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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-03-30
(54)【発明の名称】ドライタイプの粗引き真空ポンプ
(51)【国際特許分類】
F04C 25/02 20060101AFI20220323BHJP
【ＦＩ】
F04C25/02 K
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2021547372
(86)(22)【出願日】2020-01-22
(85)【翻訳文提出日】2021-10-12
(86)【国際出願番号】 EP2020051542
(87)【国際公開番号】W WO2020164877
(87)【国際公開日】2020-08-20
(31)【優先権主張番号】1901520
(32)【優先日】2019-02-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】FR
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】511148259
【氏名又は名称】ファイファー バキユーム
(74)【代理人】
【識別番号】100060759
【弁理士】
【氏名又は名称】竹沢 荘一
(74)【代理人】
【識別番号】100083389
【弁理士】
【氏名又は名称】竹ノ内 勝
(74)【代理人】
【識別番号】100198317
【弁理士】
【氏名又は名称】横堀 芳徳
(72)【発明者】
【氏名】ポール ドゥコルド
(72)【発明者】
【氏名】アントワーヌ デングレヴィル
(72)【発明者】
【氏名】ピエリック ゴディナ
(72)【発明者】
【氏名】ヤニク グルニエ
(72)【発明者】
【氏名】ティエリ ニール
(72)【発明者】
【氏名】ヤン ルマルカン
【テーマコード（参考）】
3H129
【Ｆターム（参考）】
3H129AA06
3H129AA15
3H129AA16
3H129AA24
3H129AB06
3H129BB13
3H129CC22
3H129CC27
3H129CC46
(57)【要約】
本発明のドライタイプの粗引き真空ポンプ（１）は、ステータ（２）に設けられたダクトと、加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）とを備えている。前記ダクトは、その入口オリフィスが少なくとも１つのパージガス源に接続され、その少なくとも１つの出口オリフィスが、真空ポンプの吐出口（５）と連絡する最終段のポンピングステージ（３ｅ）と連絡するように構成されている。加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）は、前記ダクトに注入されるパージガスを、少なくとも部分的に４０℃より高い温度に加熱するように構成された加熱装置（２４）を含んでいる。
【選択図】図７
【選択図】図７
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ドライタイプの粗引き真空ポンプ（１）であって、吸気口（４）と、吐出口（５）と、前記吸気口（４）と前記吐出口（５）の間に直列に設けられ少なくとも２段のポンピングステージ（３ａ）、（３ｂ）、（３ｃ）、（３ｄ）、（３ｅ）を含むステータ（２）と、前記少なくとも２段のポンピングステージ（３ａ）～（３ｅ）内に配置された２個のロータ（６）とを備え、
前記ロータ（６）は、２つの軸（７）によって支えられ、前記吸気口（４）と前記吐出口（５）の間でポンピングされるガスを同伴するために反対方向に同期して回転するように構成されているものにおいて、
前記ステータ（２）内に設けられたダクト（１６）と、前記ダクトに加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）とを備えており、
前記ダクト（１６）は、その入口オリフィス（１６ａ）が少なくとも１つのパージガス源に接続されるように構成され、少なくともその１つの出口オリフィス（１６ｂ）、（１６ｂ）は、前記吐出口（５）と連通する最終段の前記ポンピングステージ（３ｅ）と連通されており、
前記加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）は、前記ダクト（１６）に注入される前記パージガスを少なくとも部分的に４０℃より高い温度に加熱するように構成された加熱装置（２４）を含んでいることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項2】
請求項１において、前記ダクト（１６）の前記出口オリフィス（１６ｂ）、（１６ｃ）は、前記２つの軸（７）と、前記ステータ（２）の軸通路（１４ａ）、（１４ｂ）との間のクリアランスを介して、前記最終段のポンピングステージ（３ｅ）と連通している前記ステータ（２）の少なくとも１つの前記軸通路（１４ａ）、（１４ｂ）と連通していることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項3】
請求項１又は２において、前記ダクト（１６）は、前記ポンピングステージ（３ｅ）の前記２つの軸通路（１４ａ）、（１４ｂ）と連通していることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項4】
請求項３において、前記ダクト（１６）は、前記入口オリフィス（１６ａ）に接続された線形部分（１８）を有し、前記線形部分（１８）は、前記２つの軸（７）の間に設けられ、２つの月形の空洞（２０ａ）、（２０ｂ）と連通しており、前記空洞（２０ａ）、２０ｂ）はそれぞれの前記軸通路（１４ａ）、（１４ｂ）と連通していることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項5】
請求項２～４のいずれか１項において、前記軸通路（１４ａ）、（１４ｂ）をシールするために、前記真空ポンプ（１）の潤滑軸受（１１）と前記ポンピングステージ（３ｅ）との間に挿入された少なくとも１つのシール装置（１３ａ）、（１３ｂ）を備え、
前記ダクト（１６）は、前記シール装置（１３ａ）、（１３ｂ）と前記ポンピングステージ（３ｅ）との間で前記軸通路（１４ａ）、（１４ｂ）と連通していることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項6】
請求項１～５のいずれか１項において、前記加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）は、さらに、
前記加熱装置（２４）によって加熱された前記パージガスと流体的に連通している温度プローブ（２８）、及び
前記パージガスの温度を制御するために、前記加熱装置（２４）の電源及び前記温度プローブ（２８）に接続されたコントローラ（３０）を備えていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか１項において、前記加熱装置（２４）は、入口（２７ａ）と出口（２７ｂ）を有する管（２７）内に配置された抵抗加熱要素（２６）を含む加熱カートリッジを含み、前記管内で前記パージガスが循環して加熱されるように構成されていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項8】
請求項１～７のいずれか１項において、前記加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）は、前記加熱されたパージガスの流量の割合が、前記ダクト（１６）に注入される前記パージガスの流量の１０％～１００％の間であるように構成されていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか１項において、前記加熱されたパージガスを注入するための装置（１５）は、加熱された前記パージガスの流量が３３．８Ｐａ．ｍ３／ｓより大きくなるように構成されていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項10】
請求項１～９のいずれか１項において、前記加熱装置（２４）は、前記パージガスを２００℃より低い温度に加熱するように構成されていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項11】
請求項１～１０のいずれか１項において、前記ステータ（２）に少なくとも部分的に組み込まれ前記ダクト（１６）を取り囲む、冷却回路（２５）を備えていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項12】
請求項１～１１のいずれか１項において、前記ステータ（２）に設けられ、前記パージガス源に接続されるように構成され、前記真空ポンプ（１）の少なくとも１つの前記軸受（１１）に通じる、軸受パージダクト（３５）を備えていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項13】
請求項１～１２のいずれか１項において、前記ステータ（２）に設けられ、前記パージガスの吐出源に接続され、前記１つのポンピングステージの出口を次の前記ポンピングステージの入口に接続する前記ステージ間導管（９）に開口するように構成された、少なくとも１段のパージダクト（３６）を備えていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項14】
請求項１２又は１３において、分配器（３８）を備えており、前記分配器は、一方が前記パージガスの吐出源に、他方が、前記軸受パージダクト（３５）、前記ステージパージダクト（３６）、及び前記ダクト（１６）及び前記加熱装置（２４）の出口（２７ｂ）に接続されたパイプ（２１ｂ）に結合されるように構成されていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【請求項15】
請求項１４において、前記分配器（３８）によって分配された前記パージガスの少なくとも一部を加熱するように構成された追加の加熱装置（３９）を備えていることを特徴とする粗引き真空ポンプ（１）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、「ルーツ」又は「クロー」又はスクリュータイプのポンプ等の、ドライタイプの粗引き真空ポンプに関する。
【背景技術】
【0002】
ドライタイプの粗引き真空ポンプは、ポンピングされるガスが、吸気口と吐出口の間を循環する直列の複数段のポンピングステージを備えている。
既知の粗引き真空ポンプは、「ルーツ」ポンプとしても知られている回転ローブを備えるもの、「クロー」ポンプとしても知られている爪を備えるもの、及びスクリュータイプに区別される。これらの真空ポンプは、動作中、ロータがステータ内で、互いに又はステータと機械的に接触することなく回転するため、「ドライ」と呼ばれる。つまり、ポンピングステージでオイルを使用しなくても良い可能性がある。
既知の粗引き真空ポンプは、「ルーツ」ポンプとしても知られている回転ローブを備えるもの、「クロー」ポンプとしても知られている爪を備えるもの、及びスクリュータイプに区別される。これらの真空ポンプは、動作中、ロータがステータ内で、互いに又はステータと機械的に接触することなく回転するため、「ドライ」と呼ばれる。つまり、ポンピングステージでオイルを使用しなくても良い可能性がある。
【0003】
特定の粗引き真空ポンプは、例えば粉末、ペースト、又は破片状の、固体の副産物を生成する化学物質を使用するプロセスにおいて使用される。これは、例えば、半導体、光導電スクリーン、フラットスクリーン、又はＬＥＤの製造に使用される特定のプロセスの場合である。これらの固体又は凝縮性の副産物は、真空ポンプに引き込まれ、特にロータの回転を妨げるか、最悪の場合、ロータの回転を妨げることによって、その動作を損なう可能性がある。特定の用途では、Ｈ２、ＳｉＨ４、ＴＥＯＳなど、爆発性及び／又は可燃性の可能性のある副産物又はガスも放出される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
これらのリスクを抑制するために、ポンピングされるガスは通常、真空ポンプに注入されるパージガスで希釈される。窒素ガスは通常、真空ポンプに沿って各ポンピングステージ内に配置された噴射ノズルから噴射される。
これらのガスが真空ポンプの出口で凝縮するのを防ぐために、パイプ又はガス処理システム（除害システムとも呼ばれる）に、時には加熱された、追加のパージガスを注入することによって、真空ポンプの下流に位置するパイプをパージすることが必要になる場合がある。
これらのガスが真空ポンプの出口で凝縮するのを防ぐために、パイプ又はガス処理システム（除害システムとも呼ばれる）に、時には加熱された、追加のパージガスを注入することによって、真空ポンプの下流に位置するパイプをパージすることが必要になる場合がある。
【0005】
加熱された追加のパージガスの注入は、ガスを効果的に希釈するが、それにもかかわらず、かなりのコストがかかる。さらに、この追加のパージは、パージガスが注入される位置の上流側に設けられた要素に対しては効果がなく、特に、真空ポンプに対しては効果がない。
【0006】
本発明の目的の１つは、真空ポンプのパージの有効性を改善することである。
本発明の他の目的は、ポンピングされるガスのパージに関連するコストを削減することである。
本発明の他の目的は、ポンピングされるガスのパージに関連するコストを削減することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
この目的のために、本発明の１つの主題は、
－ 吸入口と吐出口の間に直列に設けられたた少なくとも２段のポンピングステージを含むステータと、
－ 前記少なくとも２段のポンピングステージ内に配置された２個のロータとを備え、前記ロータは、２つの軸によって支えられ、前記吸気口と前記吐出口の間にポンピングされるガスを同伴するために、反対方向に同期して回転するように構成された、ドライタイプの粗引き真空ポンプであって、
この真空ポンプはさらに、
－ 前記ステータに設けられたダクトであって、入口オリフィスが少なくとも１つのパージガス源に接続され、少なくとも１つの出口オリフィスが前記吐出口と連絡するように構成され、最終段の前記ポンピングステージと連絡するダクト、及び
－ 前記ダクトに注入されたパージガスの少なくとも一部を４０℃より高い温度に加熱するようになっている加熱装置を含む、加熱されたパージガスを注入するための装置とを備えていることを特徴としている。
－ 吸入口と吐出口の間に直列に設けられたた少なくとも２段のポンピングステージを含むステータと、
－ 前記少なくとも２段のポンピングステージ内に配置された２個のロータとを備え、前記ロータは、２つの軸によって支えられ、前記吸気口と前記吐出口の間にポンピングされるガスを同伴するために、反対方向に同期して回転するように構成された、ドライタイプの粗引き真空ポンプであって、
この真空ポンプはさらに、
－ 前記ステータに設けられたダクトであって、入口オリフィスが少なくとも１つのパージガス源に接続され、少なくとも１つの出口オリフィスが前記吐出口と連絡するように構成され、最終段の前記ポンピングステージと連絡するダクト、及び
－ 前記ダクトに注入されたパージガスの少なくとも一部を４０℃より高い温度に加熱するようになっている加熱装置を含む、加熱されたパージガスを注入するための装置とを備えていることを特徴としている。
【0008】
前記吐出ポンピングステージ内に注入されるパージガスの流れの一部を加熱することにより、真空ポンプの熱平衡を変えることなく、注入されるパージガスの流量を大幅に増加させることが可能になる。
前記吐出ポンピングステージで注入されるパージガスは、ポンピングされるガス、特にＨ２、ＳｉＨ４、ＴＥＯＳ等の潜在的に爆発性及び／又は可燃性のガス、又は反応副産物等の凝縮性ガスを効果的に希釈することを可能にする。
前記吐出ポンピングステージで注入されるパージガスは、ポンピングされるガス、特にＨ２、ＳｉＨ４、ＴＥＯＳ等の潜在的に爆発性及び／又は可燃性のガス、又は反応副産物等の凝縮性ガスを効果的に希釈することを可能にする。
【0009】
希釈がこの吐出ポンピングステージで実行されるため、真空ポンプ内における、吐出口の可能な限り近くで、ガスを直接希釈することができる。そのため、従来技術における真空ポンプとこの真空ポンプの下流のパージガス注入点との間の、低温又は不十分に希釈された領域の存在をなくすことができる。
そのため、真空ポンプの下流にあるパイプ、ガス処理システム、及び真空ポンプにおいて、ポンピングされるガスが凝縮するのを防ぐことができ、真空ポンプの寿命を延ばすことができる。
そのため、真空ポンプの下流にあるパイプ、ガス処理システム、及び真空ポンプにおいて、ポンピングされるガスが凝縮するのを防ぐことができ、真空ポンプの寿命を延ばすことができる。
【0010】
さらに、真空ポンプに直接注入されるパージガスは、同じエネルギーで加熱されて、これらの下流のパイプに直接注入される場合よりも、下流に位置するパイプに到達したときに高温になる。
従って、真空ポンプの下流において外部加熱する場合と比較して、パージガスを加熱するための電力消費を削減させることができる。
従って、真空ポンプの下流において外部加熱する場合と比較して、パージガスを加熱するための電力消費を削減させることができる。
【0011】
本発明の１つの例示的な実施形態によれば、ダクトの出口オリフィスは、２つの軸と軸通路との間のクリアランスを介して、最終段のポンピングステージと連絡するステータの少なくとも１つの軸通路と連絡している。従って、パージガスは、少なくとも１つの軸の周りで、ポンピングステージ内に拡散される。前記ダクトは、例えば、ポンピングステージの２つの軸通路と連絡している。
【0012】
この真空ポンプは、軸通路をシールするために、真空ポンプの潤滑軸受とポンピングステージとの間に挿入された、少なくとも１つのシール装置をさらに有していても良い。
例示的な一実施形態によれば、前記ダクトは、シール装置とポンピングステージとの間の軸通路と連絡している。このようにシール装置の前に注入されたパージガスは、ポンピングされるガスとシール装置との間にバリアを形成することを可能にし、シール装置の寿命を延ばすことを可能にする。
例示的な一実施形態によれば、前記ダクトは、シール装置とポンピングステージとの間の軸通路と連絡している。このようにシール装置の前に注入されたパージガスは、ポンピングされるガスとシール装置との間にバリアを形成することを可能にし、シール装置の寿命を延ばすことを可能にする。
【0013】
本発明の例示的な一実施形態によれば、前記ダクトは、前記入口オリフィスに接続された線形部分を有し、この線形部分は、２つの軸の間に挿入され、２つの月形の空洞と連絡し、各空洞は、それぞれの軸通路と連絡している。従って、パージガスは、月形の空洞によって、シール装置の前で、２つの軸の周りのポンピングステージ内に拡散される。
【0014】
前記加熱されたパージガスを注入するための装置は、さらに、
－ 前記加熱装置によって加熱された前記パージガスと流体連絡する温度プローブ、及び、
－ 前記パージガスの温度を制御するために、前記加熱装置の電源と前記温度プローブに接続されたコントローラを含んでいてもよい。
－ 前記加熱装置によって加熱された前記パージガスと流体連絡する温度プローブ、及び、
－ 前記パージガスの温度を制御するために、前記加熱装置の電源と前記温度プローブに接続されたコントローラを含んでいてもよい。
【0015】
これにより、前記電源を、前記温度プローブによって行われた温度測定に従って、特定の温度設定値になるように制御できる。従って、パージガスを加熱する電力は、パージガスの流量及び要求される温度設定値に、自動的に適合させることができる。
このコントローラは、温度の異常を検出した場合、加熱されたパージガスを注入するための装置によるパージガスの注入を遮断することもできる。これは、余剰のパージガスを加熱できない場合には、過希釈しないことが望ましいためである。過希釈は、真空ポンプの熱平衡を変化させ、例えば凝縮性種が堆積するリスクが生じる。
このコントローラは、温度の異常を検出した場合、加熱されたパージガスを注入するための装置によるパージガスの注入を遮断することもできる。これは、余剰のパージガスを加熱できない場合には、過希釈しないことが望ましいためである。過希釈は、真空ポンプの熱平衡を変化させ、例えば凝縮性種が堆積するリスクが生じる。
【0016】
加熱されたパージガスを注入するための装置は、例えば手動の、パージガスの流量を調整するための流量調整器、及び、注入されたパージガスの流量を測定するように構成された流量測定装置をさらに備えていてもよい。
この流量測定装置の出口を、さらにコントローラに接続することができ、このコントローラは、例えば、パージガスの流れが無いか、又は流量が少なすぎることを検出した場合、加熱電源を遮断することができる。
この流量測定装置の出口を、さらにコントローラに接続することができ、このコントローラは、例えば、パージガスの流れが無いか、又は流量が少なすぎることを検出した場合、加熱電源を遮断することができる。
【0017】
加熱されたパージガスを注入するための装置は、加熱されたパージガスの流量の割合が、例えば、ダクトに注入されるパージガスの流量の１０％～１００％の間であるように構成しするのがよい。これにより、非加熱パージガス（０～９０％の間）と、加熱パージガス（１０～１００％の間）との混合物が、ダクトに注入される。加熱されたパージガスを注入するための装置は、加熱されたパージガスの流量が、例えば３３．８Ｐａ．ｍ３／ｓを超えるように構成するのがよい。この加熱装置は、パージガスを２００℃より低い温度に加熱するように構成することができる。
【0018】
例示的な一実施形態によれば、加熱装置は、加熱されるためにパージガスが循環する管の入口と出口との間の、管内に配置された抵抗加熱要素を含む加熱カートリッジを含んでいる。この加熱カートリッジは、例えば断熱パイプによって、可能な限り、ダクトの入口オリフィスの近くに配置されているのが望ましい。
この真空ポンプは、ステータに少なくとも部分的に組み込まれ、ダクトを取り囲む冷却回路を備えていても良い。これにより、特に冷却回路によって温度制御ができるため、ホットパージガスの注入によってステータが過熱することはない。
この真空ポンプは、ステータに少なくとも部分的に組み込まれ、ダクトを取り囲む冷却回路を備えていても良い。これにより、特に冷却回路によって温度制御ができるため、ホットパージガスの注入によってステータが過熱することはない。
【0019】
この真空ポンプは、さらに、ステータに設けられ、パージガス源に接続され、この真空ポンプの少なくとも１つの軸受に開口する軸受パージダクトを有しているのがよい。さらに、この真空ポンプは、ステータに設けられ、パージガスの吐出源に接続され、あるポンピングステージの出口を次のポンピングステージの入口に接続するステージ間導管に開口する、少なくとも１つのステージパージダクトを有していてもよい。
【0020】
例示的な一実施形態によれば、この真空ポンプは、分配器を備えており、この分配器は、一方では、パージガスの吐出源に結合され、他方では、軸受パージダクト、ステージパージダクト、及び、加熱装置の出口に接続されたパイプに結合されるように構成されている。
この真空ポンプは、さらに、前記分配器によって分配されるパージガスの少なくとも一部を加熱するようになっている追加の加熱装置を有していてもよい。
この真空ポンプは、さらに、前記分配器によって分配されるパージガスの少なくとも一部を加熱するようになっている追加の加熱装置を有していてもよい。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明によるドライタイプの真空ポンプの要素を示す、長手方向の縦断側面図である。
【図5】加熱されたパージガスを注入する装置の概略図である。
【図6】前記加熱されたパージガスを注入する装置における、加熱装置の長手方向の縦断面の概略図である。
【図7】本発明の別の真空ポンプの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
本発明のさらなる利点及び特徴は、本発明の１つの特定の、しかし非限定的な実施形態の以下の説明を読み、及び以下の添付の図面を検討することで明らかになると思う。これらの図では、同一の要素には同じ符号を付してある。
この実施形態は例示である。説明は１つ又は複数の実施形態についてのみ言及しているが、それは必ずしも各符号が同じ実施形態に関連すること、又は特徴が単一の実施形態にのみ適用されることを意味するわけではない。様々な実施形態の単純な特徴を組み合わせたり、交換したりして、他の実施形態を提供することもできる。
この実施形態は例示である。説明は１つ又は複数の実施形態についてのみ言及しているが、それは必ずしも各符号が同じ実施形態に関連すること、又は特徴が単一の実施形態にのみ適用されることを意味するわけではない。様々な実施形態の単純な特徴を組み合わせたり、交換したりして、他の実施形態を提供することもできる。
【0023】
粗引き真空ポンプは、２個のロータを使用して、大気圧でポンピングされるガスを吸入し、移送し、次に吐出するように構成された容積式真空ポンプである。前記ロータは、粗引き真空ポンプのモータによって回転駆動される２つの軸により支えられている。粗引き真空ポンプは、大気圧から始動できる。
「上流」とは、ポンピングされるガスが循環する方向を基準にして、他の要素の前位を意味する。
対照的に、「下流」が意味するのは、ポンピングされるガスが循環する方向に関して後方のことであり、ガスが圧送される方向の上流に位置する要素は、下流に位置する要素よりも圧力が低い。
ドライタイプの粗引き真空ポンプ１は、１つのステータ２を備えており、このステータは、吸気口４と吐出口５との間に直列に設けられた少なくとも２段のポンピングステージ３ａ～３ｅと、これらの少なくとも２段のポンピングステージ３ａ～３ｅ内に配置された２個のロータ６とを含んでいる（図１参照）。
「上流」とは、ポンピングされるガスが循環する方向を基準にして、他の要素の前位を意味する。
対照的に、「下流」が意味するのは、ポンピングされるガスが循環する方向に関して後方のことであり、ガスが圧送される方向の上流に位置する要素は、下流に位置する要素よりも圧力が低い。
ドライタイプの粗引き真空ポンプ１は、１つのステータ２を備えており、このステータは、吸気口４と吐出口５との間に直列に設けられた少なくとも２段のポンピングステージ３ａ～３ｅと、これらの少なくとも２段のポンピングステージ３ａ～３ｅ内に配置された２個のロータ６とを含んでいる（図１参照）。
【0024】
ステータ２は、真空ポンプ１の全ての静的構成要素で構成されており、これらは、特に、ポンピングステージ３ａ～３ｅのチャンバを形成している。２個のロータ６は、反対方向に同期して回転し、吸気口４と吐出口５との間にポンピングされるガスを同伴するように構成された２つの軸７によって支えられている。これらの軸７は、真空ポンプ１の１つのモータ８によって駆動される。２個のロータ６は、例えば、「ルーツ」タイプ（図２参照）、又は「クロー」タイプの同一のプロファイルを有するローブを有するか、又はスクリュータイプであるか、又は他の同様の容積式真空ポンプのものが採用されている。
【0025】
真空ポンプ１は、例えば５段のポンピングステージ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅを含み、これらの段の間を、ポンピングされるガスは循環することができる。
各ポンピングステージ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅは、２個のロータ６を収容する１つのチャンバによって形成され、各チャンバは、それぞれその入口及び出口を有している。
回転中、入口から引き込まれたガスは、ロータ６とステータ２との間に形成された容積に閉じ込められ、次にロータ６によって、次のステージに向かって送られる。
連続するポンピングステージ３ａ～３ｅは、先行するポンピングステージ３ａ～３ｄの出口を、次のポンピングステージ３ｂ～３ｅの入口に結合する、それぞれのステージ間導管９によって、次々に直列に結合されている。
第１段のポンピングステージ３ａ（低圧ポンピングステージとも呼ばれる）の入口は、真空ポンプ１の吸気口４と連絡している。最終段のポンピングステージ３ｅ（高圧ポンピングステージ、又は吐出ポンピングステージとも呼ばれる）は、吐出口５と連絡している。
高圧ポンピングステージ３ｅと低圧ポンピングステージ３ａとの間に挿入されたポンピングステージ３ｂ、３ｃ、３ｄは、中間ポンピングステージと呼ばれる。
真空ポンプ１は、大気圧で始動することができ、ポンピングされるガスを大気圧で吐出するように構成された粗引き真空ポンプである。
軸７を駆動するモータ８は、例えば真空ポンプ１の一端、例えば最終段のポンピングステージ３ｅの側に配置されている。
各ポンピングステージ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅは、２個のロータ６を収容する１つのチャンバによって形成され、各チャンバは、それぞれその入口及び出口を有している。
回転中、入口から引き込まれたガスは、ロータ６とステータ２との間に形成された容積に閉じ込められ、次にロータ６によって、次のステージに向かって送られる。
連続するポンピングステージ３ａ～３ｅは、先行するポンピングステージ３ａ～３ｄの出口を、次のポンピングステージ３ｂ～３ｅの入口に結合する、それぞれのステージ間導管９によって、次々に直列に結合されている。
第１段のポンピングステージ３ａ（低圧ポンピングステージとも呼ばれる）の入口は、真空ポンプ１の吸気口４と連絡している。最終段のポンピングステージ３ｅ（高圧ポンピングステージ、又は吐出ポンピングステージとも呼ばれる）は、吐出口５と連絡している。
高圧ポンピングステージ３ｅと低圧ポンピングステージ３ａとの間に挿入されたポンピングステージ３ｂ、３ｃ、３ｄは、中間ポンピングステージと呼ばれる。
真空ポンプ１は、大気圧で始動することができ、ポンピングされるガスを大気圧で吐出するように構成された粗引き真空ポンプである。
軸７を駆動するモータ８は、例えば真空ポンプ１の一端、例えば最終段のポンピングステージ３ｅの側に配置されている。
【0026】
真空ポンプ１は、少なくとも１つの潤滑剤溜め１０を有している。グリース及び／又はオイル等の潤滑剤は、特に、２個のロータ６の軸７とこれらの軸を同期させるための２つの歯車１２とを支持する２つの軸受１１の転がり軸受を潤滑することができる（図３参照）。
例えば、真空ポンプ１は、モータ８と第１又は最終段のポンピングステージ３ａ又は３ｅとの間に配置された、１つの潤滑剤溜め１０を備えている。
各軸７の軸受１１は、真空ポンプ１のもう一方の端において、グリースで、又は第２の潤滑剤溜めを使用して、潤滑される。
例えば、真空ポンプ１は、モータ８と第１又は最終段のポンピングステージ３ａ又は３ｅとの間に配置された、１つの潤滑剤溜め１０を備えている。
各軸７の軸受１１は、真空ポンプ１のもう一方の端において、グリースで、又は第２の潤滑剤溜めを使用して、潤滑される。
【0027】
潤滑剤に対するシールを行う少なくとも１つのシール装置１３ａ、１３ｂを、潤滑軸受１１とポンピングステージ３ｅ、３ａとの間に挿入して、軸通路１４ａ、１４ｂをシールしてある。
これらのシール装置１３ａ、１３ｂは、２つの回転軸７の周りの軸通路１４ａ、１４ｂにおいて非常に低いコンダクタンスを生成し、これにより、２つの軸７を回転させながら、特に潤滑剤溜め１０からドライポンピングステージ３ａ～３ｅへの潤滑流体の通過を大幅に制限することが可能である。
各シール装置１３ａ、１３ｂは、例えば、１つの軸７を取り囲む２つのシール等の、少なくとも１つのシールを備えている（図３参照）。このシールは、例えば、リップシール、ラビリンスシール又はラビリンスと呼ばれるラビングシール、あるいはこれらの組み合わせである。
これらのシール装置１３ａ、１３ｂは、２つの回転軸７の周りの軸通路１４ａ、１４ｂにおいて非常に低いコンダクタンスを生成し、これにより、２つの軸７を回転させながら、特に潤滑剤溜め１０からドライポンピングステージ３ａ～３ｅへの潤滑流体の通過を大幅に制限することが可能である。
各シール装置１３ａ、１３ｂは、例えば、１つの軸７を取り囲む２つのシール等の、少なくとも１つのシールを備えている（図３参照）。このシールは、例えば、リップシール、ラビリンスシール又はラビリンスと呼ばれるラビングシール、あるいはこれらの組み合わせである。
【0028】
図３、図４及び図５に示すように、真空ポンプ１は、さらに、加熱されたパージガスを注入するための装置１５及びダクト１６を備えている。
このダクト１６は、ステータ２内に設けられている。ダクト１６の入口オリフィス１６ａは、パージガスの少なくとも１つの吐出源に接続されるように構成されている。このダクト１６は、吐出口５と連絡する最終段のポンピングステージ３ｅと連絡し、窒素等のパージガスを吐出ポンピングステージ３ｅ内に注入するための、少なくとも１つの出口オリフィス１６ｂ、１６ｃを有している。
このダクト１６は、ステータ２内に設けられている。ダクト１６の入口オリフィス１６ａは、パージガスの少なくとも１つの吐出源に接続されるように構成されている。このダクト１６は、吐出口５と連絡する最終段のポンピングステージ３ｅと連絡し、窒素等のパージガスを吐出ポンピングステージ３ｅ内に注入するための、少なくとも１つの出口オリフィス１６ｂ、１６ｃを有している。
【0029】
このダクトの出口オリフィスは、ステータ２から、例えば、ロータ６（図示せず）を収容するハウジング内の最終段のポンピングステージ３ｅ内に、直接、開口している。別の例示的な実施形態によれば、ダクト１６の出口オリフィス１６ｂ、１６ｃは、軸７とステータ２の軸通路１４ａ、１４ｂとの間のクリアランスを介して、最終段のポンピングステージ３ｅと連絡する少なくとも１つの軸通路１４ａ、１４ｂと連絡している。従って、ダクト１６は、パージガスを、ステータ２を通過し、少なくとも１つの軸通路１４ａ、１４ｂを経て、ポンピングステージ３ｅに運ぶ。これにより、パージガスは、ポンピングステージ３ｅ内において、少なくとも１つの軸７の周りに拡散される。
【0030】
ダクト１６は、シール装置１３ａ、１３ｂとポンピングステージ３ｅとの間の少なくとも１つの軸通路１４ａ、１４ｂと連絡している。従って、シール装置１３ａ、１３ｂの前に注入されたパージガスは、ポンピングされるガスとシール装置１３ａ、１３ｂとの間にバリアを形成し、このシール装置の寿命を延ばすことを可能にする。
より具体的には、ダクト１６は、高圧ポンピングステージ３ｅに対して配置されたステータ２の第１の支持体１７（又は高圧支持体）内に設けても良い（図１及び図３参照）。ダクト１６は、例えば、ポンピングステージ３ｅの２つの軸通路１４ａ、１４ｂと連絡している（図４参照）。
より具体的には、ダクト１６は、高圧ポンピングステージ３ｅに対して配置されたステータ２の第１の支持体１７（又は高圧支持体）内に設けても良い（図１及び図３参照）。ダクト１６は、例えば、ポンピングステージ３ｅの２つの軸通路１４ａ、１４ｂと連絡している（図４参照）。
【0031】
本発明の例示的な一実施形態によれば、ダクト１６は、機械加工によって形成される。このダクトは、例えば、入口オリフィス１６ａに接続された線形部分１８を有する。この線形部分１８は、軸７の軸線と直交しており、２つの軸７の間に挟まれている。この線形部分１８は、この例では月形の２つの空洞２０ａ、２０ｂと連絡している。この月形の空洞の直径は、軸通路１４ａ、１４ｂの直径よりも実質的に小さい。これらの月形は、線形部分１８を介して、背中合わせに接続されている。各空洞２０ａ、２０ｂは、ダクト１６の出口オリフィス１６ｂ、１６ｃの領域内のそれぞれの軸通路１４ａ、１４ｂと連絡している。従って、パージガスは、月形の空洞２０ａ、２０ｂにより、シール装置１３ａ、１３ｂの前で、軸７の周りのポンピングステージ３ｅ内に拡散される。
【0032】
ステータ２の外部に開口する線形部分１８の入口オリフィス１６ａは、例えば、ホース等の少なくとも１つのパイプ２１ａ、２１ｂによって、例えば、真空ポンプ１のシャーシに設けられたカップリング２２に結合され、真空ポンプ１の外部のパージガス源に結合されるように構成されている。
加熱されたパージガスを注入するための装置１５は、ダクト１６に注入されるパージガスを、少なくとも部分的に４０℃より高い温度に加熱するように構成された加熱装置２４を備えている。加熱温度は、例えば、２００℃未満である。設定温度として、例えばパージガスを１００℃に加熱するための温度が予想される。
加熱されたパージガスを注入するための装置１５は、ダクト１６に注入されるパージガスを、少なくとも部分的に４０℃より高い温度に加熱するように構成された加熱装置２４を備えている。加熱温度は、例えば、２００℃未満である。設定温度として、例えばパージガスを１００℃に加熱するための温度が予想される。
【0033】
ダクト１６に注入される加熱されたパージガスの流量の割合は、例えば、１０％～１００％の間である。
加熱されたパージガスの流量は、例えば、２０ｓｌｍ（すなわち、３３．８Ｐａ．ｍ３／ｓ）より多く、例えば、１２０ｓｌｍ（すなわち、２０２．７Ｐａ．ｍ３／ｓ）のように、２００ｓｌｍ（すなわち３３８Ｐａ．ｍ３／ｓ）より少ない。
加熱されたパージガスの流量は、例えば、２０ｓｌｍ（すなわち、３３．８Ｐａ．ｍ３／ｓ）より多く、例えば、１２０ｓｌｍ（すなわち、２０２．７Ｐａ．ｍ３／ｓ）のように、２００ｓｌｍ（すなわち３３８Ｐａ．ｍ３／ｓ）より少ない。
【0034】
従って、加熱されたパージガスと加熱されていないパージガスの混合物を、ダクト１６に注入することができる。例えば、パージガスの流量が１２ｓｌｍで、パージガスの流量の加熱部分が５０％の場合、加熱されたパージガスの流量は、６０ｓｌｍ（つまり、１０１．３５Ｐａ．ｍ３／ｓ）であり、加熱されていないパージガスの流量も６０ｓｌｍである。ダクト１６内に注入される全てのパージガス（１００％）を加熱することも可能である。
【0035】
吐出ポンピングステージ３ｅに注入されるパージガスの流れの一部を加熱することにより、真空ポンプ１の熱平衡を変更することなく、注入されるパージガスの流量を大幅に増加させることが可能になる。
少なくとも１つの軸通路１４ａ、１４ｂに注入される、潜在的に加熱されていないパージガスと加熱されたパージガスの混合物は、ポンピングされるガス、特に、Ｈ２、ＳｉＨ４、ＴＥＯＳ等の潜在的に爆発性及び／又は可燃性のガス、又は反応副産物等の凝縮性ガスを効果的に希釈するために、パージガスの流量を著しく増加させることを可能にする。
少なくとも１つの軸通路１４ａ、１４ｂに注入される、潜在的に加熱されていないパージガスと加熱されたパージガスの混合物は、ポンピングされるガス、特に、Ｈ２、ＳｉＨ４、ＴＥＯＳ等の潜在的に爆発性及び／又は可燃性のガス、又は反応副産物等の凝縮性ガスを効果的に希釈するために、パージガスの流量を著しく増加させることを可能にする。
【0036】
吐出ポンピングステージ３ｅで達成される希釈は、真空ポンプ１内で、吐出口５に可能な限り近くでガスを直接希釈することを可能にする。
大量のパージガスを最終段のポンピングステージ３ｅに直接注入することにより、真空ポンプ１と真空ポンプの下流にある従来技術のパージガス注入点との間の低温又は不十分に希釈された領域を排除することが可能になる。
これにより、ポンピングされるガスが、真空ポンプ１の下流に位置するパイプ内、又はガス処理システム内、及び真空ポンプ１内で凝縮するのを防ぐことができ、真空ポンプの寿命を延ばすことができる。
大量のパージガスを最終段のポンピングステージ３ｅに直接注入することにより、真空ポンプ１と真空ポンプの下流にある従来技術のパージガス注入点との間の低温又は不十分に希釈された領域を排除することが可能になる。
これにより、ポンピングされるガスが、真空ポンプ１の下流に位置するパイプ内、又はガス処理システム内、及び真空ポンプ１内で凝縮するのを防ぐことができ、真空ポンプの寿命を延ばすことができる。
【0037】
さらに、真空ポンプ１に直接注入されるパージガスは、同じエネルギーで加熱されて下流のこれらのパイプに直接注入される場合よりも、下流に位置するパイプに到達したときに高温になる。従って、真空ポンプ１の下流にある外部加熱手段と比較して、パージガスを加熱するための電力消費を低減することができる。
【0038】
例示的な一実施形態によれば、真空ポンプ１は、ステータ２を冷却するための冷却回路２５を備えている（図４参照）。この冷却回路２５は、例えば、水が例えば周囲温度で循環することを可能にする油圧回路を備えている。冷却回路２５は、例えば、少なくとも部分的にステータ２内に統合されており、例えば、ダクト１６が設けられている第１の支持体１７内に統合されている。この冷却回路は、例えば、パイプ１６を取り囲むＵ形状をしている。従って、特に、冷却回路２５を使用してステータの温度を制御できるので、高温パージガスの注入の結果として、ステータ２が過熱されることはない。
【0039】
図６に示した１つの例示的な実施形態によれば、加熱装置２４は、１本の管２７の１つの入口２７ａと、１つの出口２７ｂとの間の管２７内に配置された、１つの抵抗加熱要素２６を含む加熱カートリッジを有しており、管内で、パージガスが循環し加熱されるように構成されている。この加熱カートリッジは、可能な限り、ダクト１６の入口オリフィス１６ａの近くに配置されるのが望ましい。
加熱カートリッジの管２７の出口２７ｂを真空ポンプ１のダクト１６に接続するパイプ２１ｂは、例えば、断熱されている。
加熱カートリッジの管２７の出口２７ｂを真空ポンプ１のダクト１６に接続するパイプ２１ｂは、例えば、断熱されている。
【0040】
一つの例示的な実施形態によれば、加熱されたパージガスを注入するための装置１５は、加熱装置２４によって加熱されたパージガスと流体連絡する温度プローブ２８と、加熱装置２４の電源と温度プローブ２８に接続された電子ボード等のコントローラ３０とをさらに備えている。このコントローラ３０は、パージガスが加熱される温度を制御するように構成されている。
【0041】
熱電対等の温度プローブ２８は、例えば、管２７の出口２７ｂの側の一端に配置され、抵抗加熱要素２６に対する電源、例えば電流は、管２７の他端の入口２７ａから密閉された通路３１を経て供給される。
従って、電源は、温度プローブ２８によって行われる温度測定に従って、所与の温度設定値になるように制御することができる。また、加熱カートリッジ内のパージガスを加熱するための電力は、パージガスの流量及び要求される温度設定値に従って自動的に調整することができる。
従って、電源は、温度プローブ２８によって行われる温度測定に従って、所与の温度設定値になるように制御することができる。また、加熱カートリッジ内のパージガスを加熱するための電力は、パージガスの流量及び要求される温度設定値に従って自動的に調整することができる。
【0042】
コントローラ３０はまた、温度の異常を検出した場合、加熱されたパージガスを注入するための装置１５によるパージガスの注入を遮断することができる。これは、余剰のパージガスを加熱できない場合は、過希釈しないことが望ましいためである。加熱すると、真空ポンプ１の熱平衡が変化し、例えば凝縮性種が堆積するリスクがある。
【0043】
加熱されたパージガスを注入するための装置１５は、パージガスの流量を調整するための流量調整器３２、例えば手動の流量調整器、及び、注入されたパージガスの流量を測定するように構成された流量測定装置３３をさらに備えていても良い。流量測定装置３３の出口はまた、コントローラ３０に接続することができ、このコントローラ３０は、例えば、流量が無い又はパージ流量が少なすぎるのを検出した場合、加熱電源を遮断することができる。
流量調整器３２及び流量測定装置３３は、例えば、加熱装置２４の上流に、パージガスがパージガス源から加熱装置２４に向かって流れる方向（図５の矢印を参照）に配置されている。遮断弁３４は、加熱装置２４の上流、例えば、流量調整器３２と流量測定装置３３との間に配置することができる。加熱されたパージガスを注入するための装置１５は、例えば、ステータ２を支持する真空ポンプ１のシャーシに設けられている。
流量調整器３２及び流量測定装置３３は、例えば、加熱装置２４の上流に、パージガスがパージガス源から加熱装置２４に向かって流れる方向（図５の矢印を参照）に配置されている。遮断弁３４は、加熱装置２４の上流、例えば、流量調整器３２と流量測定装置３３との間に配置することができる。加熱されたパージガスを注入するための装置１５は、例えば、ステータ２を支持する真空ポンプ１のシャーシに設けられている。
【0044】
真空ポンプ１はまた、ステータ２に設けられた１つの軸受パージダクト３５、及び／又は、少なくとも１つのステージパージダクト３６を備えていても良い。この軸受パージダクトは、真空ポンプ１の少なくとも１つの軸受１１に開口している。また、ステージパージダクトは、ステージ間導管９に開口し、１つのポンピングステージ３ａ～３ｄの出口を次のポンピングステージ３ｂ～３ｅの入口に結合している。これにより、ステージ間導管９の全部又は一部にパージガスを分配する（図１参照）。軸受パージダクト３５は、ステータ２を通過して、転がり軸受を収容する少なくとも１つの軸受１１にパージガスを搬送する。
【0045】
より具体的には、例えば、軸受パージダクト３５は、軸受１１が設けられているステータ２の第２の支持体３７（又は低圧支持体）に設けられている（図１及び図３参照）。第２の支持体３７は、低圧のポンピングステージ３ａに対して配置されている。軸受パージダクト３５は、例えば、２つの軸受１１と連絡している。
この例示的な一実施形態によれば、軸受パージダクト３５は、２つの軸７の軸線に直交しており、２つの軸７の間に挿入された第１の線形部分を有する。この第１の線形部分は、端部がそれぞれの軸受１１と連絡する第２の線形部分と連絡している（図３参照）。
この例示的な一実施形態によれば、軸受パージダクト３５は、２つの軸７の軸線に直交しており、２つの軸７の間に挿入された第１の線形部分を有する。この第１の線形部分は、端部がそれぞれの軸受１１と連絡する第２の線形部分と連絡している（図３参照）。
【0046】
ステージパージダクト３６はステータ２を通過して、パージガスを少なくとも１つのステージ間導管９に運ぶ。
真空ポンプ１は、例えば、ポンピングステージ３ｂ～３ｄの出口の近くで、それぞれのステージ間導管９に開口する、例えば３つのステージパージダクト３６を備えている。
軸受パージダクト３５、ステージパージダクト３６、ダクト１６、及び加熱装置２４の出口２７ｂに接続されたパイプ２１ｂは、例えば、１つの分配器３８を介して、真空ポンプ１の外部のパージガス源に接続されるように構成されている（図７参照）。
真空ポンプ１は、例えば、ポンピングステージ３ｂ～３ｄの出口の近くで、それぞれのステージ間導管９に開口する、例えば３つのステージパージダクト３６を備えている。
軸受パージダクト３５、ステージパージダクト３６、ダクト１６、及び加熱装置２４の出口２７ｂに接続されたパイプ２１ｂは、例えば、１つの分配器３８を介して、真空ポンプ１の外部のパージガス源に接続されるように構成されている（図７参照）。
【0047】
一つの例示的な実施形態によれば、この分配器３８は、第１の分岐３８ｂ及び第２の分岐３８ｃに接続された共通の幹３８ａを備えている。
第１の分岐３８ｂは、共通の幹３８ａを、ステータ２の第２の支持体３７に設けられた軸受パージダクト３５に接続している。第２の分岐３８ｃは、ダクト３８ｄ、３８ｅによって、ステージパージダクト３６及びダクト１６に接続されている。
第１の分岐３８ｂは、共通の幹３８ａを、ステータ２の第２の支持体３７に設けられた軸受パージダクト３５に接続している。第２の分岐３８ｃは、ダクト３８ｄ、３８ｅによって、ステージパージダクト３６及びダクト１６に接続されている。
【0048】
共通の幹３８ａの入口は、窒素等のパージガスの吐出源に結合されるように構成されている。第１の遮断弁及び膨張弁は例えば共通の幹３８ａに配置され、第２の遮断弁は第１の分岐３８ｂに配置され、第３の遮断弁は第２の分岐３８ｃに配置されている。従って、圧送されるガスの性質に適したパージを実行することが可能である。例えば、ポンピングされるのが非凝縮性及び／又は不燃性ガスの場合、軸受１１のみがパージされる。
【0049】
ステージパージダクト３６に接続された第１の分岐３８ｂ及び３つのダクト３８ｄは、例えば、噴射ノズル又はスプレーインジェクターを備えており、軸受パージダクト３５及び各ステージパージダクト３６におけるパージ流の流量を規制することを可能にしている。ダクト１６に接続されたダクト３８ｅはまた、パージガスの循環方向で加熱装置２４の出口に接続された、ダクト３８ｅとパイプ２１ｂとの交差点の上流に配置される噴射ノズル又はスプレーインジェクターを有していても良い。
【0050】
ダクト３８ｅ、軸受パージダクト３５、及びステージパージダクト３６を介して分配器３８に注入されたパージガスは、加熱することができない。しかしながら、真空ポンプ１は、分配器３８によって分配されたパージガスを、第１の分岐３８ｂ及び／又は第２の分岐３８ｃ内、及び／又はダクト１６とパイプ２１ｂへ接続するダクト３８ｅ内で少なくとも部分的に加熱するように構成された、追加の加熱装置３９を有している。この追加の加熱装置３９は、例えば、ダクト３８ｄ、３８ｅに接続された第２の分岐３８ｃに配置されている。
【0051】
この加熱は、加熱装置２４によるパージガスの加熱とは独立している。各ポンピングステージ３ｂ～３ｅ及び第２の支持体３７の軸受１１に関して、流量及び／又は温度は、独立して、制御することができる。あるいはまた、この流量及び／又は温度は、少なくとも、加熱されたパージガスを注入するための装置１５によって注入されるパージガスの流量及び温度とは、独立して制御することができる。
【符号の説明】
【0052】
１ 真空ポンプ
２ ステータ
３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ ポンピングステージ
４ 吸気口
５ 吐出口
６ ロータ
７ 軸
８ モータ
９ ステージ間導管
１０ 潤滑剤溜め
１１ 軸受
１２ 歯車
１３ａ、１３ｂ シール装置
１４ａ、１４ｂ 軸通路
１５ 加熱されたパージガスを注入するための装置
１６ ダクト
１６ａ 入口オリフィス
１７ 第１の支持体
１８ 線形部分
２０ａ、２０ｂ 空洞
２１ａ、２１ｂ パイプ
２２ カップリング
２４ 加熱装置
２５ 冷却回路
２６ 抵抗加熱要素
２７ 管
２７ａ 入口
２７ｂ 出口
２８ 温度プローブ
３０ コントローラ
３２ 流量調整器
３３ 流量測定装置
３４ 遮断弁
３５ 軸受パージダクト
３６ ステージパージダクト
３７ 第２の支持体
３８ 分配器
３８ａ 共通の幹
３８ｂ 第１の分岐
３８ｃ 第２の分岐
３８ｄ ダクト
３８ｅ ダクト
３９ 追加の加熱装置
２ ステータ
３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ ポンピングステージ
４ 吸気口
５ 吐出口
６ ロータ
７ 軸
８ モータ
９ ステージ間導管
１０ 潤滑剤溜め
１１ 軸受
１２ 歯車
１３ａ、１３ｂ シール装置
１４ａ、１４ｂ 軸通路
１５ 加熱されたパージガスを注入するための装置
１６ ダクト
１６ａ 入口オリフィス
１７ 第１の支持体
１８ 線形部分
２０ａ、２０ｂ 空洞
２１ａ、２１ｂ パイプ
２２ カップリング
２４ 加熱装置
２５ 冷却回路
２６ 抵抗加熱要素
２７ 管
２７ａ 入口
２７ｂ 出口
２８ 温度プローブ
３０ コントローラ
３２ 流量調整器
３３ 流量測定装置
３４ 遮断弁
３５ 軸受パージダクト
３６ ステージパージダクト
３７ 第２の支持体
３８ 分配器
３８ａ 共通の幹
３８ｂ 第１の分岐
３８ｃ 第２の分岐
３８ｄ ダクト
３８ｅ ダクト
３９ 追加の加熱装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【国際調査報告】