特表 2022-552365 折り畳み可能な装置及び製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2022-12-15

(54)【発明の名称】折り畳み可能な装置及び製造方法

(51)【国際特許分類】

   B32B 27/04 20060101AFI20221208BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20221208BHJP

   H05B 33/02 20060101ALI20221208BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20221208BHJP

【ＦＩ】

B32B27/04 Z

H05B33/14 A

H05B33/02

H05B33/10

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2022522616

(86)(22)【出願日】2020-10-12

(85)【翻訳文提出日】2022-06-13

(86)【国際出願番号】 US2020055187

(87)【国際公開番号】W WO2021076432

(87)【国際公開日】2021-04-22

(31)【優先権主張番号】62/914,733

(32)【優先日】2019-10-14

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】62/958,106

(32)【優先日】2020-01-07

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】63/022,748

(32)【優先日】2020-05-11

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】397068274

【氏名又は名称】コーニング インコーポレイテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100073184

【弁理士】

【氏名又は名称】柳田 征史

(74)【代理人】

【識別番号】100175042

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 秀明

(72)【発明者】

【氏名】チェン，ナイゴン

(72)【発明者】

【氏名】ゴヤル，サスミット スニール クマール

(72)【発明者】

【氏名】グロス，ティモシー マイケル

(72)【発明者】

【氏名】ハリス，ジェイソン トーマス

(72)【発明者】

【氏名】キム，ジェニー

(72)【発明者】

【氏名】キテルソン，アンドリュー ピーター

(72)【発明者】

【氏名】カラウシュ，ユスフ カイエド

(72)【発明者】

【氏名】タンドン，プシュカル

(72)【発明者】

【氏名】ウィークス，ウェンデル ポーター

(72)【発明者】

【氏名】ワイケル，アーリン リー

(72)【発明者】

【氏名】シュィ，ティンガァ

(72)【発明者】

【氏名】ジャン，イン

【テーマコード（参考）】

3K107

4F100

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107BB07

3K107BB08

3K107CC41

3K107DD17

3K107FF02

3K107FF15

3K107GG56

4F100AG00A

4F100AK01A

4F100AK01D

4F100AK04D

4F100AK04J

4F100AK25D

4F100AK51D

4F100AL09A

4F100AR00B

4F100AR00D

4F100AT00C

4F100BA01A

4F100BA02

4F100BA03

4F100BA04

4F100BA10A

4F100BA10C

4F100BA41A

4F100GB48

4F100JK07B

4F100JK17A

4F100JL11B

4F100YY00

4F100YY00B

4F100YY00D

(57)【要約】

折り畳み可能な装置は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域との間に画成された第１の端面を含む第１の部分を含みうる。折り畳み可能な装置は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域との間に画成された第２の端面を含む第２の部分を含みうる。第１の鈍角の端面と第２の鈍角の端面との間にポリマーをベースとした部分を配置することができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分は、第２の表面領域及び／又は第１の表面領域から測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含みうる。幾つかの実施形態では、第１の端面及び／又は第２の端面は、鈍角の端面を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上に、コーティングを配置することができる。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

折り畳み可能な装置であって、
第１の表面領域及び該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域、前記第１の表面領域と前記第２の表面領域との間に画成された第１の端面、並びに前記第１の表面領域と前記第２の表面領域との間に画成された第１の厚さを含む、第１の部分、
第３の表面領域及び該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域、前記第３の表面領域と前記第４の表面領域との間に画成された第２の端面、並びに前記第３の表面領域と前記第４の表面領域との間に画成された第２の厚さを含む、第２の部分、及び
前記第１の端面と前記第２の端面との間に位置づけられたポリマーをベースとした部分であって、該ポリマーをベースとした部分が前記第１の部分の前記第２の表面領域及び前記第２の部分の前記第４の表面領域と接触し、前記ポリマーをベースとした部分が第３の接触面と該第３の接触面とは反対側の第４の接触面とを含み、かつ前記ポリマーをベースとした部分が前記第１の部分の前記第２の表面領域から前記第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む、ポリマーをベースとした部分
を含む、折り畳み可能な装置。

【請求項2】

第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む第１の接着層をさらに含み、前記第２の接触面が前記第１の表面領域及び前記第３の表面領域に面しており、前記第１の接触面と前記第２の接触面との間に画成された前記第１の接着層の厚さが約１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、請求項１に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項3】

前記ポリマーをベースとした部分の前記第３の接触面が前記第１の接着層の前記第２の接触面と接触しており、前記第１の部分の前記第１の表面領域が前記第１の接着層の前記第２の接触面と接触しており、前記第２の部分の前記第３の表面領域が前記第１の接着層の前記第２の接触面と接触している、請求項２に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項4】

前記第１の接着層が約０．００１メガパスカルから約０．５メガパスカルの範囲の弾性率を含む；又は、前記第１の接着層が約２５０メガパスカルから約４ギガパスカルの範囲の弾性率を含む
のうちの少なくとも一方である、請求項２又は請求項３に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項5】

第１の主面と該第１の主面とは反対側の第２の主面との間に画成された第１の基板厚さを含む第１の基板をさらに含み、前記第１の基板の前記第２の主面が前記第１の部分の前記第１の表面領域及び前記第２の部分の前記第３の表面領域に面している、請求項１から４のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項6】

前記第１の部分、前記第２の部分、及び前記ポリマーをベースとした部分の上に配置されたコーティングをさらに含み、前記コーティングが約０．１マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項7】

前記コーティングが、エチレン－酸コポリマー、ポリウレタン系ポリマー、アクリレート樹脂、又はメルカプトエステル樹脂のうちの１つ以上を含む、請求項６に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項8】

前記折り畳み可能な装置が、約２０ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、請求項１から７のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項9】

前記第１の部分の前記第１の端面と前記第２の部分の前記第２の端面との間の最小距離が、有効最小曲げ半径の約２倍から約６０ミリメートルまでの範囲にある、請求項１から８のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項10】

前記第１の部分の前記第１の端面と前記第２の部分の前記第２の端面との間の最小距離が、約１ミリメートル～約１００ミリメートルの範囲にある、請求項１から９のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項11】

前記ポリマーをベースとした部分がエラストマーを含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項12】

前記第１の端面が第１の鈍角の端面を含み、前記第２の端面が第２の鈍角の端面を含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項13】

前記折り畳み可能な装置が、前記第１の部分の位置から１５センチメートルのペン落下高さで故障に耐える、請求項１から１２のいずれか一項に記載の折り畳み可能な装置。

【請求項14】

折り畳み可能な装置を製造する方法において、該方法が、
第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程であって、前記第１の部分が第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含み、前記第１の部分の第１の端面が前記第１の表面領域と前記第２の表面領域との間に画成され、前記第２の部分が第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域を含み、かつ前記第２の部分の第２の端面が前記第３の表面領域と前記第４の表面領域との間に画成されている、工程、
前記第１の部分と前記第２の部分との間に画成された領域に充填して、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程であって、前記ポリマーをベースとした部分が前記第１の部分の前記第１の表面領域及び前記第２の部分の前記第３の表面領域の少なくとも一部を覆い、前記ポリマーをベースとした部分が、前記第１の部分の前記第１の表面領域から前記第１の部分の第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む、工程
を含む、方法。

【請求項15】

前記第１の部分、前記第２の部分、及び前記ポリマーをベースとした部分の上にコーティングを配置する工程をさらに含み、前記コーティングが、約０．１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む、請求項１４に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【関連出願の相互参照】

【0001】

本出願は、その内容が依拠され、その全体がここに参照することによって本願に援用される、２０２０年０５月１１日出願の米国仮特許出願第６３／０２２７４８号、２０２０年１月７日出願の米国仮特許出願第６２／９５８１０６号、及び２０１９年１０月１４日出願の米国仮特許出願第６２／９１４７３３号の米国法典第３５編特許法１１９条に基づく優先権の利益を主張する。

【技術分野】

【0002】

本開示は、概して、折り畳み可能な装置及び製造方法に関し、より詳細には、部分を含む折り畳み可能な装置、及び折り畳み可能な装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0003】

ガラスをベースとした基板は、例えば、ディスプレイデバイス、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）、有機発光ダイオードディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などにおいて一般的に使用される。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

折り畳み可能なディスプレイ、並びに折り畳み可能なディスプレイに取り付けるための折り畳み可能な保護カバーを開発することが望まれている。折り畳み可能なディスプレイ及びカバーは、良好な耐衝撃性及び穿刺抵抗性を備えている必要がある。同時に、折り畳み可能なディスプレイ及びカバーは、小さい最小曲げ半径（例えば、約１０ミリメートル（ｍｍ）以下）を備えている必要がある。しかしながら、小さい最小曲げ半径を有するプラスチックのディスプレイ及びカバーは、耐衝撃性及び／又は穿刺抵抗性が不十分な傾向がある。さらには、一般通念では、小さい最小曲げ半径を有する、極めて薄いガラスをベースとしたシート（例えば、約７５マイクロメートル（μｍ又はミクロン）以下の厚さ）は、不十分な耐衝撃性及び／又は穿刺抵抗性を有する傾向があることが示唆されている。さらには、良好な耐衝撃性及び／又は穿刺抵抗性を有する、より厚いガラスをベースとしたシート（例えば、１２５マイクロメートル超）は、比較的大きい最小曲げ半径（例えば、約３０ミリメートル以上）を有する傾向がある。したがって、低い最小曲げ半径並びに良好な耐衝撃性及び穿刺抵抗性を有する、折り畳み可能な装置を開発することが必要とされている。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本明細書には、第１の部分及び第２の部分を含む折り畳み可能な装置、並びに折り畳み可能な装置の製造方法が記載されている。部分は、ガラスをベースとした部分、セラミックをベースとした部分、及び／又はポリマーをベースとした部分を含むことができ、これにより、折り畳み可能な装置に良好な耐衝撃性及び／又は良好な穿刺抵抗を提供することができる。第１の部分及び／又は第２の部分は、１つ以上の圧縮応力領域を含むガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含むことができ、これにより、増加した耐衝撃性及び／又は増加した穿刺抵抗をさらに提供することができる。ガラスをベースとした基板及び／又はセラミックをベースとした基板を含む基板を提供することにより、良好な折り畳み性能を同時に促進しつつ、増加した耐衝撃性及び／又は増加した穿刺抵抗を提供することもできる。

【0006】

第１の部分の第１の端面及び第２の部分の第２の端面は、鈍角の端面を含むことができ、これにより、例えば、第１の部分及び／又は第２の部分とポリマーをベースとした部分との間の界面での応力集中を最小化することができる。第１の部分及び／又は第２の部分に鈍角の端面を提供することにより、ポリマーをベースとした部分と第１の部分及び／又は第２の部分との間の接着に基づく故障（例えば、剥離）の発生を低減することができる。他の実施形態では、第１の端部及び／又は第２の端部は、鈍角にする必要がない。

【0007】

第１の部分と第２の部分との間の領域は、ポリマーをベースとした部分を含むことができ、これにより、良好な折り畳み性能（例えば、約１ｍｍ～約２０ｍｍ、例えば約５ｍｍ～約１０ｍｍの範囲の有効最小有効曲げ半径）を提供することができる。第１の部分と第２の部分との間に小さい最小距離（例えば、約３０ｍｍ以下、例えば、約５ｍｍ～約２０ｍｍ、又は５ｍｍ～約１０ｍｍ）を提供することにより、良好な折り畳み性能をさらに提供することができるだけでなく、折り畳み可能な装置の耐衝撃性の低い領域（例えば、第１の部分及び／又は第２の部分を含む折り畳み可能な装置の部分と比較した、ポリマーをベースとした部分を含む折り畳み可能な装置の部分）を最小限に抑えることができる。幾つかの実施形態では、コーティングは、少なくともポリマーをベースとした部分の上（例えば、ポリマーをベースとした部分とユーザとの間）に配置することができる。

【0008】

第１の部分及び／又は第２の部分の表面領域と接触するポリマーをベースとした部分を提供することにより、例えば、コーティング及び／又は基板の中立軸をコーティング及び／又は基板のミッドプレーンよりもポリマーをベースとした部分の近くにシフトさせることによって、コーティング及び／又は基板における折り畳みによって誘発される応力を低減することができる。第１の部分及び第２の部分の両方に接触するポリマーをベースとした部分をさらに提供することにより、画像を見るときの光学的歪み（例えば、ディスプレイデバイス又は他の電子デバイスからの）を低減することができる。同じ方向に面している一対の表面領域と接触するポリマーをベースとした部分をさらに提供することにより、第１の部分及び第２の部分を覆う接触面を提供して、構成要素（例えば、基板、コーティング、剥離ライナ、ディスプレイデバイス）を結合するためのその長さ及び／又は幅にわたって一貫した特性を備えた接触面を提示することができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分及び／又は接着層（例えば、第１、第２、第３）は、第１の部分及び／又は第２の部分の屈折率と実質的に一致しうる屈折率（例えば、約０．１以下の差の大きさ）を含むことができ、これにより、光学的歪みを最小限に抑えることができる。

【0009】

第１の部分の第１の表面領域と第２の部分の第３の表面領域、及び／又は第１の部分の第２の表面領域と第２の部分の第４の表面領域に接触するポリマーをベースとした部分を提供することにより、折り畳み可能な装置の信頼性をさらに高めることができる。例えば、対応する端面を超えて延びる第１の部分及び／又は第２の部分との間の一貫した界面を提供することにより、界面の歪み及び／又は応力を低減し、対応する部分への応力集中を低減することができる。さらなる実施形態では、機械的不安定性の発生は、第１の部分の第１の表面領域、第１の部分の第２の表面領域、第２の部分の第３の表面領域、及び／又は第２の部分の第４の表面領域のうちの１つ以上からポリマーをベースとした部分の小さい厚さ（例えば、約５ミリメートル以下、約１ミリメートル～約５ミリメートル）を提供することによって低減することができる。さらなる実施形態では、第１の部分から第２の部分まで延びるポリマーをベースとした部分及び／又は接着剤部分の接触面を提供することにより、他の構成要素が接着するための均一な界面を提供することができ、これにより、応力集中を低減し、折り畳みによって誘発される故障の発生を低減することができる。

【0010】

少なくともポリマーをベースとした部分の上（例えば、ポリマーをベースとした部分とユーザとの間）に配置された無機層（例えば、ガラスをベースとした基板、セラミックをベースとした基板、サファイア）を提供することにより、良好な折り畳み性能を同時に促進しつつ、増加した耐衝撃性及び／又は増加した穿刺抵抗を提供することもできる。例えば、無機層は、折り畳み可能な装置がポリマーをベースとした部分を含む折り畳み可能な装置の中央部分が耐えることができるペン落下高さを増加させることができる。無機層の幅を制限すること（例えば、第１の部分と第２の部分との間の最小距離の約１００％～約２００％）により、ペン落下性能の増加をもたらすことができ、基板内の材料の量を最小限に抑えることができる。さらなる実施形態では、無機層は、例えば、基板を受け入れるように構成された第１の部分及び／又は第２の部分の凹み部分を提供することにより、折り畳み可能な装置の残りの部分と一致した主面を提供することができる。第１の部分、第２の部分、及び無機層を含む一致した主面を提供することにより、光学的歪みを低減することができる折り畳み可能な装置の滑らかな表面を可能にすること、及び／又は折り畳み可能な装置のユーザのための知覚される連続表面を可能にすることができる。

【0011】

折り畳み可能な装置が曲がった構成にあるときに中立応力構成を提供することにより、折り畳み可能な装置を所定の平行平板距離まで折り畳む力を低減することができる。さらには、折り畳み可能な装置が曲がった状態にあるときに中立応力構成を提供することにより、通常の使用条件中にポリマーをベースとした部分が経験する最大応力及び／又は最大歪みを低減することができ、これにより、例えば、折り畳み可能な装置の耐久性の向上及び／又は疲労の低減を可能にすることができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分は、低い（例えば、実質的にゼロ及び／又は負の）熱膨張係数を含むことができ、これにより、ポリマーをベースとした部分の硬化中の体積変化によって生じる反りを軽減することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、硬化の結果として膨張するポリマーをベースとした部分を提供することによって生成することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、ポリマーをベースとした部分を曲がった構成で硬化させることによって生成することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、リボンを高温で折り畳むことによって生成することができる（例えば、リボンが約１０^４パスカル秒及び約１０^７パスカル秒の範囲の粘度を含む場合）。

【0012】

コーティングを提供することにより、第１の部分、第２の部分、及び／又はポリマーをベースとした部分の折り畳みによって誘発される応力を低減することができる。コーティングを提供することにより、小さい平行平板距離を達成するための力を低減することができる（例えば、１０ｍｍの平行平板距離を達成するために約１０ニュートン（Ｎ）以下、約３ｍｍの平行平板距離を達成するために約３Ｎ以下）。コーティングを提供することにより、同時に良好な折り畳み性能を促進しつつ、折り畳み可能な装置の耐スクラッチ性、耐衝撃性、及び／又は穿刺抵抗も向上させることができる。幾つかの実施形態では、基板は、少なくともポリマーをベースとした部分の上（例えば、ポリマーをベースとした部分とユーザとの間）に配置することができる。コーティングがガラスをベースとした基板の弾性率より小さい弾性率を有する場合、及び／又はコーティングが約２００μｍ以下の厚さを有する場合、コーティングは、例えば、ポリマーをベースとした部分の中立軸をコーティング（例えば、ユーザに面した表面）から遠ざかるようにシフトさせることによって、小さい力で小さい平行平板距離の達成を可能にすることができる。さらには、基板上にコーティングを提供することにより、折り畳み可能な装置の故障時（例えば、設計限界を超えて押された場合）に破片の低速放出をもたらすことができる、及び／又は約３以下のアスペクト比を含む破片を含むことができる。

【0013】

本開示の幾つかの例となる実施態様は、さまざまな実施態様の特徴のいずれかが単独で又は互いに組み合わせて使用されうることを理解して、以下に説明される。

【0014】

実施態様１．折り畳み可能な装置は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む第１の部分を含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の端面が画成される。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の厚さが画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の端面が画成される。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第１の端面と第２の端面との間に位置づけられたポリマーをベースとした部分を含む。ポリマーをベースとした部分は、第３の接触面と該第３の接触面とは反対側の第４の接触面とを含む。ポリマーをベースとした部分は、屈折率を含む。折り畳み可能な装置が曲がった構成にあるとき、折り畳み可能な装置は中立応力構成を含む。

【0015】

実施態様２．平らな構成から中立応力構成への折り畳み可能な装置の動きが、約１％～約８％の範囲のポリマーをベースとした部分の偏差歪みの最大の大きさに対応する、実施態様１に記載の折り畳み可能な装置。

【0016】

実施態様３．偏差歪みの最大の大きさが約２％～約６％の範囲にある、実施態様２に記載の折り畳み可能な装置。

【0017】

実施態様４．ポリマーをベースとした部分が負の熱膨張係数を含む、実施態様１から３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0018】

実施態様５．ポリマーをベースとした部分が、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域と接触する、実施態様１から４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域から第１の厚さの方向に測定して、約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さをさらに含む。

【0019】

実施態様６．ポリマーをベースとした部分が、第１の部分の第１の表面領域及び第２の部分の第３の表面領域と接触する、実施態様１から４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第１の表面領域から第１の厚さの方向に測定して、約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さをさらに含む。

【0020】

実施態様７．折り畳み可能な装置は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む第１の部分を含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の端面が画成される。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む第２の部分を含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の端面が画成される。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第１の端面と第２の端面との間に位置づけられたポリマーをベースとした部分を含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域と接触する。ポリマーをベースとした部分は、第３の接触面と該第３の接触面とは反対側の第４の接触面とを含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域から第１の厚さの方向に測定して、約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む。

【0021】

実施態様８．折り畳み可能な装置は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む第１の部分を含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の端面が画成される。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む第２の部分を含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の端面が画成される。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第１の端面と第２の端面との間に位置づけられたポリマーをベースとした部分を含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第１の表面領域及び第２の部分の第３の表面領域と接触する。ポリマーをベースとした部分は、第３の接触面と該第３の接触面とは反対側の第４の接触面とを含む。ポリマーをベースとした部分は、屈折率と、第１の部分の第１の表面領域から第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さとを含む。

【0022】

実施態様９．ポリマーの厚さが、約１０マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様５から８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0023】

実施態様１０．ポリマーの厚さが約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様５から８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0024】

実施態様１１．第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む第１の接着層をさらに含む、実施態様１から６のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の接触面は、第１の表面領域及び第３の表面領域に面している。

【0025】

実施態様１２．第１の接触面と第２の接触面との間に画成された第１の接着層の厚さが、約１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様１１に記載の折り畳み可能な装置。

【0026】

実施態様１３．第１の接着層の厚さが、約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様１２に記載の折り畳み可能な装置。

【0027】

実施態様１４．ポリマーをベースとした部分の第３の接触面が、第１の接着層の第２の接触面と接触する、実施態様１１から１３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0028】

実施態様１５．第１の部分の第１の表面領域が、第１の接着層の第２の接触面と接触する、実施態様１１から１４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分の第３の表面領域は、第１の接着層の第２の接触面と接触する。

【0029】

実施態様１６．第１の接着層が、約０．００１メガパスカル～約０．５メガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１１から１５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0030】

実施態様１７．第１の接着層が、約２５０メガパスカル～約４ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１１から１５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0031】

実施態様１８．第１の接着層が、アクリレート系ポリマー、エポキシをベースとした材料、及び／又はポリウレタンをベースとした材料を含む、実施態様１７に記載の折り畳み可能な装置。

【0032】

実施態様１９．第１の接着層の屈折率とポリマーをベースとした部分の屈折率との間の差の大きさが約０．１以下である、実施態様１１から１８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0033】

実施態様２０．第５の接触面と該第５の接触面とは反対側の第６の接触面とを含む第２の接着層をさらに含む、実施態様１から４及び実施態様７から８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第５の接触面は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域に面している。

【0034】

実施態様２１．第５の接触面と第６の接触面との間に画成された第２の接着層の厚さが、約１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様２０に記載の折り畳み可能な装置。

【0035】

実施態様２２．第２の接着層の厚さが、約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様２１に記載の折り畳み可能な装置。

【0036】

実施態様２３．ポリマーをベースとした部分の第４の接触面が、第２の接着層の第５の接触面と接触する、実施態様２０から２２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0037】

実施態様２４．第１の部分の第２の表面領域が、第２の接着層の第５の接触面と接触する、実施態様２０から２３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分の第４の表面領域は、第２の接着層の第５の接触面と接触する。

【0038】

実施態様２５．第２の接着層が、約０．００１メガパスカル～約０．５メガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様２０から２４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0039】

実施態様２６．第２の接着層が、約２５０メガパスカル～約４ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様２０から２４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0040】

実施態様２７．第２の接着層が、約１ギガパスカル以上の弾性率を含む、実施態様２０から２４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0041】

実施態様２８．第２の接着層が、アクリレート系ポリマー、エポキシをベースとした材料、及び／又はポリウレタンをベースとした材料を含む、実施態様２６又は２７に記載の折り畳み可能な装置。

【0042】

実施態様２９．第２の接着層の屈折率とポリマーをベースとした部分の屈折率との間の差の大きさが約０．１以下である、実施態様２０から２８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0043】

実施態様３０．第１の主面と該第１の主面とは反対側の第２の主面との間に画成された第１の基板厚さを含む第１の基板をさらに含む、実施態様１から２９のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第１の基板の第２の主面は、第１の部分の第１の表面領域及び第２の部分の第３の表面領域に面している。

【0044】

実施態様３１．折り畳み可能な装置は、第１の主面と該第１の主面とは反対側の第２の主面との間に画成された第１の基板厚さを含む、第１の基板を含む。折り畳み可能な装置は、第１の基板の第１の主面に面する第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む、第１の接着層を含む。折り畳み可能な装置は、第１の接着層の第２の接触面に面する第１の表面領域を含む第１の部分を含む。第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域との間に第１の端面が画成される。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第１の接着層の第２の接触面に面する第３の表面領域を含む第２の部分を含む。第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域との間に第２の端面が画成される。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第１の基板の第１の主面に面する第３の接触面と該第３の接触面とは反対側の第４の接触面とを含むポリマーをベースとした部分を含む。ポリマーをベースとした部分は、屈折率を含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間に位置づけられる。

【0045】

実施態様３２．ポリマーをベースとした部分の第３の接触面が、第１の接着層の第２の接触面と接触する、実施態様３１に記載の折り畳み可能な装置。

【0046】

実施態様３３．第１の部分の第１の表面領域が、第１の接着層の第２の接触面と接触する、実施態様３１から３２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分の第３の表面領域は、第１の接着層の第２の接触面と接触する。

【0047】

実施態様３４．第１の基板の屈折率とポリマーをベースとした部分の屈折率との間の差の大きさが約０．１以下である、実施態様３１から３３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0048】

実施態様３５．第１の基板厚さが約１０マイクロメートル～約６０マイクロメートルの範囲にある、実施態様３０から３４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0049】

実施態様３６．第１の基板が、セラミックをベースとした基板を含む、実施態様３０から３５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0050】

実施態様３７．第１の基板が、ガラスをベースとした基板を含む、実施態様３０から３５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0051】

実施態様３８．第１の基板の第１の主面における第５の圧縮応力領域及び第１の基板の第２の主面における第６の圧縮応力領域をさらに含む、実施態様３０から３７のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0052】

実施態様３９．第５の圧縮応力領域が、約１００メガパスカル～約１，５００メガパスカルの範囲の第５の最大圧縮応力を含む、実施態様３８に記載の折り畳み可能な装置。第６の圧縮応力領域は、約１００メガパスカル～約１，５００メガパスカルの範囲の第６の最大圧縮応力を含む。

【0053】

実施態様４０．第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域の上に配置された第２の基板をさらに含む、実施態様１から３９のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0054】

実施態様４１．第２の基板がガラスをベースとした基板を含む、実施態様４０に記載の折り畳み可能な装置。

【0055】

実施態様４２．第２の基板がセラミックをベースとした基板を含む、実施態様４０に記載の折り畳み可能な装置。

【0056】

実施態様４３．第２の基板が、約１０マイクロメートル～約６０マイクロメートルの範囲の第２の基板厚さを含む、実施態様４０から４２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0057】

実施態様４４．第１の基板の第２の主面の上に配置されたコーティングをさらに含む、実施態様３０から４３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。コーティングは、約０．１マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む。

【0058】

実施態様４５．第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上に配置されたコーティングをさらに含む、実施態様１から４３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。コーティングは、約０．１マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む。

【0059】

実施態様４６．折り畳み可能な装置は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む第１の部分を含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の端面が画成される。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む第２の部分を含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の端面が画成される。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の厚さが画成される。折り畳み可能な装置は、第１の端面と第２の端面との間に位置づけられたポリマーをベースとした部分を含む。ポリマーをベースとした部分は、屈折率を含む。折り畳み可能な装置は、第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上に配置されたコーティングを含む。コーティングは、約０．１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む。

【0060】

実施態様４７．コーティング厚さが、約５マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様４４から４６のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0061】

実施態様４８．コーティングが、エチレン－酸コポリマー、ポリウレタン系ポリマー、アクリレート樹脂、又はメルカプトエステル樹脂のうちの１つ以上を含む、実施態様４４から４７のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0062】

実施態様４９．ポリマーをベースとした部分の第３の接触面の上に配置された無機層をさらに含む、実施態様１から４８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0063】

実施態様５０．無機層がサファイアを含む、実施態様４９に記載の折り畳み可能な装置。

【0064】

実施態様５１．無機層が、約１マイクロメートル～約７０マイクロメートルの範囲の厚さを含む、実施態様４９又は実施態様５０に記載の折り畳み可能な装置。

【0065】

実施態様５２．折り畳み可能な装置の長さ方向の無機層の長さが、第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離の約１００％～約２００％の範囲にある、実施態様４９から５１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0066】

実施態様５３．折り畳み可能な装置が、約２０ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施態様１から５１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0067】

実施態様５４．折り畳み可能な装置が、約１０ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施態様１から５１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0068】

実施態様５５．折り畳み可能な装置が、約６ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施態様１から５１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0069】

実施態様５６．第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離が、有効最小曲げ半径の約２倍から約６０ミリメートルまでの範囲にある、実施態様５３から５５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0070】

実施態様５７．第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離が、有効最小曲げ半径の約２倍から約３０ミリメートルまでの範囲にある、実施態様５３から５５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0071】

実施態様５８．第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離が、約１ミリメートル～約１００ミリメートルの範囲にある、実施態様１から５５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0072】

実施態様５９．最小距離が約１０ミリメートル～約６０ミリメートルの範囲にある、実施態様５８に記載の折り畳み可能な装置。

【0073】

実施態様６０．最小距離が、約２ミリメートル～約３０ミリメートルの範囲にある、実施態様５８に記載の折り畳み可能な装置。

【0074】

実施態様６１．最小距離が約５ミリメートル～約２０ミリメートルの範囲にある、実施態様５８から６０のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0075】

実施態様６２．ポリマーをベースとした部分がエラストマーを含む、実施態様１から６１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0076】

実施態様６３．ポリマーをベースとした部分が、約０．０１メガパスカル～約１０ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１から６２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0077】

実施態様６４．ポリマーをベースとした部分の弾性率が、約０．０１メガパスカル～約１，０００メガパスカルである、実施態様６３に記載の折り畳み可能な装置。

【0078】

実施態様６５．ポリマーをベースとした部分の弾性率が、約２０メガパスカル～約３ギガパスカルである、実施態様６３に記載の折り畳み可能な装置。

【0079】

実施態様６６．ポリマーをベースとした部分が、ポリスチレン、ポリジクロロホスファゼン、及びポリ（５－エチリデン－２－ノルボルネン）のうちの１つ以上を含むブロックコポリマーを含む、実施態様６３から６５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0080】

実施態様６７．ポリマーをベースとした部分が、約２００メガパスカル以上の弾性率を含む、実施態様１から６２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0081】

実施態様６８．ポリマーをベースとした部分の弾性率が、約１ギガパスカル～約５ギガパスカルの範囲にある、実施態様６７に記載の折り畳み可能な装置。

【0082】

実施態様６９．ポリマーをベースとした部分の弾性率が第１の部分の弾性率より小さく、ポリマーをベースとした部分の弾性率が第２の部分の弾性率よりも小さい、実施態様６２から６８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0083】

実施態様７０．ポリマーをベースとした部分が、少なくとも０％～約１０％の歪みにわたって線形弾性を示す、実施態様６３から６９のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0084】

実施態様７１．ポリマーをベースとした部分が、少なくとも０％～約２０％の歪みにわたって線形弾性を示す、実施態様６３から６９のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0085】

実施態様７２．第１の部分の屈折率とポリマーをベースとした部分の屈折率との間の差の大きさが、約０．１以下である、実施態様１から７１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0086】

実施態様７３．第１の端面が第１の鈍角の端面を含む、実施態様１から７２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の端面は第２の鈍角の端面を含む。

【0087】

実施態様７４．第１の端面の第１の鈍角の端面が曲面端面を含む、実施態様７３に記載の折り畳み可能な装置。第２の端面の第２の鈍角の端面は、曲面端面を含む。

【0088】

実施態様７５．第１の鈍角の端面の曲面端面が楕円形の端面を含む、実施態様７４に記載の折り畳み可能な装置。楕円形の端面は、第１の厚さ方向の長軸と該長軸に垂直な方向の短軸とによって画成される。長軸の長さは短軸の長さより大きい。

【0089】

実施態様７６．長軸の長さの短軸の長さに対する比が、１超～約４の範囲にある、実施態様７５に記載の折り畳み可能な装置。

【0090】

実施態様７７．第１の端面の第１の鈍角の端面の曲面端面が、約１０マイクロメートル～約１００マイクロメートルの範囲の曲率半径をさらに含む、実施態様７５に記載の折り畳み可能な装置。

【0091】

実施態様７８．第１の端面の第１の鈍角の端面の曲面端面が、第１の厚さの約３０％～約７０％の範囲の曲率半径をさらに含む、実施態様７５に記載の折り畳み可能な装置。

【0092】

実施態様７９．第１の鈍角の端面の曲面端面が、第１の曲率半径より小さい第２の曲率半径をさらに含む、実施態様７７又は実施態様７８に記載の折り畳み可能な装置。

【0093】

実施態様８０．第１の端面の曲面端面が、第１の端面全体を含む、実施態様７４から７９のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0094】

実施態様８１．ポリマーをベースとした部分が、折り畳み可能な装置の折り畳み軸の方向の幅を含む、実施態様１から８０のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。ポリマーをベースとした部分の幅は、折り畳み軸の方向の折り畳み可能な装置の幅に実質的に等しい。

【0095】

実施態様８２．第１の部分が第１のポリマーをベースとした部分を含む、実施態様１から８１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分は、第２のポリマーをベースとした部分を含む。

【0096】

実施態様８３．第１の部分が第１のセラミックをベースとした部分を含む、実施態様１から８１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分は、第２のセラミックをベースとした部分を含む。

【0097】

実施態様８４．第１の部分が第１のガラスをベースとした部分を含む、実施態様１から８１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分は、第２のガラスをベースとした部分を含む。

【0098】

実施態様８５．第１の部分の弾性率が約５ギガパスカル以上である、実施態様１から８４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第２の部分の弾性率は約５ギガパスカル以上である。

【0099】

実施態様８６．第１の厚さが、約１０マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲にある、実施態様１から８５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0100】

実施態様８７．第１の厚さが、約２５マイクロメートル～約６０マイクロメートルの範囲にある、実施態様８６に記載の折り畳み可能な装置。

【0101】

実施態様８８．第２の厚さが第１の厚さに実質的に等しい、実施態様８６又は実施態様８７に記載の折り畳み可能な装置。

【0102】

実施態様８９．第１の部分が、第１の表面領域に第１の圧縮応力領域を含む、実施態様１から８８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。第１の部分は、第２の表面領域に第２の圧縮応力領域を含む。第２の部分は、第３の表面領域に第３の圧縮応力領域を含む。第２の部分は、第４の表面領域に第４の圧縮応力領域を含む。

【0103】

実施態様９０．第１の圧縮応力領域が、約１００メガパスカル～約１，５００メガパスカルの範囲の第１の最大圧縮応力を含む、実施態様８９に記載の折り畳み可能な装置。第２の圧縮応力領域は、約１００メガパスカル～約１，５００メガパスカルの範囲の第２の最大圧縮応力を含む。第３の圧縮応力領域は、約１００メガパスカル～約１，５００メガパスカルの範囲の第３の最大圧縮応力を含む。第４の圧縮応力領域は、約１００メガパスカル～約１，５００メガパスカルの範囲の第４の最大圧縮応力を含む。

【0104】

実施態様９１．折り畳み可能な装置が、第１の部分の位置から１５センチメートルのペン落下高さで故障に耐える、実施態様１から９０のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0105】

実施態様９２．折り畳み可能な装置が、第１の部分の位置から２０センチメートルのペン落下高さで故障に耐える、実施態様１から９０のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0106】

実施態様９３．折り畳み可能な装置が、第１の部分と第２の部分との間のポリマーをベースとした部分の位置にわたり、５センチメートルのペン落下高さで故障に耐える、実施態様１から９０のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0107】

実施態様９４．折り畳み可能な装置を平らな構成から約１０ミリメートルの平行平板距離まで曲げる幅あたりの力が、約０．０１０ニュートン／メートル以下である、実施態様１から９３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。折り畳み可能な装置の幅は、折り畳み軸の方向に延在する。

【0108】

実施態様９５．折り畳み可能な装置を平らな構成から約３ミリメートルの平行平板距離まで曲げる幅あたりの力が、約０．００３ニュートン／メートル以下である、実施態様１から９３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。折り畳み可能な装置の幅は、折り畳み軸の方向に延在する。

【0109】

実施態様９６．消費者向け電子製品は、前面、背面、及び側面を含む筐体を含む。消費者向け電子製品は、少なくとも部分的に筐体内にある電気部品を含む。電気部品は、コントローラ、メモリ、及びディスプレイを含む。ディスプレイは、筐体の前面にあるか又はそれに隣接している。消費者向け電子製品は、ディスプレイの上に配置されたカバー基板を含む。筐体の一部又はカバー基板のうちの少なくとも一方は、実施態様１から９５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置を含む。

【0110】

実施態様９７．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程を含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の厚さが画成される。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分と第２の部分との間に画成された領域に充填して、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程を含む。該方法は、第１の部分、ポリマーをベースとした部分、及び第２の部分の上に第１の接着層を配置する工程を含む。第１の接着層は、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む。該方法は、第１の接着層の上に第１の基板を配置する工程を含む。

【0111】

実施態様９８．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分と第２の部分との間に画成された領域に充填して、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程を含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域の少なくとも一部を覆う。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域から第１の部分の第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む。

【0112】

実施態様９９．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分と第２の部分との間に画成された領域に充填して、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程を含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第１の表面領域及び第２の部分の第３の表面領域の少なくとも一部を覆う。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第１の表面領域から第１の部分の第１の厚さの方向に測定して、約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む。

【0113】

実施態様１００．ポリマーの厚さが、約１０マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様９８又は実施態様９９に記載の方法。

【0114】

実施態様１０１．ポリマーの厚さが、約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様９８から１００のいずれかに記載の方法。

【0115】

実施態様１０２．第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上にコーティングを配置する工程をさらに含む、実施態様９７から１０１のいずれかに記載の方法。コーティングは、約０．１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む。

【0116】

実施態様１０３．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分と第２の部分との間に画成された領域に充填して、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程を含む。該方法は、第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上にコーティングを配置する工程を含む。コーティングは、約０．１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む。

【0117】

実施態様１０４．領域に充填する工程が、領域に液体を充填し、液体を硬化させて、ポリマーをベースとした部分を形成することを含む、実施態様９７から１０３のいずれかに記載の方法。ポリマーをベースとした部分は、硬化の結果として膨張する。

【0118】

実施態様１０５．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分と第２の部分との間に画成された領域に液体を充填する工程を含む。該方法は、液体を硬化させて、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程を含む。ポリマーをベースとした部分は、硬化の結果として膨張する。

【0119】

実施態様１０６．ポリマーをベースとした部分が負の熱膨張係数を含む、実施態様１０４又は実施態様１０５に記載の方法。

【0120】

実施態様１０７．ポリマーをベースとした部分が、酸化銅、ベータ石英、タングステン酸塩、バナジン酸塩、ピロリン酸塩、又はニッケル－チタン合金のうちの１つ以上の粒子を含む、実施態様１０６に記載の方法。

【0121】

実施態様１０８．ポリマーをベースとした部分を硬化する工程が、開環メタセシス重合を含む、実施態様１０４又は実施態様１０５に記載の方法。

【0122】

実施態様１０９．領域に充填する工程が、領域に液体を充填し、液体を硬化させて、ポリマーをベースとした部分を形成することを含む、実施態様９７から１０３のいずれかに記載の方法。折り畳み可能な装置は、硬化中、曲がった構成となっている。平らな構成から中立応力構成への折り畳み可能な装置の動きは、約１％～約８％の範囲のポリマーをベースとした部分の偏差歪みの最大の大きさに対応する。

【0123】

実施態様１１０．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分と第２の部分との間に画成された領域に液体を充填する工程を含む。該方法は、液体を硬化させて、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程を含む。折り畳み可能な装置は、硬化中、曲がった構成となっている。平らな構成から中立応力構成への折り畳み可能な装置の動きは、約１％～約８％の範囲のポリマーをベースとした部分の偏差歪みの最大の大きさに対応する。

【0124】

実施態様１１１．第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程が、第１の基板の上に第１の接着層を配置することを含む、実施態様１０４又は実施態様１１０に記載の方法。第１の接着層は、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む。配置する工程は、第１の接着層の上に第１の部分を配置することを含む。配置する工程は、第１の接着層の上に第２の部分を配置することを含む。

【0125】

実施態様１１２．第１の部分、ポリマーをベースとした部分、及び第２の部分の上に第１の接着層を配置する工程をさらに含む、実施態様１０４又は実施態様１１０に記載の方法。該方法は、第１の接着層の上に第１の基板を配置する工程をさらに含む。

【0126】

実施態様１１３．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の基板の上に第１の接着層を配置する工程を含む。第１の接着層は、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む。該方法は、第１の接着層の上に第１の部分を配置する工程を含む。該方法は、第１の接着層の上に第２の部分を配置する工程を含む。該方法は、第１の部分と第２の部分との間の第１の接着層の上にポリマーをベースとした部分を配置する工程を含む。ポリマーをベースとした部分は、屈折率を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。

【0127】

実施態様１１４．第１の基板の上に第１の接着層を配置する前に第１の基板が約１０^４パスカル秒から約１０^７パスカル秒の範囲の粘度を含む一方で、第１の基板を曲がった構成へと曲げる工程をさらに含む、実施態様１１３に記載の方法。

【0128】

実施態様１１５．折り畳み可能な装置を製造する方法は、第１の基板が約１０^４パスカル秒から約１０^７パスカル秒の範囲の粘度を含む一方で、第１の基板を曲がった構成へと曲げる工程を含む。該方法は、第１の基板の上に第１の接着層、第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分を配置する工程を含む。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分と第２の部分との間に位置づけられる。ポリマーをベースとした部分は、屈折率を含む。第１の接着層は、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。

【0129】

実施態様１１６．配置する工程が、第１の基板の上に第１の接着層を配置することを含む、実施態様１１５に記載の方法。配置する工程は、第１の接着層の上に第１の部分を配置することを含む。配置する工程は、第１の接着層の上に第２の部分を配置することを含む。配置する工程は、ポリマーをベースとした部分を第１の部分と第２の部分との間に配置することを含む。

【0130】

実施態様１１７．配置する工程が、ポリマーをベースとした部分に第１の部分を接着させることを含む、実施態様１１５に記載の方法。配置する工程は、ポリマーをベースとした部分に第２の部分を接着させることを含む。配置する工程は、第１の接着層の上に第１の部分、ポリマーをベースとした部分、及び第２の部分を配置することを含む。

【0131】

実施態様１１８．平らな構成から中立応力構成への折り畳み可能な装置の動きが、約１％～約８％の範囲のポリマーをベースとした部分の偏差歪みの最大の大きさに対応する、実施態様１１４から１１７のいずれかに記載の方法。

【0132】

実施態様１１９．偏差歪みの最大の大きさが約２％～約６％の範囲にある、実施態様１１８に記載の方法。

【0133】

実施態様１２０．折り畳み可能な装置を製造する方法は、屈折率を含むポリマーをベースとした部分に第１の部分を接着させる工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。該方法は、第２の部分をポリマーをベースとした部分に接着させる工程を含む。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分、ポリマーをベースとした部分、及び第２の部分の上に第１の接着層を配置する工程を含む。該方法は、第１の接着層の上に第１の基板を配置する工程を含む。第１の接着層は、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む。

【0134】

実施態様１２１．折り畳み可能な装置を製造する方法は、屈折率を含むポリマーをベースとした部分に第１の部分を接着させる工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。該方法は、第２の部分をポリマーをベースとした部分に接着させる工程を含む。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域の少なくとも一部を覆う。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域から第１の部分の第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む。

【0135】

実施態様１２２．折り畳み可能な装置を製造する方法は、屈折率を含むポリマーをベースとした部分に第１の部分を接着させる工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。該方法は、第２の部分をポリマーをベースとした部分に接着させる工程を含む。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域の少なくとも一部を覆う。ポリマーをベースとした部分は、第１の部分の第１の表面領域から第１の部分の第１の厚さの方向に測定して、約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む。

【0136】

実施態様１２３．ポリマーの厚さが、約１０マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様１２１又は実施態様１２２に記載の方法。

【0137】

実施態様１２４．ポリマーの厚さが、約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様１２１から１２２のいずれかに記載の方法。

【0138】

実施態様１２５．第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上にコーティングを配置する工程をさらに含み、該コーティングが、約０．１マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む、実施態様１２１から１２４のいずれかに記載の方法。

【0139】

実施態様１２６．折り畳み可能な装置を製造する方法は、屈折率を含むポリマーをベースとした部分に第１の部分を接着させる工程を含む。第１の部分は、第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含む。第１の表面領域と第２の表面領域との間に第１の部分の第１の端面が画成される。該方法は、第２の部分をポリマーをベースとした部分に接着させる工程を含む。第２の部分は、第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域とを含む。第３の表面領域と第４の表面領域との間に第２の部分の第２の端面が画成される。該方法は、第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上にコーティングを配置する工程を含む。コーティングは、約０．１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む。

【0140】

実施態様１２７．コーティング厚さが約５マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様１２５又は実施態様１２６に記載の方法。

【0141】

実施態様１２８．コーティングが、エチレン－酸コポリマー、ポリウレタン系ポリマー、アクリレート樹脂、又はメルカプトエステル樹脂のうちの１つ以上を含む、実施態様１２５から１２７のいずれかに記載の方法。

【0142】

実施態様１２９．コーティングを配置する工程が、第１の接着層を使用して、第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分にコーティングを接着させることを含む、実施態様１２５から１２８のいずれかに記載の方法。第１の接着層は、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む。

【0143】

実施態様１３０．折り畳み可能な装置が、第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む第１の接着層をさらに含む、実施態様１２５から１２８のいずれかに記載の方法。第２の接触面は第１の表面領域に面している。第２の接触面は第３の表面領域に面している。

【0144】

実施態様１３１．第１の接触面と第２の接触面との間に画成された第１の接着層の第１の接着厚さが、約１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様９７及び実施態様１１１から１３０のいずれかに記載の方法。

【0145】

実施態様１３２．第１の接着層の第１の接着厚さが、約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様１３１に記載の方法。

【0146】

実施態様１３３．第１の接着層の弾性率が約１ギガパスカル以上である、実施態様１２９から１３２のいずれかに記載の方法。

【0147】

実施態様１３４．第１の接着層が、約０．００１メガパスカル～約０．５メガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１２９から１３２のいずれかに記載の方法。

【0148】

実施態様１３５．第１の接着層が、約２５０メガパスカル～約４ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１２９から１３２のいずれかに記載の方法。

【0149】

実施態様１３６．第１の接着層が、アクリレート系ポリマー、エポキシをベースとした材料、及び／又はポリウレタンをベースとした材料を含む、実施態様１３５に記載の方法。

【0150】

実施態様１３７．第１の部分の屈折率と第１の接着層の屈折率との間の差の大きさが、約０．１以下である、実施態様１１１から１３６のいずれかに記載の方法。

【0151】

実施態様１３８．第１の部分の屈折率とポリマーをベースとした部分の屈折率との間の差の大きさが、約０．１以下である、実施態様９７から１３６のいずれかに記載の方法。

【0152】

実施態様１３９．ポリマーをベースとした部分がエラストマーを含む、実施態様９７から１３８のいずれかに記載の方法。

【0153】

実施態様１４０．ポリマーをベースとした部分が、ポリスチレン、ポリジクロロホスファゼン、又はポリ（５－エチリデン－２－ノルボルネン）のうちの１つ以上を含むブロックコポリマーを含む、実施態様９７から１３９のいずれかに記載の方法。

【0154】

実施態様１４１．ポリマーをベースとした部分が、約０．０１メガパスカル～約１０ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様９７から１４０のいずれかに記載の方法。

【0155】

実施態様１４２．ポリマーをベースとした部分の弾性率が、約０．０１メガパスカル～約１，０００メガパスカルである、実施態様１４１に記載の方法。

【0156】

実施態様１４３．ポリマーをベースとした部分が、約２０メガパスカル～約３ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１４１に記載の方法。

【0157】

実施態様１４４．ポリマーをベースとした部分が、約２００メガパスカル以上の弾性率を含む、実施態様１４１から１４３のいずれかに記載の方法。

【0158】

実施態様１４５．ポリマーをベースとした部分の弾性率が、第１の部分の弾性率よりも小さい、実施態様１４１から１４４のいずれかに記載の方法。ポリマーをベースとした部分の弾性率は、第２の部分の弾性率よりも小さい。

【0159】

実施態様１４６．第１の部分の弾性率が約５ギガパスカル以上である、実施態様１４５に記載の方法。第２の部分の弾性率は約５ギガパスカル以上である。

【0160】

実施態様１４７．ポリマーをベースとした部分が、少なくとも０％～約１０％の歪みにわたって線形弾性を示す、実施態様９７から１４６のいずれかに記載の方法。

【0161】

実施態様１４８．ポリマーをベースとした部分が、少なくとも０％～約２０％の歪みにわたって線形弾性を示す、実施態様９７から１４６のいずれかに記載の方法。

【0162】

実施態様１４９．ポリマーをベースとした部分の第３の接触面の上に配置された無機層をさらに含む、実施態様９７から１４８のいずれかに記載の方法。

【0163】

実施態様１５０．無機層がサファイアを含む、実施態様１４９に記載の方法。

【0164】

実施態様１５１．無機層が、約１マイクロメートル～約７０マイクロメートルの範囲の厚さを含む、実施態様１４９又は実施態様１５０に記載の方法。

【0165】

実施態様１５２．折り畳み可能な装置の長さ方向の無機層の長さが、第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離の約１００％～約２００％の範囲にある、実施態様１４９から１５１のいずれかに記載の方法。

【0166】

実施態様１５３．折り畳み可能な装置が、約２０ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施態様９７から１５１のいずれかに記載の方法。

【0167】

実施態様１５４．折り畳み可能な装置が、約１０ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施態様９７から１５１のいずれかに記載の方法。

【0168】

実施態様１５５．折り畳み可能な装置が、約６ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施態様９７から１５１のいずれかに記載の方法。

【0169】

実施態様１５６．第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離が、有効最小曲げ半径の約２倍から約６０ミリメートルまでの範囲にある、実施態様１５３から１５５のいずれかに記載の方法。

【0170】

実施態様１５７．第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離が、有効最小曲げ半径の約２倍から約３０ミリメートルまでの範囲にある、実施態様１５３から１５５のいずれかに記載の方法。

【0171】

実施態様１５８．第１の部分の第１の端面と第２の部分の第２の端面との間の最小距離が、約１ミリメートル～約１００ミリメートルの範囲にある、実施態様９７から１５１及び実施態様１５３から１５５のいずれかに記載の方法。

【0172】

実施態様１５９．最小距離が、約２ミリメートル～約３０ミリメートルの範囲にある、実施態様１５８に記載の方法。

【0173】

実施態様１６０．最小距離が、約５ミリメートル～約２０ミリメートルの範囲にある、実施態様１５８又は１５９に記載の方法。

【0174】

実施態様１６１．ポリマーをベースとした部分が、折り畳み可能な装置の折り畳み軸の方向の幅を含む、実施態様９７から１６０のいずれかに記載の方法。ポリマーをベースとした部分の幅は、折り畳み軸の方向の第１の基板の幅に実質的に等しい。

【0175】

実施態様１６２．第１の厚さが、約１０マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲にある、実施態様９７から１６１のいずれかに記載の方法。

【0176】

実施態様１６３．第１の厚さが、約１０～約６０マイクロメートルの範囲にある、実施態様１６２に記載の方法。

【0177】

実施態様１６４．第２の部分の第４の表面領域と第２の部分の第３の表面領域との間に画成された第２の厚さが、第１の厚さに実質的に等しい、実施態様１６３に記載の方法。

【0178】

実施態様１６５．第１の端面が第１の鈍角の端面を含み、第２の端面が第２の鈍角の端面を含む、実施態様９７から１６４のいずれかに記載の方法。

【0179】

実施態様１６６．第１の端面の第１の鈍角の端面が、曲面端面を含む、実施態様１６５に記載の方法。第２の端面の第２の鈍角の端面は、曲面端面を含む。

【0180】

実施態様１６７．第１の鈍角の端面の曲面端面が、楕円形の端面を含む、実施態様１６６に記載の方法。楕円形の端面は、第１の厚さ方向の長軸と該長軸に垂直な方向の短軸とによって画成される。長軸の長さは短軸の長さより大きい。

【0181】

実施態様１６８．長軸の長さの短軸の長さに対する比が、１超～約４の範囲にある、実施態様１６７に記載の方法。

【0182】

実施態様１６９．第１の端面の第１の鈍角の端面の曲面端面が、約１０マイクロメートル～約１００マイクロメートルの範囲の曲率半径をさらに含む、実施態様１６７に記載の方法。

【0183】

実施態様１７０．第１の端面の第１の鈍角の端面の曲面端面が、第１の厚さの約３０％～約７０％の範囲の曲率半径をさらに含む、実施態様１６７に記載の方法。

【0184】

実施態様１７１．第１の鈍角の端面の曲面端面が、第１の曲率半径より小さい第２の曲率半径をさらに含む、実施態様１６９又は１７０に記載の方法。

【0185】

実施態様１７２．第１の端面の曲面端面が、第１の端面全体を含む、実施態様１６６から１７１のいずれかに記載の方法。

【0186】

実施態様１７３．第１の部分が、ガラスをベースとした材料を含む、実施態様９７から１７２のいずれかに記載の方法。第２の部分は、ガラスをベースとした材料を含む。

【0187】

実施態様１７４．第１の部分が、セラミックをベースとした材料を含む、実施態様９７から１７２のいずれかに記載の方法。第２の部分は、セラミックをベースとした材料を含む。

【0188】

実施態様１７５．第１の部分が、ポリマーをベースとした材料を含む、実施態様９７から１７２のいずれかに記載の方法。第２の部分は、ポリマーをベースとした材料を含む。

【0189】

実施態様１７６．第５の接触面と該第５の接触面とは反対側の第６の接触面とを含む第２の接着層をさらに含む、実施態様９７から１７５のいずれかに記載の方法。第５の接触面は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域に面している。

【0190】

実施態様１７７．第５の接触面と第６の接触面との間に画成された第２の接着層の第２の接着厚さが、約１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施態様１７６に記載の方法。

【0191】

実施態様１７８．第２の接着層の第２の接着厚さが、約１マイクロメートル～約５マイクロメートルの範囲にある、実施態様１７７に記載の方法。

【0192】

実施態様１７９．ポリマーをベースとした部分の第４の接触面が、第２の接着層の第５の接触面と接触する、実施態様１７６から１７８のいずれかに記載の方法。

【0193】

実施態様１８０．第１の部分の第２の表面領域が、第２の接着層の第５の接触面と接触する、実施態様１７６から１７９のいずれかに記載の方法。第２の部分の第４の表面領域は、第２の接着層の第５の接触面と接触する。

【0194】

実施態様１８１．第２の接着層が、約０．００１メガパスカル～約０．５メガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１７６から１８０のいずれかに記載の方法。

【0195】

実施態様１８２．第２の接着層が、約２５０メガパスカル～約４ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施態様１７６から１８０のいずれかに記載の方法。

【0196】

実施態様１８３．第２の接着層が、約１ギガパスカル以上の弾性率を含む、実施態様１７６から１８０のいずれかに記載の方法。

【0197】

実施態様１８４．第２の接着層が、アクリレート系ポリマー、エポキシをベースとした材料、及び／又はポリウレタンをベースとした材料を含む、実施態様１８２又は１８３に記載の方法。

【0198】

実施態様１８５．第２の接着層の屈折率とポリマーをベースとした部分の屈折率との間の差の大きさが、約０．１以下である、実施態様１７６から１８４のいずれかに記載の方法。

【0199】

実施態様１８６．第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域の上に配置された第２の基板をさらに含む、実施態様９７から１８５のいずれかに記載の方法。

【0200】

実施態様１８７．第２の基板がガラスをベースとした材料を含む、実施態様１８６に記載の方法。

【0201】

実施態様１８８．第２の基板がセラミックをベースとした材料を含む、実施態様１８６に記載の方法。

【0202】

実施態様１８９．第２の基板が、約２５マイクロメートル～約６０マイクロメートルの範囲の第２の基板厚さを含む、実施態様１８６から１８８のいずれかに記載の方法。

【0203】

本開示の実施形態の上記及び他の特徴及び利点は、以下の詳細な説明が添付の図面を参照して読まれるときに、よりよく理解される。

【図面の簡単な説明】

【0204】

【図1】幾つかの実施形態による、平らな構成の例となる折り畳み可能な装置の概略図（折り畳まれた構成の概略図は図９に示されるように表すことができる）

【図2】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図3】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図4】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図5】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図6】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図7】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図8】幾つかの実施形態による、図１の線２－２に沿った折り畳み可能な装置の断面図

【図9】本開示の実施形態の例となる折り畳み可能な装置の概略図（平らな構成の概略図は図１に示されるように表すことができる）

【図10】図９の線９－９に沿った例となる修正された折り畳み可能な装置の有効最小曲げ半径を決定するための試験装置の断面図

【図11】幾つかの実施形態による例となる消費者向け電子デバイスの概略的な平面図

【図12】図１１の例となる消費者向け電子デバイスの概略的な斜視図

【図13】中立応力構成における、図１０の試験用の折り畳み可能な装置に似た、折り畳み可能な装置の概略図

【図14】折り畳み可能な装置が平らな構成にある場合のポリマーをベースとした部分の概略図

【図15】折り畳み可能な装置が中立応力構成にある場合のポリマーをベースとした部分の概略図

【図16】本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する例となる方法を示すフロー図

【図17】本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する例となる方法を示すフロー図

【図18】本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する例となる方法を示すフロー図

【図19】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図20】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図21】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図22】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図23】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図24】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図25】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図26】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図27】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図28】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図29】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図30】折り畳み可能な装置を製造する方法における工程を概略的に示す図

【図31】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図32】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図33】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図34】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図35】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図36】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図37】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図38】本開示の幾つかの実施形態についての実験結果を示すプロット

【図39】ペン落下装置の概略的な斜視図

【発明を実施するための形態】

【0205】

本開示全体を通して、図面は、ある特定の態様を強調するために用いられている。したがって、特に明記されていない限り、図面に示されている異なる領域、部分、及び基板の相対的なサイズが実際の相対的なサイズに比例すると想定すべきではない。

【0206】

これより、例示的な実施形態が示されている添付の図面を参照して、実施形態をより詳細に説明する。可能な場合はいつでも、同一又は類似した部分についての言及には、図面全体を通して同じ参照番号が用いられる。しかしながら、特許請求の範囲は、さまざまな実施形態の多くの異なる態様を包含しうるものであり、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈されるべきではない。

【0207】

図１～１０は、本開示の実施形態による、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１の図を示している。特に断りのない限り、１つの折り畳み可能な装置の実施形態の特徴についての考察は、本開示のいずれかの対応する特徴に等しく適用することができる。例えば、本開示全体を通して同一の部品番号は、幾つかの実施形態では、識別された特徴が互いに同一であり、また、一実施形態の識別された特徴についての考察は、特に断りのない限り、本開示の他の実施形態のいずれかの識別された特徴に等しく適用することができることを示しうる。

【0208】

図１～８は、折り畳まれていない（例えば、平らな）構成における本開示の実施形態による折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１の例となる実施形態を概略的に示しており、一方、図９～１０は、折り畳まれた構成における本開示の実施形態による折り畳み可能な試験装置９０１を示している。図２～８及び図１０に示されるように、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１を含みうる。幾つかの実施形態では、図４～６に示されるように、折り畳み可能な装置４０１、５０１、及び６０１は、コーティング４１１を含みうる。幾つかの実施形態では、図２～３及び図１０に示されるように、折り畳み可能な装置１０１及び３０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、第１の基板２０３を含みうる。幾つかの実施形態では、図７に示されるように、折り畳み可能な装置７０１は、ポリマーをベースとした部分２４１の上に配置された無機層７３７を含みうる。幾つかの実施形態では、図５に示されるように、折り畳み可能な装置５０１は剥離ライナ５０３を含みうるが、さらなる実施形態では、図示される剥離ライナ５０３ではなく、他の基板（例えば、本願全体を通して論じられる第１の基板２０３と類似した又は同一の基板）を使用してもよい。幾つかの実施形態では、図６～８に示されるように、折り畳み可能な装置６０１、７０１、及び８０１は、ディスプレイデバイス６０３を含みうる。幾つかの実施形態では、図７に示されるように、折り畳み可能な装置７０１は、第２の基板７０３を含みうる。コーティング４１１は、バッキング基板４２１の有無にかかわらず存在してよく、第１の基板２０３は、その上にコーティング４１１が配置されてもよいものと理解されたい。本開示の折り畳み可能な装置のいずれかは、第１の基板２０３、コーティング４１１、及び／又はバッキング基板４２１を含みうるものと理解されたい。本開示の折り畳み可能な装置のいずれかは、第２の基板（例えば、第１の基板２０３と同様又は同一の第２の基板７０３）、剥離ライナ５０３、及び／又はディスプレイデバイス６０３を含みうるものと理解されたい。

【0209】

本開示全体を通して、図１に関して、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１の幅１０３は、折り畳み可能な装置の折り畳み軸１０２の方向１０４において折り畳み可能な装置の対向する端部間で取得された折り畳み可能な装置の寸法と見なされ、ここで、方向１０４は幅１０３の方向も含む。さらには、本開示全体を通して、折り畳み可能な装置の長さ１０５は、折り畳み可能な装置の折り畳み軸１０２に垂直な方向１０６において折り畳み可能な装置の対向する端部間で取得された折り畳み可能な装置の寸法と見なされる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置は、幅１０３の方向１０４に延びる折り畳み軸１０２を中心に方向１１１で折り畳まれて（例えば、図１参照）、折り畳まれた構成を形成することができる（例えば、図９～１０参照）。示されるように、折り畳み可能な装置は、折り畳み可能な装置が二つ折りを含むことができるように、単一の折り畳み軸を含むことができ、ここで、例えば、折り畳み可能な装置は二つに折り畳むことができる。さらなる実施形態では、折り畳み可能な装置は、２つ以上の折り畳み軸を含むことができ、各折り畳み軸は、本明細書で論じられるポリマーをベースとした部分２４１と同様又は同一の対応するポリマーをベースとした部分を含む。例えば、２つの折り畳み軸を提供することにより、折り畳み可能な装置が三つ折りを含むことを可能にし、例えば、折り畳み可能な装置は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、並びに第１の部分又は第２の部分と同様又は同一の第３の部分を含む３つの部分をともなって折り畳むことができる。

【0210】

図２～８及び図１０に示されるように、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、第１の部分２２１を含みうる。第１の部分２２１のこのような説明は、特に明記しない限り、本開示の実施形態のいずれか、例えば、図３～８及び図１０に示される折り畳み可能な装置３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１にも適用することができるという理解に基づいて、これより、図２の折り畳み可能な装置１０１を参照して、第１の部分２２１について説明する。図２に示されるように、第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３を含みうる。図２～８に示されるように、第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３とは反対側の第２の表面領域２２５を含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５は、平面を含みうる。さらなる実施形態では、示されるように、第２の表面領域２２５は、第１の表面領域２２３に平行になりうる。第１の厚さ２２７は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３と第１の部分２２１の第２の表面領域２２５との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、第１の厚さ２２７は、第１の表面領域２２３全体にわたって実質的に均一でありうる。幾つかの実施形態では、第１の厚さ２２７は、約１０マイクロメートル（μｍ）以上、２５μｍ以上、約３０μｍ以上、約５０μｍ以上、８０μｍ以上、約１００μｍ以上、約１２５μｍ以上、約２ミリメートル（ｍｍ）以下、約５００μｍ以下、約４００μｍ以下、約２００μｍ以下、又は約１２５μｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の厚さ２２７は、約１０μｍ～約２ｍｍ、２５μｍ～約２ｍｍ、約３０μｍ～約２ｍｍ、約５０μｍ～約２ｍｍ、約８０μｍ～約２ｍｍ、約１２５μｍ～約２ｍｍ、約１０μｍ～約５００μｍ、約２５μｍ～約５００μｍ、約３０μｍ～約５００μｍ、約５０μｍ～約５００μｍ、約８０μｍ～約５００μｍ、約８０μｍ～約４００μｍ、約８０μｍ～約２００μｍ、約８０μｍ～約１２５μｍ、約１００μｍ～約５００μｍ、約１００μｍ～約４００μｍ、約１００μｍ～約２００μｍ、約１００μｍ～約１２５μｍ、約１２５μｍ～約５００μｍ、約１２５μｍ～約４００μｍ、約１２５μｍ～約２００μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第１の厚さ２２７は、約１０μｍ～約２００μｍ、約２５μｍ～約２００μｍ、約２５μｍ～約１２５μｍ、約２５μｍ～約６０μｍ、約２５μｍ～約５０μｍ、約３０μｍ～約２００μｍ、約３０μｍ～約１２５μｍ、約３０μｍ～約５０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１の第１の厚さ２２７は、その対応する長さにわたり（すなわち、折り畳み可能な装置の長さ１０５の方向）、及び／又はその対応する幅にわたり（すなわち、折り畳み可能な装置の幅１０３の方向）、第１の表面領域２２３と第２の表面領域２２５との間で実質的に均一でありうる。

【0211】

幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は光学的に透明でありうる。本明細書で用いられる場合、「光学的に透明」又は「光学的に透明」とは、厚さ１．０ｍｍの材料片を通る４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲で７０％以上の平均透過率を意味する。幾つかの実施形態では、「光学的に透明な材料」又は「光学的に透明な材料」は、厚さ１．０ｍｍの材料片を通る４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲で、７５％以上、８０％以上、８５％以上、又は９０％以上、９２％以上、９４％以上、９６％以上の平均透過率を有しうる。４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲での平均透過率は、約４００ｎｍ～約７００ｎｍの整数波長の透過率を測定し、その測定値を平均することによって計算される。

【0212】

幾つかの実施形態では、第１の部分２２１はガラスをベースとした部分を含みうる。本明細書で用いられる場合、「ガラスをベースとした」には、ガラスとガラスセラミックの両方が含まれ、ガラスセラミックは、１つ以上の結晶相と、非晶質の残留ガラス相とを有する。ガラスをベースとした材料は、冷却することができるか、又はガラス、ガラス－セラミックへとすでに冷却されており、及び／又はさらに処理するとガラスセラミック材料となる。ガラスをベースとした材料（例えば、ガラスをベースとした基板）は、非晶質の材料（例えば、ガラス）、及び任意選択的に１つ以上の結晶性材料（例えば、セラミック）を含みうる。非晶質の材料及びガラスをベースとした材料は、強化することができる。本明細書で用いられる場合、「強化された」という用語は、例えば、以下に論じられるように、基板の表面において、より大きなイオンをより小さなイオンへとイオン交換することを通じて化学的に強化されている材料を指しうる。しかしながら、他の強化方法、例えば、熱焼き戻し、又は基板の部分間の熱膨張係数の不一致を利用することによって圧縮応力領域及び中心張力領域を生成することを利用して、強化された基板を形成することができる。例示的なガラスをベースとした材料には、それらがリチアを含んでいるか、いないかにかかわらず、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、アルカリ含有アルミノボロケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホスホケイ酸塩ガラス、及びアルカリ含有アルミノホスホケイ酸塩ガラスが含まれうる。１つ以上の実施形態では、ガラスをベースとした材料は、モルパーセント（モル％）で、次を含むことができる：約４０モル％～約８０％の範囲のＳｉＯ_２、約１０モル％～約３０モル％の範囲のＡｌ_２Ｏ_３、０モル％～約１０モル％の範囲のＢ_２Ｏ_３、０モル％～約５モル％の範囲のＺｒＯ_２、０モル％～約１５モル％の範囲のＰ_２Ｏ_５、０モル％～約２モル％の範囲のＴｉＯ_２、０モル％～約２０モル％の範囲のＲ_２Ｏ、及び、０モル％～約１５モル％の範囲のＲＯ。本明細書で用いられる場合、Ｒ_２Ｏは、アルカリ金属酸化物、例えば、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｒｂ_２Ｏ、及びＣｓ_２Ｏを指すことができる。本明細書で用いられる場合、ＲＯは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、及びＺｎＯを指すことができる。幾つかの実施形態では、ガラスをベースとした基板は、任意選択的に、Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＢｒ、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＣｌ、ＫＦ、ＫＢｒ、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＭｎＯ、ＭｎＯ_２、ＭｎＯ_３、Ｍｎ_２Ｏ_３、Ｍｎ_３Ｏ_４、Ｍｎ_２Ｏ_７のそれぞれを、０モル％～約２モル％の範囲でさらに含むことができる。「ガラスセラミック」は、ガラスの制御された結晶化を通して製造された材料を含む。幾つかの実施形態では、ガラスセラミックは約１％～約９９％の結晶化度を有する。適切なガラスセラミックの例には、Ｌｉ_２Ｏ－Ａｌ_２Ｏ_３－ＳｉＯ_２系（すなわち、ＬＡＳ系）のガラスセラミック、ＭｇＯ－Ａｌ_２Ｏ_３－ＳｉＯ_２系（すなわち、ＭＡＳ系）のガラスセラミック、ＺｎＯ×Ａｌ_２Ｏ_３×ｎＳｉＯ_２（すなわち、ＺＡＳ系）、及び／又は、β－石英固溶体、β－スポジュメン、コージエライト、ペタライト、及び／又は二ケイ酸リチウムを含む主結晶相を含むガラスセラミックが含まれうる。ガラスセラミック基板は、本明細書に記載される強化プロセスを使用して強化することができる。１つ以上の実施形態では、ＭＡＳ系のガラスセラミック基板は、Ｌｉ_２ＳＯ_４溶融塩中で強化することができ、それによって、２Ｌｉ^＋からＭｇ^２＋への交換が起こりうる。

【0213】

幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、８Ｈ以上、例えば、９Ｈ以上の鉛筆硬度を有する、ガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、強化されていても強化されていなくてもよい、セラミックをベースとした部分を含みうる。本明細書で用いられる場合、「セラミックをベースとした」には、ガラスとガラスセラミックの両方が含まれ、ガラスセラミックは、１つ以上の結晶相と、非晶質の残留ガラス相とを有する。幾つかの実施形態では、セラミックをベースとした材料は、ガラスをベースとした材料を加熱してセラミック（例えば、結晶性）部分を形成することによって、形成することができる。さらなる実施形態では、セラミックをベースとした材料は、（一又は複数の）結晶相の形成を促進することができる、１つ以上の核形成剤を含みうる。幾つかの実施形態では、セラミックをベースとした材料は、１つ以上の酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物、ホウ化物、及び／又はケイ化物を含みうる。セラミック酸化物の例となる実施形態には、ジルコニア（ＺｒＯ_２）、ジルコン（ＺｒＳｉＯ_４）、アルカリ金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム（Ｎａ_２Ｏ））、アルカリ土類金属酸化物（例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯ））、チタニア（ＴｉＯ_２）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）、酸化鉄、酸化ベリリウム、酸化バナジウム（ＶＯ_２）、溶融石英、ムライト（酸化アルミニウムと二酸化ケイ素との組合せを含む鉱物）、及びスピネル（ＭｇＡｌ_２Ｏ_４）が含まれる。セラミック窒化物の例となる実施形態には、窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、窒化ベリリウム（Ｂｅ_３Ｎ_２）、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化タングステン（ＷＮ）、窒化バナジウム、アルカリ土類金属窒化物（例えば、窒化マグネシウム（Ｍｇ_３Ｎ_２））、窒化ニッケル、及び窒化タンタルが含まれる。酸窒化セラミックの例となる実施形態には、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、及びＳｉＡｌＯＮ（アルミナと窒化ケイ素との組合せであり、例えば、Ｓｉ_{１２－ｍ－ｎ}Ａｌ_ｍ＋ｎＯ_ｎＮ_１６－ｎ、Ｓｉ_６－ｎＡｌ_ｎＯ_ｎＮ_８－ｎ、又はＳｉ_２－ｎＡｌ_ｎＯ_１＋ｎＮ_２－ｎの化学式を有することができ、式中、ｍ、ｎ、及び得られる下付き文字はすべて負ではない整数である）が含まれる。炭化物及び炭素含有セラミックの例となる実施形態には、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化鉄、炭化ホウ素（Ｂ_４Ｃ）、アルカリ金属炭化物（例えば、炭化リチウム（Ｌｉ_４Ｃ_３））、アルカリ土塁金属炭化物（例えば、炭化マグネシウム（Ｍｇ_２Ｃ_３））、及びグラファイトが含まれる。ホウ化物の例となる実施形態には、ホウ化クロム（ＣｒＢ_２）、ホウ化モリブデン（Ｍｏ_２Ｂ_５）、ホウ化タングステン（Ｗ_２Ｂ_５）、ホウ化鉄、ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム（ＺｒＢ_２）、ホウ化ハフニウム（ＨｆＢ_２）、ホウ化バナジウム（ＶＢ_２）、ホウ化ニオブ（ＮｂＢ_２）、及びホウ化ランタン（ＬａＢ_６）が含まれる。ケイ化物の例となる実施形態には、二ケイ化モリブデン（ＭｏＳｉ_２）、二ケイ化タングステン（ＷＳｉ_２）、二ケイ化チタン（ＴｉＳｉ_２）、ケイ化ニッケル（ＮｉＳｉ）、アルカリ土類ケイ化物（例えば、ケイ化ナトリウム（ＮａＳｉ））、アルカリ金属ケイ化物（例えば、ケイ化マグネシウム（Ｍｇ_２Ｓｉ））、二ケイ化ハフニウム（ＨｆＳｉ_２）、及びケイ化白金（ＰｔＳｉ）が含まれる。

【0214】

幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、第１のポリマーをベースとした部分を含みうる。第１のポリマーをベースとした部分は、硬質ポリマー（例えば、２５℃で約３ギガパスカル（ＧＰａ）以上、約８ＧＰａ以上、約９ＧＰａ以上、又は約１０ＧＰａ以上の弾性率を含む）を含みうる。硬質ポリマーの例となる実施形態には、スチレン系ポリマー（例えば、ポリスチレン（ＰＳ）、スチレンアクリロニトリル（ＳＡＮ）、スチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ））、フェニレン系ポリマー（例えば、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ））、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリフタルアミド（ＰＰＡ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリイミド類（ＰＩ）、ポリヒドロキシ酪酸（ＰＨＢ）、ポリグリコリド類（ＰＧＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び／又はポリカーボネート（ＰＣ）のうちの１つ以上のブレンド、ナノ粒子、及び／又は繊維複合材料が含まれるが、これらに限定されない。

【0215】

本開示全体を通して、ポリマー材料（例えば、接着剤、ポリマーをベースとした部分）の引張強度、極限伸び（例えば、故障時の歪み）、及び降伏点は、引張試験機、例えば、Ｉｎｓｔｒｏｎ３４００又はＩｎｓｔｒｏｎ６８００を使用して、２５℃及び５０％の相対湿度で、タイプＩのドッグボーン形状の試料を使用して、ＡＳＴＭ Ｄ６３８を使用して決定される。本開示全体を通して、弾性率（例えば、ヤング率）及び／又はポアソン比は、ＩＳＯ ５２７－１：２０１９を使用して測定される。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、約１ギガパスカル（ＧＰａ）以上、約３ＧＰａ以上、約５ＧＰａ以上、約１０ＧＰａ以上、約１００ＧＰａ以下、約８０ＧＰａ以下、約６０ＧＰａ以下、又は約２０ＧＰａ以下の弾性率を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、約１ＧＰａ～約１００ＧＰａ、約１ＧＰａ～約８０ＧＰａ、約３ＧＰａ～約８０ＧＰａ、約３ＧＰａ～約６０ＧＰａ、約５ＧＰａ～約６０ＧＰａ、約５ＧＰａ～約２０ＧＰａ、約１０ＧＰａ～約２０ＧＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲の弾性率を含みうる。さらなる実施形態では、第１の部分２２１は、約１０ＧＰａ～約１００ＧＰａ、約４０ＧＰａ～約１００ＧＰａ、約６０ＧＰａ～約１００ＧＰａ、約６０ＧＰａ～約８０ＧＰａ、約８０ＧＰａ～約１００ＧＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲の弾性率を含む、ガラスをベースとした部分又はセラミックをベースとした部分を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、約１ＧＰａ～約２０ＧＰａ、約３ＧＰａ～約２０ＧＰａ、約３ＧＰａ～約１０ＧＰａ、約３ＧＰａ～約５ＧＰａ、約１ＧＰａ～約１０ＧＰａ、約１ＧＰａ～約５ＧＰａ、約１ＧＰａ～約３ＧＰａ、約５ＧＰａ～約２０ＧＰａ、約５ＧＰａ～約１０ＧＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲の弾性率を含むポリマーをベースとした部分を含みうる。

【0216】

第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３と第２の表面領域２２５との間に画成された第１の端面２２９を含みうる。第１の端面２２９は、外周部２４５を含む。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の端面２２９は、鈍角の端面を含みうる。本明細書で用いられる場合、部分は、端部の表面が第１の表面領域と端部の表面との交点において第１の表面領域と鈍角の内角を形成する場合、及び／又は端部の表面が第２の表面領域と端部の表面との交点において第２の表面領域と鈍角の内角を形成する場合に、鈍角の端面を有すると見なされる。本明細書で用いられる場合、内角は、部分の内部で測定される。本明細書で用いられる場合、鈍角は、９０度より大きく１８０度より小さい角度として定義される。

【0217】

図２を参照すると、第１の端面２２９は、第１の表面領域２２３と第１の面取りされた端面２４９との交点において、第１の表面領域２２３と鈍角である内角「Ａ」を形成する第１の面取りされた端面２４９を含むことから、鈍角の端面である。加えて又は代替として、第１の端面２２９はまた、第２の表面領域２２５と第２の面取りされた端面２５０との交点において、第２の表面領域２２５と鈍角である内角「Ａ」を形成する第２の面取りされた端面２５０を含むことから、鈍角の端面である。部分の端面が部分の表面領域と曲面との交点において曲面を含む場合、端面は、交点において曲面に接する平面が部分の表面領域との鈍角の内角を含む場合、鈍角の端面である。本明細書で用いられる場合、曲面に接する平面は、曲面が第１の表面領域（例えば、平面）から外れた場所で取得される。例えば、図３～７に示される曲面は、１８０度未満の角度を含む。

【0218】

図３に関して、第１の部分２２１の第１の端面２２９は、少なくとも、交点において第１の部分２２１の曲面端面３０３に接する平面が第１の部分２２１の第１の表面領域２２３と９０度超かつ１８０度以下の内角「Ａ」を含むため、鈍角の端面である。示されるように、曲面端面３０３は、外向きに凸状の表面を含みうるが、さらなる実施形態では、鈍角の端面は、外向きに凹状の表面を含みうる。

【0219】

図４～７を参照すると、第１の部分２２１の第１の端面２２９は、鈍角の端面である。例えば、図４において、交点で第１の部分２２１の丸みを帯びた端面４０３に接する平面は、鈍角である、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３との内角「Ａ」を含む。示されるように、丸みを帯びた端面４０３は、外向きに凸状の表面を含みうる。図７の第１の端面２２９は、図４に示される丸みを帯びた端面４０３に類似している。同様に、図５に示されるように、交点で第１の部分２２１の楕円形の端面５０２に接する平面は、鈍角である、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３との内角「Ａ」を含む。また、図６に示されるように、交点において第１の部分２２１の上部６０３ａを含む複合端面に接する平面は、鈍角である、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３との内角「Ａ」を含む。

【0220】

幾つかの実施形態では、図８に示されるように、第１の部分２２１の第１の端面２２９は鈍角でない端面８２１を含んでよく、及び／又は第２の部分２３１の第２の端面２３９は、鈍角でない端面８３１を含みうる。鈍角でない端面は、第１の部分の第１の表面領域２２３及び／又は第２の部分６３１の第３の表面領域２３３と９０度の角度を形成するため、鈍角ではない。

【0221】

幾つかの実施形態では、図２～６について上で論じたように、第１の端面２２９全体及び／又は第２の端面２３９全体は、鈍角の端面を含みうる。幾つかの実施形態では、図７に示されるように、第１の端面２２９の一部及び／又は第２の端面２３９の一部は、鈍角の端面を含みうる。例えば、図７に示されるように、第１の表面領域２２３と第２の表面領域２２５との間の第１の端面２２９の一部は、図４のように鈍角の端面である。同様に、図７に示されるように、第３の表面領域２３３と第４の表面領域２３５との間の第２の端面２３９の一部は、図４のように鈍角の端面である。しかしながら、第１の部分２２１は、それが９０°の内角を含むことから、第１の外面７５１と第１の表面領域２２３との間に鈍角ではない第１の外側端面７４１を含む。同様に、第２の部分は、それが９０°の内角を含むことから、第２の外面７５３と第３の表面領域２３３との間に鈍角ではない第２の外側端面７４３を含む。幾つかの実施形態では、図８に示されるように、第１の端面２２９及び／又は第２の端面２３９は、鈍角ではない端面を含みうる。

【0222】

前に論じたように、幾つかの実施形態では、図２に示されるように、第１の端面２２９の鈍角の端面は、第１の面取りされた端面２４９及び／又は第２の面取りされた端面２５０を含みうる。さらなる実施形態では、面取りされた端面２５０は、長さの方向１０６に、約２０μｍ以上、５０μｍ以上、約１００μｍ以上、約２００μｍ以上、約５ミリメートル（ｍｍ）以下、約２ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約５００μｍ以下、又は約２００μｍ以下の距離で延在しうる。幾つかの実施形態では、図３に示されるように、第１の端面２２９の鈍角の端面は、曲面端面３０３、例えば、外向きに凸状の曲面端面３０３を含みうる。さらなる実施形態では、曲面端面３０３は、長さの方向１０６に、約２０μｍ以上、５０μｍ以上、約１００μｍ以上、約２００μｍ以上、約５ミリメートル（ｍｍ）以下、約２ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約５００μｍ以下、又は約２００μｍ以下の距離で延在しうる。幾つかの実施形態では、凸状の曲面端面３０３は、楕円の形状である端面に垂直に取得された断面プロファイルを含みうる。例えば、図５に示されるように、第１の端面２２９の鈍角の端面は、楕円形の端面５０２を含む。さらなる実施形態では、示されるように、楕円形の端面５０２は、第１の厚さ２２７の方向２０２に延びる長軸５２１ａと、第１の厚さ２２７の方向２０２に実質的に垂直な方向１０６に延びる短軸５２１ｂとによって画成されうる。さらに別の実施形態では、示されるように、長軸５２１ａの長さは短軸の長さより長くなりうる。別のさらなる実施形態では、示されるように、長軸５２１ａの長さは、第１の厚さ２２７に実質的に等しくなりうる。別のさらなる実施形態では、楕円形の端面５０２は、第１の端面２２９全体を含みうる。別のさらなる実施形態では、長軸５２１ａの短軸５２１ｂに対する比は、１超（例えば、約１．０１以上）、約１．５以上、約２以上、約３以上、約４以上、約５以上、約１００以下、約５０以下、約２０以下、約１０以下、約５以下、約４以下、又は約３以下でありうる。別のさらなる実施形態では、長軸５２１ａの短軸５２１ｂに対する比は、１超～約４、約１．０１～約１００、約１．０１～約５０、約１．０１～約２０、約１．０１～約１０、約１．０１～約５、約１．５～約１００、約１．５～約５０、約１．５～約２０、約１．５～約１０、約１．５～約５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらにまた別の実施形態では、長軸５２１ａの短軸５２１ｂに対する比は、約１．５～約４、約２～約４、約３～約４、約３．５～約４、約２～約５、約３～約５、約４～約５、約１．５～約３、約１．５～約２の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、示されてはいないが、長軸及び短軸の位置は、入れ替えることができる。

【0223】

幾つかの実施形態では、図３に示される凸状の曲面端面３０３は、平らな表面領域を含みうる外周部２４５に第１の表面領域２２３を接合する、丸みを帯びた端面を含みうる。さらに示されるように、凸状の曲面端面３０３と同様の別の丸みを帯びた端面もまた、図示された平らな表面領域を含む外周部２４５に第２の表面領域２２５を接合するように、提供することができる。代替的な実施形態では、第１の端面２２９は、円弧の形状である、端面に垂直に取得された断面プロファイルを含みうる。例えば、図４に示されるように、第１の端面２２９の鈍角の端面は、幾つかの実施形態では、第１の表面領域２２３から第２の表面領域２２５まで第１の端面２２９全体に延びる凸状の丸みを帯びた端面４０３を含むが、さらなる実施形態では、凸状の丸みを帯びた端面４０３は、第１の端面２２９全体よりも少なく延在してもよい。さらなる実施形態では、示されるように、丸みを帯びた端面４０３は、曲率半径４０７を含む。さらに別の実施形態では、示されるように、曲率半径４０７は第１の厚さ２２７の約５０％でありうる。第１の端面２２９は、約３０％以上、約４０％以上、約４５％以上、約４９％以上、約７０％以下、約６０％以下、約５５％以下、又は約５１％以下でありうる第１の厚さ２２７のパーセンテージとしての曲率半径４０７を含む、円弧の形をした、さらに丸みを帯びた端面を含みうる。さらに別の実施形態では、第１の厚さ２２７のパーセンテージとしての曲率半径４０７は、約３０％～約７０％、約３０％～約６０％、約３０％～約５５％、約３０％～約５１％、約４０％～約７０％、約４０％～約６０％、約４０％～約５５％、約４０％～約５１％、約４５％～約７０％、約４５％～約６０％、約４５％～約５５％、約４５％～約５１％、約４９％～約７０％、約４９％～約６０％、約４９％～約５５％、約４９％～約５１％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。別のさらなる実施形態では、示されるように、丸みを帯びた端面４０３は、折り畳み軸に平行な線に沿って延び、かつ第１の端面２２９の丸みを帯びた端面４０３を二等分する外周部２４５を含みうる。

【0224】

幾つかの実施形態では、図６に示されるように、鈍角の端面は、複合端面プロファイルを含みうる。さらなる実施形態では、複合端面プロファイルは、面取りしたプロファイル、湾曲したプロファイル（例えば、丸みを帯びた、円形、楕円形）、他の曲線設計、及び／又はそれらの組合せのうちの１つ以上を含みうる。さらに別の実施形態では、図６に示されるように、第１の端面は、第１の曲率半径４０７ａを含む上部６０３ａ、並びに上部６０３ａとは異なる端面プロファイルを含む下部６０３ｂを含みうる。別のさらなる実施形態では、示されるように、下部６０３ｂは、第１の曲率半径４０７ａよりも小さい第２の曲率半径４０７ｂを含みうる。別のさらなる実施形態では、示されるように、下部６０３ｂは、第２の表面領域２２５と交差して第２の表面領域２２５と鈍角の内角「Ａ’」を形成する、平らな（例えば、線形の、面取りされた）部分６０６を含みうる。さらにまた別の実施形態では、示されるように、平らな部分は、該平らな部分が第１の厚さ２２７の方向２０２に延びる第２の距離６０９より大きい、長さ１０５の方向の方向１０６に第１の距離だけ延びうる。さらにまた別の実施形態では、示されてはいないが、平らな部分は、該平らな部分が第１の厚さ２２７の方向２０２に延びうる第２の距離６０９よりも小さい、長さ１０５の方向の方向１０６に第１の距離だけ延びうる。図６の平らな部分の説明は、図２の面取りされた端面にも適用可能であるものと理解されたい。別のさらなる実施形態では、複合端面は、第１の端面２２９全体を含みうる。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、曲面端面は、他の曲線表面プロファイルを含みうる。

【0225】

幾つかの実施形態では、図７に示されるように、第１の端面２２９の部分は、図４に示される第１の端面２２９のような鈍角の端面を含みうる。しかしながら、第１の部分２２１は、それが９０°の内角を含むことから、第１の外面７５１と第１の表面領域２２３との間に、鈍角ではない第１の外側端面７４１を含む。

【0226】

幾つかの実施形態では、図２及び図８に示されるように、第１の部分２２１の外周部２４５は実質的に平らな表面を含みうるが、さらなる実施形態では、他の表面が提供されてもよい（例えば、凸状及び／又は凹状を含む、直線、曲線）。幾つかの実施形態では、図２及び図８に示されるように、第１の部分２２１の外周部２４５の平らな表面は、第１の部分２２１の第１の厚さ２２７の方向２０２に延びうる。

【0227】

第１の端部に鈍角の端面を提供することにより、第１の部分２２１とポリマーをベースとした部分２４１との間の界面における応力は、応力集中を低減すること及び／又は界面歪みを低減することによって、低減（例えば、最小化、減少）することができる（図２３～２６参照）。第１の端部に丸みを帯びた端面を提供することにより、応力集中をさらに低減することができる。同様に、第１の端部全体を含む鈍角の端面（例えば、丸みを帯びた、湾曲した）を提供することにより、応力集中をさらに低減することができる。理論に縛られることは望まないが、応力及び／又は応力集中を低減することにより、折り畳み可能な装置の故障を低減（例えば、低下、減少、防止）することができ、及び／又は他の端部プロファイルで達成可能であろうよりも低い有効曲げ半径を促進することがでる。

【0228】

図２～８及び図１０に示されるように、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、第２の部分２３１を含みうる。第２の部分２３１のこのような説明は、特に明記しない限り、本開示のいずれかの実施形態、例えば、図３～８及び図１０に示される折り畳み可能な装置３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１にも適用することができるという理解に基づいて、これより、図２の折り畳み可能な装置１０１を参照して、第２の部分２３１について説明する。図２に示されるように、第２の部分２３１は、第３の表面領域２３３を含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３は平面でありうる。さらなる実施形態では、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３と共通平面内にありうる。図２～８に示されるように、第２の部分２３１は、第３の表面領域２３３とは反対側の第４の表面領域２３５を含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の部分２３１の第４の表面領域２３５は平面を含みうる。さらなる実施形態では、示されるように、第４の表面領域２３５は、第３の表面領域２３３に平行になりうる。さらなる実施形態では、第２の部分２３１の第４の表面領域２３５は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５と共通平面内にありうる。

【0229】

幾つかの実施形態では、図７～８に示されるように、第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含みうる。さらなる実施形態では、凹部深さ７４９は、約５μｍ以上、約１０μｍ以上、約２０μｍ以上、約４０μｍ以上、約６０μｍ以上、約５００μｍ以下、約２００μｍ以下、約１６０μｍ以下、約１２０μｍ以下、又は約８０μｍ以下でありうる。さらなる実施形態では、凹部深さ７４９は、約５μｍ～約５００μｍ、約１０μｍ～約５００μｍ、約１０μｍ～約２００μｍ、約２０μｍ～約２００μｍ、約２０μｍ～約１６０μｍ、約４０μｍ～約１６０μｍ、約４０μｍ～約１２０μｍ、約６０μｍ～約１２０μｍ、約６０μｍ～約８０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、図７～８に示されるように、第１の外側端面７４１は、第１の表面領域２２３と第１の外面７５１との間に画成されうる。さらに別の実施形態では、示されるように、第１の外側端面７４１は鈍角ではない表面を含みうるが、他の実施形態では、鈍角の表面が提供されてもよい。

【0230】

第２の厚さ２３７は、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３と第２の部分２３１の第４の表面領域２３５との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、第２の厚さ２３７は、第１の厚さ２２７に関して上で論じた範囲内でありうる。さらなる実施形態では、示されるように、第２の厚さ２３７は、第１の厚さ２２７に実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、第１の厚さ２２７及び／又は第２の厚さ２３７より小さいか、又は実質的に等しくなりうる第１の基板厚さ２０９を含みうる。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１の第２の厚さ２３７は、第３の表面領域２３３と第４の表面領域２３５との間で実質的に均一でありうる。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１は、光学的に透明でありうる。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１は、第１の部分（例えば、第１のガラスをベースとした部分、第１のセラミックをベースとした部分、第１のポリマーをベースとした部分）について上で論じた１つ以上の範囲内の弾性率を含みうる。第２の部分２３１は、上で論じた第１の部分２２１の材料組成物のいずれかを含みうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、第２の部分２３１と同じ材料組成物を含みうる。

【0231】

図１～２に示されるように、本開示の実施形態のいずれかの折り畳み可能な装置は、折り畳み可能な装置が平らな構成にある場合に（例えば、図１参照）、折り畳み軸１０２及び第１の部分２２１の第１の厚さ２２７の方向２０２を含む、折り畳み平面１０９を含みうる。図２～８に示されるように、本開示の実施形態は、折り畳み平面１０９を中心として第１の端面２２９の鏡像でありうる第２の端面２３９を有する第２の部分２３１を提供することができる；しかしながら、さらなる実施形態では、第２の端面２３９は第１の端面２２９の鏡像でなくてもよい。

【0232】

図２～８に示されるように、第２の部分２３１の第２の端面２３９は、第３の表面領域２３３と第４の表面領域２３５との間に画成されうる。第２の端面２３９は、外周部２４７を含む。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の端面２３９は、第１の端面２２９に関して上で定義したように、鈍角の端面を含むことができる。

【0233】

幾つかの実施形態では、図２に示されるように、第２の端面２３９の鈍角の端面は、第１の端面２２９の面取りされた端面２４９と同様又は同一でありうる面取りされた端面２５１を含みうる。図２にさらに示されるように、第２の端面２３９の鈍角の端面は、第１の端面２２９の面取りされた端面２５０と同様又は同一でありうる面取りされた端面２５２を含みうる。図２に示されるように、面取りされた端面２５０は、面取りされた端面２４９の鏡像を含むことができ、この鏡像は、第１の表面領域２２３と第２の表面領域２２５との間の距離の半分に位置づけられ、かつ第１の表面領域２２３に平行な平面を中心として取得される。同様に、面取りされた端面２５２は、面取りされた端面２５１の鏡像を含むことができ、この鏡像は、第３の表面領域２３３と第４の表面領域２３５との間の距離の半分に位置づけられ、かつ第３の表面領域２３３に平行な平面を中心として取得される。

【0234】

幾つかの実施形態では、図３に示されるように、第２の端面２３９の鈍角の端面は、上で論じた第１の端面２２９の曲面端面３０３と同様又は同一でありうる曲面端面３０５を含む。図３に示されるように、第１の端面２２９と第２の表面領域２２５との間の界面は、曲面端面３０３の鏡像を含むことができ、この鏡像は、第１の表面領域２２３と第２の表面領域２２５との間の距離の半分に位置づけられ、かつ第１の表面領域２２３に平行な平面を中心として取得される。同様に、第２の端面２３９と第４の表面領域２３５との間の界面は、曲面端面３０５の鏡像を含むことができ、この鏡像は、第３の表面領域２３３と第４の表面領域２３５との間の距離の半分に位置づけられ、かつ第３の表面領域２３３に平行な平面を中心として取得される。

【0235】

幾つかの実施形態では、図４に示されるように、第２の端面２３９の鈍角の端面は、上で論じた第１の端面２２９の丸みを帯びた端面４０３と同様又は同一でありうる、丸みを帯びた端面４０５を含む。幾つかの実施形態では、第２の端面２３９の曲率半径４０９は第１の端面２２９の曲率半径４０７に実質的に等しくなりうるが、他の実施形態では、他の関係が提供されてもよい。

【0236】

幾つかの実施形態では、図５に示されるように、第２の端面２３９の鈍角の端面は、上で論じた第１の端面２２９の楕円形の端面５０２と同様又は同一でありうる楕円形の端面５０４を含む。図５に示されるように、第１の端面２２９の長軸５２１ａ及び短軸５２１ｂによって画成された楕円形の端面５０２の鏡像は、第２の端面２３９の長軸５２３ａ及び短軸５２３ｂによって画成された楕円形の端面５０４であってよく、この鏡像は折り畳み平面１０９を中心として取得される。幾つかの実施形態では、第２の端面２３９の長軸５２３ａ及び短軸５２３ｂは、それぞれ、第１の端面２２９の長軸５２１ａ及び短軸５２１ｂに実質的に等しくなりうるが、他の実施形態では、他の構成が提供されてもよい。

【0237】

幾つかの実施形態では、図６に示されるように、第２の端面２３９の鈍角の端面は、それぞれ、上で論じた第１の端面２２９の複合端面の上部６０３ａ及び下部６０３ｂと同様又は同一でありうる、上部６０４ａ及び下部６０４ｂを含む複合端面を含む。幾つかの実施形態では、第２の端面２３９は、第１の端面２２９の第１の曲率半径４０７ａに実質的に等しくなりうる、第１の曲率半径４０９ａを含む上部６０４ａを含みうる。幾つかの実施形態では、第２の端面２３９は、第１の端面２２９の第２の曲率半径４０７ｂに実質的に等しくなりうる、第２の曲率半径４０９ｂを含む下部６０４ｂを含みうる。幾つかの実施形態では、第２の端面２３９は、第１の端面２２９の平らな部分６０６に実質的に等しくなりうる、平らな部分６０７を含む下部６０４ｂを含みうる。幾つかの実施形態では、図２～３に示されるように、第１の部分２２１の外周部２４５及び／又は第２の部分２３１の外周部２４７は、実質的に平らな表面を含みうるが、さらなる実施形態では、他の表面が提供されてもよい（例えば、凸状及び／又は凹状を含む、直線、曲線）。

【0238】

幾つかの実施形態では、図７に示されるように、第２の端面２３９の部分は、図４に示される第２の端面２３９のような鈍角の端面を含みうる。しかしながら、第２の部分２３１は、それが９０°の内角を含むことから、鈍角ではない、第２の外面７５３と第３の表面領域２３３との間の第２の外側端面７４３を含む。

【0239】

幾つかの実施形態では、図２及び図８に示されるように、第２の部分２３１の外周部２４７は、実質的に平らな表面を含みうるが、さらなる実施形態では、他の表面が提供されてもよい（例えば、凸状及び／又は凹状を含む、直線、曲線）。幾つかの実施形態では、図２及び図８に示されるように、第２の部分２３１の外周部２４７の平らな表面は、第１の厚さ２２７の方向２０２に延在してもよい。

【0240】

幾つかの実施形態では、図７～８に示されるように、第２の部分２３１は、第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含みうる。さらなる実施形態では、図７～８に示されるように、第２の外側端面７４３は、第３の表面領域２３３と第２の外面７５３との間に画成されうる。さらに別の実施形態では、示されるように、第２の外側端面７４３は、鈍角ではない表面を含みうるが、他の実施形態では、鈍角の表面が提供されてもよい。

【0241】

幾つかの実施形態では、第２の部分２３１は、ガラスをベースとした部分を含みうる。さらなる実施形態では、第２の部分２３１は、第１の部分２２１に関してガラスをベースとした材料について上で論じた範囲内の組成物を含みうる。例えば、第１の部分２２１及び第２の部分２３１はいずれも、ガラスをベースとした部分を含みうる。例えば、第１の部分２２１は、ガラスをベースとした部分を含むことができ、一方、第２の部分２３１は、セラミックをベースとした部分を含むことができる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、セラミックをベースとした基板を含みうる。さらなる実施形態では、第２の部分２３１は、第１の部分２２１に関してセラミックをベースとした材料について上で論じた範囲内の組成物を含みうる。例えば、第１の部分２２１及び第２の部分２３１はいずれも、セラミックをベースとした部分を含みうる。例えば、第１の部分２２１は、セラミックをベースとした部分を含むことができ、一方、第２の部分２３１は、ガラスをベースとした部分を含むことができる。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１はポリマーをベースとした部分を含みうる。さらなる実施形態では、第２の部分２３１は、第１の部分２２１に関してポリマーをベースとした材料について上で論じた材料のうちの１つ以上を含みうる。例えば、第１の部分２２１及び第２の部分２３１はいずれも、ポリマーをベースとした部分を含みうる。

【0242】

図２～８及び図１０に示されるように、幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間に位置づけることができる。さらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第１の端面２２９（例えば、第１の鈍角の端面）と第２の部分２３１の第２の端面２３９（例えば、第２の鈍角の端面）との間に位置づけることができる。さらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第１の端面２２９と接触することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の端面２２９の外周部２４５と接触することができる。別のさらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の端面２２９の端面全体と接触することができる。さらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第２の部分２３１の第２の端面２３９と接触することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第２の端面２３９の外周部２４７と接触することができる。別のさらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第２の端面２３９の端面全体と接触することができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は折り畳み可能な装置の幅１０３の方向１０４の幅を含むことができ、ポリマーをベースとした部分２４１の幅は、折り畳み可能な装置の幅１０３と実質的に等しくなりうる。

【0243】

図２～８に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第３の接触面２５５と該第３の接触面２５５とは反対側の第４の接触面２５７とを含みうる。幾つかの実施形態では、第３の接触面２５５は平面を含みうる。幾つかの実施形態では、図２～４及び図６～８に示されるように、第３の接触面２５５は、第１の表面領域２２３及び第３の表面領域２３３と実質的に同一平面でありうる（例えば、共通の平面に沿って延びる）。幾つかの実施形態では、第１の表面領域２２３及び第３の表面領域２３３と実質的に同一平面である第３の接触面２５５に加えて、図２～３及び図６～８に示されるように、第４の接触面２５７は、第２の表面領域２２５及び第４の表面領域２３５と実質的に同一平面でありうる（例えば、共通の平面に沿って延びる）。図２～３及び図６～８に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第１の厚さ２２７と実質的に同一の（例えば、等しい）広がりを有する、第１の部分２２１の第１の厚さ２２７の方向２０２に延びうる。さらなる実施形態では、図４に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第２の表面領域２２５と第４の表面領域２３５とによって画成された平面を超えて延びうる。幾つかの実施形態では、第４の接触面２５７は平面を含みうる。幾つかの実施形態では、図２～３及び図５～８に示されるように、第４の接触面２５７は、第２の表面領域２２５及び第４の表面領域２３５と実質的に同一平面でありうる（例えば、共通の平面に沿って延びる）。さらなる実施形態では、図２～３及び図６～８に示されるように、第３の接触面２５５は、第１の表面領域２２３及び第３の表面領域２３３と実質的に同一平面でありうる（例えば、共通の平面に沿って延びる）。さらなる実施形態では、図５に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の表面領域２２３と第３の表面領域２３３とによって画成された平面を超えて延びうる。さらなる実施形態では、実質的に、図４～５に示されるポリマーをベースとした部分２４１の組合せである、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の表面領域２２３及び第３の表面領域２３３によって画成された平面を超えて延在することができるだけでなく、第２の表面領域２２５と第４の表面領域２３５とによって画成された平面を超えて延在することもできる。

【0244】

幾つかの実施形態では、図４に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第２の表面領域２２５に面する第１の内表面領域４３１を含みうる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の内表面領域４３１は、第２の表面領域２２５と接触することができる。さらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第４の表面領域２３５に面する第２の内表面領域４２９を含みうる。さらに別の実施形態では、第２の内表面領域４２９は、第４の表面領域２３５と接触することができる。さらなる実施形態では、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５とポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７との間に、ポリマーの厚さ４１５が画成されうる。さらに別の実施形態では、ポリマーの厚さ４１５は、約１μｍ以上、約５μｍ以上、約１０μｍ以上、約２０μｍ以上、約３０μｍ以上、約８０μｍ以下、約６０μｍ以下、約５０μｍ以下、約４０μｍ以下、約３０μｍ以下、約２０μｍ以下、又は約１０μｍ以下でありうる。さらに別の実施形態では、ポリマーの厚さ４１５は、約１μｍ～約８０μｍ、約１μｍ～約６０μｍ、約１μｍ～約５０μｍ、約１μｍ～約４０μｍ、約１μｍ～約３０μｍ、約１μｍ～約２０μｍ、約１μｍ～約１０μｍ、約５μｍ～約６０μｍ、約５μｍ～約５０μｍ、約５μｍ～約４０μｍ、約５μｍ～約３０μｍ、約５μｍ～約２０μｍ、約５μｍ～約１０μｍ、約１０μｍ～約６０μｍ、約１０μｍ～約５０μｍ、約１０μｍ～約４０μｍ、約１０μｍ～約３０μｍ、約１０μｍ～約２０μｍ、約２０μｍ～約６０μｍ、約２０μｍ～約５０μｍ、約２０μｍ～約４０μｍ、約２０μｍ～約３０μｍ、約３０μｍ～約６０μｍ、約３０μｍ～約５０μｍ、約３０μｍ～約４０μｍ、約４０μｍ～約５０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらに別の実施形態では、実施例ＩＩ～ＫＫを参照して以下で論じられるように、約５μｍ以下（例えば、約１μｍ～約５μｍ）のポリマー厚さ４１５を提供することにより、折り畳みにおける機械的不安定性の開始を低減（例えば、軽減、遅延、排除）することができる。

【0245】

幾つかの実施形態では、図２～８に示されるように、平らな向きで、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び第２の部分２３１の第４の表面領域２３５は、共通平面２５３に沿って延在しうる（図２参照）。さらなる実施形態では、図２に示されるように、凹部は、第１の部分２２１の第１の端面２２９、第２の部分２３１の第２の端面２３９、共通平面２５３、及び第１の接着層２１１の第２の接触面２１５の間に画成されうる。さらに別の実施形態では、示されるように、凹部には、ポリマーをベースとした部分２４１（後述される）が充填されうる。さらに別の実施形態では、図示されてはいないが、例えば、電子デバイス及び／又は機械デバイスのための余地を残すために、凹部は完全には満たされていなくてもよい。

【0246】

幾つかの実施形態では、図５に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の表面領域２２３に面する第１の内表面領域５２７を含みうる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の内表面領域５２７は第１の表面領域２２３と接触することができる。さらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第３の表面領域２３３に面する第２の内表面領域５２９を含みうる。さらに別の実施形態では、第２の内表面領域５２９は、第３の表面領域２３３と接触することができる。さらなる実施形態では、ポリマーの厚さ５２５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３とポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５との間に画成されうる。さらに別の実施形態では、ポリマーの厚さ５２５は、ポリマーの厚さ４１５に関して上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。

【0247】

第１の部分２２１及び／又は第２の部分２３１の表面領域（例えば、第１の表面領域２２３、第２の表面領域２２５、第３の表面領域２３３、第４の表面領域２３５）と接触するポリマーをベースとした部分２４１を提供することにより、例えば、コーティング及び／又は基板の中立軸をコーティング及び／又は基板のミッドプレーンよりもポリマーをベースとした部分２４１の近くににシフトさせることによって、コーティング（例えば、コーティング４１１）及び／又は基板（例えば、第１の基板２０３、バッキング基板４２１）に曲げによって誘起される応力を低減することができる。さらには、第１の部分２２１の表面領域（例えば、第１の表面領域２２３、第２の表面領域２２５）及び第２の部分２３１の表面領域（例えば、第３の表面領域２３３、第４の表面領域２３５）と接触するポリマーをベースとした部分２４１を提供することにより、（例えば、ディスプレイデバイス又は他の電子デバイスから）画像を見るときの光学的歪みを低減することができる。さらには、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び第２の部分２３１の第３の表面領域２３３と接触するポリマーをベースとした部分２４１を提供することにより、第３の接触面２５５を提供することができ、この第３の接触面２５５は、第１の部分２２１及び第２の部分２３１を覆っており、コーティング（例えば、コーティング４１１）及び／又は基板（例えば、第１の基板２０３、バッキング基板４２１）を結合するためにその長さ及び／又は幅にわたって一貫した特性を備えた第３の接触面２５５を提示する。さらには、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び第２の部分２３１の第４の表面領域２３５と接触するポリマーをベースとした部分２４１を提供することにより、第４の接触面２５７を提供することができ、この第４の接触面２５７は、第１の部分２２１及び第２の部分２３１を覆っており、基板（例えば、第２の基板）、剥離ライナ５０３、及び／又はディスプレイデバイス６０３を結合するためにその長さ及び／又は幅にわたって一貫した特性を備えた第４の接触面２５７を提示する。

【0248】

幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、ポリマー（例えば、光学的に透明なポリマー）を含む。さらなる実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、光学的に透明な、アクリル（例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、エポキシ、シリコーン、及び／又はポリウレタンのうちの１つ以上を含みうる。エポキシの例には、ビスフェノールをベースとしたエポキシ樹脂、ノボラックをベースとしたエポキシ、脂環式をベースとしたエポキシ、及びグリシジルアミンをベースとしたエポキシが含まれる。さらなる実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、ポリオレフィン、ポリアミド、ハロゲン化物含有ポリマー（例えば、ポリ塩化ビニル又はフッ素含有ポリマー）、エラストマー、ウレタン、フェノール樹脂、パリレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び／又はポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）のうちの１つ以上を含みうる。ポリオレフィンの例となる実施形態には、低分子量ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、及びポリプロピレン（ＰＰ）が含まれる。フッ素含有ポリマーの例となる実施形態には、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）、パーフルオロスルホン酸（ＰＦＳＡ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）ポリマー、及びエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）ポリマーが含まれる。エラストマーの例となる実施形態には、ゴム（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム）、ポリウレタン、並びにポリスチレン、ポリジクロロホスファゼン、及び／又はポリ（５－エチリデン－２－ノルボルネン）のうちの１つ以上を含むブロックコポリマー（例えば、スチレンブタジエン、耐衝撃性ポリスチレン、ポリジクロロホスファゼン）が含まれる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、ナノ粒子、例えば、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、シリカナノ粒子、又はポリマーを含むナノ粒子をさらに含むことができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分は、ポリマー－繊維複合体を形成するための繊維をさらに含むことができる。

【0249】

幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、負の熱膨張係数（ＣＴＥ）を含みうる。本明細書で用いられる場合、熱膨張係数は、－２０℃から４０℃の間でＰｉｃｏｓｃａｌｅ Ｍｉｃｈｅｌｓｏｎ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒを使用して、ＡＳＴＭ Ｅ２８９－１７に準拠して測定される。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、酸化銅、ベータ石英、タングステン酸塩、バナジン酸塩、ピロリン酸塩、及び／又はニッケル－チタン合金のうちの１つ以上の粒子を含みうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、約－２０×１０^－７℃^－１以上、約－１０×１０^－７℃^－１以上、約－５×１０^－７℃^－１以上、約－２×１０^－７℃^－１以上、約１０×１０^－７℃^－１以下、約５×１０^－７℃^－１以下、約２×１０^－７℃^－１以下、約１×１０^－７℃^－１以下、又は０℃^－１以下のＣＴＥを含みうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、約－２０×１０^－７℃^－１～約１０×１０^－７℃^－１、約－２０×１０^－７℃^－１～約５×１０^－７℃^－１、約－１０×１０^－７℃^－１～約５×１０^－７℃^－１、約－１０×１０^－７℃^－１～約２×１０^－７℃^－１、約－１０×１０^－７℃^－１～０℃^－１、約－５×１０^－７℃^－１～０℃^－１、約－２×１０^－７℃^－１～約０℃^－１の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲のＣＴＥを含みうる。低い（例えば、負の）熱膨張係数を含むポリマーをベースとした部分を提供することにより、該ポリマーをベースとした部分の硬化中の体積変化によって生じる反りを軽減することができる。

【0250】

本開示全体を通して、ポリマー材料（例えば、接着剤、ポリマーをベースとした部分）の引張強度、極限伸び（例えば、故障時の歪み）、及び降伏点は、引張試験機、例えば、Ｉｎｓｔｒｏｎ３４００又はＩｎｓｔｒｏｎ６８００を使用して、２５℃及び５０％の相対湿度で、タイプＩのドッグボーン形状の試料を使用して、ＡＳＴＭ Ｄ６３８を使用して決定される。本開示全体を通して、弾性率（例えば、ヤング率）及び／又はポアソン比は、ＩＳＯ ５２７－１：２０１９を使用して測定される。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、約０．０１メガパスカル（ＭＰａ）以上、約１ＭＰａ以上、約１０ＭＰａ以上、約２０ＭＰａ以上、約１００ＭＰａ以上、約１０，０００ＭＰａ以下、約３，０００ＭＰａ以下、約１，０００ＭＰａ以下、約５００ＭＰａ以下、又は約３００ＭＰａ以下の弾性率を含みうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、約０．０１ＭＰａ～約１０，０００ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約３，０００ＭＰａ、約１ＭＰａ～約３，０００ＭＰａ、約１０ＭＰａ～約３，０００ＭＰａ、約２０ＭＰａ～約３，０００ＭＰａ、約２０ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約２０ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約２００ＭＰａ～約３００ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲の弾性率を含みうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の弾性率は、約０．０１ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約５００ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約１ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約１０ＭＰａ～約３００ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の弾性率は、約１ＧＰａ～約２０ＧＰａ、約１ＧＰａ～約１８ＧＰａ、約１ＧＰａ～約１０ＧＰａ、約１ＧＰａ～約５ＧＰａ、約１ＧＰａ～約３ＧＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。約０．０１ＭＰａ～約３，０００ＭＰａの範囲（例えば、約２０ＭＰａ～約３ＧＰａの範囲）の弾性率を有するポリマーをベースとした部分２４１を提供することにより、折り畳み可能な装置を支障なく折り畳むことが容易になりうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１は、ポリマーをベースとした部分の弾性率２４１より大きい弾性率を含み、この配置は、改善された穿刺抵抗性能を提供する。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分の弾性率２４１は、第１の部分２２１及び／又は第２の部分２３１の弾性率より小さくなりうる。

【0251】

幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１は、ポリマーをベースとした部分２４１の弾性率の１つ以上の範囲内の弾性率を含みうる。さらなる実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、及び／又は第３の接着層７１７は、ポリマーをベースとした部分の弾性率２４１と実質的に同じ弾性率を含みうる。さらなる実施形態では、実施例ＬＬ～ＯＯに見られるように、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、及び／又は第３の接着層７１７の弾性率は、約２５０ＭＰａ～約２０ＧＰａ、１ＧＰａ～約２０ＧＰａ、約１ＧＰａ～約１８ＧＰａ、約１ＧＰａ～約１０ＧＰａ、約１ＧＰａ～約５ＧＰａ、約１ＧＰａ～約３ＧＰａ、約３ＧＰａ～約１０ＧＰａ、約５ＧＰａ～約１０ＧＰａ、約５ＧＰａ～約８ＧＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、及び／又は第３の接着層７１７の弾性率は、約２５０ＭＰａ～約５ＧＰａ、約２５０ＭＰａ～約４ＧＰａ、約４００ＭＰａ～約４ＧＰａ、約４００ＭＰａ～約１ＧＰａ、約５００ＭＰａ～約１ＧＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、実施例ＡＡ～ＱＱに見られるように、ポリマーをベースとした部分２４１、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、及び／又は第３の接着層７１７の弾性率は、約０．００１ＭＰａ～約５０ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約５０ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約２０ＭＰａ、約０．０５ＭＰａ～約２０ＭＰａ、約０．０５ＭＰａ～約１０ＭＰａ、約０．１ＭＰａ～約５ＭＰａ、約０．５ＭＰａ～約５ＭＰａ、約１ＭＰａ～約５ＭＰａ、約０．００１ＭＰａ～約０．５ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約０．５ＭＰａ、約０．０１ＭＰａ～約０．１ＭＰａ、約０．０５ＭＰａ～約０．１ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0252】

本開示全体を通して、試料の永久伸びは、試料が指定された歪みへと引き伸ばされた後のゼロ応力での歪みとして、ＡＳＴＭＤ－４１２を使用して測定される。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、２５℃で毎分１０％歪みの歪み速度で、４０％の歪みへと伸ばされた後の永久伸びを含みうる。さらなる実施形態では、永久伸びは、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下、又は０％以上でありうる。さらなる実施形態では、永久伸びは、０％～約２％、０％～約１％、０％～約０．５％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、２５℃で毎分１０％歪みの歪み速度で、４０％の歪みへと伸ばされた後に、完全に回復することができる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、０℃で毎分１０％歪みの歪み速度で、４０％の歪みへと伸ばされた後に、完全に回復することができる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、２５℃で毎分１０％歪みの歪み速度で、ポリマーをベースとした部分を４０％の歪みへと２００サイクル伸ばした後の永久伸びを含みうる。さらなる実施形態では、永久伸びは、約２％以下、約１％以下、約０．５％以下、又は０％以上でありうる。さらなる実施形態では、永久伸びは、０％～約２％、０％～約１％、０％～約０．５％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0253】

本明細書で用いられる場合、材料は、応力と０歪みから所定の歪みに変化する歪みとの関係が実質的に線形である場合に、所定の歪みに対して線形弾性を示す。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、約５％以上、約８％以上、約１０％以上、約１２％以上、約１５％以上、約１８％以上、約２０％以上、約２２％以上、約２５％以上、約３０％以上、又は約５０％以上の歪みに対する線形弾性を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、公称使用条件下で（例えば、対応する（一又は複数の）接着層及び／又はポリマーをベースとした部分を含む折り畳み可能な装置を少なくとも１０ｍｍ、５ｍｍ、３ｍｍなどの平行平板距離に折り畳む）、弾性変形レジーム内に維持されうる。本明細書で用いられる場合、弾性変形レジームには、材料がその変形体へと変形された後、元の寸法の９９％を回復することができる、変形の範囲が含まれる（例えば、約１％以下の永久歪み）。理論に縛られることは望まないが、第１の材料の厚さを折り畳み可能な装置の有効最小曲げ半径で割った商が第１の材料の降伏歪みよりも小さい場合に、第１の材料の引張強度が第１の材料の弾性率と第１の材料の厚さの積を第１の材料の体積分率の２倍の積で割ったものよりも小さい場合、第１の材料は、その弾性変形レジーム内に維持されうる。本明細書で用いられる場合、引張強度は、降伏時の材料における応力である。本明細書で用いられる場合、降伏歪みは降伏時の材料の歪みである。本明細書で用いられる場合、第１の材料の体積分率とは、中央表面領域と砕かれたペインの外周によって囲まれた第２の材料表面との間の領域にある第１の材料の体積の合計の中央表面領域と砕かれたペインの外周によって囲まれた第２の材料表面との間の領域の総体積に対する比を意味する。例えば、第１の材料の降伏歪みが０．１であり、第１の材料の引張強度が第１の材料の弾性率の１０倍を超える限り、第１の材料の厚さは１００μｍであるため、有効最小曲げ半径が折り畳み可能な装置内にある場合、第１の材料がその弾性変形レジーム内にあるであろう。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、約５％以上、約８％以上、約１０％以上、約１２％以上、又は約２０％以上の降伏歪みを含みうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１、第２の接着層５０７、第３の接着層７１７、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１は、約５％～約１０，０００％、約５％～約５，０００％、約８％～約１，０００％、約８％～約５００％、約１０％～約３００％、約１０％～約１００％、約１２％～約１００％、約２０％～約１００％、約２０％～約５０％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲の降伏歪みを含みうる。後述されるように、折り畳み可能な装置は、折り畳まれていない構成と折り畳まれた構成との間で降り畳まれ、これにより、第１の材料をその弾性変形レジーム内に保ちつつ、より多くの材料を使用することができることから、材料を曲がった構成で硬化させることにより、第１の材料の有効最大歪みを低減することができる。

【0254】

幾つかの実施形態では、図４～６に示されるように、折り畳み可能な装置４０１、５０１、及び６０１は、コーティング４１１を含むことができる。示されるように、コーティング４１１は、第３の主面４１９と該第３の主面４１９とは反対側の第４の主面４１７とを含みうる。コーティング厚さ４１３は、第３の主面４１９と第４の主面４１７との間に画成されうる。さらなる実施形態では、コーティング厚さは、約０．１μｍ以上、約１μｍ以上、約５μｍ以上、約１０μｍ以上、約１５μｍ以上、約２０μｍ以上、約２５μｍ以上、約４０μｍ以上、約５０μｍ以上、約６０μｍ以上、約７０μｍ以上、約８０μｍ以上、約９０μｍ以上、約２００μｍ以下、約１００μｍ以下、又は約５０μｍ以下、約３０μｍ以下、約２５μｍ以下、約２０μｍ以下、約２０μｍ以下、約１５μｍ以下、又は約１０μｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、コーティング厚さ４１３は、約０．１μｍ～約２００μｍ、約１μｍ～約２００μｍ、約１０μｍ～約２００μｍ、約５０μｍ～約２００μｍ、約０．１μｍ～約１００μｍ、約１μｍ～約１００μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約２０μｍ～約１００μｍ、約３０μｍ～約１００μｍ、約４０μｍ～約１００μｍ、約５０μｍ～約１００μｍ、約６０μｍ～約１００μｍ、約７０μｍ～約１００μｍ、約８０μｍ～約１００μｍ、約９０μｍ～約１００μｍ、約０．１μｍ～約５０μｍ、約１μｍ～約５０μｍ、約１０μｍ～約５０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、コーティング厚さ４１３は、約０．１μｍ～約５０μｍ、約０．１μｍ～約３０μｍ、約０．１μｍ～約２５μｍ、約０．１μｍ～約２０μｍ、約０．１μｍ～約１５μｍ、約０．１μｍ～約１０μｍの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、コーティング厚さ４１３は、約１μｍ～約３０μｍ、約１μｍ～約２５μｍ、約１μｍ～約２０μｍ、約１μｍ～約１５μｍ、約１μｍ～約１０μｍの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、コーティング厚さ４１３は、約５μｍ～約３０μｍ、約５μｍ～約２５μｍ、約５μｍ～約２０μｍ、約５μｍ～約１５μｍ、約５μｍ～約１０μｍ、約１０μｍ～約３０μｍ、約１０μｍ～約２５μｍ、約１０μｍ～約２０μｍ、約１０μｍ～約１５μｍ、約１５μｍ～約３０μｍ、約１５μｍ～約２５μｍ、約１５μｍ～約２０μｍ、約２０μｍ～約３０μｍ、約２０μｍ～約２５μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、コーティング厚さ４１３は、約５μｍ～約３０μｍ、約５μｍ～約２５μｍ、約１０μｍ～約２５μｍ、約１０μｍ～約２０μｍ、約１０μｍ～約１５μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0255】

幾つかの実施形態では、図４～６に示されるように、コーティング４１１は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。さらなる実施形態では、示されるように、コーティング４１１は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３、及びポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５の上に配置することができる。さらに別の実施形態では、図５に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５は、コーティング４１１の第４の主面４１７と接触することができる。

【0256】

本明細書で用いられる場合、第１の層及び／又は構成要素が、第２の層及び／又は構成要素「の上に配置された」と記載される場合、他の層は、第１の層及び／又は構成要素と第２の層及び／又は構成要素との間に存在していても、存在していなくてもよい。さらには、本明細書で用いられる場合、「～の上に配置された」は、重力に関する相対位置を指すものではない。例えば、第１の層及び／又は部品は、例えば、第１の層及び／又は部品が第２の層及び／又は部品の下、上、又は片側に配置されている場合に、第２の層及び／又は部品「の上に配置された」と見なすことができる。本明細書で用いられる場合、第２の層及び／又は構成要素「に結合された」と記載される第１の層及び／又は構成要素は、その層及び／又は構成要素が、２つの層及び／又は構成要素間の直接接触及び／又は結合のいずれかによって、若しくは接着剤層を介して、互いに結合されることを意味する。

【0257】

幾つかの実施形態では、コーティング４１１は、ポリマーハードコーティングを含みうる。さらなる実施形態では、ポリマーハードコーティングは、エチレン－酸コポリマー、ポリウレタン系ポリマー、アクリレート樹脂、及び／又はメルカプトエステル樹脂のうちの１つ以上を含みうる。エチレン－酸コポリマーの例となる実施形態には、エチレン－アクリル酸コポリマー、エチレン－メタクリル酸コポリマー、及びエチレン－アクリル－メタクリル酸ターポリマー（例えば、ＤｕＰｏｎｔ社製のＮｕｃｒｅｌ）、エチレン－酸コポリマーのアイオノマー（例えば、ＤｕＰｏｎｔ社製のＳｕｒｌｙｎ）、及びエチレン－アクリル酸コポリマーアミン分散液（例えば、ＢＹＫ社製のＡｑｕａｃｅｒ）が含まれる。ポリウレタン系ポリマーの例となる実施形態には、水性修飾ポリウレタン分散液（例えば、Ａｘａｌｔａ社製のＥｌｅｇｌａｓ（登録商標））が含まれる。ＵＶ硬化性でありうるアクリレート樹脂の例となる実施形態には、アクリレート樹脂（例えば、Ａｌｌｎｅｘ社製造のＵｖｅｋｏｌ（登録商標）樹脂）、シアノアクリレート接着剤（例えば、Ｋｒａｙｄｅｎ社製造のＰｅｒｍａｂｏｎｄ（登録商標）ＵＶ６２０）、及びＵＶラジカルアクリル樹脂（例えば、Ｕｌｔｒａｂｏｎｄフロントガラス補修用樹脂、例えばＵｌｔｒａｂｏｎｄ（４５ＣＰＳ））が含まれる。メルカプトエステル樹脂の例となる実施形態には、メルカプトエステルトリアリルイソシアネート類（例えば、Ｎｏｒｌａｎｄ光学接着剤ＮＯＡ６１）が含まれる。さらなる実施形態では、ポリマーハードコーティングは、エチレン－アクリル酸コポリマー及びエチレン－メタクリル酸コポリマーを含むことができ、これは、典型的にはアルカリ金属イオン、例えばナトリウム及びカリウム、並びに亜鉛でカルボン酸残基を中和することにより、アイオノマー化されてアイオノマー樹脂を形成しうる。このようなエチレン－アクリル酸アイオノマー及びエチレン－メタクリル酸アイオノマーは、水中に分散され、基板上にコーティングされて、アイオノマーコーティングを形成しうる。あるいは、このような酸コポリマーは、アンモニアで中和することができ、これにより、コーティング及び乾燥後に、アンモニアを遊離して、酸コポリマーをポリマーハードコーティングとして再形成する。ポリマーハードコーティングを含むコーティングを提供することにより、折り畳み可能な装置は、低エネルギー破壊を含みうる。

【0258】

幾つかの実施形態では、コーティング４１１は、光学的に透明なポリマーハードコート層を含むポリマーコーティングを含みうる。光学的に透明な高分子ハードコート層に適した材料には、次のものが含まれるが、これらに限定されない：硬化アクリル樹脂材料、無機－有機ハイブリッド高分子材料、脂肪族又は芳香族六官能性ウレタンアクリレート、シロキサンをベースとしたハイブリッド材料、及びナノ複合材料、例えば、ナノケイ酸塩を含むエポキシ及びウレタン材料。幾つかの実施形態では、光学的に透明な高分子ハードコート層は、本質的にこれらの材料のうちの１つ以上で構成されうる。幾つかの実施形態では、光学的に透明な高分子ハードコート層は、これらの材料のうちの１つ以上で構成されうる。本明細書で用いられる場合、「無機－有機ハイブリッド高分子材料」とは、無機及び有機成分を有する、モノマーを含む高分子材料を意味する。無機－有機ハイブリッドポリマーは、無機基を有するモノマーと有機基を有するモノマーとの間の重合反応によって得られる。無機－有機ハイブリッドポリマーは、例えば、有機マトリクス内に分散された無機粒子を含むナノ複合材料などの別個の無機及び有機の構成成分又は相ではない。より具体的には、光学的に透明なポリマー（ＯＴＰ）ハードコート層に適した材料には、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、有機ポリマー材料、無機－有機ハイブリッド高分子材料、及び脂肪族又は芳香族六官能性ウレタンアクリレートが含まれるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、本質的に、有機ポリマー材料、無機－有機ハイブリッド高分子材料、若しくは脂肪族又は芳香族六官能性ウレタンアクリレートで構成されうる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、ポリイミド、有機ポリマー材料、無機－有機ハイブリッド高分子材料、若しくは脂肪族又は芳香族六官能性ウレタンアクリレートで構成されうる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、ナノ複合材料を含みうる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、エポキシ及びウレタン材料のうちの少なくとも一方のナノケイ酸塩を含みうる。このようなＯＴＰハードコート層に適した組成物は、ここに参照することによってその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許出願公開第２０１５／０１１０９９０号明細書に記載されている。本明細書で用いられる場合、「有機ポリマー材料」とは、有機成分のみを有するモノマーを含むポリマー材料を意味する。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、グンゼ株式会社が製造した、例えば、グンゼ社の「高耐久性透明膜」などの９Ｈの高度を有する有機ポリマー材料を含みうる。本明細書で用いられる場合、「無機－有機ハイブリッド高分子材料」とは、無機及び有機成分を有する、モノマーを含む高分子材料を意味する。無機－有機ハイブリッドポリマーは、無機基を有するモノマーと有機基を有するモノマーとの間の重合反応によって得られる。無機－有機ハイブリッドポリマーは、例えば、有機マトリクス内に分散された無機粒子を含むナノ複合材料などの別個の無機及び有機の構成成分又は相ではない。幾つかの実施形態では、無機－有機ハイブリッド高分子材料は、無機ケイ素をベースとした基を含む重合モノマー、例えば、シルセスキオキサンポリマーを含みうる。シルセスキオキサンポリマーは、例えば、次の化学構造を有する、アルキルシルセスキオキサン、アリールシルセスキオキサン、又はアリールアルキルシルセスキオキサンでありうる：（ＲＳｉＯ_１．５）_ｎ、式中、Ｒは、限定はしないが、例えばメチル又はフェニルなどの有機基である。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、例えば、新日鐵化学株式会社が製造したＳＩＬＰＬＵＳなどの有機マトリクスと組み合わせたシルセスキオキサンポリマーを含みうる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、９０質量％～９５質量％ の芳香族六官能性ウレタンアクリレート（例えば、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．社製のＰＵ６６２ＮＴ（芳香族六官能性ウレタンアクリレート））、及び１０質量％～５質量％の光開始剤（例えば、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製のＤａｒｏｃｕｒ１１７３）（８Ｈ以上の高度を有する）を含みうる。幾つかの実施形態では、脂肪族又は芳香族六官能性ウレタンアクリレートで構成されるＯＴＰハードコート層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板上に層をスピンコーティングし、ウレタンアクリレートを硬化させ、かつＰＥＴ基板からウレタンアクリレート層を除去することにより、独立型の層として形成することができる。ＯＴＰハードコート層は、部分範囲を含めて、１μｍ～１５０μｍの範囲のコーティング厚さ４１３を有することができる。例えば、コーティング厚さ４１３は、１０μｍ～１４０μｍ、２０μｍ～１３０μｍ、３０μｍ～１２０μｍ、４０μｍ～１１０μｍ、５０μｍ～１００μｍ、６０μｍ～９０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、２μｍ～１４０μｍ、４μｍ～１３０μｍ、６μｍ～１２０μｍ、８μｍ～１１０μｍ、１０μｍ～１００μｍ、１０μｍ～９０μｍ、１０μｍ、８０μｍ、１０μｍ、７０μｍ、１０μｍ、６０μｍ、１０μｍ、５０μｍの範囲、又はこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内でありうる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、単一のモノリシック層でありうる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、部分範囲を含めた、８０μｍ～１２０μｍの厚さを有する無機－有機ハイブリッドポリマー材料層又は有機ポリマー材料層でありうる。例えば、無機－有機ハイブリッドポリマー材料又は有機ポリマー材料を含むＯＴＰハードコート層は、８０μｍ～１１０μｍ、９０μｍ～１００μｍ、又はこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内の厚さを有することができる。幾つかの実施形態では、ＯＴＰハードコート層は、部分範囲を含めた、１０μｍ～６０μｍの厚さを有する、脂肪族又は芳香族の六官能性ウレタンアクリレート材料層でありうる。例えば、脂肪族又は芳香族の六官能性ウレタンアクリレート材料を含むＯＴＰハードコート層は、１０μｍ～５５μｍ、１０μｍ～５０μｍ、１０μｍ～４０μｍ、１０μｍ～４５μｍ、１０μｍ～４０μｍ、１０μｍ～３５μｍ、１０μｍ～３０μｍ、１０μｍ～２５μｍ、１０μｍ～２０μｍ、又はこれらの値のいずれか２つを端点として有する範囲内の厚さを有することができる。

【0259】

幾つかの実施形態では、コーティング４１１はまた、提供される場合には、洗浄が容易なコーティング、低摩擦コーティング、疎油性コーティング、ダイヤモンド様コーティング、耐スクラッチ性コーティング、及び／又は耐摩耗性コーティングのうちの１つ以上を含みうる。耐スクラッチ性コーティングは、約５００マイクロメートル以上の厚さを有する、酸窒化物、例えば、酸窒化アルミニウム又は酸窒化ケイ素を含みうる。このような実施形態では、耐摩耗性の層は、耐スクラッチ性の層と同じ材料を含みうる。幾つかの実施形態では、低摩擦コーティングは、高度にフッ素化されたシランカップリング剤、例えば、ケイ素原子にぶら下がったオキシメチル基を有するアルキルフルオロシランを含みうる。このような実施形態では、洗浄が容易なコーティングは、低摩擦コーティングと同じ材料を含みうる。他の実施形態では、洗浄が容易なコーティングは、プロトン化可能な基、例えばアミン、又はケイ素原子にぶら下がったオキシメチル基を有するアルキルアミノシランを含みうる。このような実施形態では、疎油性コーティングは、洗浄が容易なコーティングと同じ材料を含みうる。幾つかの実施形態では、ダイヤモンド様コーティングは炭素を含み、炭化水素プラズマの存在下で高電圧電位を印加することによって生成することができる。

【0260】

図４に示されるように、本開示の実施形態のバッキング基板４２１は、第１の主面４２５と該第１の主面４２５とは反対側の第２の主面４２７とを含みうる。バッキングの厚さ４２３が第１の主面４２５と第２の主面４２７との間に画成されうる。さらなる実施形態では、バッキングの厚さ４２３は、約５μｍ以上、約１０μｍ以上、約２５μｍ以上、約１２５μｍ以下、約１００μｍ以下、約７５μｍ以下、又は約５０μｍ以下でありうる。さらなる実施形態では、バッキングの厚さ４２３は、約５μｍ～約１２５μｍ、約５μｍ～約１００μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約２５μｍ～約１００μｍ、約２５μｍ～約７５μｍ、約２５μｍ～約５０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0261】

幾つかの実施形態では、図４に示されるように、バッキング基板４２１の第１の主面４２５は、コーティング４１１の第４の主面４１７に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、バッキング基板４２１の第１の主面４２５は、コーティング４１１の第４の主面４１７と接触する（例えば、結合する）ことができる。さらなる実施形態では、示されるように、バッキング基板４２１の第２の主面４２７は、ポリマーをベースとした部分の第３の接触面２５５に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、バッキング基板４２１の第２の主面４２７は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、バッキング基板４２１の第２の主面４２７は、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面することができる。さらなる実施形態では、バッキング基板４２１は、コーティング４１１の第４の主面４１７とポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５との間に位置づけることができる。さらなる実施形態では、示されてはいないが、バッキング基板４２１は、図４に示される配置と同様に、図５のコーティング４１１と第３の接触面２５５との間に配置することができる。

【0262】

幾つかの実施形態では、バッキング基板４２１はガラスをベースとした基板を含みうる。幾つかの実施形態では、バッキング基板４２１はセラミックをベースとした基板を含みうる。幾つかの実施形態では、バッキング基板４２１はポリマーをベースとした基板を含みうる。さらなる実施形態では、バッキング基板４２１は、アクリル（例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、エポキシ、シリコーン、ポリイミド、及び／又はポリウレタンのうちの１つ以上を含みうる。エポキシの例には、ビスフェノールをベースとしたエポキシ樹脂、ノボラックをベースとしたエポキシ、脂環式をベースとしたエポキシ、及びグリシジルアミンをベースとしたエポキシが含まれる。さらなる実施形態では、バッキング基板４２１は、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ハロゲン化物含有ポリマー（例えば、ポリ塩化ビニル又はフッ素含有ポリマー）、エラストマー、ウレタン、フェノール樹脂、パリレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び／又はポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）のうちの１つ以上を含みうる。ポリオレフィンの例となる実施形態には、低分子量ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、及びポリプロピレン（ＰＰ）が含まれる。フッ素含有ポリマーの例となる実施形態には、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）、パーフルオロスルホン酸（ＰＦＳＡ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）ポリマー、及びエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）ポリマーが含まれる。エラストマーの例となる実施形態には、ゴム（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム）、及びブロックコポリマー（例えば、スチレンブタジエン、耐衝撃性ポリスチレン、ポリ（ジクロロホスファゼン）が含まれる。

【0263】

幾つかの実施形態では、図２～３に示されるように、折り畳み可能な装置１０１及び３０１は、第１の基板２０３を含みうる。幾つかの実施形態では、ガラスをベースとした基板を含む第１の基板２０３は、光学的に透明でありうる。示されるように、第１の基板２０３は、第１の主面２０５と該第１の主面２０５とは反対側の第２の主面２０７とを含みうる。示されるように、第１の主面２０５は第１の平面に沿って延在しうる。第２の主面２０７は第２の平面に沿って延在しうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の平面は、第１の平面に平行になりうる。図２に示されるように、第１の基板厚さ２０９は、第２の主面２０７と第１の主面２０５との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、第１の基板厚さ２０９は、第１の平面と第２の平面との間の最小距離に実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の基板厚さ２０９は、折り畳み可能な装置の長さ１０５（例えば、図１参照）及び／又は折り畳み可能な装置の幅１０３（例えば、図１参照）にわたって実質的に均一でありうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、ガラスをベースとした基板を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、セラミックをベースとした基板を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３がガラスをベースとした材料及び／又はセラミックをベースとした材料を含む場合、第１の基板厚さ２０９は、約１０μｍ～約１００μｍ、約１０μｍ～約８０、約１０μｍ～約６０μｍ、約２０μｍ～約６０μｍ、約２５μｍ～約６０μｍ、約４０μｍ～約６０μｍ、約２０μｍ～約５０μｍ、約２５μｍ～約５０μｍ、約４０μｍ～約５０μｍ、約２０μｍ～約４０μｍ、約２５μｍ～約４０μｍ、約２０μｍ～約３０μｍ、約２５μｍ～約３０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、ポリマーをベースとした基板を含みうる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３は、バッキング基板４２１に関してポリマーをベースとした基板について上で論じた材料のうちの１つ以上を含みうる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３がポリマーをベースとした材料を含む場合、第１の基板厚さ２０９は、約１０μｍ以上、約２０μｍ以上、約４０μｍ以上、約８０μｍ以上、約１２５μｍ以上、約５００μｍ以上、約２ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約５００μｍ以下、約１２５μｍ以下、又はａｂｏｕｔ、又は約６０μｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の基板厚さ２０９は、約１０μｍ～約２ｍｍ、約２０μｍ～約２ｍｍ、約４０μｍ～約２ｍｍ、約８０μｍ～約２ｍｍ、約１２５μｍ～約２ｍｍ、約５００μｍ～約２ｍｍの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第１の基板厚さ２０９は、約２０μｍ～約１ｍｍ、約４０μｍ～約１ｍｍ、約８０μｍ～約１ｍｍ、約１２５μｍ～約１ｍｍ、約５００μｍ～約１ｍｍの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第１の基板厚さ２０９は、約２０μｍ～約５００μｍ、約４０μｍ～約５００μｍ、約８０μｍ～約５００μｍ、約１２５μｍ～約５００μｍ、約２０μｍ～約１２５μｍ、約４０μｍ～約１２５μｍ、約８０μｍ～約１２５μｍ、約１０μｍ～約６０μｍ、約２０μｍ～約６０μｍ、約４０μｍ～約６０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0264】

幾つかの実施形態では、図２に示されるように、第１の基板２０３は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の基板２０３は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３の上に配置することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の基板２０３の第２の主面２０７は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３に面することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の基板２０３は、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３の上に配置することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の基板２０３の第２の主面２０７は、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面することができる。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、コーティングは、第１の基板２０３の第１の主面２０５の上に配置することができる。コーティングは、コーティング４１１に関して上で論じたように、コーティング、洗浄が容易なコーティング、低摩擦コーティング、疎油性コーティング、ダイヤモンド様コーティング、耐スクラッチ性コーティング、及び／又は耐摩耗性コーティングのうちの１つ以上を含みうる。

【0265】

幾つかの実施形態では、図７又は８に示されるように、折り畳み可能な装置７０１及び８０１は、ポリマーをベースとした部分２４１の上に配置された無機層７３７を含みうる。さらなる実施形態では、示されるように、無機層は、第１の部分２２１の一部及び／又は第２の部分２３１の一部の上に配置することができる。さらなる実施形態では、示されるように、無機層７３７は、第７の主面７３３及び該第７の主面７３３とは反対側の第８の主面７３５を含みうる。無機層の厚さ７３９は、第７の主面７３３と第８の主面７３５との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、無機層の厚さ７３９は、第１の基板の第１の基板厚さ２０９及び／又はコーティング４１１のコーティング厚さ４１３について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。幾つかの実施形態では、無機層の厚さ７３９は、約１μｍ～約７０μｍ、約１μｍ～約６０μｍ、約５μｍ～約６０μｍ、約５μｍ～約５０μｍ、約１０μｍ～約５０μｍ、約１０μｍ～約３０μｍ、約１５μｍ～約３０μｍ、約１５μｍ～約２０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、無機層７３７は、ガラスをベースとした材料及び／又はセラミックをベースとした材料を含みうる。さらなる実施形態では、無機層７３７は、１つ以上のセラミック酸化物（例えば、ジルコニア、ジルコン、チタニア、酸化インジウムスズ、スピネル、溶融石英）、セラミック窒化物（例えば、窒化ケイ素、窒化タングステン）、無機酸窒化物（例えば、酸窒化ケイ素、 酸窒化アルミニウム、ＳｉＡｌＯＮ）、又はそれらの組合せを含みうる。幾つかの実施形態では、無機層７３７は、石英、ダイヤモンド、ダイヤモンド様コーティング、サファイア、溶融シリカ、又はそれらの組合せを含みうる。無機層７３７の例示的な実施形態は、３０μｍの厚さのサファイア片である。

【0266】

幾つかの実施形態では、図７～８に示されるように、無機層の第８の主面７３５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び／又は第２の部分２３１の第３の表面領域２３３の上に配置することができる。さらなる実施形態では、図８に示されるように、無機層７３７の第８の主面７３５は、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５と接触することができる。さらに別の実施形態では、図８に示されるように、無機層７３７の第８の主面７３５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び／又は第２の部分２３１の第３の表面領域２３３と接触することができる。さらなる実施形態では、図７に示されるように、無機層７３７の第８の主面７３５は、第１の接着層２１１（例えば、第１の接触面２１３）と接触することができる。さらなる実施形態では、図７～８に示されるように、第８の主面７３５は平面を含みうる。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、ポリマーをベースとした部分２４１は、例えば、ポリマーをベースとした部分の第３の接触面２５５が無機層７３７の第８の主面７３５と接触することができるように、図７に示される第１の接着層２１１内へと延在する（例えば、置き換える）ことができる。

【0267】

幾つかの実施形態では、図７～８に示されるように、無機層７３７の第７の主面７３３は、第１の部分２２１の第１の外面７５１及び／又は第２の部分２３１の第２の外面７５３と共面でありうる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含むことができ、及び／又は第２の部分２３１は、第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含むことができる。さらに別の実施形態では、示されるように、第１の外面７５１、第２の外面７５３、及び／又は第７の主面７３３は、平面を含みうる。さらに別の実施形態では、図８に示されるように、凹部深さ７４９は、無機層の厚さ７３９に実質的に等しくなりうる。さらに別の実施形態では、図７に示されるように、凹部深さ７４９は、第１の接着厚さ２１７と無機層の厚さ７３９との合計に実質的に等しくなりうる。さらに別の実施形態では、図７～８に示されるように、第１の部分２２１は、第１の外面７５１と第１の表面領域２２３との間に画成された第１の外側端面７４１を含むことができ、及び／又は第２の部分２３１は、第２の外面７５３と第３の表面領域２３３との間に画成された第２の外側端面７４３を含むことができる。別のさらなる実施形態では、示されるように、無機層７３７は、第１の外側端面７４１と第２の外側端面７４３との間に位置づけることができる。さらにまた別の実施形態では、示されるように、無機層７３７は、第１の外側端面７４１及び第２の外側端面７４３と接触することができる。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、接着層は、無機層と第１の外側端面及び／又は第２の外側端面との間に延在することができる。第１の部分の第１の外面及び第２の部分の第２の外面と実質的に同一平面である無機層の第７の主面を提供することにより、光学的歪みを低減することができる折り畳み可能な装置の滑らかな表面を可能にする、及び／又は折り畳み可能な装置のユーザのための知覚される連続表面を可能にすることができる。

【0268】

図７～８に示されるように、無機層７３７の無機層幅７５５は、折り畳み可能な装置７０１の長さ１０５の方向１０６に画成されうる。幾つかの実施形態では、示されるように、無機層の幅７５５は、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３のパーセンテージとしての無機層の幅７５５は、約１００％以上、約１０５％以上、約１１０％以上、約１２０％以上、約１３０％以上、又は約１４０％以上、約５００％以下、約３００％以下、約２００％以下、約１８０％以下、約１６０％以下、約１５０％以下、又は約１４０％以下でありうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３のパーセンテージとしての無機層の幅７５５は、約１００％～約５００％、約１００％～約３００％、約１００％～約２００％、約１０５％～約２００％、約１０５％～約１８０％、約１１０％～約１８０％、約１１０％～約１６０％、約１２０％～約１６０％、約１２０％～約１５０％、約１３０％～約１５０％、約１３０％～約１４０％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、無機層の幅７５５は、約５ｍｍ以上、約１０ｍｍ以上、約２０ｍｍ以上、約３０ｍｍ以上、約４０ｍｍ以上、約２００ｍｍ以下、約１００ｍｍ以下、約８０ｍｍ以下、約６０ｍｍ以下、又は約５０ｍｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、無機層の幅７５５は、約５ｍｍ～約２００ｍｍ、約５ｍｍ～約１００ｍｍ、約１０ｍｍ～約１００ｍｍ、約１０ｍｍ～約８０ｍｍ、約２０ｍｍ～約８０ｍｍ、約２０ｍｍ～約６０ｍｍ、約３０ｍｍ～約６０ｍｍ、約３０ｍｍ～約５０ｍｍ、約４０ｍｍ～約５０ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。ポリマーをベースとした部分の上に配置された無機層を提供することにより、折り畳み可能な装置の耐衝撃性及び／又は穿刺抵抗を増加させることができる。

【0269】

図２～４及び図６～７に示されるように、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、６０１、及び７０１は、第１の接着層２１１を含みうる。示されるように、第１の接着層２１１は、第１の接触面２１３と該第１の接触面２１３とは反対側の第２の接触面２１５とを含みうる。幾つかの実施形態では、図２～４及び図６～７に示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、平面を含みうる。第１の接着層２１１の第１の接着厚さ２１７は、第１の接触面２１３と第２の接触面２１５との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第１の接着厚さ２１７は、約１μｍ以上、約５μｍ以上、約１０μｍ以上、約１００μｍ以下、約６０μｍ以下、約３０μｍ以下、又は約２０μｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第１の接着厚さ２１７は、約１μｍ～約１００μｍ、約５μｍ～約１００μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約１μｍ～約６０μｍ、約５μｍ～約６０μｍ、約１０μｍ～約６０μｍ、約１μｍ～約３０μｍ、約５μｍ～約３０μｍ、約１０μｍ～約３０μｍ、約１μｍ～約２０μｍ、約５μｍ～約２０μｍ、約１０μｍ～約２０μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、実施例ＩＩ～ＪＪに実証されるように、約５μｍ以下（例えば、約１μｍ～約５μｍ）の第１の接着厚さ２１７を提供することにより、折り畳みにおける機械的不安定性の開始を低減（例えば、軽減、遅延、排除）することができる。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第２の接着厚さ５３７（図７～８参照）及び／又は第３の接着層７１７の第３の接着厚さ７２７（図７参照）は、第１の接着厚さ２１７に関してこの段落において上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。

【0270】

幾つかの実施形態では、図２～３に示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、第１の基板２０３の第２の主面２０７に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、第１の基板２０３の第２の主面２０７と接触することができる。幾つかの実施形態では、図４及び６に示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、コーティング４１１に面することができる。さらなる実施形態では、第１の接触面２１３は、コーティング４１１の第４の主面４１７に面することができる。さらに別の実施形態では、図６に示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、コーティング４１１の第４の主面４１７と接触することができる。さらに別の実施形態では、図４に示されるように、バッキング基板４２１は、コーティング４１１と第１の接着層２１１との間に位置づけることができる。さらに別の実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、バッキング基板４２１の第２の主面４２７に面することができる。さらに別の実施形態では、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、バッキング基板４２１の第２の主面４２７と接触することができる。幾つかの実施形態では、図７に示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、無機層７３７の第８の主面７３５に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、無機層７３７の第８の主面７３５と接触することができる。

【0271】

次に、図３～４、図６～７、及び図１０に示される折り畳み可能な装置３０１、４０１、６０１、及び／又は７０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１にも適用することができるという理解に基づいて、図２の折り畳み可能な装置１０１を参照して、第１の接着層２１１について説明する。幾つかの実施形態では、図２に示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３と接触することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３と接触することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５に面することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５と接触することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１は、破線部分２５３ａ～ｃ及び第１の基板２０３の第２の主面２０７によって画成された中央領域２１９を占めることができる。幾つかの実施形態では、図２の破線で示されるように、示されてはいないが、ポリマーをベースとした部分２４１は中央領域２１９を占めることができる。さらなる実施形態では、第３の接触面２５５は、破線部分２５３ａ、２５３ｃと、第１の基板２０３の第２の主面２０７に面するポリマーをベースとした部分２４１の一部とによって画成されうる。例えば、幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５は、部分２５３ａ及び２５３ｃを介して第１の接着層２１１に面することができ、同時に第１の基板２０３の第２の主面２０７に面することができる。幾つかの実施形態では、図５に示されるように、第１の接着層２１１は存在しなくてもよく、代わりに、ポリマーをベースとした部分２４１は、図２～４及び図６に示される第１の接着層２１１が占める領域を占めることができる。幾つかの実施形態では、図４には示されていないが、第１の接着層２１１が占める領域は、例えば、第１の接着層２１１が占めると示されている領域を占めるようにポリマーをベースとした部分２４１を延ばすことによって、又はポリマーをベースとした部分２４１と同じ材料を含む第１の接着層２１１を選択することによって、ポリマーをベースとした部分２４１と同じ材料を含むことができる。幾つかの実施形態では、図５及び図８に示されるように、第１の接着層２１１は存在しなくてもよい。

【0272】

幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１は、ポリオレフィン、ポリアミド、ハロゲン化物含有ポリマー（例えば、ポリ塩化ビニル又はフッ素含有ポリマー）、エラストマー、ウレタン、フェノール樹脂、パリレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及び／又はポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）のうちの１つ以上を含みうる。ポリオレフィンの例となる実施形態には、低分子量ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、及びポリプロピレン（ＰＰ）が含まれる。フッ素含有ポリマーの例となる実施形態には、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）、パーフルオロスルホン酸（ＰＦＳＡ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）ポリマー、及びエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）ポリマーが含まれる。エラストマーの例となる実施形態には、ゴム（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム）、及びブロックコポリマー（例えば、スチレンブタジエン、耐衝撃性ポリスチレン、ポリ（ジクロロホスファゼン）が含まれる。さらなる実施形態では、第１の接着層２１１は、光学的に透明な接着剤を含みうる。さらなる実施形態では、第１の接着層２１１は、光学的に透明な接着剤を含みうる。さらに別の実施形態では、光学的に透明な接着剤は、次の１つ以上の光学的に透明なポリマーを含みうる：アクリル（例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、エポキシ、シリコーン、及び／又はポリウレタン。エポキシの例には、ビスフェノールをベースとしたエポキシ樹脂、ノボラックをベースとしたエポキシ、脂環式をベースとしたエポキシ、及びグリシジルアミンをベースとしたエポキシが含まれる。さらに別の実施形態では、光学的に透明な接着剤は、アクリル接着剤、例えば、３Ｍ８２１２接着剤、又は光学的に透明な液体接着剤、例えば、ＬＯＣＴＩＴＥという光学的に透明な液体接着剤を含みうるが、これらに限定されない。光学的に透明な接着剤の例示的な実施形態は、透明なアクリル、エポキシ、シリコーン、及びポリウレタンを含む。例えば、光学的に透明な液体接着剤は、すべてＨｅｎｋｅｌ社から入手可能なＬＯＣＴＩＴＥ ＡＤ ８６５０、ＬＯＣＴＩＴＥ ＡＡ ３９２２、ＬＯＣＴＩＴＥ ＥＡ Ｅ－０５ＭＲ、ＬＯＣＴＩＴＥ ＵＫ Ｕ－０９ＬＶのうちの１つ以上を含みうる。

【0273】

図５～８に示されるように、第２の接着層５０７は、第５の接触面５１３と該第５の接触面５１３とは反対側の第６の接触面５１１とを含みうる。第５の接触面５１３と第６の接触面５１１との間に第２の接着厚さ５３７が画成されうる。幾つかの実施形態では、第２の接着厚さ５３７は、第１の接着層２１１の第１の接着厚さ２１７に関して上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。さらなる実施形態では、第２の接着厚さ５３７は、第１の接着厚さ２１７に実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７は、第１の接着層２１１に関して上で論じた材料のうちの１つ以上を含みうる。さらなる実施形態では、第２の接着層５０７は、第１の接着層２１１と同じ（一又は複数の）材料及び／又は組成物を含みうる。

【0274】

幾つかの実施形態では、図５～８に示されるように、第２の接着層５０７は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５の上に配置することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第２の接着層５０７の第５の接触面５１３は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５と接触することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の接着層５０７は、第２の部分２３１の第４の表面領域２３５の上に配置することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第２の接着層５０７の第５の接触面５１３は、第２の部分２３１の第４の表面領域２３５と接触することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の接着層５０７の第５の接触面５１３は、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７と接触することができる。さらなる実施形態では、示されるように、第２の接着層５０７は、破線部分５０９ａ～ｃと剥離ライナ５０３の第２の主面５０５とによって画成された中央領域５１７（図５参照）；破線部分５０９ａ～ｃとディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５とによって画成された中央領域５１７（図６及び８参照）；及び／又は、破線部分５０９ａ～ｃと第２の基板７０３の第５の主面７０５とによって画成された中央領域５１７（図７参照）を占めうる。幾つかの実施形態では、図５～８に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７は、第２の接着層５０７に面することができる。さらなる実施形態では、図５～８には示されてはいないが、ポリマーをベースとした部分２４１は、中央領域５１７を占めることができ、ここで、剥離ライナ５０３の第２の主面５０５の一部に面する（例えば、接触する）か（例えば、図５参照）、ディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５の一部に面する（例えば、接触する）か（例えば、図６及び８参照）、及び／又は第２の基板７０３の第５の主面７０５の一部に面する（例えば、接触する）（図７参照）と同時に、第４の接触面２５７は、中央領域５１７の周りに画成され、かつ第２の接着層５０７の破線部分５０９ａ及び５０９ｃに面する（例えば、接触する）ことができる。さらなる実施形態では、図５～８には示されてはいないが、第２の接着層５０７が占める領域は、例えば、第２の接着層５０７が占めると示されている領域を占めるようにポリマーをベースとした部分２４１を延ばすことによって、又はポリマーをベースとした部分２４１と同じ材料を含む第２の接着層５０７を選択することによって、ポリマーをベースとした部分２４１と同じ材料を含むことができる。

【0275】

幾つかの実施形態では、図７に示されるように、折り畳み可能な装置７０１は、第２の基板７０３を含みうる。さらなる実施形態では、示されるように、第２の基板７０３は、第２の接着層５０７の上に配置することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、第２の基板７０３は、第２の接着層５０７の第６の接触面５１１に直接接触することができる（例えば、結合することができる）。さらに別の実施形態では、例えば、ポリマーをベースとした部分が中央領域５１７を占める場合、第２の基板７０３は、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７と接触することができる。第２の基板７０３は、第５の主面７０５と該第５の主面７０５とは反対側の第６の主面７１５とを含みうる。第５の主面７０５と第６の主面７１５との間に第２の基板厚さ７０７が画成されうる。幾つかの実施形態では、第２の基板厚さ７０７は、第１の基板厚さ２０９に関して上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第５の主面７０５は平面を含むことができ、及び／又は第６の主面７１５は平面を含むことができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第２の基板７０３は、第２の接着層５０７の第６の接触面５１１を第２の基板７０３の第５の主面７０５に接着することによって、第２の接着層５０７上に配置することができる。

【0276】

さらなる実施形態では、図７に示されるように、折り畳み可能な装置７０１は、第２の基板７０３の上に配置された第３の接着層７１７を含みうる。示されるように、第３の接着層７１７は、第７の接触面７２１と該第７の接触面７２１とは反対側の第８の接触面７１９とを含みうる。第３の接着厚さ７２７は、第７の接触面７２１と第８の接触面７１９との間に画成されうる。幾つかの実施形態では、第３の接着厚さ７２７は、第１の接着厚さ２１７及び／又は第２の接着厚さ５３７に関して上で論じた１つ以上の範囲内でありうる。幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７は、第１の接着層２１１に関して上で論じた材料のうちの１つ以上を含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第８の接触面７１９は、第２の基板７０３の第６の主面７１５に面する（例えば、接触する）ことができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第８の接触面７１９は平面を含むことができ、及び／又は第２の基板７０３の第６の主面７１５は平面を含むことができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第７の接触面７２１は、ディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５に面する（例えば、接触する）ことができる。幾つかの実施形態では、示されるように、第７の接触面７２１は平面を含むことがで、及び／又はディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５は平面を含むことができる。

【0277】

幾つかの実施形態では、図５に示されるように、折り畳み可能な装置５０１は、剥離ライナ５０３を含みうるが、さらなる実施形態では、図示された剥離ライナ５０３ではなく、他の基板（例えば、上で論じた第２の基板７０３、本願全体を通して論じられる第１の基板２０３と類似した又は同一の別の基板）を使用することができる。さらなる実施形態では、示されるように、剥離ライナ５０３、又は他の基板は、第２の接着層５０７の上に配置することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、剥離ライナ５０３又は他の基板は、第２の接着層５０７の第６の接触面５１１に直接接触する（例えば、結合する）ことができる。さらに別の実施形態では、例えば、ポリマーをベースとした部分が中央領域５１７を占める場合、剥離ライナ５０３又は他の基板は、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７と接触することができる。剥離ライナ５０３、又は他の基板は、第１の主面５１５と該第１の主面５１５とは反対側の第２の主面５０５とを含みうる。示されるように、剥離ライナ５０３又は他の基板は、第２の接着層５０７の第６の接触面５１１を剥離ライナ５０３又は他の基板の第２の主面５０５に接着させることによって、第２の接着層５０７上に配置することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、剥離ライナ５０３又は他の基板の第１の主面５１５は、平面を含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、剥離ライナ５０３又は他の基板の第２の主面５０５は、平面を含みうる。さらなる実施形態では、示されてはいないが、剥離ライナは、図７に示されるディスプレイデバイスと同様の第２の基板及び／又は第３の接着層の上に配置することができる。剥離ライナ５０３を含む折り畳み可能な装置は、紙及び／又はポリマーを含みうる。紙の例示的な実施形態には、クラフト紙、マシン仕上げ紙、ポリコート紙（例えば、ポリマーコーティング、グラシン紙、シリコーン処理紙）、又はクレーコート紙が含まれる。ポリマーの例示的な実施形態には、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））及びポリオレフィン（例えば、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ））が含まれる。

【0278】

幾つかの実施形態では、図６～８に示されるように、折り畳み可能な装置６０１は、ディスプレイデバイス６０３を含みうる。さらなる実施形態では、図６～８に示されるように、ディスプレイデバイス６０３は、第２の接着層５０７の上に配置することができる。さらなる実施形態では、図６及び８に示されるように、ディスプレイデバイス６０３は、第２の接着層５０７の第６の接触面５１１と接触する（例えば、結合する）ことができる。さらなる実施形態では、図６～８に示されるように、ディスプレイデバイス６０３は、ポリマーをベースとした部分２４１（例えば、第４の接触面２５７）の上に配置することができる。さらに別の実施形態では、示されてはいないが、例えば、ディスプレイデバイスが図４に示されるポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７に接着した場合、ディスプレイデバイス６０３は、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７と接触することができる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置６０１の製造は、３（例えば、図５の折り畳み可能な装置５０１の）剥離ライナ５０３を取り外し、ディスプレイデバイス６０３を接着剤層５０７の第２の接触面５１１に接着させることによって達成することができる。あるいは、折り畳み可能な装置６０１は、例えば、剥離ライナ５０３が第２の接着層５０７の第６の接触面５１１に施されていない場合に、ディスプレイデバイス６０３を第２の接着層５０７の第６の接触面５１１に接着させる前に剥離ライナ５０３を除去する追加の工程なしに、製造することができる。ディスプレイデバイス６０３は、第１の主面６１５及び該第１の主面６１５とは反対側の第２の主面６０５を含みうる。幾つかの実施形態では、図６及び図８に示されるように、ディスプレイデバイス６０３は、第２の接着層５０７の第６の接触面５１１をディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５に接着することによって第２の接着層５０７上に配置することができる。幾つかの実施形態では、図７に示されるように、ディスプレイデバイス６０３は、例えば、ディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５が第２の基板７０３の第６の主面７１５に面するように、第２の基板７０３の上に配置することができる。さらなる実施形態では、図７に示されるように、ディスプレイデバイス６０３は、第３の接着層７１７の第７の接触面７２１をディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５に接着することによって第３の接着層７１７上に配置することができる。幾つかの実施形態では、示されるように、ディスプレイデバイス６０３の第１の主面６１５は、平面を含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、ディスプレイデバイス６０３の第２の主面６０５は、平面を含みうる。ディスプレイデバイス６０３は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、又はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を含みうる。幾つかの実施形態では、ディスプレイデバイス６０３は、携帯用電子機器、例えば、消費者向け電子製品、スマートフォン、タブレット、ウェアラブルデバイス、又はラップトップの一部でありうる。消費者向け電子製品は、前面、背面、及び側面を含む筐体を含みうる。消費者向け電子製品は、少なくとも部分的に筐体内にある電気部品を含むことができる。電気部品は、コントローラ、メモリ、及びディスプレイを含みうる。ディスプレイは、筐体の前面にあるか、又は隣接していてよい。折り畳み可能な装置は、ディスプレイの上に配置されたカバー基板を含むことができ、筐体の一部又はカバー基板のうちの少なくとも一方は、本明細書に記載される折り畳み可能な装置を含む。

【0279】

幾つかの実施形態では、第１の部分２２１及び／又は第２の部分２３１は、上で論じたように、ガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含みうる。さらなる実施形態では、第１の部分２２１は第１のガラスをベースとした部分を含み、第２の部分２３１は第２のガラスをベースとした部分を含む。さらなる実施形態では、第１の部分２２１は第１のセラミックをベースとした部分を含み、第２の部分２３１は第２のセラミックをベースとした部分を含む。幾つかの実施形態では、第１の部分及び／又は第２の部分の１つ以上の部分は、圧縮応力領域を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、存在する場合には、圧縮応力領域を含みうる。幾つかの実施形態では、バッキング基板４２１は、存在する場合には、圧縮応力領域を含みうる。幾つかの実施形態では、第２の基板は、存在する場合には、圧縮応力領域を含みうる。

【0280】

幾つかの実施形態では、圧縮応力領域は、化学的に強化することによって生成されうる。化学的に強化することは、表面層のイオンが同じ原子価又は酸化状態を有するより大きいイオンによって置き換えられるか、又は交換される、イオン交換プロセスを含みうる。化学的に強化する方法については、後で論じる。理論に縛られることは望まないが、第１の部分２２１、第２の部分２３１、第１の基板２０３、バッキング基板４２１、及び／又は第２の基板７０３を化学的に強化することにより、良好な耐衝撃性及び／又は良好な穿刺抵抗を可能にすることができる（例えば、１０センチメートル（ｃｍ）以上、１５ｃｍ以上、２０ｃｍ以上、又はさらに５０ｃｍのペン落下高さで故障に耐える）。理論に縛られることは望まないが、化学的強化による圧縮応力が基板の最外面に生じる曲げにより誘起される引張応力を打ち消すことができることから、第１の部分２２１、第２の部分２３１、第１の基板２０３、バッキング基板４２１、及び／又は第２の基板７０３を化学的に強化することにより、小さい（例えば、約１０ｍｍ以下）曲げ半径を可能にすることができる。圧縮応力領域は、圧縮深さと呼ばれる深さで、第１の部分及び／又は第２の部分の一部に延びうる。本明細書で用いられる場合、圧縮深さとは、本明細書に記載される化学的に強化された基板及び／又は部分の応力が圧縮応力から引張応力へと変化する深さを意味する。圧縮深さは、イオン交換処理及び測定される物品の厚さに応じて、表面応力計又は散乱光偏光計（ＳＣＡＬＰ（ここに報告されている値は、エストニア国所在のＧｌａｓｓｔｒｅｓｓ Ｃｏ．社製造のＳＣＡＬＰ－５を使用して作成された））によって測定することができる。カリウムイオンを基板内へと交換することによって基板及び／又は部分に応力が生じる場合は、表面応力計、例えばＦＳＭ－６０００（折原製作所（日本））を使用して圧縮深さを測定する。特に指定のない限り、圧縮応力（表面ＣＳを含む）は、例えば折原製のＦＳＭ－６０００などの市販の機器を使用して表面応力計（ＦＳＭ）で測定される。表面応力測定は、ガラスの複屈折に関連する応力光学係数（ＳＯＣ）の正確な測定に依拠している。特に指定のない限り、ＳＯＣは、その内容全体がここに参照することによって本明細書に組み込まれる、「ガラス応力－光学係数の測定のための標準試験方法（Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient）」と題されたＡＳＴＭ規格Ｃ７７０－１６に記載される手順Ｃ（ガラスディスク法）に準拠して測定される。ナトリウムイオンを基板内へと交換することによって応力が生じ、かつ測定される物品が約４００μｍより厚い場合には、ＳＣＡＬＰを使用して圧縮深さ及び中心張力（ＣＴ）を測定する。カリウムイオン及びナトリウムイオンの両方を基板及び／又は部分内へと交換することによって基板及び／又は部分に応力が生じ、かつ測定される物品が約４００ｍより厚い場合には、圧縮深さ及びＣＴはＳＣＡＬＰによって測定される。理論に拘束されることは望まないが、ナトリウムの交換深さは圧縮深さを示し、カリウムイオンの交換深さは圧縮応力の大きさの変化（ただし、圧縮から引張への応力の変化ではない）を示しうる。屈折近視野（ＲＮＦ；このＲＮＦ法は、その全体が参照することによって本明細書に組み込まれる、「ガラス試料のプロファイル特性を測定するためのシステム及び方法（Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample）」と題された米国特許第８，８５４，６２３号明細書に記載されている）法を使用して、応力プロファイルのグラフ表示を導出することもできる。ＲＮＦ法を利用して応力プロファイルのグラフ表示を導出する場合、ＳＣＡＬＰによって提供される最大中心張力値がＲＮＦ法に利用される。ＲＮＦによって導出される応力プロファイルのグラフ表示は、力のバランスがとられ、ＳＣＡＬＰ測定によって提供される最大中心張力値へと較正される。本明細書で用いられる場合、「層深さ」は、イオンが基板及び／又は部分内へと交換された深さを意味する（例えば、ナトリウム、カリウム）。本開示を通じて、中心張力をＳＣＡＬＰで直接測定することができない場合（測定される物品が約４００μｍより薄い場合など）、最大中心張力は、最大圧縮応力と圧縮深さとの積を基板の厚さと圧縮深さの２倍との差で割った商によって概算することができ、ここで、圧縮応力と圧縮深さはＦＳＭによって測定される。

【0281】

幾つかの実施形態では、第１のガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含む第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３から第１の圧縮深さまで延びうる、第１の表面領域２２３における第１の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第１の圧縮応力領域は、第１の端面２２９を含むことができ、第１の端面２２９から第１の圧縮深さまで延びうる。幾つかの実施形態では、第１のガラスをベースとした及び／又はセラミックをベースとした部分を含む第１の部分２２１は、第２の表面領域２２５から第２の圧縮深さまで延びうる第２の表面領域２２５における第２の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第２の圧縮応力領域は、第１の端面２２９を含むことができ、第１の端面２２９から第２の圧縮深さまで延びうる。幾つかの実施形態では、第１の厚さ２２７のパーセンテージとしての第１の圧縮深さ及び／又は第２の圧縮深さは、約１％以上、約５％以上、約１０％以上、約３０％以下、約２５％以下、又は約２０％以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の厚さ２２７のパーセンテージとしての第１の圧縮深さ及び／又は第２の圧縮深さは、約１％～約３０％、約１％～約２５％、約５％～約２５％、約５％～約２０％、約１０％～約２０％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、第１の圧縮深さは、第２の圧縮深さに実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の圧縮深さ及び／又は第２の圧縮深さは、約１μｍ以上、約１０μｍ以上、約５０μｍ以上、約２００μｍ以下、約１５０μｍ以下、又は約１００μｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の圧縮深さ及び／又は第２の圧縮深さは、約１μｍ～約２００μｍ、約１μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約５０μｍ～約１００μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。第１の厚さの約１％～約３０％の範囲の第１の圧縮深さ及び／又は第２の圧縮深さを含む第１のガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含む第１の部分を提供することにより、良好な耐衝撃性、良好な穿刺抵抗、及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。

【0282】

幾つかの実施形態では、第１の圧縮応力領域は第１の最大圧縮応力を含みうる。幾つかの実施形態では、第２の圧縮応力領域は第２の最大圧縮応力を含みうる。さらなる実施形態では、第１の最大圧縮応力及び／又は第２の最大圧縮応力は、約１００メガパスカル（ＭＰａ）以上、約２００ＭＰａ以上、約３００ＭＰａ以上、約４００ＭＰａ以上、約５００ＭＰａ以上、約６００ＭＰａ以上、約７００ＭＰａ以上、約１，５００ＭＰａ以下、約１，２００ＭＰａ以下、約１，０００ＭＰａ以下、約６００ＭＰａ以下、又は約４００ＭＰａ以下でありうる。さらなる実施形態では、第１の最大圧縮応力及び／又は第２の最大圧縮応力は、約１００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約１，１００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約９００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約８００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約７００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約６００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約５００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約４００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約２００ＭＰａの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第１の最大圧縮応力及び／又は第２の最大圧縮応力は、約１００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約２００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約２００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約３００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約３００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約９００ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。約１００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａの範囲の第１の最大圧縮応力及び／又は第２の最大圧縮応力を提供することにより、良好な耐衝撃性、良好な穿刺抵抗、及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。

【0283】

幾つかの実施形態では、第２のガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含む第２の部分２３１は、第３の表面領域２３３から第３の圧縮深さまで延びうる第３の表面領域２３３における第３の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第３の圧縮応力領域は、第２の端面２３９を含むことができ、第２の端面２３９から第３の圧縮深さまで延びうる。幾つかの実施形態では、第２のガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含む第２の部分２３１は、第４の表面領域２３５から第４の圧縮深さまで延びうる第４の表面領域２３５における第４の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第４の圧縮応力領域は、第２の端面２３９を含むことができ、第２の端面２３９から第４の圧縮深さまで延びうる。幾つかの実施形態では、第２の厚さ２３７のパーセンテージとしての第３の圧縮深さ及び／又は第４の圧縮深さは、約１％以上、約５％以上、約１０％以上、約３０％以下、約２５％以下、又は約２０％以下でありうる。幾つかの実施形態では、第２の厚さ２３７のパーセンテージとしての第３の圧縮深さ及び／又は第４の圧縮深さは、約１％～約３０％、約１％～約２５％、約５％～約２５％、約５％～約２０％、約１０％～約２０％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、第３の圧縮深さは第４の圧縮深さに実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第３の圧縮深さ及び／又は第４の圧縮深さは、約１μｍ以上、約１０μｍ以上、約５０μｍ以上、約２００μｍ以下、約１５０μｍ以下、又は約１００μｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の圧縮深さ及び／又は第２の圧縮深さは、約１μｍ～約２００μｍ、約１μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約５０μｍ～約１００μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。第１の厚さの 約１％～約３０％の範囲の第３の圧縮深さ及び／又は第４の圧縮深さを含むガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含む第２の部分を提供することにより、良好な耐衝撃性、良好な穿刺抵抗、及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。

【0284】

幾つかの実施形態では、第３の圧縮応力領域は第３の最大圧縮応力を含みうる。幾つかの実施形態では、第４の圧縮応力領域は第４の最大圧縮応力を含みうる。さらなる実施形態では、第３の最大圧縮応力及び／又は第４の最大圧縮応力は、約１００メガパスカル（ＭＰａ）以上、約２００ＭＰａ以上、約３００ＭＰａ以上、約４００ＭＰａ以上、約５００ＭＰａ以上、約６００ＭＰａ以上、約７００ＭＰａ以上、約１，５００ＭＰａ以下、約１，２００ＭＰａ以下、約１，０００ＭＰａ以下、約６００ＭＰａ以下、又は約４００ＭＰａ以下でありうる。さらなる実施形態では、第３の最大圧縮応力及び／又は第４の最大圧縮応力は、約１００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約１，１００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約９００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約８００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約７００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約６００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約５００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約４００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約２００ＭＰａの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、第３の最大圧縮応力及び／又は第４の最大圧縮応力は、約１００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約２００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約２００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約３００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約３００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約９００ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。約１００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａの範囲の第３の最大圧縮応力及び／又は第４の最大圧縮応力を提供することにより、良好な耐衝撃性、穿刺抵抗、及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。

【0285】

幾つかの実施形態では、第１の圧縮深さは第３の圧縮深さに実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の圧縮深さは第４の圧縮深さに実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の最大圧縮応力は第３の最大圧縮応力に実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の最大圧縮応力は第４の最大圧縮応力に実質的に等しくなりうる。

【0286】

幾つかの実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１は、上で論じたように、ガラスをベースとした基板及び／又はセラミックをベースとした基板を含みうる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１は、第１の主面２０５又は４２５から第５の圧縮深さまで延びうる第１の主面２０５又は４２５における第５の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１は、第２の主面２０７又は４２７から第６の圧縮深さまで延びうる第２の主面２０７又は４２７ における第６の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第１の基板厚さ２０９又はバッキングの厚さ４２３のパーセンテージとしての第５の圧縮深さ及び／又は第６の圧縮深さは、それぞれ、約１０％以上、約１５％以上、約２０％以上、約３０％以下、約２５％以下、又は約２０％以下でありうる。さらなる実施形態では、第１の基板厚さ２０９又はバッキングの厚さ４２３のパーセンテージとしての第５の圧縮深さ及び／又は第６の圧縮深さは、それぞれ、約１０％～約３０％、約１０％～約２５％、約１０％～約２０％、約１５％～約３０％、約１５％～約２５％、約１５％～約２０％、約２０％～約３０％、約２０％～約２５％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、第５の圧縮深さは第６の圧縮深さに実質的に等しくなりうる。さらなる実施形態では、第５の圧縮深さ及び／又は第６の圧縮深さは、約１μｍ以上、約１０μｍ以上、約５０μｍ以上、約２００μｍ以下、約１５０μｍ以下、又は約１００μｍ以下でありうる。さらなる実施形態では、第５の圧縮深さ及び／又は第６の圧縮深さは、約１μｍ～約２００μｍ、約１μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約５０μｍ～約１００μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。第１の厚さの約１％～約３０％の範囲の第５の圧縮深さ及び／又は第６の圧縮深さを含むガラスをベースとした基板及び／又はセラミックをベースとした基板を含む基板を提供することにより、良好な耐衝撃性、良好な穿刺抵抗、及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。さらなる実施形態では、第５の圧縮応力領域は第５の最大圧縮応力を含みうる。幾つかの実施形態では、第６の圧縮応力領域は第６の最大圧縮応力を含みうる。さらなる実施形態では、第５の最大圧縮応力及び／又は第６の最大圧縮応力は、約５００メガパスカル（ＭＰａ）以上、約７００ＭＰａ以上、約１，０００ＭＰａ以上、約１，５００ＭＰａ以下、約１，２００ＭＰａ以下、約１，０００ＭＰａ以下、約７００ＭＰａ以下でありうる。さらなる実施形態では、第５の最大圧縮応力及び／又は第６の最大圧縮応力は、約５００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約９００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約８００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約７００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約１，０００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約１，０００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。約５００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａの範囲の第５の最大圧縮応力及び／又は第６の最大圧縮応力を提供することにより、良好な耐衝撃性、良好な穿刺抵抗、及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。

【0287】

幾つかの実施形態では、第２の基板７０３は、上で論じたように、ガラスをベースとした基板及び／又はセラミックをベースとした基板を含みうる。さらなる実施形態では、第２の基板７０３は、第５の主面７０５から第７の圧縮深さまで延びうる第５の主面７０５における第７の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第２の基板７０３は、第６の主面７１５から第８の圧縮深さまで延びうる第６の主面７１５における第８の圧縮応力領域を含みうる。さらなる実施形態では、第２の基板厚さ７０７のパーセンテージとしての第７の圧縮深さ及び／又は第８の圧縮深さは、約１０％以上、約１５％以上、約２０％以上、約３０％以下、約２５％以下、又は約２０％以下でありうる。さらなる実施形態では、第２の基板厚さ７０７のパーセンテージとしての第７の圧縮深さ及び／又は第８の圧縮深さは、約１％～約３０％、約１％～約２５％、約５％～約２５％、約５％～約２０％、約１０％～約２０％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。さらなる実施形態では、第７の圧縮深さは第８の圧縮深さに実質的に等しくなりうる。さらなる実施形態では、第７の圧縮深さ及び／又は第８の圧縮深さは、約１μｍ以上、約１０μｍ以上、約５０μｍ以上、約２００μｍ以下、約１５０μｍ以下、又は約１００μｍ以下でありうる。さらなる実施形態では、第７の圧縮深さ及び／又は第８の圧縮深さは、約１μｍ～約２００μｍ、約１μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１５０μｍ、約１０μｍ～約１００μｍ、約５０μｍ～約１００μｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。第１の厚さの約１％～約３０％の範囲の第７の圧縮深さ及び／又は第８の圧縮深さを含むガラスをベースとした基板及び／又はセラミックをベースとした基板を含む第２の基板を提供することにより、良好な耐衝撃性及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。さらなる実施形態では、第７の圧縮応力領域は第７の最大圧縮応力を含みうる。幾つかの実施形態では、第８の圧縮応力領域は第８の最大圧縮応力を含みうる。さらなる実施形態では、第７の最大圧縮応力及び／又は第８の最大圧縮応力は、約５００メガパスカル（ＭＰａ）以上、約７００ＭＰａ以上、約１，０００ＭＰａ以上、約１，５００ＭＰａ以下、約１，２００ＭＰａ以下、約１，０００ＭＰａ以下、約７００ＭＰａ以下でありうる。さらなる実施形態では、第７の最大圧縮応力及び／又は第８の最大圧縮応力は、約５００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約９００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約８００ＭＰａ、約５００ＭＰａ～約７００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａ、約７００ＭＰａ～約１，０００ＭＰａ、約１，０００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａ、約１，０００ＭＰａ～約１，２００ＭＰａの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。約５００ＭＰａ～約１，５００ＭＰａの範囲の第７の最大圧縮応力及び／又は第８の最大圧縮応力を提供することにより、良好な耐衝撃性及び／又は良好な折り畳み性能を可能にすることができる。

【0288】

幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、光学的に透明でありうる。ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の屈折率を含みうる。第１の屈折率は、光学的に透明な接着剤を通過する光の波長の関数でありうる。第１の波長の光では、材料の屈折率は、真空中の光速と対応する材料内の光速との比として定義される。理論に縛られることは望まないが、光学的に透明な接着剤の屈折率は、第１の角度の正弦の第２の角度の正弦に対する比を使用して決定することができ、ここで、第１の波長の光は、第１の角度で、空気から光学的に透明な接着剤の表面に入射し、光学的に透明な接着剤の表面で屈折して、第２の角度で光学的に透明な接着剤内で光を伝播する。第１の角度及び第２の角度は両方とも、光学的に透明な接着剤の表面の法線に対して測定される。本明細書で用いられる場合、屈折率はＡＳＴＭ Ｅ１９６７－１９に準拠して測定され、第１の波長は５８９ｎｍを含む。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率は、約１以上、約１．３以上、約１．４以上、約１．４５以上、約１．４９以上、約３以下、約２以下、約１．７以下、約１．６以下、又は約１．５５以下でありうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率は、約１～約３、約１～約２、約１～約１．７、約１．３～約３、約１．３～約２、約１．３～約１．７、約１．４～約２、約１．４～約１．７、約１．４５～約１．７、約１．４５～約１．６、約１．４９～約１．５５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0289】

幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は第２の屈折率を含みうる。第１の部分２２１の第２の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１の第２の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１の第２の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0290】

幾つかの実施形態では、第２の部分２３１は第３の屈折率を含みうる。幾つかの実施形態では、例えば、第１の部分２２１及び第２の部分２３１が同じ組成物を含む場合、第２の部分２３１の第３の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率に実質的に等しくなりうる。第２の部分２３１の第３の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１の第３の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１の第３の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0291】

幾つかの実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１は第４の屈折率を含みうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率及び／又は第２の部分２３１の第３の屈折率に実質的に等しくなりうる。第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0292】

幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１は、ポリマーをベースとした部分２４１について上で指定された範囲の第５の屈折率を含みうる。第１の接着層２１１の第５の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第５の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第５の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0293】

第１の接着層２１１の第５の屈折率と第１の部分２２１の第２の屈折率又は第２の部分２３１の第３の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第５の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率及び／又は第２の部分２３１の第３の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第５の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率及び／又は第２の部分２３１の第３の屈折率より小さくなりうる。

【0294】

第１の接着層２１１の第５の屈折率と第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第５の屈折率は、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第１の接着層２１１の第５の屈折率は、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率より小さくなりうる。

【0295】

幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７は、ポリマーをベースとした部分２４１について上で指定された範囲の第６の屈折率を含みうる。第２の接着層５０７の第６の屈折率と第１の部分２２１の第２の屈折率又は第２の部分２３１の第３の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率及び／又は第２の部分２３１の第３の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率及び／又は第２の部分２３１の第３の屈折率より小さくなりうる。

【0296】

第２の接着層５０７の第６の屈折率及びポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0297】

第２の接着層５０７の第６の屈折率と第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率より小さくなりうる。

【0298】

第２の接着層５０７の第６の屈折率と第１の接着層２１１の第５の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の接着層５０７の第６の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率より小さくなりうる。

【0299】

幾つかの実施形態では、第２の基板７０３は第７の屈折率を含みうる。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率及び／又は第２の部分２３１の第３の屈折率に実質的に等しくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率に実質的に等しくなりうる。第２の基板７０３の第７の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0300】

第２の基板７０３の第７の屈折率と第１の接着層２１１の第５の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率より小さくなりうる。

【0301】

第２の基板７０３の第７の屈折率と第２の接着層５０７の第６の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、第２の接着層５０７の第６の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第２の基板７０３の第７の屈折率は、第２の接着層５０７の第６の屈折率より小さくなりうる。

【0302】

幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７は第８の屈折率を含みうる。幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７の第８の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率、第２の接着層５０７の第６の屈折率、及び／又はポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率に実質的に等しくなりうる。第３の接着層７１７の第８の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７の第８の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７の第８の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0303】

第３の接着層７１７の第８の屈折率と、第１の部分２２１の第２の屈折率、第２の部分２３１の第３の屈折率、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率、及び／又は第２の基板７０３の第７の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７の第８の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率、第２の部分２３１の第３の屈折率、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率、及び／又は第２の基板７０３の第７の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、第３の接着層７１７の第８の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率、第２の部分２３１の第３の屈折率、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率、及び／又は第２の基板７０３の第７の屈折率より小さくなりうる。

【0304】

幾つかの実施形態では、コーティング４１１は第９の屈折率を含みうる。コーティング４１１の第９の屈折率とポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、コーティング４１１の第９の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率以上になりうる。幾つかの実施形態では、コーティング４１１の第９の屈折率は、ポリマーをベースとした部分２４１の第１の屈折率より小さくなりうる。

【0305】

コーティング４１１の第９の屈折率と、第１の部分２２１の第２の屈折率、第２の部分２３１の第３の屈折率、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率、及び／又は第２の基板７０３の第７の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、コーティング４１１の第９の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率、第２の部分２３１の第３の屈折率、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率、及び／又は第２の基板７０３の第７の屈折率より大きくなりうる。幾つかの実施形態では、コーティング４１１の第９の屈折率は、第１の部分２２１の第２の屈折率、第２の部分２３１の第３の屈折率、第１の基板２０３又はバッキング基板４２１の第４の屈折率、及び／又は第２の基板７０３の第７の屈折率より小さくなりうる。

【0306】

コーティング４１１の第９の屈折率と、第１の接着層２１１の第５の屈折率、第２の接着層５０７の第６の屈折率、及び／又は第３の接着層７１７の第８の屈折率との間の差の絶対値に等しい差は、約０．１以下、約０．０７以下、約０．０５以下、約０．００１以上、約０．０１以上、又は約０．０２以上でありうる。幾つかの実施形態では、差は、約０．００１～約０．１、約０．００１～約０．０７、約０．００１～約０．０５、約０．０１～約０．１、約０．０１～約０．０７、約０．０１～約０．０５、約０．０２～約０．１、約０．０２～約０．０７、約０．０２～約０．０５の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲にある。幾つかの実施形態では、コーティング４１１の第９の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率、第２の接着層５０７の第６の屈折率、及び／又は第３の接着層７１７の第８の屈折率以上でありうる。幾つかの実施形態では、コーティング４１１の第９の屈折率は、第１の接着層２１１の第５の屈折率、第２の接着層５０７の第６の屈折率、及び／又は第３の接着層７１７の第８の屈折率未満でありうる。

【0307】

図９～１０は、折り畳まれた構成での本開示の実施形態による折り畳み可能な試験装置９０１の幾つかの実施形態を概略的に示している。示されるように、折り畳み可能な試験装置９０１は、第１の基板２０３の第１の主面２０５が折り畳まれた折り畳み可能な試験装置９０１の内側になるように折り畳まれる。図９～１０はいずれも、ユーザが第１の基板２０３を通じてディスプレイデバイス６０３を見るであろうことから、第１の主面２０５の側面に位置付けられよう。幾つかの実施形態では、折り畳まれた構成で示されてはいないが、図５と同様の折り畳み可能な装置は、ポリマーをベースとした部分２４１の上に配置されたコーティング４１１、（剥離ライナ５０３の代わりに第１の基板２０３と同様の）第２の基板の上に配置されたポリマーをベースとした部分、及びユーザがコーティング４１１の第３の主面４１９を通してディスプレイデバイス６０３を見るようにディスプレイデバイス６０３の上に配置された第２の基板を含みうる。

【0308】

本明細書で用いられる場合、「折り畳み可能」には、完全な折り畳み、部分的な折り畳み、曲げ、屈曲、又は複数の機能が含まれる。本明細書で用いられる場合、「故障」、「不具合」などの用語は、破損、破壊、層間剥離、又は亀裂伝播を指す。折り畳み可能な装置が半径「Ｘ」で約８５℃及び約８５％の相対湿度で２４時間保持したときに故障に耐えられる場合に、折り畳み可能な装置は、有効曲げ半径「Ｘ」を実現するか、又は有効曲げ半径「Ｘ」を有するか、又は「Ｘ」の有効曲げ半径を含む。同様に、折り畳み可能な装置が平行平板距離「Ｘ」で約８５℃及び約８５％の相対湿度で２４時間保持したときに故障に耐えられる場合に、折り畳み可能な装置は、平行平板距離「Ｘ」を達成するか、又は平行平板距離「Ｘ」を有するか、又は平行平板距離「Ｘ」を含む。

【0309】

本明細書で用いられる場合、折り畳み可能な装置の「有効最小曲げ半径」及び「平行平板距離」は、第１の剛性ステンレス鋼板１００３及び第２の剛性ステンレス鋼板１００５を含む一対の平行剛性ステンレス鋼板１００３、１００５を含む平行平板装置１００１（図１０参照）を使用して、次の試験構成及びプロセスで測定される。「有効最小曲げ半径」又は「平行平板距離」を測定する場合、試験接着層１００９は、試験接着層１００９の第５の接触面１０１と試験接着層１００９の第６の接触面１０２１との間に５０μｍの厚さを含む。試験接着層は、０．１ＭＰａの弾性率を含む光学的に透明な接着剤を含む。「有効最小曲げ半径」又は「平行平板距離」を測定する場合には、試験は、図５の剥離ライナ５０３又は図６～８に示されるディスプレイデバイス６０３ではなく、１００μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のシート１００７を使用して実施される。したがって、折り畳み可能な装置の一構成の「有効最小曲げ半径」又は「平行平板距離」を決定する試験中に、折り畳み可能な試験装置９０１は、図５の剥離ライナ５０３又は図６～８に示されるディスプレイデバイス６０３ではなく、１００μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のシート１００７を使用して製造される。図２～４に示される折り畳み可能な装置１０１、３０１、又は４０１のための折り畳み可能な試験装置を準備する場合、試験接着層１００９の第６の接触面１０２１は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７、及び第２の部分の第４の表面領域２３５の上に配置され、次に、ＰＥＴシート１００７は試験接着層１００９の第５の接触面１０１９の上に配置される。図５～６及び図８に示される折り畳み可能な装置５０１、６０１、又は８０１のための折り畳み可能な試験装置を準備する場合、第２の接着層５０７及びその上に配置された任意の剥離ライナ５０３又はディスプレイデバイス６０３は除去され、上で論じたように、試験接着層１００９及びＰＥＴシート１００７に置き換えられる。図７に示される折り畳み可能な装置７０１のための折り畳み可能な試験装置を準備する場合、第３の接着層７１７及びその上に配置された任意の剥離ライナ５０３又はディスプレイデバイス６０３は除去され、試験接着層１００９及びＰＥＴシート１００７に置き換えられる。折り畳み可能な装置７０１の折り畳み可能な試験装置は、第２の接着層５０７及び第２の基板７０３を依然として含みうるが、試験接着層１００９の第６の接触面１０２１は第２の基板７０３の第６の主面７１５の上に配置される。概して、折り畳み可能な試験装置９０１を準備する場合には、剥離ライナ５０３が図５の第２の接着層５０７の第６の接触面５１１に接着される、ディスプレイデバイス６０３が図６及び図８の第２の接着層５０７の第６の接触面５１１に接着される、又はディスプレイデバイス６０３が図７の第３の接着層７１７の第７の接触面７２１に接着されるのと同じ方法で、１００μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のシート１００７が、試験接着層１００９の第５の接触面１０１９に接着される。折り畳み可能な試験装置９０１は、図９～１０に示される構成と同様に、第１の基板２０３が屈曲部の内側になるように、一対の平行剛性ステンレス鋼板１００３、１００５間に配置される。「平行平板距離」を決定するために、平行平板間の距離は、平行平板距離１０１１が試験される「平行平板距離」と等しくなるまで低減される。次に、平行平板は、約８５℃及び約８５％の相対湿度で２４時間、試験される「平行平板距離」で保持される。本明細書で用いられる場合、「最小平行平板距離」とは、折り畳み可能な装置が上記条件及び構成下で支障なく耐えることができる、最小の平行平板距離である。「有効最小曲げ半径」を決定するため、平行平板間の距離は、試験される「有効最小曲げ半径」の２倍に等しくなるまで、５０μｍ／秒の速度で減少する。次に、平行平板は、有効最小曲げ半径の２倍で保持され、約８５℃及び約８５％の相対湿度で２４時間、試験される。本明細書で用いられる場合、「有効最小曲げ半径」とは、折り畳み可能な装置が上述した条件及び構成下で故障することなく耐えることができる最小の有効曲げ半径である。

【0310】

幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、１００ｍｍ以下、５０ｍｍ以下、２０ｍｍ以下、１０ｍｍ以下、５ｍｍ以下、又は３ｍｍ以下の平行平板距離を実現することができる。さらなる実施形態では、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、５０ミリメートル（ｍｍ）、又は２０ｍｍ、又は１０ｍｍ、又は５ｍｍ、又は３ｍｍ、又は２ｍｍ、又は１ｍｍの平行平板距離を実現することができる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、約４０ｍｍ以下、約２０ｍｍ以下、約１０ｍｍ以下、約５ｍｍ以下、約３ｍｍ以下、約１ｍｍ以上、約２ｍｍ以上、約３ｍｍ以上、約５ｍｍ以上、又は約１０ｍｍ以上の最小平行平板距離を含みうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、約１ｍｍ～約４０ｍｍ、約１ｍｍ～約２０ｍｍ、約１ｍｍ～約１０ｍｍ、約１ｍｍ～約５ｍｍ、約１ｍｍ～約３ｍｍ、約３ｍｍ～約４０ｍｍ、約３ｍｍ～約４０ｍｍ、約３ｍｍ～約２０ｍｍ、約３ｍｍ～約１０ｍｍ、約３ｍｍ～約５ｍｍ、約５ｍｍ～約１０ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲の有効最小曲げ半径を含みうる。

【0311】

図２に示されるように、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３が、第１の端面２２９と第２の端面２３９との間に画成されうる。さらなる実施形態では、折り畳み可能な装置が図１に示される構成である場合、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３は、第１の端面２２９の外周部２４５と第２の端面２３９の外周部２４７との間の最小距離に等しい。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、第１の部分２２１から最小距離２４３だけ離間された第２の部分２３１とは物理的に異なる構造であってもよい。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３は、折り畳み可能な装置の最小平行平板距離の約１倍以上、約１．４倍以上、約１．５倍以上、約２倍以上、約３倍以下、約２．５倍以下、又は約２倍以下でありうる。幾つかの実施形態では、最小平行平板距離の倍数としての最小距離２４３は、約１．４倍～約３倍、約１．４倍～約２．５倍、約１．４倍～約２倍、約１．５倍～約３倍、約１．５倍～約２．５倍、約１．５倍～約２倍、約２倍～約３倍、約２倍～約２．５５倍の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。理論に縛られることは望まないが、平行板間の円形構成における屈曲部分の長さは、平行平板距離１０１１の約０．８倍になりうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３は、約１ｍｍ以上、約２ｍｍ以上、約４ｍｍ以上、約５ｍｍ以上、約１０ｍｍ以上、約２０ｍｍ以上、約４０ｍｍ以上、約２００ｍｍ以下、約１００ｍｍ以下、又は約６０ｍｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３は、約１ｍｍ～約２００ｍｍ、約５ｍｍ～約２００ｍｍ、約１０ｍｍ～約１７５ｍｍ、約２０ｍｍ～約１５０ｍｍ、約３０ｍｍ～約１２５ｍｍ、約４０ｍｍ～約１００ｍｍ、約５０ｍｍ～約９０ｍｍ、約６０ｍｍ～約８０ｍｍ、約５ｍｍ～約６０ｍｍ、約１０ｍｍ～約６０ｍｍ、約２０ｍｍ～約６０ｍｍ、約４０ｍｍ～約６０ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３は、約１ｍｍ～約１００ｍｍ、約１ｍｍ～約６０ｍｍ、約１ｍｍ～約４０ｍｍ、約１ｍｍ～約３０ｍｍ、約２ｍｍ～約３０ｍｍ、約２ｍｍ～約２０ｍｍ、約５ｍｍ～約２０ｍｍ、約１０ｍｍ～約２０ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３は、約１ｍｍ～約２０ｍｍ、約１ｍｍ～約１０ｍｍ、約２ｍｍ～約１０ｍｍ、約２ｍｍ～約５ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、最小距離２４３は、約最小平行平板距離～約２００ｍｍ、約最小平行平板距離～約１００ｍｍ、約最小平行平板距離～約６０ｍｍ、約最小平行平板距離～約４０ｍｍ、約最小平行平板距離～約３０ｍｍ、約最小平行平板距離～約２０ｍｍ、最小平行平板距離の約１．５倍～約２００ｍｍの範囲、最小平行平板距離の約１．５倍～約１００ｍｍ、最小平行平板距離の約１．５倍～約６０ｍｍ、最小平行平板距離の約１．５倍～約４０ｍｍ、最小平行平板距離の約１．５倍～約３０ｍｍ、最小平行平板距離の約１．５倍～約３０ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。第１の部分と第２の部分との間の最小距離を提供することにより、折り畳み可能な装置を支障なく折り畳むことが容易になりうる。

【0312】

折り畳み可能な装置は、低エネルギー故障又は高エネルギー故障として説明することができる、故障モードを有しうる。折り畳み可能な装置の故障モードは、図１０に示される平行平板装置１００１を使用して測定することができる。有効最小曲げ半径について上で論じたように、平行剛性ステンレス鋼板１００３、１００５は、目標の平行平板距離１０１１が達成されるまで、５０μｍ／秒の速度で一緒に移動する。目標の平行平板距離１０１１は、４ｍｍ又は折り畳み可能な装置の有効最小曲げ半径の２倍のうち、大きい方である。次に、炭化タングステンの鋭い接触プローブは、折り畳み可能な試験装置９０１．の最外周から３０ｍｍの距離１０１３である衝突位置１０１５において第１の基板２０３に衝突する。本明細書で用いられる場合には、粒子が、破壊中に１メートル／秒（ｍ／秒）以上で折り畳み可能な試験装置９０１から放出され、破壊が２つより多くの亀裂分岐をもたらす場合、破壊は高エネルギーである。本明細書で用いられる場合には、破壊が２つ以下の亀裂分岐をもたらすか、又は破壊中に１ｍ／秒以上の折り畳み可能な試験装置９０１の粒子の放出をもたらさない場合、破壊は低エネルギーである。放出された粒子の平均速度は、鋭い接触プローブが衝突位置に接触したときから５，０００マイクロ秒後までの折り畳み可能な装置の高速ビデオをキャプチャすることによって測定することができる。

【0313】

折り畳み可能な装置は、「ペン落下試験」に従って測定した場合に、ペン落下高さ（例えば、５センチメートル（ｃｍ）以上、１０センチメートル以上、２０ｃｍ以上）での故障を回避するための折り畳み可能な装置の領域（例えば、第１の部分２２１を含む領域、第２の部分２３１を含む領域、ポリマーをベースとした部分２４１を含む領域）の能力によって定義された耐衝撃性を有しうる。本明細書で用いられる場合、「ペン落下試験」は、折り畳み可能な装置の試料が、（例えば、図６に示されるディスプレイデバイス６０３の代わりに）試験接着層１００９の第５の接触面１０１９に接着した１００μｍの厚さのＰＥＴのシート１００７を用いた平行平板試験のように構成された折り畳み可能な装置の外面（例えば、第１の主面２０５、第３の主面４１９、又は第７の主面７３３）に加えられる（すなわち、ある特定の高さから落とされたペンからの）荷重で試験されるように実施される。このように、ペン落下試験におけるＰＥＴ層は、可撓性の電子ディスプレイデバイス（例えば、ＯＬＥＤデバイス）をシミュレートすることを意図している。試験中、ＰＥＴ層に結合された折り畳み可能な装置は、ＰＥＴ層がアルミニウム板と接触した状態でアルミニウム板（６０６３アルミニウム合金、４００グリット紙で、ある表面粗さに研磨されたもの）上に配置される。アルミニウム板に載っている試料の側面には、テープは使用されていない。

【0314】

図３９に示されるように、ペン落下装置３９０１はボールペン３９０３を含む。ペン落下試験に用いられるペンは、直径０．７ｍｍ（０．６８ｍｍ）、キャップを含めた重量５．７３グラム（ｇ）（キャップなしで４．６８ｇ）の炭化タングステンボールペンチップ３９０５を含む、ＢＩＣ Ｅａｓｙ Ｇｌｉｄｅ Ｐｅｎ，Ｆｉｎｅである。ボールペン３９０３は、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の外面（例えば、第１の主面２０５、第３の主面４１９、又は第７の主面７３３）から所定の高さ３９０９に保持される。折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の外面に導くために、ペン落下試験にチューブ（明確にするために図示せず）を使用し、該チューブは、該チューブの長手方向軸が折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の外面と実質的に垂直になるように、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の外面と接触して配置される。チューブの外径は１インチ（２．５４ｃｍ）であり、内径は９／１６インチ（１．４ｃｍ）であり、長さは９０ｃｍである。アクリロニトリルブタジエン（「ＡＢＳ」）シムを使用して、各試験でボールペン３９０３を所定の高さ３９０９に保持する。各落下後、チューブは、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１上の異なる衝撃位置に導くために、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１に対して再配置される。ペン落下試験は、本開示の実施形態の折り畳み可能な装置のいずれかに使用することができるものと理解されたい。

【0315】

チューブは、折り畳み可能な装置の外面にペンを導くためにペン落下試験に用いられる。図２～３に示される折り畳み可能な装置１０１又は３０１では、ペンは第１の基板２０３の第１の主面２０５に導かれ、チューブは、該チューブの長手方向軸が第１の主面２０５に実質的に垂直であり、チューブの長手方向軸が重力の方向に延びるように、第１の基板２０３の第１の主面２０５と接触して配置される。図４～６に示される折り畳み可能な装置４０１、５０１、又は６０１では、ペンはコーティング４１１の第３の主面４１９に導かれ、チューブは、該チューブの長手方向軸が第３の主面４１９に実質的に垂直であり、かつチューブの長手方向軸が重力の方向に延びるように、コーティング４１１の第３の主面４１９と接触して配置される。図４～６に示される折り畳み可能な装置４０１、５０１、６０１では、ペンはコーティング４１１の第３の主面４１９に導かれ、チューブは、該チューブの長手方向軸が第３の主面４１９に実質的に垂直であり、かつチューブの長手方向軸が重力の方向に延びるように、コーティング４１１の第３の主面４１９と接触して配置される。図７～８に示される折り畳み可能な装置７０１又は８０１のポリマーをベースとした部分２４１を含む領域を試験するために、ペンは、チューブの長手方向軸が第７の主面７３３に実質的に垂直であり、かつチューブの長手方向軸が重力の方向に延びるように、無機層７３７の第７の主面７３３に導かれる。図７～８に示される折り畳み可能な装置７０１又は８０１のポリマーをベースとした部分２４１を含まない領域を試験するために、ペンは、チューブの長手方向軸が第１の外面７５１及び／又は第２の外面７５３に実質的に垂直であり、かつチューブの長手方向軸が重力の方向に延びるように、第１の外面７５１及び／又は第２の外面７５３に導かれる。

【0316】

ペン落下試験では、ボールペン３９０３は、ボールペンチップ３９０５が折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の外面（例えば、第１の主面２０５、第３の主面４１９、又は第７の主面７３３）と相互作用することができるように、キャップが上端（すなわち、先端とは反対側の端）に取り付けられた状態で落下される。ペン落下試験による落下シーケンスでは、１回のペン落下が最初の高さ１ｃｍで行われ、続いて０．５ｃｍ刻みで２０ｃｍまで連続して落下させ、次に、２０ｃｍの後は２ｃｍ刻みで、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１が破損するまで連続して落下される。各落下が行われた後、破壊、故障、又は折り畳み可能な基板８０１又はリボン９０１への損傷の観察可能な他の証拠のいずれかの存在が、ペン落下のための特定の所定の高さ３９０９とともに記録される。折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１に対する観察可能な破壊、故障、又は他の損傷の証拠の存在が、ペン落下のための特定の所定の高さ３９０９とともに記録される。ペン落下試験を使用することにより、複数の折り畳み可能な装置（例えば、試料）を同じ落下シーケンスに従って試験して、統計精度が向上した母集団を生成することができる。ペン落下試験では、ボールペン３９０３は、５回の落下ごとに新しいペンに交換され、各新しい折り畳み可能な装置（例えば、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１）が試験される。加えて、ペン落下はすべて、特に明記しない限り、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の中心又はその近くの折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１上のランダムな位置で行われ、折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、又は８０１、若しくは折り畳み可能な試験装置９０１の端部又はその近くではペン落下はない。

【0317】

ペン落下試験の目的では、「故障」とは、積層体における、目に見える機械的欠陥の形成を意味する。機械的欠陥は、亀裂又は塑性変形（例えば、表面押込）でありうる。亀裂は、表面亀裂又は貫通亀裂でありうる。亀裂は、積層体の内面又は外面に形成されうる。亀裂は、第１の基板２０３、コーティング４１１、無機層７３７、第１の部分２２１、及び／又は第２の部分２３１の全て又は一部を通って延びうる。目に見える機械的欠陥の最小寸法は０．２ミリメートル以上である。

【0318】

幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置は、１０センチメートル（ｃｍ）、１２ｃｍ、１４ｃｍ、１５ｃｍ、１６ｃｍ、又は２０ｃｍのペン落下高さでの第１の部分２２１又は第２の部分２３１を含む領域におけるペン落下について故障に耐えることができる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１又は第２の部分２３１を含む領域にわたって、折り畳み可能な装置が故障することなく耐えることができる最大ペン落下高さは、約１０ｃｍ以上、約１２ｃｍ以上、約１４ｃｍ以上、約１６ｃｍ以上、約４０ｃｍ以下、又は約３０ｃｍ以下、約２０ｃｍ以下、約１８ｃｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１又は第２の部分２３１を含む領域にわたって、折り畳み可能な装置が故障することなく耐えることができる最大ペン落下高さは、約１０ｃｍ～約４０ｃｍ、約１２ｃｍ～約４０ｃｍ、約１２ｃｍ～約３０ｃｍ、約１４ｃｍ～約３０ｃｍ、約１４ｃｍ～約２０ｃｍ、約１６ｃｍ～約２０ｃｍ、約１８ｃｍ～約２０ｃｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0319】

幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置は、１ｃｍ、２ｃｍ、３ｃｍ、４ｃｍ、又は５ｃｍのペン落下高さでの第１の部分２２１と第２の部分２３１との間のポリマーをベースとした部分２４１を含む領域におけるペン落下について故障に耐えることができる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間のポリマーをベースとした部分２４１を含む領域にわたって、折り畳み可能な装置が故障することなく耐えることができる最大ペン落下高さは、約１ｃｍ以上、約２ｃｍ以上、約３ｃｍ以上、約４ｃｍ以上、約２０ｃｍ以下、約１０ｃｍ以下、約８ｃｍ以下、又は約６ｃｍ以下でありうる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間のポリマーをベースとした部分２４１を含む領域にわたって、折り畳み可能な装置が故障することなく耐えることができる最大ペン落下高さは、約１ｃｍ～約２０ｃｍ、約２ｃｍ～約２０ｃｍ、約２ｃｍ～約１０ｃｍ、約３ｃｍ～約１０ｃｍ、約３ｃｍ～約８ｃｍ、約４ｃｍ～約８ｃｍ、約４ｃｍ～約６ｃｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0320】

最小の力を使用して、折り畳み可能な装置で所定の平行平板距離を達成することができる。上述した図１０の平行平板装置は、本開示の実施形態の折り畳み可能な装置の「閉鎖力」を測定するために用いられる。平らな構成（例えば、図１参照）から所定の平行平板距離を含む、曲がった（例えば、折り畳まれた）構成（例えば、図１０参照）へと移行する力が測定される。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離１０ｍｍまで曲げる力は、約２０ニュートン（Ｎ）以下、１５Ｎ以下、約１２Ｎ以下、約１０Ｎ以下、約０．１Ｎ以上、約０．５Ｎ以上、約１Ｎ以上、約２Ｎ以上、約５Ｎ以上でありうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離１０ｍｍまで曲げる力は、約０．１Ｎ～約２０Ｎ、約０．５Ｎ～約２０Ｎ、約０．５Ｎ～約１５Ｎ、約１Ｎ～約１５Ｎ、約１Ｎ～約１２Ｎ、約２Ｎ～約１２Ｎ、約２Ｎ～約１０Ｎ、約５Ｎ～約１０Ｎの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離３ｍｍまで曲げる力は、約１０Ｎ以下、約８Ｎ以下、約６Ｎ以下、約４Ｎ以下、約３Ｎ以下、約０．０５Ｎ以上 約０．１Ｎ以上、約０．５Ｎ以上、約１Ｎ以上、約２Ｎ以上、約３Ｎ以上でありうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離３ｍｍまで曲げる力は、約０．０５Ｎ～約１０Ｎ、約０．１Ｎ～約１０Ｎ、約０．１Ｎ～約８Ｎ、約０．５Ｎ～約８Ｎ、約０．５Ｎ～約６Ｎ、約１Ｎ～約６Ｎ、約１Ｎ～約４Ｎ、約２Ｎ～約４Ｎ、約２Ｎ～約３Ｎの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0321】

幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離１０ｍｍまで曲げる折り畳み可能な装置の幅１０３あたりの力は、約２０ニュートン／ミリメートル（Ｎ／ｍｍ）以下、０．１５Ｎ／ｍｍ以下、約０．１２Ｎ／ｍｍ以下、約０．１０Ｎ／ｍｍ以下、約０．００１Ｎ／ｍｍ以上、約０．００５Ｎ／ｍｍ以上、約０．０１Ｎ／ｍｍ以上、約０．０２Ｎ／ｍｍ以上、約０．０５Ｎ／ｍｍ以上でありうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離１０ｍｍまで曲げる折り畳み可能な装置の幅１０３あたりの力は、約０．００１Ｎ／ｍｍ～約０．２０Ｎ／ｍｍ、約０．００５Ｎ／ｍｍ～約０．２０Ｎ／ｍｍ、約０．００５Ｎ／ｍｍ～約０．１５Ｎ／ｍｍ、約０．０１Ｎ／ｍｍ～約０．１５Ｎ／ｍｍ、約０．０１Ｎ／ｍｍ～約０．１２Ｎ／ｍｍ、約０．０２Ｎ／ｍｍ～約０．１２Ｎ／ｍｍ、約０．０２Ｎ／ｍｍ～約０．１０Ｎ／ｍｍ、約０．０５Ｎ／ｍｍ～約０．１０Ｎ／ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離３ｍｍまで曲げる折り畳み可能な装置の幅１０３あたりの力は、約０．１０Ｎ／ｍｍ以下、約０．０８Ｎ／ｍｍ以下、約０．０６Ｎ／ｍｍ以下、約０．０４Ｎ／ｍｍ以下、約０．０３Ｎ／ｍｍ以下、約０．０００５Ｎ／ｍｍ以上 約０．００１Ｎ／ｍｍ以上、約０．００５Ｎ／ｍｍ以上、約０．０１Ｎ／ｍｍ以上、約０．０２Ｎ／ｍｍ以上、約０．０３Ｎ／ｍｍ以上でありうる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離３ｍｍまで曲げる折り畳み可能な装置の幅１０３あたりの力は、約０．０００５Ｎ／ｍｍ～約０．１０Ｎ／ｍｍ、約０．００１Ｎ／ｍｍ～約０．１０Ｎ／ｍｍ、約０．００１Ｎ／ｍｍ～約０．０８Ｎ／ｍｍ、約０．００５Ｎ／ｍｍ～約０．０８Ｎ／ｍｍ、約０．００５Ｎ／ｍｍ～約０．０６Ｎ／ｍｍ、約０．０１Ｎ／ｍｍ～約０．０６Ｎ／ｍｍ、約０．０１Ｎ／ｍｍ～約０．０４Ｎ／ｍｍ、約０．０２Ｎ／ｍｍ～約０．０４Ｎ／ｍｍ、約０．０２Ｎ／ｍｍ～約０．０３Ｎ／ｍｍの範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0322】

折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１、及び／又は折り畳み可能な試験装置９０１は、中立応力構成を含みうる。本開示全体を通して、「中立応力構成」は、次の試験構成及びプロセスを用いて測定される。「中立応力構成」を測定する場合、図１３に示される折り畳み可能な試験装置１３０１は、上で論じた折り畳み可能な試験装置９０１と同様に、図５の剥離ライナ５０３又は図６～８に示されるディスプレイデバイス６０３ではなく、試験接着層１００９の第６の接触面１０２１と試験接着層１００９の第５の接触面１０１９の間の０．１ＭＰａの弾性率及び５０μｍの厚さを有する光学的に透明な接着剤を含む試験接着層１００９と、１００μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のシート１００７とを含む。例えば、第１の基板２０３及び／又はコーティング４１１を含む図２～８に示される折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１、「中立応力構成」を測定するための図１３に示されるような折り畳み可能な試験装置１３０１は、図１０に示される「有効曲げ半径」を測定するための折り畳み可能な試験装置９０１に類似しうる。折り畳み可能な試験装置１３０１を試験するために、折り畳み可能な試験装置１３０１は、重力の方向に垂直な断面が図１３に類似するように、その側面に配置される。折り畳み可能な試験装置１３０１は、３μｍ以下（例えば、２．４０μｍ、ミル仕上げ番号３）の表面の算術平均偏差表面（表面粗さ（Ｒａ））を有する、ＳＡＥグレード３０４（例えば、ＩＳＯ Ａ２）ステンレス鋼を含む表面に置かれる。示されるように、折り畳み可能な装置の第１の厚さ２２７の方向２０２及び長さ１０５の方向１０６を実質的に含む平面は、重力の方向に実質的に垂直であり、折り畳み軸１０２の方向１０４（図１参照）もまた重力の方向である。次に、試験用の折り畳み可能な装置を、図１３に示されるように、１時間緩和させて、平衡構成を実現する。

【0323】

幾つかの実施形態では、図１３に示されるように、中立応力構成は曲がった構成を含みうる。本明細書で用いられる場合、曲がった構成は、（図１～８に示される平らな構成とは対照的に）平坦ではない構成である。さらなる実施形態では、図１３に示されるように、第１の主面２０５及び／又は第１の基板２０３の第２の主面２０７は、平面の形状から実質的に逸脱していてもよい。幾つかの実施形態では、平らな構成からの中立応力構成の偏差は、偏差歪みの最大の大きさを使用して定量化することができる。本明細書で用いられる場合、「偏差歪み」とは、歪みテンソルの形状変化成分を意味する（例えば、歪みテンソルから静的歪み（歪みテンソルの対角成分の平均）をマイナスしたもの）。歪みテンソルは、折り畳まれた装置の一部（例えば、ポリマーをベースとした部分）のデジタル画像認識及び／又はトポグラフィーを使用して測定することができ、平らな構成と中立応力構成との間の形状及び寸法を比較することができる。例えば、図１４に示されるように、例となるポリマーをベースとした部分２４１が平らな構成で示されている。この平らな構成では、ポリマーをベースとした部分の長さ１４０１（例えば、折り畳み可能な装置の長さの方向１０６に測定）は、第３の接触面２５５及び第４の接触面２５７において測定した場合、実質的に等しい。例えば、図１５に示されるように、例となるポリマーをベースとした部分２４１が中立応力構成で示されている。理解を容易にするために、図１４～１５のポリマーをベースとした部分２４１の体積は同じであり、これは、デジタルでキャプチャされた中立応力構成の形状及び寸法から静的歪みを除いた後の事例である。図１５に示されるように、第３の接触面２５５に沿って測定した第１の長さ１５０３は、第４の接触面２５７に沿って測定した第２の長さ１５０１とは異なっている（例えば、より大きい）。本明細書で用いられる場合、歪みとは、平らな構成と中立応力構成との間の部分の長さの差を、平らな構成からの基準長さで割った商を意味する。例えば、第３の接触面２５５で測定された図１４～１５間の歪み（例えば、静的歪みが上で論じたように除かれた場合の偏差歪み）は、中立応力構成の第１の長さ１５０３と平らな構成の長さ１４０１との差を平らな構成の長さ１４０１で割った商に等しくなるであろう。例えば、第４の接触面２５７で測定された図１４～１５間の歪み（例えば、静的歪みが上で論じたように除かれた場合の偏差歪み）は、中立応力構成の第２の長さ１５０１と平らな構成の長さ１４０１との差を平らな構成の長さ１４０１で割った商に等しくなるであろう。本明細書で用いられる場合、値（例えば、スカラ値）の大きさは、その値の絶対値である。本明細書で用いられる場合、テンソル（例えば、歪みテンソル、偏差歪みテンソル）の最大の大きさとは、最も大きい（例えば、最大）値を有するテンソル（例えば、偏差歪みテンソル）の成分を意味する。本明細書で用いられる場合、ポリマーをベースとした部分２４１の偏差歪みの最大の大きさとは、ポリマーをベースとした部分の第３の接触面２５５及び第４の接触面２５７で計算した偏差歪みの最大の大きさの最大値を意味する。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の偏差歪みの最大の大きさは、約１％以上、約２％以上、約３％以上、約４％以上、約１０％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、又は約５％以下でありうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１の偏差歪みの最大の大きさは、約１％～約１０％、約１％～約８％、約１％～約７％、約２％～約７％、約２％～約６％、約２％～約５％、約３％～約５％、約３％～約４％、約２％～約１０％、約２％～約８％、約３％～約８％、約４％～約８％、約４％～約７％、約４％～約６％の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0324】

幾つかの実施形態では、平らな構成からの中立応力構成の偏差は、第１の部分から長さ方向に延びる第１の線と第２の部分から長さ方向に延びる第２の線との間で測定される角度「Ｂ」を使用して定量化することができる。例えば、図１３を参照すると、角度「Ｂ」は、第１の線１３０２と第２の線１３０４との間で測定される。第１の線１３０２は、第１の部分２２１の上に配置された（例えば、第１の表面領域２２３の上に配置された）第１の基板２０３の第１の主面２０５の一部において、又はそこから、折り畳み可能な試験装置１３０１の長さの方向１０６に延びる。幾つかの実施形態では、図１３に示されるように、第１の線１３０２は、第１の表面領域２２３が沿って延びる平面に平行になりうる。第２の線１３０４は、第２の部分２３１の上に配置された（例えば、第３の表面領域２３３の上に配置された）第１の基板２０３の第１の主面２０５の一部において、又はそこから、折り畳み可能な試験装置１３０１の長さの方向１０６に延びる。幾つかの実施形態では、図１３に示されるように、第２の線１３０４は、第３の表面領域２３３が沿って延びる平面に平行になりうる。幾つかの実施形態では、中立応力構成及び平らな構成にある角度「Ｂ」間の差の大きさ（例えば、１８０°）は、約１°以上、約２°以上、約５°以上、約１０°以上、約４０°以下、約２０°以下、約１５°以下、又は約８°以下でありうる。幾つかの実施形態では、中立応力構成及び平らな構成にある角度「Ｂ」間の差の大きさ（例えば、１８０°）は、約１°～約４０°、約１°～約２０°、約２°～約２０°、約５°～約２０°、約５°～約１５°、約１０°～約１５°、約２°～約１５°、約５°～約１５°、約５°～約８°、約１°～約８°、約２°～約８°の範囲、若しくはそれらの間のいずれかの範囲又は部分範囲でありうる。

【0325】

折り畳み可能な装置が曲がった構成にあるときに中立応力構成を提供することにより、折り畳み可能な装置を所定の平行平板距離まで曲げる力を低減することができる。さらには、折り畳み可能な装置が曲がった状態にあるときに中立応力構成を提供することにより、通常の使用条件中にポリマーをベースとした部分が経験する最大応力及び／又は歪みを低減することができ、これにより、例えば、折り畳み可能な装置の耐久性の向上及び／又は疲労の低減を可能にすることができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、硬化の結果として膨張するポリマーをベースとした部分を提供することによって生成することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、ポリマーをベースとした部分を曲がった構成で硬化させることによって生成することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、リボンを高温で曲げることによって生成することができる（例えば、リボンが約１０^４パスカル秒及び約１０^７パスカル秒の範囲の粘度を含む場合）。

【0326】

本開示の実施形態は、消費者向け電子製品を含みうる。消費者向け電子製品は、前面、背面、及び側面を含みうる。消費者向け電子製品は、少なくとも部分的に筐体内にある電気部品をさらに含みうる。電気部品は、コントローラ、メモリ、及びディスプレイを含みうる。ディスプレイは、筐体の前面にあるか、又は隣接していてよい。消費者向け電子製品は、ディスプレイの上に配置されたカバー基板を含みうる。幾つかの実施形態では、筐体の一部又はカバー基板のうちの少なくとも一方は、本開示全体を通して論じられる折り畳み可能な装置を含む。

【0327】

本明細書に開示される折り畳み可能な装置は、例えば、ディスプレイを備えた（一又は複数の）物品（例えば、携帯電話、タブレット、コンピュータ、ナビゲーションシステム、ウェアラブルデバイス（例えば、時計）などを含む、消費者向け電化製品）、建築用品、輸送用品（例えば、自動車、列車、航空機、船舶など）、家電機器用品、又は透明度、耐スクラッチ性、耐摩耗性、又はそれらの組合せから恩恵を受けうる任意の物品などの別の物品に組み込むことができる。本明細書に開示される折り畳み可能な装置のいずれかを組み込んだ例示的な物品が、図１１及び図１２に示されている。具体的には、図１１及び図１２は、前面１１０４、背面１１０６、及び側面１１０８を有する筐体１１０２を含む消費者向け電子デバイス１１００を示している。消費者向け電子デバイス１１００は、少なくとも部分的に筐体内にあるか、又は完全に筐体内にある電気部品（図示せず）を含むことができる。消費者向け電子デバイス１１００は、少なくとも、コントローラ、メモリ、並びに筐体の前面にあるか又は筐体の前面に隣接しているディスプレイ１１１０を含むことができる。消費者向け電子デバイス１１００は、それがディスプレイの上になるように、筐体の前面又はその上にカバー基板１１１２を含みうる。幾つかの実施形態では、カバー基板１１１２又は筐体１１０２の一部のうちの少なくとも一方は、本明細書に開示される折り畳み可能な装置のいずれかを含むことができる。

【0328】

本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する方法の実施形態は、図１６～１８のフロー図及び図１９～３０に示される例となる方法工程を参照して説明される。

【0329】

図１９～２２及び図１７のフロー図を参照して、図１～８に示される折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１を製造する例となる実施形態について論じる。図１７のフロー図について、第１の基板２０３を参照して論じる。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、バッキング基板４２１を含むことができる、及び／又はその第１の主面の上に配置されたコーティング４１１を有することができるものと理解されたい。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、コーティング４１１で置き換えることができるものと理解されたい。示されてはいないが、図１７のフロー図及び関連する方法は、例えば、下に図２９～３０に関して論じられる工程をさらに含む、第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含む第１の部分２２１、及び／又は第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含む第２の部分２３１に適用可能であるものと理解されたい。示されてはいないが、該方法は、例えば、図７に示されるように、第２の基板及び／又は第３の接着層を含む折り畳み可能な装置を製造することができるものと理解されたい。

【0330】

本開示の方法の第１の工程１７０１において、第１の基板２０３を提供することから方法を始めることができる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、基板を購入又は他の方法で入手することによって、若しくは基板を形成することによって提供することができる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、ガラスをベースとした基板を含みうる。さらなる実施形態では、ガラスをベースとした基板は、さまざまなリボン成形プロセス、例えば、スロットドロー、ダウンドロー、フュージョンダウンドロー、アップドロー、プレスロール、リドロー、又はフロートでそれらを成形することによって提供することができる。第１の基板２０３は、第１の平面に沿って延在しうる第２の主面２０７を含みうる。第２の主面２０７は、第１の主面２０５とは反対側に存在しうる。第１の基板２０３は、コーティング４１１の有無にかかわらずバッキング基板４２１と交換することができ、及び／又は第１の基板２０３は無機層７３７と交換することができるものと理解されたい。

【0331】

工程１７０１の後、図１９に示されるように、該方法は、第１の基板２０３の上に第１の接着層２１１を配置することを含む工程１７０３へと進めることができる。第１の接着層２１１は、第１の接触面２１３と該第１の接触面２１３とは反対側の第２の接触面２１５とを含みうる。幾つかの実施形態では、示されるように、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、第１の基板２０３の第２の主面２０７に面することができる。さらなる実施形態では、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３は、第１の基板２０３の第２の主面２０７と接触することができる。

【0332】

工程１７０３の後、図２０に示されるように、該方法は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５の上に第１の部分２２１を配置することを含む工程１７０５へと進めることができる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５に面する第１の表面領域２２３を含みうる。さらなる実施形態では、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５と接触することができる。

【0333】

工程１７０５の後、図２１に示されるように、該方法は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５の上に第２の部分２３１を配置することを含む工程１７０７へと進めることができる。幾つかの実施形態では、第２の部分２３１は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５に面する第３の表面領域２３３を含みうる。さらなる実施形態では、第２の部分２３１の第３の表面領域２３３は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５と接触することができる。幾つかの実施形態では、第１の部分２２１の第１の端面２２９は、第２の部分２３１の第２の端面２３９に面しうる。さらなる実施形態では、示されるように、第１の部分２２１の第１の端面２２９と第２の部分２３１の第２の端面２３９との間に、凹部２１０１が画成されうる。さらに別の実施形態では、示されるように、凹部２１０１は、第１の接着層２１１の第２の接触面２１５によってさらに画成されうる。さらに別の実施形態では、示されるように、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び第２の部分２３１の第４の表面領域２３５は、共通平面２５３を含んでよく、凹部２１０１は、共通平面２５３によってさらに画成されうる。

【0334】

工程１７０７の後、図２２に示されるように、該方法は、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の第１の接着層２１１の上にポリマーをベースとした部分２４１を配置することを含む工程１７０９へと進めることができる。幾つかの実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１を配置することは、容器２２０３から凹部２１０１内に液体２２０１を分注することを含みうる。幾つかの実施形態では、固液レベル線によって開示されるように、液体２２０１は、該液体２２０１の自由表面が第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び第２の部分２３１の第４の表面領域２３５との共通平面２５３に沿って延びるように配置されうる。さらなる実施形態では、破線の液体レベルラインで示されるように、液体２２０１は、液体レベルが第２の表面領域２２５及び／又は第４の表面領域２３５の上に配置されるように分注されうる。さらに別の実施形態では、液体レベルとは、ポリマーの厚さ４１５について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる、第２の表面領域２２５及び／又は第４の表面領域２３５の上の距離でありうる。さらなる実施形態では、液体２２０１は、ポリマーをベースとした部分２４１を含む材料又は材料の前駆体のいずれかを含むことができ、任意選択的に溶媒を含むことができる。前駆体は、モノマー、促進剤、硬化剤、エポキシ、及び／又は無機粒子のうちの１つ以上を含みうるが、これらに限定されない。溶媒の例となる実施形態は、極性溶媒（例えば、水、アルコール、酢酸塩、アセトン、ギ酸、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキソン、ニトロメタン、炭酸プロピレン、ポリエーテルエーテルケトン）、及び非極性溶媒（例えば、ペンタン、１，４－ジオキサン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン）を含む。ポリマーをベースとした部分２４１を配置する工程１７０９は、液体２２０１を硬化させて、一対の部分２２１及び２３１をともに接続する工程をさらに含みうる。幾つかの実施形態では、液体２２０１を硬化させることは、加熱、紫外線（ＵＶ）照射、及び／又は所定の期間の待機を含みうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、上で論じたように、負の熱膨張係数を含みうる。幾つかの実施形態では、（一又は複数の）前駆体は、環状モノマー（例えば、ノルボルネン、シクロペンテン）を含むことができ、（一又は複数の）前駆体の硬化は、液体２２０１からポリマーをベースとした部分２４１への体積の増加をもたらしうる開環メタセシス重合を含む。

【0335】

幾つかの実施形態では、該方法は、工程１７１１へと進めることができる。さらなる実施形態では、折り畳み可能な装置は、工程１７０９の後に完了してよく、図１～３のうちの１つに類似しうる。さらなる実施形態では、工程１７１１は、第１の基板２０３の第２の主面２０７にコーティング（例えば、コーティング４１１、ポリマーコーティング）を配置することを含んでよく、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。さらなる実施形態では、工程１７１１は、第２の接着層５０７及び任意選択的に剥離ライナ５０３又は他の基板（例えば、本願全体を通して論じられる第１の基板２０３と類似した又は同一の基板）又はディスプレイデバイス６０３を配置して、折り畳み可能な装置（例えば、図５～６の１つに類似している）を形成することを含みうる。さらに別の実施形態では、図６に示される折り畳み可能な装置は、第１の工程１７０１において第１の基板２０３がコーティング４１１で置き換えられた場合に製造することができる。さらなる実施形態では、工程１７１１は、第２の基板７０３を第２の接着層５０７又はポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７の上に配置することを含みうる。さらに別の実施形態では、第３の接着層７１７は、第２の基板７０３の上に配置することができ、これは、次に、その上に剥離ライナ５０３及び／又はディスプレイデバイスが配置されうる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３は、第２の基板と交換することができ、液体は、図２２の破線まで伸びて、図５に似た折り畳み可能な装置を製造することができる。

【0336】

幾つかの実施形態では、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する方法は、上で論じたように、順次、工程１７０１、１７０３、１７０５、１７０７、１７０９、及び１７１１に沿って進めることができる。幾つかの実施形態では、方法は、図１６のフロー図に示されるように、矢印１７０２、矢印１７０４、及び矢印１７０６６を順にたどって、第１の部分２２１を配置する前に第２の部分２３１を配置することによって、工程１７０５と工程１７０７を入れ替えることができる。幾つかの実施形態では、該方法は、第１の基板２０３、コーティング４１１、又は無機層７３７の上に配置された第１の接着層２１１が購入又は他の方法で得られる場合は、工程１７０５又は１７０７から開始することができる。上記選択肢のいずれかを組み合わせて、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造することができる。

【0337】

図２５～２８及び図１６のフロー図を参照して、図１～８に示される折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１を製造する例となる実施形態について論じる。幾つかの実施形態では、本開示の方法の第１の工程１６０１は、ポリマーをベースとした部分２４１を提供することを含みうる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、ポリマーをベースとした部分２４１を購入又は他の方法で入手することによって、若しくはポリマーをベースとした部分２４１を形成することによって、提供することができる。さらなる実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、硬化したポリマーをベースとした物品を含んでもよく、該物品は、それを購入又は他の方法で調達するか、あるいは前駆体材料を形成及び硬化してポリマーをベースとした部分２４１を形成することによって得ることができる。さらなる実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、図２５に示されるポリマーをベースとした部分２４１に類似しうるが、他の実施形態では、図２６に示されるポリマーをベースとした部分２４１又は他の形状に類似していてもよい。示されてはいないが、図１６のフロー図及び関連する方法は、第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含む第１の部分２２１、及び／又は第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含む第２の部分２３１に適用可能であるものと理解されたい。例えば、無機層７３７及び第１の接着層２１１は、ポリマーをベースとした部分２４１を配置する前に層２３０１上に配置することができるが、幾つかの実施形態では、接着層は省略されてもよい。示されてはいないが、該方法は、例えば、図７に示されるように、第２の基板及び／又は第３の接着層を含む折り畳み可能な装置を製造することができるものと理解されたい。

【0338】

工程１６０１の後、図２５に示されるように、該方法は、第１の部分２２１をポリマーをベースとした部分２４１に接着させることを含む工程１６０３へと進めることができる。工程１６０３の後、図２５にさらに示されるように、該方法は、第２の部分２３１をポリマーをベースとした部分２４１に接着させることを含む工程１６０５へと進めることができる。さらなる実施形態では、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間に位置づけることができる。さらなる実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第１の端面２２９と接触することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５の少なくとも一部を覆うことができる（例えば、その上に配置することができる）。別のさらなる実施形態では、第２の表面領域２２５から測定したポリマーをベースとした部分の厚さは、ポリマーの厚さ４１５について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。さらに別の実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第２の部分２３１の第４の表面領域２３５の少なくとも一部を覆うことができる（例えば、その上に配置することができる）。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、第１の部分及び第２の部分は、ポリマーをベースとした部分が第１の部分の第１の表面領域の少なくとも一部及び／又は第２の部分の第３の表面領域の少なくとも一部を覆うように、１８０度回転させることができる。さらなる実施形態では、第１の表面領域から測定したポリマーをベースとした部分の厚さは、ポリマーの厚さ５２５について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。

【0339】

工程１６０５の後、図２６に示されるように、該方法は、工程１６０７へと進めることができる。工程１６０７は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に第１の接着層２１１を配置することを含みうる。第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面することができる。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、第１の接着層２１１は、第３の接触面２５５の代わりに、ポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７の上に配置することができる。

【0340】

工程１６０７の後、該方法は、工程１６０９へと進めることができる。工程１６０９は、第１の基板２０３を第１の接着層２１１の上に配置することを含みうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３の第２の主面２０７は、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３に面しうる。幾つかの実施形態では、図２８に示されるように、バッキング基板４２１は、例えば、バッキング基板４２１の第２の主面４２７が第１の接着層２１１の第１の接触面２１３に面するように、第１の基板２０３の代わりに、第１の接着層２１１の上に配置することができる。さらなる実施形態では、図２８に示されるように、コーティング４１１（例えば、ポリマーコーティング）は、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置する前に、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置することができ、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。さらなる実施形態では、コーティング４１１（例えば、ポリマーコーティング）は、バッキング基板４２１を第１の接着層２１１の上に配置した後に、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置することができ、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。幾つかの実施形態では、コーティング４１１は、第１の接着層２１１の上に配置することができる。

【0341】

さらなる実施形態では、工程１６０９は、第２の接着層５０７及び任意選択的に剥離ライナ５０３又は他の基板（例えば、本願全体を通して論じられる第１の基板２０３と類似した又は同一の基板）又はディスプレイデバイス６０３を配置し、折り畳み可能な装置（例えば、図５～６の１つに類似している）を形成することをさらに含みうる。さらに別の実施形態では、工程１６０９は、第２の基板７０３を第２の接着層５０７又はポリマーをベースとした部分２４１の第４の接触面２５７の上に配置することを含みうる。別のさらなる実施形態では、第３の接着層７１７は、第２の基板７０３の上に配置することができ、これは、次に、その上に剥離ライナ５０３及び／又はディスプレイデバイスが配置されうる。

【0342】

幾つかの実施形態では、工程１６０９は、無機層７３７をポリマーをベースとした部分の第３の接触面２５５の上に配置することを含みうる。例えば、図２９～３０を参照して以下で論じられるように、第１の接着層２１１は、無機層７３７を第１の接着層２１１に接着する前に、第１の外側端面７４１と第２の外側端面７４３の間に配置された接着液３００３を硬化することによって、ポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。さらに別の実施形態では、無機層７３７は、第１の接着層２１１によってポリマーをベースとした部分２４１に接着させることができるが、他の実施形態では、無機層７３７は、ポリマーをベースとした部分２４１と接触していてもよい。幾つかの実施形態では、該方法は工程１６０９の後に完了しうる。

【0343】

幾つかの実施形態では、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する方法は、上で論じたように、順次、工程１６０１、１６０３、１６０５、１６０７、及び１６０９に沿って進めることができる。幾つかの実施形態では、方法は、図１６のフロー図に示されるように、矢印１６０２、矢印１６０４、及び矢印１６０６を順にたどって、第１の部分２２１を接着する前に、第２の部分２３１をポリマーをベースとした部分２４１に接着することによって、工程１６０３と工程１６０５を入れ替えることができる。幾つかの実施形態では、方法は、図１６のフロー図に示されるように矢印１６０２、矢印１６０４、及び矢印１６０８を順にたどって、図２７に示されるように、少なくとも、ポリマーをベースとした部分の上にコーティング４１１を配置することによって、工程１６０７を省略し、工程１６０３と１６０５を入れ替えることができる。さらなる実施形態では、コーティング４１１は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。さらなる実施形態では、コーティング４１１は、硬化されてコーティング４１１を形成する第２の液体を配置することによって、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。幾つかの実施形態では、該方法は、第１の部分２２１及び／又は第２の部分２３１に接着したポリマーをベースとした部分２４１が購入又は他の方法で得られる場合は、工程１６０３、１６０５、又は１６０７から開始することができる。幾つかの実施形態では、第１の基板及び／又はコーティングは、例えば、第１の部分２２１が第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含む場合、及び／又は第２の部分２３１が第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含む場合、無機層で置き換えることができる。上記選択肢のいずれかを組み合わせて、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造することができる。

【0344】

図２３～３０及び図１６のフロー図を参照して、図１～８に示される折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び８０１を製造する例となる実施形態について論じる。図１６のフロー図について、第１の基板２０３を参照して論じる。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、バッキング基板４２１を含むことができる、及び／又はその第１の主面の上に配置されたコーティング４１１を有することができるものと理解されたい。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、コーティング４１１で置き換えることができるものと理解されたい。示されてはいないが、幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は無機層７３５で置き換えることができるものと理解されたい。図２３～２８には示されていないが、図１６のフロー図及び関連する方法は、例えば、図２９～３０に示されるように、第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含む第１の部分２２１、及び／又は第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含む第２の部分２３１に適用可能であるものと理解されたい。示されてはいないが、該方法は、例えば、図７に示されるように、第２の基板及び／又は第３の接着層を含む折り畳み可能な装置を製造することができるものと理解されたい。

【0345】

幾つかの実施形態では、本開示の方法の第１の工程１６１１は、図２３に示されるように、第１の部分２２１を第２の部分２３１から離間して配置することを含みうる。さらなる実施形態では、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２３０５は、最小距離２４３に関して上で論じた範囲内でありうる。さらなる実施形態では、示されるように、層２３０１は、第１の部分２２１及び第２の部分２３１に接着させることができる。さらに別の実施形態では、示されてはいないが、層２３０１は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び／又は第２の部分２３１の第４の表面領域２３５に面しうる接触面２３０３を含みうる。さらに別の実施形態では、図２３～２４に示されるように、層２３０１は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び／又は第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面しうる接触面２３０３を含みうる。さらに別の実施形態では、層２３０１は、可撓性層（例えば、可撓膜）を含みうる。さらに別の実施形態では、層２３０１は、広範囲にわたる技法、例えば、層を剥離する、層を加熱する、層を光に曝露する、又は他の技法によって除去することができる、除去可能な層を含みうる。別のさらなる実施形態では、層２３０１はポリマーを含みうるが、さらなる実施形態では、層２３０１は他の材料から形成されてもよい。別のさらなる実施形態では、層２３０１は、例えば、テープを含みうる、先に形成された層を適用することを含みうる。別のさらなる実施形態では、層２３０１は、ポリマー感圧接着剤、例えば、ブロックコポリマー（例えば、スチレンゴムブロックコポリマー）を含みうる。さらにまた別の実施形態では、感圧接着剤は、高温剥離フィルムを含んでよく、これは、例えば、ポリプロピレン、ＰＶＦ、ＥＴＦＥ、ＦＥＰ、ポリイミド、及び／又はポリメチルペンテンを含みうるポリマー接着剤の接着が、所定の温度（例えば、１００℃、１５０℃、２００℃、３００℃、４００℃）を超えると低下することを意味する。さらにまた別の実施形態では、感圧接着剤は、低温剥離フィルムを含んでよく、これは、ポリマー接着剤の接着が所定の温度（例えば、１００℃、５０℃、３０℃）を下回ると低下することを意味する。感温性の剥離フィルム（例えば、高温剥離フィルム、低温剥離フィルム）を含む感圧接着剤を提供することにより、処理コストを削減することができ、層２３０１の除去に関連する折り畳み可能な装置への潜在的な損傷を低減することができる。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、工程１６１１は、無機層７３７及び／又は第１の接着層２１１が第１の部分２２１と第２の部分２３１との間に位置づけられるように、例えば、第１の部分２２１及び第２の部分２３１を層２３０１に接着させる前に、無機層７３７及び／又は第１の接着層２１１を層２３０１の上に配置することをさらに含むことができる。

【0346】

工程１６１１の後、図２４に示されるように、該方法は、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の凹部２１０１に液体２２０１を充填して、ポリマーをベースとした部分２４１を形成することを含む工程１６１３へと進めることができる。幾つかの実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１を形成することは、容器２２０３から凹部２１０１内に液体２２０１を分注することを含みうる。実線の液体ラインで示されるように、幾つかの実施形態では、液体レベルが第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び第２の部分２３１の第４の表面領域２３５と同一平面上になるまで、液体２２０１を凹部２１０１に満たすことができる。さらなる実施形態では、破線の液体レベルラインで示されるように、液体２２０１は、液体レベルが第２の表面領域２２５及び第４の表面領域２３５の上に配置されるように注ぐことができる。さらに別の実施形態では、液体レベルは、ポリマーの厚さ４１５について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる、第２の表面領域２２５の上の距離 及び／又は第４の表面領域２３５の上の距離でありうる。さらなる実施形態では、液体２２０１は、材料及び／又は溶媒の前駆体を含む、図２２に関して上で論じた材料のいずれかを含みうる。幾つかの実施形態では、該方法は、液体２２０１を硬化させて、一対の部分２２１及び２３１をともに接続する工程をさらに含みうる。幾つかの実施形態では、液体２２０１を硬化させることは、加熱、紫外線（ＵＶ）照射、及び／又は所定の期間の待機を含みうる。幾つかの実施形態では、層２３０１は、図２５に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１を形成した後に除去することができる。さらに別の実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５の少なくとも一部を覆うことができる（例えば、その上に配置することができる）。別のさらなる実施形態では、第２の表面領域２２５から測定したポリマーをベースとした部分の厚さは、ポリマーの厚さ４１５について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。さらに別の実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分２２１の第４の表面領域２３５の少なくとも一部を覆うことができる（例えば、その上に配置することができる）。幾つかの実施形態では、示されてはいないが、第１の部分及び第２の部分は、ポリマーをベースとした部分が第１の部分の第１の表面領域の少なくとも一部及び／又は第２の部分の第３の表面領域の少なくとも一部を覆うように、１８０度回転させることができる。さらなる実施形態では、第１の表面領域から測定したポリマーをベースとした部分の厚さは、ポリマーの厚さ５２５について上で論じた１つ以上の範囲内にありうる。

【0347】

工程１６１３の後、図２６に示されるように、該方法は、工程１６０７へと進めることができる。工程１６０７は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に第１の接着層２１１を配置することを含みうる。第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面することができる。

【0348】

工程１６０７の後、該方法は、工程１６０９へと進めることができる。幾つかの実施形態では、工程１６０９は、第１の基板２０３を第１の接着層２１１の上に配置することを含みうる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３の第２の主面２０７は、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３に面しうる、及び／又はそれと接触しうる。幾つかの実施形態では、工程１６０９は、バッキング基板４２１を第１の接着層２１１の上に配置することを含みうる。さらなる実施形態では、バッキング基板４２１の第２の主面４２７は、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３に面しうる、及び／又はそれと接触しうる。さらなる実施形態では、コーティング４１１（例えば、ポリマーコーティング）は、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置する前に、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置することができ、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。さらなる実施形態では、コーティング４１１（例えば、ポリマーコーティング）は、バッキング基板４２１を第１の接着層２１１の上に配置した後に、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置することができ、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。さらなる実施形態では、工程１６０９は、第２の接着層５０７及び任意選択的に剥離ライナ５０３又は他の基板（例えば、本願全体を通して論じられる第１の基板２０３と類似した又は同一の基板）又はディスプレイデバイス６０３を配置し、折り畳み可能な装置（例えば、図５～６の１つに類似している）を形成することをさらに含みうる。さらに別の実施形態では、図６に示される折り畳み可能な装置は、第１の工程１６０１において第１の基板２０３がコーティング４１１で置き換えられた場合に製造することができる。さらなる実施形態では、第１の基板２０３は、第２の基板と交換することができ、液体は、図２２の破線まで伸びて、図５に似た折り畳み可能な装置を製造することができる。幾つかの実施形態では、該方法は工程１６０９の後に完了しうる。

【0349】

幾つかの実施形態では、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する方法は、上で論じたように、順次、工程１６１１、１６１３、１６０７、及び１６０９に沿って進めることができる。幾つかの実施形態では、層２３０１は、存在する場合には、工程１６１３、１６０７、又は１６０９のいずれかにおいて除去することができる。幾つかの実施形態では、方法は、図１６のフロー図に示されるように矢印１６１０をたどって、図２７に示されるように、少なくとも、ポリマーをベースとした部分の上にコーティング４１１を配置することによって、工程１６０７を省略することができる。さらなる実施形態では、コーティング４１１は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。さらなる実施形態では、コーティング４１１は、硬化されてコーティング４１１を形成する第２の液体を配置することによって、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に配置することができる。幾つかの実施形態では、該方法は、第１の部分２２１及び／又は第２の部分２３１に接着したポリマーをベースとした部分２４１が購入又は他の方法で得られる場合は、工程１６１３又は１６０７から開始することができる。幾つかの実施形態では、折り畳み可能な装置は、層２３０１を除去した後、図２５に示される構成に対して１８０度回転して、図４の代わりに図５に類似しているポリマーをベースとした部分２４１を製造することができる。上記選択肢のいずれかを組み合わせて、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造することができる。

【0350】

図２４～３０及び図１８のフロー図を参照して、図１～８に示される折り畳み可能な装置１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、及び／又は８０１を製造する例となる実施形態について論じる。本開示の方法の第１の工程１８０１において、第１の部分２２１を第２の部分２３１から離間して配置することから方法を始めることができる。さらなる実施形態では、図２３に示されるように、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２３０５は、最小距離２４３に関して上で論じた範囲内でありうる。さらなる実施形態では、示されるように、層２３０１は、第１の部分２２１及び第２の部分２３１に接着させることができる。さらに別の実施形態では、示されるように、層２３０１は、第１の部分２２１の第２の表面領域２２５及び／又は第２の部分２３１の第４の表面領域２３５に面しうる接触面２３０３を含みうる。さらに別の実施形態では、示されてはいないが、層２３０１は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び／又は第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面しうる接触面２３０３を含みうる。さらに別の実施形態では、層２３０１は、可撓性層（例えば、可撓膜）を含みうる。さらに別の実施形態では、層２３０１は、広範囲にわたる技法によって除去することができる除去可能な層を含むことができ、及び／又は層２３０１に関して上で論じた材料のいずれかを含むことができる。

【0351】

工程１８０１の後、本開示の方法は、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の凹部２１０１に液体２２０１を充填し、該液体を硬化させてポリマーをベースとした部分２４１を形成することを含む、工程１８０３又は１８０５へと進めることができる。工程１８０３は、図２４に示されるように、第１の基板が平らな構成にある間に、液体を硬化させてポリマーをベースとした部分を形成することを含み、一方、工程１８０５は、示されてはいないが、第１の基板が曲がった構成にある間に、液体を硬化させてポリマーをベースとした部分を形成することを含む。工程１８０５は、図１３に示されている曲がった構成と同様でありうる。幾つかの実施形態では、層２３０１は、接触面２３０３が屈曲部の外側にあるように、曲がった構成でありうる。幾つかの実施形態では、第１の基板２０３は、接触面２３０３が屈曲部の内側にあるように、曲がった構成でありうる。

【0352】

工程１８０３及び工程１８０５の両方に共通である、凹部に充填し、液体を硬化させてポリマーをベースとした部分を形成することについて、これより、工程１８０３のこのような説明は、特に明記しない限り、工程１８０５にも適用することができるという理解の下で、工程１８０３に関して論じる。凹部に充填し、液体を硬化させてポリマーをベースとした部分を形成することは、工程１６０９及び図２２に関して上で論じた材料及び／又は方法と同様又は同一でありうる。幾つかの実施形態では、示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１を形成することは、容器２２０３から凹部２１０１内に液体２２０１を注ぐことを含みうる。幾つかの実施形態では、該方法は、液体２２０１をポリマーをベースとした部分２４１へと硬化させて、一対の部分２２１及び２３１をともに接続する工程をさらに含みうる。幾つかの実施形態では、液体２２０１を硬化させることは、加熱、紫外線（ＵＶ）照射、及び／又は所定の期間の待機を含みうる。幾つかの実施形態では、層２３０１は、図２５に示されるように、ポリマーをベースとした部分２４１を形成した後に除去することができる。工程１８０３は、液体２２０１を凹部２１０１内に堆積させることを含みうる。液体２２０１を硬化させて、ポリマーをベースとした部分２４１を形成することができる。上で論じたように、ポリマーをベースとした部分２４１は、負の熱膨張係数を含みうる。上で論じたように、液体２２０１を硬化させてポリマーをベースとした部分２４１を形成することにより、体積の増加をもたらすことができる。

【0353】

工程１８０３又は１８０５の後、図２６に示されるように、該方法は、工程１８０７へと進めることができる。工程１８０７は、第１の部分２２１、第２の部分２３１、及びポリマーをベースとした部分２４１の上に第１の接着層２１１を配置することを含みうる。第１の接着層２１１の第２の接触面２１５は、第１の部分２２１の第１の表面領域２２３及び第２の部分２３１の第３の表面領域２３３に面することができる。

【0354】

工程１８０７の後、該方法は、第１の基板２０３を第１の接着層２１１の上に配置することを含む工程１８０９又は１８１１へと進めることができる。工程１８１１は、第１の接着層２１１の上に平らな（例えば、曲がっていない）第１の基板２０３を配置することを含み、一方、工程１８０９は、第１の接着層２１１の上に曲がった第１の基板２０３を配置することを含む。工程１８０９は、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３の上に曲がった第１の基板２０３を配置することを含みうる。幾つかの実施形態では、曲がった第１の基板２０３は、第１の基板２０３を曲がった構成へと曲げることによって得ることができ、一方、第１の基板２０３は、約１０^４パスカル秒から約１０^７パスカル秒の範囲の粘度を含む（例えば、第１の基板２０３の動作範囲において、第１の基板２０３の軟化点と第１の基板２０３の作用点との間）。幾つかの実施形態では、例えば、第１の部分２２１が第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含む場合、及び／又は第２の部分２３１が第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含む場合、第１の基板２０３は、無機層７３７で置き換えることができる。

【0355】

工程１８０９及び工程１８１１の両方に共通である、第１の接着層２１１の上に第１の基板２０３及び／又は無機層７３７を配置することについて、工程１８１１のこのような説明は、特に明記しない限り、工程１８０９にも適用することができるという理解に基づいて、工程１８１１に関して論じる。幾つかの実施形態では、図２～３に示されるように、第１の基板２０３の第２の主面２０７は、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３に面しうる。幾つかの実施形態では、図４及び図２８に示されるように、バッキング基板４２１の第２の主面４２７は、第１の接着層２１１の第１の接触面２１３に面しうる。さらなる実施形態では、コーティング（例えば、コーティング４１１、ポリマーコーティング）は、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置する前に、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置することができ、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。さらなる実施形態では、示されるように、コーティング４１１（例えば、ポリマーコーティング）は、バッキング基板４２１を第１の接着層２１１の上に配置した後に、バッキング基板４２１の第１の主面４２５の上に配置することができ、これにより、図４に類似している折り畳み可能な装置を製造することができる。さらなる実施形態では、工程１８０９は、ポリマーをベースとした部分２４１の上に第２の接着層５０７を配置することをさらに含みうる。さらに別の実施形態では、工程１８０９は、ポリマーをベースとした部分２４１及び／又は第２の接着層５０７の上に第２の基板７０３及び／又は任意選択的な第３の接着層７１７を配置することをさらに含みうる。さらなる実施形態では、工程１８０９は、剥離ライナ５０３又は他の基板（例えば、本願全体を通して論じられる第１の基板２０３と類似した又は同一の基板）又はディスプレイデバイス６０３を配置して、折り畳み可能な装置（例えば、図５～８の１つに類似している）を形成することをさらに含みうる。

【0356】

幾つかの実施形態では、図２９～３０に示されるように、第１の部分２２１は、第１の表面領域２２３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第１の外面７５１を含むことができ、及び／又は第２の部分２３１は、第３の表面領域２３３から凹部深さ７４９だけ高くなっている第２の外面７５３を含むことができる。さらなる実施形態では、図２９～３０に示されるように、第１の外面７５１及び／又は第２の外面７５３は、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５から高くなっていてもよい。さらなる実施形態では、図３０に示されるように、方法は、例えば、容器３００１から、その後に硬化して第１の接着層２１１を生成することができる第１の外側端面７４１と第２の外側端面７４３との間の領域内へと接着液３００３を分注することによって、ポリマーをベースとした部分２４１の第３の接触面２５５の上に第１の接着層を配置することを含みうる。接着液は、液体２２０１に関して上で論じたように、第１の接着層及び／又は溶媒の（一又は複数の）前駆体を含みうる。さらに別の実施形態では、無機層７３７は、ポリマーをベースとした部分２４１及び／又は第１の接着層２１１の上に配置されて、折り畳み可能な装置（例えば、図７～８の１つに類似している）を形成することができる。図１８のフロー図の終わり（例えば、工程１８１３）において、折り畳み可能な装置が完成する。

【0357】

幾つかの実施形態では、工程１８１３の後の折り畳み可能な装置は、該折り畳み可能な装置が曲がった構成にあるとき、中立応力構成を含みうる。さらなる実施形態では、折り畳み可能な装置は、中立応力構成における上で論じた範囲（例えば、約１％～約８％の範囲、約２％～約６％）のうちの１つ以上に、ポリマーをベースとした部分の偏差歪みの最大の大きさを含みうる。さらなる実施形態では、折り畳み可能な装置は、中立応力構成において上で論じた１つ以上の範囲内の角度を含みうる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、第１の基板２０３を曲げた結果としての曲がった構成に対応しうる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、層２３０１が曲げられている間に、液体２２０１を硬化させてポリマーをベースとした部分２４１を形成した結果としての曲がった構成に対応しうる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、液体２２０１を硬化させてポリマーをベースとした部分２４１を形成する際の体積の増加の結果としての曲がった構成に対応しうる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、負の熱膨張係数を含むポリマーをベースとした部分２４１の結果としての曲がった構成に対応しうる。

【0358】

幾つかの実施形態では、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造する方法は、上で論じたように、順次、図１８のフロー図の工程１８０１、１８０３、１８０７、１８１１、及び１８１３に沿って進めることができる。幾つかの実施形態では、図１８に示されるように、矢印１８０２をたどって、工程１８０１を、液体２２０１を硬化させてポリマーをベースとした部分２４１を形成することを含む工程１８０５に置き換えることができ、一方、層２３０１が平らな構成にある間に液体２２０１を硬化させてポリマーをベースとした部分２４１を形成する工程１８０３の代わりに、層２３０１は曲がった構成にある；次に、矢印１８０４をたどって工程１８０７へと続けることができる。幾つかの実施形態では、図１８に示されるように、第１の接着層２１１の上に平らな第１の基板２０３を配置することを含む工程１８１１の代わりに、矢印１８０６をたどって、第１の接着層２１１の上に曲がった第１の基板２０３を配置することを含む工程１８０９に置き換えることができる；次に、矢印１８０８をたどって工程１８１３へと続けることができる。上記選択肢のいずれかを組み合わせて、本開示の実施形態による折り畳み可能な装置を製造することができる。

【実施例】

【0359】

以下の実施例によって、さまざまな実施形態がさらに明らかになるであろう。Ｄａｓｓａｕｌｔ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｓｉｍｕｌｉａ社のＡｂａｑｕｓソフトウェア有限要素解析と、界面強度（接着剤、基板、及び第１及び第２の部分の間）、接着剤の降伏強度、第１及び第２の部分の端部の形状、並びにポリマーをベースとした部分のヤング率のパラメータとを使用して、実施例をモデル化した。これらの例では、変更された唯一の変数は、端部の形状であった。実施例Ａ～Ｇは異なる端面を含んでおり、図３１～３４を参照して論じられる。実施例Ｈ～Ｉ及びＱ－Ｒについては、図３５～３８及び表１を参照して論じられる。実施例Ｖ～Ｚについては、表２を参照して論じられる。実施例ＡＡ～ＱＱについては、表３～５を参照して論じられる。実施例はすべて、第２の接着層５０７、剥離ライナ５０３、及び／又は存在する場合にはディスプレイデバイス６０３の代わりに、折り畳み可能な試験装置９０１のように試験接着層１００９及びＰＥＴシート１００７を含んでいた。端面は、機械研磨とそれに続く鉱酸浴中でのエッチングによって生成され、約５０ナノメートル（ｎｍ）以下の表面粗さ（Ｒａ）が得られた。

【0360】

実施例Ａ～Ｅの基板の最大引張応力が図３１に報告されており、一方、実施例Ｆ～Ｇは、図１０に示される方向と反対に、基板が屈曲部の外側にある場合に（例えば、図１０の平行平板に面する基板）、図３３に報告されている。実施例Ａ～Ｅの第１の部分とポリマーをベースとした部分との間の界面での最大歪みが図３２に報告されており、一方、実施例Ｆ～Ｇは図３４に報告されている。実施例Ａ～Ｇはすべて、ガラスをベースとした基板を含めた基板を含む、第１の基板２０３（モル％単位での公称組成を有する組成１：６３．６のＳｉＯ_２；１５．７のＡｌ２Ｏ_３；１０．８のＮａ_２Ｏ；６．２のＬｉ_２Ｏ；１．１６のＺｎＯ；０．０４のＳｎＯ_２；及び２．５のＰ_２Ｏ_５）、及び３０μｍの第１の基板厚さ２０９、第１のガラスをベースとした部分２２１を含む第１の部分（モル％単位での名目上の組成２を有する：６９．１のＳｉＯ_２；１０．２のＡｌ２Ｏ_３；１５．１のＮａ_２Ｏ；０．０１のＫ_２Ｏ；５．５のＭｇＯ；０．０９のＳｎＯ_２）及び１５０μｍの第１の厚さ２２７、並びに第２のガラスをベースとした部分２３１（組成物２）及び１５０μｍの第２の厚さ２３７を含む第２の部分を含んでおり、第１の接着層２１１は、ポリマーをベースとした部分２４１と同じ材料を含んでおり、該接着層は、２５μｍの第１の接着厚さ２１７を含んでおり、第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３は２０ｍｍであり、５００メガパスカル（ＭＰａ）の弾性率を有するポリマーをベースとした部分２４１が充填されていた。

【0361】

実施例Ａは、直角を含めた鈍角ではない端面を含む、第１の端部及び第２の端部を含んでいた。実施例Ｂは、対応する部分２２１、２３１の厚さ（例えば、第１の厚さ２２７、第２の厚さ２３７）の方向に３０ｍｍにわたって延びる、１５０度の内角「Ａ」を含む、図２と同様の面取りされた端面を含む、第１の端部及び第２の端部を含んでいた。実施例Ｃは、約７５μｍの曲率半径を含む、図４と同様の丸みを帯びた端面を含む第１の端部及び第２の端部を含んでいた。実施例Ｄは、第１の厚さに等しい長軸、及び４の長軸の短軸に対する比を含む、図５と同様の楕円形の端面を含む第１の端部及び第２の端部を含んでいた。実施例Ｅは、第１の厚さに等しい長軸、及び２の長軸の短軸に対する比を含む、図５と同様の楕円形の端面を含む第１の端部及び第２の端部を含んでいた。実施例Ｆは、約７５μｍの第１の曲率半径を含む上部及び約２５μｍの第２の曲率半径を含む下部、並びに約１５０μｍの水平距離にわたって約５０μｍの垂直距離（例えば、第２の距離６０９）を含む平らな部分を含む、図６と同様の複合端面を含む第１の端部及び第２の端部を含んでいた。実施例Ｇは、約７５μｍの第１の曲率半径を含む上部及び約２５μｍの第２の曲率半径を含む下部、並びに約２５０μｍの水平距離にわたって約５０μｍの垂直距離（例えば、第２の距離６０９）を含む平らな部分を含む、図６と同様の複合端面を含む第１の端部及び第２の端部を含んでいた。

【0362】

図３１において、横軸３１０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３１０３（例えば、ｙ軸）は、メガパスカル（ＭＰａ）単位での基板（例えば、第１の基板）の最大引張応力である。実施例Ａの結果は曲線３１０５で示され、実施例Ｂの結果は曲線３１０７で示され、実施例Ｃの結果は曲線３１０９で示され、実施例Ｄの結果は曲線３１１１で示され、実施例Ｅの結果は曲線３１１３で示されている。示されるように、直角の端面を含む実施例Ａは、すべての平行平板距離に対して最大の最大引張応力を有している。面取りされた端面を含む実施例Ｂは、実施例Ａよりもわずかに低い最大引張応力を有する。実施例Ｃ～Ｅは互いにスーパーインポーズされている。丸みを帯びた端面又は楕円形の端面を含む実施例Ｃ～Ｅは、実施例Ａ～Ｂより低い最大引張応力を含む。例えば、約２０ｍｍの平行平板距離において、実施例Ｃ～Ｅの各々の最大引張応力は、実施例Ａ～Ｂの最大引張応力よりも約３０％小さい。また、実施例Ｃ～Ｅの各々は、約１５ｍｍ以上の平行平板距離に対して少なくとも２０ＭＰａの応力低減をもたらす。このように、丸みを帯びた端面又は楕円形の端面を含む第１の部分及び／又は第２の部分を提供することにより、折り畳み中の基板に低減された最大引張応力を提供することができ、これは、より低い有効曲げ半径を促進し、及び／又は基板の破損及び／又は疲労の発生を低減する（例えば、減らす）ことができる。加えて、湾曲した端部プロファイル（例えば、図３参照）は、実施例Ｃ～Ｅと同様の最大引張応力の低減をもたらすと予想される。

【0363】

図３２において、横軸３２０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３２０３（例えば、ｙ軸）は、第１の部分とポリマーをベースとした部分との間の界面における最大歪みである。実施例Ａの結果は曲線３２０７で示され、実施例Ｂの結果は曲線３２０５で示され、実施例Ｃの結果は曲線３２０９で示され、実施例Ｄの結果は曲線３２１１で示され、実施例Ｅの結果は曲線３２１３で示されている。直角の端面を含む実施例Ａは、すべての平行平板距離に対して最大の界面歪みを有している。面取りされた端面を含む実施例Ｂは、実施例Ａよりもわずかに低い最大歪みを有する。例えば、２０ｍｍの平行平板距離において、実施例Ｂの界面歪みは、実施例Ａの界面歪みよりも約２５％小さい。丸みを帯びた端面を含む実施例Ｃは、他のどの実施例よりも低い界面歪みを含む。例えば、約２０ｍｍの平行平板距離において、実施例Ｃの界面歪みは、実施例Ａの界面歪みよりも約５０％小さく、実施例Ｂの界面歪みよりも約３０％小さい。楕円形の端面を含む実施例Ｄ及びＥは、実施例Ａと実施例Ｃの中間の界面歪みの低減をもたらす。２の長軸の短軸に対する比を含む実施例Ｅは、４の長軸の短軸に対する比を含む実施例Ｄよりも低い界面歪みを含む。したがって、より円形の端部プロファイルを含む端面（例えば、別の楕円形の設計よりも１に近い長軸の短軸に対する比を有する楕円形の設計）は、楕円形ではない端面及び丸みを帯びていない端面（例えば、実施例Ａ～Ｂ）よりも界面歪みをより良好に低減すると予想される。湾曲した、楕円形の、及び／又は丸みを帯びた端面を含む第１の部分及び／又は第２の部分を提供することにより、より低い界面歪みをさらに提供することができ、これにより、一又は複数のポリマーをベースとした部分の破損を低減（例えば、減少）し、より低い有効曲げ半径、及び／又は基板の破損及び／又は疲労の発生の低減（例えば、低下）を促進することができる。

【0364】

図３３において、横軸３１０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３１０３（例えば、ｙ軸）は、メガパスカル（ＭＰａ）単位での基板の最大引張応力であり、これらは図３１と同じである。実施例Ａ～Ｃの結果は図３１と同じである。実施例Ｆの結果は曲線３３１１で示されており、実施例Ｇの結果は曲線３３１３で示されている。実施例Ｇは、実施例Ｆよりも大きい応力の低減を提供し、これは、実施例Ａ及びＢと比較して依然として応力の低減をもたらす。実施例Ｇ（２５０μｍ）と比較して実施例Ｆ（１５０μｍ）のより短い水平距離が応力の低減をもたらすことを所与とすれば、水平距離をさらに小さくすると、さらに応力の低減をもたらすことが予想される。例えば、水平距離を排除することにより、第１の曲率半径及び該第１の曲率半径より小さい第２の曲率半径を含む端面を生成することができる。

【0365】

図３４において、横軸３２０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３２０３（例えば、ｙ軸）は、第１の部分とポリマーをベースとした部分との間の界面における最大歪みであり、これらは図３２と同じである。実施例Ａ～Ｃの結果は図３２と同じである。実施例Ｆの結果は曲線３４１１で示されており、実施例Ｇの結果は曲線３４１３で示されている。図３４では、実施例Ｇは、実施例Ｆよりも大きい歪みの低減を提供し、これは、実施例Ａ～Ｂと比較して依然として歪みの低減をもたらす。図３４の実施例Ｆ及びＧのこの傾向は、図３３に示されている傾向とは反対である。これは、基板表面での実施例Ｇと比較した実施例Ｆの図３３の低減した応力が、ポリマーをベースとした部分と第１の部分及び／又は第２の部分との間の増加した歪みの結果であることを示唆している。一方では、これらの結果は、実施例Ｇの水平距離をさらに増加させて、界面歪みを低減することができることを示唆している。他方では、これらの結果は、折り畳み可能な装置が、実施例Ｇよりも実施例Ｆのような設計を使用することによって、基材及び／又はコーティングに関する問題を補償するために、より強いポリマーをベースとした部分を用いて設計することができることを示している。

【0366】

実施例Ｈ～Ｐの基板の最大引張応力は図３５に報告されており、一方、実施例Ｈ～Ｉ及び実施例Ｑ～Ｒは、図１０に示される方向と反対に、基板又はコーティングが屈曲部の外側にある場合に（例えば、図１０の平行平板に面する基板又はコーティング）、図３６に報告されている。実施例Ｈ～Ｐはすべて、第１のガラスをベースとした部分２２１を含む第１の部分（組成物２）、第２のガラスをベースとした部分２３１を含む第２の部分（組成物２）、及び第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３を含み、該最小距離２４３には、４０ＭＰａの弾性率を含むポリマーをベースとした部分２４１が充填された。実施例Ｒは、ポリマーをベースとした部分２４１が１００ＭＰａの弾性率を含むことを除き、実施例Ｊと同じである。実施例Ｑは、図８と同様に鈍角ではない端面を含み、ポリマーをベースとした部分２４１は、３８ＭＰａの弾性率を含む。実施例Ｈ～Ｐ及びＲはすべて、第１の部分及び第２の部分に丸みを帯びた端面を含み、曲率半径は、図４と同様に、第１の厚さの半分に等しかった。存在する場合、第１の基板は、ガラスをベースとした基板（組成物１）を含む。第１の接着層２１１は、第１の基板又はコーティングを第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分に接着させる、２５μｍの厚さのポリウレタンをベースとした接着剤（Ｈｅｎｋｅｌ社から入手可能なＴｅｒｏｓｏｎ ＰＵ ９２）を含んでいた。存在する場合、コーティングは、エチレン－酸コポリマーを含んでいた。表１は、実施例Ｈ～Ｑの特性をまとめたものである。

【0367】

【表1】

【0368】

図３５において、横軸３５０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３５０３（例えば、ｙ軸）は、メガパスカル（ＭＰａ）単位での第１の部分２２１の最大引張応力である。実施例Ｈ～Ｐの結果は、表１に示されている曲線の参照番号とともに示されている。５０μｍの第１の厚さを含む実施例Ｈは、１５０μｍの第１の厚さを含む実施例Ｉと比較して、追加の応力を経験する。３０μｍの第１の基板を含む実施例Ｉの応力は、３０μｍのコーティングを含む実施例Ｐに匹敵する。実施例Ｉ及びＰの応力は、実施例Ｉは１５０μｍの第１の厚さを含み、一方、実施例Ｐは１００μｍの第１の厚さを含むことを所与としたものと同じくらい近いことに注目すべきである。このように、コーティングを提供することにより、ガラスをベースとした第１の基板と比較して、第１の部分及び第２の部分にかかる応力が低減するという予想外の利益を提供することができる（コーティングは、１５０μｍの厚さを含む第１の部分と組み合わせて第１の基板に対して第１の部分の応力を増加させることなく、第１の部分の厚さの１５０μｍから１００μｍへの低下を促進するため）。

【0369】

３０μｍのコーティングを維持しつつ、第１の部分と第２の部分との間の最小距離を２０ｍｍ（実施例Ｐ）から１０ｍｍ（実施例Ｏ）へ、５ｍｍ（実施例Ｌ）へと減少させることにより、応力が増加するが、折り畳み可能な装置はより短い平行平板距離を達成する。この傾向は、１０μｍと２０μｍのコーティングにも当てはまるように見える。このように、第１の部分と第２の部分との間の最小距離を短くすることにより、より小さい平行平板距離の達成を容易にするという技術的利益を提供することができる。

【0370】

コーティング厚さを３０μｍ（実施例Ｌ）から２０μｍ（実施例Ｋ）へと低減することにより、応力を５倍以上低減することができる。同じ傾向が、それぞれ実施例Ｏ及び実施例Ｎにも当てはまる。しかしながら、コーティング厚さを２０μｍ（実施例Ｋ）から１０μｍ（実施例Ｊ）へとさらに低減すると、応力は約２０％だけ低減する。３０μｍから２０μｍの間の応力減少と比較して、２０μｍから１０μｍの間の応力減少は最小である。このように、３０μｍ未満のコーティングを提供することにより、第１の部分及び第２の部分が遭遇する応力を最小限に抑えることができる。

【0371】

図３６において、横軸３６０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３６０３（例えば、ｙ軸）は、第１の部分とポリマーをベースとした部分との間の界面における最大歪みである。実施例Ｈの結果は曲線３６０５で示され、実施例Ｉの結果は曲線３６０７で示され、実施例Ｑの結果は曲線３６０９で示され、実施例Ｒの結果は曲線３６１５で示されている。実施例Ｑ及びＲは、５ｍｍ未満の平行平板距離を達成することができる。実施例Ｉは、実施例Ｈと比較して歪みを低減する。１０μｍのコーティング及び１００ＭＰａのポリマーをベースとした部分の弾性率を含む実施例Ｒは、３０μｍのコーティング及び３８ＭＰａのポリマーをベースとした部分の弾性率を含む実施例Ｑと比較して歪みを低減する。３０μｍ未満のコーティング（エチレン－酸コポリマー）を提供することにより、界面歪みを低減することができる。また、平行平板距離が約１５ｍｍ以上の実施例Ｒの歪みは、実施例Ｈ及びＩの歪みの中間である。図３５の応力結果を図３６の歪み結果と一緒に表示すると、３０μｍ未満（例えば、約１０μｍ～約２０μｍの範囲）のコーティングを提供することにより、小さい平行平板距離（例えば、約５ｍｍ以下）への折り畳み、より厚いコーティング又は第１の基板と比較して第１の部分の低減した歪み、及びポリマーをベースとした部分と第１の部分との間の同等の界面歪みを可能にすることができる。

【0372】

実施例Ｊ～Ｐの所定の平行平板距離を得るための力が図３７に報告されており、一方、実施例Ｈ～Ｉ、Ｌ、及びＯは、基板又はコーティングが図１０に示されている方向と反対に、屈曲部の外側にある場合に（例えば、基板又はコーティングは図１０の平行平板に面している）、図３８に報告されている。実施例Ｈ～Ｐの詳細が表１に提供されている。

【0373】

図３７において、横軸３７０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３７０３（例えば、ｙ軸）はニュートン（Ｎ）単位での力である。実施例Ｊ－Ｐの結果は、表１に提供されている曲線の参照番号とともに示されている。図３７の曲線はすべて、１０Ｎ未満、実際には１Ｎ未満の力を使用して、５ｍｍ以下の平行平板距離を達成することができることを示している。また、図３７の曲線はすべて、２Ｎ未満の力を使用して、３ｍｍ以下の平行平板距離を達成することができることを示している。曲線３７０５、３７０７、３７０９、３７１１、３７１３、及び３７１５は、実施例Ｊ－Ｏが、２．５Ｎ未満の力で、３ｍｍの平行平板距離及び２．４ｍｍの平行平板距離を実現することができることを示している。

【0374】

３０μｍのコーティングを維持しつつ、第１の部分と第２の部分との間の最小距離を２０ｍｍ（実施例Ｐ）から１０ｍｍ（実施例Ｏ）へ、５ｍｍ（実施例Ｌ）へと短くすることにより、１２ｍｍ以下（２０ｍｍでは１０ｍｍ又は５ｍｍへ）又は５ｍｍ以下（１０ｍｍでは５ｍｍへ）の平行平板距離を達成するための力の減少をもたらす。実際、実施例Ｊ～Ｌの５ｍｍの平行平板距離を達成する力は約０．１Ｎ以下に見える。コーティング厚さを３０μｍ（実施例Ｌ）から２０μｍ（実施例Ｋ）へ、１０μｍ（実施例Ｊ）へと短くすることにより、約５ｍｍ以下の平行平板距離を達成するための力が減少する。コーティング厚さを３０μｍ（実施例Ｏ）から２０μｍ（実施例Ｎ）へ、１０μｍ（実施例Ｍ）へと短くすることにより、約７ｍｍ以下の平行平板距離を達成するための力が減少する。

【0375】

図３８において、横軸３７０１（例えば、ｘ軸）は平行平板距離（ｍｍ単位）であり、縦軸３７０３（例えば、ｙ軸）は、ニュートン（Ｎ）単位での力であり、これは図３７と同じである。図３８の曲線はすべて、１０Ｎ未満の力を使用して、５ｍｍ以下の平行平板距離を達成することができることを示している。また、曲線３７０９、３７１５、及び３８０５は、７Ｎ未満の力で、３ｍｍ以下の平行平板距離を達成することができる。実施例Ｈ～Ｉ、Ｌ、及びＯの結果は、表１に示されている曲線の参照番号とともに示されている。図３８の縦軸３７０３には、それぞれ、実施例Ｌ及びＯに対応する曲線３７０９及び３７１５は、完全に重なっているように見える（例えば、スーパーインポーズ）。実施例Ｈ（曲線３８０５）と比較して、実施例Ｌ及びＯの力は、５ｍｍ未満の平行平板距離では３倍以上減少している。実施例Ｉ（曲線３８０７）と比較して、実施例Ｌ及びＯの力は、５ｍｍ以下の平行平板距離では約５倍以上減少している。第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分の上に配置されたコーティングを提供することにより、第１の基板を含む折り畳み可能な装置と比較して、約５ｍｍ以下の平行平板距離を達成する力を３倍以上低減することができる。コーティングを提供することにより、第１の基板を含む折り畳み可能な装置と比較して、折り畳み可能な装置の可撓性の改善を促進することができる。

【0376】

ペン落下試験を実施例Ｖ～Ｚで実施した。実施例Ｖ～Ｚはすべて、第１のガラスをベースとした部分２２１を含む第１の部分（組成物２）、第２のガラスをベースとした部分２３１を含む第２の部分（組成物２）、及び第１の部分２２１と第２の部分２３１との間の最小距離２４３を含み、該最小距離２４３は２０ｍｍであり、ポリマーをベースとした部分２４１が充填された。実施例Ｖ～Ｚはすべて、第１の部分及び第２の部分に丸みを帯びた端面を含み、曲率半径は、ポリマーの厚さ４１５なし、コーティング４１１なしの図４と同様、第１の厚さの半分に等しかった。第１の基板は、ガラスをベースとした基板（組成物１）を含む。第１の接着層２１１は、第１の基板又はコーティングを第１の部分、第２の部分、及びポリマーをベースとした部分に接着する、２５μｍの厚さのポリウレタンをベースとした接着剤（Ｈｅｎｋｅｌ社から入手可能なＴｅｒｏｓｏｎ ＰＵ ９２）を含んでいた。実施例Ｖ～Ｚはいずれも、コーティングを含んでいなかった。表２は、実施例Ｖ～Ｚの特性をまとめたものである。

【0377】

【表2】

【0378】

表２に報告されているように、実施例Ｗ及び実施例Ｘは、約２０ｃｍ以上（それぞれ、２０．５ｃｍ及び２１．７ｃｍ）のペン落下に耐えることができる。実施例Ｖは、約１４．５ｃｍのペン落下に耐えることができる。実施例Ｖを実施例Ｗ～Ｘと比較すると、弾性率を約２．３９ＭＰａから７００ＭＰａ超（それぞれ、７０５ＭＰａ及び７１０ＭＰａ）に増加させることにより、折り畳み可能な装置が耐えることができるペン落下高さが増加した。同様の傾向が、実施例Ｚ（２．３９ＭＰａの弾性率で９．８ｃｍのペン落下）及び実施例Ｙ（７１０ＭＰａの弾性率で１８．４ｃｍのペン落下）の間にも見られる。実施例Ｙ（３０μｍの第１の厚さ）を実施例Ｘ（１５０μｍの第１の厚さ）と比較すると、第１の厚さを増加させることにより、折り畳み式装置が耐えることができるペン落下高さが増加する。同様の傾向が、実施例Ｚ（５０μｍの第１の厚さ）と実施例Ｖ（１５０μｍの第１の厚さ）の間にも見られるが、第１の厚さの差が実施例Ｙと実施例Ｘとの間ほど大きくないことを所与とすれば、それほどではない。実施例Ｖ～Ｙは、約１０ｃｍ以上のペン落下に支障なく耐えることができる。表２には示されていないが、ペン落下試験は、第１の基板、コーティング、及び／又はポリマーをベースとした部分を含むが第１の部分又は第２の部分のいずれも含まないバッキング基板の領域にわたって実施された。実施例Ｖ～Ｘは、ポリマーをベースとした部分を含むが第１の部分又は第２の部分のいずれも含まない部分の上にペンを落下させた場合に、約４ｃｍ以上のペン落下に支障なく耐えることができた。

【0379】

実施例ＡＡ～ＱＱを平行平板装置内に配置し（例えば、図１０参照）、平行平板距離を６０ｍｍから、肉眼での検査で機械的不安定性（例えば、リンクル、バックリング）が基板に観察されるまで、又は３ｍｍの平行平板距離が得られるまで減少させた。実施例ＡＡ～ＱＱは、ポリマーをベースとした部分、第１の部分（例えば、第２の表面領域）、及び第２の部分（例えば、第４の表面領域）の上に配置された第２の接着剤に接着した、３，３００ＭＰａの弾性率を含む、１００μｍの厚さのＰＥＴシートを含んでいた。実施例ＡＡ～ＱＱは、７１，０００ＭＰａの弾性率及び表３～５に記載される第１の厚さ２２７を備えた、組成物２を含む、第１の部分２２１及び第２の部分２３１を含む。実施例ＡＡ～ＱＱでは、第１の端面及び第２の端面は、曲率半径が第１の厚さ２２７の半分に等しい、円形の端面（例えば、図４と同様）を含んでいた。実施例ＡＡ～ＱＱでは、基板は、７１，０００ＭＰａの弾性率及び表３～５に記載される基板厚さを備えた組成物１を含む。特に指定のない限り、基板は、２５μｍの厚さで２．４ＭＰａの弾性率を含み、８％未満の歪みまで線形弾性を示した第１の接着剤によって、第１の部分の第１の表面領域及び第２の部分の第３の表面領域に接着される。特に指定のない限り、ＰＥＴシートに接着する第２の接着剤は、５０μｍの厚さ及び０．１ＭＰａの弾性率を含んでいた。特に指定のない限り、ポリマーをベースとした部分２４１は、第１の部分の第２の表面領域及び第２の部分の第４の表面領域の上に２０μｍの厚さを含んでおり、２．４ＭＰａの弾性率を含み、８％未満の歪みまで線形弾性を示した。

【0380】

実施例ＡＡ～ＤＤの特性が表３に提示されている。実施例ＡＡは、２５ｍｍの平行平板距離でリンクルを示したが、実施例ＢＢは、１６ｍｍの平行平板距離でリンクルを示した。実施例ＣＣ～ＤＤは、機械的不安定性を示さなかった。第１の部分の厚さを１００μｍ（実施例ＡＡ）から７５μｍ（実施例ＢＢ）へと減少させると、機械的不安定性の開始は、より小さい平行平板距離まで遅れ、第１の部分の厚さをさらに減少させると（実施例ＣＣ～ＤＤ）、試験した平行平板距離の範囲で機械的不安定性が排除された。

【0381】

【表3】

【0382】

実施例ＥＥ～ＨＨの特性が表４に提示されている。実施例ＥＥ～ＨＨでは、ポリマーをベースとした部分及び第１の接着剤は、４ＭＰａの弾性率を含んでおり、少なくとも２０％の歪みに対して線形弾性を示した。実施例ＥＥは、１５ｍｍの平行平板距離でリンクルを示し、一方、実施例ＦＦ－ＨＨは機械的不安定性を示さなかった。表３の実施例ＡＡ～ＤＤと同様に、第１の部分の厚さを減少させると（例えば、実施例ＥＥの１００μｍから実施例ＦＦの７５μｍまで）、機械的不安定性の開始は、より小さい平行平板距離まで遅れ、及び／又は試験した平行平板距離の範囲で機械的不安定性が排除された（実施例ＧＧ－ＨＨ）。実施例ＡＡを実施例ＥＥと比較すると（両方とも１００μｍの第１の部分の厚さを含む）、ポリマーをベースとした部分と線形弾性のより大きい領域（８％未満から少なくとも２０％まで）を含む第１の接着剤とを交換し、弾性率（２．４ＭＰａから４ＭＰａまで）を増加させると、機械的不安定性の開始がより小さい平行平板距離へと遅延した。同様に、実施例ＢＢを実施例ＦＦと比較すると（いずれも７５μｍの第１の部分の厚さを含む）、ポリマーをベースとした部分及び第１の接着剤を、線形弾性のより大きい領域を含むものと置換し、弾性率を増加させると、実施例ＢＢの機械的不安定性は実施例ＦＦでは観察されなかった。

【0383】

【表4】

【0384】

実施例ＩＩ～ＫＫの特性が表５に提示されている。実施例ＩＩ～ＫＫでは、第１の接着厚さは５μｍであり、ポリマーをベースとした部分は、第２の表面領域及び第４の表面領域にわたり５μｍの厚さを含んでいた。実施例ＫＫでは、ポリマーをベースとした部分及び第１の接着剤は、４ＭＰａの弾性率を含んでおり、少なくとも２０％の歪みに対して線形弾性を示した。実施例ＩＩは、１２ｍｍの平行平板距離でリンクルを示し、一方、実施例ＪＪ～ＫＫは機械的不安定性を示さなかった。実施例ＡＡを実施例ＩＩと比較すると（いずれも１００μｍの第１の部分の厚さを含む）、第１の接着剤及びポリマーをベースとした部分の厚さを低減することにより（２５μｍから５μｍまで）、機械的不安定性の開始を遅延させた（２５ｍｍ～１２ｍｍの平行平板距離から）。実施例ＢＢを実施例ＪＪと比較すると（いずれも７５μｍの第１の部分の厚さを含む）、第１の接着剤及びポリマーをベースとした部分の厚さを低減することにより、１６ｍｍにおける機械的不安定性の開始は実施例ＪＪでは観察されなかった。実施例ＩＩを実施例ＫＫと比較すると（いずれも１００μｍの第１の部分の厚さを含む）、ポリマーをベースとした部分及び第１の接着剤を線形弾性のより大きい領域を含むものと置換し、弾性率を増加させることにより、実施例ＩＩの機械的不安定性は実施例ＫＫでは観察されなかった。

【0385】

【表5】

【0386】

実施例ＬＬ～ＯＯの特性もまた表５に提示されている。実施例ＬＬ及び実施例ＮＮでは、第１の接着剤は、１，０００ＧＰａの弾性率を含んでいた。実施例ＭＭ及び実施例ＯＯでは、５，０００ＧＰａの弾性率を含んでいた。実施例ＮＮ～ＯＯでは、第１の接着剤は、少なくとも２０％の歪みに対して線形弾性を示した。実施例ＮＮ～ＯＯでは、ポリマーをベースとした部分は、４ＭＰａの弾性率を含んでおり、少なくとも２０％の歪みに対して線形弾性を示した。実施例ＬＬは、２７ｍｍの平行平板距離でリンクルを示したが、機械的不安定性は、実施例ＭＭ～ＯＯでは観察されなかった。実施例ＬＬを実施例ＭＭと比較して、第１の接着剤の弾性率を増加させると（１，０００ＭＰａから５，０００まで）、２７ｍｍでの機械的不安定性の開始は実施例ＭＭでは観察されなかった。実施例ＬＬを実施例ＮＮと比較して、ポリマーをベースとした部分を線形弾性のより大きい領域を含むものと交換し、弾性率を増加させることにより、実施例ＬＬの機械的不安定性は実施例ＮＮでは観察されなかった。

【0387】

実施例ＰＰ～ＱＱの特性もまた表５に提示されている。実施例ＰＰ～ＱＱは、第１の接着剤及びポリマーをベースとした部分を含んでおり、少なくとも２０％の歪みに対する線形弾性、及び４ＭＰａの弾性率を示した。実施例ＰＰでは、第２の接着剤は、０．１ＭＰａの弾性率及び５０μｍの厚さを含んでいた。実施例ＱＱでは、第２の接着剤は、０．０５ＭＰａの弾性率及び５０μｍの厚さを含んでいた。実施例ＰＰは、１５ｍｍの平行平板距離でリンクルを示したが、機械的不安定性は、実施例ＱＱでは観察されなかった。実施例ＰＰを実施例ＱＱと比較して、第２の接着剤の弾性率を低下させると、実施例ＰＰの機械的不安定性は実施例ＱＱでは観察されなかった。

【0388】

上記の観察結果を組み合わせて、第１の部分及び第２の部分を含み、かつ低い有効最小曲げ半径、高い耐衝撃性、低い閉鎖力、及び低速故障を含む折り畳み可能な装置を提供することができる。折り畳み可能な装置は、ガラスをベースとした部分、セラミックをベースとした部分及び／又はポリマーをベースとした部分を含む第１の部分及び第２の部分を含むことができ、これにより、折り畳み可能な装置に良好な耐衝撃性及び／又は良好な穿刺抵抗を提供することができる。第１の部分及び／又は第２の部分は、１つ以上の圧縮応力領域を含むガラスをベースとした部分及び／又はセラミックをベースとした部分を含むことができ、これにより、増加した耐衝撃性及び／又は増加した穿刺抵抗をさらに提供することができる。ガラスをベースとした基板及び／又はセラミックをベースとした基板を含む基板を提供することにより、良好な折り畳み性能を同時に促進しつつ、増加した耐衝撃性及び／又は増加した穿刺抵抗を提供することもできる。第１の部分の第１の端面及び／又は第２の部分の第２の端面は、鈍角の端面を含むことができ、これは、例えば、第１の部分及び／又は第２の部分とポリマーをベースとした部分との間の界面での応力集中を最小化することができる。第１の部分及び／又は第２の部分に鈍角の端面を提供することにより、ポリマーをベースとした部分と第１の部分及び／又は第２の部分との間の接着に基づく故障（例えば、剥離）の発生を低減することができる。他の実施形態では、第１の端部及び／又は第２の端部は、鈍角にする必要がない。

【0389】

第１の部分と第２の部分との間の領域は、ポリマーをベースとした部分を含むことができ、これにより、良好な折り畳み性能（例えば、約１ｍｍ～約２０ｍｍ、例えば約５ｍｍ～約１０ｍｍの範囲の有効最小有効曲げ半径）を提供することができる。第１の部分と第２の部分との間に小さい最小距離（例えば、約３０ｍｍ以下、例えば、約５ｍｍ～約２０ｍｍ、又は５ｍｍ～約１０ｍｍ）を提供することにより、良好な折り畳み性能をさらに提供することができるだけでなく、折り畳み可能な装置の耐衝撃性の低い領域（例えば、第１の部分及び／又は第２の部分を含む折り畳み可能な装置の部分と比較した、ポリマーをベースとした部分を含む折り畳み可能な装置の部分）を最小限に抑えることができる。幾つかの実施形態では、コーティングは、少なくともポリマーをベースとした部分の上（例えば、ポリマーをベースとした部分とユーザとの間）に配置することができる。第１の部分及び／又は第２の部分の表面領域と接触するポリマーをベースとした部分を提供することにより、例えば、コーティング及び／又は基板の中立軸をコーティング及び／又は基板のミッドプレーンよりもポリマーをベースとした部分の近くにシフトさせることによって、コーティング及び／又は基板における折り畳みによって誘発される応力を低減することができる。第１の部分及び第２の部分の両方に接触するポリマーをベースとした部分をさらに提供することにより、画像を見るときの光学的歪み（例えば、ディスプレイデバイス又は他の電子デバイスからの）を低減することができる。同じ方向に面している一対の表面領域と接触するポリマーをベースとした部分をさらに提供することにより、第１の部分及び第２の部分を覆う接触面を提供して、構成要素（例えば、基板、コーティング、剥離ライナ、ディスプレイデバイス）を結合するためのその長さ及び／又は幅にわたって一貫した特性を備えた接触面を提示することができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分及び／又は接着層（例えば、第１、第２、第３）は、第１の部分及び／又は第２の部分の屈折率と実質的に一致しうる屈折率（例えば、約０．１以下の差の大きさ）を含むことができ、これにより、光学的歪みを最小限に抑えることができる。第１の部分の第１の表面領域と第２の部分の第３の表面領域及び／又は第１の部分の第２の表面領域と第２の部分の第４の表面領域に接触するポリマーをベースとした部分を提供することにより、折り畳み可能な装置の信頼性をさらに高めることができる。例えば、対応する端面を超えて延びる第１の部分及び／又は第２の部分との間の一貫した界面を提供することにより、界面の歪み及び／又は応力を低減し、対応する部分への応力集中を低減することができる。さらなる実施形態では、機械的不安定性の発生は、第１の部分の第１の表面領域、第１の部分の第２の表面領域、第２の部分の第３の表面領域、又は第２の部分の第４の表面領域のうちの１つ以上からポリマーをベースとした部分の小さい厚さ（例えば、約５ミリメートル以下、約１ミリメートル～約５ミリメートル）を提供することによって低減することができる。さらなる実施形態では、第１の部分から第２の部分まで延びるポリマーをベースとした部分及び／又は接着剤部分の接触面を提供することにより、他の構成要素が接着するための均一な界面を提供することができ、これにより、応力集中を低減し、折り畳みによって誘発される故障の発生を低減することができる。

【0390】

少なくともポリマーをベースとした部分の上（例えば、ポリマーをベースとした部分とユーザとの間）に配置された無機層（例えば、ガラスをベースとした基板、セラミックをベースとした基板、サファイア）を提供することにより、同時に良好な折り畳み性能を促進しつつ、増加した耐衝撃性及び／又は増加した穿刺抵抗を提供することもできる。例えば、無機層は、折り畳み可能な装置がポリマーをベースとした部分を含む折り畳み可能な装置の中央部分が耐えることができるペン落下高さを増加させることができる。無機層の幅を制限すること（例えば、第１の部分と第２の部分との間の最小距離の約１００％～約２００％）により、ペン落下性能の増加をもたらすことができ、基板内の材料の量を最小限に抑えることができる。さらなる実施形態では、無機層は、例えば、基板を受け入れるように構成された第１の部分及び／又は第２の部分の凹み部分を提供することにより、折り畳み可能な装置の残りの部分と一致した主面を提供することができる。第１の部分、第２の部分、及び無機層を含む一致した主面を提供することにより、光学的歪みを低減することができる折り畳み可能な装置の滑らかな表面を可能にすること、及び／又は折り畳み可能な装置を強くするユーザのための知覚される連続表面を可能にすることができる。

【0391】

折り畳み可能な装置が曲がった構成にあるときに中立応力構成を提供することにより、折り畳み可能な装置を所定の平行平板距離まで折り畳む力を低減することができる。さらには、折り畳み可能な装置が曲がった状態にあるときに中立応力構成を提供することにより、通常の使用条件中にポリマーをベースとした部分が経験する最大応力及び／又は最大歪みを低減することができ、これにより、例えば、折り畳み可能な装置の耐久性の向上及び／又は疲労の低減を可能にすることができる。幾つかの実施形態では、ポリマーをベースとした部分は、低い（例えば、実質的にゼロ及び／又は負の）熱膨張係数を含むことができ、これにより、ポリマーをベースとした部分の硬化中の体積変化によって生じる反りを軽減することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、硬化の結果として膨張するポリマーをベースとした部分を提供することによって生成することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、ポリマーをベースとした部分を曲がった構成で硬化させることによって生成することができる。幾つかの実施形態では、中立応力構成は、リボンを高温で折り畳むことによって生成することができる（例えば、リボンが約１０^４パスカル秒及び約１０^７パスカル秒の範囲の粘度を含む場合）。

【0392】

コーティングを提供することにより、第１の部分、第２の部分、及び／又はポリマーをベースとした部分の折り畳みによって誘発される応力を低減することができる。コーティングを提供することにより、小さい平行平板距離を達成するための力を低減することができる（例えば、１０ｍｍの平行平板距離を達成するために約１０ニュートン（Ｎ）以下、約３ｍｍの平行平板距離を達成するために約３Ｎ以下）。コーティングを提供することにより、同時に良好な折り畳み性能を促進しつつ、折り畳み可能な装置の耐スクラッチ性、耐衝撃性、及び／又は穿刺抵抗も向上させることができる。幾つかの実施形態では、基板は、少なくともポリマーをベースとした部分の上（例えば、ポリマーをベースとした部分とユーザとの間）に配置することができる。コーティングがガラスをベースとした基板の弾性率より小さい弾性率を有する場合、及び／又はコーティングが約２００μｍ以下の厚さを有する場合、コーティングは、例えば、ポリマーをベースとした部分の中立軸をコーティング（例えば、ユーザに面した表面）から遠ざかるようにシフトさせることによって、小さい力で小さい平行平板距離の達成を可能にすることができる。さらには、基板上にコーティングを提供することにより、折り畳み可能な装置の故障時（例えば、設計限界を超えて押された場合）に破片の低速放出をもたらすことができる、及び／又は約３以下のアスペクト比を含む破片を含むことができる。

【0393】

本明細書で用いられる方向用語（例えば、上、下、右、左、前、後、上部、底部）は、描かれた図を参照してのみ作られており、絶対的な方向を意味することは意図していない。

【0394】

さまざまな開示される実施形態は、その実施形態に関連して記載される特徴、要素、又は工程を包含しうることが認識されよう。また、特徴、要素、又は工程は、一実施形態に関連して説明されているが、図示されていないさまざまな組合せ又は順列での代替的な実施形態と交換すること又は組み合わせることができることも認識されよう。

【0395】

本明細書で用いられる場合、用語「ｔｈｅ」、「ａ」、又は「ａｎ」は、「少なくとも１つ」を意味し、明示的に反対の指示がない限り、「１つのみ」に限定されるべきではないことが理解されるべきである。例えば、「ある１つの（ａ）構成要素」への言及は、文脈がそうでないことを明確に示さない限り、そのような構成要素を２つ以上有する実施形態を含む。同様に、「複数」は、「１つより多い」ことを示すことを意図している。

【0396】

本明細書で用いられる場合、「約」という用語は、量、サイズ、配合、パラメータ、及び他の量及び特性が正確ではなく、かつ、正確である必要はなく、許容誤差、変換係数、四捨五入、測定誤差など、並びに当業者に知られている他の要因を反映して、必要に応じて近似及び／又はより大きく又はより小さくてもよいことを意味する。本明細書では、範囲は、「約」１つの特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値までとして表現することができる。このような範囲が表現される場合、実施形態は、その１つの特定の値から及び／又は他方の特定の値までを含む。同様に、例えば先行詞「約」の使用によって、値が近似値として表される場合、その特定の値は別の実施形態を形成することが理解されよう。明細書の範囲の数値又は端点が「約」を記載しているかどうかにかかわらず、範囲の数値又は端点は、「約」によって修飾されたものと、修飾されていないものの２つの実施形態を含むことが意図されている。さらには、範囲の各々の端点は、他の端点に関連して及び他の端点とは独立してのいずれにおいても重要であることが理解されよう。

【0397】

本明細書で用いられる用語「実質的な」、「実質的に」、及びそれらの変形は、記載された特徴が値又は説明に等しいか又はほぼ等しいことを示すことが意図されている。例えば、「実質的に平坦な」表面は、平坦な又はほぼ平坦な表面を示すことが意図されている。さらには、上記に定義されるように、「実質的に同様」は、２つの値が等しいかほぼ等しいことを示すことが意図されている。幾つかの実施形態では、「実質的に同様」とは、互いの約１０％以内、例えば、互いの約５％以内、又は互いの約２％以内などの値を意味しうる。

【0398】

特に明記しない限り、本明細書に記載の任意の方法は、その工程が特定の順序で実行されることを必要とすると解釈されることは、決して意図していない。したがって、方法クレームがその工程が従うべき順序を実際に列挙していないか、又は工程が特定の順序に限定されるべきであることが特許請求の範囲又は明細書に具体的に述べられていない場合には、いかなる特定の順序も、推測されることは、決して意図していない。

【0399】

特定の実施形態のさまざまな特徴、要素、又は工程は、「含む」という移行句を使用して開示されうるが、「～からなる」又は「～から実質的になる」という移行句を使用して説明されうるものを含む代替的な実施形態態が暗示されることが理解されるべきである。したがって、例えば、Ａ＋Ｂ＋Ｃを含む装置の暗黙の代替的な実施形態には、装置がＡ＋Ｂ＋Ｃからなる実施形態と、装置が実質的にＡ＋Ｂ＋Ｃからなる実施形態とが含まれる。本明細書で用いられる場合、「含む」及び「包含する」という用語、並びにそれらの変形は、特に明記しない限り、同義であり、オープンエンドであるものとして解釈されたい。

【0400】

上記実施形態、並びにそれらの実施形態の特徴は例示であり、本開示の範囲から逸脱することなく、単独で、又は本明細書に提供されている他の実施形態の１つ以上の特徴と組み合わせて、提供することができる。

【0401】

本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、本開示に対してさまざまな修正及び変形がなされうることは、当業者にとって明白であろう。したがって、本開示は、添付の特許請求の範囲及びそれらの等価物の範囲内にある限り、本明細書の実施形態の修正及び変形を包含することが意図されている。

【0402】

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

【0403】

実施形態１
折り畳み可能な装置において、
第１の表面領域及び該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域、前記第１の表面領域と前記第２の表面領域との間に画成された第１の端面、並びに前記第１の表面領域と前記第２の表面領域との間に画成された第１の厚さを含む、第１の部分、
第３の表面領域及び該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域、前記第３の表面領域と前記第４の表面領域との間に画成された第２の端面、並びに前記第３の表面領域と前記第４の表面領域との間に画成された第２の厚さを含む、第２の部分、及び
前記第１の端面と前記第２の端面との間に位置づけられたポリマーをベースとした部分であって、該ポリマーをベースとした部分が前記第１の部分の前記第２の表面領域及び前記第２の部分の前記第４の表面領域と接触し、前記ポリマーをベースとした部分が第３の接触面と該第３の接触面とは反対側の第４の接触面とを含み、かつ前記ポリマーをベースとした部分が前記第１の部分の前記第２の表面領域から前記第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む、ポリマーをベースとした部分
を含む、折り畳み可能な装置。

【0404】

実施形態２
第１の接触面と該第１の接触面とは反対側の第２の接触面とを含む第１の接着層をさらに含み、前記第２の接触面が前記第１の表面領域及び前記第３の表面領域に面している、実施形態１に記載の折り畳み可能な装置。

【0405】

実施形態３
前記第１の接触面と前記第２の接触面との間に画成された前記第１の接着層の厚さが、約１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲にある、実施形態２に記載の折り畳み可能な装置。

【0406】

実施形態４
前記ポリマーをベースとした部分の前記第３の接触面が、前記第１の接着層の前記第２の接触面と接触する、実施形態２又は３に記載の折り畳み可能な装置。

【0407】

実施形態５
前記第１の部分の前記第１の表面領域が前記第１の接着層の前記第２の接触面と接触し、かつ前記第２の部分の前記第３の表面領域が前記第１の接着層の前記第２の接触面と接触する、実施形態２から４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0408】

実施形態６
前記第１の接着層が、約０．００１メガパスカル～約０．５メガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施形態２から５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0409】

実施形態７
前記第１の接着層が、約２５０メガパスカル～約４ギガパスカルの範囲の弾性率を含む、実施形態２から５のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0410】

実施形態８
第１の主面と該第１の主面とは反対側の第２の主面との間に画成された第１の基板厚さを含む第１の基板をさらに含み、前記第１の基板の前記第２の主面が、前記第１の部分の前記第１の表面領域及び前記第２の部分の前記第３の表面領域に面している、実施形態１から７のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0411】

実施形態９
前記第１の部分、前記第２の部分、及び前記ポリマーをベースとした部分の上に配置されたコーティングをさらに含み、前記コーティングが、約０．１マイクロメートル～約２００マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む、実施形態１から８のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0412】

実施形態１０
前記コーティングが、エチレン－酸コポリマー、ポリウレタン系ポリマー、アクリレート樹脂、又はメルカプトエステル樹脂のうちの１つ以上を含む、実施形態９に記載の折り畳み可能な装置。

【0413】

実施形態１１
前記折り畳み可能な装置が、約２０ミリメートルの有効曲げ半径を実現する、実施形態１から１０のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0414】

実施形態１２
前記第１の部分の前記第１の端面と前記第２の部分の前記第２の端面との間の最小距離が、有効最小曲げ半径の約２倍から約６０ミリメートルまでの範囲にある、実施形態１から１１のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0415】

実施形態１３
前記第１の部分の前記第１の端面と前記第２の部分の前記第２の端面との間の最小距離が、約１ミリメートル～約１００ミリメートルの範囲にある、実施形態１から１２のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0416】

実施形態１４
前記ポリマーをベースとした部分がエラストマーを含む、実施形態１から１３のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0417】

実施形態１５
前記第１の端面が第１の鈍角の端面を含み、前記第２の端面が第２の鈍角の端面を含む、実施形態１から１４のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0418】

実施形態１６
前記第１の端面の前記第１の鈍角の端面が曲面端面を含み、前記第２の端面の前記第２の鈍角の端面が曲面端面を含む、実施形態１５に記載の折り畳み可能な装置。

【0419】

実施形態１７
前記折り畳み可能な装置が、前記第１の部分の位置から１５センチメートルのペン落下高さで故障に耐える、実施形態１から１６のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0420】

実施形態１８
前記折り畳み可能な装置を平らな構成から平行平板距離約１０ミリメートルまで曲げる力が、約１０ニュートン以下である、実施形態１から１７のいずれかに記載の折り畳み可能な装置。

【0421】

実施形態１９
折り畳み可能な装置を製造する方法において、該方法が、
第１の部分を第２の部分から離間して配置する工程であって、前記第１の部分が第１の表面領域と該第１の表面領域とは反対側の第２の表面領域とを含み、前記第１の部分の第１の端面が前記第１の表面領域と前記第２の表面領域との間に画成され、前記第２の部分が第３の表面領域と該第３の表面領域とは反対側の第４の表面領域を含み、かつ前記第２の部分の第２の端面が前記第３の表面領域と前記第４の表面領域との間に画成されている、工程、
前記第１の部分と前記第２の部分との間に画成された領域に充填して、屈折率を含むポリマーをベースとした部分を形成する工程であって、前記ポリマーをベースとした部分が前記第１の部分の前記第１の表面領域及び前記第２の部分の前記第３の表面領域の少なくとも一部を覆い、前記ポリマーをベースとした部分が、前記第１の部分の前記第１の表面領域から前記第１の部分の第１の厚さの方向に測定して約５０マイクロメートル以下のポリマー厚さを含む、工程
を含む、方法。

【0422】

実施形態２０
前記第１の部分、前記第２の部分、及び前記ポリマーをベースとした部分の上にコーティングを配置する工程をさらに含み、前記コーティングが、約０．１マイクロメートル～約３０マイクロメートルの範囲のコーティング厚さを含む、実施形態１９に記載の方法。

【符号の説明】

【0423】

１０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、８０１ 折り畳み可能な装置
１０２ 折り畳み軸
１０３ 幅
１０５ 長さ
２０３ 第１の基板
２２１ 第１の部分
２２３ 第１の表面領域
２２５ 第２の表面領域
２２７ 第１の厚さ
２３１ 第２の部分
２４１ ポリマーをベースとした部分
４１１ コーティング
４２１ バッキング基板
５０３ 剥離ライナ
６０３ ディスプレイデバイス
７０３ 第２の基板
７３７ 無機層
９０１ 折り畳み可能な試験装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】

【図33】

【図34】

【図35】

【図36】

【図37】

【図38】

【図39】

【国際調査報告】