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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第42位 486件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第34位 483件
(2024年:第47位 555件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7755587 | 基板処理システムのためのイーサキャット液体流量コントローラ通信 | 2025年10月16日 | |
特許 7755601 | 窒素ドープされた炭素ハードマスクフィルム | 2025年10月16日 | |
特許 7755013 | 熱処理チャンバのエッジリング距離を測定する装置、システム、及び方法 | 2025年10月15日 | |
特許 7755044 | 底部誘電体絶縁層を形成する方法 | 2025年10月15日 | |
特許 7755048 | 基板の熱処理を補正するためのシステム、方法及び装置 | 2025年10月15日 | |
特許 7753315 | プロセスキットリング摩耗の検出器 | 2025年10月14日 | |
特許 7753393 | フォトレジスト中に金属酸化物を浸潤させる方法 | 2025年10月14日 | |
特許 7752663 | 洗浄および表面処理のための原子状酸素およびオゾン装置 | 2025年10月10日 | |
特許 7752764 | イオン源ガス注入によるビーム整形 | 2025年10月10日 | |
特許 7752249 | 処理チャンバの較正 | 2025年10月 9日 | |
特許 7751619 | ファクトリインターフェース設置面積スペース中にロードロックを組み込むためのシステムおよび方法 | 2025年10月 8日 | |
特許 7751737 | 電荷トラップ層を備えた支持基板を準備するためのプロセス | 2025年10月 8日 | |
特許 7751740 | プラズマリアクタ内の電極上のイオンエネルギー制御 | 2025年10月 8日 | |
特許 7750856 | 基板の両側から孔を形成する方法 | 2025年10月 7日 | |
特許 7750945 | 高温双極静電チャック | 2025年10月 7日 |
484 件中 1-15 件を表示
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7755587 7755601 7755013 7755044 7755048 7753315 7753393 7752663 7752764 7752249 7751619 7751737 7751740 7750856 7750945
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10月16日(木) -
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10月17日(金) -
10月16日(木) - 大阪 大阪市
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10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) -
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10月21日(火) -
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10月22日(水) - 栃木 宇都宮市
10月23日(木) - 東京 港区
10月23日(木) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
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