ホーム > 特許ランキング > アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド > 2025年の特許
※ ログインすれば出願人(アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2025年 出願公開件数ランキング 第56位 93件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第29位 135件
(2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2025年3月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7645659 | 炭素系膜の気相堆積 | 2025年 3月14日 | |
特許 7645882 | 水平ゲートオールアラウンド(hGAA)ナノワイヤ及びナノスラブトランジスタ | 2025年 3月14日 | |
特許 7645992 | デバイス製造マシンのための統合型光学センサコントローラ | 2025年 3月14日 | |
特許 7646006 | 半導体製造前駆体のためのアンプル | 2025年 3月14日 | |
特許 7646078 | 処理チャンバ用の加熱リッド | 2025年 3月14日 | |
特許 7645282 | 静電クランプシステムおよび方法 | 2025年 3月13日 | |
特許 7644061 | 薄膜による均一な粒子コーティングのための回転リアクタ | 2025年 3月11日 | |
特許 7644142 | 高屈折率ナノインプリントリソグラフィフィルムの屈折率を増加させるための方法 | 2025年 3月11日 | |
特許 7644176 | 非接触洗浄モジュール | 2025年 3月11日 | |
特許 7642557 | フォトレジストプロファイルを修正し、限界寸法を調整するための方法 | 2025年 3月10日 | |
特許 7642732 | 半導体デバイスのための相互接続構造を製造するための方法 | 2025年 3月10日 | |
特許 7641916 | CMP構成要素の予熱又は洗浄のための水蒸気の使用 | 2025年 3月 7日 | |
特許 7641988 | 半導体処理システム用の可撓性構成要素 | 2025年 3月 7日 | |
特許 7642044 | 薄膜トランジスタを形成する方法 | 2025年 3月 7日 | |
特許 7642058 | 回折光学素子のための二次元ウェッジ及び局所的封入層を作製する方法 | 2025年 3月 7日 |
135 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7645659 7645882 7645992 7646006 7646078 7645282 7644061 7644142 7644176 7642557 7642732 7641916 7641988 7642044 7642058
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。
3月18日(火) -
3月18日(火) - 東京 港区
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月21日(金) -
3月21日(金) -
3月21日(金) - 石川 金沢市
3月18日(火) -
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
千葉県船橋市本町6-2-10 ダイアパレスステーションプラザ315 特許・実用新案 商標 外国商標 コンサルティング
〒152-0034 東京都目黒区緑が丘一丁目16番7号 意匠 商標 外国商標 訴訟 コンサルティング