入口５６下部電極５７ターゲット５８上部電極５９シャワー板６０被加工物６０ａ被加工物６０ｂ被加工物６１基板６２基板ホルダー６３基板ホルダー６４ヒータ６５ヒータ７１搬送装置１００表示装置１１０Ｂ発光デバイス１１０Ｇ発光デバイス１１０Ｒ発光デバイス１１０Ｓ受光デバイス１１１画素電極１１２Ｓ有機層１１２Ｓｆ有機膜１１２ＧＥＬ層１１２ＧｆＥＬ膜１１２ＲＥＬ層１１２ＲｆＥＬ膜１１２ＷＥＬ層１１３共通電極１１４Ｇ着色層１１４Ｒ着色層１１５トランジスタ１１６トランジスタ１１７トランジスタ１１８トランジスタ１２１保護層１２５Ｓ１保護層１２５Ｓ２保護層１２５Ｓｆ１保護膜１２５Ｓｆ２保護膜１２５Ｇ１保護層１２５Ｇ２保護層１２５Ｇｆ１保護膜１２５Ｇｆ２保護膜１２５Ｒ１保護層１２５Ｒ２保護層１２５Ｒｆ１保護膜１２５Ｒｆ２保護膜１２６バリア層１２６ｆバリア膜１２７絶縁層１４３ａレジストマスク１４３ｂレジストマスク１４３ｃレジストマスク２００移載装置２０１コントローラ２０２動力源２０３バッテリー２０４車輪２０５ガスボンベ２０６バルブ２０７バルブ２０８搬出入口２０９移載装置２１０導入口２１１排出口２５０フォトマスク

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特許 7930764出願番号 特願 2022-121252発光デバイスおよび受光デバイスの製造装置

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