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特表2022-516986ステロイド化合物、その使用、およびその調製方法
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  • 特表-ステロイド化合物、その使用、およびその調製方法 図1
  • 特表-ステロイド化合物、その使用、およびその調製方法 図2
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-03-03
(54)【発明の名称】ステロイド化合物、その使用、およびその調製方法
(51)【国際特許分類】
   C07J 63/00 20060101AFI20220224BHJP
   A61K 31/56 20060101ALI20220224BHJP
   A61P 25/00 20060101ALI20220224BHJP
   A61P 25/24 20060101ALI20220224BHJP
【FI】
C07J63/00 CSP
A61K31/56
A61P25/00
A61P25/24
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2021539953
(86)(22)【出願日】2020-01-07
(85)【翻訳文提出日】2021-07-07
(86)【国際出願番号】 CN2020070755
(87)【国際公開番号】W WO2020143640
(87)【国際公開日】2020-07-16
(31)【優先権主張番号】201910017373.2
(32)【優先日】2019-01-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】521299949
【氏名又は名称】成都康弘薬業集団股▲フン▼有限公司
(74)【代理人】
【識別番号】110000338
【氏名又は名称】特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
(72)【発明者】
【氏名】柯瀟
(72)【発明者】
【氏名】王一茜
(72)【発明者】
【氏名】陳沛
【テーマコード(参考)】
4C086
4C091
【Fターム(参考)】
4C086AA01
4C086AA02
4C086AA03
4C086EA19
4C086MA03
4C086MA04
4C086MA52
4C086MA63
4C086MA66
4C086NA14
4C086ZA01
4C086ZA12
4C091AA06
4C091BB01
4C091CC01
4C091DD01
4C091EE04
4C091FF01
4C091GG01
4C091HH01
4C091JJ03
4C091KK01
4C091LL01
4C091MM03
4C091NN01
4C091PA07
4C091PB01
4C091QQ01
4C091RR08
4C091SS01
(57)【要約】
本発明は、ステロイド化合物、その使用、およびその調製方法に関する。このような化合物は、精神疾患および神経疾患を効果的に治療することができ、良好な活性有効性、薬物動態学的(PK)性能、経口生体利用性、安定性、安全性、クリアランス速度、および/または代謝性能などを有することが期待される。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式(I)の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩であって、
【化1】

式中、
R1は、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキル、置換もしくは非置換C1~6アルコキシ、置換もしくは非置換C2~6アルケニル、置換もしくは非置換C2~6アルキニル、または置換もしくは非置換C3~6カルボシクリルであり;
R2は、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換C1~6アルキル、置換もしくは非置換C1~6アルコキシ、置換もしくは非置換C2~6アルケニル、置換もしくは非置換C2~6アルキニル、置換もしくは非置換C3~6カルボシクリルであり;
R3は、水素、非置換C1~6アルキル、または-CHORであり、ここで、Rは、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキル、置換もしくは非置換C1~6アルコキシ、置換もしくは非置換C2~6アルケニル、置換もしくは非置換C2~6アルキニル、置換もしくは非置換C3~6カルボシクリルであり;
Lは、-C(Rb)(Rb)-であり、Rbそれぞれは、独立して、水素またはC1~C6アルキルであり、nは、0~3の整数であり;
R4は、ハロゲン、または置換もしくは非置換のヘテロアリールもしくはヘテロシクリルである;
化合物、またはその薬学的に許容可能な塩。
【請求項2】
R1は、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキルであり;
R2は、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキルであり;
R3は、水素、非置換C1~6アルキルであり;
Rbは、水素であり、nは、1~2の整数であり;
R4は、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ハロ、C1~C6アルキル、C1~C6アルコキシ、C1~C6ハロアルキル、-C(O)Rd、-C(O)N(Re)(Rf)、-C(O)O(Rd)、-N(Re)(Rf)、-OC(O)N(Re)(Rf)、-OC(O)O(Rd)、-OC(O)Rd、-S(O)0~2Rd、-S(O)0~2ORd、または-S(O)0~2N(Re)(Rf)で置換された、ヘテロアリールであり、
Rdそれぞれは、独立して、水素またはC1~C6アルキルであり;
ReおよびRfそれぞれは、独立して、水素、C1~C6アルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、またはヘテロアリールである;
請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩。
【請求項3】
R1は、水素またはメチルであり;
R2は、水素であり;
R3は、水素であり;
Lは、-CH-であり;
R4は、単環式もしくは二環式のヘテロアリール、または単環式もしくは二環式のヘテロシクリルであり、ヘテロ原子それぞれは、酸素または窒素または硫黄であり、前記二環式の環は、スピロであるかまたは縮合しており;
前記ヘテロアリールまたはヘテロシクリルは、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ハロ、C1~C6アルキル、C1~C6ハロアルキル、-S-、または-O-で置換されている;
請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩。
【請求項4】
R4は、2~4個の窒素原子を含有する5員もしくは6員のヘテロアリールであり、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシル、ハロ、C1~C6アルキル、C1~C6アルコキシ、またはC1~C6ハロアルキルで置換されている、請求項3に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩。
【請求項5】
前記化合物は、式(II)に示される化合物であり、
【化2】

式中、
R1は、水素、またはハロゲン置換もしくは非置換C1~3アルキルであり;
R2は、水素、ハロゲン、ハロゲン非置換もしくは置換C1~6アルキル、またはハロゲン非置換もしくは置換C1~6アルコキシであり;
Xは、CH、N、O、またはSであり;
R5は、以下からなる群から選択され;
【化3】

式中、
R6は、H、ハロゲン、CN、CF3、NO2、ハロゲン非置換もしくは置換C1~6アルキル、またはハロゲン非置換もしくは置換C1~6アルコキシである;
請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩。
【請求項6】
前記化合物は、以下からなる群から選択される;
【化4】

【化5】

請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩。
【請求項7】
請求項1~6のいずれか1項に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩と、
薬学的に許容可能な賦形剤と、を含む医薬組成物。
【請求項8】
請求項1~6のいずれか1項に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、および請求項7に記載の医薬組成物の、神経疾患を予防または治療するための薬物の調製における使用。
【請求項9】
前記神経疾患は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、痙性障害、記憶障害および/もしくは認知障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、物質乱用障害および切断症候群、または耳鳴からなる群より選択される、請求項8に記載の使用。
【請求項10】
前記気分障害は、うつ病であり、
前記うつ病は、重篤気分障害、重度の抑うつ性障害、持続性の抑うつ性障害、月経前緊張症、物質もしくは薬物誘発性障害、他の身体疾患による障害、または他の特定される抑うつ性障害および特定不能の抑うつ性障害である、請求項9に記載の使用。
【請求項11】
前記神経疾患は、軽度のうつ病、中等度のうつ病、重度のうつ病、または産後うつ病である、請求項9に記載の使用。
【請求項12】
前記医薬組成物は、経口、皮下、静脈内、または筋肉内投与される、請求項7に記載の医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、医薬品の分野に関し、特にステロイド化合物、その用途およびその調製方法に関する。
【背景技術】
【0002】
神経精神疾患には、不安症、うつ病、精神分裂病などが含まれ、中国では疾患全体の中で第1位であり、中国の疾患全体の約20%を占める(Wang Juncheng et al., China Health Service Management, 2009(5): 348-350)。絶え間ない社会近代化、労働リズムの加速、および生活負荷の高まりに伴い、様々な精神神経疾患を有する患者数は劇的に増加し、症状の進行は著しく加速しており、これらの疾患を治療するための新薬の開発、研究および製造がより切迫している。一方、臨床データからは、多くの患者が同時に様々な精神神経疾患に見舞われていることが示唆されている。精神神経疾患の同時罹患率が高いことが、臨床治療をより大きな課題に直面せしめている。
【0003】
動物では、GABA(ガンマ-アミノ酪酸)(γ-アミノ酪酸)は、神経組織にのみ存在し、免疫学的研究により、最高濃度のGABAは黒質において見られることが示されている。GABAは、重要な抑制性神経伝達物質であり、深く研究されてきた。GABAは、様々な代謝活動に関与し、高い生理学的活性を有する。GABA系は、脳および中枢神経系の主要な抑制性シグナル経路であり、中枢神経系の機能にとって大きな意義がある。GABA(A)レセプター(GARBAAR)は、イオンレセプターであり、リガンド開口型イオンチャネルである。主な抑制性神経伝達物質であるその内因性リガンドγ-アミノ酪酸(GABA)は、中枢神経系にある。GABA(A)レセプターの活性化後、細胞外Clは、GABAレセプターの細孔を選択的に通過させられる。Clは、内部電位が静止電位よりも低いときにニューロン細胞から流出し、内部電位が静止電位(すなわち-75mv)よりも高いときにニューロン細胞に流入する。これにより、活動電位の見込みをうまく減らし、神経伝達を抑制することができる。不安症およびうつ病は、同時罹患率が極めて高く、重複して併発する現象があると考えられる。不安症およびうつ病はまた、統合失調症の重要な精神症状である。研究結果により、これら3つの疾患の原因および病態においてGABA作動系およびGABA(A)レセプターが重要な役割を果たしていることが確認され、GABA作動系に関連した病態生理学的プロセスが3つの疾患すべての決定因子の1つである可能性が示された。GABA作動系およびGABA(A)レセプターは、不安症、うつ病および統合失調症の病態学的プロセスに、分子レベル、前臨床および臨床レベルで関与することが示されており、GABA(A)レセプターは、これらの疾患の治療における重要な薬物標的として長い間使用されてきた。
【0004】
GABAそのものに結合し、レセプター複合体(GRC)を形成して脳の興奮性を変化させることに加えて、GABA(A)レセプターは、バルビツール酸塩(商品名、セコバルビタールナトリウム)、ベンゾジアゼピン(商品名、ジアゼパム)などの他の低分子化合物と結合できることが臨床試験で確認された。これらの薬物は、それぞれGABA(A)レセプターの特定のアロステリック部位に結合し、その治療効果を発揮する。さらに、研究により、GABA(A)レセプター上にステロイド化合物のためのユニークな結合部位があることが示されている(Lan, NC et al., Neurochem. Res. 16: 347-356 (1991))。
【0005】
神経刺激性ステロイドは、内因的に生じ得る。最も強力な内因性神経刺激性ステロイドは、3α-ヒドロキシ-5-還元型プレグナン-20-オン、および3α-21-ジヒドロキシ-5-還元型プレグナン-20-オンであり、それぞれ、ホルモンステロイドであるプロゲステロンおよびデオキシコルチコステロンの代謝産物である。脳興奮性を変化させるこれらのステロイド代謝産物の能力は、1986年に認知された(Majewska, M. D. et al., Science 232: 1004-1007 (1986); Harrison, N. L. et al., J. Pharmacol. Exp. Ther.241:346-353 (1987))。卵巣ホルモンプロゲステロンおよびその代謝産物は、脳興奮性に対して深刻な影響を有することが実証されている(Backstrom, T. et al, Acta Obstet. Gynecol. Scand. Suppl. 130: 19-24 (1985); Pfaff, D.W and McEwen, B. S., Science 219:808-814 (1983); Gyermek et al, J Med Chem. 11 : 117 (1968); Lambert, J. et al, Trends Pharmacol. Sci. 8:224-227 (1987))。プロゲステロンおよびその代謝産物の濃度は、月経周期の段階によって異なる。月経が始まる前にプロゲステロンおよびその代謝産物の濃度が低下することは、十分に立証されている。月経開始前の特定の身体症状が月毎に再発することも十分に立証されている。これらの症状は、月経前症候群(PMS)と関連付けられるようになっており、ストレス(緊張)、不安、および片頭痛を含む(Dalton, K., Premenstrual Syndrome and Progesterone Therapy, 2nd edition, Chicago Yearbook, Chicago (1984))。PMSを有する対象は、月1回の頻度で再発し、月経前に存在し、月経後には認められない症状を有する。
【0006】
他の研究は、プロゲステロンの減少がてんかんの女性患者における発作頻度の増加と関連することを見出している(Laidlaw, J., Lancet, 1235-1237 (1956))。プロゲステロン代謝産物の減少とはより直接的な相関性が観察されている(Rosciszewska et al, J. Neurol. Neurosurg. Psych. 49:47-51 (1986))。また、原発性全身小発作てんかんの対象については、発作の時間的発生率が、月経前症候群の症状の発生率と相関している(Backstrom, T. et al, J. Psychosom. Obstet. Gynaecol. 2:8-20 (1983))。ステロイドデオキシコルチコステロンは、月経周期と相関するてんかん発作を有する対象の治療に有効であることが見出されている(Aird, RB. and Gordan, G, J. Amer. Med. Soc. 145:715-719 (1951))。
【0007】
また、低濃度プロゲステロンに関連する症候群は、産後うつ病(PPD)である。出産直後には、プロゲステロン濃度が劇的に低下し、PPDの発症につながる。PPDの症状は、軽度のうつ病から、入院を必要とする精神病にまで及ぶ。PPDはまた、重度の不安症および神経過敏とも関連している。PPDは古典的な抗うつ薬による治療からは影響を受けにくく、PPDを経験している女性はPMSの発生率の増加を示す(Dalton, K., Premenstrual Syndrome and Progesterone Therapy, 2nd edition, Chicago Yearbook, Chicago (1984))。まとめると、これらの観察は、プロゲステロンおよびデオキシコルチコステロン、ならびに、さらに具体的にはその代謝産物が、脳の興奮性のホメオスタシス調節において、重要な役割を果たしていることを意味しており、これは月経関連性てんかん、PMSおよびPPDに関連する発作活動または症状の増加として顕著である。
【0008】
多くの研究は、関連する疾患を効果的に治療できる薬物を得るために、GABA(A)レセプターに基づいている。CN103958540A、CN10533928Aなどは、神経精神疾患の治療のための一連の神経性ステロイド化合物を開示している。GABA(A)はγ-アミノ酪酸レセプター(GABA R)のサブタイプであり、GABA Rには、GABA(A)、GABA(B)およびGABA(C)の3つのサブタイプがある。GABA (A)は、塩化物イオンチャネルである。
【0009】
GABA(A)は、5つのサブユニット(ポリペプチド鎖)から構成され、ヘテロペンタマー構造を形成する。5つのサブユニットのうち、2組は同一であるので、具体的なGABA(A)レセプターには3種類のサブユニットがあり、一般にα、β、γとして知られている。サブユニットそれぞれはいくつかの異なるサブタイプを有し、αはα、α、α、α、α、α6を有し、βはβ、β、βを有し、γはγ、γ、γ、γを有する。さらに、δ、ε、ρ1~3、θ、πなどのサブユニットが存在し、αおよびβとペンタマーを形成できる。
【0010】
統計によると、サブユニットの組み合わせが異なるGABA(A)レセプターは合計23個である。レセプターの特異的アイソフォームは、脳内のニューロンの分布領域に関係している。たとえば、γサブユニットを含むGABA(A)レセプターは主にシナプスの内側に位置し、δサブユニットを含むGABA(A)レセプターは主にシナプスの外側(シナプス外)に分布している。(Activation of GABA(A) Receptors: Views from Outside the Synaptic Cleft, Neuron, Vol 56, 2007, 763-770);ある研究(Endogenous neurosteroids regulate GABA(A) receptors through two discrete transmembrane sites:Nature.Vol 444.23 November. 2006.486-489)は、テトラヒドロデオキシコルチコステロン(THDOC)などの内因性ステロイドは、高濃度(マイクロモルレベル)ではシナプス中のGABAレセプターαβγ(以下、GABAA1と呼ぶ)を直接的に活性化し、一方、低濃度(サブマイクロモルレベル)ではGABAレセプターαβγを増強することを示した。
【0011】
【化1】
【0012】
しかしながら、シナプス外のレセプターサブタイプ(αβδなど、以下、GABAA4と呼ぶ)を直接的に活性化することができるステロイド化合物についての報告は、なされていない。
【発明の概要】
【0013】
本発明の目的の1つは、神経疾患をより効果的に治療することができるステロイド化合物を提供することである。本発明の化合物は、良好な有効性、薬物動態学的(PK)特性、経口生体利用性、製剤化可能性、安定性、安全性、クリアランス、および/または代謝を提供し、知覚麻酔および鎮静のような副作用を低減することが期待される。
【0014】
上記の目的を考慮して、本発明は、式(I)の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩を提供する。
【0015】
【化2】
【0016】
式中、
R1は、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキル、置換もしくは非置換C1~6アルコキシ、置換もしくは非置換C2~6アルケニル、置換もしくは非置換C2~6アルキニル、または置換もしくは非置換C3~6カルボシクリルである。
【0017】
R2は、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換C1~6アルキル、置換もしくは非置換C1~6アルコキシ、置換もしくは非置換C2~6アルケニル、置換もしくは非置換C2~6アルキニル、置換もしくは非置換C3~6カルボシクリルである。
【0018】
R3は、水素、非置換C1~6アルキル、または-CHORであり、ここで、Rは、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキル、置換もしくは非置換C1~6アルコキシ、置換もしくは非置換C2~6アルケニル、置換もしくは非置換C2~6アルキニル、置換もしくは非置換C3~6カルボシクリルである。
【0019】
Lは、-C(Rb)(Rb)-であり、Rbそれぞれは、独立して、水素またはC1~C6アルキルであり、nは、0~3の整数である。
【0020】
R4は、ハロゲン、または置換もしくは非置換のヘテロアリールもしくはヘテロシクリルである。
【0021】
さらに好ましい化合物は、
R1は、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキルであり;
R2は、水素、置換もしくは非置換C1~6アルキルであり;
R3は、水素、非置換C1~6アルキルであり;
Rbは、水素であり、nは、1~2の整数であり;
R4は、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ハロ、C1~C6アルキル、C1~C6アルコキシ、C1~C6ハロアルキル、-C(O)Rd、-C(O)N(Re)(Rf)、-C(O)O(Rd)、-N(Re)(Rf)、-OC(O)N(Re)(Rf)、-OC(O)O(Rd)、-OC(O)Rd、-S(O)0~2Rd、-S(O)0~2ORd、または-S(O)0~2N(Re)(Rf)で置換された、ヘテロアリールであり、
Rdそれぞれは、独立して、水素またはC1~C6アルキルであり;
ReおよびRfそれぞれは、独立して、水素、C1~C6アルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリールである。
【0022】
さらに好ましい化合物は、
R1は、水素またはメチルであり;
R2は、水素であり;
R3は、水素であり;
Lは、-CH-であり;
R4は、単環式もしくは二環式のヘテロアリール、または単環式もしくは二環式のヘテロシクリルであり、ヘテロ原子それぞれは、酸素または窒素または硫黄であり、二環式の環は、スピロであってもよくまたは縮合していてもよい。
【0023】
さらに好ましい化合物は、
R4は、2~4個の窒素原子を含有する5員もしくは6員のヘテロアリールであり、任意にシアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ハロ、C1~C6アルキル、C1~C6アルコキシ、C1~C6ハロアルキルで置換されている。
【0024】
または、式IIに示される化合物である。
【0025】
【化3】
【0026】
式中、
R1は、水素、またはハロゲン置換もしくは非置換C1~3アルキル基であり;
R2は、水素、ハロゲン、ハロゲン置換もしくは非置換C1~6アルキル基、またはハロゲン置換もしくは非置換C1~6アルコキシ基であり;
Xは、CH、N、O、またはSであり;
R5は、以下の群から選択される。
【0027】
【化4】
【0028】
式中、
R6は、H、ハロゲン、CN、CF3、NO2、ハロゲン置換もしくは非置換C1~6アルキル、またはハロゲン置換もしくは非置換C1~6アルコキシである。
【0029】
または、好ましい化合物は、以下から選択される。
【0030】
【化5】

【0031】
【化6】
【0032】
【化7】
【0033】
本発明はまた、上記の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩のいずれか、または薬学的に許容可能な賦形剤を含む医薬組成物を提供する。
【0034】
本発明はまた、GABA(A)レセプターに正または負の影響を及ぼすような、GABAモジュレーターとして作用することができる、本明細書に記載の化合物を提供する。中枢神経系(CNS)の興奮性のモジュレーターとして、このような化合物は、GABA(A)レセプターを調節するその能力によって、CNS活性を有することが期待される。
【0035】
本発明はさらに、本明細書に記載の化合物、または医薬組成物の、神経疾患の予防または治療における用途を提供する。当該神経疾患は、好ましくは睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、痙性障害、記憶障害および/もしくは認知障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、物質乱用障害および/もしくは禁断症候群、または耳鳴から選択され;当該気分障害は、うつ病であり、当該うつ病は、重篤気分障害、重度の抑うつ性障害、持続性の抑うつ性障害、月経前緊張症、物質もしくは薬物誘発性障害、身体疾患による障害、他の特定される抑うつ性障害および特定不能の抑うつ性障害であり、好ましくは軽度のうつ病、中等度のうつ病、重度のうつ病、または産後うつ病である。また、上記の化合物または医薬組成物は、経口、皮下、静脈内、または筋肉内投与することができる。
【0036】
〔定義〕
〔化学的定義〕
本明細書に記載の化合物は、1つ以上の不斉中心を含み得、したがって、種々の異性体形態にて、例えばエナンチオマーおよび/またはジアステレオマーにて、存在し得る。例えば、本明細書に記載の化合物は、個別のエナンチオマー、ジアステレオマーまたは幾何異性体の形態であり得、または立体異性体の混合物の形態であり得る。当該混合物の形態には、ラセミ混合物および1つ以上の立体異性体に富む混合物が含まれる。異性体は、キラル高圧液体クロマトグラフィー(HPLC)およびキラル塩の形成および結晶化を含む、当業者に公知の方法によって、混合物から単離することができ;または、好ましい異性体は、不斉合成によって調製することができる。
【0037】
以下の用語は、それと共に提供される以下の意味を有することが意図され、本発明の記載および意図される範囲を理解するために有用である。本発明を記載する場合、それは、化合物、当該化合物を含有する医薬組成物、ならびに試験方法の化合物および組成物を含み得る。本発明に含まれる用語の定義については、以下の記載を参照することができ、以下に定義される部分はいずれも、多くの置換基で置換されてもよい。対応する定義は、そのような置換された部分を含めて、以下に列挙されるそれらの範囲の内である。特に明記しない限り、用語「置換」は、以下に定義されるとおりである。
【0038】
「アルキル」は、1~20個の炭素原子を有する直鎖または分枝飽和炭化水素基(「C1~20アルキル」)を指す。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~12個の炭素原子を有する(「C1~12アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~10個の炭素原子を有する(「C1~10アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~9個の炭素原子を有する(「C1~9アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~8個の炭素原子を有する(「C1~8アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~7個の炭素原子(「C1~7アルキル」)を有する。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~6個の炭素原子を有する(「C1~6アルキル」、本明細書では「低級アルキル」とも呼ぶ)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~5個の炭素原子(「C1~5アルキル」)を有する。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~4個の炭素原子を有する(「C1~4アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は1~3個の炭素原子を有する(「C1~3アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1~2個の炭素原子を有する(「C1~2アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、1個の炭素原子を有する(「C1アルキル」)。いくつかの実施形態において、アルキル基は、2~6個の炭素原子を有する(「C2~6アルキル」)。C1~6アルキル基の例には、メチル(C1)、エチル(C2)、n-プロピル(C3)、イソプロピル(C3)、n-ブチル(C4)、tert-ブチル(C4)、sec-ブチル(C4)、イソブチル(C4)、n-ペンチル(C5)、3-ペンタニル(C5)、ネオペンチル(C5)、3-メチル-2-ブタニル(C5)、第三級アミル(C5)、およびn-ヘキシル(C6)が含まれる。アルキル基のさらなる例には、n-ヘプチル(C7)、n-オクチル(C8)などが含まれる。特に明記しない限り、アルキル基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基、例えば1~5個の置換基、1~3個の置換基、または1個の置換基で、置換されていない(「非置換アルキル」)か、または置換されている(「置換アルキル」)。特定の実施形態において、アルキル基は、非置換C1~10アルキル(例えば、-CH3)である。特定の実施形態において、アルキル基は、置換C1~10アルキルである。
【0039】
「アルケニル」は、2~20個の炭素原子、1個以上の炭素-炭素二重結合(例えば、1、2、3、または4個の炭素-炭素二重結合)、および任意に1個以上の炭素-炭素三重結合(例えば、1、2、3、または4個の炭素-炭素三重結合)を有する直鎖または分枝炭化水素基(「C2~20アルケニル」)を指す。特定の実施形態において、アルケニルは、三重結合を全く含有しない。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~10個の炭素原子を有する(「C2~10アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~9個の炭素原子を有する(「C2~9アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~8個の炭素原子を有する(「C2~8アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~7個の炭素原子を有する(「C2~7アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~6個の炭素原子を有する(「C2~6アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~5個の炭素原子を有する(「C2~5アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~4個の炭素原子を有する(「C2~4アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2~3個の炭素原子を有する(「C2~3アルケニル」)。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、2個の炭素原子を有する(「C2アルケニル」)。1個以上の炭素-炭素二重結合は、内部のもの(2-ブテニルなど)であっても、または末端のもの(1-ブテニルなど)であってもよい。C2~4アルケニル基の例には、エテニル(C2)、1-プロペニル(C3)、2-プロペニル(C3)、1-ブテニル(C4)、2-ブテニル(C4)、ブタジエニル(C4)などが含まれる。C2~6アルケニル基の例には、上述のC2~4アルケニル基、およびペンテニル(C5)、ペンタジエニル(C5)、ヘキセニル(C6)などが含まれる。アルケニルのさらなる例には、ヘプテニル(C7)、オクテニル(C8)、オクタトリエニル(C8)などが含まれる。特に明記しない限り、アルケニル基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基、例えば1~5個の置換基、1~3個の置換基、または1個の置換基で、置換されていない(「非置換アルケニル」)か、または置換されている(「置換アルケニル」)。特定の実施形態において、アルケニル基は、非置換C2~10アルケニルである。特定の実施形態において、アルケニル基は、置換C2~10アルケニルである。
【0040】
「アルキニル」は、2~20個の炭素原子、1個以上の炭素-炭素三重結合(例えば、1、2、3、または4個の炭素-炭素三重結合)、および任意に1個以上の炭素-炭素二重結合(例えば、1、2、3、または4個の炭素-炭素二重結合)を有する直鎖または分枝炭化水素基(「C2~20アルキニル」)を指す。特定の実施形態において、アルキニルは、二重結合を全く含有しない。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~10個の炭素原子を有する(「C2~10アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~9個の炭素原子を有する(「C2~9アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~8個の炭素原子を有する(「C2~8アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~7個の炭素原子を有する(「C2~7アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~6個の炭素原子を有する(「C2~6アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~5個の炭素原子を有する(「C2~5アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~4個の炭素原子を有する(「C2~4アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2~3個の炭素原子を有する(「C2~3アルキニル」)。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、2個の炭素原子を有する(「C2アルキニル」)。1個以上の炭素-炭素三重結合は、内部のもの(2-ブチニルなど)であっても、または末端のもの(1-ブチニルなど)であってもよい。C2~4アルキニル基の例には、限定するものではないが、エチニル(C2)、1-プロピニル(C3)、2-プロピニル(C3)、1-ブチニル(C4)、2-ブチニル(C4)などが含まれる。C2~6アルケニル基の例には、上述のC2~4アルキニル基、およびペンチニル(C5)、ヘキシニル(C6)などが含まれる。アルキニル基のさらなる例には、ヘプチニル(C7)、オクチニル(C8)などが含まれる。特に明記しない限り、アルキニル基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基、例えば1~5個の置換基、1~3個の置換基、または1個の置換基で、置換されていない(「非置換アルキニル」)か、または置換されている(「置換アルキニル」)。特定の実施形態において、アルキニル基は、非置換C2~10アルキニルである。特定の実施形態において、アルキニル基は、置換C2~10アルキニルである。
【0041】
「アリール」は、6~14個の環炭素原子およびゼロ個のヘテロ原子を芳香族環系に有する、単環式または多環式(例えば、二環式または三環式)4n+2芳香族環系(例えば、環式配列で共有される6、10または14個のπ電子を有する)(「C6~14アリール」)を指す。いくつかの実施形態において、アリール基は、6個の炭素原子の環を有する(「C6アリール」;例えば、フェニル)。いくつかの実施形態において、アリール基は、10個の環炭素原子を有する(「C10アリール」;例えば、1ナフチルおよび2-ナフチルなどのナフチル)。いくつかの実施形態において、アリール基は、14個の環炭素原子を有する(「C14アリール」;例えば、アントラシル)。「アリール」にはまた、上記で定義されるように、アリール環が1つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合している環系も含まれる。ここで、ラジカルまたは結合点は、アリール環上にあり、そのような場合、炭素原子の数は、引き続きアリール環系中の炭素原子の数を表す。典型的なアリール基には、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレン、as-インダセン、s-インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ-2,4-ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレンおよびトリナフタレン由来の基が含まれるが、これらに限定されない。特にアリール基には、フェニル、ナフチル、インデニル、およびテトラヒドロナフチルが含まれる。特に明記しない限り、アリール基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基で、置換されていない(「非置換アリール」)か、または置換されている(「置換アリール」)。特定の実施形態において、アリール基は、非置換C6~14アリールである。特定の実施形態において、アリール基は、置換C6~14アリールである。
【0042】
「ヘテロアリール」は、芳香族環系中に環炭素原子および1~4個のヘテロ原子を有する5~10員の単環式または二環式の4n+2芳香族環系(例えば、環式配列で共有される6または10個のπ電子を有する)のラジカル(「5~10員のヘテロアリール」)を指す。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。1つ以上の窒素原子を含有するヘテロアリール基において、結合点は、結合価が許容するならば、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロアリール二環式環系は、1つまたは両方の環中に、1つ以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロアリール」には、上記で定義されたヘテロアリール環が1つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合している環系が含まれる。ここで、結合点は、ヘテロアリール環上にあり、そのような場合、環員の数は、引き続きヘテロアリール環系中の環員の数を表す。「ヘテロアリール」にはまた、上記で定義されたヘテロアリール環が1つ以上のアリール基と縮合している環系も含まれる。ここで、結合点は、アリール環上またはヘテロアリール環上のいずれかにあり、そのような場合、環員の数は、縮合(アリール/ヘテロアリール)環系中の環員の数を表す。1つの環がヘテロ原子を含まない二環式ヘテロアリール基(例えば、インドリル、キノリニル、カルバゾリルなど)は、結合点がいずれかの環上にあり、すなわち、ヘテロ原子を有する環(例えば、2-インドリル)またはヘテロ原子を含まない環(例えば、5-インドリル)のいずれかにあり得る。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系中に環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する5~10員の芳香族環系(「5~10員のヘテロアリール」)である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系中に環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する5~8員の芳香族環系(「5~8員のヘテロアリール」)である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系中に環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する5~6員の芳香族環系(「5~6員のヘテロアリール」)である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、5~6員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される1~3個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、5~6員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される1~2個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、5~6員のヘテロアリールは、窒素、酸素および硫黄から選択される1個の環ヘテロ原子を有する。特に明記しない限り、ヘテロアリール基の例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基で、置換されていない(「非置換ヘテロアリール」)か、または置換されている(「置換ヘテロアリール」)。特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、非置換5~14員ヘテロアリールである。特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、置換5~14員ヘテロアリールである。1個のヘテロ原子を含有する例示的な5員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ピロリル、フラニルおよびチオフェニルが含まれる。2個のヘテロ原子を含有する例示的な5員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、およびイソチアゾリルが含まれる。3個のヘテロ原子を含有する例示的な5員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、トリアゾリル、オキサジアゾリル、およびチアジアゾリルが含まれる。4個のヘテロ原子を含有する例示的な5員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、テトラゾリルが含まれる。1個のヘテロ原子を含有する例示的な6員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ピリジニルが含まれる。2つのヘテロ原子を含有する例示的な6員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ピリダジニル、ピリミジニル、およびピラジニルが含まれる。3個または4個のヘテロ原子を含有する例示的な6員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、それぞれ、トリアジニルおよびテトラジニルが含まれる。1個のヘテロ原子を含有する例示的な7員ヘテロアリール基には、限定するものではないが、アゼピニル、オキセピニル、およびチエピニルが含まれる。例示的な5,6-二環式ヘテロアリール基には、限定するものではないが、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、インドリジニル、およびプリニルが含まれる。例示的な6,6-二環式ヘテロアリール基には、限定するものではないが、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シノリニル、キノキサリニル、フタラジニル、およびキナゾリニルが含まれる。
【0043】
「カルボシクリル(carbocyclyl)」または「カルボシクリック(carbocyclic)」は、非芳香族環系中に3~10個の環炭素原子(「C3~10カルボシクリル」)およびゼロ個のヘテロ原子を有する非芳香族環状炭化水素基のラジカルを指す。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、3~8個の環炭素原子を有する(「C3~8カルボシクリル」)。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、3~6個の環炭素原子を有する(「C3~6カルボシクリル」)。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、3~6個の環炭素原子を有する(「C3~6カルボシクリル」)。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、5~10個の環炭素原子を有する(「C5~10カルボシクリル」)。例示的なC3~6カルボシクリル基には、シクロプロピル(C3)、シクロプロペニル(C3)、シクロブチル(C4)、シクロブテニル(C4)、シクロペンチル(C5)、シクロペンテニル(C5)、シクロヘキシル(C6)、シクロヘキセニル(C6)、シクロヘキサジエニル(C6)などが含まれるが、これらに限定されない。例示的なC3~8カルボシクリル基には、上記のC3~6カルボシクリック基、およびシクロヘプチル(C7)、シクロヘプテニル(C7)、シクロヘプタジエニル(C7)、シクロヘプタトリエニル(C7)、シクロオクチル(C8)、シクロオクテニル(C8)、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル(C7)、ビシクロ[2.2.2]オクチル(C8)などが含まれるが、これらに限定されない。例示的なC3~10カルボシクリル基には、上記のC3~8カルボシクリル基、およびシクロノニル(C9)、シクロノネニル(C9)、シクロデシル(C10)、シクロデセニル(C10)、オクタヒドロ-1H-インデニル(C9)、デカヒドロナフチル(C10)、スピロ[4.5]デシル(C10)などが含まれるが、これらに限定されない。上述の例によって説明されるように、いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、単環式環(「単環式カルボシクリル」)、または、二環式環系(「二環式カルボシクリル」)などの縮合環系、架橋環系もしくはスピロ環系を含むカルボシクリル基である。カルボシクリル基は、飽和または部分的に不飽和のカルボシクリル基であり得る。「カルボシクリル」にはまた、上記のカルボシクリック環が1個以上のアリールまたはヘテロアリール基に縮合した環系も含まれる。ここで、結合点は、カルボシクリック環上にあり、そのような場合、炭素の数は、引き続きカルボシクリック環系中の炭素の数を表す。特に明記しない限り、カルボシクリル基それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基で、置換されていない「非置換カルボシクリル」か、または置換されている(「置換カルボシクリル」)。いくつかの実施形態において、カルボシクリルは、非置換C3~10カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、カルボシクリルは、置換C3~10カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、「カルボシクリル」は、3~10個の環炭素原子を有する、単環式の飽和カルボシクリル(「C3~10シクロアルキル」)である。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、3~8個の環炭素原子を有する(「C3~8シクロアルキル」)。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、3~6個の環炭素原子を有する(「C3~6シクロアルキル」)。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、5~6個の環炭素原子を有する(「C5~6シクロアルキル」)。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、5~10個の環炭素原子を有する(「C5~10シクロアルキル」)。C5~6シクロアルキル基の例には、シクロペンチル(C5)およびシクロヘキシル(C6)が含まれる。C3~6シクロアルキル基の例には、上記のC5~6シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル(C3)およびシクロブチル(C4)が含まれる。C3~8シクロアルキル基の例には、上記のC3~6シクロアルキル基、ならびにシクロヘプチル(C7)およびシクロオクチル(C8)が含まれる。特に明記しない限り、シクロアルキル基の例それぞれは、独立して、1個以上の置換基で、置換されていない(「非置換シクロアルキル」)か、または置換されている(「置換シクロアルキル」)。いくつかの実施形態において、シクロアルキルは、非置換C3~10シクロアルキルである。いくつかの実施形態において、シクロアルキルは置換C3~10シクロアルキルである。
【0044】
「ヘテロシクリル」または「ヘテロシクリック」は、環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する3~10員の非芳香族環系のラジカル(「3~10員ヘテロシクリル」)を指す。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リンおよびケイ素から選択される。1つ以上の窒素原子を含有するヘテロシクリック基において、結合点は、結合価が許容するならば、炭素原子または窒素原子であり得る。ヘテロシクリル基は、単環式(「単環式ヘテロシクリル」)、または、二環式系(「二環式ヘテロシクリル」)などの縮合、架橋もしくはスピロ環系のいずれかであり得る。ヘテロシクリル基は、飽和または部分的に不飽和であり得る。ヘテロシクリル二環式環系は、1つまたは両方の環中に、1つ以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロシクリル」にはまた、上記で定義されたヘテロシクリル環が1つ以上のカルボシクリル基と縮合し結合点がカルボシクリルもしくはヘテロシクリル環上にある環系、または、上記で定義されたヘテロシクリル環が1つ以上のアリールもしくはヘテロアリール基と縮合し結合点がヘテロシクリル環上にある環系も含まれる。そのような場合、環員の数は、引き続きヘテロシクリル環系中の環員の数を表す。特に明記しない限り、ヘテロシクリルの例それぞれは、独立して、任意に置換されており、すなわち、1個以上の置換基で、置換されていない(「非置換ヘテロシクリル」)か、または置換されている(「置換ヘテロシクリル」)。特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、非置換3~10員ヘテロシクリルである。特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、置換3~10員ヘテロシクリルである。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する5~10員の非芳香族環系(「5~10員のヘテロシクリル」)である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リンおよびケイ素から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する5~8員の非芳香族環系(「5~8員のヘテロシクリル」)である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子および1~4個の環ヘテロ原子を有する5~6員の非芳香族環系(「5~6員のヘテロシクリル」)である。ここで、ヘテロ原子それぞれは、独立して、窒素、酸素および硫黄から選択される。いくつかの実施形態において、5~6員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される1~3個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、5~6員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される1~2個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、5~6員のヘテロシクリルは、窒素、酸素および硫黄から選択される1個の環ヘテロ原子を有する。
【0045】
化合物または化合物上に存在する基を説明するために使用される場合の「ヘテロ」は、当該化合物または基中の1個以上の炭素原子が窒素、酸素または硫黄ヘテロ原子で置換されていることを意味する。ヘテロは、上記のヒドロカルビルのいずれにも適用することができる:例えば、アルキル、例えばヘテロアルキル;シクロアルキル基、例えばヘテロシクリル基;アリール、例えばヘテロアリール;シクロアルケニル基、例えばシクロヘテロアルケニルなど;当該ヒドロカルビルは、1~5個のヘテロ原子、特に1~3個のヘテロ原子を有する。
【0046】
「アルコキシ」は、基-ORを指す。ここで、Rは、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。特定のアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、tert-ブトキシ、sec-ブトキシ、n-ペントキシ、n-ヘキソキシ、および1,2-ジメチルブトキシである。特定のアルコキシ基は、低級アルコキシ、すなわち1~6個の炭素原子を有するものである。さらなる特定のアルコキシ基は、1~4個の炭素原子を有する。例示的な置換アルコキシ基には、以下が含まれるが、これらに限定されない:-O-(CH(C~C10アリール)、-O-(CH(5~10員ヘテロアリール)、-O-(CH(C~C10シクロアルキル)、および-O-(CH(4~10員ヘテロシクリル);ここで、tは、0~4の整数である。任意の置換される基には、存在するアリール、ヘテロアリール、シクロアルキルまたはヘテロシクリル基が含まれ、それ自体が、非置換C~Cアルキル基、ハロ、非置換C~Cアルコキシ基、非置換C~Cハロアルキル基、非置換C~Cヒドロキシアルキル基、もしくは非置換C~Cハロアルコキシ基、またはヒドロキシ基によって、置換され得る。
【0047】
「カルボキシ」は、-C(O)OHを指す。
【0048】
「シアノ」は、-CNを指す。
【0049】
「ハロ」または「ハロゲン」は、フッ素原子(F)、塩素原子(Cl)、臭素原子(Br)、およびヨウ素原子(I)を指す。特定の実施形態において、ハロ基は、フッ素原子または塩素原子のいずれかである。
【0050】
「ヒドロキシ」は、-OHを指す。
【0051】
「ニトロ」は、-NO2を指す。
【0052】
〔他の定義〕
用語「薬学的に許容可能な塩」は、信頼できる医学的判断の範囲内で、過度の毒性、刺激、アレルギー反応などを伴わずにヒトおよび下等動物の組織と接触して使用するために適しており、合理的な利益/リスク比に釣り合う、それらの塩を指す。薬学的に許容可能な塩は、当技術分野で公知である。例えば、Bergeらは、J. Pharmaceutical Sciences (1977) 66:1-19に薬学的に許容可能な塩を詳細に記載している。本発明の化合物の薬学的に許容可能な塩には、適切な無機および有機の酸および塩基から誘導されるものが含まれる。薬学的に許容可能な無毒性の酸付加塩の例は、アミノ基の塩である。当該アミノ基の塩は、塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸および過塩素酸などの無機酸を用いて形成されるか、または、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸もしくはマロン酸などの有機酸を用いて形成されるか、または、イオン交換などの当技術分野で使用される他の方法を使用することによって形成される。他の薬学的に許容可能な塩には、アジピン酸塩、アルギン酸塩、アスコルビン酸塩、アスパラギン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重硫酸塩、ホウ酸塩、酪酸塩、ショウノウ酸塩、ショウノウスルホン酸塩、クエン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ジグルコン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタンスルホン酸塩、ギ酸塩、フマル酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、グルコン酸塩、ヘミ硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、ヨウ化水素酸塩、2-ヒドロキシ-エタンスルホン酸塩、ラクトビオン酸塩、乳酸塩、ラウリン酸塩、ラウリン硫酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マロン酸塩、メタンスルホン酸塩、2-ナフタレンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、硝酸塩、オレイン酸塩、シュウ酸塩、パルミチン酸塩、パモ酸塩、ペクチン酸塩、過硫酸塩、3-フェニルプロピオン酸塩、リン酸塩、ピクリン酸塩、ピバリン酸塩、プロピオン酸塩、ステアリン酸塩、コハク酸塩、硫酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、ウンデカン酸塩、吉草酸塩などが含まれる。適切な塩基から誘導される薬学的に許容可能な塩には、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩およびN+(C1~4アルキル)4塩が含まれる。代表的なアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩には、ナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどが含まれる。さらなる薬学的に許容可能な塩には、適切な場合には、ハロゲン化物、水酸化物、カルボン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、低級アルキルスルホン酸塩、およびアリールスルホン酸塩などの対イオンを用いて形成される、非毒性アンモニウム、第四級アンモニウム、およびアミンカチオンが含まれる。
【図面の簡単な説明】
【0053】
図1図1は、血漿および脳におけるコントロールの経時的変化を示すグラフである。
図2図2は、血漿および脳におけるKH022の経時的変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0054】
本発明の技術的基本構想をより良く説明するために、本発明は、一部の化合物の合成または生物学的例を提供するが、本発明の保護範囲をさらに限定するものではない。
【0055】
〔材料および方法〕
本明細書中に提供される化合物は、容易に入手可能な出発材料から、以下の一般的な方法および手順を使用して、調製することができる。典型的な、または好ましいプロセス条件下(すなわち、反応温度、時間、反応物のモル比、溶媒、圧力など)では、特に明記しない限り、他のプロセス条件を使用することもできることが理解される。最適な反応条件は、使用される特定の反応物または溶媒によって、変化し得る。しかし、そのような条件は、日常的な最適化に基づいて当業者によって決定され得る。
【0056】
さらに、特定の官能基の望ましくない反応を防止するために、従来の保護基が要求され得ることは、当業者には明らかである。特定の官能基のための適切な保護基をどのように選択するか、および保護および脱保護のための適切な条件をどのように選択するかは、当技術分野で公知である。
【0057】
本明細書中に提供される化合物は、公知の標準的な方法によって、単離および精製され得る。当該方法には、再結晶、カラムクロマトグラフィー、HPLC、または超臨界流体クロマトグラフィー(SFC)が含まれるが、これらに限定されない。本明細書中の代表的なピラゾールの調製の詳細は、以下の反応スキームにおいて提供される。
【0058】
本明細書中に提供される化合物は、当業者に公知の適切な試薬、出発材料および精製方法を使用して、当技術分野に記載される方法にしたがって、調製され得る。
【0059】
〔実施例1:化合物KH001の合成〕
【0060】
【化8】
【0061】
化合物KHC-2:KCN(600.0g、9.2mol)、酢酸(640mL)を、メタノール(4L)中の化合物KHC-1(100.0g、0.3mol)の溶液に添加し、室温(RT)にて一晩、反応物を撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチル(EA)を用いて抽出した。有機相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮し、粗生成物を得た。これを酢酸(2.5L)に溶解した。二酸化プラチナ(24.0g、0.1mol)を反応溶液に添加し、Hガスを用いて水素化を行った。反応が完了したことをTLCが示したら、反応溶液を濾過し、次いで濾液を約200mLにまで濃縮し、氷水(2.4L)で希釈した。NaNO(46.0g、0.7mol)水溶液を混合物にゆっくりと滴下した後、混合物を室温にて15時間、撹拌し、EAを用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、ブラインを用いて洗浄し、乾燥させ、濃縮し、シリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、KHC-2(57.3g、収率55%)を得た。
【0062】
化合物KHC-3:N雰囲気下、-78℃で、臭化エチニルマグネシウム(395mL、0.5M)をTHF(1L)中の化合物KHC-2(57.3g、164.5mmol)の溶液に滴下し、次いで徐々にRTに加温し、RTにて一晩、撹拌した。飽和NH4Cl水溶液を上記混合物にゆっくりと添加した後、EAを用いて抽出した。有機相を、ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させ、濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、化合物KHC-3(33.7g、収率55%)を得た。
【0063】
化合物KHC-4:化合物KHC-3(33.7g、90.5mmol)を酢酸(200mL)および水(20mL)の混合溶媒に溶解させた後、Dowex-50(10.0g)を添加することによって加熱還流した。反応終了後、RTまで冷却し、樹脂を濾過し、EAを用いて洗浄した。40%NaOH水溶液を用いて濾液を中和し、有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させ、濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、化合物KHC-4(23.6g、収率70%)を得た。
【0064】
化合物KHC-5:THF(200mL)中の化合物KHC-4(23.6g、63.3mmol)およびパラジウムブラック(1.2g)を、RTにて一晩、撹拌した後、Hガスを用いて水素化した。混合物をセライトのパッドを通して濾過し、EAを用いて洗浄し、濾液を真空中で濃縮し、粗化合物を得た。この粗化合物をアセトンから再結晶化し、化合物KHC-5(19.0g、収率80%)を得た。
【0065】
化合物KH001:NaOH水溶液(50mL、1M)をTHF(200ml)中の化合物KHC-5(19.0g、50.8mmol)の溶液にゆっくりと添加し、RTにて一晩、撹拌した。反応液のpHを、希塩酸を用いて調整した後、EAを用いて抽出した。有機相を、ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させ、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィーによって精製し、化合物KH001(13.5g、収率80%)を得た。1H NMR(400MHz,CDCl3 ), δ 4.06(s,1H), 2.32-2.28(dd,1H), 2.15(s,3H),1.84-1.77(m,2H), 1.74-1.61(m,5H), 1.61-1.54(m,3H), 1.48-1.46(m,1H), 1.33-1.14(m,10H), 1.02-0.95(m,1H), 0.93(s,3H), 0.85-0.79(m,3H), 0.75(s,3H)。
【0066】
〔実施例2:化合物KH002の合成〕
【0067】
【化9】
【0068】
化合物KHC-6:実施例1において合成した化合物KH001(1.5g、4.5mmol)を、溶液が透明になるまでCHOH(40mL)中に溶解させた後、溶液を氷水中で5℃まで冷却した。続いて、冷却した溶液に臭素(1.5g、9.2mmol)を滴下して加えた。氷浴を取り除き、RTにて4時間、反応を行うと、反応溶液は橙色から淡黄色になった。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(30mL)を添加し、EA(2×35mL)を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl)によって精製し、白色固体(1.0g、収率56.7%)を得た。
【0069】
化合物KH002:化合物KHC-6(80mg、0.2mmol)を、溶液が透明になるまでTHF(5mL)中に溶解させた後、KCO(83mg、0.6mmol)および4-シアノピラゾール(56mg、0.6mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示した後、反応物を、水10mLを用いて洗浄し、EA(2×20mL)を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl/CHOH=100:1)によって精製した後、再結晶化(EA/PE=1:10)して、白色固体(36mg、収率42.5%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.82 (s, 1H), 7.80 (s, 1H), 5.06-4.93 (m, 2H), 4.05-4.04 (m, 1H), 2.32 (dd, 1H), 1.88-1.83 (m, 2H), 1.79-1.66 (m, 4H), 1.64-1.58 (m,2H), 1.54-1.44 (m, 4H), 1.39-1.13 (m, 9H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.94 (s, 3H), 0.85-0.75 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0070】
〔実施例3:化合物KH003の合成〕
【0071】
【化10】
【0072】
化合物KH003:化合物KHC-6(50mg、0.1mmol)を、溶液が透明になるまでTHF(5mL)中に溶解させた後、KCO(50mg、0.3mmol)および1H-トリアゾール(25mg、0.3mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示した後、反応物を、水10mLを用いて洗浄し、EA(2×20mL)を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl/CHOH=150:1)によって精製した後、再結晶化(EA/PE=1:10)して、白色固体(17mg、収率35.5%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.76 (s, 1H), 7.60 (s, 1H), 5.31-5.17 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.37 (d, 1H), 1.87-1.61 (m, 8H), 1.52-1.10 (m, 13H), 1.04-0.98 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.92-0.79 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0073】
〔実施例4:化合物KH004およびKH005の合成〕
【0074】
【化11】
【0075】
化合物KH004およびKH005:化合物KHC-6(103mg、0.2mmol)を、溶液が透明になるまでCHCN(15mL)中に溶解させた後、CsCO(244mg、0.7mmol)および1H-テトラゾリウム(53mg、0.7mmol)を添加した。室温にて、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応物を、水10mLを用いて洗浄し、EA(2×25mL)を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl/CHOH=150:1から90:1)によって精製し、2つの化合物を得た。これら2つの化合物それぞれを、再結晶化(EA/PE=1:10)して、白色固体1(24mg、収率24.0%)および白色固体2(36mg、収率36.0%)を得た。白色固体1(KH004):1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.57 (s, 1H), 5.50 (s, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.35 (dd, 1H), 1.92-1.81 (m, 3H), 1.74-1.68 (m, 3H), 1.64-1.57 (m,4H), 1.46-1.11 (m, 10H), 1.05-0.98 (m, 2H), 0.96 (s, 3H),0.88-0.78 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。白色固体2(KH005):1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.71 (s, 1H), 5.38 -5.23 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.41 (dd, 1H), 2.28 (dd, 1H), 1.91-1.72 (m, 4H), 1.68-1.51 (m, 7H), 1.47-1.11 (m, 10H), 1.06-0.99 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.91-0.78 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。
【0076】
〔実施例5:化合物KH006の合成〕
【0077】
【化12】
【0078】
化合物KH006:化合物KHC-6(50mg、0.1mmol)を、溶液が透明になるまでCHCN(8mL)中に溶解させた後、CsCO(117mg、0.3mmol)および1H-ピラゾール(24mg、0.3mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応物を、水10mLを用いて洗浄し、EA(2×20mL)を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムのフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl/CHOH=100:1)によって精製し、再結晶化(EA/PE=1:10)して、白色固体(24mg、収率50.2%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.56 (d, 1H), 7.39 (d, 1H), 6.34 (s, 1H), 5.03-4.92 (m, 2H), 4.05-4.04 (m, 1H), 2.28 (dd, 1H), 1.86-1.73 (m, 4H), 1.71-1.61 (m, 3H), 1.60-1.49 (m,4H), 1.48-1.09 (m, 10H), 1.03-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.81-0.76 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0079】
〔実施例6:化合物KH007の合成〕
【0080】
【化13】
【0081】
化合物KH007:化合物KHC-6(150mg、0.3mmol)を、THF(10mL)中に溶解させた後、KCO(152mg、1.1mmol)および1H-イミダゾール(75mg、1.1mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(10mL)を添加し、EA(2×20mL)を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl/CHOH=30:1)によって精製した後、再結晶化(EA)して、白色固体(35mg、収率24.1%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.47 (s, 1H), 7.11 (s, 1H), 6.85 (s, 1H), 4.74(d, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.30 (dd, 1H),1.88-1.68 (m, 4H), 1.64-1.56 (m, 3H), 1.52-1.45 (m,4H), 1.40-1.11 (m, 10H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.83-0.77 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。
【0082】
〔実施例7:化合物KH008の合成〕
【0083】
【化14】
【0084】
化合物KH008:化合物KHC-6(100mg、0.2mmol)を、THF(10mL)中に溶解させた後、KCO(97mg、0.7mmol)および3-シアノピラゾール(68mg、0.7mmol)を添加した。70℃にて2時間以上、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(10mL)を添加し、EA(2×20mL)を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:1)によって精製した後、再結晶化(CH3CN)して、白色固体(20mg、収率19.4%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.44 (d, 1H), 6.72 (d, 1H), 6.34 (s, 1H), 5.00 (q, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.32 (dd, 1H), 1.88-1.68 (m, 4H), 1.63-1.60 (m, 3H), 1.50-1.45 (m,4H), 1.41-1.11 (m, 10H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.87-0.79 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。
【0085】
〔実施例8:化合物KH009の合成〕
【0086】
【化15】
【0087】
化合物KH009:化合物KHC-6(50mg、0.1mmol)を、CHCN(5mL)中にはっきりと溶解させた後、CsCO(120mg、0.3mmol)および1H-インドール(68mg、0.7mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(10mL)を添加し、EA(2×20mL)を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をTLC(溶離液:CHCl/EA=10:1)によって精製し、淡黄色固体(34mg、収率62.4%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.65-7.63 (m, 1H), 7.21-7.18 (m, 1H), 7.13-7.10 (m, 2H), 7.01-7.00 (m, 1H), 6.57 (d, 1H), 4.83 (d, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.30 (dd, 1H), 1.82-1.72 (m, 4H), 1.64-1.61 (m, 3H), 1.51-1.45 (m,4H), 1.41-1.11 (m, 10H),1.01-0.96 (m, 1H), 0.96 (s, 3H), 0.92-0.77 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0088】
〔実施例9:化合物KH010の合成〕
【0089】
【化16】
【0090】
化合物KH010:化合物KHC-6(100mg、0.2mmol)を、CHCN(5mL)中に溶解させた後、KCO(101mg、0.7mmol)および4-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール(35mg、0.2mmol)を添加した。50℃にて2時間以上、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(10mL)を添加し、EA(2×20mL)を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE/アセトン=7:1)によって精製した後、再結晶化(CHCN)して、白色固体(61mg、収率53.1%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.71 (d, 2H), 4.98 (q, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.32 (dd, 1H), 1.87-1.68 (m, 4H), 1.64-1.57 (m, 3H), 1.52-1.45 (m,4H), 1.41-1.11 (m, 10H), 1.04-0.97 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.87-0.82 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0091】
〔実施例10:化合物KH011の合成〕
【0092】
【化17】
【0093】
化合物KH011:化合物KHC-6(50mg、0.1mmol)を、CHCN(5mL)中に溶解させた後、CsCO(120mg、0.3mmol)および1H-インダゾール(43mg、0.3mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(10mL)を添加し、EA(2×20mL)を用いて抽出を行った。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:1)によって精製した後、再結晶化(CH3CN)して、白色固体(20mg、収率36.6%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.11 (s, 1H), 7.78 (d, 1H), 7.45-7.41 (m, 1H), 7.23-7.19 (m, 2H),5.31-5.20 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H), 2.35 (dd, 1H), 1.87-1.72 (m, 4H), 1.67-1.63 (m, 3H), 1.54-1.45 (m,4H), 1.42-1.14 (m, 10H), 1.01-0.98 (m, 1H), 0.96 (s, 3H), 0.93-0.78 (m, 3H), 0.75 (s, 3H)。
【0094】
〔実施例11:化合物KH012の合成〕
【0095】
【化18】
【0096】
化合物KH012:化合物KHC-6(50mg、0.1mmol)を、CHCN(5mL)中に溶解させた後、CsCO(120mg、0.3mmol)および1H-プリン(44mg、0.3mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応溶液に水(10mL)を添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色固体として粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=20:1)によって精製した後、再結晶化(CHCN)して、白色固体(5mg、収率9.1%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.22 (s, 1H), 9.06(s, 1H), 8.25(s, 1H), 5.18 (q, 2H), 4.07-4.06 (m, 1H), 2.49 (dd, 1H), 1.93-1.72 (m, 4H), 1.68-1.65 (m, 3H), 1.58-1.45 (m,4H), 1.42-1.13 (m, 10H), 1.06-1.00 (m, 1H), 0.96 (s, 3H), 0.90-0.80 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0097】
〔実施例12:化合物KH013の合成〕
【0098】
【化19】
【0099】
化合物KH013:化合物KHC-6(80mg、0.2mmol)を、CHCN(8mL)中に溶解させた後、CsCO(196mg、0.6mmol)および4-クロロピラゾール(62mg、0.6mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水15mLを添加し、EA(2×30mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl/CHOH=100:1)によって精製した後、再結晶化(EA/PE=1:10)して、白色固体(28mg、収率32.3%)を得た。1H NMR (400MHz, CDCl3) δ 7.46 (s, 1H), 7.38 (s, 1H), 4.96-4.83 (m, 2H), 4.06-4.05 (m, 1H),2.19 (dd, 1H), 1.86-1.71 (m, 4H), 1.64-1.55 (m, 3H), 1.51-1.45 (m,4H), 1.45-1.10 (m, 10H), 1.03-0.96 (m, 1H), 0.95 (s, 3H), 0.86-0.77 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0100】
〔実施例13:化合物KH014の合成〕
【0101】
【化20】
【0102】
化合物KH014:化合物KHC-6(60mg、0.15mmol)を、DMF(5mL)中に溶解させた後、NaOH(1mL、1.0mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=50:1)によって精製し、白色固体(12mg、収率22.92%)を得た。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 4.94 - 4.89 (m, 1H), 4.18 (t, 1H), 4.06 - 4.02 (m, 2H), 3.80 (t, 1H), 2.27 (dd, 1H), 1.77 - 0.65 (m, 27H), 0.68 (s, 3H)。
【0103】
〔実施例14:化合物KH015の合成〕
【0104】
【化21】
【0105】
化合物KH015:化合物KHC-6(60mg、0.15mmol)を、CHCN(5mL)中に溶解させた後、CsCO(98mg、0.30mmol)および6-クロロプリン(46mg、0.30mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体(39mg、収率53.61%)を得た。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 8.60 (s, 1H), 8.37 (s, 1H), 5.41 (q, 2H), 4.20 (d, 1H), 3.79 (t, 1H), 2.56 (dd, 1H), 1.80 - 0.75 (m, 27H), 0.69 (s, 3H)
〔実施例15:化合物KH016の合成〕
【0106】
【化22】
【0107】
化合物KH016:KHC-6(60mg、0.15mmol)を、CHCN5mL中に溶解させた後、CsCO(98mg、0.30mmol)および2-メルカプトチオフェン(17mg、0.30mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体(19mg、収率28.34%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (d, 1H), 7.14 (d, 1H), 6.95 (dd, 1H), 4.04 (t, 1H), 3.62 (q, 2H), 2.45 (dd, 1H), 1.65 - 0.81 (m, 27H), 0.73 (s, 3H)。
【0108】
〔実施例16:化合物KH017の合成〕
【0109】
【化23】
【0110】
化合物KH017:KHC-6(60mg、0.15mmol)を、CHCN5mL中に溶解させた後、CsCO(98mg、0.30mmol)および6-メトキシプリン(45mg、0.30mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に10mL水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体(46mg、収率63.76%)を得た。
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 8.57 (s, 1H), 8.32 (s, 1H), 5.37 (q, 2H), 4.20 (d, 1H), 3.91 (s, 3H), 3.79 (t, 1H), 2.53 (dd, 1H), 1.79 - 0.75 (m, 27H), 0.69 (s, 3H)。
【0111】
〔実施例17:化合物KH018およびKH019の合成〕
【0112】
【化24】
【0113】
化合物KH018およびKH019:KHC-6(60mg、0.15mmol)を、CH3CN5mL中に溶解させた後、CsCO(98mg、0.30mmol)および5-メチル-1H-テトラゾール(25mg、0.30mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、それぞれ、白色固体KH6070053-1(13mg、20.88%)、および白色固体としてKH6070053-2(27mg、43.37%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.39 (s, 2H), 4.05 (t, 1H), 2.56 (s, 3H), 2.34 (dd, 1H), 1.92 - 0.76 (m, 27H), 0.74 (s, 3H)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.15 (dd, 2H), 4.06 (t, 1H), 2.43 (s, 3H), 2.39 (dd, 1H), 1.95 - 0.78 (m, 27H), 0.75 (s, 3H)。
【0114】
〔実施例18:化合物KH020の合成〕
【0115】
【化25】
【0116】
化合物KH020:KHC-6(60mg、0.15mmol)を、CHCN5mL中に溶解させた後、CsCO(98mg、0.30mmol)および2-オキサ-6-アザ-スピロ[3,3]ヘプタン(30mg、0.30mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体(21mg、収率32.56%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.75 (s, 4H), 4.04 (t, 1H), 3.57 (dd, 4H), 3.40 (dd, 2H), 2.13 (dd, 1H), 1.90 - 0.75 (m, 27H), 0.73 (s, 3H)。
【0117】
〔実施例19:化合物KH021の合成〕
【0118】
【化26】
【0119】
化合物KHC-7:KH001(0.70g、2.11mmol)を、CHCl100mL中に溶解させ、DMP(1.78g、4.20mmol)をバッチにて添加した。N雰囲気下で室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水40mLを添加し、EA(2×80mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE/アセトン=40:1→30:1)によって精製し、白色固体としてKHC-7(0.62g、収率89.47%)を得た。
【0120】
化合物KH021:FeCl(0.61g、3.75mmol)およびLiCl(0.34g、8.07mmol)を混合し、N雰囲気下で100mLの三口フラスコに添加した。次いで無水THF(40mL)を添加し、混合物をRTにて5分間、撹拌し、-45℃に冷却した。次いでCHMgBr(15.20mL、15.20mmol)を滴下し、-40℃にて15分間、混合物を撹拌した後、無水THFに溶解した化合物KHC-7(0.62g、1.88mmol)を滴下した。反応物を約-20℃に加熱し、2時間撹拌した。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、飽和NHCl水溶液40mLを用いて反応溶液をクエンチし、EA(2*80mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE/アセトン=40:1→35:1)によって精製し、白色固体KH021(0.52g、収率78.50%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) 2.29 (dd, 1H), 2.13 (s, 3H), 1.88 - 1.25 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.88 - 0.78 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。
【0121】
〔実施例20:化合物KH022およびKH023の合成〕
【0122】
【化27】
【0123】
【化28】
【0124】
化合物KHC-8およびKHC-9:化合物KH021(1.25g、3.60mmol)を、透明になるまでメタノール40mL中に溶解させた後、臭素(0.86g、5.40mmol)を滴下した。室温にて4時間の反応後、反応溶液は橙色から淡黄色に変わり、反応が完了したことをTLCモニタリングが示した。反応混合物に、30mLの水30mLを添加し、EA(2×65mL)を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和塩化ナトリウムを用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、淡黄色の粗固体を得た。この粗固体をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタンを用いて溶離)によって精製し、白色固体KHC-8(0.93g、60.78%)および白色固体KHC-9(0.36g、19.89%)を得た。
【0125】
化合物KH022およびKH023:化合物KHC-8(100mg、0.24mmol)を、透明になるまでアセトニトリル5mL中に溶解させ、CsCO(234mg、0.72mmol)および1H-テトラゾール(50mg、0.72mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示した。反応混合物に水10mLを添加し、酢酸エチル(2×20mL)を用いて抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和塩化ナトリウムを用いて洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。厚いシリカゲル調製プレートを用いた薄層クロマトグラフィーを使用して精製(ジクロロメタン/メタノール=30:1を用いて溶離)し、それぞれ、白色固体KH022(20mg、20.08%)および白色固体KH023(47mg、47.19%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.56 (s, 1H), 5.54 - 5.45 (m, 2H), 2.35 (dd, 1H), 1.89 - 1.25 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.88 - 0.80 (m, 3H), 0.72 (s, 3H). 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.71 (s, 1H), 5.30 (dd, 2H), 2.35 (dd, 1H), 1.83 - 1.23 (m, 21H),1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.87 - 0.78 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。
【0126】
〔実施例21:化合物KH024の合成〕
【0127】
【化29】
【0128】
化合物KH024:KHC-8(60mg、0.14mmol)を、CHCN5mL中に溶解させた後、CsCO(91mg、0.28mmol)および3-シアノピラゾール(26mg、0.28mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体KH024(16mg、26.09%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) 7.45 (d, 1H), 6.73 (d, 1H), 5.06 (q, 2H), 2.30 (dd, 1H), 1.86 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.87 - 0.77 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。
【0129】
〔実施例22:化合物KH025の合成〕
【0130】
【化30】
【0131】
化合物KH025:KHC-8(100mg、0.24mmol)を、DMSO5mL中に溶解させた後、CsCO(235mg、0.72mmol)および3-ヒドロキシベンゾイソオキサゾール(97mg、0.72mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=5:1)によって精製し、白色固体KH025(70mg、60.76%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72 (d, 1H), 7.58 - 7.49 (m, 1H), 7.42 (d, 1H), 7.29 (d, 1H), 5.11 - 4.95 (m, 2H), 2.35 (dd, 1H), 1.87 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.99 (s, 3H), 0.87 - 0.80 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)
〔実施例23:化合物KH026の合成〕
【0132】
【化31】
【0133】
化合物KH026:KHC-8(53mg、0.12mmol)を、CHCN5mL中に溶解させた後、KCO(100mg、0.72mmol)および2-メルカプトベンゾオキサゾール(24mg、0.16mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=6:1)によって精製し、白色固体KH026(30mg、50.40%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.55 (d, 1H), 7.42 (d, 1H), 7.34 - 7.24 (m, 2H), 4.33 (m, 2H), 2.54 (dd, 1H), 1.83 - 1.23 (m, 21H), 1.18 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.85 - 0.78 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。
【0134】
〔実施例24:化合物KH027の合成〕
【0135】
【化32】
【0136】
化合物KH027:KHC-9(110mg、0.22mmol)を、CHCN10mL中に溶解させた後、CsCO(215mg、0.66mmol)および4-シアノピラゾール(61mg、0.66mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=6:1)によって精製し、白色固体KH027(76mg、65.30%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.23 (s, 1H), 8.13 (s, 1H), 7.92 (s, 1H), 7.83 (s, 1H), 7.03 (s, 1H), 2.11 (dd, 1H), 1.83 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 0.82 - 0.75 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。
【0137】
〔実施例25:化合物KH028の合成〕
【0138】
【化33】
【0139】
化合物KH028:KHC-8(70mg、0.16mmol)を、DMSO8mL中に溶解させた後、CsCO(160mg、0.49mmol)および2-ヒドロキシベンゾオキサゾール(66mg、0.49mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=60:1)によって精製し、白色固体KH028(55mg、71.61%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.24 - 7.18 (m, 1H), 7.17 - 7.06 (m, 2H), 6.75 - 6.64 (m, 1H), 4.58 (dd, 2H), 2.38 (dd, 1H), 1.92 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.89 - 0.78 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。
【0140】
〔実施例26:化合物KH029の合成〕
【0141】
【化34】
【0142】
化合物KH029:KHC-8(60mg、0.14mmol)を、DMSO5mL中に溶解させた後、CsCO(138mg、0.42mmol)およびび8-メチル-4-ヒドロキシキナゾリン(68mg、0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=60:1)によって精製し、白色固体KH029(50mg、70.72%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.13 (d, 1H), 7.90 (s, 1H), 7.61 (d, 1H), 7.39 (t, 1H), 4.81 (s, 2H), 2.63 (s, 3H), 2.43 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.90 - 0.81 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。
【0143】
〔実施例27:化合物KH030の合成〕
【0144】
【化35】
【0145】
化合物KH030:KHC-8(50mg、0.12mmol)を、DMSO5mL中に溶解させた後、CsCO(78mg、0.24mmol)および3-ヒドロキシ-4-メチル-5-メトキシ-4H-1,2,4-トリアゾール(31mg、0.24mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH030(20mg、35.16%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.47 (q, 2H), 3.93 (s, 3H), 3.12 (s, 3H), 2.28 (dd, 1H), 1.86 - 1.22 (m, 21H), 1.19 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.85 - 0.78 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。
【0146】
〔実施例28:化合物KH031の合成〕
【0147】
【化36】
【0148】
化合物KH031:KHC-8(60mg、0.14mmol)を、CHCN5mL中に溶解させた後、KCO(58mg、0.42mmol)および1-メチル-5-メルカプト-1H-テトラゾール(68mg、0.42mmol)を添加した。室温にて反応を行った。反応が完了したことをTLCモニタリングが示したら、反応混合物に水10mLを添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH031(50mg、77.47%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) 4.40 (dd, 2H), 3.97 (s, 3H), 2.47 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.19 (s, 3H), 0.93 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0149】
〔実施例29:化合物KH032の合成〕
【0150】
【化37】
【0151】
化合物KH032:KHC-8(50mg,0.12mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、KCO(50mg,0.36mmol)および1-ヒドロキシ-1H-イミダゾール(30mg,0.36mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=2:1)によって精製し、白色固体KH032(11mg、21.37%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.26 (s, 1H), 6.32 (s, 1H), 6.17 (s, 1H), 4.53 - 4.32 (m, 2H), 2.31 (dd, 1H), 1.86 - 1.25 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.88 - 0.78 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0152】
〔実施例30:化合物KH033の合成〕
【0153】
【化38】
【0154】
化合物KH033:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、CsCO(138mg,0.42mmol)および2-ヒドロキシキノリン(61mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH033(15mg、21.87%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.05 (d, 1H), 7.75 (dd, 2H), 7.61 (t, 1H), 7.39 (t, 1H), 7.05 (d, 1H), 5.15 (s, 2H), 2.43 (dd, 1H), 1.98 - 1.23 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.91 - 0.78 (m, 3H), 0.74 (s, 3H)。
【0155】
〔実施例31:化合物KH034の合成〕
【0156】
【化39】
【0157】
化合物KH034:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、KCO(58mg,0.42mmol)および3-ヒドロキシ-1H-1,2,4-トリアゾール(36mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体KH034(40mg、66.45%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.30 (s, 1H), 7.42 (s, 1H), 4.47 (q, 2H), 2.33 (dd, 1H), 1.87 - 1.25 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0158】
〔実施例32:化合物KH035の合成〕
【0159】
【化40】
【0160】
化合物KH035:KHC-8(80mg,0.19mmol)を6mLのDMSOに溶解した後、CsCO(184mg,0.56mmol)および8-フルオロ-4-ヒドロキシキナゾリン(92mg,0.56mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=2:1)によって精製し、白色固体KH035(65mg、67.21%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.06 (d, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.55 - 7.40 (m, 2H), 4.79 (m, 2H), 2.43 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.96 (s, 3H), 0.90 - 0.81 (m, 3H), 0.72 (s, 3H)。
【0161】
〔実施例33:化合物KH036の合成〕
【0162】
【化41】
【0163】
化合物KH036:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、KCO(58mg,0.42mmol)および6-フルオロピリジン[3,4-d]ピリミジン-4-オン(69mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体KH036(40mg、56.02%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.82 (s, 1H), 7.80 (s, 1H), 7.66 (d, 1H), 4.80 (q, 2H), 2.43 (dd, 1H), 1.89 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.90 - 0.80 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0164】
〔実施例34:化合物KH037の合成〕
【0165】
【化42】
【0166】
化合物KH037:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mLのCHCNに溶解した後、KCO(58mg,0.42mmol)および4-メチル-4H-3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール(49mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:2)によって精製し、白色固体KH037(53mg、82.30%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.16 (s, 1H), 4.34 (dd, 2H), 3.65 (s, 3H), 2.45 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.19 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。
【0167】
〔実施例35:化合物KH038の合成〕
【0168】
【化43】
【0169】
化合物KH038:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、CsCO(138mg,0.42mmol)および3-ヒドロキシイソキサゾール(36mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=15:1)によって精製し、白色固体KH038(39mg、65.00%)を得た。
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 8.12 (d, 1H), 6.06 (d, 1H), 4.87 (s, 2H), 2.29 (dd, 1H), 1.90 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.90 - 0.74 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0170】
〔実施例36:化合物KH039の合成〕
【0171】
【化44】
【0172】
化合物KH039:KHC-8(75mg、0.18mmol)を5mlのCHCNに溶解した後、CsCO(171mg、0.53mmol)および5‐フェニルテトラゾール(77mg、0.53mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:1)によって精製し、白色固体KH039(79mg、89.39%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.19 - 8.07 (m, 2H), 7.55 - 7.42 (m, 3H), 5.54 - 5.40 (m, 2H), 2.37 (dd, 1H), 1.92 - 1.23 (m, 21H), 1.21 (s, 3H), 0.97 (s, 3H), 0.90 - 0.78 (m, 3H), 0.73 (s, 3H)。
【0173】
〔実施例37:化合物KH040の合成〕
【0174】
【化45】
【0175】
化合物KH040:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mLのCH3CNに溶解した後、CsCO(91mg,0.28mmol)および4-シアノピラゾール(26mg,0.28mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CH3OH=40:1)によって精製し、白色固体KH040(16mg、26.09%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.82 (s, 1H), 7.81 (s, 1H), 5.00 (q, 2H), 2.32 (dd, 1H), 1.88 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.87 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0176】
〔実施例38:化合物KH041の合成〕
【0177】
【化46】
【0178】
化合物KH041:KHC-8(70mg、0.16mmol)を5mLのCHCNに溶解した後、CsCO(160mg、0.49mmol)および2-メルカプトチオフェノン(57mg、0.49mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/PE=1:1)によって精製し、灰色固体KH041(27mg、35.53%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (dd, 1H), 7.14 (dd, 1H), 6.95 (dd, 1H), 3.62 (dd, 2H), 1.90 - 1.21 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.90 (s, 3H), 0.84 - 0.74 (m, 3H), 0.70 (s, 3H)。
【0179】
〔実施例39:化合物KH042の合成〕
【0180】
【化47】
【0181】
化合物KH042:KHC-8(150mg,0.35mmol)を水(15mL)およびアセトン(30mL)に溶解した後、KCO(49mg,0.35mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×30mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=50:1)によって精製し、白色固体KH042(21mg、16.54%)を得た。1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 4.92 (t, 1H), 4.06 - 4.04 (m, 2H), 3.85 (t, 1H), 2.27 (dd, 1H), 1.82 - 1.10 (m, 21H), 1.05 (s, 3H), 0.87 (s, 3H), 0.85 - 0.70 (m, 3H), 0.65 (s, 3H).。
【0182】
〔実施例39:化合物KH043およびKH044の合成〕
【0183】
【化48】
【0184】
化合物KH043およびKH044:KHC-8(60mg,0.14mmol)を5mlのCH3CNに溶解した後、CsCO(91mg,0.28mmol)および1H-トリアゾール(15mg,0.21mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体KH6070100-1(12mg、20.70%)および白色固体KH6070100-2(27mg、46.58%)をそれぞれ得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.68 (s, 2H), 5.34 - 5.20 (m, 2H), 2.25 (dd, 1H), 1.88 - 1.23 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.95 (s, 3H), 0.89 - 0.79 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.76 (s, 1H), 7.61 (s, 1H), 5.25 (dd, 2H), 2.37 (dd, 1H), 1.86 - 1.22 (m, 21H), 1.20 (s, 3H), 0.94 (s, 3H), 0.86 - 0.76 (m, 3H), 0.71 (s, 3H)。
【0185】
〔実施例40:化合物KH045の合成〕
化合物KHC-11:化合物KHC-10(150.0g,183.8mmol)をTHF(500mL)に溶解し、10%Pd/C(6.0g)を溶液に添加した。続いて、この溶液をHガス下で水素化し、室温にて24時間攪拌し続けた後、濾過を行った。濾液を真空下で濃縮し、粗生成物を得た。続いて、この粗生成物を溶液(溶離液:PE:アセトン=1:1)と共に攪拌し、化合物KHC-11(150.0g、収率99.26%)を得た。
【0186】
化合物KHC-12:KHC-11(150.0g,547.4mmol)を1000mLのCHOHに溶解した後、I2(14.0g,54.8mmol)を溶液に添加した。この溶液を60℃に加熱して、12時間撹拌し続けた。続いて、この溶液を真空下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=10:1)によって精製し、白色固体KHC-12(130.0g,74.20%)を得た。
【0187】
化合物KHC-13:KHC-12(130.0g、406.2mmol)を1000mlのDMFに溶解し、t-BuOK(91.0g、812.4mmol)トリメチルヨードニウムスルフィド(165.8g、812.7mmol)を溶液に添加した。この溶液を、Nガス下で室温にて12時間攪拌し続けた。続いて、ブラインを反応混合物に添加し、EA(3×1L)を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮して、白色固体KHC-13(120.0g、88.50%)を得た。
【0188】
化合物KHC-14:KHC-13(120.0g、359.4mmol)を900mLのエタノールおよび160mLの水に溶解し、NaN(70.2g、1077.9mmol)およびNHCl(67.2g、1257.9mmol)を溶液に添加した。この溶液を90℃にて一晩、攪拌し続けた。ブラインを反応混合物に添加し、EA(3×1L)を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=10:1)によって精製し、白色固体KHC-14(130.0g、95.59%)を得た。
【0189】
化合物KHC-15:KHC-14(125.6g、332.4mmol)を1000mLのCHCNに溶解し、NaI(249.3g、1662.0mmol)を溶液に添加した。この溶液を、室温にて30分間撹拌し続けた後、TMSCl(144.9、1329.6mmol)を反応溶液に滴下した。反応は、室温にて4時間撹拌し続けることにより行った。ブラインを反応混合物に添加し、EA(3×1L)を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=10:1)によって精製し、白色固体KHC-15(72.0g、75.20%)を得た。
【0190】
化合物KHC-16:KHC-15(72.0g、250.0mmol)を1000mLのCHOHに溶解し、I2(19.0g、75.0mmol)を溶液に添加した。反応溶液を60℃に加熱し、12時間攪拌し続けた後、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=10:1)によって精製し、白色固体KHC-16(53.0g、63.50%)を得た。
【0191】
化合物KHC-17:トリメチルシリルアセチレン(77.8g,793.0mmol)を1000mLのTHFに取り込み、-78℃にてn-ブチルリチウム溶液(1.6m、329.0mmol、205.6ml)を添加した。反応溶液を2時間攪拌し続けた。続いて、400mLのTHF中の化合物KHC-16(53.0g、158.6mmol)を、反応溶液に添加した。この混合物を-78℃にて2時間撹拌し、徐々に0℃まで加熱した後、飽和NHCl溶液に注いだ。EA(800mL×3)を用いて、混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をクロマトグラフィーカラム(溶離液:PE:EA=10:1)によって精製し、白色固体KHC-17(56.0g、81.55%)を得た。
【0192】
化合物KHC-18:800mLのTHF中のKHC-17(56.0g、129.3mmol)を、1.0MのTBAF(129.3mmol、129.3ml)と0℃にて混合し、混合物を1時間撹拌し続けた。ブラインを反応混合物に添加し、EA(3×1L)を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=5:1)によって精製し、白色固体KHC-18(43.0g、92.30%)を得た。
【0193】
化合物KHC-19:800mLのTHF中のKHC-18(38.0g、105.6mmol)を、1.0MのHClと混合してPH=3とし、混合物を室温にて12時間撹拌し続けた。ブライン(1.0L)を反応混合物に添加し、EA(3×1L)を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=5:1)によって精製し、白色固体KHC-19(32.0g、96.50%)を得た。
【0194】
化合物KHC-20:また、メタンスルホン酸(148.0g、1541.6mmol)を1000mLのCHClと混合し、CHCl(1000mL)中のKHC-19(32.0g、101.9mmol)を溶液に滴下して加えた。反応溶液を60Cにて、2時間撹拌し続け、室温まで冷却した。ブライン(1.0L)を反応混合物に添加し、CHCl(3×1.0L)を用いて混合物を抽出した。有機層を混ぜ合わせ、真空下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=10:1)によって精製し、白色固体KHC-20(20.0g、62.50%)を得た。
【0195】
化合物KHC-21:化合物KHC-20(20.0g、63.7mmol)を500mLのTHFに溶解し、10%Pd/C(3.0g)を溶液に添加した。続いて、この溶液をHガス下で水素化した。反応溶液を室温にて2日間撹拌し続けた後、濾過を行った。濾液を真空下で濃縮し、粗生成物を得た。続いて、この粗生成物をシリカゲルカラムフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE:EA=15:1)によって精製し、白色固体KHC-21(17.0g、84.40%)を得た。
【0196】
化合物KH045:2000mLの三つ口フラスコ中で、N下にて、FeCl(23.0g、142.0mmol)およびLiCl(13.5g、321.4mmol)を混合し、800mLの無水THFを添加した。混合物を室温にて20分間撹拌し続けた後、-40℃まで冷却した。溶液にCHMgBr(3M、190ML、570.0mmol)を滴下して加えた後、-40℃にて30分間撹拌し続けた。無水THF(200mL)中のKHC-21(17.0g、53.8mmol)を上記反応溶液に滴下して加えた後、溶液を-20℃まで加熱し、4時間撹拌し続けた。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、飽和NHCl(40mL)を用いて反応溶液を急冷し、EA(3×1.0L)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和ブラインIを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。真空下で濃縮し、粗生成物を得た。続いて、この粗生成物をシリカゲルについてのフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:PE/EA=15:1)によって精製し、白色固体KH045(10.2g、収率57.10%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.34 - 2.25 (m, 1H), 2.14 (s, 3H), 2.00 (t, J = 11.4 Hz, 1H), 1.87 - 1.78 (m, 1H), 1.75 - 1.54 (m, 9H), 1.51 - 1.43 (m, 2H), 1.39 - 1.30 (m, 4H), 1.27 - 1.13 (m, 7H), 1.09 - 0.84 (m, 8H)。
【0197】
【化49】
【0198】
〔実施例41:化合物KH046の合成〕
【0199】
【化50】
【0200】
化合物KHC-22および化合物KHC-23:化合物KH045(1.50g、4.50mmol)を40mLのCHOHに溶解した後、溶液にBr(1.08g、6.75mmol)を滴下して加えた。室温にて4時間反応させると、反応溶液は橙色から淡黄色に変色した。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(30mL)を反応混合物に添加し、EA(2×65mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルについてのフラッシュクロマトグラフィー(溶離液:CHCl)によって精製し、白色固体KHC-22(1.19g、64.34%)および白色固体KHC-23(0.33g、17.84%)を得た。
【0201】
化合物KH046:KHC-22(50mg,0.12mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、KCO(21mg,0.15mmol)および8-フルオロ-4-ヒドロキシキナゾリン(25mg,0.15mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH046(33mg、55.56%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.06 (d, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.55 - 7.40 (m, 2H), 4.80 (q, 2H), 2.44 (dd, 1H), 2.04 - 2.01 (m, 1H), 1.91 - 1.88 (m, 1H), 1.84 - 1.16 (m, 21H), 1.15 - 0.80 (m, 8H)。
【0202】
〔実施例42:化合物KH047の合成〕
【0203】
【化51】
【0204】
化合物KH047:KHC-22(50mg、0.12mmol)をCHCN(5mL)に溶解した後、CsCO(49mg、0.15mmol)および5-メルカプト-1-メチル-1H-テトラゾリウム(17mg、0.15mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH047(51mg、50.12%)を得た。1H NMR (400 MHz, CDCl3) 4.40 (dd, 2H), 3.97 (s, 3H), 2.48 (dd, 1H), 2.05 - 1.99 (m, 1H), 1.93 - 1.82 (m, 1H), 1.83 - 1.14 (m, 21H), 1.13 - 0.70 (m, 8H)。
【0205】
〔実施例43:化合物KH048の合成〕
【0206】
【化52】
【0207】
化合物KH048:KHC-22(60mg,0.14mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、KCO(58mg,0.42mmol)および6-フルオロピリジン[3,4-d]ピリミジン-4-オン(69mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体KH048(37mg、50.12%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.82 (s, 1H), 7.79 (s, 1H), 7.66 (d, 1H), 4.80 (dd, 2H), 2.44 (dd, 1H), 2.05 - 1.99 (m, 1H), 1.93 - 1.82 (m, 1H), 1.83 - 1.14 (m, 21H), 1.13 - 0.70 (m, 8H)。
【0208】
〔実施例44:化合物KH049の合成〕
【0209】
【化53】
【0210】
化合物KH049:KHC-22(60mg、0.15mmol)を5mLのCHCNで溶解した後、CsCO(62mg、0.19mmol)および2-メルカプトベンゾキサゾール(29mg、0.19mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH049(42mg、42.92%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.55 (d, 1H), 7.42 (d, 1H), 7.34 - 7.24 (m, 2H), 4.33 (dd, 2H), 2.57 (dd, 1H), 2.05 - 1.99 (m, 1H), 1.93 - 1.82 (m, 1H), 1.83 - 1.14 (m, 21H), 1.13 - 0.70 (m, 8H)。
【0211】
〔実施例45:化合物KH050の合成〕
【0212】
【化54】
【0213】
化合物KH050:KHC-22(60mg,0.15mmol)を5mLのCHCNに溶解した後、CsCO(62mg,0.19mmol)および3-メルカプト-4-メチル-4H-1,2,4-トリアゾール(22mg,0.19mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClで洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=70:1)によって精製し、白色固体KH050(17mg、25.41%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.22 (s, 1H), 4.37 (dd, 2H), 3.68 (s, 3H), 2.50 (dd, 1H), 2.10 - 1.97 (m, 1H), 2.06 - 2.02 (m, 1H), 1.79 - 1.14 (m, 21H), 1.12 - 0.79 (m, 8H)。
【0214】
〔実施例46:化合物KH051の合成〕
【0215】
【化55】
【0216】
化合物KH051:KHC-22(60mg,0.15mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、KCO(58mg,0.42mmol)および3-ヒドロキシ-1H-1,2,4-トリアゾール(36mg,0.42mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=40:1)によって精製し、白色固体KH051(27mg、46.36%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 9.57 (s, 1H), 7.42 (s, 1H), 4.46 (q, 2H), 2.34 (dd, 1H), 2.07 - 1.96 (m, 1H), 1.88 - 1.82 (m, 1H), 1.79 (s, 21H), 1.11 - 0.81 (m, 8H)。
【0217】
〔実施例47:化合物KH052および化合物KH053の合成〕
【0218】
【化56】
【0219】
化合物KH052および化合物KH053:KHC-22(100mg,0.24mmol)を5mLのCHCNに溶解した後、CsCO(234mg,0.72mmol)および1H-テトラゾール(50mg,0.72mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSOを用いて乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=30:1)で精製し、白色固体KH6070069-1(19mg、19.74%)および白色固体KH6070069-2(44mg、45.72%)をそれぞれ得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.57 (s, 1H), 5.49 (s, 2H), 2.33 (dd, 1H), 2.05 - 2.01 (m, 1H), 1.94 - 1.84 (m, 1H), 1.83 - 1.15 (m, 21H), 1.14 - 0.82 (m, 8H)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.72 (s, 1H), 5.29 (dd, 2H), 2.41 (dd, 1H), 2.06 - 2.01 (m, 1H), 1.95 - 1.85 (m, 1H), 1.85 - 1.15 (m, 21H), 1.14 - 0.82 (m, 8H)。
【0220】
〔実施例48:化合物KH054の合成〕
【0221】
【化57】
【0222】
化合物KH054:KHC-22(60mg、0.15mmol)を5mLのCHCNに溶解した後、CsCO(62mg、0.19mmol)および2-ヒドロキシオキサゾール[4,5-b]]ピリジン(26mg、0.19mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=70:1)によって精製し、白色固体KH054(17mg、42.92%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.25 (d, 1H), 7.01 (d, 1H), 6.69 (t, 1H), 5.11 (q, 2H), 2.40 (dd, 1H), 2.08 - 1.98 (m, 1H), 1.93 - 1.83 (m, 1H), 1.82 - 1.14 (m, 21H), 1.15 - 0.81 (m, 8H)。
【0223】
〔実施例49:化合物KH055の合成〕
【0224】
【化58】
【0225】
化合物KH055:KHC-22(60mg,0.15mmol)を5mLのCHCNに溶解した後、Cs2CO3(156mg,0.48mmol)および4-シアノピラゾール(45mg,0.48mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=30:1)で精製し、白色固体KH055(51mg、50.12%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.83 (s, 1H), 7.81 (s, 1H), 4.99 (q, 2H), 2.32 (dd, 1H), 2.05 - 2.01 (m, 1H), 1.92 - 1.83 (m, 1H), 1.82 - 1.15 (m, 21H), 1.14 - 0.81 (m, 8H)。
【0226】
〔実施例50:化合物KH056の合成〕
【0227】
【化59】
【0228】
化合物KH056:KHC-23(40mg,0.10mmol)を5mLのCH3CNに溶解した後、CsCO(198mg,0.3mmol)および4-シアノピラゾール(28mg,0.30mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:CHCl/CHOH=30:1)によって精製し、白色固体KH056(12mg、23.30%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.22 (s, 1H), 8.14 (s, 1H), 7.92 (s, 1H), 7.84 (s, 1H), 7.02 (s, 1H), 2.10 (dd, 1H), 2.05 - 2.00 (m, 1H), 1.87 - 1.78 (m, 1H), 1.78 - 1.14 (m, 21H), 1.12 - 0.79 (m, 8H)。
【0229】
〔実施例51:化合物KH057の合成〕
【0230】
【化60】
【0231】
化合物KH057:KHC-22(60mg,0.15mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、CsCO(143mg,0.44mmol)および2-ヒドロキシベンゾオキサゾール(59mg,0.44mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:1)によって精製し、白色固体KH057(30mg、42.92%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.24 - 7.19 (m, 1H), 7.17 - 7.07 (m, 2H), 6.75 - 6.65 (m, 1H), 4.58 (s, 2H), 2.40 (dd, 1H), 2.08 - 1.98 (m, 1H), 1.93 - 1.83 (m, 1H), 1.82 - 1.14 (m, 21H), 1.15 - 0.81 (m, 8H)。
【0232】
〔実施例52:化合物KH058の合成〕
【0233】
【化61】
【0234】
化合物KH058:KHC-22(80mg,0.19mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、CsCO(190mg,0.58mmol)および8-メチル-4-キナゾリノン(93mg,0.58mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:1)によって精製し、白色固体KH058(28mg、30.01%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.13 (d, 1H), 7.88 (s, 1H), 7.61 (d, 1H), 7.39 (t, 1H), 4.80 (dd, 2H), 3.49 (s, 3H), 2.45 (dd, 1H), 2.03 - 2.01 (m, 1H), 1.92 - 1.84 (m, 1H), 1.83 - 1.16 (m, 21H), 1.14 - 0.80 (m, 8H)。
【0235】
〔実施例53:化合物KH059の合成〕
【0236】
【化62】
【0237】
化合物KH059:KHC-22(80mg,0.19mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、CsCO(190mg,0.58mmol)および8-ヒドロキシ-1,7-ナフチリジン(85mg,0.58mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=3:1)によって精製し、白色固体KH058(28mg、30.89%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.86 (d, 1H), 7.88 (d, 1H), 7.54 (dd, 1H), 6.96 (d, 1H), 6.45 (d, 1H), 4.86 (s, 2H), 2.45 (dd, 1H), 2.09 - 1.95 (m, 1H), 1.87 - 1.83 (m, 1H), 1.80 - 1.15 (m, 21H), 1.12 - 0.76 (m, 8H)。
【0238】
〔実施例54:化合物KH060の合成〕
【0239】
【化63】
【0240】
化合物KH060:KHC-22(100mg,0.24mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、CsCO(156mg,0.48mmol)および3-ヒドロキシ-4-メチル-5-メトキシ-4H-1,2,4-トリアゾール(62mg,0.48mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH058(56mg、50.72%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.54 - 4.40 (m, 2H), 3.93 (s, 3H), 3.12 (s, 3H), 2.29 (dd, 1H), 2.03 - 1.99 (m, 1H), 1.85 - 1.82 (m, 1H), 1.77 - 1.13 (m, 21H), 1.10 - 0.81 (m, 8H)。
【0241】
〔実施例55:化合物KH061の合成〕
【0242】
【化64】
【0243】
化合物KH061:KHC-22(80mg,0.19mmol)を5mLのDMSOに溶解した後、Cs2CO3(156mg,0.48mmol)および2-ヒドロキシキノリン(84mg,0.58mmol)を添加した。室温にて一晩、反応を行った。反応が完了したことを反応のTLCモニタリングが示したら、水(10mL)を反応混合物に添加し、EA(2×20mL)を用いて混合物を抽出した。混ぜ合わせた有機層を、飽和NaClを用いて洗浄し、無水NaSO上で乾燥させた。溶媒を減圧下で蒸留し、粗生成物を得た。この粗生成物をTLC(溶離液:PE/アセトン=4:1)によって精製し、白色固体KH058(45mg、49.76%)を得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.05 (d, 1H), 7.75 (dd, 2H), 7.61 (t, 1H), 7.39 (t, 1H), 7.05 (d, 1H), 5.15 (s, 2H), 2.43 (dd, 1H), 2.04 - 2.00 (m, 1H), 1.86 - 1.83 (m, 1H), 1.78 - 1.12 (m, 21H), 1.10 - 0.80 (m, 8H)。
【0244】
〔実施例56:インビトロ細胞生存率アッセイ〕
本発明に用いられるコントロール化合物は、以下に説明する化学構造を有する:
【0245】
【化65】
【0246】
コントロール化合物の詳細な合成は、CN105339381Bを参照して調製した。
【0247】
本発明は、組み換えGABA受容体の2つのサブユニット、すなわちαβγおよびαβδを適用して、パッチクランプ電気生理学によるインビトロでの例示的な化合物の性能を評価する。
【0248】
[56.1 電気生理学的試験溶液]
(細胞外液および細胞内液組成)
細胞外液:140mM NaCl、5mM CsCl、2mM CaCl・2HO、1mM MgCl・6HO、5mM HEPES、10mM D-グルコース、pH=7.4(NaOH)。
【0249】
細胞内液:130mM CsCl、0.1mM CaCl2・HO、2mM MgCl・6HO、1.1mM EGTA、5mM Na-ATP、10mM HEPES、pH=7.2(CsOH)。
【0250】
調製した細胞内液をチューブ当たり1mLに分注し、凍結して、-20℃の冷蔵庫にて保存した。毎日、新しく溶融した細胞内液を実験に使用した。全ての細胞内液を3ヶ月以内に消費した。
【0251】
[56.2 イオンチャネルの安定な発現を有する細胞株]
【0252】
【表1】
【0253】
[56.3 細胞培養]
[56.3.1 GABA(α1β2γ2)細胞培養]
GABA(α1β2γ2)受容体を安定に発現するHEK293細胞株を、10%ウシ胎児血清と、800μg/mLのG418と、200μg/mLのハイグロマイシンBと、100μg/mLのゼオシンとを補充したダルベッコ改変イーグル培地(DMEM)中で培養した。細胞を、5%二酸化炭素を含む37℃の加湿インキュベーター中で増殖させた。
【0254】
細胞継代:古い培地を除去し、細胞を、PBSを用いて1回洗浄した。続いて、1mLの0.25%-トリプシン-EDTA溶液を添加し、37℃にて0.5分間インキュベートした。皿の底から細胞を分離したら、37℃で予熱した完全培地(5ml)を加える。細胞凝集体を、穏やかなピペッティングによって解離させた。細胞懸濁液を滅菌遠心管に移した後、細胞懸濁液を1000rpmで5分間回転させ、細胞を収集した。6cmの細胞培養皿(最終培地容量:5mL)に、2.5×10細胞を播種することによって、細胞を増幅または維持した。
【0255】
電気生理学的性能を維持するために、細胞密度は80%を超えてはならない。
【0256】
手動パッチクランプ試験の前に、0.25%-トリプシン-EDTA溶液を用いて細胞を分離した。続いて、8×10個の細胞をカバースリップ上にプレーティングし、24ウェルプレート(最終培地容量:500μL)中で培養し、18時間後にパッチクランプによって試験を行った。
【0257】
[56.3.2 GABA(α4β3δ)細胞培養]
HEK293細胞株を、10%ウシ胎児血清を含むDMEM中で、37℃、5%二酸化炭素下にて培養した。
【0258】
細胞継代:古い培地を除去し、細胞を、PBSを用いて1回洗浄した。続いて、1mLの0.25%-トリプシン-EDTA溶液を添加し、細胞を消化した。培養皿を、予熱したインキュベーター中で、37℃にて0.5分間インキュベートした。細胞が分離するとすぐに、37℃で予熱した完全培地を約5mL添加した。細胞凝集体を、穏やかなピペッティングによって解離させた。細胞懸濁液を滅菌遠心管に移した後、細胞懸濁液を約1000rpmで5分間回転させた。6cmの皿(最終培地容量:5mL)に2.5×10細胞を播種することによって、細胞を増幅または維持した。トランスフェクションのために、8×10個の細胞をカバースリップ上にプレーティングし、24ウェルプレート(最終培地容量:5mL)中で培養した。
【0259】
トランスフェクション:2日目に、GABAA4のトランスフェクション(α4、β3、δプラスミド比 1:1:1)を行った。X-tremeGENE HP DANトランスフェクション試薬キットを使用した。プラスミドとトランスフェクション試薬との比率は、1μg:2μLであった。24ウェルプレート中のプラスミドの量は、ウェル当たり0.5μgであり、トランスフェクション試薬は1μLであった。12ウェルを調製するために、以下の特定の工程を取った:600μLのOpti-MEMを、6μgのプラスミドと共に滅菌遠心管に添加し、十分に混合した。続いて、12μLのトランスフェクション試薬を添加した。室温にて15分間インキュベートした後、十分に混合した。続いて、トランスフェクション複合体を、細胞に接種(ウェル当たり50μL)し、トランスフェクション複合体を軽く撹拌して混合した。
【0260】
この混合物を3日目に交換し、4日目にパッチクランプを行った。
【0261】
[56.4 パッチクランプ試験]
マイクロピペットプラー(P97、Sutter Instruments)を用いて、ガラスピペット(BF 150-86-10、Sutter Instruments)を引っ張った。顕微鏡(IX71、Olympus)下にて、マイクロマニピュレーター(MP285、Sutter Instruments)を用いてガラスピペットを操作した。細胞に接触した後、わずかな吸引を加えることで、高いシール抵抗(GΩ)に達した。高シールに達した後、高速キャパシタンス(pF)補償を行い、膜を破壊した。ホールセルモード(Whole‐cell mode)を達成した後、全細胞キャパシタンス補償から細胞キャパシタンス(pF)補償を行った。漏電減算は行わなかった。
【0262】
重力供給溶液送達システムを介して、倒立顕微鏡の試料台に取り付けられた記録チャンバに、試験溶液および対照溶液を流した。実験の間、真空吸引によって記録チャンバから溶液を回収した。各濃度を複数回試験した。全ての試験を室温にて行った。
【0263】
GABAA1受容体を記録した全細胞モデル電流実験プロトコルを以下のように示した:密封時、細胞は-70mVの保持電位であり、ギャップフリーモード(gap‐free mode)でピーク電流を記録した。細胞は、活性電流に対して3μMのGABAを用いて適用される。被験物質を30秒間適用した後、各濃度の被験物質に3μMのGABAを適用し、続いて細胞外液を用いて2分間洗浄した。最後に、100μMのGABAをポジティブコントロールとして使用した。データをEPC-10増幅器によって収集し、PatchMaster(HEKA)ソフトウェアに保存した。
【0264】
GABAA4受容体を記録した全細胞モデル電流実験プロトコルを以下のように示した:密封時、細胞は-70mVの保持電位であり、ギャップフリーモード(gap‐free mode)でピーク電流を記録した。細胞は、活性電流に対して10nΜのGABAを用いて適用される。被験物質を30秒間適用した後、各濃度の被験物質を10nΜのGABAを用いて適用し、続いて細胞外液を用いて2分間洗浄した。最後に、10μMのGABAをポジティブコントロールとして使用した。データをEPC-10増幅器によって収集し、PatchMaster(HEKA)ソフトウェアに保存した。
【0265】
[56.5 データ品質基準]
データが許容できるかどうかを判断するために、以下の基準が使用される:
(1)電極抵抗<5MΩ
(2)シール抵抗>1GΩ
(3)アクセス抵抗の開始<15MΩ
(4)アクセス抵抗の終了<15MΩ
(5)明らかな自然電流減衰はない。
【0266】
(6)膜電位が-70mvである場合、明らかな漏電はない。
【0267】
[56.6 データ解析]
GABAA1の検出では、3μΜのGABAの電流および試験化合物の種々の濃度を、それぞれ100μΜのGABAの電流に正規化し、
【0268】
【数1】
【0269】
続いて、各濃度に対応する活性化率を計算した。GABAA4の検出では、10nΜのGABAの電流および試験化合物の種々の濃度を、それぞれ10μΜのGABAの電流に正規化し、
【0270】
【数2】
【0271】
続いて、各濃度に対応する活性化率を計算した。平均値、標準偏差および標準誤差を各試験群について計算した。非線形回帰を用いて、EC50値を算出した:
Y=Bottom+(Top-Bottom)/(1+10^((LogEC50-X)×HillSlope))
データを濃度応答に適合させるため、EC50は半最大効果を与える濃度であり、HillslopeはHill係数であった。Graphpad5.0ソフトウェアを用いて、カーブフィッティングおよびEC50の計算を行った。
【0272】
[56.7 インビトロ実験結果]
【0273】
【表2】
【0274】
A:>80%、B:60%~80%(60%を含む)、C:40%~60%(40%を含む)、D:20%~40%(20%を含む)、E:0~20%。
【0275】
表1は、0.1μMおよび1μMの濃度での例示的な化合物の有効性を示した。有効性は、100μmolのGABAでのみ生じたピーク電流に対するGABAA1受容体に生じたピーク電流の比率に基づき、その比率に100%を乗じた。GABAA1受容体に生じたピーク電流は、例示的な化合物が、これら2つの濃度それぞれで、3μmolのGABAと共にGABAA1受容体に作用することであった。
【0276】
【表3】
【0277】
maxは、100μmolのGABAでのみ生じたピーク電流に対するGABAA1受容体で生じたピーク電流の比率として定義され、この比率に100%を乗じる。GABAA1受容体で生じたピーク電流は、例示的な化合物が3μmolのGABAと共にGABAA1受容体に作用するということである。
【0278】
【表4】
【0279】
N/Aは、電流が濃度と共に変化しないことを示す。
【0280】
maxは、GABAのみで生じたピーク電流に対するGABAA1受容体で生じたピーク電流の比率として定義され、この比率に100%を乗じる。GABAA1受容体で生じたピーク電流は、例示的な化合物が、GABAA1受容体に単独で、または10nmolのGABAと共にそれぞれ作用することである。
【0281】
〔実施例57:投与後の脳および血漿中薬物動態〕
[1.プロトコル]
[1.1 被験薬]
本発明のKH022および実施例56に記載のコントロール
[1.2 動物]
実験動物はCD-1マウスである。
【0282】
[1.3 投与]
水中の30% SBECDを用いた胃内投与のための試験化合物の調製。実験の初日に、第1群の動物に、KH022またはコントロールの溶液を5mL/kgの用量で腹腔内注射した。投与前に、動物の体重を測定し、体重に従って投与容量を計算した。伏在静脈穿刺(または他の適切な収集位置)によって、全血サンプル(グループあたり約0.03ml)を特定の時間に収集した。血液サンプルを約4℃、3,200gにて10分間遠心分離することによって、直ちに血漿に処理し、ドライアイス中に素早く置き、LC/MS/MS分析まで-20℃未満で維持した。各時点で、動物を、CO2を用いて安楽死させた後、脳組織を収集し、すすぎ洗いし、生理食塩水を用いて乾燥させた。これを、脳重量(g)の4倍容量の15mMのPBS(pH7.4):MeOH=2:1を用いてホモジナイズした。ホモジナイズ後、標識した遠心管にサンプルを移し、ドライアイス中に素早く置き、LC-MS/MS分析のために-20℃以下で保存した。
【0283】
[2.データ解析]
投与製剤サンプル中の試験化合物の濃度をLC/UVによって決定し、検量線は少なくとも6つの校正基準を含み、R≧0.999であった。生体基質中の試験化合物の濃度を、LC/MS/MS方法を用いて測定した。試験化合物または内部標準の保持時間、クロマトグラムの取得およびクロマトグラムの積分をSoftware Analyst(Applied Biosystems)によって処理し、データ統計をSoftware Watson LIMS(Thermo Fisher Scientific)またはAnalyst(Applied Biosystems)によって処理した。サンプル中の検体濃度の単位はng/mLであり、3桁の有効数字を留保し、百分率で表される全ての値(偏差%および変動係数%など)を小数点以下1桁にした。WinNonlinTM Version 6.3(Pharsight、Mountain View、CA)薬物動態学的ソフトウェアの非コンパートメントモデルを用いて血漿濃度を処理し、線形対数台形法を用いて薬物動態学的パラメータを計算した。
【0284】
[実験結果]
図1および図2に示すように、同じ用量で、KH022は、コントロールよりもマウスの脳においてゆっくりと除去され(8時間での脳におけるコントロールの検出はない)、マウスの脳におけるKH022の含有量は、2時間でコントロールの2.5倍である。
【0285】
[57.3 マウスにおける抗不安試験]
[57.3.1 明暗入れ替えボックス]
明暗入れ替えボックスは、例示的な化合物の抗不安効果について標準的かつ十分に特徴付けられたアッセイである。光は、マウスを回避的にし、かつストレスを与えるため、マウスは自然に明るいボックスを避ける。しかしながら、マウスの探索習性によりマウスは明るいボックスを探索しようとすることもまた促される。例示的な化合物による明るいボックスに向かう時間の増加は、マウスに対する抗不安効果を反映する。実験マウスを、体重に基づき、無作為にネガティブコントロール群、試験化合物(KH004またはKH022)の2つの異なる用量群(1mg/kgおよび3mg/kg)を含む、5群に分割した。すべての群が、10個体の雄マウスを有するようにした。試験介入のためにあらかじめ5日間連続で対応する用量をマウスに投与し、最後の投与の30分後に抗不安実験を行った。明るいボックスにいる保持時間を、KH004およびKH022の抗不安効果を評価するための主要な指標として選択した。
【0286】
[実験結果]
【0287】
【表5】
【0288】
注意:表中のデータは、いずれも平均±標準偏差(平均±SD)で表している。各実験群中の10個体の動物について統計解析を行い、P<0.05、**P<0.01、***P<0.001、****P<0.0001は、実験群およびネガティブコントロール群の動物の相違を表す。
【0289】
[57.3.2 高架式十字迷路(EPM)試験]
探索行動のためのEPMを用いて、不安様症状を形成する、共通の中央プラットフォームから伸びる2つのオープンアームおよび2つのクローズドアームからなる、一般的な運動および不安様行動を評価した。抗不安化合物は、試験系における動物の不安葛藤状態を軽減させるものである。実験マウスを、体重に基づいて、ネガティブコントロール群、試験化合物(KH004またはKH022)の2つの異なる用量群(1mg/kgおよび3mg/kg)を含む、4群に無作為に分けた。すべての群が、10個体の雄マウスを有するようにした。試験介入のため、あらかじめ5日間連続して対応する用量をマウスに投与し、最後の投与の30分後に抗不安実験を行った。マウスのオープンアームの保持時間(潜伏時間)のパーセンテージを、KH004およびKH022の抗不安効果を評価するための主要な指標として使用し、結果を表5に示す。
【0290】
【表6】
【0291】
注意:表中のデータは、いずれも平均値±標準偏差(平均±SD)で表している。各実験群中の10個体の動物について統計解析を行い、P<0.05、**P<0.01、***P<0.001、****P<0.0001は、各実験群およびネガティブコントロール群の動物の相違を表す。結論:KH004およびKH022は、動物のオープンアームにおける保持時間のパーセントを有意に増加させ、抗不安効果を示した。
【0292】
[57.3.3 投与中の副作用の実験]
GABA(A)受容体に作用する薬物は行動の知覚麻痺(副作用)を生じ得るので、高架式十字迷路実験の過程で投与中のマウスの副作用を観察した。各群10個体のマウスについて、歩行、機敏性および腹臥行動の3つの行動発現を観察した。「+」は重症度を示す。3つの「+」が最も重症であり、通常の行動を再開するための所要時間は60分を超える。陽性薬物は実施例56に記載のコントロール化合物であり、結果を表6に示す。
【0293】
KH004およびKH022は、表6の陽性薬物と比較して副作用が少ない。
【0294】
【表7】
図1
図2
【国際調査報告】