特表 2022-519265 タッチセンサ及びアンテナを含む画像表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2022-03-22

(54)【発明の名称】タッチセンサ及びアンテナを含む画像表示装置

(51)【国際特許分類】

   G09F 9/30 20060101AFI20220314BHJP

   G06F 3/041 20060101ALI20220314BHJP

【ＦＩ】

G09F9/30 330

G09F9/30 339Z

G09F9/30 338

G09F9/30 348A

G06F3/041 422

G06F3/041 450

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2021544876

(86)(22)【出願日】2020-02-19

(85)【翻訳文提出日】2021-08-02

(86)【国際出願番号】 KR2020002403

(87)【国際公開番号】W WO2020171593

(87)【国際公開日】2020-08-27

(31)【優先権主張番号】10-2019-0020475

(32)【優先日】2019-02-21

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】503454506

【氏名又は名称】東友ファインケム株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＤＯＮＧＷＯＯ ＦＩＮＥ－ＣＨＥＭ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】１３２， ＹＡＫＣＨＯＮ－ＲＯ， ＩＫＳＡＮ－ＳＩ， ＪＥＯＬＬＡＢＵＫ－ＤＯ ５４６３１， ＲＥＰＵＢＬＩＣ ＯＦ ＫＯＲＥＡ

(71)【出願人】

【識別番号】520337569

【氏名又は名称】ポステック リサーチ アンド ビジネス デベロップメント ファウンデーション

【氏名又は名称原語表記】ＰＯＳＴＥＣＨ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＡＮＤ ＢＵＳＩＮＥＳＳ ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ ＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮ

【住所又は居所原語表記】（Ｊｉｇｏｋ－ｄｏｎｇ） ７７， Ｃｈｅｏｎｇａｍ－ｒｏ， Ｎａｍ－ｇｕ， Ｐｏｈａｎｇ－ｓｉ， Ｇｙｅｏｎｇｓａｎｇｂｕｋ－ｄｏ ３７６７３ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ

(74)【代理人】

【識別番号】100137095

【弁理士】

【氏名又は名称】江部 武史

(74)【代理人】

【識別番号】100091627

【弁理士】

【氏名又は名称】朝比 一夫

(72)【発明者】

【氏名】フ， ヨン ホ

(72)【発明者】

【氏名】パク， ドン ピル

(72)【発明者】

【氏名】リ， ヨン ジュン

(72)【発明者】

【氏名】ホン， ウォン ビン

【テーマコード（参考）】

5C094

【Ｆターム（参考）】

5C094AA31

5C094BA27

5C094BA43

5C094DA15

5C094EA04

5C094EA10

(57)【要約】

本発明の実施形態の画像表示装置は、パネル基板、並びにパネル基板上に積層された電極構造および絶縁構造を含むディスプレイパネルと、ディスプレイパネル上に配置されるタッチセンサ構造と、ディスプレイパネル上で前記タッチセンサ構造と同じレベルに配置され、ディスプレイパネルの電極構造と厚さ方向に少なくとも部分的に重畳するアンテナ電極層とを含む。ディスプレイパネル及びタッチセンサ構造の電極構造を考慮してアンテナ電極層を配置することにより、薄型化された高信頼性の画像表示装置を実現することができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

パネル基板、並びに前記パネル基板上に積層された電極構造および絶縁構造を含むディスプレイパネルと、
前記ディスプレイパネル上に配置されるタッチセンサ構造と、
前記ディスプレイパネル上で前記タッチセンサ構造と同じレベルに配置され、前記ディスプレイパネルの前記電極構造と厚さ方向に少なくとも部分的に重畳するアンテナ電極層とを含む、画像表示装置。

【請求項2】

前記電極構造は、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、および画素電極を含む、請求項１に記載の画像表示装置。

【請求項3】

前記電極構造は、前記アンテナ電極層のグランド層で提供される、請求項２に記載の画像表示装置。

【請求項4】

前記アンテナ電極層は、放射電極を含み、前記放射電極は、平面方向において前記画素電極と全体的に重畳する、請求項３に記載の画像表示装置。

【請求項5】

前記タッチセンサ構造は、
互いに交差する方向に配列された複数の第１センシング電極および第２センシング電極と、
隣り合う前記第１センシング電極を電気的に接続させるブリッジ電極とを含む、請求項１に記載の画像表示装置。

【請求項6】

前記アンテナ電極層及び前記ブリッジ電極は、同じレベルに位置し、同じ金属を含む、請求項５に記載の画像表示装置。

【請求項7】

前記アンテナ電極層の一部上に配置されるキャッピング層をさらに含み、
前記キャッピング層は、前記第１センシング電極及び前記第２センシング電極と同じレベルに位置し、同じ透明金属酸化物を含む、請求項５に記載の画像表示装置。

【請求項8】

前記アンテナ電極層は、放射電極と、前記放射電極から分岐する伝送線路と、前記伝送線路の一端部に接続された信号パッドとを含み、
前記キャッピング層は、前記信号パッド上に配置される、請求項７に記載の画像表示装置。

【請求項9】

前記信号パッドの周辺において、前記信号パッド及び前記伝送線路と電気的に分離されているグランドパッドをさらに含む、請求項８に記載の画像表示装置。

【請求項10】

前記ディスプレイパネルと前記アンテナ電極層との間に配置されたエンキャプセレーション層をさらに含む、請求項１に記載の画像表示装置。

【請求項11】

前記エンキャプセレーション層は、前記アンテナ電極層の誘電層で提供される、請求項１０に記載の画像表示装置。

【請求項12】

前記ディスプレイパネルの前記絶縁構造は、前記パネル基板上に順次積層されたゲート絶縁層、層間絶縁層、ビア絶縁層および画素定義膜を含み、
前記絶縁構造の少なくとも一部は、前記エンキャプセレーション層と共に前記アンテナ電極層の誘電層で提供される、請求項１０に記載の画像表示装置。

【請求項13】

前記タッチセンサ構造は、前記エンキャプセレーション層の中央部に配置され、前記アンテナ電極層は、前記エンキャプセレーション層の周辺部に配置される、請求項１０に記載の画像表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、タッチセンサ及びアンテナを含む画像表示装置に関する。より詳細には、ディスプレイパネル上に積層されたタッチセンサ及びアンテナを含む画像表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、情報化社会が進展するにつれて、ワイファイ（Ｗｉ－Ｆｉ）、ブルートゥース（Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ：登録商標）などの無線通信技術が画像表示装置と結合され、例えばスマートフォンの形で実現されている。この場合には、アンテナが前記画像表示装置に結合され、通信機能を実行することができる。

【0003】

最近の移動通信技術が進化しつつ、例えば３Ｇ～５Ｇに相当する超高周波帯域の通信を行うためのアンテナが前記画像表示装置に結合される必要がある。

【0004】

その一方で、画面に表示される指示内容を人の手や物体で選択し、ユーザの命令を入力する入力装置であるタッチパネルまたはタッチセンサを画像表示装置と結合することで、画像表示機能及び情報入力機能を共に実現した電子機器が開発されている。例えば、韓国特許公開第２０１４－００９２３６６号のように、様々な画像表示装置にタッチセンサが結合されたタッチスクリーンパネルが開発されている。

【0005】

一つの画像表示装置内にアンテナ及びタッチセンサを結合することにより、適切な実装スペースの確保が困難になることがあり、また相互の信号干渉によってアンテナ、タッチセンサ及びディスプレイパネルでの電気的特性が妨害されることもある。

【0006】

例えば、韓国特許公開第２００３－００９５５５７号では、携帯用端末に内蔵されるアンテナ構造を開示しているが、タッチセンサのような他の電気素子との整合性を考慮していない。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明の課題は、向上した動作信頼性および構造効率性を有し、タッチセンサ及びアンテナの機能が結合された画像表示装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

１．パネル基板、並びに前記パネル基板上に積層された電極構造および絶縁構造を含むディスプレイパネルと、前記ディスプレイパネル上に配置されるタッチセンサ構造と、前記ディスプレイパネル上で前記タッチセンサ構造と同じレベルに配置され、前記ディスプレイパネルの前記電極構造と厚さ方向に少なくとも部分的に重畳するアンテナ電極層とを含む、画像表示装置。

【0009】

２．前記項目１において、前記電極構造は、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、および画素電極を含む、画像表示装置。

【0010】

３．前記項目２において、前記電極構造は、前記アンテナ電極層のグランド層で提供される、画像表示装置。

【0011】

４．前記項目３において、前記アンテナ電極層は、放射電極を含み、前記放射電極は、平面方向において前記画素電極と全体的に重畳する、画像表示装置。

【0012】

５．前記項目１において、前記タッチセンサ構造は、互いに交差する方向に配列された複数の第１センシング電極及び第２センシング電極と、隣り合う前記第１センシング電極を電気的に接続させるブリッジ電極とを含む、画像表示装置。

【0013】

６．前記項目５において、前記アンテナ電極層及び前記ブリッジ電極は、同じレベルに位置し、同じ金属を含む、画像表示装置。

【0014】

７．前記項目５において、前記アンテナ電極層の一部上に配置されるキャッピング層をさらに含み、前記キャッピング層は、前記第１センシング電極および前記第２センシング電極と同じレベルに位置し、同じ透明金属酸化物を含む、画像表示装置。

【0015】

８．前記項目７において、前記アンテナ電極層は、放射電極と、前記放射電極から分岐する伝送線路と、前記伝送線路の一端部に接続された信号パッドとを含み、前記キャッピング層は、前記信号パッド上に配置される、画像表示装置。

【0016】

９．前記項目８において、前記信号パッドの周辺において、前記信号パッド及び前記伝送線路と電気的に分離されているグランドパッドをさらに含む、画像表示装置。

【0017】

１０．前記項目１において、前記ディスプレイパネルと前記アンテナ電極層との間に配置されたエンキャプセレーション層をさらに含む、画像表示装置。

【0018】

１１．前記項目１０において、前記エンキャプセレーション層は、前記アンテナ電極層の誘電層で提供される、画像表示装置。

【0019】

１２．前記項目１０において、前記ディスプレイパネルの前記絶縁構造は、前記パネル基板上に順次積層されたゲート絶縁層、層間絶縁層、ビア絶縁層および画素定義膜を含み、
前記絶縁構造の少なくとも一部は、前記エンキャプセレーション層と共に前記アンテナ電極層の誘電層で提供される、画像表示装置。

【0020】

１３．前記項目１０において、前記タッチセンサ構造は、前記エンキャプセレーション層の中央部に配置され、前記アンテナ電極層は、前記エンキャプセレーション層の周辺部に配置される、画像表示装置。

【発明の効果】

【0021】

本発明の実施形態に係る画像表示装置は、ディスプレイパネル上にアンテナ及びタッチセンサ構造を共に積層することにより、向上したスペース効率を実現することができる。

【0022】

前記アンテナは、前記ディスプレイパネルに含まれた絶縁構造またはエンキャプセレーション層を誘電層として活用することができる。また、前記ディスプレイパネルに含まれた画素電極及び／又は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の電極構造を前記アンテナのグランド電極として活用することができる。これにより、別の誘電層、グランド電極の形成なしにアンテナ駆動を実現することができる。スペース効率がより向上するとともに、ディスプレイパネルの所定の駆動特性を変化させずにアンテナ駆動を確保することができる。

【0023】

例示的な実施形態では、前記アンテナの放射パターンは、前記タッチセンサ構造の電極と同じ層または同じレベル上に共に形成することができる。これにより、前記アンテナとタッチセンサ構造との間の信号妨害およびインピーダンス・ミスマッチを防止し、画像表示装置全体の厚さを減少させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】図１は、例示的な実施形態に係る画像表示装置を示す概略断面図である。

【図2】図２は、図１のＡ領域の部分拡大断面図である。

【図3】図３は、例示的な実施形態に係るアンテナのパターン構造を概略的に示す平面図である。

【図4】図４は、いくつかの実施形態に係るアンテナのパターン構造を概略的に示す平面図である。

【図5】図５は、例示的な実施形態に係るタッチセンサ構造を示す概略平面図である。

【図6】図６は、例示的な実施形態に係るディスプレイパネルの電極構造を示す概略平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

本発明の実施形態は、ディスプレイパネル上に積層されたアンテナ及びタッチセンサ構造を含み、向上したスペース効率および動作信頼性を有する画像表示装置を提供するものである。

【0026】

以下、図面を参照して、本発明の実施形態をより具体的に説明する。ただし、本明細書に添付される図面は、本発明の好適な実施形態を例示するものであって、発明の詳細な説明とともに本発明の技術思想をさらに理解する一助となる役割を果たすものであるため、本発明は図面に記載された事項のみに限定されて解釈されるものではない。

【0027】

図１は、例示的な実施形態に係る画像表示装置を示す概略断面図である。

【0028】

図１を参照すると、前記画像表示装置は、ディスプレイパネル１００、並びにディスプレイパネル１００上に積層されたアンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００を含む。

【0029】

ディスプレイパネル１００は、例えば、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置または液晶表示装置（ＬＣＤ）などのディスプレイ装置の薄膜トランジスタアレイ（ＴＦＴ ａｒｒａｙ）基板またはバック－プレーン（Back－Plane）基板を含むことができる。ディスプレイパネル１００の構造及び構成については、図２を参照して詳細に後述する。

【0030】

ディスプレイパネル１００上には、エンキャプセレーション層１９０を配置することができる。エンキャプセレーション層１９０は、無機絶縁物質、有機絶縁物質または有機無機ハイブリッドフィルムを含むことができる。エンキャプセレーション層１９０は、ディスプレイパネル１００に含まれる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、電極及び表示層を保護する封止層で提供できる。一実施形態では、エンキャプセレーション層１９０は、ディスプレイパネル１００に含まれる構成又は部材として共に製造できる。

【0031】

エンキャプセレーション層１９０上には、アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００を配置することができる。例示的な実施形態では、アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００は、同じ層または同じレベル上に位置させることができる。いくつかの実施形態では、アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００は、エンキャプセレーション層１９０上に直接形成することができる。

【0032】

アンテナパターン２００は、アンテナ電極層２１０と、アンテナ電極層２１０上に形成されたキャッピング層２５０とを含むことができる。

【0033】

タッチセンサ構造３００は、第１センシング電極３２０と、第２センシング電極３３０と、絶縁パターン３４０と、ブリッジ電極３１０とを含むことができる。

【0034】

タッチセンサ構造３００は、画像表示装置の中央部を含む表示領域または活性領域内に配置することができる。アンテナパターン２００は、前記表示領域または活性領域の周辺領域内に配置することができる。

【0035】

例えば、前記周辺領域は、画像表示装置の非表示領域またはベゼル領域に相当し得る。前記周辺領域を利用して、アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００を同じレベル上に配置するので、画像表示装置の厚さを低減しつつ、スペースの利用率を向上させることができる。

【0036】

また、アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００が同一平面上で水平に配置されるので、アンテナ電極層２１０とセンシング電極３２０，３３０との間の信号干渉、寄生キャパシタンスの発生を抑制することができる。

【0037】

例示的な実施形態によると、アンテナ電極層２１０とブリッジ電極３１０は、同じ物質を含み、同じパターニング工程によって共に形成することができる。いくつかの実施形態では、アンテナ電極層２１０及びブリッジ電極３１０は、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、マンガン（Ｍｎ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、カルシウム（Ｃａ）、又はそれらの合金のような低抵抗の金属膜から同じエッチング工程を経て形成することができる。

【0038】

例示的な実施形態によると、キャッピング層２５０は、アンテナ電極層２１０の一部上のみに選択的に形成された導電性パターンであってもよい。図１に示すように、キャッピング層２５０は、センシング電極３２０，３３０と同一平面または同一レベルに位置させることができる。一実施形態では、キャッピング層２５０は、センシング電極３２０，３３０が形成されたタッチセンシング領域またはタッチ活性領域へは延長されず、アンテナ電極層２１０上のみに選択的に形成することができる。

【0039】

いくつかの実施形態では、アンテナパターン２００のキャッピング層２５０及びタッチセンサ構造３００のセンシング電極３２０，３３０は同じ物質を含み、同じパターニング工程を経て共に形成することができる。いくつかの実施形態では、キャッピング層２５０及びセンシング電極３２０，３３０は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＴＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯｘ）のような透明金属酸化物を含む導電膜から同じエッチング工程を経て形成することができる。

【0040】

相対的に耐腐食、耐酸化性が向上した透明金属酸化物を含むキャッピング層２５０は、アンテナ電極層２１０の一部（例えば、パッド部）を覆うように形成することができる。これにより、画像表示装置の製造工程中に外部の空気、水分にさらされる可能性がある前記パッド部の機械的、化学的安定性を向上することができる。

【0041】

また、キャッピング層２５０をセンシング電極３２０，３３０と同じ物質、工程によって形成するので、工程のしやすさ及び経済性を向上させることができる。

【0042】

アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００の構造および構成については、それぞれ図３及び図５を参照して詳細に後述する。

【0043】

エンキャプセレーション層１９０上には、アンテナパターン２００及びタッチセンサ構造３００を共に覆うパッシベーション層３５０を形成することができる。

【0044】

パッシベーション層３５０上には、偏光層３７０及びカバーウィンドウ３８０を順次積層することができる。

【0045】

偏光層３７０は、コーティング型の偏光子または偏光板を含むことができる。前記コーティング型の偏光子は、重合性液晶化合物および二色性染料を含む液晶コーティング層を含むことができる。この場合には、偏光層３７０は、前記液晶コーティング層に配向性を付与するために配向膜をさらに含むことができる。

【0046】

例えば、前記偏光板は、ポリビニルアルコール系偏光子と、前記ポリビニルアルコール系偏光子の少なくとも一つの面に貼り付けられる保護フィルムとを含むことができる。

【0047】

いくつかの実施形態では、偏光層３７０は、粘接着層３６０を介してパッシベーション層３５０上に積層することができる。粘接着層３６０は、例えば、光学透明粘着剤（Optically clear Adhesive：ＯＣＡ）、光学透明樹脂（Optically Clear Resin：ＯＣＲ）などの粘接着フィルムを含むことができる。

【0048】

カバーウィンドウ３８０は、ガラスまたは柔軟性の樹脂物質を含むハードコートフィルムを含むことができる。一実施形態では、カバーウィンドウ３８０の底面の周辺部上に遮光パターン（図示せず）を形成することができる。前記遮光パターンは、例えばカラー印刷パターンを含むことができ、前記遮光パターンによって画像表示装置のベゼル領域または非表示領域を定義することができる。一実施形態では、前述のように、アンテナパターン２００は、前記ベゼル領域内（例えば、前記遮光パターンの下）に配置することができる。

【0049】

図２は、図１のＡ領域の部分拡大断面図である。例えば、図２は、ディスプレイパネル１００に含まれた薄膜トランジスタを含む電極構造およびアンテナ電極層２１０の配置を示している。

【0050】

図２を参照すると、図１に示すディスプレイパネル１００は、パネル基板１１０上に配置された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）アレイおよび表示構造物を含むことができる。前記薄膜トランジスタアレイは、複数の薄膜トランジスタを配列して形成することができる。

【0051】

前記薄膜トランジスタは、活性層１２０と、ゲート電極１３５と、ソース電極１４５と、ドレイン電極１４７とを含むことができる。前記表示構造物は、画素電極１６５と、表示層１８０と、対向電極１８５とを含むことができる。

【0052】

パネル基板１１０は、ガラス、またはポリイミドのような柔軟性の樹脂物質を含むことができる。活性層１２０は、非晶質のポリシリコンまたは酸化物半導体（例えば、インジウム－ガリウム－亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）又はインジウム－スズ－ガリウム酸化物（ＩＧＴＯ）など）を含むことができる。

【0053】

いくつかの実施形態では、パネル基板１１０上には、金属酸化物、シリコン酸化物、シリコン窒化物のような無機絶縁物質を含むバリア層を形成することができる。前記バリア層上には、活性層１２０を形成することができる。

【0054】

パネル基板１１０上には活性層１２０を覆うゲート絶縁層１３０が形成され、ゲート電極１３５は、ゲート絶縁層１３０上に形成することができる。ゲート絶縁層１３０は、金属酸化物、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物のような無機絶縁物質を含むことができる。

【0055】

ゲート絶縁層１３０上には、ゲート電極１３５を覆う層間絶縁層１４０を形成することができる。ソース電極１４５及びドレイン電極１４７は、層間絶縁層１４０及びゲート絶縁層１３０を貫通して活性層１２０と接触することができる。ソース電極１４５とドレイン電極１４７は、ゲート電極１３５を挟んで活性層１２０の両側部と接触することができる。

【0056】

層間絶縁層１４０上には、ソース電極１４５及びドレイン電極１４７を覆うビア（via）絶縁層１５０を形成することができる。画素電極１６５は、ビア絶縁層１５０を貫通するビア部１６０を介してドレイン電極１４７と電気的に接続することができる。画素電極１６５及びビア部１６０は、互いに一体に接続された単一の部材であってもよい。

【0057】

画素電極１６５は、例えば、前記画像表示装置のアノード（anode）で提供できる。画素電極１６５は、画像表示装置の各画素ごとに個別に提供できる。

【0058】

ビア絶縁層１５０上には、画素定義膜１７０が形成され、画素電極１６５の上面を少なくとも部分的に露出させることができる。露出した画素電極１６５の前記上面上には、表示層１８０を形成することができる。

【0059】

表示層１８０は、有機発光層を含むことができる。この場合、前記画像表示装置は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置で提供できる。一実施形態では、表示層１８０は、正孔輸送層または電子輸送層をさらに含むことができ、前記有機発光層は、前記正孔輸送層と前記電子輸送層との間に配置することができる。

【0060】

いくつかの実施形態では、表示層１８０は液晶層を含むことができる。この場合、前記画像表示装置は、液晶表示装置（ＬＣＤ）で提供できる。

【0061】

画素定義膜１７０上には、表示層１８０を覆う対向電極１８５を配置することができる。対向電極１８５は、例えば、前記画像表示装置のカソード（cathode）で提供できる。また、対向電極１８５は、複数の画素に対して連続して提供される共通電極で形成することもできる。

【0062】

対向電極１８５上には、エンキャプセレーション層１９０が配置され、エンキャプセレーション層１９０上には、アンテナ電極層２１０を配置することができる。

【0063】

ゲート電極１３５、ソース電極１４５、ドレイン電極１４７および画素電極１６５は、それぞれ、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、マンガン（Ｍｎ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）、又はそれらの合金のような低抵抗の金属を含むことができる。

【0064】

対向電極１８５は、画像表示装置の透過度を向上させるためにインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＴＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯｘ）のような透明金属酸化物を含むことができる。

【0065】

例示的な実施形態によると、ディスプレイパネル１００に含まれた電極構造を、アンテナパターン２００またはアンテナ電極層２１０のグランド層で提供することができる。

【0066】

いくつかの実施形態では、アンテナ電極層２１０は、前記画像表示装置の高さ方向または厚さ方向に、ディスプレイパネル１００に含まれたソース電極１４５、ゲート電極１３５、ドレイン電極１４７および画素電極１６５のうちの少なくとも１つと重畳してもよい。これにより、ソース電極１４５、ゲート電極１３５、ドレイン電極１４７および画素電極１６５のうちの少なくとも１つをアンテナ電極層２１０のグランド層で提供することができる。

【0067】

いくつかの実施形態では、アンテナ電極層２１０は、画素電極１６５と重畳してもよい。これにより、画素電極１６５を実質的にアンテナ電極層２１０のグランド層で提供することができる。

【0068】

例示的な実施形態によると、エンキャプセレーション層１９０をアンテナ電極層２１０の誘電層で提供することができる。また、ディスプレイパネル１００に含まれた少なくとも一つの絶縁層を、前記誘電層で共に提供できる。

【0069】

例えば、画素定義膜１７０、ビア絶縁層１５０及び／又は層間絶縁層１４０を前記誘電層で共に提供できる。画素定義膜１７０、ビア絶縁層１５０および層間絶縁層１４０は、それぞれアクリル系、シロキサン系、ポリイミド系樹脂物質のような有機絶縁物質、またはシリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物のような有機絶縁物質を含むことができる。

【0070】

前述のように、ディスプレイパネル１００の絶縁構造および電極構造をそれぞれアンテナパターン２００の誘電層及びグランド層として活用することにより、別のアンテナ誘電層およびアンテナグランドの挿入または形成なしに、アンテナの駆動・放射を実現することができる。これにより、前記アンテナグランドによるディスプレイパネル１００での動作干渉を防止しつつ、画像表示装置の厚さを減少させることができる。

【0071】

図３は、例示的な実施形態に係るアンテナのパターン構造を概略的に示す平面図である。

【0072】

図３を参照すると、図１及び図２で説明したように、例えばエンキャプセレーション層１９０上にアンテナ電極層２１０を含むアンテナパターン２００を配置することができる。図３に示すように、複数のアンテナパターン２００をエンキャプセレーション層１９０上に配列することができる。

【0073】

アンテナ電極層２１０は、放射電極２１２と、伝送線路２２０と、パッド２３０とを含むことができる。パッド２３０は、信号パッド２３２と、グランドパッド２３４とを含むことができる。

【0074】

放射電極２１２は、例えば多角形プレート状を有し、伝送線路２２０は、放射電極２１２の中央部から延長し、信号パッド２３２と電気的に接続することができる。伝送線路２２０は、放射電極２１２と実質的に一体の単一の部材として形成することができる。

【0075】

いくつかの実施形態では、信号パッド２３２を挟んで一対のグランドパッド２３４を配置することができる。グランドパッド２３４は、信号パッド２３２および伝送線路２２０と電気的に分離することができる。

【0076】

図１及び図２で説明したように、アンテナ電極層２１０は、ディスプレイパネル１００に含まれた電極構造と平面方向で重畳してもよい。例えば、アンテナ電極層２１０の放射電極２１２は、ディスプレイパネル１００に含まれた前記電極構造と全体的に重畳してもよい。

【0077】

例示的な実施形態では、図１に示すキャッピング層２５０を信号パッド２３２上に形成することができる。キャッピング層２５０は、相対的に化学的に安定した透明金属酸化物を含むことができる。これにより、信号パッド２３２が外気にさらされる場合の腐食、酸化を防止することができる。

【0078】

いくつかの実施形態では、キャッピング層２５０は、グランドパッド２３４上にも形成することができる。

【0079】

図４は、いくつかの実施形態に係るアンテナのパターン構造を概略的に示す平面図である。

【0080】

図４を参照すると、メッシュ構造のダミーパターン２４５を放射電極２１２の周辺に形成することができる。一実施形態では、放射電極２１２もまた、ダミーパターン２４５と実質的に同一または類似のメッシュ構造を含むことができる。

【0081】

例えば、放射電極２１２の枠に沿って形成された分離領域２４０によって、放射電極２１２及びダミーパターン２４５を互いに分離及び絶縁することができる。

【0082】

放射電極２１２及びダミーパターン２４５を実質的に同一または類似のメッシュ構造を含むように形成することにより、アンテナ電極層２１０の透過率を向上しつつ、パターン形状の違いによる放射電極２１２の視認を防止することができる。

【0083】

いくつかの実施形態では、放射電極２１２から分岐する伝送線路２２０もまたメッシュ構造を含むことができる。一実施形態では、図３に示すパッド２３０は、信号速度の向上および抵抗の減少のために中身が詰まった（solid）パターン構造を持つことができる。

【0084】

図５は、例示的な実施形態に係るタッチセンサ構造を示す概略的な平面図である。例えば、図５に示すＩ－Ｉ’に沿う断面図が、図１にタッチセンサ構造３００として含まれている。説明を容易にするために、図５では絶縁パターン３４０の図示を省略した。

【0085】

図５を参照すると、第１センシング電極３２０は、例えば行方向（例えば、Ｘ方向）に沿って配列することができる。第２センシング電極３３０は、例えば列方向（例えば、Ｙ方向）に沿って配列することができる。

【0086】

前記列方向に隣り合う第２センシング電極３３０は、つなぎ部３３５を介して互いに接続することができる。つなぎ部３３５は、第２センシング電極３３０と一体に接続された単一の部材で形成することができる。これにより、複数の第２センシング電極３３０が互いに電気的に接続され、第２センシング電極列を形成することができる。複数の前記第２センシング電極列は、前記行方向に沿って配列することができる。

【0087】

第１センシング電極３２０は、それぞれ物理的に分離された島（island）タイプの単位電極形状を有することができる。つなぎ部３３５を挟んで向かい合う第１センシング電極３２０は、コンタクト３２５を介してブリッジ電極３１０と電気的に接続することができる。コンタクト３２５は、絶縁パターン３４０を貫通して隣り合う第１センシング電極３２０を接続させることができる。

【0088】

これにより、複数の第１センシング電極３２０が前記行方向に相互に接続され、第１センシング電極行を定義することができる。複数の前記第１センシング電極行は、前記列方向に沿って配列することができる。

【0089】

図１で説明したように、いくつかの実施形態では、ブリッジ電極３１０は、アンテナ電極層２１０と同じ導電膜（例えば、金属膜）からパターニングされて形成され、センシング電極３２０，３３０は、キャッピング層２５０と同じ導電膜（例えば、透明金属酸化膜）からパターニングされて形成され得る。

【0090】

これにより、アンテナパターン２００とタッチセンサ構造３００を、実質的に同じ工程を経て同じレベル上に形成することができる。

【0091】

図６は、例示的な実施形態に係るディスプレイパネルの電極構造を示す概略平面図である。

【0092】

図６を参照すると、データライン１４５ａ及びスキャンライン１３５ａは、互いに交差する方向に延長することができる。互いに交差する複数のデータライン１４５ａ及びスキャンライン１３５ａによって、画像表示装置の複数の画素を定義することができる。また、各画素内に薄膜トランジスタを配列することができる。

【0093】

ゲート電極１３５は、スキャンライン１３５ａから分岐して活性層１２０上に突出することができる。ソース電極１４５は、データライン１４５ａから分岐して活性層１２０の一側部上に突出することができる。

【0094】

ドレイン電極１４７は、ゲート電極１３５を挟んでソース電極１４５と向かい合うように配置することができる。ソース電極１４５及びドレイン電極１４７は、活性層１２０の両側部と接触することができる。

【0095】

画素電極１６５は、ビア部１６０を介してドレイン電極１４７と電気的に接続することができる。

【0096】

図２で説明したように、ソース電極１４５、ゲート電極１３５、ドレイン電極１４７及び／又は画素電極１６５は、アンテナパターン２００またはアンテナ電極層２１０のグランド層で提供できる。

【0097】

一実施形態では、アンテナ電極層２１０の放射電極２１２は、平面方向で画素電極１６５と全体的に重畳してもよい。一実施形態では、アンテナ電極層２１０の伝送線路２２０及びパッド２３０は、ソース電極１４５、ゲート電極１３５及び／又はドレイン電極１４７と平面方向で少なくとも部分的に重畳してもよい。

【0098】

例えば、低抵抗の金属を含むソース電極１４５、ゲート電極１３５、ドレイン電極１４７および画素電極１６５によって定義される電極領域とアンテナ電極層２１０を平面方向で重畳するように配置することにより、アンテナ電極層２１０からの放射ノイズを効率的に除去または遮蔽することができる。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【国際調査報告】