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特表2022-527467低い可視光反射率を有するヘッドアップディスプレイのためのコーティング
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-06-02
(54)【発明の名称】低い可視光反射率を有するヘッドアップディスプレイのためのコーティング
(51)【国際特許分類】
B32B 7/025 20190101AFI20220526BHJP
C03C 27/12 20060101ALI20220526BHJP
B60J 1/00 20060101ALI20220526BHJP
C03C 17/36 20060101ALI20220526BHJP
B32B 15/01 20060101ALI20220526BHJP
B60J 1/02 20060101ALI20220526BHJP
【ＦＩ】
B32B7/025
C03C27/12 L
B60J1/00 H
C03C17/36
B32B15/01 K
B60J1/02 M
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2021557621
(86)(22)【出願日】2020-03-26
(85)【翻訳文提出日】2021-11-22
(86)【国際出願番号】 US2020024992
(87)【国際公開番号】W WO2020198495
(87)【国際公開日】2020-10-01
(31)【優先権主張番号】62/825,326
(32)【優先日】2019-03-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/976,645
(32)【優先日】2020-02-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】518301590
【氏名又は名称】ビトロ フラット グラス エルエルシー
(74)【代理人】
【識別番号】110000855
【氏名又は名称】特許業務法人浅村特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】マ、チーシュン
(72)【発明者】
【氏名】ポルシン、アダム、ディー．
(72)【発明者】
【氏名】ワグナー、アンドリュー
【テーマコード（参考）】
4F100
4G059
4G061
【Ｆターム（参考）】
4F100AA12B
4F100AA12E
4F100AA16D
4F100AA17D
4F100AA19E
4F100AA20E
4F100AA21E
4F100AA25B
4F100AA27E
4F100AA30B
4F100AA33E
4F100AB01C
4F100AB09D
4F100AB10D
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4F100AB18D
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4F100AB21D
4F100AB24C
4F100AB24D
4F100AB25C
4F100AB31D
4F100AB40D
4F100AT00A
4F100BA05
4F100BA07
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4F100BA10A
4F100BA10C
4F100EH46E
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4F100EJ91E
4F100GB32
4F100GB41
4F100JD06
4F100JG04
4F100JG05B
4F100JN01
4F100JN06
4F100YY00C
4G059AA01
4G059AB11
4G059AC06
4G059AC07
4G059DA01
4G059DA02
4G059DA05
4G059DA06
4G059DA07
4G059DA08
4G059DA09
4G059DB02
4G059EA01
4G059EA02
4G059EA12
4G059EB04
4G059GA02
4G059GA04
4G059GA14
4G061AA02
4G061AA20
4G061BA02
4G061CB03
4G061CB19
4G061CD03
4G061CD18
(57)【要約】
コーティング物品は、第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材、並びに表面の１つの上に適用された機能性コーティングを含む。機能性コーティングは、第１の誘電層；第１の金属層；第２の誘電層；第２の金属層；第３の誘電層；第３の金属層；第４の誘電層；任意選択の第４の金属層；任意選択の第５の誘電層；及び任意選択の最外側保護コーティングを含む。コーティング物品は、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下の金属層の合計厚さを有する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１の表面及び前記第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材；並びに前記表面の上に適用された機能性コーティング
を含むコーティング物品であって、前記機能性コーティングが、
前記表面の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；
前記第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；
前記第１の金属層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；
前記第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；
前記第２の金属層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層；
前記第３の誘電層の少なくとも一部分の上に第３の金属層；及び
前記第３の金属層の少なくとも一部分の上に第４の誘電層
を含み、
前記金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下である、コーティング物品。
【請求項2】
前記金属層の合計厚さが、少なくとも２０ｎｍ且つ４０ナノメートル以下である、請求項１に記載のコーティング物品。
【請求項3】
前記金属層の合計厚さが、少なくとも２５ｎｍ且つ３１ナノメートル以下である、請求項２に記載のコーティング物品。
【請求項4】
８％以下の可視光反射率を有し、少なくとも７０％の可視光透過率を有する、請求項１から３までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
【請求項5】
前記金属層の少なくとも１つが、銀又は金のうちの少なくとも１種を含む、請求項１から４までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
【請求項6】
前記金属層の少なくとも１つの上に形成された少なくとも１つのプライマー層をさらに含み、前記少なくとも１つのプライマー層が、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金からなる群から選択され、前記プライマーが、金属として堆積され、続いて酸化される、請求項１から５までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
【請求項7】
前記誘電層の少なくとも１つが、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む、請求項１から６までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
【請求項8】
保護層を含む最外側保護コーティングをさらに含み、前記保護層が、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ又はジルコニアのうちの少なくとも１つを含む、請求項１から７までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
【請求項9】
第１の表面及び前記第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材；並びに前記表面の上に適用された機能性コーティング
を含むコーティング物品であって、前記機能性コーティングが、
前記表面の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；
前記第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；
前記第１の金属層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；
前記第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；
前記第２の金属層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層；
前記第３の誘電層の少なくとも一部分の上に第３の金属層；
前記第３の金属層の少なくとも一部分の上に第４の誘電層；
前記第４の誘電層の少なくとも一部分の上に第４の金属層；及び
前記第４の金属層の少なくとも一部分の上に第５の誘電層
を含み、
前記金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下である、コーティング物品。
【請求項10】
前記金属層の合計厚さが、少なくとも３０ｎｍ且つ４５ナノメートル以下である、請求項９に記載のコーティング物品。
【請求項11】
前記金属層の合計厚さが、少なくとも３５且つ４０ナノメートル以下である、請求項９に記載のコーティング物品。
【請求項12】
前記金属層の合計厚さが４０ｎｍ～５５ｎｍである、請求項９に記載のコーティング物品。
【請求項13】
前記金属層の少なくとも１つの上に形成された少なくとも１つのプライマー層をさらに含む、請求項９から１２までのいずれか一項に記載のコーティング物品。
【請求項14】
コーティング物品を作製する方法であって、第１の表面及び前記第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材を用意するステップ；並びに
前記表面の少なくとも一部分の上に機能性コーティングを適用するステップであって、
前記表面の少なくとも一部分の上に第１の誘電層を形成すること；
前記第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層を形成すること；
前記第１の金属層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層を形成すること；
前記第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層を形成すること；
前記第２の金属層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層を形成すること；
前記第３の誘電層の少なくとも一部分の上に第３の金属層を形成すること；及び
前記第３の金属層の少なくとも一部分の上に第４の誘電層を形成すること
を含むステップ
を含み、
前記金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下である、方法。
【請求項15】
前記機能性コーティングを適用する前記ステップが、前記第４の誘電層の少なくとも一部分の上に第４の金属層を形成すること、及び前記第４の金属層の少なくとも一部分の上に第５の誘電層を形成することをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願への相互参照
本出願は、その開示が参照により援用される２０２０年２月１４日に出願された米国仮特許出願第６２／９７６，６４５号及び２０１９年３月２８日に出願された米国仮特許出願第６２／８２５，３２６号への優先権を有し、これを主張する。
本出願は、その開示が参照により援用される２０２０年２月１４日に出願された米国仮特許出願第６２／９７６，６４５号及び２０１９年３月２８日に出願された米国仮特許出願第６２／８２５，３２６号への優先権を有し、これを主張する。
【0002】
本発明は、一般に、車両の透明材、例えば、車両のフロントガラス及び特定の一実施例では、ヘッドアップディスプレイに関する。
【背景技術】
【0003】
技術的考察
従来の自動車ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ：ｈｅａｄｓ－ｕｐ ｄｉｓｐｌａｙ）はダッシュボードの電磁放射線源を使用し、フロントガラス上に光が投影され、次いでこの光は運転者の眼に反射され、車両データの仮想画像を作り、運転者は道路から視線を外す必要なしに車両操作に関する情報を確認する。従来の車両及び発光ダイオード（ＬＥＤ：ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）等の典型的な無偏光光源で典型的に見出される角度におけるフロントガラスで反射する電磁放射線について、反射光は、主にｓ偏光され、はるかに少ない光成分がｐ偏光される。極端な場合には、フロントガラスへの電磁放射線の入射角が空気対ガラス界面のブルースター角（およそ５７°）である場合、ｐ偏光反射率はゼロパーセントである。
従来の自動車ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ：ｈｅａｄｓ－ｕｐ ｄｉｓｐｌａｙ）はダッシュボードの電磁放射線源を使用し、フロントガラス上に光が投影され、次いでこの光は運転者の眼に反射され、車両データの仮想画像を作り、運転者は道路から視線を外す必要なしに車両操作に関する情報を確認する。従来の車両及び発光ダイオード（ＬＥＤ：ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）等の典型的な無偏光光源で典型的に見出される角度におけるフロントガラスで反射する電磁放射線について、反射光は、主にｓ偏光され、はるかに少ない光成分がｐ偏光される。極端な場合には、フロントガラスへの電磁放射線の入射角が空気対ガラス界面のブルースター角（およそ５７°）である場合、ｐ偏光反射率はゼロパーセントである。
【0004】
放射線源からの光（主にｓ偏光）は、空気及びガラス間の屈折率不一致に起因して、フロントガラスの最内側表面及びフロントガラスの最外側表面の両方で反射する。これにより、各々の表面から１つずつ、２つの反射画像が形成される。ＨＵＤで形成される複数の画像は、「ゴースト現象」と呼ばれる現象であり、「ゴースト」の存在の排除又は最小化がＨＵＤ技術の目標である。ゴースト現象を解決する従来の方法は、フロントガラスの内側及び外側ガラスプライ間にくさび形のビニル層を用いて、２つの反射画像を整列するように２つのガラスプライの幾何形状を調節することによる。このくさび形のビニルは、フロントガラスのコストを増加させ、また、フロントガラス製造の複雑さも増加させる。
【0005】
ガラスプライの少なくとも１つにコーティングを適用して、フロントガラスに日射調整、加熱及び／又はアンテナ機能性を提供することもまた望ましい。この追加のコーティングはフロントガラス内での第３の屈折率の不一致につながり、これは第３の反射及びＨＵＤシステムへの第３の反射画像につながり、これはくさび形のビニル層によって補正することが困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】米国特許第４，４６６，５６２号
【特許文献2】米国特許第第４，６７１，１５５号
【特許文献3】米国特許第４，７４６，３４７号
【特許文献4】米国特許第４，７９２，５３６号
【特許文献5】米国特許第５，０３０，５９３号
【特許文献6】米国特許第５，０３０，５９４号
【特許文献7】米国特許第５，２４０，８８６号
【特許文献8】米国特許第５，３８５，８７２号
【特許文献9】米国特許第５，３９３，５９３号
【特許文献10】米国特許第４，２８７，１０７号
【特許文献11】米国特許第３，７６２，９８８号
【特許文献12】米国特許第５，７９６，０５５号
【特許文献13】米国特許第５，６５３，９０３号
【特許文献14】米国特許第５，０２８，７５９号
【特許文献15】米国特許第４，８９８，７８９号
【特許文献16】米国特許第５，８２１，００１号
【特許文献17】米国特許第４，７１６，０８６号
【特許文献18】米国特許第４，６１０，７７１号
【特許文献19】米国特許第４，９０２，５８０号
【特許文献20】米国特許第４，８０６，２２０号
【特許文献21】米国特許第４，８９８，７９０号
【特許文献22】米国特許第４，８３４，８５７号
【特許文献23】米国特許第４，９４８，６７７号
【特許文献24】米国特許第５，０５９，２９５号
【特許文献25】米国特許出願公開第０９／０５８４４０号
【特許文献26】米国特許第４，３７９，０４０号
【特許文献27】米国特許第４，８６１，６６９号
【特許文献28】米国特許第４，９００，６３３号
【特許文献29】米国特許第４，９２０，００６号
【特許文献30】米国特許第４，９３８，８５７号
【特許文献31】米国特許第５，３２８，７６８号
【特許文献32】米国特許第５，４９２，７５０号
【特許文献33】米国特許出願第１０／００７，３８２号
【特許文献34】米国特許出願第１０／１３３，８０５号
【特許文献35】米国特許出願第１０／３９７，００１号
【特許文献36】米国特許出願第１０／４２２，０９５号
【特許文献37】米国特許出願第１０／４２２，０９６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
したがって、これらの問題の１つ又は複数を低減又は排除するためのシステム及び／又は部品への必要性が当技術分野において存在する。例えば、ゴースト現象を減少又は排除する一方、日射性能を改善し、エネルギーを低減する、運転者が視認可能な画像を投影するＨＵＤシステムを提供することが望ましいと考えられる。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、コーティング物品に関する。コーティング物品は、第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を有する基材、並びに基材の上に機能性コーティングを有する。コーティングは、表面の少なくとも一部分の上に配置された第１の誘電層を有する。第１の金属層が、第１の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。場合により、第１のプライマー層が、第１の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の誘電層が、第１の金属層又は任意選択の第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の金属層が、第１の金属層又は任意選択の第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。場合により、第２のプライマー層が、第２の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第３の誘電層が、第２の金属層又は任意選択の第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第３の金属層が、第３の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。場合により、第３のプライマー層が、第３の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第４の誘電層が、第３の金属層又は任意選択の第３のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択の最外側保護コーティングが、第４の誘電層の少なくとも一部分の上又は機能性コーティングの上に形成される。コーティング物品は、少なくとも１０ナノメートル～６０ナノメートルの金属層の合計厚さを有する。
【0009】
本発明は、コーティング物品に関する。コーティング物品は、第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を有する基材、並びに基材の上に機能性コーティングを有する。コーティングは、表面の少なくとも一部分の上に配置された第１の誘電層を有する。第１の金属層が、第１の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。場合により、第１のプライマー層が、第１の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の誘電層が、第１の金属層又は任意選択の第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第２の金属層が、第１の金属層又は任意選択の第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。場合により、第２のプライマー層が、第２の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第３の誘電層が、第２の金属層又は任意選択の第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第３の金属層が、第３の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。場合により、第３のプライマー層が、第３の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第４の誘電層が、第３の金属層又は任意選択の第３のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。第４の金属層が、第４の誘電層の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択の第４のプライマー層が、第４の金属層の少なくとも一部分の上に配置される。第５の誘電層が、第４の金属層又は任意選択の第４のプライマー層の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択の最外側保護コーティングが、第５の誘電層の少なくとも一部分の上又は機能性コーティングの上に形成される。コーティング物品は、少なくとも１０ナノメートル～６０ナノメートルの金属層の合計厚さを有する。
【0010】
本発明は、コーティング物品を作製する方法に関する。第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を有する基材が用意される。機能性コーティングが、表面の少なくとも一部分の上に適用される。第１の誘電層が、表面の少なくとも一部分の上に形成される。第１の金属層が、第１の誘電層の少なくとも一部分の上に形成される。場合により、第１のプライマー層が、第１の金属層の少なくとも一部分の上に形成される。第２の誘電層が、第１の金属層の少なくとも一部分の上に形成される。第２の金属層が、第２の誘電層の少なくとも一部分の上に形成される。場合により、第２のプライマー層が、第２の金属層の少なくとも一部分の上に形成される。第３の誘電層が、第２の金属層の少なくとも一部分の上に形成される。第３の金属層が、第３の誘電層の少なくとも一部分の上に形成される。場合により、第３のプライマー層が、第３の金属層の少なくとも一部分の上に形成される。第４の誘電層が、第３の金属層の少なくとも一部分の上に形成される。任意選択の最外側保護コーティングが、第４の誘電層の少なくとも一部分の上又は機能性コーティングの上に形成される。コーティング物品は、少なくとも１０ナノメートル～６０ナノメートルの金属層の合計厚さを有する。
【0011】
本発明を、全体を通して同様の参照番号が同様の部品を示す以下の図面を参照して記載する。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【発明を実施するための形態】
【0013】
本明細書で使用される場合、空間又は方向を示す用語、例えば、「左」、「右」、「内側」、「外側」、「上」、「下」などは、それが図面に示される通りに本発明に関する。しかしながら、本発明は種々の代替の向きを想定することができ、したがって、そのような用語は限定とはみなされないことが理解される。さらに、本明細書で使用される場合、本明細書及び特許請求の範囲で使用される寸法、物理特性、処理パラメーター、成分の量、反応条件などを示すすべての数は、すべての場合において用語「約」で修飾されていると理解される。したがって、逆のことが示されない限り、以下の明細書及び特許請求の範囲で示される数値は、本発明によって得ようとする所望の特性に応じて変動し得る。少なくとも、均等論の適用を特許請求の範囲に限定しようとすることなく、各数値は、少なくとも報告された有効桁の数に照らし、通常の丸め技術を適用することによって解釈されるべきである。さらに、本明細書で開示されるすべての範囲は、範囲の開始値及び終了値、並びに範囲に包含される任意且つすべての部分範囲を包含することが理解される。例えば、「１～１０」の述べられた範囲は、最小値１及び最大値１０の間（及びそれを含む）任意且つすべての部分範囲、つまり、最小値１以上で開始し、最大値１０以下で終了するすべての部分範囲、例えば、１～３．３、４．７～７．５、５．５～１０などを含むとみなされるべきである。さらに、本明細書で使用される場合、「上に形成された」、「上に堆積された」又は「上に設けられた」という用語は、表面に形成、堆積又は設けられていることを意味するが、必ずしも表面と接触しているとは限らない。例えば、基材の「上に形成された」コーティング層は、形成されたコーティング層と基材との間に位置する同じ又は異なる組成物の１つ又は複数の他のコーティング層又は膜の存在を除外しない。本明細書で使用される場合、「ポリマー」又は「高分子」という用語は、オリゴマー、ホモポリマー、コポリマー及びターポリマー、例えば、２種以上のモノマー又はポリマーから形成されたポリマーを含む。「可視領域」又は「可視光」という用語は、３８０ナノメートル（ｎｍ）～８００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を指す。「赤外領域」又は「赤外線」という用語は、８００ｎｍ超～１００，０００ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射線を指す。「紫外領域」又は「紫外線」という用語は、３００ｎｍ～３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁エネルギーを意味する。本明細書における可視（視感）透過率（ＬＴＡ）値（Ｙ、ｘ、ｙ）は、Ｐｅｒｋｉｎ－Ｅｌｍｅｒから市販されているＬａｍｂｄａ ９分光光度計又はＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒから市販されているＴＣＳ分光光度計を使用して３８０ｎｍ～７７０ｎｍの波長範囲にわたって、２度オブザーバーと共にＣ．Ｉ．Ｅ．（１９７６）標準光源「Ａ」を使用して（米国連邦基準と一致して）決定可能なものである。反射色値Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊（Ｒ１又はＲ２のいずれか）は、１０°オブザーバーと共に光源「Ｄ６５」（自動車分野で慣用される通り）を使用して決定した。
【0014】
本明細書で使用される場合、「膜」という用語は、所望の又は選択されたコーティング組成物のコーティング領域を指す。「層」は１つ又は複数の「膜」を含み得、「コーティング」又は「コーティングスタック」は１つ又は複数の「層」を含み得る。ケイ素は慣用的には金属とみなされないことがあるが、「金属」及び「金属酸化物」という用語は、それぞれケイ素及びシリカ、並びに伝統的に認識される金属及び金属酸化物を含む。反対のことが示されない限り、厚さ値は幾何学的厚さ値である。さらに、これらに限定されないが本明細書で言及される発行済特許及び特許出願などのすべての文献は、それらの全体が「参照により援用される」とみなされる。
【0015】
本発明の議論は、特定の特徴を「特に」又は「好ましくは」特定の限定内（例えば、「好ましくは」、「より好ましくは」又は「最も好ましくは」特定の限定内）であるとして記載することがある。本発明は、これらの特定の又は好ましい限定に限定されず、本開示の全範囲を包含することが理解される。
【0016】
本発明の特徴を組み込む非限定的透明材１０（例えば、自動車フロントガラス）が、図１に示される。透明材１０は、任意の所望の可視光、赤外線又は紫外線透過及び反射特性を有し得る。例えば、透明材１０は、任意の所望量、例えば、０％超～１００％、７０％超の可視光透過を有し得る。米国においてフロントガラス及びフロントサイドライト領域について、可視光透過は、典型的には７０％以上である。後部座席サイドライト及びリアウインドウなどのプライバシー領域について、可視光透過は、フロントガラスについてのものよりも低く、例えば７０％未満であり得る。
【0017】
図１に見られる通り、透明材１０は、車両外部に面する第１の主表面、すなわち外側主表面１４（Ｎｏ．１表面）及び反対側の第２の又は内側主表面１６（Ｎｏ．２表面）を有する第１のプライ又は第１の基材１２を含む。透明材１０はまた、外側（第１の）主表面２２（Ｎｏ．４表面）及び内側（第２の）主表面２０（Ｎｏ．３表面）を有する第２のプライ又は第２の基材１８含む。プライ表面のこの付番は、自動車分野における慣例をふまえている。第１及び第２のプライ１２、１８は、従来の中間層２４によるなどの任意の好適な方法で一緒に結合され得る。必須ではないが、任意の所望の方法での積層の間及び／又は後に、積層された透明材１０の周囲に従来の端部シーラントを適用することができる。装飾バンド、例えば、不透明、半透明又は着色シェードバンド２６、例えばセラミックバンドを、プライ１２、１８の少なくとも一方の表面に、例えば、第１のプライ１２の内側主表面１６の周囲に設けることができる。コーティング３０は、プライ１２、１８の１つの少なくとも一部分の上に、例えば、Ｎｏ．２表面１６又はＮｏ．３表面２０の上に形成することができる。
【0018】
図１に示される非限定的な実施例では、バスバーアセンブリは、外側プライ１２の内側表面１６に形成され、バスバーによってバスバー距離Ｄに分離された第１の又は下部バスバー９６及び第２の又は上部バスバー９８を含む。バスバー９６、９８は、コーティング３０と電気接触している。本発明の非限定的な一実施例では、バスバー９６、９８は、図１に示される通り、少なくとも部分的に又は完全に装飾バンド２６に配置され得る。
【0019】
本発明の広範な実施では、透明材１０のプライ１２、１８は、同じ又は異なる材料のものであり得る。プライ１２、１８は、任意の所望の特性を有する任意の所望の材料を含み得る。例えば、プライ１２、１８の１つ又は複数は、可視光に対して透明又は半透明であり得る。「透明」とは、０％超～１００％の可視光透過率を有することを意味する。或いは、１つ又は複数のプライ１２、１８は、半透明であり得る。「半透明」とは、見ている人の反対側にある対象物がはっきりとは見えないように、電磁エネルギー（例えば、可視光）を拡散させるほか、このエネルギーを通過させることを可能にすることを意味する。好適な材料の例としては、これらに限定されないが、プラスチック基材（例えば、ポリアクリレートなどのアクリルポリマー；ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレートなどのポリアルキルメタクリレート；ポリウレタン；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリアルキルテレフタレート；ポリシロキサン含有ポリマー；又はこれらを調製するための任意のモノマーのコポリマー、又はその任意の混合物）；セラミック基材；ガラス基材；又は上記のうち任意のものの混合物若しくは組合せが挙げられる。例えば、プライ１２、１８の１つ又は複数は、従来のソーダ石灰珪酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス又は加鉛ガラスを含み得る。ガラスはクリアガラスであってもよい。「クリアガラス」とは、非ティンテッドガラス又は非着色ガラスを意味する。或いは、ガラスは、ティンテッド又はそうでなければ着色ガラスであってもよい。ガラスは、アニールガラス又は熱処理ガラスであってもよい。本明細書で使用される場合、「熱処理」という用語は、強化又は少なくとも部分的に強化されたことを意味する。ガラスは、従来のフロートガラスなどの任意の種類のものであってもよく、任意の光学特性、例えば、任意の値の可視透過、紫外透過、赤外透過及び／又は全太陽エネルギー透過を有する任意の組成物であってもよい。「フロートガラス」とは、溶融ガラスが溶融金属浴上に堆積され、制御冷却されて、フロートガラスリボンが形成される従来のフロート法によって形成されたガラスを意味する。次いでリボンは、所望の場合、切断及び／又は成形及び／又は熱処理される。フロートガラス法の例は、米国特許第４，４６６，５６２号及び第４，６７１，１５５号に開示されている。第１及び第２のプライ１２、１８は、例えば、クリアフロートガラスであってもよく、又はティンテッド若しくは着色ガラスであってもよく、又は１つのプライ１２、１８がクリアガラスであり、他方のプライ１２、１８が着色ガラスであってもよい。本発明に限定されないが、第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８に好適なガラスの例は、米国特許第４，７４６，３４７号；同第４，７９２，５３６号；同第５，０３０，５９３号；同第５，０３０，５９４号；同第５，２４０，８８６号；同第５，３８５，８７２号；及び同第５，３９３，５９３号に記載されている。第１及び第２のプライ１２、１８は、任意の所望の寸法、例えば、長さ、幅、形状又は厚さであってもよい。１つの例示的な自動車透明材１０において、第１及び第２のプライ１２、１８は、各々、１ｍｍ～１０ｍｍ厚、例えば、１ｍｍ～５ｍｍ厚、又は１．５ｍｍ～２．５ｍｍ、又は１．８ｍｍ～２．３ｍｍであり得る。非限定的な一実施例では、第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８は、５５０ｎｍの基準波長において９０％超、例えば９１％超の可視光透過率を有し得る。第１のプライ１２及び／又は第２のプライ１８のためのガラス組成物は、０重量パーセント（ｗｔ％）超～０．２ｗｔ％の範囲の総鉄含有量及び／又は０．３～０．６の範囲のレドックス比を有し得る。
【0020】
非限定的な一実施例では、一方又は両方のプライ１２、１８は、５５０ｎｍの基準波長において高い可視光透過率を有し得る。「高い可視光透過率」とは、２ｍｍ～２５ｍｍシート厚さのガラスについて５．５ｍｍ等価厚さで、８５％以上、例えば８７％以上、例えば９０％以上、例えば９１％以上、例えば９２％以上の５５０ｎｍにおける可視光透過率を意味する。本発明の実施に特に有用なガラスは、米国特許第５，０３０，５９３号及び同第５，０３０，５９４号に開示されている。
【0021】
積層フロントガラスはまた、中間層２４を含み得る。中間層２４は、任意の所望の材料のものであってもよく、１つ又は複数の層又はプライを含んでもよい。中間層２４は、Ｎｏ．２表面１６及び／又はＮｏ．３表面２０の上に配置され得る。中間層２４は、高分子又はプラスチック材料、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ｂｕｔｙｒａｌ）、可塑化塩化ポリビニル又はポリエチレンテレフタレートを含む多層熱可塑性材料などであり得る。好適な中間層材料は、限定とはみなされないが、例えば、米国特許第４，２８７，１０７号及び同第３，７６２，９８８号に開示されている。中間層２４はまた、例えば米国特許第５，７９６，０５５号に記載の通りの吸音又は消音材料であってもよい。中間層２４は、その上に設けられた若しくはその中に組み込まれた日射調整コーティングを有してもよく、又は太陽エネルギー透過を低減する着色材料を含んでもよい。中間層２４は、プライ１２、１８を一緒に保持するのに好適な任意の厚さのものであってもよい。非限定的な一実施例では、中間層２４は、０．７６ミリメートル（ｍｍ）厚のＰＶＢ層である。
【0022】
コーティング３０は、ガラスプライ１２、１８の１つの主表面の少なくとも一部分の上、例えば、外側ガラスプライ１２の内側表面１６又は内側ガラスプライ１８の外側表面２２に堆積される（図１、図３）。コーティング３０は、ガラスプライ１２、１８の１つの少なくとも一部分の上に順次適用された誘電層間に配置された３又は４つの金属膜を含み得る。コーティング３０は、熱及び／若しくは放射線反射コーティング又は日射調整コーティングであってもよく、同じ又は異なる組成物及び／又は機能性の１つ又は複数のコーティング層又は膜を有してもよい。コーティング３０は、３又は４つの金属層を含む多層コーティングであってもよい。加熱可能なウィンドウを作製するために使用される電気伝導性コーティングの例は、米国特許第５，６５３，９０３号及び同第５，０２８，７５９号に開示されている。本発明の実施に使用できる日射調整コーティングの例は、米国特許第４，８９８，７８９号；同第５，８２１，００１号；同第４，７１６，０８６号；同第４，６１０，７７１号；同第４，９０２，５８０号；同第４，７１６，０８６号；同第４，８０６，２２０号；同第４，８９８，７９０号；同第４，８３４，８５７号；同第４，９４８，６７７号；同第５，０５９，２９５；及び同第５，０２８，７５９号、並びにまた米国特許出願第０９／０５８４４０号に見出される。
【0023】
好適なコーティングの非限定例としては、典型的には、可視光に対して透明である誘電又は反射防止材料、例えば、金属酸化物又は金属合金の酸化物を含む１つ又は複数の反射防止コーティング膜が挙げられる。コーティング３０はまた、反射金属、例えば、銀若しくは金などの貴金属、又はその合金の組合せを含む３又は４つの金属層を含んでもよく、金属反射層の上及び／又は場合により下に位置するチタン又はチタンアルミニウム合金などのプライマー層又はバリア膜をさらに含んでもよい。コーティング３０は、３若しくは４つの金属層を有してもよく；又は少なくとも３つの金属層を有してもよく；又は４つ以下の金属層を有してもよい。例えば、コーティング３０は、３つの金属層、すなわち、三重金属コーティング３２からなる。別の非限定的な実施例では、コーティング３０は、４つの金属層、すなわち、四重金属コーティング３４を含む。非限定的な一実施例では、金属層の１つ又は複数は、銀を含み得る。別の非限定的な実施例では、金属層の１つ又は複数は、連続層であり得る。「連続層」とは、コーティングが、材料の連続膜を形成し、分離コーティング領域を形成しないことを意味する。
【0024】
プライマー層に好適な材料の非限定例としては、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金が挙げられる。プライマー層はまた、上記リストの材料の任意のものの金属、酸化物、亜酸化物、窒化物及び／又は亜窒化物の形態をとってもよい。プライマー層の少なくとも一部分は、酸化物又は窒化物である。ある特定の実施例では、プライマー層は、１００％アルゴン環境で堆積される。ある特定の実施例では、プライマー層の一部分は、残部がアルゴンである８０％Ｎ２の雰囲気を形成する特定の流速を有する窒素（Ｎ２）雰囲気中、金属又は金属合金をスパッタリングすることによって形成された窒化物である。流速は雰囲気中の窒素（Ｎ２）の量の近似値であるが、当業者であれば、コーティングチャンバーが外部環境から密閉されていないため、さらなるＮ２がコーティングチャンバーに入り込むことがあることを認識するであろう。ある特定の実施例では、プライマー層の一部分は、残部がアルゴンである３～７％Ｏ２の雰囲気を形成する特定の流速を有する酸素（Ｏ２）雰囲気中、金属又は金属合金をスパッタリングすることによって形成された亜酸化物である。流速は雰囲気中の酸素（Ｏ２）の量の近似値であるが、当業者であれば、コーティングチャンバーが外部環境から密閉されていないため、さらなるＯ２がコーティングチャンバーに入り込むことがあることを認識するであろう。プライマー材料の化学構造は、構成成分ｘの重量パーセント（ｗｔ％）によって示される。特定の組成物について、組成物中の材料の１種の下限は「０超」であり得る。下限が「０超」である場合、材料の重量パーセントはゼロには等しくなく、０超の任意のｗｔ％～上限のｗｔ％であり得る。組成物は、大気物質との反応に起因して、層が加熱される前又は後で変化し得る。これらの反応は、組成物の材料間に分布するｗｔ％を変化させ得る。プライマー層の非限定例の組成物は、表１に見ることができ、表中、加熱前がＢＨ、加熱後がＡＨである。一部の材料は、測定値が最終組成物についてより重要であることに起因して、ＢＨ又はＡＨ測定値のみをただ有し得る。
【表1】
【0025】
米国においてビジョンパネル（例えばフロントガラス）について、透明材はまた、７０％以上、例えば７１％以上の可視光透過率を有するべきである。当業者であれば認識する通り、十分な電導性、透過率及び色を有するコーティングを提供するためにはいくつかの異なる競合要素をバランスする必要がある。例えば、バスバー９６、９８間の距離Ｄが増加する（すなわち、透明材が上部から底部に向かって幅広くなる）につれて、バスバー９６対バスバー９８抵抗は増加する。バスバー９６対バスバー９８抵抗が増加するにつれて、電力密度は減少する。電力密度を維持するためには、バスバー９６対バスバー９８距離Ｄが増加するにつれて、コーティング３０の抵抗率を減少させなくてはならない。抵抗率を減少させる１つの方法は、コーティング３０の金属層の１つ若しくは複数の厚さを増加させることによる及び／又はコーティング３０の金属層の数を増加させることによる。
【0026】
コーティング３０は、任意の従来の方法、例えばこれらに限定されないが、従来の化学蒸着（ＣＶＤ：ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）及び／又は物理蒸着（ＰＶＤ：ｐｈｙｓｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって堆積できる。ＣＶＤ法の例としては、噴霧熱分解が挙げられる。ＰＶＤ法の例としては、電子ビーム蒸着及び真空スパッタリング（例えば、マグネトロンスパッター蒸着（ＭＳＶＤ：ｍａｇｎｅｔｒｏｎ ｓｐｕｔｔｅｒ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ））が挙げられる。他のコーティング方法、例えばこれに限定されないが、ゾルゲル堆積もまた使用できる。非限定的な一実施例では、コーティング３０は、ＭＳＶＤによって堆積され得る。ＭＳＶＤコーティングデバイス及び方法の例は、当業者に十分理解され、例えば、米国特許第４，３７９，０４０号；同第４，８６１，６６９号；同第４，８９８，７８９号；同第４，８９８，７９０号；同第４，９００，６３３号；同第４，９２０，００６号；同第４，９３８，８５７号；同第５，３２８，７６８号；及び同第５，４９２，７５０号に記載されている。ＭＳＶＤ法において、金属又は金属合金の酸化物は、酸素含有雰囲気中、カソードを含有する金属又は金属合金をスパッタリングして、金属酸化物又は金属合金酸化物膜を基材の表面に堆積することによって堆積できる。一実施例では、コーティング３０は、表面のすべて又は実質的にすべての上に堆積され、すなわち、別個のコーティング領域を形成するようには堆積されない。少なくとも１つのコーティング３０は、平坦基材の上に堆積でき、次いで、基材は、任意の従来の方法、例えば加熱によって湾曲又は成形できる。或いは、少なくとも１つのコーティング３０は、曲面、すなわち、既に湾曲又は成形された基材の上に堆積できる。
【0027】
例示的な実施例では、本発明は、図１、図２Ａ、図２Ｂ及び図３に示される通り、フロントガラスのＨＵＤに有用なコーティングであり、フロントガラスは、第１のプライ１２及び第２のプライ１８及び中間層２４を含む。コーティング３０は、Ｎｏ．２表面１６又はＮｏ．３表面２０、好ましくはＮｏ．２表面１６に配置され得る。
【0028】
図２Ａを参照すると、透明材１０に向かう放射線３６は、放射線３６の少なくとも一部が透明材１０で反射し、運転者の眼３８に向かうように透明材１０から離れる方向に向かう。透明材１０で反射しなかった放射線３６の一部は、透明材１０を通して屈折、吸収又はそうでなければ透過され得る。ＰＶＢ中間層２４は、ガラスプライ１２、１８の屈折率と同様の屈折率を有し、放射線からのＮｏ．１表面１４及びＮｏ．４表面２２から来る反射は、フロントガラス内のガラスプライ１２、１８及びＰＶＢ中間層２４が互いに平行である場合、運転者の眼３８にゴースト画像を作る。
【0029】
図２Ｂを参照すると、第１のプライ１２は、第２のプライに１８に平行でないことがある。好ましくは、放射線３６に曝露された場合にゴースト画像を排除するために、中間層２４はくさび形を有し、中間層２４の片側がもう一方の側よりも厚い。中間層２４のくさび形状は、Ｎｏ．１表面１４及びＮｏ．４表面２２からの２つの反射画像が運転者の眼３８で重なってゴースト現象が排除されるように構成され得る。
【0030】
銀コーティングはエネルギーを低減し日射性能を上昇させるため、銀コーティングが、上記の通りＮｏ．２表面１６又はＮｏ．３表面２２、好ましくはＮｏ．２表面１６に適用されてもよい。しかしながら、Ｎｏ．２表面１６に適用された銀コーティングは、放射線３６からの強い光反射を作り、運転者の眼３８に三重ゴースト画像をもたらすと考えられる。図３を参照すると、表面からの反射を排除するために、金属層を含む特定のコーティング３０は、眼３８への総内部反射が、十分低い又は図２Ｂの透明材１０と同じであるように設計されなくてはならない。特定のコーティング３０はまた、可視スペクトル範囲（４００ｎｍ～７００ｎｍ）の無彩色でなくてはならず、これは、様々な誘電層を使用して調節できる。特定のコーティング３０を使用する場合、設計の他の態様がゴースト現象に反作用することから、中間層２４はゴースト現象問題を回避するためのくさび形でなくてもよいため、中間層２４は、透明材１０の他の配置において均一厚さの層であり得る。
【0031】
コーティング３０は、三重金属コーティング３３、例えば、３つの金属層又は四重金属コーティング３４（例えば、４つの金属層）であってもよい。三重金属コーティング３３に好適な非限定的な例示のコーティングは、図４、６及び８に示されている。四重コーティング３４に好適な非限定的な例示のコーティングは、図５、７及び９に示されている。
【0032】
例示的なコーティング３０は、図４に示される通り、誘電層間に配置された３つの金属層（すなわち、三重金属コーティング３３）を含む。三重金属コーティング３３は、基材の主表面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６又は第２のプライ１８のＮｏ．３表面２０）の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置された基層又は第１の誘電層４０を含む。第１の金属層５２が、第１の誘電層４０の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。任意選択の第１のプライマー層５４が、第１の金属層５２の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。第２の誘電層６０が、任意選択の第１のプライマー層５４又は第１の金属層５２の上に又はこれと直接接触して配置される。第２の金属層７２が、第２の誘電層６０の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。任意選択の第２のプライマー層７４が、第２の金属層７２の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。第３の誘電層８０が、任意選択の第２のプライマー層７４又は第２の金属層７２の上に又はこれと直接接触して配置される。第３の金属層９２が、第３の誘電層８０の少なくとも一部分の上に配置されてもよい。任意選択の第３のプライマー層９４が、第３の金属層９２の少なくとも一部分の上に配置されてもよい。第４の誘電層１００が、第３の金属層９２又は任意選択の第３のプライマー層９４の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択の最外側保護層２００が、第４の誘電層１００の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。
【0033】
例示的なコーティング３０は、図５に示される通り、誘電層間に配置された４つの金属層（すなわち、四重金属コーティング３４）を含む。四重金属コーティング３４は、基材の主表面（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６又は第２のプライ１８のＮｏ．３表面２０）の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置された基層又は第１の誘電層４０を含む。第１の金属層５２が、第１の誘電層４０の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。任意選択の第１のプライマー層５４が、第１の金属層５２の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。第２の誘電層６０が、任意選択の第１のプライマー層５４又は第１の金属層５２の上に又はこれと直接接触して配置される。第２の金属層７２が、第２の誘電層６０の少なくとも一部分の上に又はこれと直接接触して配置される。任意選択の第２のプライマー層７４が、第２の金属層７２の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。第３の誘電層８０が、任意選択の第２のプライマー層７４又は第２の金属層７２の上に又はこれと直接接触して配置される。第３の金属層９２が、第３の誘電層８０の少なくとも一部分の上に配置されてもよい。任意選択の第３のプライマー層９４が、第３の金属層９２の少なくとも一部分の上に配置されてもよい。第４の誘電層１００が、第３の金属層９２又は任意選択の第３のプライマー層９４の少なくとも一部分の上に配置される。第４の金属層１１２が、第４の誘電層１００の少なくとも一部分の上に配置される。任意選択のプライマー層１１４が、第４の金属層１１２の少なくとも一部分の上に形成される。第５の誘電層１２０が、第４の金属層１１２又は任意選択の第４のプライマー層１１４の少なくとも一部分の上に形成される。任意選択の最外側保護層２００が、第５の誘電層１２０の上に又はこれと直接接触して配置されてもよい。
【0034】
誘電層は、反射防止材料及び／又は誘電材料、例えばこれらに限定されないが、金属酸化物、金属合金の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物の１つ又は複数の膜を含み得る。第１の誘電層は、可視光に対して透明であり得る。第１の誘電層に好適な金属酸化物の例としては、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、ケイ素、その合金、その混合物及びその組合せの酸化物が挙げられる。これらの金属酸化物は、少量の他の材料、例えば、酸化ビスマス中のマンガン、酸化インジウム中のスズなどを有し得る。或いは、酸化物又は金属合金又は金属混合物、例えば、亜鉛及びスズを含有する酸化物（例えば、スズ酸亜鉛）；インジウム－スズ合金の酸化物；窒化ケイ素；窒化アルミニウムケイ素；又は窒化アルミニウムを使用できる。さらに、金属ドープ金属酸化物、例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化スズ、ニッケル又はホウ素ドープ酸化ケイ素、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化スズ又はその混合物を使用できる。非限定的な一実施例では、第１の誘電層の第１の膜４２は、基材（例えば、第１のプライ１２のＮｏ．２表面１６又は第２のプライ１８のＮｏ．３表面２０）の少なくとも一部分の上に形成された亜鉛／スズ合金酸化物であり得る。亜鉛／スズ合金酸化物は、亜鉛及びスズを亜鉛１０ｗｔ％～９０ｗｔ％及びスズ９０ｗｔ％～１０ｗｔ％の割合で含み得る亜鉛及びスズのカソードからのＭＳＶＤから得ることができる。第１の誘電層の第１の膜４２中に存在し得る１種の好適な金属合金酸化物は、スズ酸亜鉛である。「スズ酸亜鉛」とは、ＺｎｘＳｎ１－ｘＯ２－ｘ（式１）（式中、「ｘ」は０超～１未満の範囲で変動する）の組成物を意味する。例えば、「ｘ」は、０超であり得、０超～１未満の任意の分率又は小数であり得る。例えば、ｘ＝２／３の場合、式１は、Ｚｎ２／３Ｓｎ１／３Ｏ４／３であり、これはより一般的にはＺｎ２ＳｎＯ４と記載される。スズ酸亜鉛含有膜は、膜中に大量の式１の形態の１種又は複数を有する。
【0035】
第１の誘電層の第２の膜４４は、第１の誘電層の第１の膜４２の少なくとも一部分の上に形成され、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、又はその組合せを含み得る。非限定的な一実施例では、第１の誘電層の第２の膜４４は、酸化亜鉛などの亜鉛含有膜であり得る。酸化亜鉛膜は、カソードのスパッタリング特性を改善するための他の材料を含む亜鉛カソードから堆積できる。例えば、亜鉛カソードは、スパッタリングを改善するための少量（例えば、１０ｗｔ％未満、例えば０超～５ｗｔ％）のスズを含み得る。この場合、得られた酸化亜鉛膜は、少パーセンテージの酸化スズ、例えば、０～１０ｗｔ％未満の酸化スズ、例えば０～５ｗｔ％の酸化スズを含むと考えられる。９５ｗｔ％の亜鉛及び５ｗｔ％のスズ、又は好ましくは９０ｗｔ％の亜鉛及び１０ｗｔ％のスズを含む亜鉛／スズカソードからスパッタリングされた酸化物層は、酸化亜鉛膜と呼ばれる。カソード中の少量のスズ（例えば、１０ｗｔ％未満）は、第１の誘電層の主に酸化亜鉛を含有する第２の膜４４中の少量の酸化スズを形成すると考えられる。非限定的な一実施例は、第１の誘電層４２の第１の膜がスズ酸亜鉛であり、第１の誘電層４４の第２の膜が、酸化亜鉛であり、第１の誘電層４２の第１の膜の少なくとも一部分の上であるものである。
【0036】
非限定的な例示の実施例では、第２の膜４４は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズの少なくとも１種からなる膜である。アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ膜は、カソードのスパッタリング特性を改善するための他の材料を含む亜鉛カソードから堆積される。例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ膜は、スパッタリングを改善するための少量（例えば、１０ｗｔ％未満、例えば０超～５ｗｔ％）のスズを含み得る。この場合、得られたアルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ膜は、少パーセンテージの酸化スズ、例えば０ｗｔ％～１０ｗｔ％未満の酸化スズ、例えば０ｗｔ％～５ｗｔ％の酸化スズを含むと考えられる。
【0037】
非限定的な一実施例は、第１の誘電層の第１の膜４２がスズ酸亜鉛であり、第１の誘電層の第１の膜４２の少なくとも一部分の上の第１の誘電層の第２の膜４４が、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。
【0038】
三重金属コーティング３３の第１の誘電層４０は、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１２ｎｍ～４５ｎｍ、より好ましくは１５ｎｍ～４２ｎｍ、最も好ましくは１８ｎｍ～４０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。四重金属コーティング３４の第１の誘電層４０は、２０ｎｍ～５５ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～４５ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～４０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0039】
非限定的な一実施例では、第１の誘電層４０は、図面に示されていない、第１の金属層５２に直接接触したシード膜を含む。シード膜は、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る。一実施例では、シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。別の実施例では、シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。シード膜の非限定例の組成物は、表２に見出すことができる。ある特定の実施例では、シード膜の一部分は、残部がアルゴンである１％～７０％Ｏ２の雰囲気を形成する特定の流速を有するＯ２雰囲気中で形成される。流速は雰囲気中のＯ２の量の近似値であるが、当業者であれば、コーティングチャンバーが外部環境から密閉されていないため、さらなるＯ２がコーティングチャンバーに入り込むことがあることを認識するであろう。非限定的な一実施例では、第１の誘電層の第２の膜４４は、シード膜である。別の実施例では、シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、酸素／アルゴンガス環境中で堆積されたＡｇを含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘを含む。シード膜は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは０．７５ｎｍ～８ｎｍ、より好ましくは０．９ｎｍ～６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。一部の実施例では、第１の誘電層４０は、第１の膜４２、第２の膜４４及びシード膜を含む。
【表2】
【0040】
第１の金属層５２は、第１の誘電層４０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第１の金属層５２は、反射金属、例えばこれらに限定されないが、金属金、銀、その合金、その混合物又はその組合せを含み得る。第１の金属層５２は、連続層である。一実施例では、三重金属コーティング３３の第１の金属層５２は、金属銀を含む。三重金属コーティング３３の第１の金属層５２は、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１７．５ｎｍ、より好ましくは７ｎｍ～１５ｎｍ、最も好ましくは８ｎｍ～１０．５ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0041】
一実施例では、四重金属コーティング３４の第１の金属層５２は、金属銀を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第１の金属層５２は、連続層である。四重金属コーティング３４の第１の金属層５２は、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは６ｎｍ～１８ｎｍ、より好ましくは９ｎｍ～１２ｎｍ、最も好ましくは９．５ｎｍ～１０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0042】
任意選択の第１のプライマー層５４は、第１の金属層５２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第１のプライマー層５４は、堆積工程の間、犠牲となって、スパッタリング工程又は後続の加熱工程の間の第１の金属層の分解又は酸化を防ぎ得る酸素捕捉材料、例えばチタンであり得る。酸素捕捉材料は、第１の金属層５２の材料の前に酸化するように選択できる。第１のプライマー層５４の組成物は、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素、炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金からなる群から選択され、ここで、プライマーは、金属として堆積され、続いて酸化される。プライマー層の少なくとも一部分は、窒化物又は酸化物である。銀亜鉛、亜鉛、銀亜鉛酸化物、チタン、アルミニウム酸化亜鉛、インジウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物又はバナジウム亜鉛酸化物が第１のプライマー層５４として使用される場合、これは、好ましくは、下にある金属層の酸化の前に酸化すると考えられる。一実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、チタンである。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、銀亜鉛を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、亜鉛を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘである。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物である。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。三重及び四重金属コーティング３３、３４の第１のプライマー層５４は、０．５ｎｍ～５ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～２．５ｎｍ、より好ましくは１．５ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の総厚さを有する。
【0043】
第２の誘電層６０は、第１の金属層５２又は任意選択の第１のプライマー層５４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の誘電層６０はまた、第１の誘電層４０に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。第２の誘電層６０は、第１の金属層５２又は任意選択の第１のプライマー層５４の上に堆積された第２の誘電層の第１の膜６２を含み得る。第２の誘電層の第１の膜６２は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。第２の誘電層の第１の膜６２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第２の誘電層の第１の膜６２は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0044】
第２の誘電層の第２の膜６４は、第２誘電層の第１の膜６２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の誘電層の第２の膜６４は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。非限定的な一実施例では、第２の誘電層の第２のフィルム６４は、スズ酸亜鉛である。
【0045】
第２の誘電層の任意選択の第３の膜６６は、第２の誘電層の第２の膜６４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の誘電層の任意選択の第３の膜６６は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含み得る。第２の誘電層の任意選択の第３の膜６６は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第２の誘電層の任意選択の第３の膜６６は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第２の誘電層の第３の膜６６は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第１の誘電層４０又は第２の誘電層６０は、窒化ケイ素膜を含む。
【0046】
非限定的な一実施例は、第２の誘電層の第１の膜６２が酸化亜鉛を含み、第２の誘電層の第２の膜６４がスズ酸亜鉛を含み、第２の誘電層の第２の膜６４の少なくとも一部分の上の第２の誘電層の第３の膜６６が、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。
【0047】
三重金属コーティング３３の第２の誘電層６０は、４０ｎｍ～１１０ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～１００ｎｍ、より好ましくは５５ｎｍ～８０ｎｍ、最も好ましくは６７ｎｍ～７６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。四重金属コーティング３４の第２の誘電層６０は、６０ｎｍ～１００ｎｍ、好ましくは６５ｎｍ～９５ｎｍ、より好ましくは７０ｎｍ～９０ｎｍ、最も好ましくは７４ｎｍ～８０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0048】
非限定的な一実施例では、第２の誘電層６０は、図面に示されていない、第２の金属層７２に直接接触して配置されたシード膜を含む。シード膜は、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る。一実施例では、シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。別の実施例では、シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。シード膜の非限定例の組成物は、表２に見出すことができる。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、酸素／アルゴンガス環境中で堆積されたＡｇを含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘを含む。シード膜は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは０．７５ｎｍ～８ｎｍ、より好ましくは０．９ｎｍ～６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。一部の実施例では、第２の誘電層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４及びシード膜を有する。一部の実施例では、第２の誘電層６０は、第１の膜６２、第２の膜６４、第３の膜６６及びシード膜を有する。
【0049】
第２の金属層７２は、第２の誘電層６０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２の金属層７２は、連続層である。第２の金属層７２は、第１の金属層５２に関して上記の反射材料の任意の１種又は複数を含み得る。非限定的な一実施例では、第２の金属層７２は、金属銀を含む。三重金属コーティング３３の第２の金属層７２は、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは７．５ｎｍ～１２．５ｎｍ、最も好ましくは８．５ｎｍ～１１．５ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0050】
一実施例では、四重金属コーティング３４の第２の金属層７２は、金属銀を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第２の金属層７２は、連続層である。四重金属コーティング３４の第２の金属層７２は、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは６ｎｍ～１８ｎｍ、より好ましくは８ｎｍ～１５ｎｍ、最も好ましくは９ｎｍ～１２ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0051】
任意選択の第２のプライマー層７４は、第２の金属層７２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第２のプライマー層７４は、第１のプライマー層５４に関して上記の材料の任意のものであり得る。非限定的な一実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、チタンを含む。別の実施例では、任意選択の第２のプライマー層７４は、銀亜鉛を含む。別の実施例では、第２のプライマー層７４は、亜鉛を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の任意選択の第２のプライマー層７４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の任意選択の第２のプライマー層７４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の任意選択の第２のプライマー層７４は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、任意選択の第２のプライマー層７４は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の任意選択の第２のプライマー層７４は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の任意選択の第２のプライマー層７４は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第２のプライマー層７４は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。任意選択の第２のプライマー層７４は、０．５ｎｍ～５ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～２．５ｎｍ、より好ましくは１．５ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の総厚さを有する。
【0052】
第３の誘電層８０は、第２の金属層７２又は任意選択の第２のプライマー層７４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の誘電層８０はまた、第１及び第２の誘電層に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。非限定的な一実施例では、第３の誘電層８０は、第３の誘電層の第１の膜８２を含む。第３の誘電層の第１の膜８２は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。第３の誘電層の第１の膜８２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第３の誘電層の第１の膜８２は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0053】
第３の誘電層の第２の膜８４は、第３の誘電層の第１の膜８２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の誘電層の第２の膜８４は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。一実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、スズ酸亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第２の膜８４は、酸化亜鉛を含む。
【0054】
第３の誘電層８６の任意選択の第３の膜は、第３の誘電層の第２の膜８４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の誘電層８６の任意選択の第３の膜は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含み得る。第３の誘電層８６の任意選択の第３の膜は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第３の誘電層８６の任意選択の第３の膜は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層８６の第３の膜は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜８６は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜８６は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜８６は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜８６は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第３の誘電層の第３の膜８６は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0055】
非限定的な一実施例は、第３の誘電層の第１の膜８２が酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含み、第３の誘電層の第２の膜８４が酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含み、第３の誘電層の第２の膜８４の少なくとも一部分の上の第３の誘電層の第３の膜８６が、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。
【0056】
三重金属コーティング３３の第３の誘電層８０は、４０ｎｍ～１１０ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～１００ｎｍ、より好ましくは６５ｎｍ～８０ｎｍ、最も好ましくは７１ｎｍ～７５ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。四重金属コーティング３４の第３の誘電層８０は、５５ｎｍ～９０ｎｍ、好ましくは６０ｎｍ～８５ｎｍ、より好ましくは６８ｎｍ～８０ｎｍ、最も好ましくは７０ｎｍ～７５ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0057】
非限定的な一実施例では、第３の誘電層８６は、図面に示されていない、第３の金属層９２に直接接触して配置されたシード膜を含む。シード膜は、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る。一実施例では、シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。別の実施例では、シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。シード膜の非限定例の組成物は、表２に見出すことができる。別の実施例では、シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、酸素／アルゴンガス環境中で堆積されたＡｇを含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘを含む。シード膜は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは０．７５ｎｍ～８ｎｍ、より好ましくは０．９ｎｍ～６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。一部の実施例では、第３の誘電層８０は、第１の膜８２、第２の膜８４及びシード膜を有する。一部の実施例では、第３の誘電層８０は、第１の膜８２、第２の膜８４、第３の膜８６及びシード膜を有する。一部の実施例では、第３の誘電層８０は、第１の膜８２、第２の膜８４及び第３の膜８６を有する。
【0058】
第３の金属層９２は、第３の誘電層８０の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３の金属層９２は、連続層である。第３の金属層９２は、第１の金属層５２に関して上記の反射材料の任意の１種又は複数を含み得る。非限定的な一実施例では、第３の金属層９２は、金属銀を含む。三重金属コーティング３３の第３の金属層９２は、１ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～２０ｎｍ、より好ましくは７．５ｎｍ～１５ｎｍ、最も好ましくは７．５ｎｍ～１０．５ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0059】
一実施例では、四重金属コーティング３４の第３の金属層９２は、金属銀を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第３の金属層９２は、連続層である。四重金属コーティング３４の第３の金属層９２は、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは６ｎｍ～１８ｎｍ、より好ましくは８ｎｍ～１５ｎｍ、最も好ましくは９ｎｍ～１２ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0060】
非限定的な一実施例では、コーティング３０は、第１、第２及び第３の金属層のみを含む（図４、６及び８）。コーティング３０に追加の金属層は存在しない。各金属層は厚さを有する。非限定的な一実施例では、三重金属コーティングの金属層３３の総厚さは、１０ｎｍ～６０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～５０ｎｍ、最も好ましくは２０ｎｍ～４０ｎｍ、最も好ましくは２５ｎｍ～３１ｎｍの範囲である。プライマー層がアルミニウム及び亜鉛を含む事例では、三重金属コーティングの金属層３３の総厚さは、１０ｎｍ～６５ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～５５ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ～４５ｎｍ、最も好ましくは２５ｎｍ～３６ｎｍの範囲である。
【0061】
任意選択の第３のプライマー層９４は、第３の金属層９２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第３のプライマー層９４は、第１のプライマー層５４に関して上記の材料の任意のものであり得る。非限定的な一実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、チタンを含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、銀亜鉛を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、亜鉛を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。
【0062】
三重及び四重金属コーティング３３、３４の第３のプライマー層９４は、０．５ｎｍ～５ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～２．５ｎｍ、より好ましくは１．５ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の総厚さを有する。
【0063】
第４の誘電層１００は、第３の金属層９２又は任意選択の第３のプライマー層９４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第４の誘電層１００はまた、第１、第２及び第３の誘電層４０、６０、８０に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。非限定的な一実施例では、第４の誘電層１００は、第４の誘電層の第１の膜１０２を含む。第４の誘電層の第１の膜１０２は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。第４の誘電層の第１の膜１０２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第４の誘電層の第１の膜１０２は、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の第１の膜１０２は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の第１の膜１０２は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の第１の膜１０２は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の第１の膜１０２は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第４の誘電層の第１の膜１０２は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0064】
第４の誘電層の第２の膜１０４は、第４の誘電層の第１の膜１０２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第４の誘電層の第２の膜１０４は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。一実施例では、第４の誘電層の第２の膜１０４は、スズ酸亜鉛又は酸化亜鉛を含む。一部の実施例では、第１の膜１０２及び第２の膜１０４は、第４の誘電層１００の唯一の膜である。
【0065】
第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、第４の誘電層の第２の膜１０４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含み得る。第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、窒化ケイ素又は酸窒化ケイ素を含む。別の実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第４の誘電層の任意選択の第３の膜１０６は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0066】
非限定的な一実施例は、第４の誘電層の第１の膜１０２が酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含み、第４の誘電層の第２の膜１０４が酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含み、第３の誘電層の第２の膜１０４の少なくとも一部分の上の第４の誘電層の第３の膜１０６が、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。
【0067】
三重金属コーティング３３の第４の誘電層１００は、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～４０ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ～３５ｎｍ、最も好ましくは２７ｎｍ～３１ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。四重金属コーティング３４の第４の誘電層１００は、４５ｎｍ～８０ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～７５ｎｍ、より好ましくは５５ｎｍ～７０ｎｍ、最も好ましくは６０ｎｍ～６５ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0068】
図５、７及び９の四重金属コーティング３４は、追加の層を含む。非限定的な一実施例では、四重金属コーティング３４の第４の誘電層１００は、図面に示されていない、第４の金属層１１２に直接接触して配置されたシード膜を含む。シード膜は、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る。シード膜は、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、亜鉛、銀亜鉛、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。別の実例では、シード膜は、ガリウム亜鉛、インジウム亜鉛、インジウムスズ、その金属、その合金、その酸化物又はその亜酸化物を含み得る。シード膜の非限定例の組成物は、表２に見出すことができる。別の実施例では、シード膜は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、ＳｎｘＩｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、シード膜は、酸素／アルゴンガス環境中で堆積されたＡｇを含む。別の実施例では、シード膜は、ＡｌｘＡｇ１－ｘを含む。非限定的な一実施例では、四重金属コーティング３４の第４の誘電層の第３の膜１０６は、シード膜である。シード膜は、０．５ｎｍ～１０ｎｍ、好ましくは０．７５ｎｍ～８ｎｍ、より好ましくは０．９ｎｍ～６ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。一部の実施例では、第４の誘電層１００は、第１の膜１０２、第２の膜１０４及びシード膜を有する。一部の実施例では、第４の誘電層１００は、第１の膜１０２、第２の膜１０４、第３の膜１０６及びシード膜を含む。
【0069】
四重金属コーティング３４の第４の金属層１１２は、第４の誘電層１００の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第４の金属層１１２は、連続層である。第４の金属層１１２は、第１の金属層５２に関して上記の反射材料の任意の１種又は複数を含み得る。非限定的な一実施例では、四重金属コーティング３４の第４の金属層１１２は、金属銀を含む。四重金属コーティング３４の第４の金属層１１２は、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは４ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは６ｎｍ～１１ｎｍ、最も好ましくは７ｎｍ～１０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0070】
任意選択の第４のプライマー層１１４は、四重金属コーティング３４の第４の金属層１１２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第４のプライマー層１１４は、第１のプライマー層５４に関して上記の材料の任意のものであり得る。非限定的な一実施例では、第４のプライマー層１１４は、チタンを含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、銀亜鉛を含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、亜鉛を含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘを含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、ＡｇｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、ＡｌｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、ＩｎｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、ＧａｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、第４のプライマー層１１４は、ＶｘＺｎ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＡｌｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＡｌｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＷｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＷｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＴｉｘＴａ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＴｉｘＮｂ１－ｘ窒化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＮｂｘＺｒ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＴａｘＷ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＷｘＮｂ１－ｘ酸化物を含む。別の実施例では、四重金属コーティング３４の第４のプライマー層１１４は、ＺｎｘＴｉ１－ｘ酸化物を含む。
【0071】
第４のプライマー層１１４は、０．５ｎｍ～５ｎｍ、好ましくは１．０ｎｍ～２．５ｎｍ、より好ましくは１．５ｎｍ～２．５ｎｍの範囲の総厚さを有する。
【0072】
第５の誘電層１２０は、第４の金属層１１２又は任意選択の第４のプライマー層１１４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第５の誘電層１２０はまた、第１、第２、第３及び第４の誘電層に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。非限定的な一実施例では、第５の誘電層１２０は、第５の誘電層の第１の膜１２２を含む。第５の誘電層の第１の膜１２２は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。一実施例では、第５の誘電層の第１の膜１２２は、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む。
【0073】
第５の誘電層の第２の膜１２４は、第５の誘電層の第１の膜１２２の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第５の誘電層の第２の膜１２４は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含む。第５の誘電層の第２の膜１２４は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。一実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、スズ酸亜鉛又は酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、窒化ケイ素又は酸窒化ケイ素を含む。別の実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第５の誘電層の第２の膜１２４は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0074】
第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、第５の誘電層の第２の膜１２４の少なくとも一部分の上に堆積され得る。第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、チタン、ニオブ、亜鉛、インジウム、スズ、ケイ素、マグネシウム、ガリウム、バナジウム、アルミニウム、その合金、その混合物又はその組合せからなる群から選択される金属の酸化物、窒化物、酸窒化物又はその混合物を含み得る。第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその混合物を含み得る。非限定的な一実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、窒化ケイ素又は酸窒化ケイ素を含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、酸化チタンを含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、アルミニウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、インジウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、ガリウムドープ酸化亜鉛を含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、インジウムドープ酸化スズを含む。別の実施例では、第５の誘電層の任意選択の第３の膜は、バナジウムドープ酸化亜鉛を含む。
【0075】
四重金属コーティング３４の非限定的な一実施例は、第５の誘電層の第１の膜１２２が、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含み、第５の誘電層の第２の膜１２４の少なくとも一部分の上の第５の誘電層の第２の膜１２４が、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含むものである。
【0076】
四重金属コーティング３４の第５の誘電層１２０は、１０ｎｍ～４５ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～４０ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ～３５ｎｍ、最も好ましくは２３ｎｍ～２８ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0077】
非限定的な一実施例では、コーティング３０は、第１、第２、第３及び第４の金属層を含む。金属層は、連続金属層である。金属層は、銀のみ又は銀及び金のみを含み得る。各金属層は厚さを有する。非限定的な一実施例では、四重金属コーティング３４の金属層の合計厚さは、１０ｎｍ～６０ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～５０ｎｍ、最も好ましくは３０ｎｍ～４５ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～４０ｎｍの範囲である。プライマー層がアルミニウム及び亜鉛を含む事例では、四重金属コーティング３４の金属層の総厚さは、１０ｎｍ～６５ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～６０ｎｍ、最も好ましくは４０ｎｍ～５５ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～４５ｎｍの範囲である。
【0078】
三重及び四重金属コーティング３３、３４は、最外側保護層２００を含み得、これは、例えば、図４～７に示される非限定的な実施例では、第４又は第５の誘電層１００、１２０の少なくとも一部分の上に堆積されて、加工の間、金属層などの下にある層を機械的及び化学的攻撃から保護するのを補助する。最外側保護層２００は、加熱又は湾曲の間などに周囲酸素がコーティングの下にある層に移動することを防ぐ又は減らすための酸素バリアコーティング層であり得る。最外側保護層２００は、任意の所望の材料又は材料の混合物のものであってもよく、１つ又は複数の保護膜で構成されてもよい。例示的な一実施例では、最外側保護層２００は、１種又は複数の金属酸化物材料、例えばこれらに限定されないが、アルミニウム、ケイ素又はその混合物の酸化物を含む単一層を含み得る。例えば、最外側保護コーティングは、０ｗｔ％～１００ｗｔ％の範囲のアルミナ及び／又は１００ｗｔ％～０ｗｔ％の範囲のシリカ、例えば５ｗｔ％～９５ｗｔ％のアルミナ及び９５ｗｔ％～５ｗｔ％のシリカ、例えば１０ｗｔ％～９０ｗｔ％のアルミナ及び９０ｗｔ％～１０ｗｔ％のシリカ、例えば１５ｗｔ％～９０ｗｔ％のアルミナ及び８５ｗｔ％～１０ｗｔ％のシリカ、例えば５０ｗｔ％～７５ｗｔ％のアルミナ及び５０ｗｔ％～２５ｗｔ％のシリカ、例えば５０ｗｔ％～７０ｗｔ％のアルミナ及び５０ｗｔ％～３０ｗｔ％のシリカ、例えば３５ｗｔ％～１００ｗｔ％のアルミナ及び６５ｗｔ％～０ｗｔ％のシリカ、例えば７０ｗｔ％～９０ｗｔ％のアルミナ及び３０ｗｔ％～１０ｗｔ％のシリカ、例えば、７５ｗｔ％～８５ｗｔ％のアルミナ及び２５ｗｔ％～１５ｗｔ％のシリカ、例えば８８ｗｔ％のアルミナ及び１２ｗｔ％のシリカ、例えば６５ｗｔ％～７５ｗｔ％のアルミナ及び３５ｗｔ％～２５ｗｔ％のシリカ、例えば７０ｗｔ％のアルミナ及び３０ｗｔ％のシリカ、例えば６０ｗｔ％～７５ｗｔ％未満のアルミナ及び２５ｗｔ％超～４０ｗｔ％のシリカを含む単一コーティング層であり得る。他の材料、例えば、アルミニウム、クロム、ハフニウム、イットリウム、ニッケル、ホウ素、リン、チタン、ジルコニウム及び／又はその酸化物もまた、例えば最外側保護層２００の屈折率を調節するために存在し得る。非限定的な一実施例では、最外側保護層２００の屈折率は、１～３、例えば１～２、例えば１．４～２、例えば１．４～１．８の範囲であり得る。
【0079】
非限定的な一実施例では、最外側保護層２００は、組合せシリカ及びアルミナコーティングである。最外側保護層２００は、２つのカソード（例えば、１つはケイ素及び１つはアルミニウム）から、又はケイ素及びアルミニウムの両方を含有する単一カソードからスパッタリングされ得る。この酸化ケイ素アルミニウム最外側保護層２００は、ＳｉｘＡｌ１－ｘＯ（１．５＋ｘ）／２（式中、ｘは、０超～１未満で変動し得る）と書くことができる。例示的な一実施例では、最外側保護層２００は、１５ｗｔ％のアルミナ及び８５ｗｔ％のシリカを含む。別の実施例では、最外側保護層２００は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＡｌＯ、その合金及びその混合物を含む。
【0080】
非限定的な一実施例では、最外側保護層２００は、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素アルミニウム（ＳｉＡｌＮ）、酸窒化ケイ素アルミニウム（ＳｉＡｌＯＮ）、その混合物及び／又はその合金で構成され、これはコーティング物品の耐久性を増加させ得る。最外側保護層２００は、ケイ素のスパッタリングを改善するための優れた電気伝導性を有する他の材料に堆積された窒化ケイ素で形成され得る。例えば、堆積の間に、ケイ素カソードは、スパッタリングを改善するための少量（例えば、最大２０ｗｔ％、最大１５ｗｔ％、最大１０ｗｔ％又は最大５ｗｔ％）のアルミニウムを含み得る。この場合、得られた窒化ケイ素層は、少パーセンテージのアルミニウム、例えば最大１５ｗｔ％のアルミニウム、例えば最大１０ｗｔ％のアルミニウム、例えば最大５ｗｔ％のアルミニウムを含むと考えられる。最大１０ｗｔ％のアルミニウム（カソードの導電性を高めるために添加された）を有するケイ素カソードから堆積されたコーティング層は、少量のアルミニウムが存在し得るが、本明細書においては「窒化ケイ素」層と呼ぶ。カソード中の少量のアルミニウム（例えば、１５ｗｔ％以下、例えば１０ｗｔ％以下、例えば５ｗｔ％以下）は、主に窒化ケイ素最外側保護層２００中で窒化アルミニウムを形成すると考えられる。最外側保護層２００は窒素雰囲気中で形成され得るが、しかしながら、最外側保護層２００の堆積の間、酸素などの他のガスが雰囲気中に存在してもよいことが理解される。
【0081】
別の非限定的な実施例では、最外側保護層２００は、第１の保護膜２０２及び第１の保護膜２０２の少なくとも一部分の上に形成された第２の保護膜２０４を含む多層コーティングであり得る。第１の保護膜２０２は、アルミナ、シリカ、チタン、ジルコニア、酸化スズ、その合金、その混合物又はその組合せを含み得る。特定の非限定的な一実施例では、第１の保護膜２０２は、アルミナ又はアルミナ及びシリカを含む合金を含み得る。例えば、第１の保護膜２０２は、５ｗｔ％超のアルミナ、例えば１０ｗｔ％超のアルミナ、例えば１５ｗｔ％超のアルミナ、例えば５０ｗｔ％～７０ｗｔ％のアルミナ、例えば、６０ｗｔ％～１００ｗｔ％の範囲のアルミナ及び４０ｗｔ％～０ｗｔ％の範囲のシリカ、例えば、６０ｗｔ％のアルミナ及び４０ｗｔ％のシリカを有するシリカ／アルミナ混合物を含み得る。別の実例では、第１の保護膜２０２は、スズ酸亜鉛を含み得る。別の実例では、第１の保護膜２０２は、ジルコニアを含み得る。
【0082】
第２の保護膜２０４は、例えば、金属酸化物又は金属窒化物を含み得る。第２の保護膜２０４は、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、酸化スズ、その混合物又はその合金であり得る。例えば、第２の保護膜２０４は、４０ｗｔ％～６０ｗｔ％のアルミナ及び６０ｗｔ％～４０ｗｔ％のチタニア；４５ｗｔ％～５５ｗｔ％のアルミナ及び５５ｗｔ％～４５ｗｔ％のチタニア；４８ｗｔ％～５２ｗｔ％のアルミナ及び５２ｗｔ％～４８ｗｔ％のチタニア；４９ｗｔ％～５１ｗｔ％のアルミナ及び５１ｗｔ％～４９ｗｔ％のチタニア；又は５０ｗｔ％のアルミナ及び５０ｗｔ％のチタニアを有するチタニア／アルミナ混合物を含み得る。第２の保護膜２０４の実例は、酸化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＯ）を含み得る。第２の保護膜２０４の別の実例は、４０ｗｔ％超のシリカ、例えば５０ｗｔ％超のシリカ、例えば６０ｗｔ％超のシリカ、例えば、７０ｗｔ％超のシリカ、例えば８０ｗｔ％超のシリカ、例えば、８０ｗｔ％～９０ｗｔ％の範囲のシリカ及び１０ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲のアルミナ、例えば８５ｗｔ％のシリカ及び１５ｗｔ％のアルミナを有するシリカ／アルミナ混合物である。
【0083】
非限定的な実例では、最外側保護層２００は、第２の保護膜２０４の少なくとも一部分の上に形成された追加の第３の保護膜を含み得る。第３の保護膜は、第１及び第２の保護膜２０２、２０４を形成するのに使用された材料の任意のものであり得る。第３の保護膜は、例えば、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ又はその混合物を含み得る。例えば、第３の保護膜は、シリカ及びアルミナの混合物を含み得る。別の実例では、第３の保護膜は、アルミナ及びチタニアを含む。別の実例では、第３の保護膜は、ジルコニアを含む。
【0084】
最外側保護層２００は、コーティングの最外側層である。さらに、最外側層２００は、非均一厚さのものであり得る。「非均一厚さ」とは、最外側保護層２００の厚さが、所与の単位領域で変動し得ることを意味し、例えば、最外側保護層は、高い及び低い点又は領域を有し得る。最外側保護層２００は、２０ｎｍ～１２０ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～１１０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～１００ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～９０ｎｍの総厚さを有し得る。好適な保護層の非限定例は、米国特許出願第１０／００７，３８２号；同第１０／１３３，８０５号；同第１０／３９７，００１号；同第１０／４２２，０９５号；及び同第１０／４２２，０９６号に記載されている。
【0085】
一部の非限定的な実施例では、コーティング物品３０は、光吸収剤をさらに含む。光吸収剤は、色付きガラス、ＰＶＢ、吸収層又はその組合せからなる群から選択される。
【0086】
上記の非限定的な実施例では、追加の任意選択の吸収層１４０は、吸収層１４０が第４の誘電層１００及び任意選択の最外側保護層２００の間に配置される、又は第５の誘電層１２０及び任意選択の最外側保護層２００の間に配置される、又は最外側コーティングとなるように、三重金属コーティング３３の第４の誘電層１００の少なくとも一部分の上（図８）又は四重金属コーティング３４の第５の誘電層１２０の少なくとも一部分の上（図９）に配置され得る。吸収層１４０は、Ｇｅ、ＧｅＯｘ、ＮｂＮｘ、ＮｂＮｘＯｙ、ＳｉａＡｌｂ、ＳｉａＡｌｂＯｘ、ＳｉａＣｏｂ、ＳｉａＣｏｂＯｘ、ＳｉａＣｏｂＣｕｃ、ＳｉａＣｏｂＣｕｃＯｘ、ＳｉａＣｒｂ、ＳｉａＣｒｂＯｘ、ＳｉａＮｉｂ、ＳｉＮｉＯｘ、ＳｉＯｘ、ＳｎＮｘ、ＳｎＯｘ、ＳｎＯｘＮｙ、ＴｉＮｘ、ＴｉａＮｂｂＮｘ、ＴｉａＮｂｂＯｘ、ＴｉａＮｂｂＯｘＮｙ、ＴｉＯｘＮｙ、ＷＯｘ、ＷＯ２、ＺｎＯ：Ｃｏ、ＺｎＯ：Ｆｅ、ＺｎＯ：Ｍｎ、ＺｎＯ：Ｎｉ、ＺｎＯ：Ｖ、ＺｎＯ：Ｃｒ、ＺｎａＳｎｂ、ＺｎａＳｎｂＯｘ又はその任意の組合せからなる群から選択される。非限定的な一実施例では、吸収層１４０は、酸化ケイ素コバルトを含む。吸収層１４０は、１ｎｍ～４０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～３０ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ～２５ｎｍ、最も好ましくは１５ｎｍ～２０ｎｍの範囲の総厚さを有し得る。
【0087】
或いは、吸収層１４０は、未臨界金属膜を含み得る。「未臨界厚さ」という用語は、コーティング材料がコーティング材料の点在する非接触領域を形成する臨界厚さ未満の厚さを意味する。「点在する」という用語は、コーティング材料が連続層ではなく、材料が点在する領域又は島を形成するように堆積されることを意味する。未臨界金属膜の金属は、銀、金、その合金、その混合物又はその組合せを含み得る。非限定的な一実施例では、未臨界金属膜は、銀を含む。未臨界金属膜は、０．５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは１ｎｍ～１０ｎｍ、より好ましくは１．５ｎｍ～３．５ｎｍの範囲の総未臨界厚さを有し得る。
【0088】
別の非限定的な実施例では、任意選択の追加の誘電層１６０は、追加の誘電層１６０が未臨界金属膜及び任意選択の最外側保護層２００の間に配置されるように、未臨界金属膜の少なくとも一部分の上に形成される。任意選択の誘電層１６０は、１つ又は複数の誘電膜を含む上記の通りの多層であり得る。追加の誘電層１６０は、第１、第２、第３、第４及び第５の誘電層４０、６０、８０、１００、１２０に関して上で議論した１種又は複数の材料を含み得る。任意選択の追加の誘電層１６０は、２５ｎｍ～３３ｎｍ、好ましくは２６ｎｍ～３２ｎｍ、より好ましくは２７ｎｍ～３１ｎｍ、最も好ましくは２８ｎｍ～３０ｎｍの範囲の総厚さを含む。
【0089】
一部の非限定的な実施例では、ティンテッドガラスカバープレート若しくはクリアガラスカバープレート１２、１８及び／又はティンテッドＰＶＢ又は非ティンテッドＰＶＢ中間層２４は、３つの要件、すなわち、無彩色のＲｆ、低Ｒｆ及びおよそ８％のＲｇ、並びに車両の前方視野について７０％以上のＬＴＡ値を一致させる試みに利用され得る。
【0090】
本発明の非限定的な一実施では、銀層の厚さ及び／又は数は、０．６～１．５オームパースクエア（Ω／□）、好ましくは０．６～１．０Ω／□、より好ましくは０．６～０．９Ω／□の範囲の総抵抗力（シート抵抗）をコーティングにもたらすように構成される。しかしながら、当業者であれば認識する通り、銀金属層の数又は厚さが増加するにつれて、可視光透過率は減少する。金属層の厚さ及び／又は数は、視野の可視光透過率が約７０％未満に下降する点まで増加されるべきではない。さらに、総銀厚さが厚すぎる場合、ガラスの色が赤色に見え、これは望ましくない。
【0091】
本発明の非限定的な一実施では、コーティングは、２５％以下、例えば、２０％以下、例えば１０％以下、例えば８％以下の可視光反射率を提供する。
【0092】
本発明の非限定的な一実施では、コーティング３０は、１～－２の範囲、例えば、１～－１、好ましくは－０．５～０．５、より好ましくは－０．５～０の範囲、最も好ましくは０の８度角（°）における外（ｅｘｔ）反射ａ＊（Ｒｇ８ａ＊）を提供する。
【0093】
本発明の非限定的な一実施では、コーティング３０は、１～－２の範囲、例えば、１～－１、好ましくは－０．５～０．５、より好ましくは－０．５～０の範囲、最も好ましくは０の８°における外反射ｂ＊（Ｒｇ８ｂ＊）を提供する。
【0094】
本発明は、以下の番号付きの項目でさらに記載される。
【0095】
項目１：第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材；表面の上に適用された機能性コーティングを含むコーティング物品であって、機能性コーティングが、表面の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；第１の金属層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；第２の金属層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層；第３の誘電層の少なくとも一部分の上に第３の金属層；及び第３の金属層の少なくとも一部分の上に第４の誘電層を含み、金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下である、コーティング物品。
【0096】
項目２：金属層の合計厚さが、少なくとも２０ｎｍ且つ４０ナノメートル以下である、項目１のコーティング物品。
【0097】
項目３：金属層の合計厚さが、少なくとも２５ｎｍ且つ３１ナノメートル以下である、項目１のコーティング物品。
【0098】
項目４：８％以下の可視光反射率を有する、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0099】
項目５：少なくとも７０％の可視光透過率を有する、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0100】
項目６：金属層の少なくとも１つが、銀、金、その合金、その混合物又はその組合せのうちの少なくとも１種を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0101】
項目７：金属層の少なくとも１つが銀である、項目６のコーティング物品。
【0102】
項目８：金属層の少なくとも１つが連続層である、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0103】
項目９：第１の金属層が、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１７．５ｎｍ、より好ましくは７ｎｍ～１５ｎｍ、又は最も好ましくは８～１０．５ｎｍの総厚さを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0104】
項目１０：第２の金属層が、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは７．５ｎｍ～１２．５ｎｍ、又は最も好ましくは８．５ｎｍ～１１．５ｎｍの総厚さを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0105】
項目１１：第３の金属層が、１ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～２０ｎｍ、より好ましくは７．５ｎｍ～１５ｎｍ、又は最も好ましくは７．５ｎｍ～１０．５ｎｍの総厚さを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0106】
項目１２：金属層の少なくとも１つの上に形成された少なくとも１つのプライマー層をさらに含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0107】
項目１３：少なくとも１つのプライマー層が、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金からなる群から選択され、プライマーが、金属として堆積され、続いて酸化される、項目１２のコーティング物品。
【0108】
項目１４：少なくとも１つのプライマー層がアルミニウム及び亜鉛を含む場合、金属層の総厚さが、１０ｎｍ～６５ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～５５ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ～４５ｎｍ、又は最も好ましくは２５ｎｍ～３６ｎｍの範囲である、項目１２又は１３のコーティング物品。
【0109】
項目１５：少なくとも１つのプライマー層が、０．５ｎｍ～５ｎｍ、好ましくは１ｎｍ～２．５ｎｍ、又はより好ましくは１．５ｎｍ～２．５ｎｍの総厚さを含む、項目１２又は１３のコーティング物品。
【0110】
項目１６：誘電層の少なくとも１つが、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0111】
項目１７：第１の誘電層が、基材の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その混合物又はその組合せを含む第２の膜を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0112】
項目１８：第２の膜が、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その混合物又はその組合せを含む、項目１７のコーティング物品。
【0113】
項目１９：第１の誘電層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１２ｎｍ～４５ｎｍ、より好ましくは１５ｎｍ～４２ｎｍ、又は最も好ましくは１８ｎｍ～４０ｎｍの総厚さを含む、項目１７又は１８のコーティング物品。
【0114】
項目２０：第１の誘電層が、第１の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0115】
項目２１：第２の誘電層が、第１のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛を含む第２の膜、及び第２の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その混合物又はその組合せを含む第３の膜を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0116】
項目２２：第２の誘電層が、４０ｎｍ～１１０ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～１００ｎｍ、より好ましくは５５ｎｍ～８０ｎｍ、又は最も好ましくは６７ｎｍ～７６ｎｍの総厚さを含む、項目２１のコーティング物品。
【0117】
項目２３：第２の誘電層が、第２の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0118】
項目２４：第３の誘電層が、第２のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛又は酸化亜鉛を含む第２の膜、及び第２の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その混合物又はその組合せを含む第３の膜を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0119】
項目２５：第３の誘電層が、４０ｎｍ～１１０ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～１００ｎｍ、より好ましくは６５ｎｍ～８０ｎｍ、又は最も好ましくは７１ｎｍ～７５ｎｍの総厚さを含む、項目２４のコーティング物品。
【0120】
項目２６：第３の誘電層が、第３の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0121】
項目２７：第４の誘電層が、第３のプライマー層の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、スズ酸亜鉛又は酸化亜鉛を含む第２の膜、及び第２の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ又はその組合せを含む第３の膜を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0122】
項目２８：第４の誘電層が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～４０ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ～３５ｎｍ、又は最も好ましくは２７ｎｍ～３１ｎｍの総厚さを含む、項目２７のコーティング物品。
【0123】
項目２９：保護層を含む最外側保護コーティングをさらに含み、保護層が、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、その合金、その混合物又はその組合せのうちの少なくとも１種を含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0124】
項目３０：最外側保護層が、１５ｎｍ～１２０ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～１１０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～１００ｎｍ、又は最も好ましくは２０ｎｍ～９０ｎｍの総厚さを含む、項目２９のコーティング物品。
【0125】
項目３１：最外側保護層が、第１の保護膜及び第１の保護膜の上に形成された第２の保護膜を含む、項目２９又は３０のコーティング物品。
【0126】
項目３２：最外側保護層が、酸化ケイ素アルミニウム、酸化チタニウムアルミニウム、その混合物又はその組合せを含む、項目２９～３１のコーティング物品。
【0127】
項目３３：色付きガラス、ポリビニルブチラール（「ＰＶＢ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ｂｕｔｙｒａｌ」）、吸収層又はその組合せからなる群から選択される光吸収剤をさらに含む、先行する項目のいずれかのコーティング物品。
【0128】
項目３４：吸収層が、第４の誘電層の少なくとも一部分の上に形成される、項目３３のコーティング物品。
【0129】
項目３５：吸収層が、Ｇｅ、ＧｅＯｘ、ＮｂＮｘ、ＮｂＮｘＯｙ、ＳｉａＡｌｂ、ＳｉａＡｌｂＯｘ、ＳｉａＣｏｂ、ＳｉａＣｏｂＯｘ、ＳｉａＣｏｂＣｕｃ、ＳｉａＣｏｂＣｕｃＯｘ、ＳｉａＣｒｂ、ＳｉａＣｒｂＯｘ、ＳｉａＮｉｂ、ＳｉＮｉＯｘ、ＳｉＯｘ、ＳｎＮｘ、ＳｎＯｘ、ＳｎＯｘＮｙ、ＴｉＮｘ、ＴｉａＮｂｂＮｘ、ＴｉａＮｂｂＯｘ、ＴｉａＮｂｂＯｘＮｙ、ＴｉＯｘＮｙ、ＷＯｘ、ＷＯ２、ＺｎＯ：Ｃｏ、ＺｎＯ：Ｆｅ、ＺｎＯ：Ｍｎ、ＺｎＯ：Ｎｉ、ＺｎＯ：Ｖ、ＺｎＯ：Ｃｒ、ＺｎａＳｎｂ、ＺｎａＳｎｂＯｘ又はその任意の組合せからなる群から選択される、項目３４のコーティング物品。
【0130】
項目３６：吸収層が酸化ケイ素コバルトを含む、項目３５のコーティング物品。
【0131】
項目３７：吸収層が、１ｎｍ～４０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～３０ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ～２５ｎｍ、又は最も好ましくは１５ｎｍ～２０ｎｍの総厚さを含む、項目３５又は３６のコーティング物品。
【0132】
項目３８：吸収層が未臨界金属膜である、項目３４のコーティング物品。
【0133】
項目３９：未臨界金属膜が、銀、金、その合金、その混合物又はその組合せを含む、項目３８のコーティング物品。
【0134】
項目４０：未臨界金属膜が銀を含む、項目３８又は３９のコーティング物品。
【0135】
項目４１：未臨界金属膜が、０．５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは１ｎｍ～１０ｎｍ、又はより好ましくは１．５ｎｍ～３．５ｎｍの総厚さを含む、項目３８～４０のいずれかのコーティング物品。
【0136】
項目４２：追加の誘電層が、未臨界金属膜の少なくとも一部分の上に形成される、項目３８のコーティング物品。
【0137】
項目４３：未臨界金属膜の少なくとも一部分の上に形成される追加の誘電層が、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む、項目４２のコーティング物品。
【0138】
項目４４：未臨界金属膜の少なくとも一部分の上に形成される追加の誘電層が、２５ｎｍ～３３ｎｍ、好ましくは２６ｎｍ～３２ｎｍ、より好ましくは２７ｎｍ～３１ｎｍ、最も好ましくは２８ｎｍ～３０ｎｍの範囲の総厚さを含む、項目４２又は４３のコーティング物品。
【0139】
項目４５：第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材；表面の上に適用された機能性コーティングを含むコーティング物品であって、機能性コーティングが、表面の少なくとも一部分の上に第１の誘電層；第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層；第１の金属層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層；第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層；第２の金属層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層；第３の誘電層の少なくとも一部分の上に第３の金属層；第３の金属層の少なくとも一部分の上に第４の誘電層；第４の誘電層の少なくとも一部分の上に第４の金属層；及び第４の金属層の少なくとも一部分の上に第５の誘電層を含み、金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下である、コーティング物品。
【0140】
項目４６：金属層の合計厚さが、少なくとも３０ｎｍ且つ４５ナノメートル以下である、項目４５のコーティング物品。
【0141】
項目４７：金属層の合計厚さが、少なくとも３５ｎｍ且つ４０ナノメートル以下である、項目４５のいずれかのコーティング物品。
【0142】
項目４８：８％以下の可視光反射率を有する、項目４５～４７のいずれかのコーティング物品。
【0143】
項目４９：少なくとも７０％の可視光透過率を有する、項目４５～４８のいずれかのコーティング物品。
【0144】
項目５０：金属層の少なくとも１つが、銀、金、その合金、その混合物又はその組合せのうちの少なくとも１種を含む、項目４５～４９のいずれかのコーティング物品。
【0145】
項目５１：金属層の少なくとも１つが銀である、項目４５～５０のいずれかのコーティング物品。
【0146】
項目５２：金属層の少なくとも１つが連続層である、項目４５～５１のいずれかのコーティング物品。
【0147】
項目５３：第１の金属層が、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは６ｎｍ～１８ｎｍ、より好ましくは９ｎｍ～１２ｎｍ、又は最も好ましくは９．５ｎｍ～１０ｎｍの総厚さを含む、項目４５～５２のいずれかのコーティング物品。
【0148】
項目５４：第２の金属層が、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは６ｎｍ～１８ｎｍ、より好ましくは８ｎｍ～１５ｎｍ、又は最も好ましくは９ｎｍ～１２ｎｍの総厚さを含む、項目４５～５３のいずれかのコーティング物品。
【0149】
項目５５：第３の金属層が、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは６ｎｍ～１８ｎｍ、より好ましくは８ｎｍ～１５ｎｍ、又は最も好ましくは９ｎｍ～１２ｎｍの総厚さを含む、項目４５～５４のいずれかのコーティング物品。
【0150】
項目５６：第４の金属層が、２ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは４ｎｍ～１５ｎｍ、より好ましくは６ｎｍ～１１ｎｍ、又は最も好ましくは７ｎｍ～１０ｎｍの総厚さを含む、項目４５～４７のいずれかのコーティング物品。
【0151】
項目５７：金属層の少なくとも１つの上に形成された少なくとも１つのプライマー層をさらに含む、項目４５～５６のいずれかのコーティング物品。
【0152】
項目５８：少なくとも１つのプライマー層の１つが、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、タングステン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、マンガン、クロム、スズ、ニッケル、ゲルマニウム、マグネシウム、モリブデン、銀、ケイ素炭素、アルミニウムドープ銀、アルミニウム亜鉛、バナジウム亜鉛、タングステンタンタル、チタンニオブ、ジルコニウムニオブ、タングステンニオブ、アルミニウムニオブ、アルミニウムチタン、タングステンチタン、タンタルチタン、亜鉛チタン、アルミニウム銀、亜鉛スズ、インジウム亜鉛、銀亜鉛、その混合物、その組合せ又はその任意の合金又はその合金からなる群から選択され、プライマーが、金属として堆積され、続いて酸化される、項目５７のコーティング物品。
【0153】
項目５９：少なくとも１つのプライマー層がアルミニウム及び亜鉛を含む場合、金属層の総厚さが、１０ｎｍ～６５ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～６０ｎｍ、より好ましくは４０ｎｍ～５５ｎｍ、最も好ましくは３５ｎｍ～４５ｎｍの範囲である、５７又は５８のコーティング物品。
【0154】
項目６０：誘電層の少なくとも１つが、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズを含む、項目４５～５９のいずれかのコーティング物品。
【0155】
項目６１：第１の誘電層が、２０ｎｍ～５５ｎｍ、好ましくは２５ｎｍ～５０ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～４５ｎｍ、又は最も好ましくは３５ｎｍ～４０ｎｍの総厚さを含む、項目４５～６０のいずれかのコーティング物品。
【0156】
項目６２：第２の誘電層が、６０ｎｍ～１００ｎｍ、好ましくは６５ｎｍ～９５ｎｍ、より好ましくは７０ｎｍ～９０ｎｍ、又はより好ましくは７４ｎｍ～８０ｎｍの総厚さを含む、項目４５～６１のいずれかのコーティング物品。
【0157】
項目６３：第３の誘電層が、５５ｎｍ～９０ｎｍ、好ましくは６０ｎｍ～８５ｎｍ、より好ましくは６８ｎｍ～８０ｎｍ、又は最も好ましくは７０ｎｍ～７５ｎｍの総厚さを含む、項目４５～６２のいずれかのコーティング物品。
【0158】
項目６４：第４の誘電層が、第４の金属層と直接接触したシード膜を含み、シード膜が、アルミニウム、アルミニウム銀、アルミニウム亜鉛、亜鉛、亜鉛スズ、ゲルマニウム、ニッケル、マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、インジウム亜鉛、バナジウム亜鉛、ガリウム亜鉛、インジウムスズ、ニオブ、ジルコニウム、タンタル、モリブデン、アルミニウムドープ銀、銀、銀亜鉛、チタンアルミニウム、その合金、その混合物、その酸化物、その亜酸化物、その窒化物、その亜窒化物又はその組合せを含み得る、項目４５～６３のいずれかのコーティング物品。
【0159】
項目６５：第４の誘電層が、４５ｎｍ～８０ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～７５ｎｍ、より好ましくは５５ｎｍ～７０ｎｍ、又は最も好ましくは６０ｎｍ～６５ｎｍの総厚さを含む、項目６４のコーティング物品。
【0160】
項目６６：第５の誘電層が、第４のプライマー層の少なくとも一部分の上に形成された、酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛を含む第１の膜、及び第１の膜の少なくとも一部分の上に、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、マグネシウムドープ酸化亜鉛、バナジウムドープ酸化亜鉛又はインジウムドープ酸化スズ、その混合物又はその組合せを含む第２の膜を含む、項目４５～６５のいずれかのコーティング物品。
【0161】
項目６７：第５の誘電層が、１０ｎｍ～４５ｎｍ、好ましくは１５ｎｍ～４０ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ～３５ｎｍ、又は最も好ましくは２３ｎｍ～２８ｎｍの総厚さを含む、項目６６のコーティング物品。
【0162】
項目６８：保護層を含む最外側保護コーティングをさらに含み、保護層が、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、その合金又はその混合物のうちの少なくとも１種を含む、項目４５～６７のいずれかのコーティング物品。
【0163】
項目６９：最外側保護層が、第１の保護膜及び第１の保護膜の上に形成された第２の保護膜を含む、項目６８のコーティング物品。
【0164】
項目７０：最外側保護層が、酸化ケイ素アルミニウム又は酸化チタンアルミニウムの保護膜を含む、項目６８又は６９のコーティング物品。
【0165】
項目７１：色付きガラス、ＰＶＢ、吸収層又はその組合せからなる群から選択される光吸収剤をさらに含む、項目４５～７０のいずれかのコーティング物品。
【0166】
項目７２：第５の誘電層の少なくとも一部分の上に形成された吸収層をさらに含む、項目７１のコーティング物品。
【0167】
項目７３：吸収層が、Ｇｅ、ＧｅＯｘ、ＮｂＮｘ、ＮｂＮｘＯｙ、ＳｉａＡｌｂ、ＳｉａＡｌｂＯｘ、ＳｉａＣｏｂ、ＳｉａＣｏｂＯｘ、ＳｉａＣｏｂＣｕｃ、ＳｉａＣｏｂＣｕｃＯｘ、ＳｉａＣｒｂ、ＳｉａＣｒｂＯｘ、ＳｉａＮｉｂ、ＳｉＮｉＯｘ、ＳｉＯｘ、ＳｎＮｘ、ＳｎＯｘ、ＳｎＯｘＮｙ、ＴｉＮｘ、ＴｉａＮｂｂＮｘ、ＴｉａＮｂｂＯｘ、ＴｉａＮｂｂＯｘＮｙ、ＴｉＯｘＮｙ、ＷＯｘ、ＷＯ２、ＺｎＯ：Ｃｏ、ＺｎＯ：Ｆｅ、ＺｎＯ：Ｍｎ、ＺｎＯ：Ｎｉ、ＺｎＯ：Ｖ、ＺｎＯ：Ｃｒ、ＺｎａＳｎｂ、ＺｎａＳｎｂＯｘ又はその任意の組合せからなる群から選択される、項目７２のコーティング物品。
【0168】
項目７４：吸収層が酸化ケイ素コバルトを含む、項目７３のコーティング物品。
【0169】
項目７５：吸収層が未臨界金属膜である、項目７２のコーティング物品。
【0170】
項目７６：未臨界金属膜が、銀、金、その合金、その混合物又はその組合せを含む、項目７５のコーティング物品。
【0171】
項目７７：未臨界金属膜が銀を含む、項目７５又は７６のコーティング物品。
【0172】
項目７８：追加の誘電層が、未臨界金属膜の少なくとも一部分の上に形成される、項目７５～７７のいずれかのコーティング物品。
【0173】
項目８０：コーティング物品を作製する方法であって、第１の表面及び第１の表面の反対側の第２の表面を含む基材を用意するステップ；並びに表面の少なくとも一部分の上に機能性コーティングを適用するステップであって、表面の少なくとも一部分の上に第１の誘電層を形成すること；第１の誘電層の少なくとも一部分の上に第１の金属層を形成すること；第１の金属層の少なくとも一部分の上に第２の誘電層を形成すること；第２の誘電層の少なくとも一部分の上に第２の金属層を形成すること；第２の金属層の少なくとも一部分の上に第３の誘電層を形成すること；第３の誘電層の少なくとも一部分の上に第３の金属層を形成すること；及び第３の金属層の少なくとも一部分の上に第４の誘電層を形成することを含むステップを含み、金属層の合計厚さが、少なくとも１０ナノメートル且つ６０ナノメートル以下である、方法。
【0174】
項目８１：機能性コーティングを適用するステップが、第４の誘電層の少なくとも一部分の上に第４の金属層を形成すること、及び第４の金属層の少なくとも一部分の上に第５の誘電層を形成することをさらに含み、オーバーコートが、第５の誘電層の少なくとも一部分の上である、項目８０の方法。
【0175】
項目８２：最外側保護コーティングをさらに適用し、最外側保護コーティングを適用するステップが、保護層を含む最外側保護層を形成することを含み、保護層が、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＯＮ、チタニア、アルミナ、シリカ又はジルコニアのうちの少なくとも１種を含む、項目８０又は８１の方法。
【0176】
「実例」
以下の実例は、本発明の種々の実施例を例示する。しかしながら、本発明は、これらの特定の実施例に限定されないことが理解される。
以下の実例は、本発明の種々の実施例を例示する。しかしながら、本発明は、これらの特定の実施例に限定されないことが理解される。
【0177】
「実例１」
表３は、本発明の例示的なコーティング組成物及び三重金属コーティングの厚さを示す。報告される厚さは、別途述べない限り、ナノメートル（ｎｍ）単位の幾何学厚さである。基材は、厚さ２．１ｍｍであり、基材の上に配置された１．６ｍｍクリアカバーを有するクリアガラス基材である。０．７ｍｍ ＰＶＢ中間層を利用する。基層は第１の誘電層であり、中心基層は第２の誘電層であり、中心上層は第３の誘電層であり、上層は第４の誘電層である。
表３は、本発明の例示的なコーティング組成物及び三重金属コーティングの厚さを示す。報告される厚さは、別途述べない限り、ナノメートル（ｎｍ）単位の幾何学厚さである。基材は、厚さ２．１ｍｍであり、基材の上に配置された１．６ｍｍクリアカバーを有するクリアガラス基材である。０．７ｍｍ ＰＶＢ中間層を利用する。基層は第１の誘電層であり、中心基層は第２の誘電層であり、中心上層は第３の誘電層であり、上層は第４の誘電層である。
【表3】
【0178】
表４及び５は、表３のサンプルについて得られた色及び光学特性をそれぞれ示す。
【表4】
【表5】
【0179】
「実例２」
日射透過率（ＴＴｓ）又は日射の総透過エネルギーは、実例１の三重金属コーティングについて所望されるもの（４９～５０％）よりも高かった。高ＴＴｓ値は、およそ５０％の日射エネルギーが基材を通して透過され、望ましくない熱の発生につながることを示した。表６は、本発明の例示的なコーティング組成物及び三重金属コーティングの厚さ（ｎｍ）を示し、ティンテッドカバーを、透過日射を低減し、一方、３つの特性要件（無彩色Ｒｆ、低Ｒｆ及びＲｇ（８％）、並びに７０％以上のＬＴＡ）を一致させる試みに利用した。Ｓｏｌｅｘ、Ａｔｌａｎｔｉｃａ ＳＧＮ－Ｃ４、Ｃａｒｉｂｉａ、Ａｚｕｒｉａ及びＴｉｎｔｅｓ－Ｐ－Ｌは、クリアガラスよりも緑がかっており、したがって、より吸収性である。
日射透過率（ＴＴｓ）又は日射の総透過エネルギーは、実例１の三重金属コーティングについて所望されるもの（４９～５０％）よりも高かった。高ＴＴｓ値は、およそ５０％の日射エネルギーが基材を通して透過され、望ましくない熱の発生につながることを示した。表６は、本発明の例示的なコーティング組成物及び三重金属コーティングの厚さ（ｎｍ）を示し、ティンテッドカバーを、透過日射を低減し、一方、３つの特性要件（無彩色Ｒｆ、低Ｒｆ及びＲｇ（８％）、並びに７０％以上のＬＴＡ）を一致させる試みに利用した。Ｓｏｌｅｘ、Ａｔｌａｎｔｉｃａ ＳＧＮ－Ｃ４、Ｃａｒｉｂｉａ、Ａｚｕｒｉａ及びＴｉｎｔｅｓ－Ｐ－Ｌは、クリアガラスよりも緑がかっており、したがって、より吸収性である。
【表6】
【0180】
表７及び８は、表６のサンプルについて得られた色及び光学特性をそれぞれ示す。
【表7】
【表8】
【0181】
「実例３」
表９は、本発明の例示的なコーティング組成物及び三重金属コーティングの厚さ（ｎｍ）を示し、酸化ケイ素コバルト（ＳｉＣｏＯｘ）又は未臨界金属膜吸収層をコーティングに付加した。サンプル７のＳｉＣｏＯｘ吸収層は、第４の誘電層及び最外側保護層の第１の保護膜の間に配置した。サンプル８の銀を含む未臨界金属膜は、第４の誘電層及び既に記載した追加の誘電層の間に配置した。吸収層を、透過日照をさらに低減し、一方、３つの特性要件（無彩色Ｒｆ、低Ｒｆ及びＲｇ（８％）、並びに７０％以上のＬＴＡ）を一致させる試みにおいて、ティンテッドガラスカバーと組み合わせて利用した。
表９は、本発明の例示的なコーティング組成物及び三重金属コーティングの厚さ（ｎｍ）を示し、酸化ケイ素コバルト（ＳｉＣｏＯｘ）又は未臨界金属膜吸収層をコーティングに付加した。サンプル７のＳｉＣｏＯｘ吸収層は、第４の誘電層及び最外側保護層の第１の保護膜の間に配置した。サンプル８の銀を含む未臨界金属膜は、第４の誘電層及び既に記載した追加の誘電層の間に配置した。吸収層を、透過日照をさらに低減し、一方、３つの特性要件（無彩色Ｒｆ、低Ｒｆ及びＲｇ（８％）、並びに７０％以上のＬＴＡ）を一致させる試みにおいて、ティンテッドガラスカバーと組み合わせて利用した。
【表9】
【0182】
表１０及び１１は、表９のサンプルについて得られた色及び光学特性をそれぞれ示す。
【表10】
【表11】
【0183】
「実例４」
表１２は、三重金属コーティングの例示的な積層組成物を示し、クリア又はティンテッドＰＶＢ中間層を、ティンテッド又はクリアガラスカバー及びガラス基材と組み合わせて利用する。利用した三重金属コーティングは、実例１、表３で上記されている。
表１２は、三重金属コーティングの例示的な積層組成物を示し、クリア又はティンテッドＰＶＢ中間層を、ティンテッド又はクリアガラスカバー及びガラス基材と組み合わせて利用する。利用した三重金属コーティングは、実例１、表３で上記されている。
【表12】
【0184】
表１３は、ティンテッド又は非ティンテッドＰＶＢ及びティンテッド又は非ティンテッドガラスカバーを有するクリアガラス基材への三重金属コーティングの色及び光学特性を示す。
【表13】
【0185】
「実例５」
表１４は、本発明の例示的なコーティング組成物及び四重金属コーティングの厚さ（ｎｍ）を示す。ここで、基層は第１の誘電層であり、中心基層は第２の誘電層であり、中心層は第３の誘電層であり、中心上層は第４の誘電層であり、上層は第５の誘電層である。四重金属コーティングを、透過日照をさらに低減し、一方、３つの特性要件（無彩色Ｒｆ、低Ｒｆ及びＲｇ（８％）、並びに７０％以上のＬＴＡ）を一致させる試みに利用した。
表１４は、本発明の例示的なコーティング組成物及び四重金属コーティングの厚さ（ｎｍ）を示す。ここで、基層は第１の誘電層であり、中心基層は第２の誘電層であり、中心層は第３の誘電層であり、中心上層は第４の誘電層であり、上層は第５の誘電層である。四重金属コーティングを、透過日照をさらに低減し、一方、３つの特性要件（無彩色Ｒｆ、低Ｒｆ及びＲｇ（８％）、並びに７０％以上のＬＴＡ）を一致させる試みに利用した。
【表14】
【0186】
表１５及び１６は、表１４のサンプルについて得られた色及び光学特性をそれぞれ示す。
【表15】
【表16】
【0187】
ガラス基材への四重金属コーティングは、三重金属コーティングの実例１～４（１．３～１．４Ω／□シート抵抗）のいずれよりも電導性（０．８６Ω／□シート抵抗）である。したがって、四重金属コーティングの日射性能及び低エネルギー特性は、三重金属コーティングよりも優れている。四重金属コーティングを形成する場合、色付きガラスは必要ではない。
【0188】
当業者であれば、前述の記載に開示される概念から逸脱することなく、本発明に修正がなされ得ることを容易に認識するであろう。したがって、本明細書に詳細に記載される特定の実施例は、例示に過ぎず、本発明の範囲を限定せず、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲の全幅及び任意且つすべてのその等価物において示される。
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【国際調査報告】