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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-01-17
(54)【発明の名称】膜及び製造プロセス
(51)【国際特許分類】
H01M 4/66 20060101AFI20220107BHJP
C23C 14/20 20060101ALI20220107BHJP
C23C 16/30 20060101ALI20220107BHJP
B32B 15/20 20060101ALI20220107BHJP
B32B 15/04 20060101ALI20220107BHJP
【ＦＩ】
H01M4/66 A
C23C14/20 A
C23C16/30
B32B15/20
B32B15/04 Z
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2021525136
(86)(22)【出願日】2018-11-09
(85)【翻訳文提出日】2021-05-31
(86)【国際出願番号】 CN2018114906
(87)【国際公開番号】W WO2020093395
(87)【国際公開日】2020-05-14
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】521196121
【氏名又は名称】星耀科技（深▲せん▼）有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＸＩＮＧＹＡＯ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ （ＳＨＥＮＺＨＥＮ） ＣＯ．，ＬＴＤ
【住所又は居所原語表記】Ｓｈｏｐ Ｎｏ．２－４，Ｈｏｎｇｄｅ Ｇａｒｄｅｎ，Ｑｉａｏｔｏｕ Ｖｉｌｌａｇｅ，Ｆｕｙｏｎｇ Ｓｔｒｅｅｔ，Ｂａｏ’ａｎ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｓｈｅｎｚｈｅｎ，Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ ５１８１０３，Ｃｈｉｎａ
(74)【代理人】
【識別番号】110000291
【氏名又は名称】特許業務法人コスモス国際特許商標事務所
(72)【発明者】
【氏名】許 兢睿
【テーマコード（参考）】
4F100
4K029
4K030
5H017
【Ｆターム（参考）】
4F100AA19B
4F100AA19D
4F100AA19E
4F100AA20B
4F100AB10C
4F100AD05B
4F100AD08B
4F100AK04A
4F100AK07A
4F100AK12A
4F100AK15A
4F100AK41
4F100AK42A
4F100AK49A
4F100AK54
4F100AK55A
4F100AK56A
4F100AK57A
4F100AR00B
4F100AR00D
4F100AR00E
4F100AT00A
4F100BA05
4F100BA06
4F100BA08C
4F100BA08D
4F100BA10E
4F100DG15A
4F100EH662
4F100EH66B
4F100EH66C
4F100EJ122
4F100EJ612
4F100GB41
4F100JL11B
4F100YY00A
4F100YY00B
4F100YY00C
4F100YY00D
4F100YY00E
4K029AA11
4K029BA03
4K029BA44
4K029BA46
4K029BA56
4K029BA58
4K029BB04
4K029CA01
4K030BA02
4K030BA37
4K030BA40
4K030BA43
4K030BA44
4K030CA07
5H017AA03
5H017BB01
5H017BB08
5H017BB16
5H017BB17
5H017CC01
5H017DD05
5H017DD06
5H017EE05
5H017EE06
5H017EE07
5H017EE08
5H017HH03
5H017HH07
5H017HH08
5H017HH09
(57)【要約】
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される。本発明の複合構造層により、抵抗率が低く、剥離力（ここで、剥離力であり、剥離強度が線剥離力として定義され、単位がＮ／ｍである）が大きく、４．８～５．２Ｎであり、接着力が高くなり、緻密性がより良好になり、抵抗率がより低く、４．５＊１０－８Ω・ｍである。
【選択図】図１
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に、接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される、ことを特徴とする膜。
【請求項2】
前記構造体は２～５０層に設置される、ことを特徴とする請求項１に記載の膜。
【請求項3】
前記構造体は２～２５層に設置される、ことを特徴とする請求項１に記載の膜。
【請求項4】
膜であって、接着層、アルミニウム金属材料層、補強層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置される基層を備える、ことを特徴とする膜。
【請求項5】
前記基層の材料は、ＯＰＰ、ＰＥＴ、ＰＩ、ＰＳ、ＰＰＳ、ＣＰＰ、ＰＥＮ、ＰＶＣ、ＳＰＳ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ＰＰＳＵ、ＰＥ、不織布のうちの１種又は２種以上である、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の膜。
【請求項6】
前記基層の厚さは１．２～１２μｍである、ことを特徴とする請求項５に記載の膜。
【請求項7】
前記接着層は非金属材料層であり、前記非金属材料は、ＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）及びＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）のうちの少なくとも１種である、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の膜。
【請求項8】
前記接着層の厚さは２～５０ｎｍである、ことを特徴とする請求項７に記載の膜。
【請求項9】
非金属材料がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である場合に、非金属材料層の厚さは３～１２ｎｍであり、非金属材料がＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）である場合に、厚さは１０～４０ｎｍである、ことを特徴とする請求項７に記載の膜。
【請求項10】
前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１５００ｎｍである、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の膜。
【請求項11】
前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～５００ｎｍである、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の膜。
【請求項12】
前記補強層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の膜。
【請求項13】
前記補強層の厚さは１～５０ｎｍである、ことを特徴とする請求項１２に記載の膜。
【請求項14】
前記補強層の厚さは１～８ｎｍである、ことを特徴とする請求項１２に記載の膜。
【請求項15】
前記酸化防止層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の膜。
【請求項16】
前記酸化防止層の厚さは２～５０ｎｍである、ことを特徴とする請求項１５に記載の膜。
【請求項17】
前記酸化防止層の厚さは３～１２ｎｍである、ことを特徴とする請求項１５に記載の膜。
【請求項18】
請求項１に記載の膜の製造方法であって、基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
ステップ２、ステップ３を繰り返して多層構造体を形成するステップ４と、
複合構造層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ５と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ６とを含む、ことを特徴とする膜の製造方法。
【請求項19】
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を、プラズマ装置を備えた片面又は両面蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源をオンにせずに、プラズマ機器を利用してアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウム金属材料層の表面を洗浄して酸化し、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する、ことを特徴とする請求項１８に記載の膜の製造方法。
【請求項20】
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を高温オゾン反応装置内に入れ、反応温度及びオゾン含有量を調整し、アルミニウム金属材料層の表面に、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を形成する、ことを特徴とする請求項１８に記載の膜の製造方法。
【請求項21】
請求項４に記載の膜の製造方法であって、基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
補強層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ４と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ５とを含む、ことを特徴とする膜の製造方法。
【請求項22】
前記ステップ１では、前記接着層は、ＰＶＤプロセスで非金属化合物を基層に堆積し、又はＣＶＤプロセスを使用して基層に堆積される、ことを特徴とする請求項１８～２０のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【請求項23】
前記ステップ３では、ステップ２で得られるアルミニウム金属材料層を、温度が２５～６０℃で、相対湿度が０．５未満の環境に置き、１～１５日間放置して熟成し、より緻密な補強層である酸化層を形成する、ことを特徴とする請求項１８～２０のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【請求項24】
前記ステップ３では、ステップ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、フロント又はリアプラズマ装置を備えた片面又は両面往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前又は入った後に、プラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する、ことを特徴とする請求項１８～２０のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、エネルギー貯蔵素子材料の技術分野に属し、具体的には、膜及び製造プロセスに関する。
【背景技術】
【0002】
産業の発展及び化石エネルギーの枯渇に伴い、環境汚染とエネルギー欠乏による圧力はますます高くなり、新たなエネルギーを見つけ、新たな省エネルギーツールを開発する必要がある。
【0003】
リチウムエネルギー貯蔵素子の正極材料はアルミ箔であり、従来のアルミ箔は最大８ミクロンの厚さまで作製できなかった。エネルギー貯蔵素子の技術の発展に伴って、エネルギー貯蔵素子の体積及び重量に対する要求が高くなり、超薄型エネルギー貯蔵素子負極集電体構造は徐々に登場しており、プラスチック基層にアルミニウム層をメッキしたが、エネルギー貯蔵素子の充放電の使用中に、アルミニウムメッキ層とプラスチック基層との接合強度が弱く、脱落しやすい。
【0004】
従来技術では、アルミニウムメッキ層とプラスチック基層を接続することにより、接着層を形成したが、脱落しやすい問題は依然として存在している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の目的は、従来技術に存在している問題を解消し、脱落しにくく、剥離強度が高く、抵抗率が低い膜を提供することである。
【0006】
本発明の別の目的は、コストが低く、プロセスが簡単である膜製造プロセスを提案することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の技術的解決手段は以下のとおりである。
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に、接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される。
前記構造体は２～５０層に設置される。
前記構造体は１０～３０層に設置される。
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に、接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される。
前記構造体は２～５０層に設置される。
前記構造体は１０～３０層に設置される。
【0008】
膜であって、接着層、アルミニウム金属材料層、補強層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置される基層を備える。
前記基層の材料は、ＯＰＰ、ＰＥＴ、ＰＩ、ＰＳ、ＰＰＳ、ＣＰＰ、ＰＥＮ、ＰＶＣ、ＳＰＳ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ＰＰＳＵ、ＰＥ、不織布のうちの１種又は２種以上である。
前記基層の厚さは１．２～１２μｍである。
前記接着層は非金属材料層であり、前記非金属は、ＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）及びＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）のうちの少なくとも１種である。
前記接着層の厚さは２～５０ｎｍである。
接着層がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である場合に、厚さは８～２０ｎｍから選択され、接着層がＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）である場合に、厚さは１０～４０ｎｍから選択される。
前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１５００ｎｍである。
前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１００ｎｍである。
前記補強層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である。
前記補強層の厚さは２～５０ｎｍである。
前記補強層の厚さは３～６ｎｍである。
前記酸化防止層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である。
前記酸化防止層の厚さは２～５０ｎｍである。
前記基層の材料は、ＯＰＰ、ＰＥＴ、ＰＩ、ＰＳ、ＰＰＳ、ＣＰＰ、ＰＥＮ、ＰＶＣ、ＳＰＳ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ＰＰＳＵ、ＰＥ、不織布のうちの１種又は２種以上である。
前記基層の厚さは１．２～１２μｍである。
前記接着層は非金属材料層であり、前記非金属は、ＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）及びＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）のうちの少なくとも１種である。
前記接着層の厚さは２～５０ｎｍである。
接着層がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である場合に、厚さは８～２０ｎｍから選択され、接着層がＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）である場合に、厚さは１０～４０ｎｍから選択される。
前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１５００ｎｍである。
前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１００ｎｍである。
前記補強層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である。
前記補強層の厚さは２～５０ｎｍである。
前記補強層の厚さは３～６ｎｍである。
前記酸化防止層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である。
前記酸化防止層の厚さは２～５０ｎｍである。
【0009】
本発明の別の目的の技術的解決手段は以下のとおりである。
膜の製造方法であって、
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
ステップ２、ステップ３を繰り返して多層構造体を形成するステップ４と、
複合構造層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ５と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ６とを含む。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を、プラズマ装置を備えた片面又は両面蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源をオンにせずに、プラズマ機器を利用してアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウム金属材料層の表面を洗浄して酸化し、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を高温オゾン反応装置内に入れ、反応温度及びオゾン含有量を調整し、アルミニウム金属材料層の表面に、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を形成する。
膜の製造方法であって、
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
ステップ２、ステップ３を繰り返して多層構造体を形成するステップ４と、
複合構造層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ５と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ６とを含む。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を、プラズマ装置を備えた片面又は両面蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源をオンにせずに、プラズマ機器を利用してアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウム金属材料層の表面を洗浄して酸化し、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を高温オゾン反応装置内に入れ、反応温度及びオゾン含有量を調整し、アルミニウム金属材料層の表面に、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を形成する。
【0010】
膜の製造方法であって、
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
補強層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ４と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ５とを含む。
前記ステップ１では、前記接着層は、蒸着プロセス、電子ビームメッキプロセス、マグネトロン直接プロセス、又はマグネトロン反応プロセスのうちの１種によって非金属化合物を基層にメッキし、又はＣＶＤプロセスを使用して基層に堆積して生成される。前記ステップ３では、ステップ２で得られるアルミニウム金属材料層を、温度が２５～６０℃で、湿度が５０未満の環境に入れ、１～１５日間放置して熟成し、より緻密な補強層である酸化層を形成する。
前記ステップ３では、ステップ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、フロント又はリアプラズマ装置を備えた片面又は両面往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前又は入った後に、プラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
補強層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ４と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ５とを含む。
前記ステップ１では、前記接着層は、蒸着プロセス、電子ビームメッキプロセス、マグネトロン直接プロセス、又はマグネトロン反応プロセスのうちの１種によって非金属化合物を基層にメッキし、又はＣＶＤプロセスを使用して基層に堆積して生成される。前記ステップ３では、ステップ２で得られるアルミニウム金属材料層を、温度が２５～６０℃で、湿度が５０未満の環境に入れ、１～１５日間放置して熟成し、より緻密な補強層である酸化層を形成する。
前記ステップ３では、ステップ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、フロント又はリアプラズマ装置を備えた片面又は両面往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前又は入った後に、プラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
【発明の効果】
【0011】
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される。本発明の複合構造層により、抵抗率が低く、剥離力（ここで、剥離力であり、剥離強度が線剥離力として定義され、単位がＮ／ｍである）が大きく、４．８～５．２Ｎであり、接着力が高くなり、緻密性がより良好になり、抵抗率がより低く、４．５＊１０－８Ω・ｍである。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【発明を実施するための形態】
【0013】
本発明の目的、技術的解決手段及び利点をより明瞭で理解しやすくするために、以下では、図面及び実施例を参照しながら、本発明をさらに詳細に説明する。理解すべきなのは、ここで説明された具体的な実施例は、本発明を解釈するためのものに過ぎず、本発明を限定するものではない。
【0014】
実施例１
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に、接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される。
前記構造体は２～５０層に設置される。
前記構造体は１０～３０層に設置される。
前記基層の材料は、ＯＰＰ、ＰＥＴ、ＰＩ、ＰＳ、ＰＰＳ、ＣＰＰ、ＰＥＮ、ＰＶＣ、ＳＰＳ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ＰＰＳＵ、ＰＥ、不織布のうちの１種又は２種以上であり、２種以上の材料が共押出により基層を形成する。
前記基層の厚さは１．２～１２μｍである。
膜であって、基層を備え、前記基層の表面及び裏面に、接着層、複合構造層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置され、前記複合構造層は、それぞれ一層のアルミニウム金属材料層と一層の補強層により構成される少なくとも二層の構造体を備え、多層構造体が積層される。
【表1】
【表2】
前記構造体は２～５０層に設置される。
前記構造体は１０～３０層に設置される。
前記基層の材料は、ＯＰＰ、ＰＥＴ、ＰＩ、ＰＳ、ＰＰＳ、ＣＰＰ、ＰＥＮ、ＰＶＣ、ＳＰＳ、ＰＥＥＫ、ＰＥＳ、ＰＰＳＵ、ＰＥ、不織布のうちの１種又は２種以上であり、２種以上の材料が共押出により基層を形成する。
前記基層の厚さは１．２～１２μｍである。
【0015】
実施例２
本発明の膜の実施形態の１つでは、図２に示すように、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１との相違点は、膜であって、接着層、アルミニウム金属材料層、補強層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置される基層を備えることである。
本発明の膜の実施形態の１つでは、図２に示すように、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１との相違点は、膜であって、接着層、アルミニウム金属材料層、補強層、アルミニウム金属材料層及び酸化防止層が順に設置される基層を備えることである。
【0016】
本発明の複合構造層により、抵抗率が低く、剥離力が大きく、補強層の設計により剥離力が高くなり、アルミニウム金属材料層を利用して導電率を効果的に確保する。
【0017】
実施例３
本発明の膜の実施形態の１つでは、図３に示すように、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１、実施例２と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１、実施例２での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１、実施例２との相違点は、前記接着層が非金属材料層であり、前記非金属がＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）及びＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）のうちの少なくとも１種であることである。
前記接着層の厚さは２～５０ｎｍである。
接着層がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である場合に、厚さは８～２０ｎｍから選択され、接着層がＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）である場合に、厚さは１０～４０ｎｍから選択される。前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１５００ｎｍである。好ましくは、前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１００ｎｍである。
前記補強層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）であり、前記補強層の厚さは２～５０ｎｍである。
前記補強層の厚さは３～６ｎｍである。
前記酸化防止層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である。前記酸化防止層の厚さは２～５０ｎｍである。
本発明の膜の実施形態の１つでは、図３に示すように、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１、実施例２と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１、実施例２での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１、実施例２との相違点は、前記接着層が非金属材料層であり、前記非金属がＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）及びＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）のうちの少なくとも１種であることである。
【表3】
前記接着層の厚さは２～５０ｎｍである。
接着層がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である場合に、厚さは８～２０ｎｍから選択され、接着層がＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）である場合に、厚さは１０～４０ｎｍから選択される。前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１５００ｎｍである。好ましくは、前記アルミニウム金属材料層の厚さは２０～１００ｎｍである。
前記補強層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）であり、前記補強層の厚さは２～５０ｎｍである。
前記補強層の厚さは３～６ｎｍである。
前記酸化防止層は緻密な非金属材料層であり、成分がＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）である。前記酸化防止層の厚さは２～５０ｎｍである。
【0018】
実施例４
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１、実施例２、実施例３と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１、実施例２、実施例３での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と、実施例１、実施例２、実施例３との相違点は以下のとおりである。
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１、実施例２、実施例３と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１、実施例２、実施例３での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と、実施例１、実施例２、実施例３との相違点は以下のとおりである。
【0019】
膜の製造方法であって、
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
ステップ２、ステップ３を繰り返して多層複合構造層を形成するステップ４と、
複合構造層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ５と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ６とを含む。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を、プラズマ装置を備えた片面又は両面蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源をオンにせずに、プラズマ機器を利用してアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウム金属材料層の表面を洗浄して酸化し、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を高温オゾン反応装置内に入れ、反応温度及びオゾン含有量を調整し、アルミニウム金属材料層の表面に、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を形成する。
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
ステップ２、ステップ３を繰り返して多層複合構造層を形成するステップ４と、
複合構造層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ５と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ６とを含む。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を、プラズマ装置を備えた片面又は両面蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源をオンにせずに、プラズマ機器を利用してアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウム金属材料層の表面を洗浄して酸化し、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
前記ステップ６では、ステップ５で得られるアルミニウム金属材料層を高温オゾン反応装置内に入れ、反応温度及びオゾン含有量を調整し、アルミニウム金属材料層の表面に、より緻密な酸化防止層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を形成する。
【0020】
実施例５
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例４と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例４での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例４との相違点は以下のとおりである。
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例４と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例４での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例４との相違点は以下のとおりである。
【0021】
膜の製造方法であって、
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
補強層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ４と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ５とを含む。
前記ステップ１では、前記接着層は、ＰＶＤプロセス、具体的に蒸着プロセス、電子ビームメッキプロセス、マグネトロン直接プロセス、又はマグネトロン反応プロセスのうちの１種によって非金属化合物を基層にメッキし、又はＣＶＤプロセスを使用して基層に堆積して生成される。
前記ステップ３では、ステップ２で得られるアルミニウム金属材料層を、温度が２０～６０℃で、湿度が５０％未満の環境に入れ、１～１５日間放置して熟成し、より緻密な補強層である酸化層を形成する。
前記ステップ３では、ステップ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、フロント又はリアプラズマ装置を備えた片面又は両面往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前又は入った後に、プラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
基層の外に接着層を形成するステップ１と、
接着層の外にアルミニウム金属材料層であるアルミニウムメッキ層を形成するステップ２と、
アルミニウム金属材料層に補強層を形成するステップ３と、
補強層の外に蒸着プロセスでアルミニウム金属材料層を形成するステップ４と、
アルミニウム金属材料層の外に酸化防止層を形成するステップ５とを含む。
前記ステップ１では、前記接着層は、ＰＶＤプロセス、具体的に蒸着プロセス、電子ビームメッキプロセス、マグネトロン直接プロセス、又はマグネトロン反応プロセスのうちの１種によって非金属化合物を基層にメッキし、又はＣＶＤプロセスを使用して基層に堆積して生成される。
前記ステップ３では、ステップ２で得られるアルミニウム金属材料層を、温度が２０～６０℃で、湿度が５０％未満の環境に入れ、１～１５日間放置して熟成し、より緻密な補強層である酸化層を形成する。
前記ステップ３では、ステップ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、フロント又はリアプラズマ装置を備えた片面又は両面往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が１０－４～１０－１Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前又は入った後に、プラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成する。
【0022】
実施例６
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１～４と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１～４での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１～４との相違点は以下のとおりである。
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１～４と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１～４での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１～４との相違点は以下のとおりである。
【0023】
導電性機能膜の製造方法であって、
Ｓ１．先ず、コーティングする必要があるプラスチック膜の表面に対してコロナ処理を行い、次に、ロール状のプラスチック膜を真空コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が５×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源の近傍の酸素導入構造を利用して、４０００ｓｃｃｍ及び３５００ｓｃｃｍの通気量で圧縮酸素ガスを導入する。蒸発源の蒸着原料は、純度≧９９．９％の金属アルミニウムワイヤ又はアルミニウムインゴットであり、巻取り速度を３５０ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を３００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、蒸発したアルミニウム原子と酸素ガスを反応させて、移動している膜に接着層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）層を形成し、該層の厚さが約１０ｎｍである。
Ｓ２．Ｓ１で得られた表面に接着層を有する膜を、それぞれ、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復及び非往復の蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前に、先ずプラズマ機器によってアルゴンガスを電離し、接着層の表面を洗浄し、アルゴンガス量が５００ｓｃｃｍであり、次に、蒸着領域に入って、蒸発の方式で純度≧９９．９％のアルミニウムを加熱し、巻取り速度をそれぞれ３００ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を１１００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、アルミニウムを蒸発機構に連続的に熔融して蒸発させ、接着層の表面にアルミニウム金属メッキ層であるアルミニウムメッキ層を形成し、該アルミニウム金属メッキ層の厚さが約４０～４５ｎｍである。
Ｓ３．Ｓ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、チャンバーから出ないでステップＳ２を連続的に４０又は２０回繰り返し、膜Ａを得る。
Ｓ３．Ｓ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前に、先ずプラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、アルゴンガス量が５００ｓｃｃｍであり、酸素ガス量が３５０ｓｃｃｍであり、アルミニウムメッキ金属層の表面に、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成し、該補強層の厚さが約４ｎｍである。次に、蒸着領域に入って、蒸発の方式で純度≧９９．９％のアルミニウムを加熱し、巻出し速度、巻取り速度及び蒸発量を調整し、アルミニウムを蒸発機構に連続的に熔融して蒸発させ、接着層の表面にアルミニウムメッキ層を形成し、機器の片面・両面成形の設計に応じて、該ステップを４０又は２０回繰り返し、膜Ｂを得る。
Ｓ４．Ｓ３で得られたアルミニウムメッキ膜を、湿度＜５０％、温度が２０～６０℃の室温環境に入れ、１～１５日間、好ましくは４８ｈ放置して熟成し、アルミニウムメッキ膜の表面に、空気中の酸素ガスや少量の水分の浸透により、より緻密な酸化防止層である酸化層を形成し、該酸化防止層の厚さが約２～４ｎｍである。
Ｓ１．先ず、コーティングする必要があるプラスチック膜の表面に対してコロナ処理を行い、次に、ロール状のプラスチック膜を真空コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が５×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発源の近傍の酸素導入構造を利用して、４０００ｓｃｃｍ及び３５００ｓｃｃｍの通気量で圧縮酸素ガスを導入する。蒸発源の蒸着原料は、純度≧９９．９％の金属アルミニウムワイヤ又はアルミニウムインゴットであり、巻取り速度を３５０ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を３００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、蒸発したアルミニウム原子と酸素ガスを反応させて、移動している膜に接着層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）層を形成し、該層の厚さが約１０ｎｍである。
Ｓ２．Ｓ１で得られた表面に接着層を有する膜を、それぞれ、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復及び非往復の蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前に、先ずプラズマ機器によってアルゴンガスを電離し、接着層の表面を洗浄し、アルゴンガス量が５００ｓｃｃｍであり、次に、蒸着領域に入って、蒸発の方式で純度≧９９．９％のアルミニウムを加熱し、巻取り速度をそれぞれ３００ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を１１００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、アルミニウムを蒸発機構に連続的に熔融して蒸発させ、接着層の表面にアルミニウム金属メッキ層であるアルミニウムメッキ層を形成し、該アルミニウム金属メッキ層の厚さが約４０～４５ｎｍである。
Ｓ３．Ｓ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、チャンバーから出ないでステップＳ２を連続的に４０又は２０回繰り返し、膜Ａを得る。
Ｓ３．Ｓ２で得られたアルミニウムメッキ膜を、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前に、先ずプラズマ機器によってアルゴンガス及び酸素ガスを電離し、アルミニウムメッキ膜の表面を洗浄して酸化し、アルゴンガス量が５００ｓｃｃｍであり、酸素ガス量が３５０ｓｃｃｍであり、アルミニウムメッキ金属層の表面に、より緻密な補強層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）を生成し、該補強層の厚さが約４ｎｍである。次に、蒸着領域に入って、蒸発の方式で純度≧９９．９％のアルミニウムを加熱し、巻出し速度、巻取り速度及び蒸発量を調整し、アルミニウムを蒸発機構に連続的に熔融して蒸発させ、接着層の表面にアルミニウムメッキ層を形成し、機器の片面・両面成形の設計に応じて、該ステップを４０又は２０回繰り返し、膜Ｂを得る。
Ｓ４．Ｓ３で得られたアルミニウムメッキ膜を、湿度＜５０％、温度が２０～６０℃の室温環境に入れ、１～１５日間、好ましくは４８ｈ放置して熟成し、アルミニウムメッキ膜の表面に、空気中の酸素ガスや少量の水分の浸透により、より緻密な酸化防止層である酸化層を形成し、該酸化防止層の厚さが約２～４ｎｍである。
【0024】
剥離力のテスト方法：
１．ヒートシール：５点ヒートシール機を使用してＡ膜及びＢ膜をＥＡＡとヒートシールし、加熱温度が１２０℃、圧力が３ｋｇ／ｃｍ２、ヒートシール時間が１ｓであり、次に１８０°で剥離テストを行う。
２．サンプル幅が１５ｍｍ、初期距離が５ｃｍ、速度が２５０ｍｍ／ｍｉｎである。
１．ヒートシール：５点ヒートシール機を使用してＡ膜及びＢ膜をＥＡＡとヒートシールし、加熱温度が１２０℃、圧力が３ｋｇ／ｃｍ２、ヒートシール時間が１ｓであり、次に１８０°で剥離テストを行う。
２．サンプル幅が１５ｍｍ、初期距離が５ｃｍ、速度が２５０ｍｍ／ｍｉｎである。
【0025】
【表4】
【0026】
膜Ａを製造する時に、チャンバーが蒸発物質により汚染され、定期的にチャンバーを開けて洗浄する必要があるため、比較的少ないＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）が存在し、膜Ｂに比べて、その抵抗率がやや低いが、剥離力が非常に低く、補強層の欠失により接着力の劣化をもたらすだけでなく、巻取りシステムにおいて、補強層の保護がないため、アルミニウム面がロール面の摩擦を受けて大量の損傷を引き起こし、欠陥や穴が発生する。一方、補強層が存在するため、膜Ｂは一定の抵抗率を確保できる状況で、高い剥離力を有する。
【0027】
実施例７
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１～４と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１～４での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１～４との相違点は以下のとおりである。
本発明の膜の実施形態の１つでは、本実施例の主な技術的解決手段は実施例１～４と基本的に同じであり、本実施例で説明されていない特徴は、実施例１～４での説明を採用し、ここで繰り返し説明しない。本実施例と実施例１～４との相違点は以下のとおりである。
【0028】
Ｓ１．先ず、コーティングする必要があるプラスチック膜の表面に対してコロナ処理を行い、次に、ロール状のプラスチック膜を真空コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が５×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引きし、蒸発源の近傍の酸素導入構造を利用して、４０００ｓｃｃｍ及び３５００ｓｃｃｍの通気量で圧縮酸素ガスを導入する。蒸発源の蒸着原料は、純度≧９９．９％の金属アルミニウムワイヤ又はアルミニウムインゴットであり、巻取り速度を３５０ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を３００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、蒸発したアルミニウム原子と酸素ガスを反応させて、移動している膜に接着層であるＡｌＯｘ（１≦ｘ≦１．５）層を形成し、該層の厚さが約１０ｎｍである。
Ｓ２．Ｓ１で得られた表面に接着層を有する膜をそれぞれ、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復及び非往復の蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前に、先ずプラズマ機器によってアルゴンガスを電離し、接着層の表面を洗浄し、アルゴンガス量が５００ｓｃｃｍであり、次に、蒸着領域に入って、蒸発の方式で純度≧９９．９％のアルミニウムを加熱し、巻取り速度をそれぞれ５ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を４００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、アルミニウムを蒸発機構に連続的に熔融して蒸発させ、接着層の表面にアルミニウム金属メッキ層であるアルミニウムメッキ層を形成し、該アルミニウム金属メッキ層の厚さが約８００～８５０ｎｍである。
Ｓ４．Ｓ３で得られたアルミニウムメッキ膜を、湿度＜５０％の室温環境に入れ、４８ｈ放置して熟成し、アルミニウムメッキ膜の表面に、空気中の酸素ガスや少量の水分の浸透により、より緻密な酸化防止層である酸化層を形成し、該酸化防止層の厚さが約２～４ｎｍであり、該膜が膜Ｃである。
Ｓ２．Ｓ１で得られた表面に接着層を有する膜をそれぞれ、プラズマ装置を備えた片面又は両面の往復及び非往復の蒸発コーティング機の真空チャンバー内に入れ、真空チャンバーを密封し、真空度が２×１０－２Ｐａに達するまで段階的に真空引き、蒸発領域に入る前に、先ずプラズマ機器によってアルゴンガスを電離し、接着層の表面を洗浄し、アルゴンガス量が５００ｓｃｃｍであり、次に、蒸着領域に入って、蒸発の方式で純度≧９９．９％のアルミニウムを加熱し、巻取り速度をそれぞれ５ｍ／ｍｉｎに設定し、ワイヤ供給量を４００ｍｍ／ｍｉｎに設定し、アルミニウムを蒸発機構に連続的に熔融して蒸発させ、接着層の表面にアルミニウム金属メッキ層であるアルミニウムメッキ層を形成し、該アルミニウム金属メッキ層の厚さが約８００～８５０ｎｍである。
Ｓ４．Ｓ３で得られたアルミニウムメッキ膜を、湿度＜５０％の室温環境に入れ、４８ｈ放置して熟成し、アルミニウムメッキ膜の表面に、空気中の酸素ガスや少量の水分の浸透により、より緻密な酸化防止層である酸化層を形成し、該酸化防止層の厚さが約２～４ｎｍであり、該膜が膜Ｃである。
【0029】
【表5】
【0030】
膜Ｃを製造する時に、低速単回成形を採用し、膜が大きな熱を受けるため、熱変形によるめっき空線が発生しやすく、膜面が黒くなることは、膜の移動が遅く、膜自体に含まれる水分が熱により焼かれて放出され、膜面にアルミニウムと反応させて類似のＡｌ（ＯＨ）３又は水和物質を生成するからであり、該反応により膜面が内部から外部まで全体的に黒くなる。また、単回の堆積量が大きすぎると、堆積する際に「ブリッジ効果」が引き起こされ、一部の穴が発生し、その剥離力も一定の影響を受け、膜Ｂよりも悪くなる。しかしながら、熱により連続的に焼かれるため、一部のＡｌ（ＯＨ）３又は水和物質が熱を受けＡｌ２Ｏ３に分解し、いくつかの穴を補い、これはある程度で剥離力を増加するため、膜Ａよりも良好であり、さらに、膜Ｃを製造する時に速度が遅すぎるため、チャンバーが深刻に汚染され、単回の完成品の数が少ない。
【0031】
以上より、適切な繰り返し回数を採用した千層ケーキ構造の導電性機能膜は、膜面、抵抗率及び剥離力の総合的な観点から非常に大きな優位性を有する。
【0032】
以上のように、本発明の好ましい具体的な実施形態に過ぎず、本発明の保護範囲は、これに限定されるものではなく、本発明に開示される技術範囲内に、当業者が容易に想到できる変更や置換は、いずれも本発明の保護範囲内に含まれるべきである。従って、本発明の保護範囲は、特許請求の保護範囲を基準とすべきである。
【符号の説明】
【0033】
Ｐ－基層、Ａ－接着層、Ｍ－アルミニウム金属層、Ｒ－補強層、Ｏ－酸化防止層
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【国際調査報告】