特表2022-549965炭化水素の酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の多機能触媒
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-11-29
(54)【発明の名称】炭化水素の酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の多機能触媒
(51)【国際特許分類】
B01J 23/89 20060101AFI20221121BHJP
B01J 37/08 20060101ALI20221121BHJP
B01J 35/04 20060101ALI20221121BHJP
B01D 53/94 20060101ALI20221121BHJP
F01N 3/10 20060101ALI20221121BHJP
F01N 3/28 20060101ALI20221121BHJP
F01N 3/08 20060101ALI20221121BHJP
F01N 3/035 20060101ALI20221121BHJP
F01N 3/24 20060101ALI20221121BHJP
【ＦＩ】
B01J23/89 A
B01J37/08 ZAB
B01J35/04 301Z
B01D53/94 222
B01D53/94 228
B01D53/94 280
F01N3/10 A
F01N3/28 301P
F01N3/08 B
F01N3/035 E
F01N3/24 E
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022520051
(86)(22)【出願日】2020-09-29
(85)【翻訳文提出日】2022-05-26
(86)【国際出願番号】 EP2020077213
(87)【国際公開番号】W WO2021063939
(87)【国際公開日】2021-04-08
(31)【優先権主張番号】19200513.0
(32)【優先日】2019-09-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】505470786
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(74)【代理人】
【識別番号】100167106
【弁理士】
【氏名又は名称】倉脇 明子
(74)【代理人】
【識別番号】100194135
【弁理士】
【氏名又は名称】山口 修
(74)【代理人】
【識別番号】100206069
【弁理士】
【氏名又は名称】稲垣 謙司
(74)【代理人】
【識別番号】100185915
【弁理士】
【氏名又は名称】長山 弘典
(72)【発明者】
【氏名】ベアード，ケヴィン
(72)【発明者】
【氏名】パチェット，ジョセフ エー．
(72)【発明者】
【氏名】ヒュンネケス，エドガー フィクトール
(72)【発明者】
【氏名】ベッカー，ヤン マルティン
(72)【発明者】
【氏名】ホックムース，ジョン ケー
【テーマコード（参考）】
3G091
3G190
4D148
4G169
【Ｆターム（参考）】
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(57)【要約】
本発明は、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、を含み、上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されている触媒に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、（ｉ）入口端、出口端、前記入口端から前記出口端に延びる基材軸長さ、及び前記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）前記基材の前記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
前記表面は、前記通路と前記内壁の間の界面を定義し、前記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、前記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されていることを特徴とする触媒。
【請求項2】
第１の酸化物材料が、１種以上の酸化物、好ましくはジルコニウムオキシド、アルミニウムオキシド、シリコンオキシド、及びチタニウムオキシドの１種以上、より好ましくはジルコニウムオキシド、アルミニウムオキシド、及びシリコンオキシドの１種以上、より好ましくはジルコニウムオキシド又はアルミニウムオキシドを含むことを特徴とする請求項１に記載の触媒。
【請求項3】
７５～１００質量％、好ましくは８０～９８質量％、より好ましくは８５～９５質量％の第１の酸化物材料が、ジルコニアで構成され、第１の酸化物材料が好ましくは、ハフニウムオキシド及びランタンオキシドの１種以上、より好ましくはハフニウムオキシド及びランタンオキシドを更に含み、又は７０～１００質量％、好ましくは７２～９５質量％、より好ましくは７５～８５質量％の第１の酸化物材料が、アルミナで構成され、第１の酸化物材料が好ましくは、ランタンオキシド及びジルコニウムオキシドの１種以上、より好ましくはランタンオキシド及びジルコニウムオキシドを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の触媒。
【請求項4】
前記コーティングが、第１の酸化物材料を、０．２５～１ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．３０～０．８０ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．４０～０．７０ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含むことを特徴とする請求項１～３の何れか１項に記載の触媒。
【請求項5】
前記混合酸化物が、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物、好ましくは、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウムの１つ以上との酸化混合物、より好ましくは鉄、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物であり、より好ましくは前記混合酸化物が、バナジウムと鉄との混合酸化物であることを特徴とする請求項１～４の何れか１項に記載の触媒。
【請求項6】
前記混合酸化物を担持する第２の酸化物材料が、１種以上の酸化物、好ましくはチタニウムオキシド、アルミニウムオキシド、シリコンオキシド、及びジルコニウムオキシドの１種以上、より好ましくはチタニウムオキシド及びシリコンオキシドの１種以上、より好ましくはチタニウムオキシド、より好ましくはチタニアを含み、第２の酸化物材料の好ましくは７５～１００質量％、より好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、チタニアから構成されることを特徴とする請求項１～５の何れか１項に記載の触媒。
【請求項7】
前記コーティングが更に、酸化物バインダーを含み、該酸化物バインダーは好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、前記酸化物バインダーは、より好ましくはアルミナ及びシリカの１種以上を含み、より好ましくはシリカを含むことを特徴とする請求項１～６の何れか１項に記載の触媒。
【請求項8】
前記触媒が、前記コーティングを、２．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量、好ましくは３～８ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含むことを特徴とする請求項１～７の何れか１項に記載の触媒。
【請求項9】
（ｉｉ）に従うコーティングが、（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された前記混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された前記白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
前記底部コートは、前記基材の前記内壁の表面上に、前記基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
前記頂部コートは、前記底部コート上に、前記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であることを特徴とする請求項１～８の何れか１項に記載の触媒。
【請求項10】
（ｉｉ．１）に従う底部コートの０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％、より好ましくは０～０．０００００１質量％が、パラジウムから構成され、好ましくはパラジウム及び白金から構成され、より好ましくは白金族金属成分から構成されることを特徴とする請求項９に記載の触媒。
【請求項11】
（ｉｉ）に従うコーティングが、１つのコートから構成され、該コートは前記基材の前記内壁の表面に、前記基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であることを特徴とする請求項１～８の何れか１項に記載の触媒。
【請求項12】
炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒、好ましくは請求項１～１１の何れか１項に従う触媒を製造するための方法であって、（ａ）入口端、出口端、前記入口端から前記出口端に延びる基材軸長さ、及び前記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材を準備する工程、
（ｂ）白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及び好ましくは酸化物バインダーを含む１つ以上の混合物を準備する工程、
前記１つ以上の混合物を前記基材軸長さのｚ％に亘って配置すること（但し、ｚは９０～１００の範囲である）、
前記基材上に配置された前記１つ以上の混合物をか焼すること、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項13】
白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及び好ましくは酸化物バインダーを含む、水性懸濁物。
【請求項14】
炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒、好ましくは請求項１～１１の何れか１項に記載された、請求項１２に記載の方法によって得ることができる、又は得られた、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒。
【請求項15】
内燃エンジンからの、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガスを処理するための排ガス処理システムであって、請求項１～１１及び１４の何れか１項に記載の触媒と、アンモニア酸化触媒、ディーゼル酸化触媒、選択的触媒還元触媒、及び触媒粒子フィルターの１つ以上とを含む、排ガス処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、炭化水素の酸化及び窒素酸化物の選択的触媒還元用の触媒、炭化水素の酸化及び窒素酸化物の選択的触媒還元用の触媒を製造するための方法、及び本発明の方法によって得ることができる、又は得られた触媒に関する。更に本発明は、上記触媒を含む排ガス処理システムに関する。
【背景技術】
【0002】
市場で入手可能な選択的触媒還元（ＳＣＲ）触媒は、密結合した位置で、このような触媒をフィルターの上流側に配置することによって、一過性及び稼働中の整合サイクルで、より迅速なウォームアップを許容する。サイクルで、脱ＮＯｘの改良が実現されても良い。しかしながら、これらの触媒は、密結合した位置に配置された場合、触媒のサイクル寿命に亘って、高いＮＯｘ変換を達成するように、硫黄を除去するか、又は硫黄に対して対抗性を有するように、再生することが不可能である。特許文献１（ＵＳ２０１５／０３７５２０７Ａ１）は、機能が組合わされた、すなわちＣＯ及びＮＯｘの除去が組合わされた層状化触媒を開示しており、上記触媒は、酸化層（頂部層）及びアンモニア－ＳＣＲ触媒層（底部層）を基材上に含んでいる。特許文献２（ＵＳ５３７１０５６）は、流通基材、活性成分用の担体としての活性促進分散コーティングを含む酸化制御ディーゼル触媒を開示している。特許文献３（ＷＯ２０１８／２２４６５１Ａ２）は、密結合した位置での、Ｐｄ含有ＳＣＲ触媒、層状Ｐｄ－ジルコニア及びＣｕ－ゼオライトデザインを開示している。しかしながら、上述した触媒は、ｃｃ－位置における脱硫酸化という面で不備を有している。
【0003】
バナジウムベースのＳＣＲ触媒が、その耐硫黄性で公知である。これらは、温和な炭化水素（ＨＣ）酸化性能を提供することも可能である。しかしながら、付随的な炭化水素発熱から生じる高い温度は、触媒の不可逆的な不活性化をもたらし得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】ＵＳ２０１５／０３７５２０７Ａ１
【特許文献2】ＵＳ５３７１０５６
【特許文献3】ＷＯ２０１８／２２４６５１Ａ２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従って、高度に安定なバナジウム含有触媒が、密結合への適用のために必要である。実際に、本発明は、ＥｕｒｏＶＩ、ＥｕｒｏＶＩＩ及びＣＡＲＢの要求を履行するために、ヘビー－デューティーディーゼル（ＨＤＤ）システムを改良することを目的としている。
【0006】
従って、本発明の目的は、触媒性能が改良され（例えば卓越したＨＣ酸化、及びＮＯｘのＳＣＲ）、この一方で、亜酸化窒素の放出を低減する炭化水素の酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の多機能触媒を提供することにある。驚くべきことに、本発明に従う炭化水素の酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の多機能触媒は、改良された触媒性能、例えば亜酸化窒素の放出を低減しつつ、卓越したＨＣ酸化、及びＮＯｘのＳＣＲを達成することを可能にすることが見出された。更に本発明は、チタニア等の酸化物材料上に担持されたバナジアの脱硫黄化の長所をも有する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
従って、本発明は、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されている触媒に関する。
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されている触媒に関する。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【発明を実施するための形態】
【0009】
基材（ｉ）に関し、これは好ましくは、流通基材であるか、又はこの替わりに壁流フィルター基材である。より好ましくは、基材（ｉ）は流通基材である。
【0010】
基材（ｉ）に関し、好ましくは、これはセラミック基材を含み、より好ましくはセラミック基材から構成され、ここでセラミック基材はより好ましくは、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケートの１種以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはコージライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニア、の１種以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージライトの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成される。より好ましくは、基材（ｉ）はセラミック基材を含み、より好ましくはセラミック基材から構成され、ここでセラミック基材はより好ましくは、コージライトを含み、より好ましくはコージライトから構成される。
【0011】
白金族金属成分は、好ましくはパラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成される。より好ましくは、白金族金属成分は、パラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される。
【0012】
白金族金属成分の量に関し、コーティングは、白金族金属成分を、白金族金属元素として計算して、２～７０ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは５～５０ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは１０～３０ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは１２～２０ｇ／ｆｔ３の範囲の充填量(loading)で含むことが好ましい。
【0013】
従って、好ましくは本発明は、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む流通基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されており、及び
上記白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、触媒に関する。
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む流通基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されており、及び
上記白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、触媒に関する。
【0014】
本発明において、第１の酸化物材料として、これは好ましくは１種以上の酸化物、より好ましくは、ジルコニウムオキシド、アルミニウムオキシド、シリコンオキシド、及びチタンオキシドの１種以上、より好ましくはジルコニウムオキシド、アルミニウムオキシド、及びシリコンオキシドの１種以上を含む。
【0015】
より好ましくは、第１の酸化物材料は、ジルコニウムオキシドを含む。より好ましくは、第１の酸化物材料の７５～１００質量％、より好ましくは８０～９８質量％、より好ましくは８５～９５質量％は、ジルコニアで構成される。
【0016】
より好ましくは、第１の酸化物材料は更に、ハフニウムオキシド及びランタンオキシドの１種以上を含み、より好ましくはハフニウムオキシド及びランタンオキシドを含む。より好ましくは、第１の酸化物材料の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、ジルコニア、ハフニウムオキシド、及びランタンオキシドから構成される。より好ましくは、第１の酸化物材料の８０～９８質量％、より好ましくは８５～９５質量％がジルコニアで構成され、第１の酸化物材料の１．５～１５質量％、より好ましくは４～１２質量％がランタンオキシドで構成され、及び第１の酸化物材料の０．５～５質量％、より好ましくは１～３質量％が、ハフニウムオキシドで構成される。
【0017】
この替わりに、より好ましくは、第１の酸化物材料がアルミニウムオキシドを含む。より好ましくは、第１の酸化物材料の７０～１００質量％、より好ましくは７２～９５質量％、より好ましくは７５～８５質量％がアルミナで構成される。
【0018】
より好ましくは、第１の酸化物材料が更に、ランタンオキシド及びジルコニウムオキシドの１種以上を含み、より好ましくはランタンオキシド及びジルコニウムオキシドを含む。より好ましくは、第１の酸化物材料の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、アルミナ、ジルコニウムオキシド、及びランタンオキシドから構成される。より好ましくは、第１の酸化物材料の７２～９５質量％、より好ましくは７５～８５質量％がアルミナで構成され、第１の酸化物材料の４～２４質量％、より好ましくは１４～２２質量％がジルコニウムオキシドで構成され、及び第１の酸化物材料の１～４質量％、より好ましくは１～３質量％が、ランタンオキシドで構成される。
【0019】
第１の酸化物材料の量に関して、コーティングは、第１の酸化物材料を、０．２５～１ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．３０～０．８０ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．４０～０．７０ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含むことが好ましい。
【0020】
混合酸化物に関し、これは好ましくは、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物であり、より好ましくは、鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物であり、より好ましくは、鉄及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物である。より好ましくは、混合酸化物は、バナジウムと鉄との混合酸化物である。
【0021】
好ましくは、混合酸化物中で、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上の、バナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、１：１．５～１．５：１の範囲、より好ましくは１：１．２～１．２：１、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である。
【0022】
従って、本発明は好ましくは、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更に第２の酸化物材料に担持されたバナジウムと鉄との混合酸化物を含み、
白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成され、
上記混合酸化物中で、鉄のバナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、より好ましくは１：１．５～１．５：１の範囲、より好ましくは１：１．２～１．２：１、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である触媒に関する。
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更に第２の酸化物材料に担持されたバナジウムと鉄との混合酸化物を含み、
白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成され、
上記混合酸化物中で、鉄のバナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、より好ましくは１：１．５～１．５：１の範囲、より好ましくは１：１．２～１．２：１、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である触媒に関する。
【0023】
本発明において、混合酸化物を担持する第２の酸化物材料について、これは好ましくは１種以上の酸化物を含み、より好ましくはチタン酸化物、アルミニウムオキシド、シリコンオキシド、及びジルコニウムオキシドの１種以上、より好ましくはチタンオキシド及びシリコンオキシドの１種以上、より好ましくはチタンオキシド、より好ましくはチタニアを含む。
【0024】
より好ましくは、第２の酸化物材料は、チタンオキシド、好ましくはチタニアと、タングステンオキシド、シリコンオキシド、アンチモンオキシド、及びセリウムオキシドの１種以上、より好ましくはタングステンオキシド及びシリコンオキシドの１種以上、より好ましくはタングステンオキシドとを含む。より好ましくは、タングステンオキシドがチタニアに含浸されている。
【0025】
好ましくは、第２の酸化物材料の７５～１００質量％、より好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％がチタニアで構成されている。
【0026】
好ましくは、第２の酸化物材料の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％がチタニア及びタングステンオキシドで構成されており、ここでより好ましくは、第２の酸化物材料の８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び第２の酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１５質量％がタングステンオキシドで構成される。
【0027】
好ましくは、コーティングの５０～９０質量％、より好ましくは６５～８５質量％、より好ましくは７０～８０質量％が第２の酸化物材料で構成される。
【0028】
混合酸化物の量に関し、これは、第２の酸化物材料の質量に基づいて、好ましくは３～２５質量％の範囲、より好ましくは５～１８質量％の範囲、より好ましくは７～１６質量％の範囲、より好ましくは９～１５質量％の範囲、より好ましくは１０～１４．５質量％の範囲である。
【0029】
好ましくは、コーティングは更に、酸化物バインダーを含み、ここで該酸化物バインダーは、より好ましくはジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、ここで酸化物バインダーは、より好ましくはアルミナ及びシリカの１種以上、より好ましくはシリカを含む。
【0030】
好ましくは、触媒中でコーティングは、第２の酸化物材料の質量に基づいて、１～１０質量％、より好ましくは２～８質量％、より好ましくは３～６質量％の酸化物バインダーを含む。
【0031】
好ましくは、触媒はコーティングを２．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３～８ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む。
【0032】
好ましくは、コーティングは、基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは９０～１００の範囲、より好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
【0033】
本発明の第１の局面に従えば、好ましくは、（ｉｉ）に従うコーティングが、
（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
上記底部コートは、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
上記頂部コートは、上記底部コート上に、上記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
上記底部コートは、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
上記頂部コートは、上記底部コート上に、上記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
【0034】
好ましくは上記局面で、ｘ＝ｙである。
【0035】
好ましくは、上記局面で、底部コート（ｉｉ．１）に含まれる混合酸化物を担持する第２の酸化物材料は、上記のように定義される。
【0036】
好ましくは、上記局面で、（ｉｉ．１）に従う底部コートが、上記に定義した酸化物バインダーをさらに含む。
【0037】
好ましくは、（ｉｉ．１）に従う底部コートの９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、混合酸化物、第２の酸化物材料、及びより好ましくは上記に定義された酸化物バインダーで構成される。
【0038】
上記局面に従えば好ましくは、（ｉｉ．１）に従う底部コートの０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％、より好ましくは０～０．０００００１質量％がパラジウムで構成され、より好ましくはパラジウムと白金で構成され、より好ましくは白金族金属成分で構成される。換言すれば、好ましくは、（ｉｉ．１）に従う底部コートはパラジウムを実質的に含有せず、より好ましくはパラジウムを含有せず、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金族金属を実質的に含有せず、より好ましくは含有しない。
【0039】
上述した局面に従い好ましくは、触媒は（ｉｉ．１）に従う底部コートを、２．２～７ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは２．６～６ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３．１～５ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む。
【0040】
好ましくは、上記局面に従い、（ｉｉ．２）に従う頂部コートは更に、酸化物成分(oxidic component)を含み、ここで酸化物成分はより好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含む。より好ましくは、酸化物成分は、ジルコニア及びアルミナの１種以上、より好ましくはジルコニアを含む。
【0041】
上記局面に従えば、好ましくは、（ｉｉ．２）に従う頂部コートは酸化物成分を、第１の酸化物材料の質量に基づいて、２～２０質量％の範囲、より好ましくは５～１５質量％の範囲、より好ましくは７～１３質量％の範囲で含む。
【0042】
好ましくは、（ｉｉ．２）に従う頂部コートの９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が白金族金属成分、より好ましくはパラジウム、第１の酸化物材料、及びより好ましくは上記に定義した酸化物材料で構成される。
【0043】
好ましくは、（ｉｉ．２）に従う頂部コートの０～０．１質量％、より好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％が、バナジウムで構成される。換言すれば、好ましくは、（ｉｉ．２）に従う頂部コートは実質的にバナジウムを含まず、より好ましくはバナジウムを含まない。
【0044】
上記局面に従えば、好ましくは、（ｉｉ．２）に従う頂部コートの０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％、より好ましくは０～０．０００００１質量％が、白金で構成される。換言すれば、好ましくは、（ｉｉ．２）に従う頂部コートは実質的に白金を含まず、より好ましくは白金を含まない。
【0045】
上記局面に従えば好ましくは、触媒は、（ｉｉ．２）に従う頂部コートを、０．３～３ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．４～２ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．４～１ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む。
【0046】
従って好ましくは、本発明は、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄との混合酸化物を含み、該混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されており、及び上記コーティングが、
（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
上記底部コートは、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲であり、
上記頂部コートは、上記底部コート上に、上記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲であり、
白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、触媒に関する。
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄との混合酸化物を含み、該混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されており、及び上記コーティングが、
（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
上記底部コートは、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲であり、
上記頂部コートは、上記底部コート上に、上記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲であり、
白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、触媒に関する。
【0047】
本発明の第２の局面に従えば、（ｉｉ）に従うコーティングは１つのコートで構成され、ここで該コートは上記基材の上記内壁の表面に、上記基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは、９０～１００の範囲、より好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
【0048】
従って、本発明は好ましくは、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄との混合酸化物を含み、該混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されており、上記コーティングは１つのコートで構成され、
ここで該コートは上記基材の上記内壁の表面に、上記基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、触媒に関する。
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄との混合酸化物を含み、該混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されており、上記コーティングは１つのコートで構成され、
ここで該コートは上記基材の上記内壁の表面に、上記基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、触媒に関する。
【0049】
本発明の第３の局面に従えば、第１の局面におけるコートの順序は反転され、第１の局面に従う底部コート（ｉｉ．１）が本発明の第３の局面に従う頂部コートであり、及び第１の局面に従う頂部コート（ｉｉ．２）が第３の局面に従う底部コートであることが考えられ、及び好ましい。従って好ましくは、第３の局面に従う底部コートが、第１の酸化物材料に担持された白金族金属を含み、及び第３の局面に従う頂部コートが第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む。
【0050】
本発明の第４の局面に従えば、本発明の第１の局面に従い記載された２つのコートが、区画に分けられた配置構成で配置されることが考えられ、及び好ましい。特に、（ｉｉ）に従うコーティングが、
（ｉｉ．１’）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート；
（ｉｉ．２’）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート；
を含み、より好ましくはこれらから構成され、ここで、
上記底部コートは、基材の入口端から出口端にかけて、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ’％に亘って配置され、ここでｘ’は２０～８０の範囲、より好ましくは３０～７０の範囲、より好ましくは４０～６０の範囲、より好ましくは４５～５５の範囲であり、
上記頂部コートは、基材の出口端から入口端にかけて、上記基材の内壁の表面上に、上記基材軸長さのｙ’％に亘って配置され、ここでｙ’は、２０～８０の範囲、より好ましくは３０～７０の範囲、より好ましくは４０～６０の範囲、より好ましくは４５～５５の範囲である。より好ましくは、９０≦ｘ’＋ｙ’≦１００である。
（ｉｉ．１’）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート；
（ｉｉ．２’）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート；
を含み、より好ましくはこれらから構成され、ここで、
上記底部コートは、基材の入口端から出口端にかけて、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ’％に亘って配置され、ここでｘ’は２０～８０の範囲、より好ましくは３０～７０の範囲、より好ましくは４０～６０の範囲、より好ましくは４５～５５の範囲であり、
上記頂部コートは、基材の出口端から入口端にかけて、上記基材の内壁の表面上に、上記基材軸長さのｙ’％に亘って配置され、ここでｙ’は、２０～８０の範囲、より好ましくは３０～７０の範囲、より好ましくは４０～６０の範囲、より好ましくは４５～５５の範囲である。より好ましくは、９０≦ｘ’＋ｙ’≦１００である。
【0051】
本発明について、好ましくはコーティングの９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％。より好ましくは９９．９～１００質量％が、第１の酸化物材料に担持された白金族成分、第２の酸化物材料に担持されたバナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物、及びより好ましくは上記に定義された酸化物バインダー、及び任意に上記に定義した酸化物成分で構成される。
【0052】
好ましくは、（ｉｉ）に従うコーティングの０～０．１質量％、より好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％がゼオライト材料、好ましくは分子篩で構成される。換言すれば、好ましくは、（ｉｉ）に従うコーティングは、ゼオライト材料、好ましくは分子篩を実質的に含まず、より好ましくは含まない。
【0053】
好ましくは本発明の触媒は、基材（ｉ）及びコーティング（ｉｉ）で構成される。
【0054】
更に、本発明は、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒、好ましくは本発明に従い、及び上記に定義した触媒を製造するための方法であって、
（ａ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材を準備する工程、
（ｂ）白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及びより好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含む１つ以上の混合物を準備する工程、
上記１つ以上の混合物を上記基材軸長さのｚ％に亘って配置すること（但し、ｚは９０～１００の範囲である）、
上記基材上に配置された１つ以上の混合物をか焼すること、を含む方法に関する。該方法において使用される成分は好ましくは、上記に定義した通りである。
（ａ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材を準備する工程、
（ｂ）白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及びより好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含む１つ以上の混合物を準備する工程、
上記１つ以上の混合物を上記基材軸長さのｚ％に亘って配置すること（但し、ｚは９０～１００の範囲である）、
上記基材上に配置された１つ以上の混合物をか焼すること、を含む方法に関する。該方法において使用される成分は好ましくは、上記に定義した通りである。
【0055】
好ましくは、混合酸化物の粒子は、Ｄｖ５０を、０．５～４ミクロンメートルの範囲、より好ましくは０．７５～３．５ミクロンメートルの範囲、より好ましくは１～３ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ５０は参照例１に定義したように測定される。
【0056】
好ましくは、混合酸化物の粒子は、Ｄｖ９０を、５～２０ミクロンメートルの範囲、より好ましくは７～１５ミクロンメートルの範囲、より好ましくは９～１３ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ９０は参照例１に定義したように測定される。
【0057】
好ましくは、第１の酸化物材料の粒子は、より好ましくはジルコニアを含み、及びＤｖ５０を、０．５～８ミクロンメートルの範囲、より好ましくは１～６ミクロンメートルの範囲、より好ましくは２～５ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ５０は参照例１に定義したように測定される。この替わりに、好ましくは、第１の酸化物材料の粒子は、より好ましくはアルミナを含み、及びＤｖ５０を、２０～４５ミクロンメートルの範囲、より好ましくは２５～４０ミクロンメートルの範囲、より好ましくは２８～３５ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ５０は参照例１に定義したように測定される。
【0058】
好ましくは、第１の酸化物材料の粒子は、より好ましくはジルコニアを含み、及びＤｖ９０を、６～３０ミクロンメートルの範囲、より好ましくは１０～２０ミクロンメートルの範囲、より好ましくは１２～１８ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ９０は参照例１に定義したように測定される。この替わりに、好ましくは、第１の酸化物材料の粒子は、より好ましくはアルミナを含み、及びＤｖ９０を、４０～７５ミクロンメートルの範囲、より好ましくは５５～７０ミクロンメートルの範囲、より好ましくは６０～６６ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ９０は参照例１に定義したように測定される。
【0059】
好ましくは、第２の酸化物材料の粒子は、Ｄｖ５０を、０．１～４ミクロンメートルの範囲、より好ましくは０．２５～３ミクロンメートルの範囲、より好ましくは０．５～２ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ５０は参照例１に定義したように測定される。
【0060】
好ましくは、第２の酸化物材料の粒子は、Ｄｖ９０を、０．５～８ミクロンメートルの範囲、より好ましくは１～６ミクロンメートルの範囲、より好ましくは２～５ミクロンメートルの範囲に有し、ここでＤｖ９０は参照例１に定義したように測定される。
【0061】
工程（ｂ）に関し、好ましくはこれは、
（ｂ．１）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、より好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼し、及び水と含浸した酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．２）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．３）より好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．４）工程（ｂ．１）で得られた含浸した酸化物材料混合物、より好ましくは工程（ｂ．１）で得られたか焼した含浸した酸化物材料との混合物を、工程（ｂ．２）、より好ましくは工程（ｂ．３）で得られた混合物と混合し、より好ましくは任意に塩基、より好ましくは有機塩基を加えて、得られた混合物の水性相のｐＨを６～８の範囲、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定し、最終的な混合物を得る工程；
（ｂ．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に、より好ましくは基材軸長さのｚ％に亘って配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、ｚは、９５～１０、より好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００である工程；
（ｂ．６）任意に、工程（ｂ．５）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７）工程（ｂ．５）で得られた基材上、より好ましくは工程（ｂ．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、及び任意に、
（ｂ’．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ｂ．７）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（ｂ’．６）任意に、工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（ｂ’．７）工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材、又は工程（ｂ’．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成され、及び
工程（ｂ．７）又は工程（ｂ’．７）から、ＨＣの酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の触媒が得られるものである。
（ｂ．１）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、より好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼し、及び水と含浸した酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．２）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．３）より好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．４）工程（ｂ．１）で得られた含浸した酸化物材料混合物、より好ましくは工程（ｂ．１）で得られたか焼した含浸した酸化物材料との混合物を、工程（ｂ．２）、より好ましくは工程（ｂ．３）で得られた混合物と混合し、より好ましくは任意に塩基、より好ましくは有機塩基を加えて、得られた混合物の水性相のｐＨを６～８の範囲、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定し、最終的な混合物を得る工程；
（ｂ．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に、より好ましくは基材軸長さのｚ％に亘って配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、ｚは、９５～１０、より好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００である工程；
（ｂ．６）任意に、工程（ｂ．５）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７）工程（ｂ．５）で得られた基材上、より好ましくは工程（ｂ．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、及び任意に、
（ｂ’．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ｂ．７）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（ｂ’．６）任意に、工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（ｂ’．７）工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材、又は工程（ｂ’．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成され、及び
工程（ｂ．７）又は工程（ｂ’．７）から、ＨＣの酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の触媒が得られるものである。
【0062】
工程（ｂ．１）に関し、好ましくはこれは、
（ｂ．１．１）白金族金属成分の供給源を第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得る工程；
（ｂ．１．２）より好ましくは、工程（ｂ．１．１）で得られた含浸した第１の酸化物材料をガス雰囲気、より好ましくは５００～６５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
（ｂ．１．３）水及び工程（ｂ．１.１）、より好ましくは工程（ｂ．１.２）で得られた含浸した酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．１.４）より好ましくは、任意に酸、より好ましくは有機酸を加えることによって、工程（ｂ．１.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを２～５の範囲、より好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
（ｂ．１．１）白金族金属成分の供給源を第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得る工程；
（ｂ．１．２）より好ましくは、工程（ｂ．１．１）で得られた含浸した第１の酸化物材料をガス雰囲気、より好ましくは５００～６５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
（ｂ．１．３）水及び工程（ｂ．１.１）、より好ましくは工程（ｂ．１.２）で得られた含浸した酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．１.４）より好ましくは、任意に酸、より好ましくは有機酸を加えることによって、工程（ｂ．１.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを２～５の範囲、より好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
【0063】
工程（ｂ．２）に関し、好ましくはこれは、
（ｂ．２.１）水及び混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．２.２）より好ましくは有機分散剤を、工程（ｂ．２.１）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２.３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．２.１）、より好ましくは工程（ｂ．２.２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．２.４）より好ましくは、工程（ｂ．２.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基、より好ましくは有機塩基を加えることによって、６～８の値、より好ましくは６．５～７．５の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
（ｂ．２.１）水及び混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．２.２）より好ましくは有機分散剤を、工程（ｂ．２.１）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２.３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．２.１）、より好ましくは工程（ｂ．２.２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．２.４）より好ましくは、工程（ｂ．２.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基、より好ましくは有機塩基を加えることによって、６～８の値、より好ましくは６．５～７．５の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
【0064】
工程（ｂ）に関し、この替わりに好ましくは、これは、
（ｂ．１’）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、より好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼する工程；
（ｂ．２’）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した酸化物材料及びより好ましくは酸化物成分の供給源との第１の混合物を形成する工程；
（ｂ．３’）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料との第２の混合物を形成し、第２の混合物を得る工程；
（ｂ．４’）より好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．３’）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、より好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた第２の混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、より好ましくは、第２の混合物は、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ｘは、９０～１００、より好ましくは９５～１００、より好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．６’）任意に、工程（ｂ．５’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７’）工程（ｂ．５’）で得られた基材上、より好ましくは工程（ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された第２の混合物を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼し、底部コートでコートされた基材を得る工程；
及び任意に、
（Ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、より好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた混合物を、工程（ｂ．７’）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（Ｂ．６’）任意に、工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（Ｂ．７’）工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材、又は工程（Ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
ここで、工程（ｂ．７’）又は（Ｂ．７’）から底部コートが得られ；
（ｂ．８’）工程（ｂ．２’）で得られた第１の混合物を、上記底部コート上に配置し、より好ましくは、基材軸長さのｙ％に亘って配置し、ここでｙは、９０～１００の範囲、より好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．９’）任意に、工程（ｂ．８’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．１０’）工程（ｂ．８’）で得られた基材上、より好ましくは工程（ｂ．９’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
（ｂ．１’）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、より好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼する工程；
（ｂ．２’）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した酸化物材料及びより好ましくは酸化物成分の供給源との第１の混合物を形成する工程；
（ｂ．３’）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料との第２の混合物を形成し、第２の混合物を得る工程；
（ｂ．４’）より好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．３’）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、より好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた第２の混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、より好ましくは、第２の混合物は、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ｘは、９０～１００、より好ましくは９５～１００、より好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．６’）任意に、工程（ｂ．５’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７’）工程（ｂ．５’）で得られた基材上、より好ましくは工程（ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された第２の混合物を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼し、底部コートでコートされた基材を得る工程；
及び任意に、
（Ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、より好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた混合物を、工程（ｂ．７’）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（Ｂ．６’）任意に、工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（Ｂ．７’）工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材、又は工程（Ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
ここで、工程（ｂ．７’）又は（Ｂ．７’）から底部コートが得られ；
（ｂ．８’）工程（ｂ．２’）で得られた第１の混合物を、上記底部コート上に配置し、より好ましくは、基材軸長さのｙ％に亘って配置し、ここでｙは、９０～１００の範囲、より好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．９’）任意に、工程（ｂ．８’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．１０’）工程（ｂ．８’）で得られた基材上、より好ましくは工程（ｂ．９’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、より好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
【0065】
工程（ｂ．２’）に関し、好ましくはこれは、
（ｂ．２’．１）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．２’．２）工程（ｂ．２’．１）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に酸、より好ましくは有機酸を加えることによって２～５の範囲、より好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程；
（ｂ．２’．３）より好ましくは、酸化物成分の供給源を工程（ｂ．２’．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２’．４）より好ましくは、工程（ｂ．２’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
（ｂ．２’．１）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．２’．２）工程（ｂ．２’．１）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に酸、より好ましくは有機酸を加えることによって２～５の範囲、より好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程；
（ｂ．２’．３）より好ましくは、酸化物成分の供給源を工程（ｂ．２’．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２’．４）より好ましくは、工程（ｂ．２’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
【0066】
工程（ｂ．３’）に関し、好ましくはこれは、
（ｂ．３’．１）水、混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．３’．２）より好ましくは、工程（ｂ．３’．１）で得られた混合物に有機分散剤を加える工程；
（ｂ．３’．３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．３’．１）、より好ましくは工程（ｂ．３’．２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．３’．４）より好ましくは、工程（ｂ．３’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
（ｂ．３’．１）水、混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．３’．２）より好ましくは、工程（ｂ．３’．１）で得られた混合物に有機分散剤を加える工程；
（ｂ．３’．３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．３’．１）、より好ましくは工程（ｂ．３’．２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．３’．４）より好ましくは、工程（ｂ．３’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含み、より好ましくはこれらから構成される。
【0067】
本発明に関し、好ましくは、工程（ｂ）、（ｂ．５）、（ｂ’．５）、（ｂ．５’）、（Ｂ．５’）及び（ｂ．８’）の１つ以上、より好ましくは工程（ｂ）、（ｂ．５）、（ｂ’．５）、（ｂ．５’）、（Ｂ．５’）及び（ｂ．８’）に従う１つ以上の混合物の配置は、基材のスプレーがけ、又は含浸によって行われ、より好ましくは基材を上記混合物中に含浸させることによって行われる。
【0068】
好ましくは、工程（ｂ．６）、（ｂ’．６）、（ｂ．６’）及び（Ｂ．６’）の１つ以上、より好ましくは工程（ｂ．６）、（ｂ’．６）、（ｂ．６’）及び（Ｂ．６’）に従い、乾燥が６０～２００℃の範囲、より好ましくは９０～１６０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ；ここで、乾燥はより好ましくは、ガス雰囲気中で、１０～２４０分の範囲の継続時間、より好ましくは１５～８０分の範囲、より好ましくは２０～６０分の範囲の継続時間で行われる。
【0069】
好ましくは、工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び（ｂ．１０’）の１つ以上、より好ましくは工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び（ｂ．１０’）に従い、か焼は、４２５～４７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われる。
【0070】
好ましくは、工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び（ｂ．１０’）の１つ以上、より好ましくは工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び（ｂ．１０’）に従い、か焼は、ガス雰囲気中で、１０～２４０分の範囲の継続時間、より好ましくは１５～８０分の範囲、より好ましくは２０～６０分の範囲の継続時間で行われる。
【0071】
好ましくは、ガス雰囲気は酸素を含み、ここでガス雰囲気はより好ましくは、空気である。
【0072】
好ましくは、工程（ｂ）における白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはパラジウムを含む。より好ましくは、白金族金属成分の供給源は、白金族金属成分の塩、より好ましくは白金族金属の硝酸塩を含む。
【0073】
好ましくは、工程（ｂ．２’）における酸化物成分は、ジルコニア、シリカ、アルミナ及びチタニアの１種以上、より好ましくはジルコニア及びシリカの１種以上であり、より好ましくはジルコニアである。
【0074】
好ましくは、本発明に従う方法は、工程（ａ）及び（ｂ）で構成される。
【0075】
本発明は更に、白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及び好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含む、水性懸濁物に関する。水性懸濁物の成分は、好ましくは、上記に定義した通りである。
【0076】
本発明は更に、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒に関し、好ましくは本発明に従い、及び上記に定義した方法によって得ることができる、又は得られた、本発明に従う、炭化水素を酸化し及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒に関する。
【0077】
本発明は更に、内燃エンジンからの、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガスを処理するための排ガス処理システムであって、本発明に従い、及び上記に定義された触媒及びアンモニア酸化触媒、ディーゼル酸化触媒、選択的触媒還元触媒、及び触媒粒子フィルターの１つ以上を含む排ガス処理システムに関する。好ましくは、本発明に従う触媒は、上記システムの第１の触媒である。従って、本発明に従う触媒は好ましくは、密結合(close-coupled)した触媒である。上記システムは好ましくは、本発明に従う触媒の下流に配置された第１のアンモニア酸化触媒、及び第１のアンモニア酸化触媒の下流に配置された触媒煤フィルターを含む。より好ましくは、上記システムは更に、触媒煤フィルターの下流に配置された選択的触媒還元触媒を含む。より好ましくは、上記システムは更に、選択的触媒還元触媒の下流に配置された、第２のアンモニア酸化触媒を含む。更に、本発明のシステムは更に任意に、第１のアンモニア酸化触媒の下流、及び触媒煤フィルターの上流に配置されたディーゼル酸化触媒を含む。
【0078】
本発明は更に、本発明に従う、炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物（ＮＯｘ）を選択的に触媒還元するための触媒を、ＮＯｘの選択的触媒還元と炭化水素の酸化を同時に行うために使用する方法に関する。
【0079】
本発明は、更に、
（１）ＮＯｘ及び炭化水素の１種以上を含むガス流を供給する工程；
（２）工程（１）で供給されたガス流を、本発明に従う、炭化水素の酸化及び窒素酸化物（ＮＯｘ）の選択的触媒還元用の触媒と接触させる工程、
を含む、窒素酸化物（ＮＯｘ）の選択的触媒還元と炭化水素の酸化を同時に行う方法に関する。
（１）ＮＯｘ及び炭化水素の１種以上を含むガス流を供給する工程；
（２）工程（１）で供給されたガス流を、本発明に従う、炭化水素の酸化及び窒素酸化物（ＮＯｘ）の選択的触媒還元用の触媒と接触させる工程、
を含む、窒素酸化物（ＮＯｘ）の選択的触媒還元と炭化水素の酸化を同時に行う方法に関する。
【0080】
本発明を、以下の実施形態、及び示されている従属関係と引用関係から得られる組み合せのセットによって説明する。特に、実施形態の範囲が記載されている各例では、例えば「実施形態１～４の何れか１つの触媒」というような用語について、この範囲の全ての実施形態が、この技術分野の当業者にとって明確であると意味され、すなわち、この用語の記載は、この技術分野の当業者にとって、「実施形態１、２、３及び４」と同意語であると理解される。更に、以下の実施形態のセットは、保護範囲を決定する請求項のセットではなく、本発明の一般的で好ましい局面に向けられた記載の、適切に構成された部分を表していることが明確に注記される。
【0081】
１．炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒であって、
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されている、触媒。
（ｉ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材、
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面に配置されたコーティング、
を含み、
上記表面は、上記通路と上記内壁の間の界面を定義し、上記コーティングは、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物を含み、上記混合酸化物は、第２の酸化物材料に担持されている、触媒。
【0082】
２．基材（ｉ）が、流通（flow-through）基材、又は壁流(wall-flow)基材、好ましくは流通基材である、実施形態１に記載の触媒。
【0083】
３．上記基材（ｉ）が、セラミック基材を含み、より好ましくはセラミック基材から構成され、ここでセラミック基材は好ましくは、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケートの１種以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはコージライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニア、の１種以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージライトの１つ以上、より好ましくはコージライトを含み、より好ましくはこれらから構成される、実施形態１又は２に記載の触媒。
【0084】
４．白金族金属成分が、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはこれらから構成され、白金族金属成分が、好ましくはパラジウムを含み、より好ましくはパラジウムから構成される、実施形態１～３の何れか１つに記載の触媒。
【0085】
５．上記コーティングが、白金族金属成分を、白金族金属元素として計算して、２～７０ｇ／ｆｔ３の範囲、好ましくは５～５０ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは１０～３０ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは１２～２０ｇ／ｆｔ３の範囲の充填量(loading)で含む、実施形態１～４の何れか１つに記載の触媒。
【0086】
６．第１の酸化物材料が、１種以上の酸化物、好ましくはジルコニウムオキシド、アルミニウムオキシド、シリコンオキシド及びチタンオキシドの１種以上、より好ましくはジルコニウムオキシド、アルミニウムオキシド及びシリコンオキシドの１種以上、より好ましくはジルコニウムオキシド又はアルミニウムオキシドを含む、実施形態１～５の何れか１つに記載の触媒。
【0087】
７．第１の酸化物材料の７５～１００質量％、好ましくは８０～９８質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、ジルコニアで構成される、実施形態６に記載の触媒。
【0088】
８．第１の酸化物材料が更に、ハフニウムオキシド及びランタンオキシドの１種以上、好ましくはハフニウムオキシド及びランタンオキシドを含み；より好ましくは９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％の第１の酸化物材料が、ジルコニア、ハフニウムオキシド及びランタンオキシドで構成され；より好ましくは８０～９８質量％、より好ましくは８５～９５質量％の第１の酸化物材料が、ジルコニアで構成され、１．５～１５質量％、より好ましくは４～１２質量％の第１の酸化物材料が、ランタンオキシドで構成され、及び０．５～５質量％、より好ましくは１～３質量％の第１の酸化物材料がハフニウムオキシドで構成される、実施形態７に記載の触媒。
【0089】
９．７０～１００質量％、好ましくは７２～９５質量％、より好ましくは７５～８５質量％の第１の酸化物材料が、アルミナで構成される、実施形態６に記載の触媒。
【0090】
１０．第１の酸化物材料が更に、ランタンオキシド及びジルコニウムオキシドの１種以上を含み、好ましくはランタンオキシド及びジルコニウムオキシドを含み；より好ましくは、第１の酸化物材料の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、アルミナ、ジルコニウムオキシド、及びランタンオキシドから構成され；より好ましくは、第１の酸化物材料の７２～９５質量％、より好ましくは７５～８５質量％がアルミナで構成され、第１の酸化物材料の４～２４質量％、より好ましくは１４～２２質量％がジルコニウムオキシドで構成され、及び第１の酸化物材料の１～４質量％、より好ましくは１～３質量％が、ランタンオキシドで構成される、実施形態９に記載の触媒。
【0091】
１１．上記コーティングが、第１の酸化物材料を、０．２５～１ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．３０～０．８０ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．４０～０．７０ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む、実施形態１～１０の何れか１つに記載の触媒。
【0092】
１２．上記混合酸化物が、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物であり、好ましくは、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物、より好ましくはバナジウムと、鉄及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物である、実施形態１～１１の何れか１つに記載の触媒。
【0093】
１３．上記混合酸化物がバナジウムと鉄の混合酸化物である、実施形態１２に記載の触媒。
【0094】
１４．上記混合酸化物中で、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上の、バナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、１：１．５～１．５：１の範囲、好ましくは１：１．２～１．２：１、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である、実施形態１～１３の何れか１つに記載の触媒。
【0095】
１５．上記混合酸化物を担持する第２の酸化物材料が、１種以上の酸化物、好ましくはチタニウムオキシド、アルミニウムオキシド、シリコンオキシド、及びジルコニウムオキシドの１種以上、より好ましくはチタニウムオキシド及びシリコンオキシドの１種以上、より好ましくはチタニウムオキシド、より好ましくはチタニアを含む、実施形態１～１４の何れか１つに記載の触媒。
【0096】
１６．第２の酸化物材料が、チタニウムオキシド、好ましくはチタニアと、タングステンオキシド、シリコンオキシド、アンチモンオキシド、及びセリウムオキシドの１種以上、より好ましくはタングステンオキシド及びシリコンオキシドの１種以上、好ましくはタングステンオキシドとを含む、実施形態１５に記載の触媒。
【0097】
１７．タングステンオキシドが、チタニアに含浸されている、実施形態１６に記載の触媒。
【0098】
１８．第２の酸化物材料の７５～１００質量％、好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、チタニアで構成されている実施形態１５～１７の何れか１つに記載の触媒。
【0099】
１９．第２の酸化物材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％がチタニア及びタングステンオキシドで構成されており、ここでより好ましくは、第２の酸化物材料の８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び第２の酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１５質量％がタングステンオキシドで構成される、実施形態１５～１８の何れか１つに記載の触媒。
【0100】
２０．コーティングの５０～９０質量％、好ましくは６５～８５質量％、より好ましくは７０～８０質量％が、第２の酸化物材料で構成される、実施形態１５～１９の何れか１つに記載の触媒。
【0101】
２１．上記コーティング中の混合酸化物の量が、第２の酸化物材料の質量に基づいて、３～２５質量％の範囲、好ましくは５～１８質量％の範囲、より好ましくは７～１６質量％の範囲、より好ましくは９～１５質量％の範囲、より好ましくは１０～１４．５質量％の範囲である、実施形態１～２０の何れか１つに記載の触媒。
【0102】
２２．コーティングが更に、酸化物バインダーを含み、該酸化物バインダーは好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、前記酸化物バインダーは、より好ましくはアルミナ及びシリカの１種以上を含み、より好ましくはシリカを含む、実施形態１～２１の何れか１つに記載の触媒。
【0103】
２３．触媒中でコーティングは、第２の酸化物材料の質量に基づいて、１～１０質量％、好ましくは２～８質量％、より好ましくは３～６質量％の酸化物バインダーを含む、実施形態２２に記載の触媒。
【0104】
２４．触媒が、コーティングを、２．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量、好ましくは３～８ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む、実施形態１～２３の何れか１つに記載の触媒。
【0105】
２５．上記コーティングが、上記基材の上記内壁の表面に、上記基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態１～２４の何れか１つに記載の触媒。
【0106】
２６．（ｉｉ）に従うコーティングが、
（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
上記底部コートは、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
上記頂部コートは、上記底部コート上に、上記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態１～２５の何れか１つに記載の触媒。
（ｉｉ．１）第２の酸化物材料に担持された混合酸化物を含む底部コート、
（ｉｉ．２）第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分を含む頂部コート、
を含み、好ましくはこれらから構成され、
上記底部コートは、上記基材の内壁の表面上に、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ここでｘは９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、
上記頂部コートは、上記底部コート上に、上記基材軸長さのｙ％に亘って配置され、ここでｙは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態１～２５の何れか１つに記載の触媒。
【0107】
２７．底部コート（ｉｉ．１）に含まれる混合酸化物を担持する第２の酸化物材料が、実施形態１５～１９の何れか１つに定義されたものである、実施形態２６に記載の触媒。
【0108】
２８．（ｉｉ．１）に従う底部コートが更に、実施形態２２又は２３に記載の酸化物バインダーを含む、実施形態２６又は２７に記載の触媒。
【0109】
２９．（ｉｉ．１）に従う底部コートの９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、混合酸化物、第２の酸化物材料、及びより好ましくは実施形態２８に定義された酸化物バインダーで構成される、実施形態２６～２８の何れか１つに記載の触媒。
【0110】
３０．（ｉｉ．１）に従う底部コートの０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％、より好ましくは０～０．０００００１質量％が、パラジウムから構成され、好ましくはパラジウム及び白金から構成され、より好ましくは白金族金属成分から構成される、実施形態２６～２９の何れか１つに記載の触媒。
【0111】
３１．触媒は（ｉｉ．１）に従う底部コートを、２．２～７ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは２．６～６ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３．１～５ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む、実施形態２６～３０の何れか１つに記載の触媒。
【0112】
３２．（ｉｉ．１）に従う頂部コートが更に、酸化物成分を含み、該酸化物成分は好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、ここで酸化物性成分はより好ましくは、ジルコニア及びアルミナの１種状以上、より好ましくはジルコニアを含む、実施形態２６～３１の何れか１つに記載の触媒。
【0113】
３３．（ｉｉ．１）に従う頂部コートが、酸化物成分を、第１の酸化物材料の質量に基づいて、２～２０質量％の範囲、好ましくは５～１５質量％の範囲、より好ましくは７～１３質量％の範囲で含む、実施形態３２に記載の触媒。
【0114】
３４．（ｉｉ．２）に従う頂部コートの９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が白金族金属成分、好ましくはパラジウム、第１の酸化物材料、及び好ましくは実施形態３２又は３３に定義した酸化物成分で構成される、実施形態２６～３３の何れか１つに記載の触媒。
【0115】
３５．（ｉｉ．２）に従う頂部コートの０～０．１質量％、好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％が、バナジウムで構成される、実施形態２６～３４の何れか１つに記載の触媒。
【0116】
３６．（ｉｉ．２）に従う頂部コートを、０．３～３ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．４～２ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．４～１ｇ／ｉｎ３の範囲の充填量で含む、実施形態２６～３５の何れか１つに記載の触媒。
【0117】
３７．ｘ＝ｙである、実施例２６～３６の何れか１つに記載の触媒。
【0118】
３８．（ｉｉ）に従うコーティングが、１つのコートから構成され、該コートは上記基材の上記内壁の表面に、上記基材軸長さのｚ％に亘って配置され、ここでｚは、９０～１００の範囲、好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態１～２５の何れか１つに記載の触媒。
【0119】
３９．上記コーティングの９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％。より好ましくは９９．９～１００質量％が、第１の酸化物材料に担持された白金族金属成分、第２の酸化物材料に担持されたバナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物、及びより好ましくは実施形態２２又は２３に定義された酸化物バインダー、及び任意に実施形態３２又は３３に定義した酸化物成分で構成される、実施形態１～３８の何れか１つに記載の触媒。
【0120】
４０．上記コーティングの０～０．１質量％、好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％がゼオライト材料、好ましくは分子篩で構成される、実施形態１～３９の何れか１つに記載の触媒。
【0121】
４１．基材（ｉ）及びコーティング（ｉｉ）で構成される、実施形態１～４０の何れか１つに記載の触媒。
【0122】
４２．炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒、好ましくは実施形態１～４１の何れか１つに従う触媒を製造するための方法であって、
（ａ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材を準備する工程、
（ｂ）白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及び好ましくは実施形態２２又は２３に定義した酸化物バインダーを含む１つ以上の混合物を準備する工程、
上記１つ以上の混合物を上記基材軸長さのｚ％に亘って配置すること（但し、ｚは９０～１００の範囲である）、
上記基材上に配置された１つ以上の混合物をか焼すること、を含む方法。
（ａ）入口端、出口端、上記入口端から上記出口端に延びる基材軸長さ、及び上記基材を通って延びる該基材の内壁によって定義された複数の通路を含む基材を準備する工程、
（ｂ）白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及び好ましくは実施形態２２又は２３に定義した酸化物バインダーを含む１つ以上の混合物を準備する工程、
上記１つ以上の混合物を上記基材軸長さのｚ％に亘って配置すること（但し、ｚは９０～１００の範囲である）、
上記基材上に配置された１つ以上の混合物をか焼すること、を含む方法。
【0123】
４３．工程（ｂ）が、
（ｂ．１）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼し、及び水と含浸した酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．２）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．３）好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．４）工程（ｂ．１）で得られた含浸した酸化物材料混合物、好ましくは工程（ｂ．１）で得られたか焼した含浸した酸化物材料との混合物を、工程（ｂ．２）、好ましくは工程（ｂ．３）で得られた混合物と混合し、任意に塩基、好ましくは有機塩基を加えて、得られた混合物の水性相のｐＨを６～８の範囲、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定し、最終的な混合物を得る工程；
（ｂ．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に、好ましくは基材軸長さのｚ％に亘って配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、ｚは、９５～１０、好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．６）任意に、工程（ｂ．５）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７）工程（ｂ．５）で得られた基材上、好ましくは工程（ｂ．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、及び任意に、
（ｂ’．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ｂ．７）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（ｂ’．６）任意に、工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（ｂ’．７）工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材、又は工程（ｂ’．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、好ましくはこれらから構成され、及び
工程（ｂ．７）又は工程（ｂ’．７）から、ＨＣの酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の触媒が得られるものである、実施形態４２に記載の方法。
（ｂ．１）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼し、及び水と含浸した酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．２）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料の混合物を形成する工程；
（ｂ．３）好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．４）工程（ｂ．１）で得られた含浸した酸化物材料混合物、好ましくは工程（ｂ．１）で得られたか焼した含浸した酸化物材料との混合物を、工程（ｂ．２）、好ましくは工程（ｂ．３）で得られた混合物と混合し、任意に塩基、好ましくは有機塩基を加えて、得られた混合物の水性相のｐＨを６～８の範囲、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定し、最終的な混合物を得る工程；
（ｂ．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に、好ましくは基材軸長さのｚ％に亘って配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、ｚは、９５～１０、好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．６）任意に、工程（ｂ．５）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７）工程（ｂ．５）で得られた基材上、好ましくは工程（ｂ．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、及び任意に、
（ｂ’．５）工程（ｂ．４）で得られた最終的な混合物を、工程（ｂ．７）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（ｂ’．６）任意に、工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（ｂ’．７）工程（ｂ’．５）で得られた混合物処理した基材、又は工程（ｂ’．６）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、好ましくはこれらから構成され、及び
工程（ｂ．７）又は工程（ｂ’．７）から、ＨＣの酸化及びＮＯｘの選択的触媒還元用の触媒が得られるものである、実施形態４２に記載の方法。
【0124】
４４．工程（ｂ．１）が、
（ｂ．１．１）白金族金属成分の供給源を第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得る工程；
（ｂ．１．２）好ましくは、工程（ｂ．１．１）で得られた含浸した第１の酸化物材料をガス雰囲気、より好ましくは５００～６５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
（ｂ．１．３）水及び工程（ｂ．１.１）、好ましくは工程（ｂ．１.２）で得られた含浸した酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．１.４）好ましくは、任意に酸、好ましくは有機酸を加えることによって、工程（ｂ．１.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを２～５の範囲、好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４３に記載の方法。
（ｂ．１．１）白金族金属成分の供給源を第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得る工程；
（ｂ．１．２）好ましくは、工程（ｂ．１．１）で得られた含浸した第１の酸化物材料をガス雰囲気、より好ましくは５００～６５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
（ｂ．１．３）水及び工程（ｂ．１.１）、好ましくは工程（ｂ．１.２）で得られた含浸した酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．１.４）好ましくは、任意に酸、好ましくは有機酸を加えることによって、工程（ｂ．１.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを２～５の範囲、好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４３に記載の方法。
【0125】
４５．工程（ｂ．２）が、
（ｂ．２.１）水及び混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．２.２）好ましくは有機分散剤を、工程（ｂ．２.１）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２.３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．２.１）、好ましくは工程（ｂ．２.２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．２.４）好ましくは、工程（ｂ．２.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基、好ましくは有機塩基を加えることによって、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４３又は４４に記載の方法。
（ｂ．２.１）水及び混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．２.２）好ましくは有機分散剤を、工程（ｂ．２.１）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２.３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．２.１）、好ましくは工程（ｂ．２.２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．２.４）好ましくは、工程（ｂ．２.３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基、好ましくは有機塩基を加えることによって、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４３又は４４に記載の方法。
【0126】
４６．工程（ｂ）が、
（ｂ．１’）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼する工程；
（ｂ．２’）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した第１の酸化物材料及び好ましくは酸化物成分の供給源との第１の混合物を形成する工程；
（ｂ．３’）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料との第２の混合物を形成し、第２の混合物を得る工程；
（ｂ．４’）好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．３’）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた第２の混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、好ましくは、第２の混合物は、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ｘは、９０～１００、より好ましくは９５～１００、より好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００である工程；
（ｂ．６’）任意に、工程（ｂ．５’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７’）工程（ｂ．５’）で得られた基材上、好ましくは工程（ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された第２の混合物を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼し、底部コートでコートされた基材を得る工程；
及び任意に、
（Ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた混合物を、工程（ｂ．７’）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（Ｂ．６’）任意に、工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（Ｂ．７’）工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材、又は工程（Ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
ここで、工程（ｂ．７’）又は（Ｂ．７’）から底部コートが得られ；
（ｂ．８’）工程（ｂ．２’）で得られた第１の混合物を、上記底部コート上に配置し、好ましくは、基材軸長さのｙ％に亘って配置し、ここでｙは、９０～１００の範囲、より好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．９’）任意に、工程（ｂ．８’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．１０’）工程（ｂ．８’）で得られた基材上、好ましくは工程（ｂ．９’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、好ましくはこれらから構成される、実施形態４２に記載の方法。
（ｂ．１’）白金族金属成分の供給源を、第１の酸化物材料に含浸させ、含浸した第１の酸化物材料を得、好ましくは、含浸した酸化物材料をか焼する工程；
（ｂ．２’）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した第１の酸化物材料及び好ましくは酸化物成分の供給源との第１の混合物を形成する工程；
（ｂ．３’）水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、及び第２の酸化物材料との第２の混合物を形成し、第２の混合物を得る工程；
（ｂ．４’）好ましくは、酸化物バインダーを工程（ｂ．３’）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた第２の混合物を、工程（ａ）で提供された基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面は、基材の通路と内壁の間の界面を定義するものであり、好ましくは、第２の混合物は、基材軸長さのｘ％に亘って配置され、ｘは、９０～１００、より好ましくは９５～１００、より好ましくは９８～１００、より好ましくは９９～１００である工程；
（ｂ．６’）任意に、工程（ｂ．５’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．７’）工程（ｂ．５’）で得られた基材上、好ましくは工程（ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された第２の混合物を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼し、底部コートでコートされた基材を得る工程；
及び任意に、
（Ｂ．５’）工程（ｂ．３’）、好ましくは工程（ｂ．４’）で得られた混合物を、工程（ｂ．７’）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面上に配置する工程；
（Ｂ．６’）任意に、工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材を乾燥する工程；
（Ｂ．７’）工程（Ｂ．５’）で得られた混合物処理した基材、又は工程（Ｂ．６’）で得られた乾燥した混合物処理した基材を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程；
ここで、工程（ｂ．７’）又は（Ｂ．７’）から底部コートが得られ；
（ｂ．８’）工程（ｂ．２’）で得られた第１の混合物を、上記底部コート上に配置し、好ましくは、基材軸長さのｙ％に亘って配置し、ここでｙは、９０～１００の範囲、より好ましくは９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である工程；
（ｂ．９’）任意に、工程（ｂ．８’）で得られた基材上に配置された混合物を乾燥させ、乾燥した混合物処理した基材を得る工程；
（ｂ．１０’）工程（ｂ．８’）で得られた基材上、好ましくは工程（ｂ．９’）で得られた乾燥した混合物処理した基材上に配置された混合物を、ガス雰囲気中で、好ましくは３５０～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程、
を含み、好ましくはこれらから構成される、実施形態４２に記載の方法。
【0127】
４７．工程（ｂ．２’）が、
（ｂ．２’．１）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した第１の酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．２’．２）工程（ｂ．２’．１）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に酸、好ましくは有機酸を加えることによって２～５の範囲、好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程；
（ｂ．２’．３）好ましくは、酸化物成分の供給源を工程（ｂ．２’．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２’．４）好ましくは、工程（ｂ．２’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４５に記載の方法。
（ｂ．２’．１）水、工程（ｂ．１’）で得られた含浸した第１の酸化物材料との混合物を形成する工程；
（ｂ．２’．２）工程（ｂ．２’．１）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に酸、好ましくは有機酸を加えることによって２～５の範囲、好ましくは３．２５～４．２５の範囲の値に設定する工程；
（ｂ．２’．３）好ましくは、酸化物成分の供給源を工程（ｂ．２’．２）で得られた混合物に加える工程；
（ｂ．２’．４）好ましくは、工程（ｂ．２’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４５に記載の方法。
【0128】
４８．工程（ｂ．３’）が、
（ｂ．３’．１）水、混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．３’．２）好ましくは、工程（ｂ．３’．１）で得られた混合物に有機分散剤を加える工程；
（ｂ．３’．３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．３’．１）、好ましくは工程（ｂ．３’．２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．３’．４）好ましくは、工程（ｂ．３’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４６又は４７に記載の方法。
（ｂ．３’．１）水、混合酸化物の粒子との混合物を形成する工程；
（ｂ．３’．２）好ましくは、工程（ｂ．３’．１）で得られた混合物に有機分散剤を加える工程；
（ｂ．３’．３）第２の酸化物材料を、工程（ｂ．３’．１）、好ましくは工程（ｂ．３’．２）で得られた混合物に混合する工程；
（ｂ．３’．４）好ましくは、工程（ｂ．３’．３）で得られた混合物の水性相のｐＨを、任意に塩基を加えることによって６～８の範囲、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に設定する工程、
を含む、実施形態４６又は４７に記載の方法。
【0129】
４９．工程（ｂ）、（ｂ．５）、（ｂ’．５）、（ｂ．５’）、（Ｂ．５’）及び／又は（ｂ．８’）の１つ以上、好ましくは工程（ｂ）、（ｂ．５）、（ｂ’．５）、（ｂ．５’）、（Ｂ．５’）及び（ｂ．８’）に従う１つ以上の混合物の配置は、基材のスプレーがけ、又は含浸によって行われ、好ましくは基材を上記混合物中に含浸させることによって行われる、実施例４２～４８の何れか１つに記載の方法。
【0130】
５０．工程（ｂ．６）、（ｂ’．６）、（ｂ．６’）及び／又は（Ｂ．６’）に従い、好ましくは工程（ｂ．６）、（ｂ’．６）、（ｂ．６’）及び（Ｂ．６’）に従い、乾燥が６０～２００℃の範囲、好ましくは９０～１６０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ；
ここで、乾燥は好ましくは、ガス雰囲気中で、１０～２４０分の範囲の継続時間、より好ましくは１５～８０分の範囲、より好ましくは２０～６０分の範囲の継続時間で行われる、実施例４３～４８の何れか１つに記載の方法。
ここで、乾燥は好ましくは、ガス雰囲気中で、１０～２４０分の範囲の継続時間、より好ましくは１５～８０分の範囲、より好ましくは２０～６０分の範囲の継続時間で行われる、実施例４３～４８の何れか１つに記載の方法。
【0131】
５１．工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び／又は（ｂ．１０’）に従い、好ましくは工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び（ｂ．１０’）に従い、か焼は、４２５～４７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われる、実施例４２～５０の何れか１つに記載の方法。
【0132】
５２．工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び／又は（ｂ．１０’）に従い、好ましくは工程（ｂ）、（ｂ．７）、（ｂ’．７）、（ｂ．７’）、（Ｂ．７’）及び（ｂ．１０’）に従い、か焼は、ガス雰囲気中で、１０～２４０分の範囲の継続時間、好ましくは１５～８０分の範囲、より好ましくは２０～６０分の範囲の継続時間で行われる実施例４２～５１の何れか１つに記載の方法。
【0133】
５３．ガス雰囲気は酸素を含み、上記雰囲気は、より好ましくは空気である、実施形態４２～５２の何れか１つに記載の方法。
【0134】
５４．工程（ｂ）における白金族金属成分は、パラジウム、白金、ロジウム、及びイリジウムの１つ以上を含み、好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはパラジウム及びロジウムの１つ以上を含み、より好ましくはパラジウムを含み、より好ましくは、白金族金属成分の供給源は、白金族金属成分の塩、より好ましくは白金族金属の硝酸塩を含む実施形態４２～５３の何れか１つに記載の方法。
【0135】
５５．工程（ｂ．２’）における酸化物成分は、ジルコニア、シリカ、アルミナ及びチタニアの１種以上、好ましくはジルコニア及びシリカの１種以上であり、より好ましくはジルコニアである実施形態４５又は４６に記載の方法。
【0136】
５６．工程（ａ）及び（ｂ）で構成される、実施形態４２～５５の何れか１つに記載の方法。
【0137】
５７．白金族金属成分の供給源、第１の酸化物材料の粒子、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、エウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１つ以上との混合酸化物の粒子、第２の酸化物材料、及び好ましくは実施形態２２又は２３に定義した酸化物バインダーを含む、水性懸濁物。
【0138】
５８．炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒、好ましくは実施形態１～４１の何れか１つに従う、実施形態４２～５６の何れか１つに従う方法によって得ることができる、又は得られた、炭化水素を酸化し及び窒素酸化物を選択的に触媒還元するための触媒。
【0139】
５９．内燃エンジンからの、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガスを処理するための排ガス処理システムであって、実施形態１～４１及び５７の何れか１つに従う触媒、及びアンモニア酸化触媒、ディーゼル酸化触媒、選択的触媒還元触媒、及び触媒粒子フィルターの１つ以上を含む排ガス処理システム。
【0140】
６０．実施形態１～４１及び５８の何れか１つに従う触媒が、上記システムの第１の触媒であり、上記システムは、実施形態１～４１及び５８の何れか１つに従う触媒の下流に配置された第１のアンモニア酸化触媒、及び第１のアンモニア酸化触媒の下流に配置され、及び好ましくは選択的触媒還元触媒の上流に配置された触媒煤フィルターを含み、ここで上記システムに含まれる選択的触媒還元触媒は好ましくは、第２のアンモニア酸化触媒の上流に配置され、及び任意にディーゼル酸化触媒が、第１のアンモニア酸化触媒の下流、及び触媒煤フィルターの上流に配置される、実施形態５９に記載のシステム。
【0141】
６１．実施形態１～４１及び５８の何れか１つに従う炭化水素を酸化し、及び窒素酸化物（ＮＯｘ）を選択的に触媒還元するための触媒を、ＮＯｘの選択的触媒還元と炭化水素の酸化を同時に行うために使用する方法。
【0142】
６２．
（１）ＮＯｘ及び炭化水素の１種以上を含むガス流を供給する工程；
（２）工程（１）で供給されたガス流を、実施形態１～４１及び５８の何れか１つに従う、炭化水素の酸化及び窒素酸化物（ＮＯｘ）の選択的触媒還元用の触媒と接触させる工程、
を含む、炭化水素の酸化及び窒素酸化物の選択的触媒還元を同時に行う方法。
（１）ＮＯｘ及び炭化水素の１種以上を含むガス流を供給する工程；
（２）工程（１）で供給されたガス流を、実施形態１～４１及び５８の何れか１つに従う、炭化水素の酸化及び窒素酸化物（ＮＯｘ）の選択的触媒還元用の触媒と接触させる工程、
を含む、炭化水素の酸化及び窒素酸化物の選択的触媒還元を同時に行う方法。
【0143】
本発明に関し、「内壁の表面」という用語は、壁の「裸の(naked)」又は「むき出しの(bare)」又は「ブランクな(blank)」表面を意味すると理解され、すなわち表面が汚されても良い、不可避の不純物は別にして、壁の材料で構成された、未処理の状態の壁の表面を意味すると理解される。
【0144】
更に、本発明に関し、「Ｘが、Ａ、Ｂ及びＣの１つ以上である」という記載で、Ｘは与えられた機構であり、及びＡ、Ｂ及びＣが、上述した機構の特定の具体化である記載において、この記載は、Ｘが、Ａ、又はＢ、又はＣ、又はＡ及びＢ、又はＡ及びＣ、又はＢ及びＣ、又はＡ及びＢ及びＣの何れかを開示しているものと理解される。この構成に関し、この技術分野の当業者は、上述した抽象的事項を具体的な例、例えばＸが化学元素であり、及びＡ、Ｂ及びＣが、具体的な元素、例えばＬｉ、Ｎａ及びＫであること、又はＸが温度であり、及びＡ、Ｂ及びＣが、具体的な温度、例えば１０℃、２０℃及３０℃であることに変換できることが注記される。この構成に関し、この技術分野の当業者は、上述した機構のより少ない特定の具体化、例えば、「Ｘが、Ａ及びＢの１つ以上である」は、Ｘが、Ａ、又はＢ、又はＡ及びＢを開示していることに拡張可能であり、又はより多い特定の具体化、例えば、「Ｘが、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの１つ以上である」は、Ｘが、Ａ、又はＢ、又はＣ、又はＤ、又はＡ及びＢ、又はＡ及びＣ、又はＡ及びＤ、又はＢ及びＣ、又はＢ及びＤ、又はＣ及びＤ、又はＡ及びＢ及びＣ、又はＡ及びＢ及びＤ、又はＢ及びＣ及びＤ、又はＡ及びＢ及びＣ及びＤを開示していることに拡張可能である、ことが更に注記される。
【0145】
更に、本発明に関し、１種以上の成分の質量％についての「から構成される(consist of)」は、取り扱う全体を１００質量％にして、上述した（１種以上の）成分の質量％量を示すものである。例えば、「底部コートの０～０．００１質量％が、パラジウムで構成される」という記載は、上記コートを構成する成分を１００質量％として、０～０．００１質量％がパラジウムであることを示している。
【0146】
最後に、本発明に関し、「コーティング」という用語は、基材の内壁の表面に配置された被覆を示し、上記コーティングは、単一コート又は複数のコートを含んでも良く、好ましくは単一コート又は２コート（２コート：頂部コート及び底部コート）を含んで良い。更に、本発明に関し、コート又はコーティングを調製する場合、コーティング工程は、目標とする充填量を達成するために２回繰り返されて良く、ここで本発明に開示した「コート」又は「コーティング」は、ＳＥＭ分析を使用してのみ識別可能な同じ化学的組成／触媒活性を有する、１つ以上の層を含んで良い。
【0147】
本発明を更に、参照例、比較例及び実施例を使用して以下に説明する。
【実施例】
【0148】
実施例
参照例１ Ｄｖ１０、Ｄｖ５０及びＤｖ９０値の測定
粒子のサイズ分布を、Ｓｙｍ－ｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ装置を使用した静的光散乱法によって測定したが、ここで試料の光学的濃度は５～１０％であった。
参照例１ Ｄｖ１０、Ｄｖ５０及びＤｖ９０値の測定
粒子のサイズ分布を、Ｓｙｍ－ｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ装置を使用した静的光散乱法によって測定したが、ここで試料の光学的濃度は５～１０％であった。
【0149】
参照例２ ＢＥＴ比表面積の測定
ＢＥＴ比表面積を液体窒素を使用して、ＤＩＮ６６１３１又はＤＩＮ ＩＳＯ９２７７に従って測定した。
ＢＥＴ比表面積を液体窒素を使用して、ＤＩＮ６６１３１又はＤＩＮ ＩＳＯ９２７７に従って測定した。
【0150】
参照例 ３ 一般的なコーティング方法
流通基材を１つ以上のコートで被覆するために、流通基材を与えられた混合物中に、特定の長さ（通常約１インチ）で垂直に浸し、基材を混合物の所定量で満たした。このようにして、混合物は基材の壁と接触した。基材を混合物中に特定の期間、通常１～１０秒にわたり保持した。真空状態を施し、混合物を基材中に引き込んだ。次に基材を混合物から除去した。基材をその軸の回りに回転させ、浸漬側を浮き彫りにし(point up)及び高圧の空気で基材を通して混合物を押し出した。
流通基材を１つ以上のコートで被覆するために、流通基材を与えられた混合物中に、特定の長さ（通常約１インチ）で垂直に浸し、基材を混合物の所定量で満たした。このようにして、混合物は基材の壁と接触した。基材を混合物中に特定の期間、通常１～１０秒にわたり保持した。真空状態を施し、混合物を基材中に引き込んだ。次に基材を混合物から除去した。基材をその軸の回りに回転させ、浸漬側を浮き彫りにし(point up)及び高圧の空気で基材を通して混合物を押し出した。
【0151】
実施例１ 多機能性混合触媒の（Ｐｄ／ジルコニア成分及びＶ－含有混合酸化物を使用した）調製
Ｐｄのジルコニウムベースの酸化物担体（ＢＥＴ比表面積が６７ｍ２／ｇ、Ｄｖ５０が３ミクロンメートル及びＤｖ９０が１６ミクロンメートルであり、１０質量％のＬａ２Ｏ３及び２質量％のＨｆＯ２を有する８８質量％のＺｒＯ２）上への初期湿潤含浸。最初に、酸化物担体の有効孔体積を測定し、そしてこの体積に基づいて、上記有効孔体積に等しい体積の希釈パラジウム塩溶液を作成した。この希釈溶液を次に、Ｚｒに基づく酸化物担体に、一定の攪拌下に３０分にわたり滴下して加え、湿った材料を得た。得られた材料を次に、オーブン中で５９０℃でか焼し、そして冷却した。か焼の後、得られた粉を蒸留水と混合し、４０％が固体の水性混合物を得、及び有機酸を使用してｐＨを３．７５に調節した。この点で、スラリーを混合物の粒子のＤｖ９０が１０ミクロンメートルになるまで製粉（mill）した。
Ｐｄのジルコニウムベースの酸化物担体（ＢＥＴ比表面積が６７ｍ２／ｇ、Ｄｖ５０が３ミクロンメートル及びＤｖ９０が１６ミクロンメートルであり、１０質量％のＬａ２Ｏ３及び２質量％のＨｆＯ２を有する８８質量％のＺｒＯ２）上への初期湿潤含浸。最初に、酸化物担体の有効孔体積を測定し、そしてこの体積に基づいて、上記有効孔体積に等しい体積の希釈パラジウム塩溶液を作成した。この希釈溶液を次に、Ｚｒに基づく酸化物担体に、一定の攪拌下に３０分にわたり滴下して加え、湿った材料を得た。得られた材料を次に、オーブン中で５９０℃でか焼し、そして冷却した。か焼の後、得られた粉を蒸留水と混合し、４０％が固体の水性混合物を得、及び有機酸を使用してｐＨを３．７５に調節した。この点で、スラリーを混合物の粒子のＤｖ９０が１０ミクロンメートルになるまで製粉（mill）した。
【0152】
別個に、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１、Ｄｖ５０が約２ミクロンメートル及びＤｖ９０が約１１ミクロンメートルのＦｅＶＯ４）粉を、蒸留水を混合することによって、バナジウム混合物を作成した。得られた混合物の固体含有量は、得られた混合物の質量に基づいて１０質量％であった。所定量の鉄バナジウム酸塩を計算し、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの充填量が５％の最終充填量で存在するようにした（ＦｅＶＯ４の充填量が、ＦｅＶＯ４として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの１０．４８％の最終充填量であった）。この混合物に、アクリルに基づく分散剤（最終的なコーティング充填量に基づいて５質量％）を加え、そしてこの後に、タングステンドープのチタニアオキシド（１０質量％のＷＯ３でドープした約９０質量％ＴｉＯ２、ＢＥＴ比表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ１０が０．５ミクロンメートル、Ｄｖ５０が１．２ミクロンメートル、Ｄｖ９０が３．７ミクロンメートル、）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋ＷＯ３の最終充填量を、３．３５ｇ／ｉｎ３とした。次に上述した混合物のｐＨを、塩基を加えることによって７に設定した。この後、水性コロイド状シリカバインダーを加え、か焼後の最終的なＳｉＯ２充填量を０．１６８ｇ／ｉｎ３とした。最終的な混合物固体含有量は、４３質量％であった。
【0153】
この点で、Ｐｄ含浸ＺｒＯ２混合物を、ＦｅＶＯ４／ＴｉＯ２混合物中に混合し、及びｐＨを再度７に調節した。最終的な混合物は、ハニカム流通モノリスコージライト基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）、１平方センチメートル当たり４００／（２．５４）２個のセル及び０．１０ミリメートル（４ミル）の壁厚を有するシリンダー形状の基材）に直ぐに配置できるものであった。基材を、参照例３で定義したコーティング方法に従い、最終的な混合物で被覆した。４．５ｇ／ｉｎ３という目標ウォッシュコート充填量を達成するために、基材をその全長に亘って２回被覆したが、これは基材の入口端から一度、及び基材の出口端から一度行われ、及び各被覆工程の後に乾燥及びか焼工程を行った。被覆した基材を乾燥するために、基材をオーブン中に９０℃で３０分間置いた。乾燥の後、被覆した基材を３０分間、５９０℃でか焼した。か焼後の触媒中のコーティングの最終的な充填量は、４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．３５ｇ／ｉｎ３のチタニア＋ＷＯ３、０．４７ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算して、０．０２５ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）、０．５ｇ／ｉｎ３のジルコニア＋ＨｆＯ２＋Ｌａ２Ｏ３、０．１６７ｇ／ｉｎ３のシリカ及び１５ｇ／ｆｔ３の充填量のＰｄを含んでいた。
【0154】
実施例２．１ （Ｐｄ／アルミナ及びＶ混合酸化物を使用した）多機能性層化触媒の調製
底部コーティング：
鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉を蒸留水と混合した。得られた混合物の固体含有量は、得られた混合物の質量に基づいて１０質量％であった。所定量の鉄バナジウム酸塩を計算し、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの充填量が５％の最終充填量で存在するようにした（ＦｅＶＯ４の充填量が、ＦｅＶＯ４として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの１０．４８％の最終充填量であった）。この混合物に、アクリルに基づく分散剤を加え、そしてこの後に、タングステンドープのチタニアオキシド（１０質量％のＷＯ３でドープした約９０質量％ＴｉＯ２、ＢＥＴ比表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ１０が０．５ミクロンメートル、Ｄｖ５０が１．２ミクロンメートル、及びＤｖ９０が３．７ミクロンメートル、）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋ＷＯ３の最終充填量を、３．４１ｇ／ｉｎ３とした。得られた混合物のｐＨを７に設定した。この後、水性コロイド状シリカバインダー（を加え）、か焼後の最終的なＳｉＯ２充填量を０．１７１ｇ／ｉｎ３とし、（追加的な蒸留水と一緒に）混合物の質量に基づいて、４３質量％の最終的な混合物固体含有量を得た。ハニカム流通モノリスコージライト基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）、１平方センチメートル当たり４００／（２．５４）２個のセル及び０．１０ミリメートル（４ミル）の壁厚）を、参照例３で定義したコーティング方法に従い、最終的な混合物で被覆した。４ｇ／ｉｎ３という目標ウォッシュコート充填量を達成するために、基材をその全長に亘って２回被覆したが、これは基材の入口端から一度、及び基材の出口端から一度行われ、及び各被覆工程の後に乾燥及びか焼工程を行った。被覆、乾燥及びか焼手順は、実施例１のものと同様であった。か焼後の触媒中の底部コーティングの最終的な充填量は、４ｇ／ｉｎ３で、これは３．４１ｇ／ｉｎ３のチタニア＋ＷＯ３、０．４１９ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算して、０．２ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）及び０．１７１ｇ／ｉｎ３のシリカを含んでいた。
底部コーティング：
鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉を蒸留水と混合した。得られた混合物の固体含有量は、得られた混合物の質量に基づいて１０質量％であった。所定量の鉄バナジウム酸塩を計算し、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの充填量が５％の最終充填量で存在するようにした（ＦｅＶＯ４の充填量が、ＦｅＶＯ４として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの１０．４８％の最終充填量であった）。この混合物に、アクリルに基づく分散剤を加え、そしてこの後に、タングステンドープのチタニアオキシド（１０質量％のＷＯ３でドープした約９０質量％ＴｉＯ２、ＢＥＴ比表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ１０が０．５ミクロンメートル、Ｄｖ５０が１．２ミクロンメートル、及びＤｖ９０が３．７ミクロンメートル、）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋ＷＯ３の最終充填量を、３．４１ｇ／ｉｎ３とした。得られた混合物のｐＨを７に設定した。この後、水性コロイド状シリカバインダー（を加え）、か焼後の最終的なＳｉＯ２充填量を０．１７１ｇ／ｉｎ３とし、（追加的な蒸留水と一緒に）混合物の質量に基づいて、４３質量％の最終的な混合物固体含有量を得た。ハニカム流通モノリスコージライト基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）、１平方センチメートル当たり４００／（２．５４）２個のセル及び０．１０ミリメートル（４ミル）の壁厚）を、参照例３で定義したコーティング方法に従い、最終的な混合物で被覆した。４ｇ／ｉｎ３という目標ウォッシュコート充填量を達成するために、基材をその全長に亘って２回被覆したが、これは基材の入口端から一度、及び基材の出口端から一度行われ、及び各被覆工程の後に乾燥及びか焼工程を行った。被覆、乾燥及びか焼手順は、実施例１のものと同様であった。か焼後の触媒中の底部コーティングの最終的な充填量は、４ｇ／ｉｎ３で、これは３．４１ｇ／ｉｎ３のチタニア＋ＷＯ３、０．４１９ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算して、０．２ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）及び０．１７１ｇ／ｉｎ３のシリカを含んでいた。
【0155】
頂部コーティング
Ｐｄのアルミナベースの酸化物担体（ＢＥＴ比表面積が１４５ｍ２／ｇ、Ｄｖ５０が３２ミクロンメートル及びＤｖ９０が６２．５ミクロンメートルであり、２０％のＺｒＯ２及び３％のＬａ２Ｏ３がドープされたガンマ及びデルタアルミナ）上への初期湿潤含浸。最初に、与えられた酸化物担体の有効孔体積を測定し、そしてこの体積に基づいて、上記有効孔体積に等しい体積の希釈パラジウム塩溶液を作成した。この希釈溶液を次に、Ａｌに基づく酸化物担体に、一定の攪拌下に３０分にわたり滴下して加え、湿った材料を得た。得られた材料を次に、オーブン中で５９０℃でか焼し、そして冷却した。か焼の後、得られた粉を蒸留水と混合し混合物を得、及び有機酸を使用して水性相のｐＨを３．７５に調節した。この点で、スラリーを混合物の粒子のＤｖ９０が１０ミクロンメートルになるまで製粉した。
Ｐｄのアルミナベースの酸化物担体（ＢＥＴ比表面積が１４５ｍ２／ｇ、Ｄｖ５０が３２ミクロンメートル及びＤｖ９０が６２．５ミクロンメートルであり、２０％のＺｒＯ２及び３％のＬａ２Ｏ３がドープされたガンマ及びデルタアルミナ）上への初期湿潤含浸。最初に、与えられた酸化物担体の有効孔体積を測定し、そしてこの体積に基づいて、上記有効孔体積に等しい体積の希釈パラジウム塩溶液を作成した。この希釈溶液を次に、Ａｌに基づく酸化物担体に、一定の攪拌下に３０分にわたり滴下して加え、湿った材料を得た。得られた材料を次に、オーブン中で５９０℃でか焼し、そして冷却した。か焼の後、得られた粉を蒸留水と混合し混合物を得、及び有機酸を使用して水性相のｐＨを３．７５に調節した。この点で、スラリーを混合物の粒子のＤｖ９０が１０ミクロンメートルになるまで製粉した。
【0156】
製粉後、溶解性ジルコニウムバインダーを混合物に加え、これがＡｌベースの酸化物担体の１１％になるように計算した。得られた最終的な混合物は、上記最終的な混合物の質量に基づいて、３８質量％に減少した固体含有量を有していた。この時点で、上記混合物は、底部コーティングで既に被覆されている基材上に直ぐに配置できるものであった。底部コーティングで被覆された基材を、参照例３で定義したコーティング方法に従い、上記の最終的な混合物で基材の全長に亘って一度被覆した。乾燥条件は、実施例１と同様であった。しかしながら、乾燥の後、被覆した基材を３０分間、４５０℃でか焼した。か焼後の触媒中の頂部コーティングの最終的な充填量は、０．５ｇ／ｉｎ３で、これは０．４４ｇ／ｉｎ３のＡｌベースの酸化物担体、０．０５６ｇ／ｉｎ３のジルコニア及び１５ｇ／ｆｔ３の充填量のＰｄを含んでいた。
【0157】
実施例２．２ （Ｐｄ／ジルコニア及びＶ混合酸化物を使用した）多機能性層状化触媒の調製
底部コーティング：実施例２．２の底部コーティングを、実施例２．１の底部コーティングのように調製した。従って、か焼後の触媒中の底部コーティングの最終的な充填量は、４ｇ／ｉｎ３で、これは３．４１ｇ／ｉｎ３のチタニア＋ＷＯ３、０．４１９ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算して、０．２ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）及び０．１７ｇ／ｉｎ３のシリカを含んでいた。
底部コーティング：実施例２．２の底部コーティングを、実施例２．１の底部コーティングのように調製した。従って、か焼後の触媒中の底部コーティングの最終的な充填量は、４ｇ／ｉｎ３で、これは３．４１ｇ／ｉｎ３のチタニア＋ＷＯ３、０．４１９ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算して、０．２ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）及び０．１７ｇ／ｉｎ３のシリカを含んでいた。
【0158】
頂部コーティング：アルミナベースの酸化物担体を、ジルコニウムベースの酸化物担体（ＢＥＴ比表面積が６７ｍ２／ｇ、Ｄｖ５０が３ミクロンメートル及びＤｖ９０が１６ミクロンメートルであり、１０質量％のＬａ２Ｏ３及び２質量％のＨｆＯ２を有する８８質量％のＺｒＯ２）に替えたこと以外は、実施例２．２の頂部コーティングを、実施例２．１の頂部コーティングのように調製した。従って、か焼後の触媒中の頂部コーティングの最終的な充填量は、０．５ｇ／ｉｎ３で、これは０．４３５ｇ／ｉｎ３のＺｒベースの酸化物担体、０．０５６ｇ／ｉｎ３のジルコニア及び１５ｇ／ｆｔ３の充填量のＰｄを含んでいた。
【0159】
実施例３ 実施例１、２．１及び２．２の試験－脱ＮＯｘ及びＮ２Ｏ形成
実施例１、２．１及び２．２の新鮮な触媒のＮＯｘ変換及び窒素酸化物（Ｎ２Ｏ）の形成を、異なる温度、すなわち２００～３２５℃（時空速度（ＧＨＳＶ）：２００、２４０、２７５、３００及び３２５℃で４００００ｈ－１）で測定した。触媒を各搭載点で安定化させ、及びその後に、１．５（２００及び２４０℃）、１．２（２７５℃）又は１．０（３００及び３２５℃）の何れかのＡＮＲ（アンモニアのＮＯｘに対する比率）でウレアを、触媒のＮＨ３飽和を示すＮＨ３スリップが観察されるまで投入した。各温度で、ＡＮＲ事前調整(ANR pre-conditioning)が、１．０よりも大きい場合、ＡＮＲを１．０に低減し、及び系を平衡状態に到達させ、ここで排気物質を監視した。結果を図１及び２に示した。
実施例１、２．１及び２．２の新鮮な触媒のＮＯｘ変換及び窒素酸化物（Ｎ２Ｏ）の形成を、異なる温度、すなわち２００～３２５℃（時空速度（ＧＨＳＶ）：２００、２４０、２７５、３００及び３２５℃で４００００ｈ－１）で測定した。触媒を各搭載点で安定化させ、及びその後に、１．５（２００及び２４０℃）、１．２（２７５℃）又は１．０（３００及び３２５℃）の何れかのＡＮＲ（アンモニアのＮＯｘに対する比率）でウレアを、触媒のＮＨ３飽和を示すＮＨ３スリップが観察されるまで投入した。各温度で、ＡＮＲ事前調整(ANR pre-conditioning)が、１．０よりも大きい場合、ＡＮＲを１．０に低減し、及び系を平衡状態に到達させ、ここで排気物質を監視した。結果を図１及び２に示した。
【0160】
図１から理解されるように、３つの全てのＰｄ含有Ｖ－ＳＣＲ触媒は、ＮＯｘ変換の高いレベルを提供した。このことは、ＰＧＭはこれらの条件下でＮＨ３の相当な部分を酸化せず、及び少なくとも３２５℃までは、ＮＨ３の酸化を配慮することなく触媒を使用して良いことを示している。実際に、実施例２．１のみが３２５℃でのＮＨ３の酸化の何らかの兆しを示し、実施例１及び２．２はなお、３２５℃で１００％変換を維持していた。
【0161】
図２から理解されるように、３つの全ての触媒は、Ｎ２Ｏを低いレベルで生成する；しかしながら、実施例１及び２．１は全ての測定温度に亘ってより少ないＮ２Ｏを生成する。
【0162】
比較例１ （Ｐｄ／ジルコニア及びＣｕ－ゼオライトを使用した）混合触媒の調製
比較例１の触媒は、チタニア担体上の鉄バナジウム酸塩を、Ｃｕ－ＣＨＡゼオライト材料（Ｃｕ：ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ－ＣＨＡの質量に基づいて３．２５質量％、ＣＨＡはＤｖ９０が２５ミクロンメートル、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３が３１、及びＢＥＴ比表面積が約６２５ｍ２／ｇ）に替えたこと以外は、実施例１の触媒と同様に調製された。更に、溶解性ジルコニウム溶液（３０質量％のＺｒＯ２）をバインダーとして水及びＣｕ－ＣＨＡを含む混合物に加えたが、コロイド状シリカバインダーは加えなかった。か焼後の触媒中のコーティングの最終的な充填量は、３．０ｇ／ｉｎ３で、これは２．５６ｇ／ｉｎ３のＣｕ－ＣＨＡ、０．３ｇ／ｉｎ３のジルコニア＋ＨｆＯ３＋Ｌａ２Ｏ３、０．１３ｇ／ｉｎ３のジルコニア及び１５ｇ／ｆｔ３のＰｄ充填量を含んでいた。
比較例１の触媒は、チタニア担体上の鉄バナジウム酸塩を、Ｃｕ－ＣＨＡゼオライト材料（Ｃｕ：ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ－ＣＨＡの質量に基づいて３．２５質量％、ＣＨＡはＤｖ９０が２５ミクロンメートル、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３が３１、及びＢＥＴ比表面積が約６２５ｍ２／ｇ）に替えたこと以外は、実施例１の触媒と同様に調製された。更に、溶解性ジルコニウム溶液（３０質量％のＺｒＯ２）をバインダーとして水及びＣｕ－ＣＨＡを含む混合物に加えたが、コロイド状シリカバインダーは加えなかった。か焼後の触媒中のコーティングの最終的な充填量は、３．０ｇ／ｉｎ３で、これは２．５６ｇ／ｉｎ３のＣｕ－ＣＨＡ、０．３ｇ／ｉｎ３のジルコニア＋ＨｆＯ３＋Ｌａ２Ｏ３、０．１３ｇ／ｉｎ３のジルコニア及び１５ｇ／ｆｔ３のＰｄ充填量を含んでいた。
【0163】
比較例２ （Ｐｄ／セリア－ジルコニア及びＣｕ－ゼオライトを使用した）混合触媒の調製
比較例２の触媒は、ジルコニウムベースの酸化物担体を、Ｃｅ／Ｚｒ酸化物担体（４０質量％のセリア、５０質量％のジルコニア＋ＨｆＯ２、５質量％のＬａＯ３、及び５質量％のＰｒ６Ｏ１１、ＢＥＴ比表面積が８０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が１５ミクロンメートル）に替えたこと以外は、比較例１の触媒と同様に調製された。か焼後の触媒中のコーティングの最終的な充填量は、３．０ｇ／ｉｎ３で、これは２．５６ｇ／ｉｎ３のＣｕ－ＣＨＡ、０．３ｇ／ｉｎ３のセリア＋ジルコニア＋ランタン＋プラセオジム、０．１３ｇ／ｉｎ３のジルコニア及び１５ｇ／ｆｔ３のＰｄ充填量を含んでいた。
比較例２の触媒は、ジルコニウムベースの酸化物担体を、Ｃｅ／Ｚｒ酸化物担体（４０質量％のセリア、５０質量％のジルコニア＋ＨｆＯ２、５質量％のＬａＯ３、及び５質量％のＰｒ６Ｏ１１、ＢＥＴ比表面積が８０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が１５ミクロンメートル）に替えたこと以外は、比較例１の触媒と同様に調製された。か焼後の触媒中のコーティングの最終的な充填量は、３．０ｇ／ｉｎ３で、これは２．５６ｇ／ｉｎ３のＣｕ－ＣＨＡ、０．３ｇ／ｉｎ３のセリア＋ジルコニア＋ランタン＋プラセオジム、０．１３ｇ／ｉｎ３のジルコニア及び１５ｇ／ｆｔ３のＰｄ充填量を含んでいた。
【0164】
実施例４ 実施例１、２．１及び２．２及び比較例１～３の試験－ライトオフ性能
炭化水素を実施例１、２．１及び２．２及び比較例１～２の触媒の上流で、異なる入口温度（２７５℃、２９０℃、３０５℃、及び３２０℃）で投入したが、これは各触媒の出口端で４５０℃の目標温度を得ることが可能であるか決定するためであった（空間速度：６０ｋ／ｈ）。
炭化水素を実施例１、２．１及び２．２及び比較例１～２の触媒の上流で、異なる入口温度（２７５℃、２９０℃、３０５℃、及び３２０℃）で投入したが、これは各触媒の出口端で４５０℃の目標温度を得ることが可能であるか決定するためであった（空間速度：６０ｋ／ｈ）。
【0165】
図３から理解されるように、実施例２．１の触媒（層状化触媒－２コート）を使用して、２７５℃の入口温度でのＨＣ投入の後、４５０℃の目標とする出口温度を達成することが可能であり、この一方で、比較例１及び２の触媒（混合触媒）を使用して、２７５℃、２９０℃、３０５℃及び３２０℃の入口温度でのＨＣ投入の後、それぞれ２７５～３２０℃の出口温度しか達成できなかった。これらの比較例では、入口温度と出口温度は同じであった。従って、このことは、これらの触媒ではＨＣ酸化は僅かにしか起きていないか、起きておらず、及びＨＣ酸化反応が迅速に抑えられていることを示している。実施例２．１からの触媒は、４つの全ての入口温度段階で４５０℃の目標とする出口温度を達成する一方、実施例２．２からの触媒は、２９０℃及びこれを超える入口温度で、４５０℃の目標とする出口温度に達した。このことは、比較例２及び３とＰｄ充填量が同じであるにも拘わらず、実施例２．１及び２．２の触媒からのＨＣ酸化に対する活性を明確に実証している。
【0166】
更に、実施例１の触媒（混合触媒）を使用して、３０５℃の入口温度でＨＣ投入の後、３５０℃の上昇した出口温度を得、及び３２０℃の入口温度で４１０℃の上昇した出口温度を得ることが可能であった。
【0167】
これとは対照的に、比較例１及び２の触媒（Ｃｕ－ＣＨＡを使用し、及びＶ混合酸化物を使用しない混合触媒）では、ＨＣ投入の後、発熱状態を得ることのみが可能であり、しかし出口温度は入口温度と常に同じであった。従って、この実施例は、Ｖの混合酸化物の存在が、多機能性触媒におけるＨＣ点火性能を高め得ることを実証している。
【0168】
実施例６ 実施例１、２．１、２．２及び比較例１の試験－脱ＮＯｘ及びＮ２Ｏ形成－ＵＳ＋ＦＴＰ＋ＷＨＴＣ
図４に示したデータを得るために、各触媒をエンジン試験セル（６．７Ｌディーゼルエンジン及びウレアインジェクタからの下流）中に別個に取り付けた。各触媒は、１０．５”×６”のサイズであった。ＮＯｘ変換及びＮ２Ｏ形成を、ＵＳ－ＦＴＰ及びＷＨＴＣ ｔｒａｎｓｉｅｎｔ ｃｙｃｌｅ（ＷＨＴＣ試験サイクル）を介して評価したが、ここで試験セルエンジンは、それぞれおよそ６．８及び６．０ｇ／ｋＷｈを生成した。平衡状態を確実に達成するために、与えたｔｒａｎｓｉｅｎｔ ｃｙｃｌｅを１３回行った：ＡＮＲ＝０．１で２回、ＡＮＲ＝０．８で５回、ＡＮＲ＝１．０で３回、及びＡＮＲ＝１．２で３回。ここに示したデータは、ＡＮＲ＝１．２での最後のサイクルから得たものである。脱ＮＯｘは、質量平均ＮＯｘ変換として示し、及びＮ２Ｏ形成は、サイクルに亘り生成したパワーに基づいた、ｇ／ｋＷｈとして示した。
図４に示したデータを得るために、各触媒をエンジン試験セル（６．７Ｌディーゼルエンジン及びウレアインジェクタからの下流）中に別個に取り付けた。各触媒は、１０．５”×６”のサイズであった。ＮＯｘ変換及びＮ２Ｏ形成を、ＵＳ－ＦＴＰ及びＷＨＴＣ ｔｒａｎｓｉｅｎｔ ｃｙｃｌｅ（ＷＨＴＣ試験サイクル）を介して評価したが、ここで試験セルエンジンは、それぞれおよそ６．８及び６．０ｇ／ｋＷｈを生成した。平衡状態を確実に達成するために、与えたｔｒａｎｓｉｅｎｔ ｃｙｃｌｅを１３回行った：ＡＮＲ＝０．１で２回、ＡＮＲ＝０．８で５回、ＡＮＲ＝１．０で３回、及びＡＮＲ＝１．２で３回。ここに示したデータは、ＡＮＲ＝１．２での最後のサイクルから得たものである。脱ＮＯｘは、質量平均ＮＯｘ変換として示し、及びＮ２Ｏ形成は、サイクルに亘り生成したパワーに基づいた、ｇ／ｋＷｈとして示した。
【0169】
図４から理解されるように、実施例１及び２．１の脱ＮＯｘ活性は、ＵＳ－ＦＴＰサイクルに亘って比較例２に対して僅かにしか劣っていなかった。幾分かより暖かいＷＨＴＣサイクルに亘っては、実施例１、２．１及び２．２の全ては、同等の変換を有していた。
【0170】
重要なことに、実施例１、２．１及び２．２は、ＵＳ－ＦＴＰサイクルに亘って、比較例１と比較して、より少ないＮ２Ｏを生成したが、これは現行及び将来の法律に合致するために重要な特性である。
【0171】
引用した文献
－ＵＳ２０１５／０３７５２０７Ａ１
－ＵＳ５３７１０５６
－ＷＯ２０１８／２２４６５１Ａ２
－ＵＳ２０１５／０３７５２０７Ａ１
－ＵＳ５３７１０５６
－ＷＯ２０１８／２２４６５１Ａ２
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【国際調査報告】