特許 7933000出願番号特願 2023-523549
熱的に均一な堆積ステーション

出願人アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド（識別番号 390040660）

2026年特許公開件数ランキング 31位 537件（※）

2026年特許取得件数ランキング 45位 387件（※）

公報発行日　2026年10月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7933000　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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［０００１］本開示の概して、半導体製造装置及びプロセスに関する。具体的には、本開示の計量器を内蔵した大口径の無溶接リッドと共に使用するための処理ステーションを対象とする。

【図1】本開示の１又は複数の処理チャンバを示す断面等角図である。

【図2】本開示の１又は複数の処理チャンバを示す断面図である。

【図3】本開示の１又は複数の処理チャンバリッドを示す断面図である。

【図4】本開示の１又は複数のガス分配アセンブリを示す断面側面図である。

【図4A】図４の領域４Ａを示す拡大図である。

【図5】図３の領域５を示す分解部分断面図である。

【図6】本開示の１又は複数の処理プラットフォームを示す概略図である。

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