特表 2022-503370 表示基板マザーボード及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2022-01-12

(54)【発明の名称】表示基板マザーボード及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   H05K 3/00 20060101AFI20220104BHJP

【ＦＩ】

H05K3/00 P

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2020564869

(86)(22)【出願日】2019-08-30

(85)【翻訳文提出日】2020-11-19

(86)【国際出願番号】 CN2019103715

(87)【国際公開番号】W WO2020088082

(87)【国際公開日】2020-05-07

(31)【優先権主張番号】201811279971.9

(32)【優先日】2018-10-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】510280589

【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ

(71)【出願人】

【識別番号】511121702

【氏名又は名称】成都京東方光電科技有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＣＨＥＮＧＤＵ ＢＯＥ ＯＰＴＯＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１１８８，Ｈｅｚｕｏ Ｒｄ．，（Ｗｅｓｔ Ｚｏｎｅ），Ｈｉ－ｔｅｃｈ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｚｏｎｅ，Ｃｈｅｎｇｄｕ，Ｓｉｃｈｕａｎ，６１１７３１，Ｐ．Ｒ．ＣＨＩＮＡ

(74)【代理人】

【識別番号】100133514

【弁理士】

【氏名又は名称】寺山 啓進

(74)【代理人】

【識別番号】100070024

【弁理士】

【氏名又は名称】松永 宣行

(74)【代理人】

【識別番号】100195257

【弁理士】

【氏名又は名称】大渕 一志

(72)【発明者】

【氏名】杜 麗麗

(72)【発明者】

【氏名】龍 躍

(72)【発明者】

【氏名】周 宏軍

(72)【発明者】

【氏名】宋 二龍

(72)【発明者】

【氏名】曾 超

(57)【要約】

本開示は、表示の技術分野に関し、表示基板マザーボード及びその製造方法を開示する。本開示の実施例に係る技術手段は、表示基板マザーボード上のマークパターンを、小面積のアイランド型のフィルムパターンではなく、フィルムに形成されたビアホールとして設定することにより、マークパターンの脱落の可能性を解消し、製品の信頼性及び歩留まり率をさらに保証する。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

それぞれの周辺にマーク領域を有する少なくとも２つの表示パネル領域を含むサブストレートを含む表示基板マザーボードの製造方法であって、
前記マーク領域に第１のフィルムを形成することと、
前記第１のフィルムをパターニングすることにより、複数のマークパターンを形成することと、を含み、
前記マークパターンは、前記第１のフィルムに形成されたビアホールである、表示基板マザーボードの製造方法。

【請求項2】

前記サブストレートの表示パネル領域に第２のフィルムを形成することと、
前記第２のフィルムをパターニングすることにより、前記第２のフィルムのパターンを形成することと、をさらに含み、
前記マーク領域に第１のフィルムを形成し、前記サブストレートの表示パネル領域に第２のフィルムを形成することは、
同一の材料を用いて１回の成膜プロセスにより前記第１のフィルム及び第２のフィルムを同時に形成することを含む、請求項１に記載の製造方法。

【請求項3】

前記第１のフィルム及び第２のフィルムをパターニングするステップは、
マスクプレートを利用して１回のパターニングプロセスを用いて前記表示パネル領域の第２のフィルム及び対応するマーク領域の第１のフィルムを同時にパターニングして、前記第２のフィルムのパターンと前記第１のフィルム上に位置するマークパターンとを形成し、該マスクプレートを利用して全ての表示パネル領域の第２のフィルムと、対応するマーク領域の第１のフィルムとを順にパターニングすることを含み、
形成された前記マークパターンは、前記表示パネル領域の一側に位置する少なくとも１つの第１のマークパターンと、対向する他側に位置する少なくとも１つの第２のマークパターンとを含み、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域は、第１のマークパターン及び第２のマークパターンを有して、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得する、請求項２に記載の製造方法。

【請求項4】

前記表示基板マザーボードは、有機電界発光の表示基板マザーボードであり、
前記第２のフィルムをパターニングすることにより前記第２のフィルムのパターンを形成することは、
前記第２のフィルムをパターニングして、前記有機電界発光の表示基板マザーボードの平坦層又は画素定義層を形成することを含む、請求項２又は３に記載の製造方法。

【請求項5】

前記表示基板マザーボードは、液晶表示基板マザーボードであり、
前記第２のフィルムをパターニングすることにより前記第２のフィルムのパターンを形成することは、
前記第２のフィルムをパターニングして、前記液晶表示基板マザーボードの平坦層を形成することを含む、請求項２又は３に記載の製造方法。

【請求項6】

前記第１のフィルム及び第２のフィルムの材料は、フォトレジストである、請求項２～５のいずれか１項に記載の製造方法。

【請求項7】

前記第２のフィルムをパターニングすることにより前記第２のフィルムのパターンを形成することは、
前記サブストレートの少なくとも１つの表示パネル領域における第２のフィルムをパターニングする場合、前記マークパターンによりマスクプレートと表示パネル領域とを位置合わせし、前記マスクプレートを利用して前記第２のフィルムをパターニングすることを含む、請求項２～６のいずれか１項に記載の製造方法。

【請求項8】

それぞれの周辺にマーク領域を有する少なくとも２つの表示パネル領域を含むサブストレートと、
前記マーク領域に位置する第１のフィルムとを含み、前記第１のフィルムは、前記第１のフィルムに形成されたビアホールである複数のマークパターンを含む、表示基板マザーボード。

【請求項9】

前記サブストレート上に設けられ、前記表示パネル領域に位置する第２のフィルムをさらに含む、請求項８に記載の表示基板マザーボード。

【請求項10】

前記第１のフィルムと前記第２のフィルムは、同一のフィルムである、請求項９に記載の表示基板マザーボード。

【請求項11】

前記マークパターンは、前記表示パネル領域の一側に位置する少なくとも１つの第１のマークパターンと、対向する他側に位置する少なくとも１つの第２のマークパターンとを含み、隣接する２つの表示パネル領域の間には、第１のマークパターン及び第２のマークパターンを有して、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第１のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することができる、請求項９又は１０に記載の表示基板マザーボード。

【請求項12】

前記表示パネル領域の周辺に位置する第１のマークパターンと、位置が対応する第２のマークパターンは、前記サブストレートの側面上の垂直投影線分が少なくとも部分的に重なり、かつ、位置が対応する第１のマークパターンの中心と第２のマークパターンの中心との第１の結び線が実質的に第１の方向に沿って延び、
前記サブストレートは、第１の方向に隣接する２つの表示パネル領域を含み、該２つの表示パネル領域の中心の第２の結び線は、前記第１の結び線と平行であり、該２つの表示パネル領域の中心の間の距離は、表示パネル領域の対向する両側に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターンの中心と第２のマークパターンの中心との間の距離と実質的に同じであり、前記設定距離はゼロである、請求項１１に記載の表示基板マザーボード。

【請求項13】

前記表示パネル領域の対向する両側に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンは、該表示パネル領域の前記第１の結び線に垂直な中心軸に対して実質的に対称に分布する、請求項１２に記載の表示基板マザーボード。

【請求項14】

前記第１のマークパターン及び第２のマークパターンは、形状及び孔径寸法が実質的に同じである、請求項１３に記載の表示基板マザーボード。

【請求項15】

前記サブストレートは、実質的にマトリクス状に分布する少なくとも４つの表示パネル領域を含む、請求項１３に記載の表示基板マザーボード。

【請求項16】

前記表示基板マザーボードは、有機電界発光の表示基板マザーボードであり、
前記第２のフィルムは、前記有機電界発光の表示基板マザーボードの平坦層又は画素定義層である、請求項９～１５のいずれか１項に記載の表示基板マザーボード。

【請求項17】

前記表示基板マザーボードは、液晶表示基板マザーボードであり、
前記第２のフィルムは、前記液晶表示基板マザーボードの平坦層である、請求項９～１５のいずれか１項に記載の表示基板マザーボード。

【請求項18】

前記マークパターンは、規則的な形状を有するビアホールである、請求項８～１７のいずれか１項に記載の表示基板マザーボード。

【請求項19】

前記ビアホールは、矩形孔、十字形孔、三角形孔の少なくとも１つを含む、請求項１８に記載の表示基板マザーボード。

【請求項20】

前記マークパターンは、不規則的な形状を有するビアホールである、請求項８～１７のいずれか１項に記載の表示基板マザーボード。

【請求項21】

隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することを含む、請求項３～７のいずれか１項に記載の表示基板マザーボードの製造過程における露光ズレ量を取得する方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
本願は、２０１８年１０月３０日に提出された中国特許出願第２０１８１１２７９９７１．９号の優先権を主張するものであり、その全ての内容は参照により本願に組み込まれるものとする。

【0002】

本開示は、表示の技術分野に関し、特に、表示基板マザーボード及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0003】

表示基板の製造ラインは、一枚の表示基板マザーボードに複数の表示基板を製造することであり、即ち、一枚の基板は、複数の表示パネル領域を含み、各表示パネル領域には、表示基板の全ての機能フィルムパターンが設けられている。全ての表示基板の製造が完了した後、切断プロセスにより複数の独立した表示基板に切断する。表示基板マザーボードの製造過程において、表示パネル領域の周辺にいくつかのマークパターンを製造する必要があり、位置合わせ、露光ズレ量の取得などに用いられる。従来のマークパターンは、小面積のフィルムパターンであり、小面積のマークパターンが非常に脱落しやすく、基板の表示パネル領域に洗い流されれば、製品の性能に影響を与え、ひいては製品が正常に作動できなくなる。

【発明の概要】

【0004】

第１の態様では、本開示の実施例に係る、それぞれの周辺にマーク領域を有する少なくとも２つの表示パネル領域を含むサブストレートを含む表示基板マザーボードの製造方法は、前記マーク領域に第１のフィルムを形成することと、前記第１のフィルムをパターニングすることにより、複数のマークパターンを形成することと、を含む。前記マークパターンは、前記第１のフィルムに形成されたビアホールである。

【0005】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記製造方法は、前記サブストレートの表示パネル領域に第２のフィルムを形成することと、前記第２のフィルムをパターニングすることにより、前記第２のフィルムのパターンを形成することと、をさらに含み、前記マーク領域に第１のフィルムを形成し、前記サブストレートの表示パネル領域に第２のフィルムを形成することは、同一の材料を用いて１回の成膜プロセスにより前記第１のフィルム及び第２のフィルムを同時に形成することを含む。

【0006】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記第１のフィルム及び第２のフィルムをパターニングするステップは、マスクプレートを利用して１回のパターニングプロセスを用いて前記表示パネル領域の第２のフィルム及び対応するマーク領域の第１のフィルムを同時にパターニングして、前記第２のフィルムのパターンと前記第１のフィルム上に位置するマークパターンとを形成し、該マスクプレートを利用して全ての表示パネル領域の第２のフィルムと、対応するマーク領域の第１のフィルムとを順にパターニングすることを含み、形成された前記マークパターンは、前記表示パネル領域の一側に位置する少なくとも１つの第１のマークパターンと、対向する他側に位置する少なくとも１つの第２のマークパターンとを含み、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域は、第１のマークパターン及び第２のマークパターンを有して、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得する。

【0007】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示基板マザーボードは、有機電界発光の表示基板マザーボードであり、前記第２のフィルムをパターニングすることにより前記第２のフィルムのパターンを形成することは、前記第２のフィルムをパターニングして、前記有機電界発光の表示基板マザーボードの平坦層又は画素定義層を形成することを含む。

【0008】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示基板マザーボードは、液晶表示基板マザーボードであり、前記第２のフィルムをパターニングすることにより前記第２のフィルムのパターンを形成することは、前記第２のフィルムをパターニングして、前記液晶表示基板マザーボードの平坦層を形成することを含む。

【0009】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記第１のフィルム及び第２のフィルムの材料は、フォトレジストである。

【0010】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記第２のフィルムをパターニングすることにより前記第２のフィルムのパターンを形成することは、前記サブストレートの少なくとも１つの表示パネル領域における第２のフィルムをパターニングする場合、前記マークパターンによりマスクプレートと表示パネル領域とを位置合わせし、前記マスクプレートを利用して前記第２のフィルムをパターニングすることを含む。

【0011】

第２の態様では、本開示の実施例に係る表示基板マザーボードは、それぞれの周辺にマーク領域を有する少なくとも２つの表示パネル領域を含むサブストレートと、前記マーク領域に位置する第１のフィルムとを含み、前記第１のフィルムは、前記第１のフィルムに形成されたビアホールである複数のマークパターンを含む。

【0012】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示基板マザーボードは、前記サブストレート上に設けられ、前記表示パネル領域に位置する第２のフィルムをさらに含む。

【0013】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記第１のフィルムと前記第２のフィルムは、同一のフィルムである。

【0014】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記マークパターンは、前記表示パネル領域の一側に位置する少なくとも１つの第１のマークパターンと、対向する他側に位置する少なくとも１つの第２のマークパターンとを含み、隣接する２つの表示パネル領域の間には、第１のマークパターン及び第２のマークパターンを有して、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第１のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することができる。

【0015】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示パネル領域の周辺に位置する第１のマークパターンと、位置が対応する第２のマークパターンは、前記サブストレートの側面上の垂直投影線分が少なくとも部分的に重なり、かつ、位置が対応する第１のマークパターンの中心と第２のマークパターンの中心との第１の結び線が実質的に第１の方向に沿って延び、前記サブストレートは、第１の方向に隣接する２つの表示パネル領域を含み、該２つの表示パネル領域の中心の第２の結び線は、前記第１の結び線と平行であり、該２つの表示パネル領域の中心の間の距離は、表示パネル領域の対向する両側に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターンの中心と第２のマークパターンの中心との間の距離と実質的に同じであり、前記設定距離はゼロである。

【0016】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示パネル領域の対向する両側に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンは、該表示パネル領域の前記第１の結び線に垂直な中心軸に対して実質的に対称に分布する。

【0017】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記第１のマークパターン及び第２のマークパターンは、形状及び孔径寸法が実質的に同じである。

【0018】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記サブストレートは、実質的にマトリクス状に分布する少なくとも４つの表示パネル領域を含む。

【0019】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示基板マザーボードは、有機電界発光の表示基板マザーボードであり、前記第２のフィルムは、前記有機電界発光の表示基板マザーボードの平坦層又は画素定義層である。

【0020】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記表示基板マザーボードは、液晶表示基板マザーボードであり、前記第２のフィルムは、前記液晶表示基板マザーボードの平坦層である。

【0021】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記マークパターンは、規則的な形状を有するビアホールである。

【0022】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記ビアホールは、矩形孔、十字形孔、三角形孔の少なくとも１つを含む。

【0023】

本開示のいくつかの実施可能な実施例によれば、前記マークパターンは、不規則的な形状を有するビアホールである。

【0024】

第３の態様では、本開示の実施例に係る、第１の態様に記載の表示基板マザーボードの製造過程における露光ズレ量を取得する方法は、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することを含む。

【0025】

本開示の実施例又は従来技術における技術手段をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来技術の説明に必要な図面を簡単に説明し、明らかに、以下に説明される図面は、本開示のいくつかの実施例に過ぎず、当業者であれば、創造的な労働をしない前提で、これらの図面に基づいて他の図面を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】従来技術における基板上の隣接する２つの表示パネル領域の露光ズレ量を取得するためのマークパターンの製造過程を示す図である。

【図2】従来技術における基板上の隣接する２つの表示パネル領域の露光ズレ量を取得するためのマークパターンの製造過程を示す図である。

【図3】図２における隣接する２つの表示パネル領域の間に位置するマークパターンの形成原理を示す図である。

【図4】従来技術における基板上の隣接する２つの表示パネル領域の露光ズレ量を取得するためのマークパターンの脱落を示す概略図である。

【図5】本開示の実施例における基板上の隣接する２つの表示パネル領域の露光ズレ量を取得するためのマークパターンの製造過程を示す図である。

【図6】本開示の実施例における隣接する２つの表示パネル領域に露光ズレ量がない場合の基板の概略構成図である。

【図7】本開示の実施例における基板上の隣接する２つの表示パネル領域の露光ズレ量を取得するためのマークパターンの製造過程を示す図である。

【図8】図７における隣接する２つの表示パネル領域の間に位置するマークパターンの形成原理を示す図である。

【図9】本開示の実施例における基板の異なる概略構成図である。

【図10】本開示の実施例における基板の異なる概略構成図である。

【図11】本開示の実施例における基板の異なる概略構成図である。

【図12】本開示の実施例における基板の異なる概略構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

表示基板の製造ラインは、一枚の表示基板マザーボードに複数の表示基板を製造することであり、即ち、一枚の基板は、複数の表示パネル領域を含み、各表示パネル領域には、表示基板の全ての機能フィルムパターンが設けられている。全ての表示基板の製造が完了した後、切断プロセスにより複数の独立した表示基板に切断する。表示基板マザーボードの製造過程において、表示パネル領域の周辺にいくつかのマークパターンを製造する必要があり、位置合わせ、露光ズレ量の取得などに用いられる。従来のマークパターンは、小面積のフィルムパターンであり、その形状は、十字形、環形、正方形などであってよい。小面積のマークパターンが非常に脱落しやすく、基板の表示パネル領域に洗い流されれば、製品の性能に影響を与え、ひいては製品が正常に作動できなくなる。

【0028】

具体的には、小サイズの表示基板マザーボードの製造過程において、一枚の基板に複数の表示基板マザーボードを製造し、製造が完了した後、切断プロセスにより複数の独立した表示基板マザーボードに切断する。マスクプレートのサイズが基板のサイズよりも小さいため、一枚の基板を複数回に分けて露光する必要があり、マスクプレートを１回露光することは１回のｓｈｏｔと呼ばれ、同一の基板において２回のｓｈｏｔの露光ズレ量を判断するのはＳｔｉｔｃｈ Ｍａｒｋであり、Ｓｔｉｔｃｈ Ｍａｒｋの基板／マスクプレートでの分布及びｓｈｏｔとｓｈｏｔとの間の露光関係は、以下のとおりである。

【0029】

前記マスクプレートの周囲にそれぞれ６組のＳｔｉｔｃｈ Ｍａｒｋが分布されており、図１及び図２に示すように、マスクプレートの上枠及び左枠のＳｔｉｔｃｈ Ｍａｒｋは、基板１００’の１つの表示パネル領域２００’（各表示パネル領域２００’が１つの表示基板マザーボードを形成する）の周辺の平坦層／画素定義層１０’に、図１の左上方に示すような大環形の第１のマークパターン１’を露光し、マスクプレートの下枠及び右枠のＳｔｉｔｃｈ Ｍａｒｋは、基板１００’の１つの表示パネル領域２００’の周辺の平坦層／画素定義層１０’に、図１の左下方に示すような小正方形の第２のマークパターン２’を露光し、図３に示すように、２回のｓｈｏｔが重なることにより、隣接する２つの表示パネル領域２００’に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１’及び第２のマークパターン２’が小環形の第３のマークパターン３’になるように組み合わせる。

【0030】

２回のｓｈｏｔのズレ量を取得する具体的な原理は、以下のとおりである。図３に示すように、隣接する２つの表示パネル領域２００’の間、平坦層／画素定義層１０’上のＳｔｉｔｃｈ Ｍａｒｋは、前回ｓｈｏｔにより、形状が図３に示すような小正方形の第２のマークパターン２’（例えば、１５ｕｍ）を得ることができ、次回ｓｈｏｔにより、形状が図３に示すような大環形の第１のマークパターン１’（例えば、内径：７．５ｕｍ、外径：２０ｕｍ）を得ることができ、小正方形と大環形の位置が対応する場合、最終的に形成される小環形（例えば、内径：７．５ｕｍ、外径：１５ｕｍ）を利用して、小環形孔の水平孔径ｄ’を測定ことにより、２回ｓｈｏｔのズレ量を判断することができる。２回ｓｈｏｔのズレ量がゼロである場合、ｄ＝１５－７．５＝７．５ｕｍである。

【0031】

しかし、図４に示すように、平坦層／画素定義層は、自体の材質のため、小面積のアイランド型（環形、小正方形）が存在する場合に非常に脱落しやすく、脱落後に洗い流し液によりバックプレート回路又は発光画素領域に洗い流されれば、発光に影響を与え、ひいては製品の歩留まり率に影響を与える。

【0032】

上記技術的課題を解決するために、本願に係る、それぞれの周辺にマーク領域を有する少なくとも２つの表示パネル領域を含むサブストレートを含む表示基板マザーボードの製造方法は、
サブストレートの前記マーク領域に第１のフィルムを形成することと、
前記第１のフィルムをパターニングすることにより、複数のマークパターンを形成することと、を含み、
前記マークパターンは、前記第１のフィルムに形成されたビアホールである。

【0033】

上記製造方法により製造された表示基板マザーボードのマークパターンは、小面積のアイランド型のフィルムパターンではなく、フィルムに形成されたビアホールであることにより、マークパターンの脱落の可能性を解消し、製品の信頼性及び歩留まり率をさらに保証する。

【0034】

それに応じて、本開示に係る前記製造方法により製造された表示基板マザーボードは、前記マーク領域に位置する第１のフィルムを含み、前記第１のフィルムは、前記第１のフィルムに形成されたビアホールであるサブストレート上の複数のマークパターンを含む。

【0035】

以下、図面及び実施例を参照しながら、本開示の具体的な実施形態をさらに詳細に説明する。以下の実施例は、本開示を説明するものであるが、本開示の範囲を限定するものではない。

【0036】

表示基板マザーボードのサイズが大きく、露光精度及びコストにより制限され、前記表示基板マザーボード上のフィルムを露光するためのマスクプレートのサイズが小さいため、一枚の表示基板マザーボード上の複数の表示パネル領域は、マスクプレートを用いて複数回の露光プロセスを行ってこそ、同じ機能フィルムパターンの製造を完了することができる。前記表示基板マザーボードが液晶表示基板マザーボードであることを例として、前記同じ機能フィルムパターンは、全ての表示パネル領域の画素電極、フィルムトランジスタのゲート電極、ソース電極又はドレイン電極などである。

【0037】

隣接する２つの表示パネル領域に対する前後２回の露光プロセスのズレ量を取得するために、表示パネル領域の周辺にマークパターンを製造し、該マークパターンにより２回の露光のズレ量を取得する。

【0038】

本実施例では、一枚のマスクプレートで１回に１つの表示パネル領域のフィルムのみを露光することを例として本開示の技術手段を具体的に説明する。本開示の技術手段を例示して説明するためのものに過ぎず、本開示の技術手段は、一枚のマスクプレートが１回に少なくとも２つの隣接する表示パネル領域のフィルムを露光する場合にも適用可能であり、この場合、該少なくとも２つの隣接する表示パネル領域を面積がより大きい表示パネル領域とみなすだけでよく、一枚のマスクプレートが１回に１つの表示パネル領域のフィルムのみを露光する技術手段と同じ又は類似し、説明を省略する。

【0039】

なお、本実施例における前後２回の露光とは、隣接する２つの表示パネル領域に同じ機能フィルムパターンを製造する場合の２回の露光プロセスを指す。

【0040】

以下の内容における表示パネル領域をパターニングすることは、いずれも表示パネル領域内のフィルムをパターニングすることであり、前記パターニングプロセスは、マスクプレートを利用して表示パネル領域内のフィルムをパターニングすることを含む。

【0041】

図５及び図７を参照すると、本実施例における表示基板マザーボードは、それぞれの周辺にマーク領域２０１を有する少なくとも２つの表示パネル領域２００を含むサブストレート１００を含む。

【0042】

本実施例における表示基板マザーボードの製造方法は、
マーク領域２０１に第１のフィルム１０を形成し、第１のフィルム１０をパターニングして、第１のフィルム１０上に形成されたビアホール１０１である複数のマークパターンを含むパターンを形成することと、
表示パネル領域２００に第２のフィルム２０を形成し、前記第２のフィルム２０をパターニングして前記第２のフィルム２０のパターンを形成することとを含む。

【0043】

前記マーク領域２０１に第１のフィルム１０を形成し、表示パネル領域２００に第２のフィルム２０を形成することは、
同一の材料を用いて１回の成膜プロセスにより第１のフィルム１０及び前記第２のフィルム２０を同時に形成することを含む。

【0044】

即ち、第１のフィルム１０及び前記第２のフィルム２０は同一のフィルムであり、製造プロセスを簡略化し、コストを低減する。

【0045】

さらに、第１のフィルム１０及び前記第２のフィルム２０の材料は、フォトレジストであってよく、露光プロセスのみで第１のフィルム１０上にビアホール１０１（マークパターン）及び第２のフィルム２０のパターンを形成し、さらに製造プロセスを簡略化することができる。

【0046】

前記第１のフィルム１０及び第２のフィルム２０をパターニングするステップは、
マスクプレートを利用して１回のパターニングプロセスを用いて前記表示パネル領域２００の第２のフィルム２０及び対応するマーク領域２０１の第１のフィルム１０を同時にパターニングして、前記第２のフィルム２０のパターンと第１のフィルム１０上に位置するマークパターンとを形成し、該マスクプレートを利用して全ての表示パネル領域２００の第２のフィルム２０と、対応するマーク領域２０１の第１のフィルム１０とを順にパターニングすることを含み、
上記ステップにおいて形成されたマークパターンは、表示パネル領域２００の一側に位置する少なくとも１つの第１のマークパターン１１と、対向する他側に位置する少なくとも１つの第２のマークパターン１２とを含み、隣接する２つの表示パネル領域２００の間は、第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２を有して、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域２００の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することを含む。

【0047】

上記製造方法は、隣接する２つの表示パネル領域の間に位置し、かつ位置が対応するマークパターンを利用して、該２つの隣接する表示パネル領域のパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得し、マークパターンが小面積のアイランド型のフィルムパターンではなく、フィルムにおけるビアホールであるため、マークパターンの脱落の可能性を効果的に解消し、製品の信頼性及び歩留まり率をさらに保証する。

【0048】

本実施例では、上記表示基板マザーボードの製造過程における露光ズレ量を取得する方法は、隣接する２つの表示パネル領域の間のマーク領域に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することを含む。

【0049】

本開示の各実施例に係る技術手段における、隣接する２つの表示パネル領域２００の前後２回の露光プロセスのズレ量を取得する具体的な原理は、以下のとおりである。

【0050】

表示パネル領域２００とその周辺のマークパターンとが同一のマスクプレートを用いて製造されているため、隣接する２つの表示パネル領域２００のパターニングプロセスにおける露光ズレ量は、該隣接する２つの表示パネル領域２００の周辺に位置し、かつ位置が対応するマークパターンを形成するパターニングプロセスにおける露光ズレ量と同じである。したがって、該隣接する２つの表示パネル領域２００の周辺に位置し、かつ位置が対応するマークパターンの設定距離に対するズレ量（即ち、露光ズレ量）を利用して、該隣接する２つの表示パネル領域２００の第２のフィルム２０に対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することができる。

【0051】

また、全ての表示パネル領域２００の周辺のマークパターンが同一のマスクプレートを利用して製造され、全ての表示パネル領域２００の周辺のマークパターンの分布ルールが同じであるため、隣接する２つの表示パネル領域２００の距離を設定することにより、隣接する２つの表示パネル領域２００の間の第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２との設定距離を設定することができる。隣接する２つの表示パネル領域２００の露光にズレ量が存在する場合、露光プロセスによって２つの表示パネル領域２００の周辺に形成されたマークパターンもずれてしまう。したがって、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の設定距離に対するズレ量（即ち、露光ズレ量）に基づいて、該２つの隣接する表示パネル領域２００の第２のフィルム２０に対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することができる。

【0052】

隣接する２つの表示パネル領域の間に位置し、かつ位置が対応するマークパターンの設定距離に対するズレ量を利用することにより、該２つの隣接する表示パネル領域の第２のフィルムに対するパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得し、距離が近いため、隣接する２つの表示パネル領域の露光ズレ量を速やかで、正確に取得することができる。

【0053】

好ましくは、図７に示すように、同一の表示パネル領域２００の対向する両側に位置する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２の位置を一対一に対応させるように設定する。表示パネル領域２００の一側に複数のマークパターンを設定する場合、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２が複数組であり、複数組の位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の設定距離に対するズレ量を測定することにより、取得される隣接する２つの表示パネル領域２００のパターニングプロセスにおける露光ズレ量の精度を向上させることができる。

【0054】

図１２に示すように、表示パネル領域２００の一側に位置する第１のマークパターン１１と、対向する他側に位置する２つの第２のマークパターン１２の位置を対応させるように設定してよく、このように１組の位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２により、２組の設定距離に対するズレ量を取得することができ、取得される隣接する２つの表示パネル領域２００のパターニングプロセスにおける露光ズレ量の精度をさらに向上させることができる。

【0055】

当然のことながら、隣接する２つの表示パネル領域の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンとの組み合わせ関係は、上記２種類に限定されるものではない。例えば、１つの第１のマークパターンと３つの第２のマークパターンの位置を対応させるか、又は、隣接する２つの表示パネル領域の間に位置する第１のマークパターンと、位置が対応する複数の第２のマークパターンの中心との設定距離がゼロであることを設定してよく、ここでは一々列挙しないが、いずれも本開示の実施例の保護範囲に属する。

【0056】

前記マークパターンは、規則的な形状のビアホール１０１、図７及び図９に示すような矩形孔、図１０に示すような十字形孔、及び図１１に示すような三角形孔であってよい。当然のことながら、前記マークパターンは、他の規則的な形状のビアホール１０１であってもよく、ここで一々列挙しない。前記マークパターンは、不規則的な形状のビアホール１０１であってもよい。

【0057】

好ましい一例として、前記マークパターンが規則的な形状のビアホール１０１として設定して、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の設定距離に対するズレ量を取得しやすい。

【0058】

さらに、図７及び図８に示すように、表示パネル領域２００の周辺の全てのマークパターンの形状及びサイズが同じであることを設定し、マークパターンの輪郭線上の同一の基準点に基づいて、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する２つのマークパターンのズレ量を取得することができ、この２つのマークパターンの設定距離に対するズレ量をさらに取得しやすくなる。

【0059】

隣接する２つの表示パネル領域の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターンと第２のマークパターンとの設定距離は、必要に応じて任意に設定することができ、ゼロよりも大きい値（露光ズレ量がない場合、隣接する２つの表示パネル領域の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２とがずれている）であってもよく、ゼロよりも小さい値（露光ズレ量がない場合、隣接する２つの表示パネル領域の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２とが部分的に重なっている）であってもよく、ゼロに等しい値（露光ズレ量がない場合、図６に示すように、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１の中心と、第２のマークパターン１２の中心とが重なる）であってもよい。

【0060】

本実施例では、前記設定距離がゼロに等しいことを設定し、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の設定距離に対するズレ量をより取得しやすい。

【0061】

好ましい一例として、図７に示すように、表示パネル領域２００の周辺の全てのマークパターンの形状及びサイズが同じで、前記設定距離がゼロに等しいことを設定し、マークパターンの輪郭線上の同一の基準点に基づいて、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の輪郭線上の同一の基準点の間の距離、即ち、設定距離に対するズレ量を取得することができる。例えば、表示パネル領域２００の周辺の全てのマークパターンは、いずれも同じサイズの正方形である場合、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の同一位置の頂点（例えば、図７の右上の頂点）の間の距離は、設定距離に対するズレ量である。

【0062】

なお、本実施例における方位に関する説明について、例えば、左、右、上、下は、いずれも図面における方向で定義されており、説明の便宜上、他の限定的な意味を有していない。

【0063】

１つの具体的な実施形態では、図５及び図７に示すように、表示パネル領域２００の周辺に位置する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の位置が一対一に対応し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１の中心と第２のマークパターン１２の中心との第１の結び線が第１の方向、図７に示すＸ方向に沿って延びることを設定する。

【0064】

サブストレート１００は、第１の方向に隣接する２つの表示パネル領域２００を含み、該２つの表示パネル領域２００の中心の第２の結び線は、前記第１の結び線と平行（即ち、該隣接する２つの表示パネル領域２００が第１の方向に沿って配置する）であり、該２つの表示パネル領域２００の中心の間の距離は、表示パネル領域２００の対向する両側に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１の中心と第２のマークパターン１２の中心との間の距離と同じであり、前記設定距離は、ゼロであり、即ち、図６に示すように、露光ズレ量がない場合、該２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２とが重なっている。

【0065】

図７に示すように、該２つの表示パネル領域２００のパターニングプロセスにおける露光ズレ量が存在すれば、表示パネル領域２００とその周辺のマーク領域２０１とが同一のマスクプレートを利用して露光プロセスを行うため、該２つの表示パネル領域２００の周辺に位置するマークパターンを形成するパターニングプロセスにおいても露光ズレ量が存在する。つまり、該２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２とが重なっておらず、ずれが生じている。前記第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の第１の方向（図７に示すＸ方向）における第１のズレ量ｘと、前記第１の方向と垂直な第２の方向（図７に示すＹ方向）における第２のズレ量ｙとにより、該２つの表示パネル領域２００のパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得でき、即ち、第１の方向におけるズレ量がｘであり、第１の方向と垂直な第２の方向におけるズレ量がｙである。

【0066】

該実施形態では、表示パネル領域２００の周辺の全てのマークパターンを、形状及びサイズが同じの規則的な形状に設定して、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の設定距離に対するズレ量を容易に取得する。

【0067】

図７に示すように、マークパターンが正方形の孔であることを例として、マークパターンの右上角の頂点を基準点として設定し、隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の右上角の頂点の設定距離に対するズレ量を取得することにより、該２つの表示パネル領域２００のパターニングプロセスにおける露光ズレ量を取得することができ、該露光ズレ量は、第１の方向におけるズレ量ｘ、第１の方向と垂直な第２の方向におけるズレ量ｙに分解することができる。

【0068】

表示パネル領域の対向する両側に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンは、該表示パネル領域の前記第１の結び線に垂直な中心軸に対して実質的に対称に分布するものであってよいが、これに限定されない。

【0069】

上記具体的な実施形態は、表示パネル領域の対向する両側の位置を一対一に対応させるように設定することにより、隣接する２つの表示パネル領域の間に位置が一対一に対応する複数組の第１のマークパターン及び第２のマークパターンを形成することができ、位置が対応する第１のマークパターン及び第２のマークパターンの設定距離に対するズレ量を取得しやすく、かつ位置が一対一に対応する複数組の第１のマークパターン及び第２のマークパターンを設定して、精度を向上させることができる。

【0070】

上記具体的な実施形態では、隣接する２つの表示パネル領域が第１方向に沿って配置され、第１の方向と垂直な第２の方向に沿って配置された隣接する２つの表示パネル領域について、対応する技術手段は、上記と同様である。上記サブストレートが第１の方向及び第２の方向に沿って実質的にマトリクス状に分布する少なくとも４つの表示パネル領域を含む場合、対応する技術手段は、上記両者の組み合わせであるため、ここでは説明を省略する。

【0071】

製造プロセスを簡略化するために、本実施例におけるマークパターンを製造するための第１のフィルム１０は、表示パネル領域２００の第２のフィルム２０と同一のフィルムであってよく、同一の材料を利用して１回の成膜プロセスで同時に製造することができる。

【0072】

例えば、本実施例における表示基板マザーボードが有機電界発光の表示基板マザーボードである場合、前記有機電界発光の表示基板マザーボードの表示パネル領域は、有機電界発光ダイオードの各機能フィルム層、画素定義層、平坦層などを含む。

【0073】

本実施例における第２のフィルム２０は、有機電界発光の表示基板マザーボードの画素定義層又は平坦層であってよく、マークパターンを製造するための第１のフィルム１０は、画素定義層又は平坦層と同一の材料を利用して１回の成膜プロセスで同時に製造することができる。平坦層及び画素定義層の厚さが厚いため、平坦な表面を提供することにより、ビアホール１０１の開口端が同一の平面内に位置し、露光ズレ量を正確に取得することに役立つ。

【0074】

同様に、本実施例における表示基板マザーボードが液晶表示基板マザーボードである場合、前記液晶表示基板マザーボードの表示パネル領域は、フィルムトランジスタの各機能フィルム層、平坦層、画素電極などを含む。

【0075】

本実施例における第２のフィルム２０は、液晶表示基板マザーボードの平坦層であってよく、マークパターンを製造するための第１のフィルム１０は、平坦層と同一の材料を利用して１回の成膜プロセスで同時に製造することができる。平坦層の厚さが厚いため、平坦な表面を提供することにより、ビアホール１０１の開口端が同一の平面内に位置し、露光ズレ量を正確に取得することに役立つ。

【0076】

表示基板マザーボードが有機電界発光の表示基板マザーボードであることを例として、本実施例では、前記表示基板マザーボードのマークパターンの製造方法は、具体的には、
まず、図５に示すように、サブストレート１００にポジフォトレジストで製造された平坦層１０を堆積し、マスクプレートを利用して、１回のパターニングプロセスにより表示パネル領域２００とその周辺に位置するマーク領域の平坦層１０とを同時に露光し、現像後に形成し、該表示パネル領域２００の対向する両側に位置する、平坦層１０上のビアホール１０１である第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２をマーク領域の平坦層１０に形成することと、
次に、図７に示すように、同一のマスクプレートを利用して、１回のパターニングプロセスにより隣接する別の表示パネル領域２００とその周辺に位置するマーク領域の平坦層１０とを同時に露光し、現像後に形成し、該表示パネル領域２００の対向する両側に位置する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２をマーク領域の平坦層１０に形成することとを含む。この隣接する２つの表示パネル領域２００の露光にはズレ量が存在することにより、この隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２は、ゼロとなる設定距離に対してずれてしまう。したがって、図６に示すように、露光ズレ量がない場合、この隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１と第２のマークパターン１２とが重なる。図８に示すように、露光ズレ量がある場合、この隣接する２つの表示パネル領域２００の間に位置し、かつ位置が対応する第１のマークパターン１１及び第２のマークパターン１２の第１の方向における第１のズレ量ｘ＝２０ｕｍと、第１の方向と垂直な第２の方向における第２のズレ量ｙ＝２０ｕｍは、この隣接する２つの表示パネル領域２００の露光ズレ量である。

【0077】

ここまでマークパターンの製造を完了し、有機電界発光の表示基板マザーボードの他の機能フィルム層パターンの製造方法については、ここでは説明を省略する。

【0078】

上記実施例は、隣接する２つの表示パネル領域の前後２回の露光プロセスにおけるズレ量を取得するためのマークパターンを例として、具体的には本開示の技術手段を説明した。

【0079】

本開示の各実施例に係るマークパターンは、位置合わせマークパターンであってよく、前記位置合わせマークパターンによりマスクプレートと表示パネル領域とを位置合わせして、前記表示パネル領域をパターニングする。具体的には、前記第２のフィルム２０をパターニングすることにより前記第２のフィルム２０のパターンを形成することは、
前記サブストレートの少なくとも１つの表示パネル領域２００における第２のフィルム２０をパターニングする場合、前記マークパターン１１、１２によりマスクプレートと表示パネル領域２００とを位置合わせし、前記マスクプレートを利用して前記第２のフィルム２０をパターニングすることを含む。

【0080】

当然のことながら、本開示のマークパターンは、他の機能を有するマークパターンであってもよい。

【0081】

以上の記載は、本開示のいくつかの実施形態に過ぎず、なお、当業者であれば、本開示の技術的原理から逸脱しない前提で、いくつかの改良と修飾を行ってよく、これらの改良と修飾も本開示の保護範囲にあるものと見なすべきである。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【国際調査報告】