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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第22位 134件
(
2025年:第42位 577件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第41位 90件
(
2025年:第34位 567件)
(ランキング更新日:2026年3月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7822323 | リソグラフィ用途におけるフォトレジスト層への炭素の選択的堆積 | 2026年 3月 2日 | |
| 特許 7822358 | 折り畳み式ディスプレイ用の可撓性多層カバーレンズ積層体 | 2026年 3月 2日 | |
| 特許 7822453 | 光学センサを用いた化学機械研磨振動測定 | 2026年 3月 2日 | |
| 特許 7822472 | 二官能性自己組織化単分子膜を用いた金属表面の選択的ブロッキング | 2026年 3月 2日 | |
| 特許 7821828 | 回転パドルを有する固定チャンバ内で粒子をコーティングするためのリアクタ | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7821843 | 酸化物又は酸窒化物シード層を有する高臨界温度金属窒化物層 | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7821276 | レインボーなし導波路コンバイナ | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7820366 | 静電チャック用電源信号の調整 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7820408 | センサのためのパッケージング、およびセンサのための当該パッケージングの製造方法 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7820526 | 壁再結合を使用するプラズマ処理のための均一性制御 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7819184 | 誘電性シーズニング膜を用いた静電チャックのシーズニングシステム及び方法 | 2026年 2月24日 | |
| 特許 7819196 | 低誘電率の炭窒化ホウ素膜 | 2026年 2月24日 | |
| 特許 7819202 | プロセスのハイブリッド物理学/機械学習モデリング | 2026年 2月24日 | |
| 特許 7818399 | アーク放電を低減させた物理的気相堆積(PVD)チャンバ | 2026年 2月20日 | |
| 特許 7818612 | 高速ガス交換装置、システム、及び方法 | 2026年 2月20日 |
90 件中 1-15 件を表示
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7822323 7822358 7822453 7822472 7821828 7821843 7821276 7820366 7820408 7820526 7819184 7819196 7819202 7818399 7818612
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