特表2022-532755低誘電率膜及びその製造方法

発明の名称　低誘電率膜及びその製造方法

出願人　チャンスー フェイヴァード ナノテクノロジー カンパニー リミテッド　（識別番号 521497279）

　　　　特許公開件数ランキング 30465 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 4082 位（3件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2022-532755

公報発行日　2022年7月19

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2022-532755

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