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特許 7933253出願番号 特願 2025-558799
表面純度が上がったシリコンとゲルマニウムとを含有する材料の選択的エッチング
出願人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド（識別番号 390040660）
2026年 特許公開件数ランキング 31位 537件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 45位 387件（※）
公報発行日 2026年10月9
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7933253 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
関連出願の相互参照
［０００１］本出願は、２０２３年９月２９日に出願された「ＳＥＬＥＣＴＩＶＥ ＥＴＣＨＩＮＧ ＯＦ ＳＩＬＩＣＯＮ－ＡＮＤ－ＧＥＲＭＡＮＩＵＭ－ＣＯＮＴＡＩＮＩＮＧ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＷＩＴＨ ＩＮＣＲＥＡＳＥＤ ＳＵＲＦＡＣＥ ＰＵＲＩＴＩＥＳ」と題する米国特許出願第１８／３７５，２０７号の利益及び優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本技術の実施形態による、例示的な処理システムの一実施形態の上面図を示す。
【図2A】
本技術の実施形態による、例示的な処理チャンバの概略断面図を示す。
【図2B】
本技術の実施形態による、図２Ａに示す処理チャンバの一部の詳細図を示す。
【図3】
本技術の実施形態による、例示的なシャワーヘッドの底面図を示す。
【図4】
本技術の実施形態による方法の例示的な工程を示す。
【図5A-5D】
本技術の実施形態による、処理されている基板の断面図を示す。
代表図 図1本件の代表的な図
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