(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-09-29
(54)【発明の名称】低インダクタンス構成要素
(51)【国際特許分類】
H01G 4/30 20060101AFI20220921BHJP
H01G 4/40 20060101ALI20220921BHJP
H01G 4/228 20060101ALI20220921BHJP
【FI】
H01G4/30 201H
H01G4/30 201C
H01G4/40 310A
H01G4/30 311Z
H01G4/30 517
H01G4/228 J
H01G4/228 W
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2021563204
(86)(22)【出願日】2020-04-17
(85)【翻訳文提出日】2021-12-14
(86)【国際出願番号】 US2020028748
(87)【国際公開番号】W WO2020219359
(87)【国際公開日】2020-10-29
(32)【優先日】2019-04-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】500047848
【氏名又は名称】キョーセラ・エイブイエックス・コンポーネンツ・コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100118902
【氏名又は名称】山本 修
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100196508
【氏名又は名称】松尾 淳一
(74)【代理人】
【識別番号】100162846
【氏名又は名称】大牧 綾子
(72)【発明者】
【氏名】カーク,マイケル・ダブリュー
(72)【発明者】
【氏名】ベロリーニ,マリアンヌ
【テーマコード(参考)】
5E001
5E082
【Fターム(参考)】
5E001AB03
5E001AC02
5E001AC06
5E001AC08
5E001AF02
5E001AJ03
5E082AB03
5E082BC14
5E082CC03
5E082DD04
5E082EE04
5E082EE23
5E082EE35
5E082FF05
5E082FG04
5E082FG26
5E082FG46
5E082GG08
5E082HH27
5E082LL01
5E082LL15
5E082PP01
5E082PP09
(57)【要約】
低インダクタンス構成要素は、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、少なくとも1つの接地端子、および、第1のアクティブ端子と第2のアクティブ端子との間に直列に接続された一対のコンデンサを含む多層モノリシックデバイスを含み得る。リードは、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、および/または少なくとも1つの接地端子と結合され得る。リードは、それぞれの長さおよび最大幅を有し得る。リードのそれぞれの最大幅に対する長さの比は、約20未満であり得る。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、少なくとも1つの接地端子、および、前記第1のアクティブ端子と前記第2のアクティブ端子との間に直列に接続された一対のコンデンサを備える多層モノリシックデバイスと、
前記第1のアクティブ端子、前記第2のアクティブ端子、または前記少なくとも1つの接地端子のうちの少なくとも1つの端子と結合された少なくとも1つのリードとを備え、前記少なくとも1つのリードは、長さおよび最大幅を有し、前記少なくとも1つのリードの前記最大幅に対する前記長さの比は、約20未満である、低インダクタンス構成要素。
【請求項2】
前記少なくとも1つのリードは、ほぼ長方形の断面を有し、前記ほぼ長方形の断面は、第1の方向に前記最大幅を有し、前記第1の方向に垂直である第2の方向に最小幅を有する、請求項1に記載の低インダクタンス構成要素。
【請求項3】
前記最小幅に対する前記最大幅の比が、約2より大きい、請求項2に記載の低インダクタンス構成要素。
【請求項4】
前記少なくとも1つのリードは、それぞれ前記第1のアクティブ端子、前記第2のアクティブ端子、および前記少なくとも1つの接地端子と接続された、第1のアクティブリード、第2のアクティブリード、および少なくとも1つの接地リードを備える、請求項1に記載の低インダクタンス構成要素。
【請求項5】
第1の外部バリスタ端子および第2の外部バリスタ端子を備えるディスクリートバリスタをさらに備え、前記少なくとも1つのリードは、前記第1のアクティブ端子および前記第1の外部バリスタ端子の各々と結合された第1のリードを備える、請求項1に記載の低インダクタンス構成要素。
【請求項6】
前記少なくとも1つのリードは、複数の織り込まれた細長い導電性部材を備える、請求項1に記載の低インダクタンス構成要素。
【請求項7】
前記多層モノリシックデバイスはさらに、
複数の誘電体層を備える本体と、
前記本体内に配置され、前記第1のアクティブ端子と接続される第1の複数の電極層と、
前記本体内に配置され、前記第2のアクティブ端子と接続される第2の複数の電極層と、
前記少なくとも1つの接地端子と接続される第3の複数の電極層であって、前記第1の複数の電極層および前記第2の複数の電極層の各々と容量結合され、前記第1の複数の電極層と前記第3の複数の電極層との間に、前記第1のコンデンサを、前記第2の複数の電極層と前記第3の複数の電極層との間に、前記第2のコンデンサを形成する、第3の複数の電極層とを備える、請求項1に記載の構成要素。
【請求項8】
前記第3の複数の電極層は、全体的に十字形状である、請求項7に記載の構成要素。
【請求項9】
前記少なくとも1つの接地端子は、第1の接地端子および第2の接地端子を備える、請求項7に記載の構成要素。
【請求項10】
前記第3の複数の電極層の各々は、一対の対向するエッジを備え、前記対向するエッジのうちの一方は、前記第1の接地端子と接続され、前記対向するエッジのうちの他方は、前記第2の接地端子と接続される、請求項9に記載の構成要素。
【請求項11】
前記第1の接地端子は、前記第2の接地端子の反対側に位置する、請求項9に記載の構成要素。
【請求項12】
前記第1のコンデンサは、第1の静電容量を有し、前記第2のコンデンサは、前記第1の静電容量にほぼ等しい第2の静電容量を有する、請求項1に記載の構成要素。
【請求項13】
前記第1の静電容量または前記第2の静電容量のうちの少なくとも一方は、約10nFから約3μFの範囲である、請求項1に記載の構成要素。
【請求項14】
前記第3の複数の電極層は、第1のオーバラップ領域に沿って前記第1の複数の電極層とオーバラップし、
前記第3の複数の電極層は、前記第1のオーバラップ領域にほぼ等しい第2のオーバラップ領域に沿って、前記第2の複数の電極層とオーバラップする、請求項1に記載の構成要素。
【請求項15】
前記ディスクリートバリスタは、前記多層モノリシックデバイスに対して積み重ねられる、請求項1に記載の構成要素。
【請求項16】
前記ディスクリートバリスタおよび多層モノリシックデバイスをカプセル化するオーバモールド層をさらに備える、請求項1に記載の構成要素。
【請求項17】
前記モノリシック本体の厚さに対する前記電極の積み重ねの厚さの比は、約0.4よりも大きい、請求項1に記載の構成要素。
【請求項18】
前記第1の外部端子と接続された第4の複数の電極と、前記第2の外部端子と接続され、前記第4の複数の電極とインタリーブされて第3のコンデンサを形成する第5の複数の電極とをさらに備える、請求項1に記載の構成要素。
【請求項19】
低インダクタンス構成要素を形成するための方法であって、
一対のコンデンサを形成する電極を含む多層モノリシックデバイス本体を提供するステップと、
前記一対のコンデンサが、第1のアクティブ端子と第2のアクティブ端子との間に直列に接続されるように、前記多層モノリシックデバイス本体の外部に、前記第1のアクティブ端子、前記第2のアクティブ端子、および少なくとも1つの接地端子を形成するステップと、
少なくとも1つのリードを、前記第1のアクティブ端子、前記第2のアクティブ端子、または前記少なくとも1つの接地端子のうちの少なくとも1つの端子と接続するステップとを備え、前記少なくとも1つのリードは、長さおよび最大幅を有し、前記少なくとも1つのリードの前記幅に対する前記長さの比は、約20未満である、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
[001]本出願は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、出願日が2019年4月25日である米国仮特許出願第62/838,421号の出願利益を主張する。
【背景技術】
【0002】
[002]しばらくの間、様々な電子構成要素の設計は、機能の向上だけではなく、小型化への一般的な業界の傾向によって推進されてきた。多層セラミックコンデンサやバリスタなどの多層セラミックデバイスは、複数の誘電体電極層で構成される場合がある。製造中に、層はプレスされ、垂直に積み重ねられた構造に形成され得る。多層セラミックデバイスは、単一のコンデンサまたは複数のコンデンサを含むことができる。そのようなデバイスには、他の電気構成要素と接続するためのリード線(lead wire)を設けることができる。しかしながら、リード線は、構成要素の全体的なインダクタンスを望ましくないほど増加させる自己インダクタンスを示す。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0003】
[003]本発明の1つの実施形態によれば、低インダクタンス構成要素は、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、少なくとも1つの接地端子、および、第1のアクティブ端子と第2のアクティブ端子との間に直列に接続された一対のコンデンサを含む、多層モノリシックデバイスを含み得る。リードは、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、および/または少なくとも1つの接地端子と結合され得る。リードは、それぞれの長さおよび最大幅を有し得る。リードのそれぞれの最大幅に対する長さの比は、約20未満であり得る。
【0004】
[004]本発明の別の実施形態によれば、低インダクタンス構成要素を形成するための方法は、一対のコンデンサを形成する電極を含む多層モノリシックデバイス本体を提供することと、一対のコンデンサが、第1のアクティブ端子と第2のアクティブ端子との間に直列に接続されるように、多層モノリシックデバイス本体の外部に、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、および少なくとも1つの接地端子を形成することと、少なくとも1つのリードを、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、または少なくとも1つの接地端子のうちの少なくとも1つの端子と接続することとを含み得、少なくとも1つのリードは、長さおよび最大幅を有し、少なくとも1つのリードの幅に対する長さの比は、約20未満である。
【0005】
[005]本発明の他の特徴および態様は、以下でより詳細に論じられる。
[006]当業者に向けられた、そのベストモードを含む、本開示の主題の完全かつ有効な開示は、以下の添付図面を参照して本明細書に記載される。
【図面の簡単な説明】
【0006】
【
図1A】[007]本開示の主題による、リードを含む低インダクタンス構成要素の例示的な実施形態の外部斜視図である。
【
図1B】[008]本開示の態様による、
図1Aのデバイスのリードの別の実施形態を示す図である。
【
図2】[009]本開示の主題による、ディスクリートバリスタ(discrete varistor)を含む低インダクタンス構成要素の別の実施形態の外部斜視図である。
【
図3A】[0010]本開示の主題の態様による、
図1Aの構成要素の第1の電極層を示す図である。
【
図3B】本開示の主題の態様による、
図1Aの構成要素の第2の電極層を示す図である。
【
図3C】[0011]
図3Aの第1の電極層および
図3Bの第2の電極層を含む電極の積み重ね(stack-up)を示す図である。
【
図3E】[0013]
図2のデバイスの概略図である。
【
図4A】[0014]本開示の態様による、低インダクタンス構成要素の別の実施形態の電極構成の第1の電極層を示す図である。
【
図4B】本開示の態様による、低インダクタンス構成要素の別の実施形態の電極構成の第2の電極層を示す図である。
【
図4C】[0015]
図4Aの第1の電極層および
図4Bの第2の電極層を含む電極の積み重ねを示す図である。
【
図5A】[0016]
図3Aから
図4Cを参照して上記で説明された電極構成と比較した、追加のコンデンサを含む追加の電極構成を示す図である。
【
図5B】[0017]
図3Aから
図4Cを参照して上記で説明された電極構成と比較した、追加のコンデンサを含む別の追加の電極構成を示す図である。
【
図7】[0020]本開示の主題による、低インダクタンス構成要素を形成するための方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0007】
[0021]本明細書および添付の図面全体で参照符号を繰り返し使用することは、同じまたは類似の特徴、要素、またはそれらのステップを表すことが意図される。
[0022]ここでは、本発明の様々な実施形態が詳細に参照され、そのうちの1つまたは複数の例が以下に示される。各例は、本発明の限定ではなく、本発明の説明として提供される。実際、本発明の範囲または精神から逸脱することなく、本発明において様々な修正および変形がなされ得ることが、当業者に明らかであろう。たとえば、1つの実施形態の一部として例示または説明された特徴は、別の実施形態で使用され、さらに別の実施形態をもたらすことができる。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲およびそれらの均等物の範囲内にあるような修正および変形をカバーすることが意図されている。
【0008】
[0023]一般的に言えば、本発明は、低インダクタンス構成要素に関する。低インダクタンス構成要素は、1つまたは複数のコンデンサを含み得る。理論によって限定されることを意図することなく、コンデンサは、電界に電気エネルギーを蓄積する電気構成要素である。いくつかの実施形態では、構成要素はまた、1つまたは複数のコンデンサと接続されたディスクリートバリスタを含み得る。理論によって限定されることを意図することなく、バリスタは、印加電圧によって変化する可能性のある電気抵抗を有する電気構成要素であり、それによって電位依存性レジスタとなる。
【0009】
[0024]構成要素は、低インダクタンスを示すように構成された1つまたは複数のリードを含み得る。特定の用途では、低インダクタンスが非常に望ましい場合がある。たとえば、本開示の態様は、モータの始動停止用途などの自動車用途に特に有用であり得る。
【0010】
[0025]低インダクタンスリードは、構成要素の第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、および/または接地端子と結合され得る。リードは、それぞれの長さおよび最大幅を有し得る。リードのそれぞれの最大幅に対する長さの比は、約50未満、いくつかの実施形態では約30未満、いくつかの実施形態では約20未満、いくつかの実施形態では約15未満、いくつかの実施形態では約10未満、いくつかの実施形態では約8未満、いくつかの実施形態では約5未満、いくつかの実施形態では約4未満、およびいくつかの実施形態では約2未満であり得る。
【0011】
[0026]リードは、様々な適切な断面形状を有し得る。たとえば、1つまたは複数のリードは、ほぼ長方形の断面を有し得る。ほぼ長方形の断面は、第1の方向に最大幅を有し、第1の方向に垂直である第2の方向に最小幅を有し得る。最小幅に対する最大幅の比は、約2を超えてよく、いくつかの実施形態では約3を超えてよく、いくつかの実施形態では約4を超えてよく、いくつかの実施形態では約5を超えてよく、いくつかの実施形態では約8を超えてよく、いくつかの実施形態では約10を超えてよく、いくつかの実施形態では約20を超えてよく、いくつかの実施形態では50を超えてよく、いくつかの実施形態では100を超えてよい。しかしながら、他の実施形態では、リードは、円形、卵形、多角形、または他の任意の適切な形状である断面形状を有し得る。
【0012】
[0027]いくつかの実施形態では、1つまたは複数のリードは、リードを形成するためにともに織られ(woven)、編まれ(braided)、または他の方式で構成された複数の細長い導電性部材を備え得る。
【0013】
[0028]上記の特徴は、1つまたは複数のコンデンサを含むことができる低インダクタンス構成要素をもたらす可能性がある。たとえば、第1のコンデンサおよび第2のコンデンサは、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、および少なくとも1つの接地端子に対して、分割フィードスルータイプの構造(split feedthrough type construction)で構成することができる。第1および第2のコンデンサは、誘電体層によって分離された内部電極によって形成することができる。
【0014】
[0029]いくつかの実施形態では、ディスクリートバリスタが、多層モノリシックデバイスに結合され、コンデンサ機能およびバリスタ機能の両方を備えた低インダクタンス統合構成要素を形成する。ディスクリートバリスタは、多層コンデンサの第1のアクティブ端子と接続された第1の外部バリスタ端子と、第2のアクティブ端子と接続された第2の外部バリスタ端子とを含むことができる。たとえば、ディスクリートバリスタと多層コンデンサとを積み重ねて、単一のモノリシック構成要素を形成できる。コンデンサとバリスタとを組み合わせることで、低インダクタンスのフィルタリングとEMIおよび/またはEMI/ESD回路保護を単一のパッケージで提供でき、これは、スペースが限られている場合に特に役立ち得る。さらに、コンデンサとバリスタの機能を1つの構成要素に統合すると、(たとえば、それぞれのリードによって引き起こされる)それぞれ独自の寄生インダクタンスを示す2つの別々の構成要素と比較して、インダクタンスが減少する。
【0015】
[0030]いくつかの実施形態では、リードを外部端子と接続することができ、および/または構成要素をオーバモールドすることができる。したがって、オーバモールドされた層は、ディスクリートバリスタおよび多層モノリシックコンデンサデバイスをカプセル化することができる。オーバモールドされた層は、たとえば、衝撃や湿気による損傷から構成要素を保護できる。
【0016】
[0031]上記に示したように、第1および第2のコンデンサは、分割フィードスルータイプの構成で構成され得る。たとえば、第1の複数の電極層は、本体内に配置され、第1のアクティブ端子と接続され得る。第2の複数の電極層は、本体内に配置され、第2のアクティブ端子と接続され得る。第3の複数の電極層は、接地端子と接続することができ、(たとえば、分割フィードスルータイプの構成で)第1の複数の電極層および第2の複数の電極層の各々と容量結合できる。第1のコンデンサは、第1の複数の電極層と、第3の複数の電極層との間の第1のオーバラップ領域に形成することができる。第2のコンデンサは、第2の複数の電極層と、第3の複数の電極層との間の第2のオーバラップ領域に形成することができる。
【0017】
[0032]1つの実施形態では、第1のコンデンサは、第1の静電容量を有し得、第2のコンデンサは、第2の静電容量を有し得る。いくつかの実施形態では、第1および第2のオーバラップ領域は、第2の静電容量が第1の静電容量にほぼ等しくなり得るように、ほぼ等しくなり得る。しかしながら、他の実施形態では、第1および第2のオーバラップ領域は、第1の静電容量が第2の静電容量よりも大きいまたは小さい場合があるように、異なっていてもよい。
【0018】
[0033]たとえば、第2の静電容量の第1の静電容量の少なくとも1つは、約10nFから約3μFの範囲、いくつかの実施形態では、約200nFから約2μFの範囲、いくつかの実施形態では、約400nFから約1.5μFの範囲であり得る。第2の静電容量は、第1の静電容量の約5%から約500%、いくつかの実施形態では、約10%から約300%、いくつかの実施形態では、約25%から約200%、およびいくつかの実施形態では、約50%から約150%の範囲であり得る。
【0019】
[0034]いくつかの実施形態では、第3の複数の電極層は、全体的に十字形状とすることができ、一対の対向する接地端子と接続することができる。たとえば、第3の複数の電極層は各々、一対の対向するエッジを含むことができる。対向するエッジのうちの一方は、第1の接地端子と接続でき、対向するエッジのうちの他方は、第2の接地端子と接続できる。
【0020】
[0035]多層モノリシックコンデンサデバイスは、モノリシック本体内に形成された任意の追加のコンデンサを含まなくてもよい。たとえば、第1、第2、および第3の複数の電極は、モノリシック本体の厚さの大部分を通って延びる電極の積み重ねで構成され得る。たとえば、モノリシック本体の厚さに対する電極の積み重ねの厚さの比は、約0.5から約0.97の範囲、いくつかの実施形態では、約0.6から約0.95の範囲、およびいくつかの実施形態では、約0.7から約0.9の範囲であり得る。
【0021】
[0036]一般に、多層モノリシックデバイスの誘電体層は、当該技術分野で一般的に適用される任意の材料で作ることができる。たとえば、誘電体層は、主成分としてチタン酸塩を含むセラミック材料で作ることができる。チタン酸塩は、チタン酸バリウム(BaTiO3)を含み得るが、これに限定されない。セラミック材料はまた、希土類金属の酸化物、および/または、Mn、V、Cr、Mo、Fe、Ni、Cu、Coなどのようなアクセプタタイプの元素の化合物を含み得る。チタン酸塩はまた、MgO、CaO、Mn3O4、Y2O3、V2O5、ZnO、ZrO2、Nb2O5、Cr2O3、Fe2O3、P2O5、SrO、Na2O、K2O、Li2O、SiO2、WO3などを含み得る。セラミック材料はまた、セラミック粉末に加えて、他の添加剤、有機溶媒、可塑剤、結合剤、分散剤などを含み得る。
【0022】
[0037]一般に、多層モノリシックデバイスの内部電極は、当該技術分野で一般的に適用される任意の材料で作ることができる。たとえば、内部電極は、主成分が貴金属材料である導電性ペーストを焼結する(sinter)ことによって形成することができる。これらの材料は、パラジウム、パラジウム-銀合金、ニッケル、および銅を含むことができるが、これらに限定されない。たとえば、1つの実施形態では、電極は、ニッケルまたはニッケル合金で作られ得る。合金は、Mn、Cr、Co、Al、Wなどのうちの1つまたは複数を含み得、合金中のNi含有量は、好ましくは95重量%以上である。NiまたはNi合金は、P、C、Nb、Fe、Cl、B、Li、Na、K、F、Sなど、0.1重量%以下の様々な微量成分を含み得る。
【0023】
[0038]多層モノリシックデバイスのセラミック本体は、当該技術分野で一般に知られている任意の方法を使用して形成することができる。たとえば、セラミック本体は、セラミックシートと、パターン化された内部電極とが交互に積み重ねられた積層体を形成し、積層体からバインダを除去し、バインダを除去された積層体を、非酸化性雰囲気中、1200℃から1300℃の範囲の高温で焼結し、焼結積層体を酸化雰囲気で再酸化することによって形成することができる。
【0024】
[0039]一般に、バリスタは、電気サージを接地にそらすように構成され得る。たとえば、バリスタは、約3ボルトから約150ボルト、いくつかの実施形態では、約5ボルトから約100ボルト、いくつかの実施形態では、約10ボルトから約50ボルト、およびいくつかの実施形態では、約15ボルトから約30ボルトの範囲のクランプ電圧を有し得る。
【0025】
[0040]バリスタは、外部電極を備えたセラミック本体を含むことができる。セラミック本体は、セラミック層と内部電極とが交互に積み重ねられた積層体を焼結して作製される。隣接する内部電極の各対は、それらの間にセラミック層を挟んで互いに向き合っており、それぞれ、異なる外部電極に電気的に結合することができる。
【0026】
[0041]一般に、誘電体層は、たとえば、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、または他の任意の適切な誘電体材料などの任意の適切な誘電体材料を含み得る。たとえば、誘電体材料の電位依存性抵抗を生成または高める様々な添加剤が誘電体材料に含まれ得る。たとえば、いくつかの実施形態では、添加剤は、コバルト、ビスマス、マンガン、またはそれらの組合せの酸化物を含み得る。いくつかの実施形態では、添加剤は、ガリウム、アルミニウム、アンチモン、クロム、ホウ素、チタン、鉛、バリウム、ニッケル、バナジウム、スズ、またはそれらの組合せの酸化物を含み得る。誘電体材料は、約0.5モルパーセントから約3モルパーセントの範囲、およびいくつかの実施形態では、約1モルパーセントから約2モルパーセントの範囲の添加剤でドープされ得る。誘電体材料の平均粒径(average grain size)は、誘電体材料の非線形特性に寄与する可能性がある。いくつかの実施形態では、平均粒径は、約10ミクロンから100ミクロンの範囲、いくつかの実施形態では、約20ミクロンから80ミクロンの範囲であり得る。バリスタはまた2つの端子を含み得、そして各電極は、それぞれの端子と接続され得る。電極は、電極の長さに沿って、および/または電極と端子との間の接続部に抵抗を提供し得る。
【0027】
[0042]一般に、内部電極は、当該技術分野で一般的に使用される任意の材料で作ることができる。たとえば、内部電極は、主成分が貴金属材料である導電性ペーストを焼結することによって形成することができる。これらの材料は、パラジウム、パラジウム-銀合金、銀、ニッケル、および銅を含むことができるが、これらに限定されない。たとえば、1つの実施形態では、電極は、ニッケルまたはニッケル合金から作られ得る。合金は、Mn、Cr、Co、Al、Wなどのうちの1つまたは複数を含み得、合金中のNi含有量は、好ましくは95重量%以上である。NiまたはNi合金は、P、C、Nb、Fe、Cl、B、Li、Na、K、F、Sなど、0.1重量%以下の様々な微量成分を含み得る。
【0028】
[0043]成分は、様々なサイズを有し得る。たとえば、成分は、EIA0504以下から、EIA2920以上の範囲であるケースサイズを有し得る。ケースサイズの例は、0805、1206、1806、2020などを含む。
【0029】
[0044]次に、例示的な実施形態を、図面を参照して説明する。
図1Aは、一般に本開示の主題による、低インダクタンス構成要素100の例示的な実施形態の外部斜視図を示している。例示されるように、構成要素100は、六面体などの本体102を含み得る。構成要素100は、第1のアクティブ端子104、第2のアクティブ端子106、第1の接地端子108、および第2の接地端子110を含み得る。
【0030】
[0045]第1のアクティブリード112および第2のアクティブリード114はそれぞれ、第1のアクティブ端子104および第2のアクティブ端子106と接続され得る。第1の接地リード116および第2の接地リード118はそれぞれ、第1の接地端子108および第2の接地端子110と接続され得る。
【0031】
[0046]リード112、114、116、118のうちの1つまたは複数は、長さおよび最大幅を有し得る。少なくとも1つのリードの最大幅に対する長さの比は、約20未満であり得る。たとえば、第1のアクティブリード112は、Z方向122の長さ120、X方向126の最大幅124、およびY方向128の最小幅127を有し得る。最小幅127に対する最大幅124の比は、約2より大きくてもよい。第1のアクティブリード112は、ほぼ長方形の断面形状を有し得、たとえば、第1のアクティブリード112は、全体的に平坦化された、すなわちリボン形状であり得る。いくつかの実施形態では、1つまたは複数のリード112、114、116、118の最大幅に対する長さの比は、約20未満であり得る。いくつかの実施形態では、各リードは、約20未満であるそれぞれの比を有するそれぞれの長さおよび幅を有し得る。
【0032】
[0047]
図1Bは、本開示の態様によるリード132の別の実施形態を示している。リード132は、全体的に円形または卵形の断面形状を有し得る。リード132は、最大幅134および最小幅136を有し得る。他の実施形態では、リードは、複数の細長く編まれた導電性部材を備え得る。
【0033】
[0048]
図2は、本開示の主題による構成要素200の別の実施形態の外部斜視図を示している。構成要素200は、多層モノリシックデバイス201を含み得、これは、たとえば、
図1Aを参照して上記で説明したように、六面体などの本体202、第1のアクティブ端子204、第2のアクティブ端子206、第1の接地端子208、および第2の接地端子210を含み得る。
【0034】
[0049]構成要素200は、第1の外部バリスタ端子242および第2の外部バリスタ端子244を有するディスクリートバリスタ240を含み得る。構成要素200は、多層モノリシックコンデンサデバイス201の第1のアクティブ端子204、および第1の外部バリスタ端子242の各々と結合された第1のアクティブリード246を含み得る。構成要素200は、多層モノリシックコンデンサデバイス201の第2のアクティブ端子206、および第2の外部バリスタ端子244の各々と結合された第2のアクティブリード248を含み得る。
【0035】
[0050]リード246、248、250、251のうちの1つまたは複数は、たとえば、
図1Aを参照して上記で説明したような長さおよび最大幅を有し得る。リード246、248、250、251のうちの1つまたは複数の最大幅に対する長さの比は、約20未満であり得る。たとえば、
図2を参照して示すように、第1のアクティブリード248は、Z方向122に長さ252、X方向126に最大幅254、およびY方向128に最小幅256を有し得る。最小幅256に対する最大幅254の比は、約2より大きくてもよい。第1のアクティブリード248は、ほぼ長方形の断面形状を有し得る。たとえば、第1のアクティブリード248は、(たとえば、リボン形状のように)全体的に平坦化され得る。いくつかの実施形態では、リード246、248、250、251の各々は、リード246、248、250、251のそれぞれの最大幅よりも少なくとも20倍大きい、それぞれの長さを有し得る。
【0036】
[0051]
図1Aの低インダクタンス構成要素100および/または
図2の多層多層モノリシックコンデンサデバイス201は、たとえば本明細書に記載されるように、第1の端子と第2の端子との間に直列に形成された2つのコンデンサを含み得る。本明細書に記載されるすべての実施形態に関連する当業者によって理解されるように、対象の多層構造における協調層は、電極層を備え、これは、その後、統合された容量性構造を形成する。
【0037】
[0052]
図3Aは、第1の電極層320を示している。第1の電極層320は、
図1Aの構成要素100を参照して説明される。しかしながら、
図2の多層モノリシックコンデンサデバイス201は、同様に構成され得ることを理解されたい。第1の電極層320は、
図1Aの構成要素100の第1および第2の接地端子108、110にそれぞれ接続された一対の対向するエッジ324、326を有する十字形状電極322を含み得る。
図3Bは、第1のアクティブ端子104(
図1A)と接続された第1の電極330と、第2のアクティブ端子106(
図1A)と接続された第2の電極332とを含む第2の電極層328を示す。
図3Cは、交互する第1および第2の電極層320、328の積み重ねを示している。
【0038】
[0053]
図3Dは、
図1Aのデバイス100の概略
図300を示している。デバイス100は、直列および並列コンデンサを収容するための単一のデバイスソリューションを提供することができる。デバイス100は、第1のコンデンサ338および第2のコンデンサ340を含み得る。再び
図3Aおよび
図3Bを参照して示すように、第1のコンデンサ338は、十字形状電極322と、第1の電極330との間の、第1のオーバラップ領域334において形成され得る。第2のコンデンサ356は、十字形状電極322と、第2の電極332との間の、第2のオーバラップ領域336において形成され得る。第1のオーバラップ領域334は、第1のコンデンサおよび第2のコンデンサがほぼ等しい静電容量を示すように、第2のオーバラップ領域336とほぼ等しくてもよい。しかしながら、他の実施形態では、第1のオーバラップ領域334は、第2のオーバラップ領域336よりも大きくても小さくてもよく、その結果、第1の静電容量は、第2の静電容量よりも大きくても小さくてもよい。第1の静電容量および第2の静電容量のうちの一方または両方は、約10nFから約3μFの範囲であり得る。
【0039】
[0054]第1のアクティブリード112は、(たとえば、
図1に示される第1のアクティブ端子104を介して)第1のコンデンサ338と接続され得る。第2のアクティブリード114は、(たとえば、
図1に示される第2のアクティブ端子106を介して)第2のコンデンサ340と接続され得る。第1および第2の接地リード116、118は、分割フィードスルー構成で、第1および第2のコンデンサ338、340の間の位置において接続され得る。たとえば、第1および第2の接地リード116、118はそれぞれ、接地端子180、110と接続され得る(
図1A)。
【0040】
[0055]
図3Eは、
図2のデバイス200の概略
図350を示している。バリスタ352は、アクティブリード112、114の間に電気的に接続され得る。
[0056]
図4Aおよび
図4Bは、本開示の態様による多層コンデンサの別の実施形態の電極構成を示している。
図4Aを参照して示すように、第1の電極層420は、第1および第2の接地端子108、110(
図1A)とそれぞれ接続され得る一対の対向するエッジ424、426を有する十字形状電極222を含み得る。
図4Bは、第1のアクティブ端子104と接続された第1の電極430と、第2のアクティブ端子106と接続された第2の電極432とを含む第2の電極層428を示している。
図4Cは、交互する第1および第2の電極層420、428の積み重ねを示している。再び
図4Aを参照して示すように、十字形状電極422は、第1のオーバラップ領域434に沿って第1の電極430とオーバラップして、第1のコンデンサ438を形成し、第2のオーバラップ領域436に沿って第2の電極432とオーバラップして、第2のコンデンサ440を形成し得る。
【0041】
[0057]
図5Aおよび
図5Bは、
図3Aから
図4Cを参照して上記の電極構成に関して追加のコンデンサを含むそれぞれの追加の電極構成を示す。
図5Aおよび
図5Bの電極構成は、
図1Aの構成要素100を参照して説明される。しかしながら、
図2の多層モノリシックコンデンサデバイス201は、同様に構成され得ることを理解されたい。
図5Aを参照して示すように、第1の電極構成500は、第1の領域501および第2の領域508を含み得る。第1の領域は、たとえば、
図3Aから
図3Cを参照して上記で説明したように、十字形状電極502、第1の電極504、および第2の電極506を含み得る。
【0042】
[0058]第2の領域508は、複数の第4の電極512とインタリーブされた複数の第3の電極510によって形成された第3のコンデンサを含み得る。第3の電極510は、第1のアクティブ端子104(
図1A)と接続され得、第4の電極512は、第2のアクティブ端子106(
図1A)と接続され得る。
【0043】
[0059]
図5Bは、第1の領域552、第2の領域554、および第3の領域556を含む第2の電極構成550を示している。第1の領域552は、たとえば、
図3Aから
図3Cを参照して上記で説明したように、1つまたは複数の十字形状電極558、1つまたは複数の第1の電極560、および1つまたは複数の第2の電極562を含む電極の積み重ねを含み得る。
【0044】
[0060]第2の領域554は、複数の第4の電極566とインタリーブされた複数の第3の電極564を含み得る。第3の電極564は、第1のアクティブ端子104(
図1A)と接続され得、第4の電極556は、第2のアクティブ端子106(
図1A)と接続され得る。
【0045】
[0061]第3の領域556は、たとえば、
図3Aから
図3Cを参照して上記で説明したように、十字形状電極568、第1の電極570、および第2の電極572を含む電極の積み重ねを含み得る。
【0046】
[0062]
図6Aは、
図5Aのデバイス500の概略
図600を示している。より具体的には、デバイス500は、アクティブリード602、603を含み得る。第1のコンデンサ604および第2のコンデンサ606は、たとえば、
図5Aに関して上記で説明したように、第1の領域607に形成され得る。接地リード610は、第1のコンデンサ604と第2のコンデンサ606との間にある位置において接続され得る(たとえば、
図5Aを参照して上記で説明した十字形状電極502と接続される)。第3のコンデンサ608は、たとえば
図5Aに関して上記で説明したように、第2の領域609において、アクティブリード602、603の間に、第1および第2のコンデンサ604、606と並列に、電気的に接続され得る。
【0047】
[0063]
図6Bは、
図5Bのデバイス550の概略
図650を示す。デバイス550は、一般に、
図5Aのデバイス500と同様に構成され得る。それに加えて、バリスタ660は、アクティブリード648および652との間に、コンデンサ654、656、658と並列に接続され得る。
【0048】
[0064]
図7は、低インダクタンス構成要素を形成するための方法700のフローチャートである。一般に、方法700は、
図1Aおよび
図2の構成要素100、200を参照して本明細書で説明される。しかしながら、開示された方法700は、任意の適切な構成要素を用いて実施され得ることが理解されるべきである。それに加えて、
図7は、例示および説明の目的で特定の順序で実行されるステップを示しているが、本明細書で説明される方法は、特定の順序または配置に限定されない。本明細書で提供される開示を使用する当業者は、本開示の範囲から逸脱することなく、本明細書で開示される方法の様々なステップを、様々な方法で省略、再配置、組み合わせ、および/または適合させることができることを理解するであろう。
【0049】
[0065]方法700は、(702)において、たとえば、
図1Aから
図6Bを参照して上記で説明したように、一対のコンデンサを形成する電極を含む多層コンデンサ本体を提供することを含み得る。
【0050】
[0066]方法700は、たとえば、
図1Aから
図6Bを参照して上記で説明したように、(704)において、一対のコンデンサが、第1のアクティブ端子と第2のアクティブ端子との間に直列に接続されるように、第1のアクティブ端子と、第2のアクティブ端子と、多層コンデンサ本体の外部の少なくとも1つの接地端子とを形成することを含み得る。
【0051】
[0067]方法700は、(706)において、少なくとも1つのリードを、第1のアクティブ端子、第2のアクティブ端子、または少なくとも1つの接地端子のうちの少なくとも1つの端子と接続することを含み得る。リードは、それぞれの長さおよび最大幅を有し得る。(複数のリードが存在する場合)少なくとも1つのリードのそれぞれの幅に対する長さの比は、約20未満であり得る。
【0052】
[0068]開示された構成を達成する際における個々のステップは、その代表としてのみ意図されており、他に示された開示の一般的な性質を超える他の態様の必要な使用を示すものではないことを理解されたい。たとえば、当業者は、選択されたステップが、本開示の主題の所与の用途のために選択された特定の設計を生成するために実施され得ることを認識するであろう。
【0053】
[0069]そのような本開示の主題は、その特定の実施形態に関して詳細に説明されているが、当業者は、前述の理解に達すると、そのような実施形態に対する変更、変形、および均等物を容易に生成できることが理解されよう。したがって、本開示の範囲は、限定ではなく例としてであり、主題の開示は、当業者に容易に明らかになるように、本開示の主題へのそのような修正、変形、および/または追加を含めることを排除しない。
【国際調査報告】