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特許 7933225出願番号 特願 2025-520895
等方的な窒化ケイ素の除去
出願人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド（識別番号 390040660）
2026年 特許公開件数ランキング 31位 537件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 45位 387件（※）
公報発行日 2026年10月9
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7933225 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
関連出願の相互参照
本出願は、参照することによってその全体が本願に援用される、２０２２年１０月１１日出願の「ＩＳＯＴＲＯＰＩＣ ＳＩＬＩＣＯＮ ＮＩＴＲＩＤＥ ＲＥＭＯＶＡＬ」と題された米国特許出願第１７／９６３，６８７号の利益及び優先権を主張する。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本技術の幾つかの実施形態による例示的な処理システムの一実施形態の上面図
【図2A】
本技術の幾つかの実施形態による例示的な処理チャンバの概略的な断面図
【図2B】
本技術の幾つかの実施形態による図２Ａに示される処理チャンバの一部の詳細図
【図3】
本技術の幾つかの実施形態による例示的なシャワーヘッドの底面図
【図4】
本技術の幾つかの実施形態による方法の例示的な工程を示す図
【図5A】
本技術の幾つかの実施形態に従って処理された基板の断面図
【図5B】
本技術の幾つかの実施形態に従って処理された基板の断面図
【図5C】
本技術の幾つかの実施形態に従って処理された基板の断面図
代表図 図1本件の代表的な図
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