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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第23位 272件
(
2025年:第42位 577件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第63位 134件
(
2025年:第34位 567件)
(ランキング更新日:2026年5月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7855660 | 交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム | 2026年 5月 8日 | |
| 特許 7855713 | 処理機器に関連した合成時系列データ | 2026年 5月 8日 | |
| 特許 7853262 | 基板の温度制御のための方法及びシステム | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7853289 | 制御ゲート後退部のためのプロファイル整形 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7853298 | 不動態化されたナノ粒子を有するインプリント組成物及び材料、並びにこれらの製造方法 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7851318 | CDに依存する間隙充填及びコンフォーマル膜 | 2026年 4月24日 | |
| 特許 7850824 | 処理ツールの端部における集中コヒーレント制御のための広帯域アーキテクチャ | 2026年 4月23日 | |
| 特許 7850261 | フィーチャに酸化物層を形成するための二重加圧酸化法 | 2026年 4月22日 | |
| 特許 7849487 | 基板を処理するための方法及び装置 | 2026年 4月21日 | |
| 特許 7848404 | 画像解析による詰まり検出 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7847660 | プラズマ源のイオンフラックス分布を制御するプラズマシェーパ | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7846951 | 原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属酸化物コーティング | 2026年 4月16日 | |
| 特許 7847183 | 電圧パルスの時間領域多重化 | 2026年 4月16日 | |
| 特許 7846757 | ウエハの平面不均一性を低減するための底部カバープレート | 2026年 4月15日 | |
| 特許 7846104 | ペデスタル近傍のプラズマチャンバの周囲の磁気材料シールド | 2026年 4月14日 |
134 件中 1-15 件を表示
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7855660 7855713 7853262 7853289 7853298 7851318 7850824 7850261 7849487 7848404 7847660 7846951 7847183 7846757 7846104
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