(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2022-12-22
(54)【発明の名称】ＵＶ処理のための光学特性及び方法
(51)【国際特許分類】
A61L 2/10 20060101AFI20221215BHJP
【ＦＩ】
A61L2/10
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022523848
(86)(22)【出願日】2020-03-06
(85)【翻訳文提出日】2022-06-21
(86)【国際出願番号】 US2020021437
(87)【国際公開番号】W WO2021080638
(87)【国際公開日】2021-04-29
(31)【優先権主張番号】62/924,324
(32)【優先日】2019-10-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】520378012
【氏名又は名称】ユーブイ パートナーズ，インコーポレイティド
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100092624
【弁理士】
【氏名又は名称】鶴田 準一
(74)【代理人】
【識別番号】100114018
【弁理士】
【氏名又は名称】南山 知広
(74)【代理人】
【識別番号】100153729
【弁理士】
【氏名又は名称】森本 有一
(74)【代理人】
【識別番号】100126848
【弁理士】
【氏名又は名称】本田 昭雄
(72)【発明者】
【氏名】デイビッド ダブリュ．バールマン
【テーマコード（参考）】
4C058
【Ｆターム（参考）】
4C058AA23
4C058BB06
4C058EE26
4C058KK02
4C058KK23
4C058KK27
4C058KK28
(57)【要約】
ＵＶ源からのＵＶ光を分配するのを支援する特定の光学特性を提供し、これにより、定義されたＵＶ光パターン及び効果的なＵＶ消毒を達成し得るように、ＵＶ光媒体を改善することができる。ＵＶ光媒体の特性は、媒体に添加材を装填すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、ＵＶ光媒体材料のタイプ、厚さ、形状、層、又は表面テキスチャを変更することによって選択し、改善することができる。媒体は、ＵＶ処理又は消毒プロセス中にＵＶ光に晒されるいかなる材料であってもよい。ＵＶ光媒体は、ＵＶホットスポットを低減する概ね均一なＵＶ光パターンを形成することができる。ＵＶ光媒体は、同じ又はより低いＵＶ源強度でより確固たる消毒を可能にするために、標的領域にＵＶ光を拡散することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ＵＶ消毒デバイスであって、ハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジング内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
【請求項2】
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ2マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料である、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項3】
ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有している、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項4】
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ2マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料であり、且つ前記ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有しており、これらが組み合わさって前記ＵＶ－Ｃレンズの形態、前記概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンに貢献する、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項5】
ＵＶ－Ｃレンズの内側表面がＵＶブロッキングパターンを含む、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項6】
ＵＶ－Ｃレンズの外側表面がテキスチャ加工されている、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項7】
ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズであって、前記パターン化レンズが、レンズと、
前記レンズの表面に被着されたＵＶブロッキングパターンであって、前記ＵＶブロッキングパターンが、レンズによってレンズ表面全体にわたって入射するＵＶ光を一様にし、ＵＶ光が所定の部分へ向かって集中するのを防止するように形成されている、ＵＶブロッキングパターンと
を含む、ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズ。
【請求項8】
前記ＵＶブロッキングパターンは、レンズを通した比較的均一な光分布をもたらし、これにより前記レンズ内のＵＶホットスポットを低減する、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項9】
前記ＵＶブロッキングパターン及び前記レンズを通過するＵＶ光によって生成されたＵＶ光パターンが概ね均一であるように、前記ＵＶブロッキングパターンの形状、サイズ、及び材料が選択される、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項10】
前記ＵＶブロッキングパターンの特徴が、ＵＶ源の形状にしたがって選択される、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項11】
前記ＵＶブロッキングパターンの特徴が、ＵＶ源の測定されたＵＶ光出力マッピング、及び仮想環境内のＵＶ源のシミュレートされたＵＶ光出力マッピングのうちの少なくとも一方にしたがって選択される、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項12】
前記ＵＶブロッキングパターンが、前記レンズの表面に被着された薄膜及び被膜のうちの少なくとも１つである、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項13】
前記ＵＶブロッキングパターンが、前記レンズの表面上にエッチングされたパターンである、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項14】
前記ＵＶブロッキングパターンが種々異なる光学特徴を有する複数のゾーンを含む、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項15】
複数のゾーンが、より高い強度のＵＶ光を受容する一次ゾーンと、より低い強度のＵＶ光を受容する二次ゾーンとを含み、それぞれのゾーン内の前記パターン化レンズを通るＵＶ光が、ＵＶ消毒システム内の通常の使用を通して、ＵＶレンズを変形、損傷、又は変色させ得る閾値を下回ったままにするように、前記複数のゾーンが協働する、請求項７に記載のパターン化レンズ。
【請求項16】
ヒューマンインターフェイスデバイスであって、前記ヒューマンインターフェイスデバイスのＵＶ拡散特性を改善するためのＵＶ拡散マイクロ粒子を装填されたＵＶ透過ハウジングを含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項17】
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボードキー、マウス、カウンタートップ、及びデスク表面のうちの少なくとも１つである、請求項１６に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項18】
前記ＵＶ透過ハウジングが約７０％のＰＦＡと３０重量％のＳｉＯ2マイクロビードとから形成されている、請求項１６に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項19】
前記ＳｉＯ2マイクロビードが銅を有している、請求項１８に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項20】
ＵＶ消毒デバイスと一緒に使用するための複合レンズであって、前記複合レンズが、第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
複合レンズ。
【請求項21】
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって選択される、請求項２０に記載の複合レンズ。
【請求項22】
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、請求項２０に記載の複合レンズ。
【請求項23】
前記一次及び二次レンズが接合されている請求項２０に記載の複合レンズであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、請求項２０に記載の複合レンズ。
【請求項24】
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、請求項２０に記載の複合レンズ。
【請求項25】
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、請求項２０に記載の複合レンズ。
【請求項26】
ＵＶ消毒デバイスであって、ハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされた複合レンズであって、前記複合レンズが、前記ＵＶ－Ｃ源のより近くでは低減された強度でＵＶ光パターンを生成し、標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように形成されている、複合レンズと、
を含み、前記複合レンズが、
第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
ＵＶ消毒デバイス。
【請求項27】
前記ＵＶ－Ｃ源が前記標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、複合レンズを含む前記ＵＶ消毒デバイスが、前記標的消毒領域に対して非垂直角度に位置決めされている、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項28】
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって、選択される、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項29】
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項30】
前記一次及び二次レンズが接合されている請求項２６のＵＶ消毒デバイスであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項31】
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項32】
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項33】
前記一次レンズが補助プリズムを含み、前記補助プリズムが、前記標的消毒領域でより均一な光分布を生成するように形成された、前記標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している、請求項２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項34】
ＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズであって、前記可変厚レンズが、ＵＶ光入力面と、
ＵＶ光出力面と、
ＵＶ光入力面とＵＶ光出力面との間のＵＶ光媒体であって、前記ＵＶ光媒体の厚さが、ＵＶ光入力面に入射したＵＶ光に応じて、ＵＶ出力面を通る概ね均一な強度を有する拡散ＵＶエネルギーパターンを提供するように選択される、ＵＶ光媒体と、
を含む、ＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズ。
【請求項35】
前記ＵＶ出力面を通る概ね均一な強度が、ＵＶ消毒デバイス内の通常の使用を通して、ＵＶホットスポットが前記可変厚レンズ上に形成されるのを防止する、請求項３４に記載の可変厚レンズ。
【請求項36】
前記可変厚レンズが前記ＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、ＵＶ源の形状及び位置にしたがって、前記ＵＶ光媒体の厚さが選択される、請求項３４に記載の可変厚レンズ。
【請求項37】
前記ＵＶ光入力面の曲率、前記ＵＶ光出力面の曲率、ＵＶ光媒体の厚さ、前記ＵＶ光媒体内の光学変向特性を有する添加材、及びＵＶ光出力面の表面テキスチャの組み合わせが、前記拡散ＵＶエネルギーのパターンを形成するように選択される、請求項３４に記載の可変厚レンズ。
【請求項38】
前記ＵＶ光媒体の厚さが、測定されたＵＶ光出力マッピング、及び仮想環境内のシミュレートされたＵＶ光出力マッピングのうちの少なくとも一方に応じて選択される、請求項３４に記載の可変厚レンズ。
【請求項39】
ＵＶ源と併せて動作可能なヒューマンインタフェースデバイスであって、前記ヒューマンインターフェイスデバイスは、定義されたＵＶ光パターンに従って当該ハウジングによって入射したＵＶ光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成された、ハウジング
を含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項40】
前記ハウジングの光学特性が、前記ハウジングに添加材を装填すること、前記ハウジングの少なくとも一部に異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、及びハウジング材料のタイプ、厚さ、形状、層、又はテキスチャを変更すること、のうちの１つ又は２つ以上の組み合わせによって、選択される、請求項３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項41】
前記光学特性が、前記ハウジングによって入射したＵＶ光に応じて、所期ＵＶ消毒線量を前記ハウジングの露出面に提供することを含む、請求項３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項42】
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボード、マウス、チューブ、及びデバイスケースのうちの少なくとも１つである、請求項３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
【請求項43】
ＵＶ源と併せて動作可能なＵＶ光分配改善型カウンタートップであって、前記ＵＶ光分配改善型カウンタートップが、露出面を有するカウンタートップと、
前記カウンタートップと接合されたＵＶ透過スキンであって、前記ＵＶ透過スキンが、前記カウンタートップの露出面に沿った、定義されたＵＶ光パターンにしたがって、ＵＶ透過スキンによって、入射したＵＶ光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成されている、ＵＶ透過スキンと
を含む、
ＵＶ光分配改善型カウンタートップ。
【請求項44】
光学特性が、前記ＵＶ透過スキンにＵＶ透過マイクロ粒子を装填すること、前記ＵＶ透過スキンの厚さを変更すること、及びＵＶ透過スキンの表面テキスチャを変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって選択される、請求項４３に記載のＵＶ光分配改善型カウンタートップ。
【請求項45】
ヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにＵＶ光を分配するヒューマンインターフェイスデバイスに接合可能な多層フィルムであって、前記多層フィルムが、前記多層フィルムの長さに沿ってＵＶ光を透過させるためのＵＶ透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された１つの表面と、人間相互作用に晒された１つの表面とを有するインターフェイス層と、
を含み、
前記輸送層が、前記輸送層内のＵＶ光をインターフェイス層へ再指向する第１量のＵＶ光変更マイクロ粒子を含み、
インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために露出面へ拡散する第２量のＵＶ光変化マイクロ粒子を含む、
多層フィルム。
【請求項46】
前記輸送層が第１厚を有し、前記インターフェイス層が第２厚を有しており、前記輸送層の第１厚が、前記輸送層内でＵＶ光を前記インターフェイス層へ再指向することに貢献し、前記インターフェイス層の第２厚が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために前記露出面へ拡散することに貢献する、請求項４５に記載の多層フィルム。
【請求項47】
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のＵＶ光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記輸送層への所定のＵＶ入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分な線量を与える多層フィルム形態を提供する、請求項４６に記載の多層フィルム。
【請求項48】
定義されたＵＶ入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のＵＶ光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なＵＶ光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、ＵＶ光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なＵＶ光がある、請求項４６に記載の多層フィルム。
【請求項49】
テキスタイル製品であって、織り合わされてファブリックになった複数の繊維であって、前記複数の繊維の部分集合が、改善型ＵＶ透過繊維であり、前記改善型ＵＶ透過繊維が前記ファブリックを通るＵＶ光貫通量を増大させ、前記ファブリックの内部で捕捉された生物活性を処理するように形成されている、
テキスタイル製品。
【請求項50】
前記テキスタイル製品がラボコート及び実験用座席のうちの少なくとも一方である、請求項４９に記載のテキスタイル製品。
【請求項51】
前記改善型ＵＶ透過繊維がＰＦＡ、ＦＥＰ、及びＰＴＦＥのうちの少なくとも１種から製造されている、請求項４９に記載のテキスタイル製品。
【請求項52】
前記改善型ＵＶ透過繊維が、ＵＶ光拡散特性を高めるために、ＳｉＯ2マイクロ粒子を装填されている、請求項５１に記載のテキスタイル製品。
【請求項53】
前記改善型ＵＶ透過繊維の形状及びサイズが、可撓性及び摩耗特徴にしたがって可変である、請求項４９に記載のテキスタイル製品。
【請求項54】
当該ＵＶ消毒充電器上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにＵＶ光を分配するＵＶ消毒充電器に接続可能な多層媒体であって、前記多層媒体が、前記多層媒体の長さに沿ってＵＶ光を透過させるためのＵＶ透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された１つの表面と、前記ヒューマンインターフェイスデバイスの処理のために晒された１つの表面とを有するインターフェイス層と
を含み、
前記輸送層が、前記ＵＶ光を前記輸送層に沿って導くＵＶ光特性を有しており、
前記インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、前記消毒のために露出面へ拡散するＵＶ光学特性を有している、
多層媒体。
【請求項55】
前記輸送層が第１厚を有し、前記インターフェイス層が第２厚を有しており、前記輸送層の第１厚が、前記輸送層内でＵＶ光を導くことに貢献し、前記インターフェイス層の第２厚が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために露出面へ拡散することに貢献する、請求項５４に記載の多層媒体。
【請求項56】
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のＵＶ光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記多層媒体へのＵＶ入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するのに十分な線量を提供する多層フィルム形態を提供する、請求項５５に記載の多層媒体。
【請求項57】
定義されたＵＶ入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のＵＶ光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なＵＶ光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、ＵＶ光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なＵＶ光がある、請求項５５に記載の多層媒体。
【請求項58】
ＵＶ透過ガスケットを含む、請求項５４に記載の多層媒体。
【請求項59】
前記ＵＶ透過ガスケットが前記輸送層を取り囲み、そしてＵＶ光を前記輸送層へ向かって促進する、請求項５８に記載の多層媒体。
【請求項60】
ＵＶ消毒デバイスであって、開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ光源であって、前記ＵＶ－Ｃ光源がＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をシールするように形成されたレンズであって、前記レンズが、前記ＵＶ－Ｃ光源からのＵＶ－Ｃ光を、前記開口を通して導くように形成されている、レンズと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃリフレクタであって、前記ＵＶ－Ｃリフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を、前記ハウジングの前記開口へ向かって反射するように形成されたＵＶ－Ｃリフレクタと、
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
【請求項61】
前記ハウジングが前記ハウジングの開口内部に複数の指向性ルーバを含み、前記レンズが、前記ＵＶ－Ｃ光を前記複数のルーバに向けるように形成されており、複数のルーバ間の空間を通るＵＶ－Ｃ光が、ＵＶ－Ｃ光をＵＶ－Ｃ光パターンに制限し、前記複数のルーバの間隔は、前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均一性を高めるように形成されている、請求項６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項62】
前記ハウジングがアイブローを含み、前記アイブローが複数のルーバと協働して、前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均一性を高める、請求項６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項63】
前記開口が下向きの角度を指すように、前記ハウジングが配向されており、アイブローが、前記ＵＶ消毒デバイスと同じ目の高さに位置決めされた使用者のために、ＵＶ源に対する視線を制限する、請求項６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項64】
前記ハウジングが前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段を含み、前記開口を通るＵＶ－Ｃ光の一部が前記光学遮蔽手段によってブロックされることにより、前記ＵＶ－Ｃ光が２つの異なるＵＶ－Ｃ光パターンに分割されて、一方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の一方の側に入り、そして他方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の他方の側に入るようになっており、前記光学遮蔽手段が前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均質性を高める、請求項６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項65】
前記標的消毒領域における前記ＵＶ－Ｃ光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、前記光学遮蔽手段は、ＵＶ光が通過するのを可能にするアパーチャを含む、請求項６４に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項66】
前記光学遮蔽手段は、第１アパーチャと、より大きい第２のアパーチャとを含み、前記第２のアパーチャは、前記標的消毒領域における前記ＵＶ－Ｃ光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、ＵＶ光が通過するのを可能にする、請求項６４に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項67】
前記ハウジングが、前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段のエッジから外方へ向かって延びるフィン対を含み、前記フィン対がそれぞれ前記ＵＶ消毒デバイスの端部へ向かって角度付けされている、請求項６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項68】
各フィンの内側表面がＵＶ反射性である請求項６７に記載のＵＶ消毒デバイスであって、前記ＵＶ消毒デバイスがキーボード上に搭載されたときにＵＶ－Ｃ光パターンが前記キーボードのエッジに達するように、前記フィンの角度が前記ＵＶ－Ｃ光パターンを成形するように形成されている、請求項６７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項69】
前記フィンが、前記強度を前記ＵＶ－Ｃ光パターンの中心へ向かって制限する、請求項６８に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項70】
前記レンズが、切り欠き部分を有するＵＶ透過シートであり、前記切り欠き部分が、前記開口をカバーするために前記ハウジングの内部キャビティ内部に前記ＵＶ透過シートを整合させるように形成されている、請求項６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項71】
前記ＵＶ透過シートがＵＶ透過パターンを含み、前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ消毒デバイスに対して標的領域のＵＶ－Ｃ光の強度の均一性を高めるように形成されている、請求項７０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項72】
前記レンズが、ＵＶ透過パターンを形成する複数のアパーチャを有するシリコーンシートを含む、請求項６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項73】
前記レンズが、ＵＶ透過パターンを形成する複数のアパーチャを含むホウケイ酸ガラスシートを含む、請求項６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項74】
ＵＶレンズがＵＶ不透明層とＵＶ透過層とを含み、前記ＵＶ不透明層が、パターン状に形成された複数のアパーチャを含む、請求項６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項75】
前記複数のアパーチャのパターンがＸよりも大きい密度を含む、請求項７４に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項76】
パターンが、前記レンズの中心の近くに大きなアパーチャを、より小さなアパーチャの２つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、請求項７４に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項77】
ＵＶ消毒デバイスであって、開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ光源であって、前記ＵＶ－Ｃ光源がＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ光源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をカバーするように形成されたＵＶ透過パターンを有するシートであって、前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ－Ｃ光源からのＵＶ－Ｃ光を、前記開口を通して導くように形成されている、シートと、
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
【請求項78】
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃリフレクタを含み、前記ＵＶ－Ｃリフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光をＵＶ透過フィルムへ向かって反射するように形成されている、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項79】
前記ＵＶ透過パターンが、前記ハウジングをシールするフィルムである、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項80】
前記ＵＶ透過パターンが、２つの層、すなわち第１ＵＶ透過フィルム層と、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有する第２ＵＶ不透明層とを含むフィルムである、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項81】
前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有するホウケイ酸ガラスシートである、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項82】
ホウケイ酸ガラスシートの厚さが１７５ミリメートルである、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項83】
前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有するシリコーンシートである、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項84】
前記シリコーンシートの厚さが２００マイクロメートルである、請求項８３に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項85】
前記ＵＶ透過パターンが、ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有する金属シートである、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項86】
前記ＵＶ透過パターンが、前記パターンの中心の近くに大きな穴を、より小さなアパーチャの２つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項87】
前記ＵＶ透過パターンが、第１密度を有する複数の穴を含む、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項88】
前記ＵＶ透過パターンが、第２密度を有する複数の穴を含む、請求項７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項89】
ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法であって、ＵＶ不透明材料層を用意し、
ＵＶ透過材料層を用意し、
前記ＵＶ不透明材料層から材料を除去することにより、前記ＵＶ不透明材料層内に複数の穴を穴パターンの形態で形成し、ＵＶ不透明材料層の残りの部分がＵＶブロッキングパターンを形成し、
前記ＵＶブロッキングパターンを形成する、前記ＵＶ不透明材料層の前記残りの部分を、前記ＵＶ透過材料層と接合し、これにより、前記ＵＶ不透明材料層の前記接合された残りの部分と前記ＵＶ透過材料層とが、ＵＶブロッキング部分を有するＵＶ－Ｃ透過レンズを形成する、
ことを含む、ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【請求項90】
ＵＶ不透明材料層がホウケイ酸塩である、請求項８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【請求項91】
前記ＵＶ不透明材料層がシリコーンである、請求項８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【請求項92】
前記ＵＶ不透明材料層が金属である、請求項８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【請求項93】
前記穴パターンを有するＵＶ不透明材料層と、ＵＶ透過材料層とを接合したものをカットすることにより、レンズの形状にすることを含む、請求項８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【請求項94】
レンズの形状が、前記ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを消毒デバイスのハウジングに対して位置決めしシーリングするための複数の切り欠きを含む、請求項８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
ＵＶ処理は一般によく知られている。既存のＵＶ処理解決手段は、エンクロージャ内のデバイスの消毒からＵＶ－Ｃロボット工学に至るまでの範囲に及ぶ。いくつかの従来技術のシステムは、ＵＶ透過材料を利用してＵＶ光を消毒ゾーンへ向ける。しかしながら、周知のＵＶエネルギー透過技術は、透過中に損失を被ることに起因して高い強度を必要とすることがある。加えて、これらの高い強度は、ＵＶ処理デバイスがＵＶホットスポットを形成しがちであることを意味する。ＵＶホットスポットは、消毒標的又は消毒デバイス自体に損傷を引き起こすおそれがある。
【背景技術】
【0002】
多くの周知のＵＶ処理解決手段は、使用者にＵＶ光を当て得る開放空間内での使用を対象として設計されてはいない。そうではなく、多くの周知のＵＶ消毒システムは、閉鎖システムに限定されている。閉鎖システムは、完全且つ一貫したＵＶ消毒を阻害する特定の制限を被る。
【0003】
従来のＵＶ処理技術のいくつかの問題点は、消毒標的及びＵＶ処理デバイス自体に対するＵＶエネルギーの影響が理解されていないことに関する。多くのＵＶ処理システムは「多ければ多いほどよい」というスローガンを唱えている。これは特に、強力なＵＶ暴露が意図されていない材料にとっては、不都合な結果をもたらす。従来技術のＵＶ消毒システムの他の問題点は、消毒プロセスを安全に一貫して自動化することに関する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明は大まかに言えば、定義されたＵＶ光パターンを達成するように、ＵＶ源からのＵＶ光を分配するのを支援するための改善された光学特性を有するＵＶ光媒体に関する。ＵＶ光媒体の特性の選択及び改善は、何らかの光学特性の所定の平均粒径分布まで媒体に添加材を装填すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、ＵＶ光媒体材料のタイプ、厚さ、形状、層、又は表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって行うことができる。ＵＶ光媒体は、ＵＶ処理デバイスのためのレンズ、標的消毒領域に配置されたデバイスのためのハウジング、標的消毒領域における表面、又はＵＶ処理又は消毒プロセス中にＵＶ光に曝される任意の他の材料であってよい。ある特定の実施態様では、ＵＶ光媒体のために選択された光学特性は、概ね均一なＵＶ光パターンを成してＵＶ光を分配するのを支援する。より均一なＵＶ光パターンは、ＵＶホットスポットを低減又は防止することができる。ＵＶホットスポットは、ＵＶ光媒体上又は標的消毒領域に退色又は他の損傷を生じさせるおそれがある。ある特定の実施態様は、拡散特性を有するＵＶ光媒体を提供する。拡散特性は、標的消毒領域の表面、例えばユーザーインターフェイス面全体にわたってＵＶ光を拡散又は分散させる。標的消毒領域の表面にＵＶ光を拡散することにより、同じ又はより低いＵＶ源強度でより確固たる消毒が可能になる。
【0005】
いくつかの実施態様では、ＵＶ光媒体にＵＶ光変化添加材を装填することにより、ＵＶ光媒体の光学特性を変化させる。添加材は、ＵＶ光媒体のフィルタリング特性及び反射特性を変更することにより、ＵＶエネルギーを標的消毒領域に効果的且つ安全に分配するのを支援することができる。添加材は、消毒を支援する光散乱効果又は光拡散効果を提供することができる。一実施態様では、添加材は拡散特性を有するマイクロビード、例えば、ポリマー系ＵＶ光媒体等の例えばＵＶ－Ｃ透過光媒体内へ約３０重量％で装填されたＳｉＯ2、又は実質的に非ＵＶ－Ｃ透過性又は不透明のＵＶ光媒体、例えばアクリル系プラスチック又はFormica（登録商標）カウンタートップ内へ約３０重量％で装填されたＴｉＯ2である。別の実施態様では、添加材は抗菌特性を有することができる。例えば、ＳｉＯ2添加材は銅を含むことができる。ＵＶ光媒体にＳｉＯ2を銅とともに装填することにより、ＵＶ光媒体は、高められた拡散特性並びに抗菌特性を有することになる。別の実施態様では、シリカエンジニアリングを用いてガラスの純度を改変することにより、ＵＶＣ透過を部分的に可能にする一方、一部を導波路の表面を通して反射させることができ、これによりガラス又は石英が透過部分と反射部分とを有するのを可能にする。これらの部分は、ＵＶＣエネルギーを表面へ、そして表面を通して反射させるための、ガラス内部のブロッキング材料及び反射材料の平均粒子分布として表される。
【0006】
本発明の一態様は概ね、ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズに関する。パターン化レンズのいくつかの実施態様はＵＶ光ホットスポットが、レンズによって入射したＵＶ光の一部を吸収又は反射することにより形成されるのを防止する。したがって、パターンはレンズによってその表面全体にわたって入射したＵＶ光を一様にし、そしてＵＶ光がレンズの所定の部分へ向かって集中するのを防止することができる。パターン化レンズのいくつかの実施態様は、所期標的感染領域でＵＶ光を一様にする。レンズのＵＶパターンの特徴は、レンズを通過する、又は標的消毒領域における、又はその両方の比較的均一な光分布を形成すること、並びに、レンズ内の、又は標的消毒領域における、又はその両方のＵＶホットスポットを低減することを含む、種々のファクタに応じて選択することができる。ＵＶパターン特徴は、ＵＶブロッキングパターンの形状及びサイズ、ＵＶブロッキングパターン材料、ＵＶブロッキングパターン反射率、ＵＶブロッキングパターン吸収率、ＵＶブロッキングパターン厚、及びＵＶブロッキングパターン密度を含むことができる。パターンの特徴は、標的消毒領域における特定の特徴を所期ＵＶ光出力に提供するか、レンズからの特定の特徴を所期ＵＶ光出力に提供するか、又はこれらの組み合わせを提供するように選択することができる。パターンの特徴は、ＵＶ源の形状、ＵＶ消毒デバイス内に含まれる任意のリフレクタの効果、ＵＶ源の測定されたＵＶ光出力マッピング、又は仮想環境におけるＵＶ源のシミュレートされたＵＶ光出力マッピング、又はこれらの組み合わせにしたがって選択することもできる。ＵＶブロッキングパターンは種々異なる技術又は技術の組み合わせを用いて、種々異なる方法でレンズに被着することができる。例えば、ＵＶブロッキングパターンは、レンズに材料、例えばＵＶブロッキング特徴を有する薄膜、スクリーン、又はテープを接合すること、又はＵＶブロッキング特徴を有するパターンをレンズ上に被覆、塗装、又はエッチングすることによって形成することができる。さらに、ＵＶ不透明フィルムから材料を除去することにより、ＵＶ透過レンズ、例えばＵＶ透過フィルム又は層に接合されたＵＶブロッキングパターンを形成することができる。例えば、黒色プラスチックＵＶ不透明フィルム内へ穴パターンをレーザーエッチングすることにより、所期レンズパターンを形成することが可能であって、残りの材料は、ＵＶ透過フィルムと対合させ得るＵＶブロッキングパターンを形成する。なお、ＵＶ－Ｃエネルギーパターン化分布をこのように考慮することにより、一般照明、ヒューマン・マシン・インタフェース・フィードバック、及び消毒はすべて、マルチモードの照明及び消毒の機会を作り出すこの設計方法論にしたがう。こうして、可視光、エラー、及び指示ステータス、及び消毒をすべて同じ光学系を通して提供することができる。
【0007】
ＵＶブロッキングパターンは、例えばＵＶ源との距離、又は特定のゾーンに入射する光の量及び強度に基づく、種々異なる特徴を備えたゾーンを含むことにより、所期ＵＶ光出力パターン、例えばレンズによる比較的均一な光分布、又は、レンズにより、所期標的消毒領域において、標的から特定の距離及び配向のところで比較的均一な光分布を発生させる、光分布パターンを得ることができる。用いられるプロセスの分解能、例えばレーザー分解能、グラフィック分解能、モールディング分解能などによって、ゾーンを制限することができる。一実施態様では、パターン化レンズは、例えば最高強度のＵＶ光を受容するＵＶ光源に最も近接した一次ゾーンとともに、例えば一次ゾーンに隣接して又は一次ゾーンの外側に配置された１つ又は２つ以上の付加的なゾーンを含む。一次ゾーン及び二次ゾーン又は付加的なゾーン内のＵＶブロッキングパターンの特徴は、種々異なっていてよく、そしてそれぞれのゾーンを通過するＵＶ光の総量が、通常の使用中にＵＶレンズ又は設備の標的消毒領域を変形、変化、損傷、又は退色させる閾値レベルを下回るように選択することができる。このことはまた、ゾーンによって規定された表面全体にわたるプログラミング可能なＵＶＣ線量を可能にする。
【0008】
別の態様では、一次レンズ及び二次レンズを備えた複合レンズが提供される。一次レンズ材料は二次レンズ材料よりもＵＶＣ透過性が低い。一次及び二次レンズの材料の特性は、これらのレンズに添加材を装填すること、異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、材料タイプ、厚さ、形状、層、及び表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって選択することができる。一実施態様では、光拡散、フィルタリング、及び反射特性のうちのいくつか又はすべてを備えるために、一次レンズ及び二次レンズのレンズ材料に、同じ又は異なる添加材を同じ又は異なる量で装填することができる。複合レンズは、通常の使用中にＵＶレンズ又は設備の標的消毒領域を変形、変化、損傷、又は退色させるおそれのあるＵＶホットスポットを低減又は防止することができる。一次レンズはＵＶ透過性第１レベルを提供することができ、そして二次レンズはＵＶ透過性第２レベルを提供することができる。一次レンズと二次レンズとは接合することができ、そして二次レンズの位置を一次レンズに対してセンタリング又はオフセットすることができる。一実施態様では、二次レンズは、一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である。一実施態様では、一次レンズは、二次レンズを部分的又は完全に取り囲むフィンガ対を含む。一次レンズ及び二次レンズの相対位置は、用途に応じて変化し得る。一実施態様では、一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している。複合レンズは付加的なレンズを含んでもよい。
【0009】
複合レンズは、標的消毒領域において概ね均一な光分布を生成し得る消毒デバイス内へ組み込むことができる。複合レンズは、ＵＶ源のより近くでは強度を低減し、そして標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで、すなわち複合レンズがない場合よりも比較的均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように、ＵＶ源、リフレクタ、及び消毒デバイスハウジングを含む消毒デバイスに対して形成することができる。ＵＶ源と標的領域との間の距離が均一でない、すなわち標的消毒領域の所定の部分が複合レンズにより近いか又は複合レンズからより遠い場合にも、概ね均一な強度パターンを提供することができる。一実施態様では、ＵＶ源は標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、そして複合レンズを含む消毒デバイスは、標的消毒領域に対して所定の角度を成して位置決めされている。標的消毒領域は比較的平らな表面であってもなくてもよい。例えば、標的消毒領域は、複合レンズからのＵＶ光出力の光路内の表面上に置かれた任意の設備表面と併せて、表面の一部を含んでよい。標的表面の３Ｄマッピングを用いて、ＵＶＣ照明パターンのための線量及び強度を定義することができる。一般照明のために、そして表面の消毒状態に関連するインジケータとして、同じレンズを使用することもできる。
【0010】
一次及び二次レンズ内の添加材の量及びタイプを含む複合レンズの特徴は、複合レンズの形状及びＵＶ源からの距離、標的消毒領域とのレンズのそれぞれの距離、ＵＶ源に対する複合レンズの角度、標的消毒領域に対する複合レンズの角度、リフレクタの形状、複合レンズとリフレクタとの間の距離、又はこれらの組み合わせにしたがって選択又は調節することができる。特徴は、ＵＶ源の測定又はシミュレートされたＵＶ光出力マッピングにしたがって選択又は調節することができる。例えば、特徴は、ＵＶ源からのＵＶ光がどのようにして複合レンズを通って移動するかに基づいて選択又は調節することができる。特徴は、標的消毒ゾーンにおけるＵＶ光パターンに基づいて選択又は調節することもできる。システムは、すべて同じレンズ又は同じレンズの部分を使用する複数の多様な源、例えばＵＶ、一般照明、及び指示用ＲＧＢ照明を有してよい。
【0011】
一次レンズは補助プリズムを含み、補助プリズムは、標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している。補助プリズムは、さもなければＵＶ源によって直接には入射しない付加的なＵＶ光を捕捉し、この付加的なＵＶ光を標的消毒領域へ向かって導く。補助プリズムは、標的消毒領域でより均一な光分布を生成するのを支援する。例えば、補助プリズムはＵＶ源に対してより隔たった複合レンズ領域において、そして消毒デバイスに対してより隔たった標的消毒ゾーン位置において、ＵＶ光強度を高めることができる。このことは、エネルギーを外方へ向かって集中させる一方、内方へ向かうエネルギーを低減して損失及び一般的な光学特性を補償することによって達成される。補助プリズムは特徴を一次レンズと共有してよく、或いは、異なるタイプの量の添加材を含む異なる特徴集合を有していてもよい。
【0012】
本発明の別の態様は概ねＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズに関する。この可変厚レンズは概ね均一なＵＶ光分布を提供する。これはレンズ上又は標的消毒領域にＵＶホットスポットが形成されるのを低減又は防止する。レンズ材料の厚さを変更することにより、レンズを通るＵＶＣの量及び強度を調節することにより、ほぼ均一な強度を有する拡散エネルギーパターンを形成することができる。レンズ材料の厚さは、その透過能力に影響を与える。材料は薄ければ薄いほど、一般により高い透過能力を提供する。一実施態様では、細長い可変厚レンズを、細長いＵＶ源に対応する均一な光分布を形成するために提供することができる。可変厚レンズはＵＶ源により近接した内側表面と、ＵＶ源からより隔たった外側表面とを有することができる。内側表面の曲率及び外側表面の曲率は、レンズの可変厚全体を定義することに貢献する。このことは、概ね均一なＵＶ光分布を提供する。
【0013】
可変厚レンズの特徴は、レンズを通る比較的均一な光分布を形成し、そしてレンズ内、標的消毒領域、又はその両方におけるＵＶホットスポットを低減することを含む種々のファクタに応じて選択することができる。選択し得る異なる可変厚レンズの特徴は、レンズ表面の曲率、レンズの厚さ、レンズ材料への任意の添加材、及びレンズの本質的に任意の他の特徴を含むことができる。レンズの表面のうちのいくつか又はすべてをテキスチャ化することにより、乱反射を形成することができる。表面のいくつか又はすべてをリフレクタで被覆することにより、消毒デバイスをＵＶ暴露から保護し、ＵＶ光の良好な分散及び反射を提供することができる。表面はテキスチャ化し且つ反射被膜を施すことができる。表面のテキスチャ及び反射性を含む可変厚レンズの特徴は、標的領域における所定の特徴を有する所期ＵＶ出力光、レンズにおける所定の特徴を有する所期ＵＶ出力光、又はこれらの組み合わせを提供するように選択することができる。可変厚レンズの特徴は、ＵＶ源の形状、ＵＶ源の測定されたＵＶ光出力マッピング、又は仮想環境内のシミュレートされたＵＶ光出力マッピング、又はこれらの組み合わせにしたがって選択することができる。
【0014】
可変厚レンズは、例えばＵＶ源との距離、又は特定の層に入射する光の量及び強度に基づく、種々異なる特徴を備えた層を含むことにより、レンズを通した比較的均一な光分布を得ることができる。一実施態様では、可変厚レンズは、例えば最高強度のＵＶ光を受容するＵＶ光源に最も近接した一次層とともに、例えば一次層に隣接して又はＵＶ源からより隔たって配置された１つ又は２つ以上の付加的な層を含む。層の特徴は種々異なっていてよく、そしてそれぞれの層を通過するＵＶ光の総量が、通常の使用中にＵＶレンズ又は設備の標的消毒領域を変形、変化、損傷、又は退色させる閾値レベルを下回るように選択することができる。これらの方法は、表面全体にわたってより均質であり得る構築可能な光学パターンを可能にする。これは、表面上の所期ＵＶ線量に達する一方でホットスポットを制限するために望ましいと言える。表面は平面あるいは３Dであってよい。
【0015】
本発明の別の態様は概ね、ＵＶ光分布を有するヒューマンインタフェースデバイスのためのハウジングに関する。ハウジングは内部又は外部のＵＶ源と一緒に動作することにより、ヒューマンインタフェースデバイスの露出面にＵＶ光を消毒のために分配する。ヒューマンインターフェイスデバイス・ハウジングは、定義されたＵＶ光パターンにしたがってＵＶ光を分配するのを支援するために光学特性を有することができる。ハウジングの特性が、ハウジングに添加材を装填すること、ハウジングの厚さを変更すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、ハウジング材料のタイプ、形状、層、又はテキスチャを変更すること、又はこれらの任意の組み合わせによって、選択することができる。特徴は、所期光学特性、例えば所期ＵＶ消毒線量を提供するように選択又は調節することができる。ＵＶ光分配ハウジングは種々異なるヒューマンインターフェイスデバイス、例えばエレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボード、マウス、チューブ、及びデバイスケースに組み込むことができる。
【0016】
ハウジングに種々の改善を加えることにより、ハウジングの光の分散、フィルタリング、及び反射特性を変化させることができる。これらの改善は、ＵＶ光又はエネルギーを効率的且つ安全に再分配するのを支援するように選択し形成することができる。反射特性は、ヒューマンインターフェイスデバイスの部分が、種々異なる反射特性を有するのを可能にする。このことは種々の量のＵＶ光又はエネルギーがヒューマンインターフェイスデバイスの表面を通って動くのを可能にする。ハウジングに加えられたこれらの改善は、消毒を支援する光散乱効果を提供することができる。
【0017】
別の態様では、ＵＶ透過スキンが提供される。スキンは消毒のためにＵＶ光をスキンに沿って輸送し分配することを可能にする。スキンは、ＵＶエネルギーの分配及び消毒を促進するためにデバイス、表面、又はチューブに被着することができる。ＵＶ透過スキンは、スキンにＵＶ特性変更添加材を装填すること、スキンの厚さを変更すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、スキンの材料のタイプ、層、形状、又は表面テキスチャを変更すること、又はこれらの任意の組み合わせによって、選択された光学特性を有することができる。一実施態様では、ＵＶ透過スキンはチューブを取り囲むことにより、チューブの外側表面の周りに消毒スキンを提供する。別の実施態様では、ＵＶ透過スキンを表面に提供することにより、表面のＵＶエネルギー分布特性を改善する。さらに別の実施態様では、ＵＶ透過スキンは多層ＵＶ消毒フィルムである。多層フィルムは、多層フィルムの長さに沿ってＵＶ光を透過させるための輸送層と、輸送層からのＵＶ光を消毒のためにインターフェース層の露出面へ拡散するためのインターフェース層とを含む。一実施態様では、ＵＶ透過フィルムの種々異なる層が、添加材の異なる厚さ及び異なる装填量を有している。インターフェース層内の添加材の厚さ及び装填量は、輸送層から受容された光が拡散され、露出インターフェース面を消毒するのに十分な線量でインターフェース層の外側表面に達するようになっていてよい。輸送層内の添加材の厚さ及び装填量は、定義されたＵＶ光入力を考えた場合、ＵＶフィルムの全長に沿ってインターフェース層に十分な光が提供されるので、インターフェース層による拡散後、ＵＶ光入力から最も隔たった距離のところでさえも、露出面を消毒するのに十分なＵＶ光が存在する。別の実施態様では、ＵＶ透過スキンは、織り合わされてファブリックにされたＵＶ透過繊維を含む。
【0018】
別の態様では、消毒デバイスと併せて使用するためのＵＶ－Ｃレンズが提供される。レンズは開口をシールすることができ、この開口を通ってＵＶ－Ｃ光が発せられる。レンズは薄い可撓性フィルムのフォームファクタ、例えばＵＶ透過性を有するフルオロポリマーフィルムを有することができる。レンズはＵＶブロッキングパターン、例えばＵＶ不透明層と接合することができる。レンズは消毒デバイスのハウジング内部の成分をシールすることができ、成分を環境から、そして環境を成分から、例えばダスト及び水粒子から保護する。レンズは消毒デバイスの他のフィーチャと協働して、消毒デバイスによって出力されたＵＶ－Ｃ照射パターンを成形することができる。例えば、レンズによって出力されたＵＶ－Ｃ照射パターンは、種々の消毒デバイス構造によって標的消毒領域へ向かって投じることができ、消毒デバイス構造は、最終的に標的消毒領域上に投じられたＵＶ照射パターンを成形する。成形は、強度パターン及びＵＶ照射パターンの全体形状のような特徴に影響を与えることができる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【0020】
【0021】
【0022】
【0023】
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】
【0028】
【0029】
【0030】
【0031】
【0032】
【0033】
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】
【0039】
【0040】
【0041】
【0042】
【0043】
【0044】
【0045】
【0046】
【0047】
【0048】
【0049】
【0050】
【0051】
【0052】
【0053】
【0054】
【0055】
【0056】
【0057】
【0058】
【0059】
【0060】
【0061】
【0062】
【発明を実施するための形態】
【0063】
Ａ． 概要
【0064】
本発明は、紫外（ＵＶ）光媒体に対する種々の改善策、例えば媒体の光学特性を変化させる添加材を装填すること、材料のタイプ、厚さ、形状、層、又は表面テキスチャを含むＵＶ光媒体の物理的特徴を選択的に変更すること、ＵＶブロッキングパターンの被着、又はこれらのいずれかの組み合わせを限定なしに含む、ＵＶ光の分配に関連する改善手段に関する。
【0065】
ＵＶ光は、何らかのポリマー及び他のタイプの構造物内部で光化学作用を引き起こし、これにより材料を劣化させることがある。結果として、材料の色が変化し、露出面が脆弱になるおそれがある。フルオロポリマー、例えばＦＥＰ、ＰＦＡ及びＰＴＦＥ、及びいくつかの他のポリマーは、少なくとも１００～２８０ｎｍの範囲のＵＶ－Ｃエネルギーに関連してこの光化学作用に対して概ね耐性であるか又は影響を受けない。このようなＵＶ－Ｃエネルギーは、ＵＶ消毒／処理の際にしばしば使用されるＵＶエネルギーである。ＵＶ光を施されるように設計されたレンズ、デバイスハウジング、及びユーザーインターフェイスは、ＵＶ光の不都合な作用に対して耐性又は影響を受けない材料から製造することができる。これらの材料の特性を変更することにより、ＵＶ光の不都合な作用に対して耐性又は影響を受けず、しかも一連の所期光学特性、例えば所期拡散レベル、反射率、及びＵＶ－Ｃ透過率を有するレンズ、ハウジング、及びユーザーインターフェイスを提供することができる。より高い波長２８０～４００ｎｍを使用することもできるが、しかしこのような波長は、より長い線量接触時間を伴うことがあり、本明細書に記載された基本原理がなおも当てはまる。
【0066】
本発明のいくつかの実施態様は、消毒デバイスのために使用される材料の光学特性を変更するための種々の方法に関する。これらの材料は、ＵＶエネルギーから使用者を保護しつつデバイスを改善するように設計される。本開示中に記載されたエレメントのうちのいくつかはより信頼性の高いＵＶ消毒を可能にする。消毒を自動化又は半自動化することにより、より高速の、そしてより制御された消毒を可能にする。改善された光学特性を有する新しい材料は、より破壊しにくく且つより効果的な解決手段を提供することにより、これらの消毒システムにとって有利である。本発明の実施態様は、細菌及び病原体が成長する領域を低減又は排除する一方、利用可能なエネルギーをより効果的に使用し、且つ表面全体にわたるホットスポットを制限するエネルギー分布のための解決手段を提供する。本発明のいくつかの実施態様は、材料上のこれが遭遇するＵＶ－Ｃの破壊力を制限することもでき、またＵＶ暴露均衡を変化させることもできる。本発明のいくつかの実施態様はＵＶ透過材料及び利用に関する。レンズ及び表面はＵＶ処理の改善をもたらすことができる。
【0067】
本発明のいくつかの実施態様では、逆二乗法を活用する。逆二乗法は、ＵＶ源の中心へ向かうエネルギーがＵＶ源からより遠くのエネルギーよりも高い強度で発光することを示している。いくつかの実施態様は、例えばＵＶエネルギーを選択的にブロック、反射又は吸収することによって、表面へ送達されるＵＶ源中心近くのＵＶエネルギーを低減する。ランプ中心のエネルギーは、表面では１６０μＷ／ｃｍ2を上回るのに対して、エッジでは約６μＷ／ｃｍ２であり得る。１６０μＷ／ｃｍ2範囲から８０μＷ／ｃｍ2範囲へ強度を低減することにより、ＵＶ光暴露時間を長くすることができる。すなわち、ＵＶ源の強度又は放射照度は、光束密度と呼ばれることもある単位面積当たりの放射測定光束の観点で測定することができる。材料を変更して光学特性を変更することができる。例えば、ナノ粒子又はマイクロ粒子を使用して、平均粒径分布を制御することができ、そして材料を通って移動し得るエネルギーの量を変化させることができる。これは種々のセンサ、及びユーザーインターフェイスデバイス、例えばタッチセンサ、キオスク（ｋｉｏｓｋ）、及びタッチスクリーンと組み合わせることができる。ＵＶ光媒体、例えば石英、カスタムガラス、プラスチック、フィルム、及びチューブは、用途、及び所期ＵＶ光分布に応じて選択されたそれらの光学特性を有することができる。例えば、添加材は、ＵＶ光媒体自体内へ添加して装填することができ、又はＵＶ光媒体上の被膜であってもよく、或いは所期光学制御のレベル及びタイプに応じて、ＵＶ光媒体の表面に吸収又は反射ブロックパターンを被着又は印刷することができる。
【0068】
なお、特定のＵＶ－Ｃエネルギーパターン分布を出力するレンズと同じ設計方法を利用して、特別なオーダーメイド一般照明を提供することもできる。例えば可視光媒体が、用途及び所期可視光分布に応じて選択されたその光学特性を有し得る。これに関しては、言うまでもないことであるが、単一の光媒体は、所期の可視光分布及びＵＶ光分布の両方を提供するために選択された一連の光学特性を有することができる。このことは、可視光スペクトル（約３８０ｎｍ～約７４０ｎｍ波長）及びＵＶスペクトル（約１０ｎｍ～約４００ｎｍ波長）の両方の範囲内の光をブロックする単一のブロッキングパターンによって達成することができる。いくつかの実施態様では、種々異なる光学特性を有する２つの異なるブロッキングパターンをレンズに接合することができる。これらのパターンは分離してもオーバーラップしてもよく、交差のパターンの特性を特別にオーダーメイドすることにより、所期の複合的な光学特性集合を提供することができる。こうして、特定のＵＶ－Ｃ光パターン分布及び可視光パターン分布を出力する光媒体であって、一般照明、ヒューマン・マシン・インタフェース・フィードバック、及び消毒をすべて、同じ光学系又はレンズを通して可能にする光媒体を提供することができる。本質的に、マルチモードの照明及び消毒を提供するように、光学系をオーダーメイドすることができる。例えば作業用照明、状態インジケータ、及びＵＶ消毒エネルギーをすべて同じレンズを通して提供することができる。このレンズはブロッキングパターンを含み、ブロッキングパターンは、ＵＶ及び可視光の強度を所期レベルまで、例えば標的領域における退色を防止又は低減するために、レンズ全体にわたって概ね均一な強度に制限するか、又は標的領域において概ね均一な強度に制限するのに効果的である。別の一例としては、ブロッキングパターンは、ＵＶ光に関しては均一な強度を提供し、これに対して可視光に関しては異なる適用を提供する、例えば特定領域又は領域集合を輪郭付け又は強調する、又はレンズの特定領域における所定の光波長以外のすべての波長をブロックすることによって、所定の色が特定領域を透過するのを可能にするように形成することができる。
【0069】
本開示の第１発明態様は、清浄化／消毒及びシーリングのためのＵＶ－Ｃレンズである。ＵＶ消毒デバイス、例えば医療デバイスはダスト及び水侵入に関してＩＰＣ格付け（ＩＰＣ ｒａｔｉｎｇ）によって格付けすることができる。本発明のレンズ実施態様は、ダスト及び水侵入に関して信頼性及びＩＰＣ格付けを高くすることができる。レンズは薄いフルオロポリマーフィルムを含むことができ、このフィルムはＵＶ透過性を改善し、消毒デバイスの寿命を長くする。消毒デバイスのすべてのレンズ及びランプは、有限の寿命を有しており、デバイスの全寿命にわたって強度／透過率曲線が変化するが、本実施態様は、ＵＶランプ寿命並びに材料寿命の両方に基づいてレンズの特性を選択することにより、これらの変化を補償する。すなわち、消毒デバイスの全寿命にわたって強度プロフィールをプロットすることにより、ランプの全寿命にわたって発生する変化、及び設計に際して使用される材料に基づいてデバイスの全寿命にわたって発生する変化を補償するように、消毒デバイスの光学特性を選択することができる。例えば、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）又はシリコーンＭＳ－１００２のような材料を利用して、デバイスの全寿命にわたって変化する強度／透過率曲線をも考慮に入れる適宜の光学特性を有するＵＶ－Ｃレンズを製造することができる。いくつかの実施態様は、ケイ素又はホウケイ酸ガラスから製造されたＵＶ－Ｃ透過レンズを含む。ＵＶ透過フィルムはレンズとして作用し、消毒デバイスのハウジング内部の構成部分をシールし、構成部分を環境から、そして環境を構成部分から保護することができる。
【0070】
石英（概ねＵＶ透過性）から種々異なるレベルのホロケイ酸ガラス（概ねＵＶ不透明）へ純度が連続していることは、ガラス内部の所期レベルの透過性及び内部反射を提供するデザイナーガラスを可能にする。例えば、Corning Inc.から入手可能なGorilla（登録商標）ガラス、及び他のハイエンド組成物は、ＵＶ反射粒子の平均粒径分布が設計生成物として保留されるのを可能にすることにより、透過部分を有する一方で、内部反射部分を有するように設計することができる。本開示の第２発明態様は、光学特性を所望のように変更するために、ＵＶ光媒体中に装填された添加材である。添加材はＵＶ光媒体中へ重量で装填される粒子であってよい。粒子は、例えばＵＶ光、例えばＵＶＣ光のフィルタリング、純度、反射、又は吸収によって異なる特徴を有することができる。ＵＶ光媒体内へ装填された粒子のタイプ、純度、平均粒径分布、サイズ、密度、形状、及び量は、ＵＶ光媒体の光学特性全体に影響を与えることができる。ナノ粒子又はマイクロ粒子、例えばプラスチックがＵＶ光媒体中に使用されると、種々の光学特性が提供される。粒子はＵＶエネルギーで衝撃されると、ＵＶエネルギーを効果的且つ安全に再分配するように作用することができる。例えば、ＵＶ光媒体が消毒のためにＵＶ光に晒される製品である場合、粒子は、製品の表面の周りにＵＶ光を拡散するのを支援することができる。或いは、ＵＶ光媒体がＵＶ不透明表面又は部分的にＵＶ非透過性の表面である場合、粒子は表面全体にわたってＵＶ光を拡散するのを支援することができる。粒子の反射特性は、ＵＶ光媒体が種々異なる反射特性を有することを可能にする。これらの反射特性は、多様なエネルギーが表面を通って移動するのを可能にする。粒子は消毒を支援する光散乱効果を提供することもできる。例えば、一実施態様では、３０マイクロメートルのＳｉＯ2マイクロビードを３０重量％でＵＶ透過光媒体中に装填することができる。別の例としては、Dow Corningから入手可能なSilastic（登録商標）MS-1002 Moldable Siliconeを用いて、３０重量％の３０μｍＳｉＯ2マイクロビードを装填して（充填剤＝３０％、ＭＯＳ＝７０％）、ＵＶ光媒体を製造することができる。添加材は抗菌特性を有することも可能であり、例えばＳｉＯ2添加材は銅又は別の抗菌元素を含むことができる。ＵＶ光媒体にＳｉＯ2を銅とともに装填することにより、ＵＶ光媒体は拡散特性並びに抗菌特性を高めることになる。
【0071】
本開示の第３発明態様は、ＵＶ－Ｃホットスポットを制限することに貢献する。ＵＶ－Ｃホットスポットは、消毒デバイス内のＵＶレンズ又は設備の標的消毒領域を変形、変化、損傷、又は変色させるおそれがある。ＵＶ光に晒されるＵＶレンズ又は材料の光学特性を選択することにより、ＵＶ－Ｃホットスポットを低減又は排除することができる。一実施態様では、ＵＶ－Ｃ反射又は吸収材料を使用してプラスチックレンズの内部に、ＵＶブロッキングパターンを印刷することができる。このブロッキングパターンは、表面及び距離に関して逆二乗の期待値を当てはめるのを助ける。例えばレンズ上に印刷されたＵＶブロッキングパターンを使用する１つの結果は、不要なエネルギーを表面後ろから他の処理点へ反射することである。ＵＶブロッキングパターンは、より急速に老化し明色製品上で極めて目立つホットスポットを有するのとは異なり、材料を均一に老化させる方法としても役立つ。
【0072】
本開示の第４発明態様は、ＵＶエネルギー、例えばＵＶ－Ｃエネルギーの分配に貢献する。ＵＶ光媒体は、ＵＶエネルギーを標的消毒領域へ特定のパターンを成して所望の通りに分配するように改善することができる。一実施態様では、ＵＶ光媒体は、概ね均一な光パターンを提供するように改善することができる。ＵＶ光媒体は、ＵＶ光媒体材料のタイプ、厚さ、形状、層、又は表面テキスチャを変更すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、又はこれらのいずれかの組み合わせを制限なしに含む種々異なる方法で、改善することができる。一実施態様では、材料層を通して、ランプから種々の距離を置いて表面全体にわたって均一にＵＶ－Ｃを分配することは、その表面全体にわたって均一なエネルギーを最良に送達するための数多くのツールを利用した周到な設計プロセスを必要とする。材料の厚さを用いてＵＶ－Ｃ強度を調節することにより、ほぼ均一な強度を有する拡散エネルギーパターンを形成することもできる。本質的に、ＵＶ光媒体は、ＵＶ－Ｃディフューザとして作用するように改善することができる。１つのＵＶ光媒体は、直接のディフューザ、例えばブロッキングプラスチックとして作用することができ、或いは複数のＵＶ光媒体を積層することにより、これらの層を通して所期ＵＶＣ光拡散効果を全体で供給することができる。ＵＶ不透明層をエッチング又はドリル加工し、例えば穴パターンを有するようにレーザーエッチング又はレーザードリル加工することにより所期レンズパターンを形成することができる。ＵＶ不透明層をＵＶ透明層、例えば本明細書中で論じるＵＶ透過層のうちのいずれかと対合させることにより、所望の一連の特徴及びＵＶ透過特性を有する多層ＵＶレンズを提供することができる。
【0073】
この開示の第５発明態様は、ＵＶ分配のための材料に貢献する。プラスチック注入型ペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）は、ＵＶＣ透過のためのＵＶ光媒体、例えばＵＶ光レンズ、ＵＶ光透過ハウジング、又はＵＶ光透過スキン（例えばデバイス又はカウンタートップのような外側表面の全体にわたってＵＶ光を透過するスキン）として使用することができる。他のフルオロポリマー、例えばフッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）又はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）をＵＶ光媒体として利用することもできる。材料の厚さは材料の透過特徴における１つのファクタである。概ね、材料が薄ければ薄いほど、ＵＶ透過性は増大する。材料の表面をテキスチャ化することにより、ＵＶ散乱反射を増大させることができ、例えばレンズの内側表面をテキスチャ化することにより、レンズ内に入力されるＵＶ光を拡散又は散乱させることができる。内側表面をＵＶ反射特性を有する材料で被覆することにより、デバイスをＵＶ暴露から保護し、そしてまたＵＶ光の良好な分散及び反射を提供することもできる。いくつかの実施態様では、１つ又は２つ以上の表面をテキスチャ化し、そして反射材料又は他のＵＶ光変化材料で被覆することができる。例えば一実施態様では、カウンタートップのためのＵＶスキンは、スキン中に装填された添加材を含むことにより、光学特性を所望のとおりに変更することができる。添加材は、ＵＶ透過スキン又は下側の基体内へ重量で装填された粒子であってよい。粒子は例えばＵＶ光、例えばＵＶＣ光のフィルタリング、反射、又は吸収によって種々異なる特徴を有することができる。ＵＶ光媒体中に装填された粒子のタイプ、サイズ、密度、形状、及び量は、ＵＶスキンの光学特性全体に影響を与えることができる。ナノ粒子又はマイクロ粒子、例えばプラスチックがＵＶスキン内に使用されると、種々の光学特性が提供される。粒子はＵＶエネルギーで衝撃されると、ＵＶエネルギーを効果的且つ安全に再分配するように作用することができる。例えば、ＵＶスキンが消毒のためにＵＶ光に晒される製品である場合、粒子は、製品の表面の周りに又は表面全体にわたってＵＶ光を拡散するのを促進することができる。或いは、基体がＵＶ不透明表面又は部分的にＵＶ非透過性の表面である場合、粒子は表面全体にわたってＵＶ光を拡散するのを促進することができる。粒子の反射特性は、ＵＶスキンが、種々異なる反射特性であって、多様なエネルギーが表面を通って移動するのを可能にする反射特性を有することを可能とする。粒子は消毒を促進する光散乱効果を提供することもできる。例えば、一実施態様では、３０マイクロメートルのＳｉＯ2マイクロビードを３０重量％でFormicaカウンタートップ内に装填することができる。別の例としては、Dow Corningから入手可能なSilastic（登録商標）MS-1002 Moldable Siliconeから、３０μｍＳｉＯ2マイクロビードを３０重量％で装填して（充填剤＝３０％、ＭＯＳ＝７０％）、ＵＶ光媒体を製造することができる。添加材は抗菌特性を有することも可能であり、例えばＳｉＯ2添加材は銅又は別の抗菌元素を含むことができる。ＵＶスキンにＳｉＯ2を銅とともに装填することにより、ＵＶスキンは拡散特性並びに抗菌特性を高めることになる。例えば、これらの添加材が装填されたFormica又は他の非ＵＶ透過材料又は低ＵＶ透過材料のカウンタートップは光学特性を変更することができるので、ＵＶ光がカウンタートップ上で照らされると、ＵＶ光は表面において吸収又は反射される代わりに、カウンタートップ面全体にわたって拡散する。
【0074】
本開示の第６発明態様は、改善されたＵＶＣ消毒のために製織テキスタイル内にＵＶ－Ｃ透過繊維を使用することを含む。ポリエステル及び他のプラスチックが、安定性及び摩耗性能を加えるためにテキスタイルにおいて今日使用されている。ＵＶ透過材料、例えばＰＦＡ、ＦＥＰ、及びＰＴＦＥを一般的なテキスタイル材料と一緒に利用して、完成テキスタイル製品、例えばラボコート及び実験用座席におけるＵＶ分配を可能にする、これらのＵＶ透過材料を有する改善型繊維又はフィラメントを形成することができる。テキスタイル内部の所定のパーセンテージのこれらの繊維を用いることにより、ＵＶ光がファブリックを貫通するのを助け、ファブリック内部で捕捉された任意の生物活性を、ＵＶ－Ｃ光をファブリック内へより深く光パイピング（light piping）することにより処理する。例えば、ＵＶ透過繊維又はフィラメントを綿のような他の材料と混合することにより、ＵＶＣ光に晒されると製品の消毒作用を向上させる、高められたＵＶ透過特徴を有するファブリックを形成することができる。改善型繊維は、可撓性及び摩耗特徴のために種々のサイズで製造することができる。
【0075】
本開示の第７発明態様は、ＵＶ光分配のための反射添加材を使用することを含む。反射ナノ粒子又は反射マイクロ粒子は、ＵＶ分布、特にＵＶ－Ｃ光分布を改善することができる。消毒のためにＵＶエネルギーに晒される特定のデバイスは、適切なＵＶ光線量、安全性、及び暴露パラメータ、及び視覚的アピール（ｏｐｔｉｃａｌ ａｐｐｅａｌ）を維持するために種々異なるファクタのバランスがとられる層及び部分を含有してよい。ＴｉＯ2又はアルミニウムを使用してＵＶ－Ｃを反射し、そして分布のための表面様効果、並びに均衡によるフィルタリング効果をもたらすことができる。
【0076】
本発明は、種々の典型的なデバイス、材料、及び構造の文脈において記載される。言うまでもなく、本発明の種々の態様は本開示内容に提供された例に限定されるものではない。むしろ、本発明の種々の態様は、以下に詳述される多種多様な実施態様において実施することができる。方向を意味する用語、例えば「鉛直」、「水平」、「上」、「底」、「上側」、「下側」、「内側」、「内方」、「外側」、及び「外方」という用語は、図示された実施態様の配向に基づいて本発明を説明するのを助けるために使用される。方向に関する用語を使用することが、本発明を特定の配向に限定するものと解釈するべきではない。
【0077】
２０１６年１月２６日付けで発行された“PORTABLE LIGHT FASTENING ASSEMBLY”と題するCole他の米国特許第９，２４２，０１８号明細書、２０１８年５月２２日付けで発行された“UV GERMICIDAL SYSTEM, METHOD, AND DEVICE THEREOF”と題するCole他の米国特許第９，９７４，８７３号明細書、２０１９年６月１０日付けで出願された“DISINFECTION BEHAVIOR TRACKING AND RANKING”と題するBaarman他の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０２３８４２号、及び２０１９年６月１０日付けで出願された“MOBILE DEVICE DISINFECTION”と題するBaarman他の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０３６２９８号が、これら全体を参照することにより本明細書中に援用される。
【0078】
Ｂ． ＵＶブロッキングパターンを備えたレンズ
【0079】
図１～３は、表面を消毒するための消毒システムの実施態様を示している。図１は、ＵＶレンズが設けられていない、ＵＶ源１０２とリフレクタ１０４とを有するＵＶ消毒デバイス１００を示しており、図２は、ＵＶブロッキングパターン１０８を備えた典型的ＵＶレンズ１０６を示している。図３は、ＵＶ消毒デバイス１００上に設けられた典型的フロントＵＶレンズ１０６を示している。
【0080】
フロントレンズ１０６は、ＵＶＣ分布を最適化するためにＵＶＣに対して反射するＵＶブロッキングパターン１０８を含んでいる。本実施態様では、ＵＶブロッキングパターン１０８は、印刷パターンを備えたＵＶ透過フィルムであり、印刷パターンは、取り付けられたときにはＵＶ源に最も近接して、レンズ１０６の内側表面に被着される。レンズは印刷パターンを利用し、印刷パターンは表面全体にわたる強度を評価し、そして表面全体にわたるエネルギーのバランスをより良くするために最高強度領域内のエネルギーを制限することによって最適化される。本実施態様では、ブロッキングパターン１０８はＴｉＯ2インクで印刷されている。このインクはエネルギーをブロックし、ＵＶＣエネルギーをリフレクタ１０４へ向かって戻し反射するのを可能にする。
【0081】
図３はランプ・レンズシステムを一緒に示している。ＵＶＣ源からのエネルギーの分配を正確な仕様に制御することによって、標的消毒領域における暴露結果を制御することができ、そしてＵＶＣエネルギーによって引き起こされる材料の時期尚早の老化を遅延させるか又は排除することができる。さらに、ブロッキングパターン１０８は、エネルギーの均一な分配を助けることができる。ＵＶＣの分布を一様にすることの１つの利点は、材料がより均一に老化し、老化の影響を見ることをより難しくすることである。別の利点は、レンズから標的領域へのエネルギーの光分布がより均一であることである。
【0082】
図１０は、所与の距離について、均一なエネルギー分布を可能にするためのフィルタリングパターンのパーセンテージに対して評価された強度の逆二乗のエネルギー低下を示している。すなわち、図１０は、低下するのに伴う逆二乗法を示し、そしてこれが距離に対する強度にどのように関連するかを示している。グラフはまた、所期距離及びエネルギーパターンのために計算されたエネルギーのパーセンテージに関連する典型的ブロッキングパターンを示している。グラフは、線量が所定の範囲にわたって比較的フラットのままであることを示している。すなわち、ブロッキングパターンを備えたレンズは、より均一なＵＶエネルギー分布を効果的に生成している。
【0083】
図３３Ａ～Ｂ及び３４は、典型的ＵＶレンズ３０６の２つの付加的な実施態様を示している。各レンズ３０６は、ＵＶブロッキングパターンを含む。ＵＶブロッキングパターンはＵＶ－Ｃ光を遮蔽する（例えばＵＶ光を反射又は吸収することにより）して、ＵＶ－Ｃ光分布を最適化する。図３３Ａ及び３４Ｂの両実施態様におけるＵＶレンズ３０６は、２つの層、すなわちＵＶ透過層３１０とＵＶ不透明層３０８とを含む。図１～３との関連において論じられたＵＶ透過層への印刷パターンの被着の代わりに、図３３及び３３Ａ～Ｂは、ＵＶ不透明層３０８から選択的に除去される（例えばレーザーエッチングによって）ＵＶ透過パターン（例えば図３３Ａの３１２，３１４，３１６、及び図３３Ｂにおける３１８，３２０，３２２）を利用する。結果として生じたＵＶブロッキングパターンは、標的消毒面全体にわたる強度を評価し、パターンを所望通りに変更する（例えばこれにより、標的消毒面全体にわたるエネルギーのバランスをとるために、より高強度の領域内のＵＶエネルギーを制限する）ことにより、最適化することができる。ＵＶ不透明層３０８の残りは実質的にブロッキングパターンを形成する。ブロッキングパターンは、ＵＶ－Ｃエネルギーをブロックし、又はＵＶ－Ｃエネルギーを反射する。結果として生じるレンズ、例えば図４０に示されたレンズ２２６は、消毒デバイス２００内で利用することができる。ＵＶレンズ２２６は図４０に示されたサイズにカットすることができ、そしてハウジングの底部区分２１６の内部の消毒デバイス内にＵＶレンズを位置決めするように成形された穴とエッジとを有することができる。
【0084】
ＵＶ不透明層３０８内に形成されたＵＶブロッキングパターンは、ＵＶ不透明層３０８から除去された部分によって画定することができる。具体的には、図３３Ａは、ＵＶ不透明層３０８からレーザーエッチングされた大きな穴３１２と、第１の複数の穴３１４と、第２の複数の穴３１６とを示している。これはおそらく図３３の代表的断面図において最も容易に見ることができる。同様に、図３３Ｂは、ＵＶ不透明層３０８からレーザーエッチングされた大きな穴３１８と、第１の複数の穴３２０と、第２の複数の穴３２２とを示している。いずれの実施態様においても、ＵＶ不透明層３０８がＵＶ透過層３１０に被着される前、又は被着された後に穴をレーザーエッチングすることができる。図３３Ａの実施態様の第２の複数の穴３１６の密度は、クローズアップ図３１８に示されている。図３３Ｂの第２の複数の穴３２２の密度は、クローズアップ図３２４に示されている。図示のように、穴の密度及びサイズは２つの実施態様において異なっている。具体的には図３３Ａ実施態様の穴の密度は、図３３Ｂ実施態様の穴の密度の約２倍である。穴の密度が異なることは、レンズ３０６の種々異なる実施態様を通して、ＵＶ照射パターンを定義するのを助ける。
【0085】
ＵＶ不透明層は本質的にいかなるＵＶ不透明材料であってもよい。具体的にはＵＶ不透明材料は、全紫外線スペクトラム（約１０～４００ｎｍ）内で光に対して不透明であり得る。いくつかの実施態様では、ＵＶ不透明材料は、ＵＶＡ（約３１５ｎｍ～約４００ｎｍ）、ＵＶＢ（約２８０ｎｍ～約３１５ｎｍ）及びＵＶＣ（約１００ｎｍ～約２８０ｎｍ）に対して不透明である。材料のＵＶ不透明性は、材料の組成及びその厚さに依存し得る。組成及び厚さはＵＶ透過曲線に基づいて調節することにより、特定の厚さを有する特定の材料が特定の波長に対して不透明であることを保証する。加えて、不純物及び添加材は、ＵＶ不透明材料の不透明性及び他の特徴に影響を与えることもできる。ホウケイ酸ガラス及びシリコーンチューブは、ＵＶ不透明材料の２つの例である。図３０は、ＵＶ透過性のためにドリル加工された２つの穴を有するホウケイ酸ガラスの側方断面図である。ホウケイ酸塩の厚さは約１７５μｍである。図３１は、２００μｍ壁厚のシリコーンチューブと、壁内の３つの穴とを示す上面図である。図３２はシリコーンを示す斜視側面図である。別の実施態様では、ＵＶ部分透過層をＵＶ不透明層の代わりに使用することができる。
【0086】
Ｃ． 複合レンズ
【0087】
図５は、複数部分又は複合レンズ５００の典型的実施態様を示す斜視図である。複合レンズ５００は一次レンズ５０２と二次レンズ５０４とを含む。一次及び二次レンズの材料の特性は、レンズに添加材を装填すること、異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、これらの材料タイプ、厚さ、形状、層、及び表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって選択することができる。図示の実施態様では、二次レンズは、一次レンズ材料よりもＵＶＣの透過率が低い材料から形成されている。具体的には、二次レンズの光拡散特性は、一次レンズの光拡散特性よりも大きい。したがって、二次レンズを通過するＵＶ光は、一次レンズを通過するＵＶ光よりも多くを拡散する傾向がある。これらの差、並びにレンズを互いに成形し位置決めすることにより、ＵＶレンズを変形、変化、損傷、又は退色させるおそれのあるＵＶホットスポットがレンズ上に形成されるのを防止する。
【0088】
図示の実施態様では、二次レンズ５０４は一次レンズに、一次レンズ５０２に対してオフセットされた位置で接合されている。おそらく図５において最もよく見られるように、より大きなＵＶ拡散特性を有する二次レンズのオフセット位置は、ＵＶ光を拡散し、ひいては標的消毒領域におけるＵＶ光の強度を低下させるのを支援する。一次レンズと二次レンズとは接合することができ、そして二次レンズの位置を一次レンズに対してセンタリング又はオフセットすることができる。図示の実施態様では、二次レンズ５０４は、一次レンズ５０２によって所定の位置に保持された挿入体である。一次レンズは、二次レンズ５０４を部分的又は完全に取り囲むフィンガ対５０８を含む。さらに、図示の実施態様では、一次レンズ５０２は概ね立方体の形状を有しており、これに対して二次レンズ５０４は概ね楕円円筒の形状を成している。
【0089】
複合レンズ５００は、標的消毒領域４１０において概ね均一な光分布を生成することが可能な消毒デバイス内に組み込むことができる。複合レンズ５００は、ＵＶ源４０６のより近くでは強度を低減し、そして標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで、すなわち複合レンズがない場合よりも比較的均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように、ＵＶ源４０６、リフレクタ４０４、及び消毒デバイスハウジング４０２を含む消毒デバイス４００に対して形成することができる。ＵＶ源と標的領域との間の距離が均一でない、すなわち標的消毒領域４１０の所定の部分が複合レンズにより近いか又は複合レンズからより遠い場合にも、概ね均一な強度パターンを提供することができる。図示の実施態様では、複合レンズ５００を含む消毒デバイス４００は、標的消毒領域に対して所定の角度を成して配向されている。表面４０８における標的消毒領域４１０は比較的平らであるが、しかし別の実施態様では、表面は平らでなくてもよい。例えば、標的消毒領域４１０は、複合レンズからのＵＶ光出力の光路内の表面上に置かれた任意の設備表面と併せて、表面の一部を含んでよい。図４を参照すると、複合レンズ５００はＵＶ消毒デバイス４００内に設けられている状態で示されている。消毒デバイス４００は、ハウジング４０２と、リフレクタ４０４と、ＵＶ源４０６と、既に述べた複合レンズ５００とを含む。本実施態様では、ＵＶ消毒デバイスは、表面４０８に対して約４５度を成して表面４０８に対して角度付けされている。ＵＶ消毒デバイス４００はＵＶ光を、複合ＵＶレンズ５００を通して、表面４０８に配置された標的消毒領域４１０へ向かって照らす。消毒面上の標的消毒領域４１０に対するＵＶ消毒デバイスの位置決め及び配向によって、標的消毒領域４１０の所定の部分が他の部分よりもＵＶ源に実質的に近接するか又は遠ざかる。フィールド消毒システムがこのような形態を有することは、ロジスティックな問題点がＵＶ消毒デバイスの配置を制限すること、そしてＵＶ光に対する意図せぬ暴露を防止するためにＵＶ光パターンが概ね下向きの角度で照らされることが要望されることに起因して、希なことではない。レンズからのＵＶ光出力がより均一なので、これはＵＶホットスポットが標的消毒領域において形成されるのを防止する。加えて、標的消毒領域に対する一次及び二次レンズ５０２，５０４の位置決め及び配向を含む、ＵＶ消毒デバイスの位置決め及び配向は、標的消毒領域４１０にＵＶ消毒デバイスから出力された均一なＵＶ光パターンを提供することに貢献する。具体的には、二次レンズ５０４がＵＶ光のより大幅な拡散をもたらすので、その区分を通る強度は、強く拡散された照明領域４１２を生成し、その結果、ＵＶ消毒領域におけるＵＶ光パターン全体は、複合レンズが配置されない場合よりも一様且つ均一になる。換言すれば、ＵＶ源により近接した標的消毒領域４１０の部分は通常は、より高い強度ＵＶ線量を受容するが、しかし、複合レンズ５００の特性はＵＶ光パターンを変化させるので、標的消毒領域におけるＵＶ光パターンは、そうでない場合よりも均一である。ＵＶレンズ５００は、より強く拡散された照明領域を取り囲むより少なく拡散された照明領域とともに、ＵＶ消毒デバイスに最も近接したハイライト拡散照明領域を、ＵＶ光パターンに提供する。
【0090】
一次及び二次レンズ内の添加材の量及びタイプを含む複合レンズ５００の特徴は、複合レンズの形状及びＵＶ源からの距離、標的消毒領域へのレンズのそれぞれの距離、ＵＶ源に対する複合レンズの角度、標的消毒領域に対する複合レンズの角度、リフレクタの形状、複合レンズとリフレクタとの間の距離、又はこれらの組み合わせにしたがって選択又は調節することができる。特徴は、ＵＶ源の測定又はシミュレートされたＵＶ光出力マッピングにしたがって選択又は調節することができる。特徴は、例えば、ＵＶ源からのＵＶ光がどのようにして複合レンズ５００を通って移動するかに基づいて選択又は調節することができる。特徴は、標的消毒ゾーンにおけるＵＶ光パターンに基づいて選択又は調節することもできる。
【0091】
図示の一次レンズ５００は、標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している補助プリズム５０６を含む。補助プリズム５０６は、さもなければＵＶレンズ５００によって直接には入射しない付加的なＵＶ光を捕捉し、この付加的なＵＶ光を標的消毒領域へ向ける。補助プリズムは、標的消毒領域でより均一な光分布を生成するのを支援する。例えば、補助プリズムはＵＶ源に対してより隔たった複合レンズ領域において、そして消毒デバイスに対してより隔たった標的消毒ゾーン位置において、ＵＶ光強度を高めることができる。補助プリズムは特徴を一次レンズと共有してよく、或いは、異なるタイプの量の添加材を含む異なる特徴集合を有していてもよい。
【0092】
Ｄ． 可変厚レンズ
【0093】
図６～８は、レンズの厚さを変化させることによってＵＶ強度を低減する可変厚レンズ６００の典型実施態様を示している。図６は斜視図を示し、図７は正面図を示し、そして図８は側面図を示す。図示の実施態様では、レンズ６００はＦＥＰから形成されている。別の実施態様では、レンズは異なる材料、例えばシリコーン、ＦＰＡ、ＰＴＦＥ、又は他のポリマーから形成することができる。材料の厚さはＵＶＣの強度を低減する。おそらく図８の側面図において最もよく見られるように、レンズは平滑な凹面側６０２とギザ歯側又は粗面側６０４とを有している。本実施態様では、ギザ歯側６０４は、一連の同心環状区分を備えたフレネル様レンズである。具体的には、側６０４は６つの凹面環状区分６０６を有しており、サイズをレンズの外縁へ向かって減少させている。この形態は、レンズから出力されたより均一な光パターンを提供するのを支援する。レンズ６００の光学特性は、添加材をレンズ材料、例えばＳｉＯ2中に装填することにより所期ＵＶ光パターンを達成するように、さらに改善することができる。
【0094】
図１７～１９は、可変厚レンズ６００が設けられたＵＶ消毒デバイスを示している。図１７は斜視図を示し、図１８は断面斜視図を示し、そして図１９は側方断面図を示している。ＵＶ消毒デバイス６２０は、ハウジング６２２と、リフレクタ６２４と、ＵＶ源６２６と、既に述べた可変厚レンズ６００とを含む。
【0095】
図２０～２２は、レンズ７００を備えたＵＶ消毒デバイスの別の実施態様を示している。図２０は側方断面図を示し、図２１は斜視図を示し、そして図２２は別の斜視図を示している。可変厚レンズ７００は、図６～８の可変厚レンズとは異なる形状を有している。レンズ７００の外側表面は、ファン様形状を形成する一連の角度付き先端であるギザ歯状表面を有している。本実施態様では、レンズの幅は、ＵＶ消毒デバイスキャビティ全体にわたっては達してはいないので、ＵＶレンズ７００によってフィルタリングされていないある程度の光は逃げることができ、ＵＶ消毒デバイスによって生成されるＵＶ光パターンに貢献することができる。別の実施態様では、レンズ７００の幅はＵＶ消毒デバイス全体に及ぶことができるので、ＵＶレンズ７００によってフィルタリングされていない光は逃げることができず、ＵＶ消毒デバイスによって生成されるＵＶ光パターンに貢献することができない。さらに、おそらくは図２０に最もよく示されているように、ＵＶ源７０６に対するレンズの配向及び配置は、ＵＶレンズ７００の所定の部分が他の部分よりもＵＶ源に近接するようになっている。これらの差異はレンズ７００の他の態様とともに、より均一な強度パターンを提供し得る一方、ＵＶ消毒デバイスは図４及び図９に示されたものと同様に配向され、標的消毒領域からオフセットされる。
【0096】
レンズ７００の拡散特徴に貢献する態様のうちの１つは、レンズ７００の出力面上の歯集合である。本実施態様では、７つの三角形の歯がある。形状、幅、配向、及び歯間の間隔はすべて、レンズが設けられたＵＶ消毒デバイスによって生成されたＵＶ光パターンに貢献することができる。レンズ７００の拡散特徴に貢献する別の態様は、その厚さ及びレンズの入力面及び出力面の曲率である。
【0097】
レンズ７００の特徴とは別個の他の態様が、ＵＶ消毒デバイスによって出力されたＵＶ光パターンの拡散特徴に貢献することもできる。例えば、他のＵＶ消毒デバイス構成部分、例えばＵＶ源、ＵＶ源特徴、そしてＵＶリフレクタがＵＶ消毒デバイス内に含まれる場合には、ＵＶリフレクタの特徴、配向、及び配置に対する、レンズ７００の物理的な位置及び配向が挙げられる。加えて、標的消毒領域に対する配向及び距離はまた、標的消毒領域の強度マッピングを考慮に入れる。いくつかの実施態様では、ＵＶ消毒デバイスは固定位置に取り付けられてよい。別の実施態様は、構成部分のすべてを含むＵＶ消毒デバイスシェードハウジングは、回転可能に取り付けられてよい。回転量は、ＵＶ消毒デバイスが、固定的な配向数の間で選択的に動くのを可能にする。ＵＶ消毒デバイスによって生成されたＵＶ光パターンが、ＵＶ消毒デバイスの固定的な配向の全てにおいて、最小強度と最大強度との間で標的消毒領域の所期ＵＶ光パターンを提供し得るように、ＵＶ源、レンズ７００を含むＵＶ消毒デバイスの種々の態様を選択することができる。いくつかの実施態様では、ＵＶ消毒デバイスは第１配向では第１強度範囲間の概ね均質なＵＶ光パターンを提供し、そして第２配向では第２強度範囲間の概ね均質なＵＶ光パターンを提供することができる。２つの範囲はオーバーラップすることができる。このようにして、ＵＶ消毒デバイスは、第１標的消毒領域及び第２標的消毒領域へ概ね均一なＵＶ光強度出力を提供することができる。尚、第１標的消毒領域は、第２標的消毒領域よりも大きい。
【0098】
レンズ７００の種々の態様は、所与のＵＶ源に対応して最大強度閾値を超えず、ＵＶ消毒デバイス及び任意の設備の標的消毒領域への損傷／変色がないか又は制限されることを保証するように、選択することができる。加えて、レンズ７００の種々の態様は、所与のＵＶ源に対応して最小強度閾値を超え、消毒目標を達成するのに十分なＵＶ線量があるように、選択することができる。レンズ７００の種々の態様は、ＵＶ源と協働して、最小ＵＶ－Ｃ強度閾値を超えると同時に、最大ＵＶ－Ｃ強度閾値を超えないＵＶ光パターンを標的消毒領域へ提供することができる。すなわち、標的消毒領域、例えば図２７～２８に示された領域の場合、ＵＶ消毒デバイスによって生成されたＵＶ光パターンは、１４インチ（３５．６ｃｍ）（～５．５ｃｍ）X１０インチ（２５．４ｃｍ）（～３．９ｃｍ）の面積にわたって、２μＷ／ｃｍ2超且つ６０μＷ／ｃｍ2未満の強度（Ｗ／ｃｍ2）を提供することができる。別の実施態様では、レンズ７００の態様は、種々異なる最小閾値と最大閾値との間、例えば５μＷ／ｃｍ2～７０μＷ／ｃｍ2又は１０μＷ／ｃｍ2～５０μＷ／ｃｍ2のＵＶ光パターンを提供するように選択することができる。
【0099】
図９を参照すると、これは、表面全体にわたって比較的均一なＵＶエネルギーのパターンをＵＶ光投影するためにレンズの光学特性をどのように選択し得るかを示している。距離の関係を理解することによって、エネルギーの釣り合いのとれた改善、又はエネルギーの低減をレンズのジオメトリ及び材料において用いることにより、ＵＶＣエネルギーの均一な投影パターンに影響を与えることができる。例えば、ＵＶ消毒デバイスは位置９００又は９０２に搭載又は取り付けることができる。位置９００は、キーボードに搭載されたＵＶ消毒デバイス、又はモニター下に搭載されたＵＶ消毒デバイスを表しているのに対して、位置９０２はモニター上又はキャビネットに搭載されたＵＶ消毒デバイスを表している。両方の環境において、ＵＶ消毒デバイスは、標的消毒領域からオフセットされている。下方に搭載されたＵＶ消毒デバイスの光学特性は、ＵＶ消毒デバイスのレンズの光学特性を調節することによって、パターン９０４，９０６又は９０８のいずれかにしたがってＵＶ標的消毒パターンを提供することができる。同様に、ＵＶ消毒デバイス９０２は、位置９０２に搭載されたＵＶ消毒デバイスのレンズの光学特性を選択的に調節することにより、標的消毒領域９１０又は９１２に比較的均一なＵＶ消毒光パターンを提供することができる。
【0100】
図２３～２８を参照すると、図９及び種々の標的消毒領域をより良く理解することができる。図２３～２８は、典型的標的消毒領域に沿ったＵＶ光強度マッピングを示している。具体的には、図２３及び２４は、ＵＶ消毒デバイス１００６からワークステーションのキーボード１００２領域上へのＵＶ光投影パターン１０００を示す代表的ダイアグラムである。ＵＶ光投影パターン１０００は、ＵＶ光投影パターンによってカバーされた全般的な角度及び領域を観察者に提供するように部分的にのみ示されている。実際にはＵＶ光は、図２５～２８の強度マップから明らかなように、キーボードが配置された表面まで延びている。図２５～２６は、ＵＶレンズなしの典型的ＵＶ消毒デバイスのためのＵＶ光強度マッピングを示す。図２５は、Ｙ軸に沿った強度測定値を示すのに対し、図２６は、X軸に沿った強度測定値を示している。図２３～２４のキーボードをグラフ上に重ねることにより、基準フレームを提供する。総合すれば、図２５～２６のグラフは、ＵＶ消毒デバイスが配置されている真下に位置するキーボード中心に約９５μＷ／ｃｍ2の最大強度がこの例では存在することを示している。ＵＶ光がＵＶ消毒デバイスから遠く離れるのに伴って、ＵＶ光強度はＹ及びＸ軸の両方で減少する。図２７～２８は、強度マッピングに対する図２０～２２のＵＶレンズの効果を示している。図２０～２２のレンズを設けることによって、ＵＶ光パターンは標的消毒領域全体にわたってより均一になる。総合すれば、図２７～２８のグラフは、ＵＶレンズを設けることによって最大強度が約６１μＷ／ｃｍ2であることを示している。これはＵＶレンズなしの場合の最大値９５μＷ／ｃｍ2よりもかなり低い。
【0101】
Ｅ． ＵＶ透過フィルム
【0102】
ＵＶ透過フィルムをデバイス又は表面に被着することにより、デバイス又は表面のＵＶ消毒作用を改善することができる。ＵＶ透過フィルムの光学特性は、フィルムに添加材を装填すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、フィルム材料のタイプ、厚さ、形状、層、及び表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって選択することができる。
【0103】
図１１に示された一実施態様では、ヒューマンインタフェースデバイス、例えばタブレット、コンピュータ、キオスク、又は他のヒューマンインタフェースデバイスのタッチスクリーン又はキーパッド１１００の表面に、多層ＵＶ透過フィルム１１０２が被着されている。ＵＶ入力光１１０４は、ヒューマンインタフェースデバイス上又は内部に設けられるか又はヒューマンインタフェースデバイス外部に設けられたＵＶ源（図示せず）から、多層ＵＶ透過フィルム１１０２のエッジへ向かって導かれてよい。ＵＶ入力光１１０４は、多層ＵＶ透過フィルム１１０２全体のエッジによって、又はＵＶ透過フィルムの一部だけによって入射してよい。
【0104】
図２９に示された別の実施態様では、多層ＵＶ透過フィルムは、ＵＶ消毒充電デバイス、例えば２０１９年６月１０日付けで出願された“MOBILE DEVICE DISINFECTION”と題するBaarman他の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０３６２９８号に記載されたＵＶ充電ラック又はＵＶ消毒充電器の基体に被着するか、又はその表面８０４を形成することができる。前記文献はその全体を参照することにより本明細書中に援用される。図２９に示されたＵＶ消毒充電器は、ＵＶ源８０８と、ＵＶ源のためのＵＶシェード８２８と、ＵＶ多層透過面８０４と、ＵＶ消毒充電器ハウジング８２６とを含む。充電に関する詳細、例えばＵＶ多層透過面８０４上に配置された有線又は無線充電のための充電電子素子は、従来的なものであるので、詳細に説明することはしない。ＵＶ多層透過面は、マーキング又は他のフィーチャを含むことにより、１つ又は２つ以上のデバイスを表面８０４上のどこに位置決め又は配置すべきかを指示することができる。
【0105】
図３５～４３に示された別の実施態様では、消毒デバイス２００のハウジング２０６内のＵＶ源２１２の間にＵＶ透過フィルム２２６が配置されている。ＵＶ透過フィルム２２６は多層レンズであってよい。典型的には、消毒デバイス２００は、標的消毒領域、例えば表面を少なくとも部分的に消毒するように形成されている。例えば、装置２００は、デバイス又は他の設備片のヒューマンインタフェース面を消毒するように形成することができる。ヒューマンインタフェース面はヒューマンタッチ面を含むことができる。消毒デバイス２００は、アパーチャ２０８を画定するハウジング２０６を含むことができる。ハウジング２０６は、第１上部２１４と第２底部２１６とを含むことができる。これらは互いに接合することにより、ハウジング２０６を形成するように形成されている。
【0106】
おそらくは図４０の分解斜視図に最もよく示されているように、消毒デバイス２００は、さらに、ハウジング２０６内に少なくとも部分的に密閉することができる紫外線（ＵＶ）光源２１２を含むことができる。ＵＶ光源２１２は２つの保持クリップ１１８によってハウジング内部の所定の位置に保持することができる。保持クリップは、ＵＶ光２１２をハウジング内部に固定し、そしてまたＵＶ光源の端子２１９を回路板２２０に電気的に接続する。ハウジング２０６内部には、リフレクタ２２２を配置することもできる。
【0107】
ＵＶ光源２１２は照射パターンを標的消毒領域２０４へ向かって投影することができる。消毒デバイス２００は、ＵＶ光源２１２が、期待標的消毒領域２０４、例えばヒューマンインタフェースデバイスのタッチ面、例えば図４１に示されたキーボード２０２に相当する照射パターンを投影するように形成することができる。アパーチャ２０８は、ＵＶ照射パターンに対して、少なくとも部分的に影響を与え、且つ定義することができる。例えば、図示の実施態様のアパーチャ２０８は、概ねスタジアム形状であり、そして細長いＵＶ光源２１２は、アパーチャ２０８の開口と長手方向及び横方向の両方向で概ね整合されているので、照射パターンはアパーチャの全体的な形状に概ね制限される。しかしながら、消毒デバイス２０８は、例えば図４１～４３の実施態様に示されているように、典型的には標的消毒領域２０４に対してオフセットされ隆起しているので、消毒デバイスは、期待標的消毒面に対して所定の角度でＵＶ照射パターンを投じる。このようなものとして、アパーチャ２０８を通るＵＶ照射パターン（他のＵＶパターンの影響は考慮しない）は概ねスタジアム形状であり、この形状は、パターンが投じられる表面に対する消毒デバイスの配向及び位置に起因して標的消毒領域では細長い。加えて、ＵＶ照射パターンの強度分布は概ね楕円形状を形成しており、ＵＶ照射パターンの強度はＵＶ源の細長い形状に対応しており、横方向及び長手方向に弱まり、横方向軸に沿って強度を増大させるＵＶ源の細長い形状に起因して長手方向エッジへ向かってより急速に減少する。
【0108】
ＵＶ光投影経路内の任意の光学系、リフレクタ２２２、レンズ２２６、ルーバ２２４、ルーバフレーム２２８、アイブロー２２５、ノーズ２３５，又はこれらのいずれかの組み合わせによって、ＵＶ照射パターンに少なくとも部分的に影響を与え、そしてＵＶ照射パターンを定義することもできる。光学系は単独又は種々の組み合わせで一緒に、ＵＶパターン制御、ＵＶパターン成形、ＵＶパターン延伸、ＵＶパターン再指向、ＵＶパターン排除、ＵＶ強度制限、ＵＶ強度平滑化、ＵＶ視線制限、及びＵＶ線量制限を含む種々異なる機能を発揮することができる。これらの機能は、ＵＶ透過、ＵＶ透明、ＵＶ反射、ＵＶ不透明材料、又はこれらの組み合わせ、例えば種々のポリマー、金属、複合体、又は他の材料から種々の構成部分を形成することによって達成することができる。光学系は種々異なる方法で、例えばＵＶ光を遮り、ＵＶ光を反射し、ＵＶ光を屈折させ、ＵＶ光を吸収し、ＵＶ光を再指向し、ＵＶ光を遮蔽すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって、これらの種々の機能を発揮することができる。ＵＶレンズ２２６を通った後で開口２０８で受容されたＵＶ照射パターンは、ルーバ２２７、ルーバフレーム２２８、アイブロー２２５、遮蔽プレート２３４、及び反射フィン２３６を含む、開口１０８内部に位置決めされた複数の異なる光学遮蔽手段のうちの１つ又は組み合わせによって遮蔽することができる。すなわち、消毒デバイスによって出力されたＵＶ照射パターンは、開口２０８から延びるＵＶ－Ｃ照射パターン成形システムによって、成形することができる。ＵＶ－Ｃ照射パターン成形システムは、ルーバ１２７、ルーバフレーム１２８、アイブロー１２５，遮蔽プレート１３４、及び反射フィン１３６のうちの１つ又は２つ以上を含むことができる。具体的には、ＵＶ－Ｃ照射パターン成形システムは、開口１０８からＵＶ－Ｃ光を受容し、ＵＶ－Ｃ照射パターンを成形することにより、期待標的消毒領域又は表面上へ投じるための成形ＵＶ－Ｃ照射パターンにすることができる。成形ＵＶ－Ｃ照射パターンは、期待標的消毒面又は領域上に投じられると、結果として生じる、領域又は表面上のＵＶ－Ｃ照射パターンが概ね均一な強度を有するような特徴を有するように成形することができる。すなわち、成形ＵＶ－Ｃ照射パターン特徴は、期待標的消毒領域に対する消毒デバイスの配向及び位置を考慮に入れ、そして消毒デバイスは光学フィーチャ、例えばハウジングから延びるＵＶ－Ｃ照射パターン成形システムを含むことにより、成形ＵＶ－Ｃ照射パターンを提供するようにＵＶ光を適合させるので、消毒デバイスに対する期待距離及び期待位置で期待標的消毒面上に投じられると、ＵＶ照射パターンは比較的均一になる。
【0109】
消毒デバイスによって投じられたＵＶ光パターンの強度の均一性は、数多くの種々異なるファクタに応じて変化することができる。２つのこのようなファクタは、消毒デバイスから出力されたＵＶ光パターンの特徴、及び標的消毒領域との距離である。標的消毒面の輪郭が距離に、ひいては標的消毒領域における最終的な強度に影響を及ぼし得ることは注目すべきである。距離は本明細書で論じたように、逆二乗法によるファクタである。このことは、照射強度が、源からの距離の二乗に反比例して変化することを本質的に表す。簡単にいえば、所与の照射パターンに対して、源からの距離が２倍になると、光強度は４分の１に低下する。このことは、全方向性光源に隣接する平面の場合、平面上の光パターンは、光源が最も近接する場所で最高強度を有する傾向があり、次いでその地点から離れると全方向で急速に低下する。なぜならば光源と平面との間の距離が増大するとともに、光強度は降下するからである。
【0110】
実際にはＵＶ照射パターンの強度はより複雑である。ＵＶ源は全方向性でない場合があり、標的消毒領域は源に隣接する平面でない可能性がある。ＵＶ源は複数の不連続な源を含んでよい。源の形状は細長くてよい。ＵＶ光はリフレクタ、レンズ、遮蔽手段、指向性ルーバ、又はこれらの組み合わせと相互作用してよい。例えば、ＵＶランプが細長い場合、ＵＶ光パターンは中央に最高強度を有する傾向があり、強度はランプの細長い形状に起因して緯度方向よりも長手方向においてより急速に弱まる。さらに、ＵＶ源は標的消毒領域へ向かって下向きの角度でそのパターンを投じることができる。標的消毒領域はそれ自体多様な輪郭、例えばキーボード、マウス、又は他のタイプの不規則的な表面を有してよい。さらに、レンズの光学特性は、ＵＶ光経路に有意義な影響を与えることができる。したがって、標的消毒領域において比較的均一な強度を提供するために、消毒デバイスから出力されたＵＶ－Ｃ照射パターンはおそらく、不均一な強度パターン、より具体的には、不均一な強度を有するＵＶ照射パターンを有することになる。この不均一な強度を有するＵＶ照射パターンは、ＵＶ照射パターンが期待標的消毒領域に達すると、この期待標的消毒領域が消毒デバイスに対して所定の距離内にあり、且つ消毒デバイスに対して所定の配向内にあるものと考えて、概ね均一な強度を有することになるように選択される。
【0111】
例えば、消毒デバイスは、期待消毒領域において比較的均一な強度パターンを生成するＵＶ照射パターンを提供するように形成することができる。ここでは、消毒デバイスは期待標的消毒領域のエッジよりも数センチ上方に配置され、開口は期待標的消毒領域へ向かって下向きに約３０～４５度を成して角度付けされている。もちろん消毒デバイスは、比較的均一な強度パターンを生成する異なるＵＶ照射パターンを出力するように形成することもできる。この場合、消毒デバイスは、異なる期待標的消毒領域に対して異なる高さ及び異なる配向で配置される。すなわち、期待標的消毒領域（例えばフラットな表面、傾斜表面、キーボード、及びマウス、キーボード単独、種々の付属品を備えたデスク表面、椅子、キャビネット、ハンドル、カート、電話機、シンク、カウンタートップ、又は繰り返し可能な自動消毒を可能にするように消毒デバイスを取り付け得る本質的に任意の他の領域又は表面）に関する種々の高さ及び配向に対応して、光学レンズ２２６は、期待標的消毒領域に投じられたＵＶ照射パターンが均一な強度を有するようにＵＶ光に影響を与えることができる。さらに、もしあるならば、光学的遮蔽手段、例えばルーバ、アイブロー、及び遮蔽プレート、開口を有する又は有しない遮蔽プレート、及びフィンリフレクタを有する又は有しない遮蔽プレート、及びこれらのいずれかの組み合わせは、ＵＶ光の一部を遮蔽することができるので、期待標的消毒領域に投じられたＵＶ照射パターンは均一な強度を有する。言うまでもなく、均一な強度はすべての強度値が正確に等しいことを必要とするのではなく、期待標的消毒領域における強度が、光学遮蔽手段又はＵＶレンズがない場合よりも実質的に均一であることを必要とする。一例において、期待標的消毒領域はキーボードであり、ＵＶ消毒デバイスはキーボード上面の数センチ上方に搭載されている（例えば図４２～４３に示されている）。例えばＵＶ消毒デバイス２００の位置及び配向に対するキーボードの輪郭及び形状に起因する（又はキーボード・キックスタンドが伸長されているか否かに起因する）キーボードの輪郭の僅かな変化が生じても、キーボードをカバーする期待標的消毒領域２０４全体にわたる比較的均一な強度を維持するように、ＵＶ照射パターンを出力するべく、ＵＶ消毒デバイスは形成されている。
【0112】
回路板２２０とＵＶ光源２１２との間にリフレクタ２２２を差し込むことにより、回路板２２０をＵＶ光の暴露から保護し、ハウジングの開口２０８へ向かってＵＶ光を反射することができる。リフレクタ２２２は保持部材２２１を含むことができ、保持部材は回路板２２０のエッジを締め付けて、ハウジング２０６内部の所定の位置にリフレクタを固定する。リフレクタの形状、サイズ、反射率、及び他の特徴は、用途に応じて、そして他の構成部分の特徴に応じて変化し得る。本実施態様では、リフレクタ２２２はＵＶ源の長さに沿って円弧を形成しているので、ＵＶ源２１２によって発せられたＵＶ光の大部分はアパーチャ２０８へ向かって導かれる。
【0113】
ＵＶ照射パターンに影響を与える定義された光学特性集合を有するＵＶレンズ２２６が、消毒デバイス２００上のＵＶ光源２１２と標的消毒領域２０４との間に配置することができる。本開示では、ＵＶレンズ２２６は可撓性ＵＶフィルム２２６である。可撓性ＵＶフィルムは、開口２０８を覆い、ハウジング２０６の内部キャビティをシールするためにハウジングの下側部分２１６の内側表面に接着され、ハウジング内部の種々の構成部分間の相互作用によって所定の位置に保持され、或いは開口１０８とハウジング２０６の内部キャビティとの間をシールするように所定の位置に保持される。ＵＶレンズ２２６は、ＵＶ光源２１２からのＵＶ光を、開口２０８全体を通して、そしてより具体的にはルーバ２２４間の間隔を通して導くように形成することができる。
【0114】
いくつかの実施態様では、ＵＶレンズ２２６は可撓性ＵＶフィルム２２６である。可撓性ＵＶフィルムは、開口２０８を覆い、ハウジング２０６の内部キャビティをシールするためにハウジング２１６の下側部分の内側表面に接着され、ハウジング内部の種々の構成部分間の相互作用によって所定の位置に保護され、或いは開口１０８とハウジング２０６の内部キャビティとの間をシールするように所定の位置に保持される。ＵＶレンズ２２６は、ＵＶ光源２１２からのＵＶ光を、開口２０８全体を通して、そしてより具体的にはルーバ２２４間の間隔を通して導くように形成することができる。
【0115】
ＵＶレンズ２２６によって提供されたシールは保護を可能にする。例えば、ハウジング２０６内部で構成部分が破断した場合、ＵＶフィルム２２６は、破断した構成部分片の脱落を防止し、そしてガス又は液体がハウジングのキャビティから開口２０８を通って漏出するのを防止することができる。ＵＶフィルム２２６は、望まれない異物又は流体がハウジング２０６の内部キャビティ内の構成部分に達するのを防止することもできる。
【0116】
ＵＶレンズ２２６の特性は、レンズに添加材を装填すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、ＵＶレンズの材料、厚さ、形状、層、表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって選択し、改善することができる。ＵＶレンズのための光学特性は、標的消毒領域２０４全体にわたって概ね均一なＵＶ光パターンを成してＵＶ光を分配するのを支援することができる。より均一なＵＶ光パターンによって、ＵＶレンズ上又は標的消毒領域に退色又は他の損傷を生じさせるおそれがあるＵＶホットスポットを低減又は防止することができる。いくつかの実施態様は、ＵＶ光媒体に対して、標的消毒領域の表面、例えばユーザーインターフェイス面全体にわたってＵＶ光を拡散又は分散させる拡散特性を与える。
【0117】
ハウジング２０６の開口２０８内部に、ルーバフレーム２２８と指向性ルーバ２２７とを含むルーバシステム２２４を配置することにより、消毒デバイス２００によって出力されるＵＶ照射パターンに影響を与えることができる。図４１の断面図を参照すると、消毒デバイスは、消毒デバイスの下方及び前部の標的消毒領域２０４へ向かって配向されると、目の高さが消毒デバイスと同じ又はその上方にある使用者は、ＵＶ光源に対して直接的な視線を有することはない。さらに、ルーバ２２７の動的な進行は直接的な視線をさらに制限するので、使用者の目の高さが消毒デバイスの下方にある場合でさえ、ＵＶ光源に対する直接的な視線はない。加えて、照射パターンが標的消毒領域１０４に到達するために最も遠くに移動するように形成されている場合には、消毒デバイスの前部へ向かってルーバ間の間隔を多くし、そして照射パターンが標的消毒領域２０４に到達するために最も近くに移動するように形成されている場合には、消毒デバイスの後部へ向かってルーバ間の間隔を少なくすることによって、ルーバ２２７間の動的間隔はＵＶ照射パターンの均一性を高める。
【0118】
ルーバシステム２２４は、開口２０８を少なくとも部分的に覆うことができる。具体的には、開口２０８はルーバフレーム２８８によって輪郭付けすることができ、前記ルーバフレームは、ＵＶ光源２１２から使用者への直接的な視線を制限し、そして消毒デバイス２００によって出力されるＵＶ照射パターンに影響を与えることができる。ルーバフレーム２２８は、ルーバフレーム２２８の前部から、開口２０８から離れる方向に突出しているアイブロー２２５を含むことができる。さらに、ルーバフレーム２２８はルーバ２２７を支持することができる。図示の実施態様のルーバフレーム２２８はルーバ２２７を、ルーバフレーム２２８の後部からアイブロー２２５が配置されたルーバフレーム２２８の前部に延びる２つの緯度方向フレーム区分２３０を有する３つの集合に分けている。緯度方向ルーバフレーム区分２３０の厚さは、後部から前部へ変化することができるので、厚さフレーム区分２３０は、アイブロー２２５の底部と同一平面上の表面を形成する。２つの緯度方向フレーム区分２３０はルーバ２２４を３つの集合、すなわち、４つのルーバから成る２つの側方集合、及び５つのルーバから成る中央の集合に分割している。緯度方向フレーム区分２３０の壁のプロフィールを湾曲させることにより、開口２０８を通るＵＶ照射パターンに影響を与え、標的消毒領域におけるＵＶ照射パターンの均一性を高めることに貢献することができる。例えば、図示の実施態様における緯度方向フレーム区分２３０のプロフィールは概ね凹面状である。図示の実施態様のルーバフレーム２２８はまた、長手方向ルーバフレーム区分２３２を含んでいる。これらの長手方向ルーバフレーム区分２３２は、ＵＶ光が開口２０８の後部へ向かって、そして具体的には開口１０８の側方後部区分から射出するのをブロックする。２つの長手方向フレーム区分２３２はルーバフレーム２２８の一方の側からルーバフレームの中央へ向かって延びることにより、それぞれ緯度方向フレーム区分２３０と合致する。長手方向フレーム区分２３０のプロフィールは、開口２０８を通るＵＶ照射パターンに影響を与え、標的消毒領域におけるＵＶ照射パターンの均一性を高めることに貢献する。例えば、図示の実施態様における長手方向フレーム区分２３０のプロフィールは概ね平面状であり、そしてより近いという理由で源から最高強度ＵＶ光を受容する傾向のある標的消毒領域に最も近接したＵＶ光をブロックする。したがって、ルーバフレーム２２８は開口２０８の部分を覆い、そしてＵＶ光２１２からの開口を通るＵＶ照射パターンに影響を与えることができる。別の実施態様は、付加的なルーバ及びルーバフレーム、又はより少ないルーバ及びルーバフレーム、或いはルーバ及びルーバフレームが全くないものを含む、異なるルーバフレーム形態並びに異なるルーバ形態を含むことができる。
【0119】
ＵＶ不透明ノーズ２３５は、開口２０８からのＵＶ照射パターンの一部を遮蔽することができる。ＵＶ照射パターンの一部のブロック、反射、又は吸収は、標的消毒領域におけるＵＶ照射パターンの強度の均一性を高めることができる。ＵＶ不透明ノーズ２３５は、均一な線量を制御するための、用途特異的な光学系である。ノーズは取り外し可能且つ交換可能なエレメントである。さらに、ノーズは設計特異的なパターンを投じるための反射面を含むことができる。
【0120】
開口２０８の中心の近くにノーズ２３５を位置決めすることにより、ＵＶ照射パターンの最高強度部分を遮蔽することができる。結果として生じるＵＶ照射パターンは、より高い強度の２つの側方区分とともに、中央に強度が全くないか又は強度が低い中央区分を有する。消毒デバイスの出力時のこのような強度不均一性は、標的消毒領域における均一性の増大に変換される。このようなＵＶ光パターンがいくつかのＵＶ光パターンを改善し得る一方、ノーズ２３５は、標的消毒領域におけるＵＶ光パターンの強度均一性全体を高めるようにオーダーメイドされた種々異なるフィーチャを含むことができる。
【0121】
ノーズの形状をオーダーメイドすることにより、緯度方向並びに長手方向におけるＵＶ強度を制限することができる。図示の実施態様では、これは概ね二等辺台形ＵＶ不透明プラスチックプレート２３４と、２つのＵＶ不透明プラスチックフィン１３６とを含む。ＵＶ不透明プラスチックフィン１３６は、消毒デバイスの中間点から離れる方向に、約４５度の角度を成して台形の脚から延びている。ルーバフレーム区分２３０と一緒に、ＵＶ不透明プレート２３４は、開口２０８から出力されたＵＶ照射パターンの中央部分の多くを遮蔽する。
【0122】
プレート２３４はアパーチャ２４２を含むことにより、遮蔽領域全体にわたるＵＶ線量を制限することができる。アパーチャ１４２は、期待標的消毒領域、例えば、消毒デバイスから隔たった特定の距離範囲内の期待標的消毒領域の強度の均一性を高めるように形成することができ、前記消毒デバイスは、標的消毒領域に対して特定の角度内で配向されている。アパーチャ２４２は、少なくともそのサイズ、形状、及びプレート２３４内の位置を調節することにより、形成することができる。例えば、アパーチャ２４２は台形プレート２３４の上側３分の１へ向かって緯度方向に位置決めすることができ、そして直径約０．２５ミリメートルの円形形状であってよい。別の実施態様では、例えば消毒デバイスの期待された位置及び配向を含む用途に応じて、アパーチャ２４２は異なるサイズ、形状、位置、又はこれらのいずれかの組み合わせを含むことができる。図４１に示された実施態様の場合、付加的なアパーチャ２４３がプレート２３４内に含まれる。付加的なアパーチャ２４３はプレート２３４の底部３分の１へ向かって緯度方向に位置決めされ、前記他のアパーチャ２４２の面積の約２倍を有するスタジアム形状を有している。この付加的なアパーチャは、期待標的消毒領域が、複数のＵＶ標準のいずれか１つにしたがって消毒を行うのに十分なＵＶ光を受容することを保証するのを支援することができる。所定の厚さを有する表面を通るアパーチャの角度もＵＶ光に影響を与えることができ、このことは消毒デバイスからのＵＶ照射パターン全体に影響を与える。例えば、概ね台形の輪郭を有する遮蔽プレート２３４は平らでなく、その換わりに、構造又は輪郭を含む構造の厚さを変更することによって形成された凸面状部分及び凹面状部分を含むことがある。このことはおそらく図４１の断面図において最も容易に見ることができ、図４１は、アパーチャ２４３，２４２と、遮蔽ノーズ２３５の波状面とを示している。輪郭は、１つのアパーチャ２４２を備えた実施態様を示す図３５でも見ることができる。アパーチャの種々の特徴は、期待標的消毒領域に対する消毒デバイスの期待される位置及び配向に対応して、期待標的消毒領域におけるＵＶ照射パターンの均一な強度を高めるように選択することができる。１典型的実施態様では、アパーチャ２４２の特徴、及び他の消毒デバイスの特徴は、標的消毒領域の中央領域内に２μＷ／ｃｍ2強度レベルのベースラインを提供する。
【0123】
フィン２３６はＵＶ反射材料から形成し、ＵＶ反射材料層を含み、又はＵＶ透過性であってもなくてもよいベース基体上にＵＶ反射被膜を有することができるので、開口２０８に面する各フィンの内向きの側が、これに入射するＵＶ光を反射する。反射フィンによって入射した開口２０８からのＵＶ光出力部分は、消毒デバイスから出力されたＵＶ照射パターンに影響を与えることにより、ＵＶパターンを成形する。例えば、図４３に示されているように、図示のように配置された配向された消毒デバイスの場合、ＵＶ照射パターン２０４は、反射フィンなしではＵＶ光を受容しない、キーボード２０２の上面近くの横方向角隅２３８を含むキーボード全体を覆っている。フィンの配向、形状、及びサイズは、用途及び所期ＵＶ照射パターン形状に応じて変化することができる。なお、図示の実施態様は反射フィンを含むものの、遮蔽ノーズの別の実施態様はフィンを含まなくてよく、或いは反射被膜を省き、ＵＶ光を反射しない遮蔽フィンのみを備えるだけであってもよい。
【0124】
消毒デバイス２００のハウジング２０６は、消毒デバイスをアタッチメントデバイスに取り付けるためのカップリングメカニズムを含むことができる。例えば、調節可能なアタッチメントデバイスは、２０１３年１０月２日付けで出願されたPORTABLE LIGHT FASTENING ASSEMBLYと題する米国特許出願公開第２０１５／０２９７７６６号明細書に記載された、調節可能なアタッチメントデバイスであってよい。或いは、アタッチメントデバイスは取り付け後には調節できないものであってもよく、これにより、消毒デバイスの配向、高さ、及び位置が標的消毒領域に対する取り付け時に固定される。アタッチメントデバイス２１０は、一方の端部で消毒デバイス２１０に取り付けるだけでよく、他方の端部で支持構造に取り付けられるのではなく、しかし代わりに自立支持構造を形成するように形成されていてよい。例えば、アタッチメントデバイスは一方の端部で消毒デバイス２００に取り付けることができ、そして標的消毒領域、例えばキーボード２０２の近くに配置するために他方の端部でテーブルスタンドとして形成することができる。
【0125】
消毒デバイス２００は、電力回路、制御回路、検知回路、及び通信回路を含む、動作のための回路を含むことができる。例えば、消毒デバイス２００は、２０１６年１月２６日付けで発行された“PORTABLE LIGHT FASTENING ASSEMBLY”と題する、Cole他の米国特許第９，２４２，０１８号明細書、２０１８年５月２２日付けで発行された“UV GERMICIDAL SYSTEM, METHOD, AND DEVICE THEREOF”と題するCole他の米国特許第９，９７４，８７３号明細書、２０１９年６月１０日付けで出願された“DISINFECTION BEHAVIOR TRACKING AND RANKING”と題するBaarman他の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０２３８４２号、及び２０１９年６月１０日付けで出願された“MOBILE DEVICE DISINFECTION”と題するBaarman他の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０３６２９８号に記載されているように、本開示の消毒デバイス２００の種々の実施態様及びこれらの変更形内に組み込まれた回路を含むことができる。上記文献は全体を参照することにより前に援用された。別の例としては、消毒デバイス２００は、２０２０年３月６日付けで出願された“UV DISINFECTION PLATFORM”と題する米国仮特許出願第６２／９８５，９７６号に記載されているように、本開示の消毒デバイス２００の種々の実施態様及びこれらの変更形内に組み込まれた回路を含むことができる。上記文献は全体を参照することによりここに援用される。
【0126】
多層ＵＶ透過フィルム、例えばＵＶ消毒充電器のための多層ＵＶ透過媒体８０４、多層ＵＶ透過媒体１１０４、又はＵＶフィルム２２６は、ＵＶ透過特性を有する２つ又は３つ以上の材料層を含むことができる。ＵＶ透過媒体１１０４／８０４／２２６はＵＶ透過スキン、又は消毒のためのＵＶ光の輸送及び分配を可能にするレンズとして作用することができる。例えば、いくつかの実施態様では、種々異なる層は、異なるＵＶ反射特性、ＵＶ吸収特性、ＵＶ透過性、又は他のＵＶ光偏光特性を有することができる。これらの特性は協働して、ＵＶ光が所期の強度範囲を持って標的消毒領域に達するのを可能にする所望のＵＶ光分布を提供する。
【0127】
異なる層の異なる特徴は種々異なる方法で提供することができる。ＵＶ多層媒体は、異なる層に異なる（又は異なる量の）ＵＶ特性を変更する添加材を装填すること、層の厚さを変更すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、層材料タイプを変更すること、異なる層の形状を変更すること、又は層表面のうちのいずれかの表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせにより選択されたその光学特性を有することができる。複数の層を利用することにより、表面のＵＶエネルギー分布特性を改善することができるので、ＵＶ光は、他の問題を引き起こす範囲にまでＵＶ源強度を高める必要なしに、さもなければ初期強度に達することが難しい領域にＵＶ光は達することができる。
【0128】
ＵＶ多層媒体は任意の数の層を含むのに対して、実施態様の多くは１つ又は２つ以上の輸送層から成る集合と、１つ又は２つ以上のインターフェイス層とを含む。輸送層は、層に入力されたＵＶ光を促してフィルムの長さに沿って透過するＵＶ光特性を含む。インターフェイス層は輸送層からのＵＶ光を消毒のためにインターフェイス層へ拡散するためのＵＶ光特性を含む。一実施態様では、ＵＶ透過フィルム／媒体の異なる層が、異なる厚さと添加材の異なる装填量とを有する。他の実施態様では、ＵＶ透過フィルム／媒体の異なる層は、異なるＵＶ光特性を有する異なる材料から形成されている。インターフェイス層内の添加材の厚さ、材料、及び装填量は、輸送層から受容された光が拡散され、暴露インターフェイス面を消毒するのに十分な線量を持って、インターフェイス層の外側表面に達するようになっていてよく、インターフェイス面は例えばその表面上に載置されたデバイスを含む。例えば暴露されたインターフェイス面はＵＶ消毒充電器面８０４であり、暴露されたインターフェイス面上に載置されたデバイスがある。輸送層内の添加材の厚さ、材料、及び装填量は、所与の定義されたＵＶ光入力を考慮して、ＵＶ媒体／フィルムの全長に沿ってインターフェイス層へ十分な光が提供されるので、インターフェイス層による拡散後には、暴露面を消毒するのに十分なＵＶ光が、たとえＵＶ光入力から最も離れた距離のところでも存在する。
【0129】
いくつかの実施態様では、多層ＵＶ透過媒体１１０は、異なるＵＶ特性を有する２つ又は３つ以上の材料層を含んでよい。図１１の実施態様を参照すると、暴露された外側表面を有する外層１１０６は、消毒のための送達層であり、粒子１１０８を有している。粒子１１０８は、同じタイプの粒子１１０８をより低い密度でさらに有する第２の内層１１１０からの反射光を再指向する。これらの粒子は石英又はＵＶＣのための他の半透明材料であってよく、しかし光を外方へ向かって屈折させるファセットを有している。この第２層１１０８は分配層であり、材料の距離の端部で利用可能なある程度のエネルギーを有するのに十分な反射材料を有し、これに対して外層１１０６の暴露面を消毒するのに十分なＵＶエネルギーを外層１１０６へ提供するように設計されている。換言すれば、多層ＵＶ透過フィルム１１０２の一方の層はより高い密度で反射粒子を有し、これに対して他方の層はより低いレベルの反射粒子を有しており、そして主としてエネルギーを第１層へ分配するために使用され、そしてより低い密度で反射粒子を有している。
【0130】
図１１の断面図は、ＵＶ消毒充電器、例えば図２９に示されたものと併せて使用するためのＵＶ多層透過媒体を同様に表すこともできる。タッチスクリーン又はキーパッドに被着する代わりに、多層ＵＶ透過媒体をＵＶ消毒充電器の基体又は他の表面に被着することができる。基体１１００は、ＵＶ光がＵＶ－Ｃ多層透過媒体に沿って分布するのを促進するための反射特性を有することができる。ＵＶ光は種々様々な方法でＵＶ透過多層媒体内へ入力することができる。いくつかの実施態様では、ＵＶ光はＵＶ源８０８から表面８０４へ向かって照らされるので、ＵＶ光は表面上に配置された１つ又は複数のデバイスの露出面を消毒する。加えて、ＵＶ透過多層媒体８０４に入射したＵＶ源８０８は、表面全体にわたって、表面８０４上に配置された１つ又は２つ以上のデバイスの下側まで分配され、これらの表面を消毒する。別の実施態様では、ＵＶ源８０８は、ＵＶ光をＵＶ透過媒体８０４のエッジへ、光パイピング（ｌｉｇｈｔ ｐｉｐｉｎｇ）又は他の形で分配することができ、ＵＶ源ハウジング８２８はハウジング８２６の表面に面している。ＵＶ多層透過媒体８０４はＵＶ透過ガスケット８３０によって取り囲むことができる。ガスケットは、ＵＶ光がＵＶ透過面のエッジに沿って移動するのを促すことができ、そしてＵＶ光がＵＶ多層透過媒体８０４全体にわたってより大きく分布するのを可能にする。ガスケットはＵＶ消毒充電器ハウジング８２６とＵＶ多層透過媒体８０４との間に挟むことができる。ガスケットはＵＶ透過材料から形成することができ、そして多層ＵＶ透過媒体の種々異なるＵＶ層の、本明細書に記載された改善手段のいずれかを含んでよい。例えば、ガスケット自体は、光変化添加材を装填することから得られる光変化特性を含むことができる。さらに、ガスケットの厚さ、テキスチャ、及び材料は、所期ＵＶ光透過特性を提供するように選択することができる。
【0131】
図１２に示された別の実施態様では、ＵＶ透過フィルム１２０２がチューブ１２００、例えばケーブル又は医療デバイスの表面に被着されている。チューブは内部キャビティ１２０４を有することができる。ＵＶ入力光１２０６は、チューブ１２００内又はチューブ１２００上に、或いはチューブ１２００の外部に設けられたＵＶ源（図示せず）からＵＶ透過フィルム１２０２のエッジへ向けて導くことができる。ＵＶ入力光１２０６は、ＵＶ透過フィルム１２００のエッジによって、ＵＶ透過フィルムのエッジの一部によって入射することができ、或いは、ＵＶ入力光１２０６は、ＵＶ透過チューブ１２００によって入射することができる。ＵＶ透過フィルム１２０２は、材料中に混合された反射特性を有するチューブと同時モールディングするか又は押し出すことができる。ＵＶ透過フィルムは、特定の逆二乗のフィルタリング及びエネルギー分散のために印刷することもできる。図１２は同時押出ケーシングを備えたチューブを示しており、前記同時押出ケーシングは、一次チューブ１２００内部のエネルギーのうちのいくらかがケーシングを通して、そしてケーシングから広められるのを可能にする。一次ケーシングは、さらに分布パターンに加えて、暴露を制限し、ＵＶＣエネルギーをより均一に分配する印刷パターンを有してもよい。ＵＶ光がＵＶ透過チューブ１２００に沿って移動し、光のうちのいくらかがＵＶ透過フィルム１２０２によって入射するようになり、マイクロ粒子１２０８に衝突し、前記マイクロ粒子１２０８はＵＶ光拡散効果を与える。前記ＵＶ光拡散効果は、ＵＶ透過フィルムの外側表面に沿って出力ＵＶ光１２１０を、そうでない場合よりも大きく分散する。出力光矢印１２１０を表す矢印の長さは比較的短く、これはＵＶ透過フィルムを出たＵＶ光が拡散されており、拡散改善添加粒子を有するＵＶ透過フィルム１２０２の拡散効果に起因してＵＶ光がチューブから離れる方向に移動するのに伴って、ＵＶ光の強度は急速に低下する。
【0132】
Ｆ． ＵＶハウジング
【0133】
図１３～１６は、種々のユーザーインターフェイスデバイスのＵＶ透過ハウジングの例を示している。ＵＶ光がＵＶ透過ハウジングに沿って移動し、そうでなければ、デバイスにＵＶＣ光を送るＵＶ消毒デバイスによって完全には消毒されないおそれがある領域に到達するように、ＵＶ透過ハウジングによって案内されることを可能にすることによって、ＵＶ透過ハウジングはユーザーインターフェイスデバイスのＵＶ消毒特性を改善することができる。ＵＶ透過ハウジングの光学特性は、ハウジングに添加材を装填すること、ＵＶブロッキングパターンを被着すること、ハウジングの材料タイプ、厚さ、形状、層、又は表面テキスチャを変更すること、又はこれらのいずれかの組み合わせによって選択することができる。
【0134】
図１３は、昇降ボタン１３０４を備えたエレベータ操作盤１３０２を示している。エレベータ操作盤及びボタンに添加材を装填することにより、ハウジングの光学特徴を改善することができる。加えて、エレベータ操作盤１３０２の厚さを変更することにより、操作盤の周りにＵＶ光を適応させて案内することができる。例えば、エレベータ操作盤の角隅及びエッジ１３１０は異なる厚さを有することができる。大まかに言えば、材料が薄ければ薄いほど、ＵＶ透過性は高くなる。したがって、操作盤の厚さを変更することにより、操作盤のＵＶ透過特徴を変化させることができ、操作盤上又は操作盤へ向かって照らされるＵＶ光から生じるＵＶ光パターンを変化させることができる。エレベータ操作盤の可変厚と、例えばＵＶ光を拡散する添加材の装填との組み合わせは、エレベータ操作盤のＵＶ消毒特性を改善するように協働する。すなわち、エレベータ操作盤上に照らされた特定のＵＶＣ光パターンに応じて、ＵＶＣ光は材料全体にわたって露出面に分配され、効果的で改善された形でエレベータ操作盤を消毒する。エレベータ操作盤の具体的な特徴は、ＵＶ光モデリングソフトウェアによって得ることができ、例えば、エレベータ操作盤材料中に装填される添加材の密度及びタイプ、並びにエレベータ操作盤の種々異なる厚さを、所期ＵＶ強度測定値に基づいて選択することができる。
【0135】
図１４は、電灯スイッチカバープレート１４０２及び電灯スイッチ１４０４を含む電灯スイッチ１４００を示している。電灯スイッチカバープレート１４０２及びスイッチ１４０４には、電灯スイッチの光学特徴を改善するために添加材を装填することができる。加えて、電灯スイッチプレート１４０２の厚さを変更することにより、プレートの周りにＵＶ光を適応させて案内することができる。例えば、プレートの角隅及びエッジ１４０６は異なる厚さを有することができる。大まかに言えば、材料が薄ければ薄いほど、ＵＶ透過性は高くなる。したがって、プレートの厚さを変更することにより、電灯スイッチ１４００のＵＶ透過特徴を変化させることができ、プレート上又はプレートへ向かって照らされるＵＶ光から生じるＵＶ光パターンを変化させることができる。電灯スイッチプレートの可変厚と、例えばＵＶ光を拡散する添加材の装填との組み合わせは、電灯スイッチ１４００のＵＶ消毒特性を改善するように協働する。すなわち、電灯スイッチ１４００上に照らされた特定のＵＶＣ光パターンに応じて、ＵＶＣ光は材料全体にわたって電灯スイッチの露出面に分配され、効果的で改善された形で電灯スイッチ１４００を消毒する。電灯スイッチ１４００の具体的な特徴は、ＵＶ光モデリングソフトウェアによって得ることができ、例えば、電灯スイッチ内に装填される添加材の密度及びタイプ、並びにプレートの種々異なる厚さを、所期ＵＶ強度測定値に基づいて選択することができる。加えて、又はその代わりに、印刷フィルタを電灯スイッチ上に設けることもできる。例えば電灯スイッチプレートは、衝突するとＵＶ光を拡散する添加材を有するＵＶ拡散被膜を含むことができる。
【0136】
図１５は、キーボードキー１５００を示している。キー１５００のハウジングに添加材を装填することにより、光スイッチの光学特徴を改善することができ、或いはキーの外側表面にＵＶ拡散被膜又は透過被膜を被着することができる。加えて、キー１５００の厚さを変更することにより、キーの露出面の周りにＵＶ光を適応させて案内することができる。例えば、キーの角隅及びエッジ１５０２は異なる厚さを有することができる。大まかに言えば、材料が薄ければ薄いほど、ＵＶ透過性は高くなる。したがって、キーの厚さを変更することにより、キーボードキー１５００（及びキーボード全体）のＵＶ透過特徴を変化させることができ、キー上で又はキーへ向かって照らされるＵＶ光から生じるＵＶ光パターンを変化させることができる。キーの可変厚と、例えばＵＶ光を拡散する添加材の装填との組み合わせは、キー１５００のＵＶ消毒特性を改善するように協働する。すなわち、キー１５００上に照らされた特定のＵＶＣ光パターンに応じて、ＵＶＣ光は材料全体にわたってキーの露出面に分配され、効果的で改善された消毒を可能にする。キー１５００の具体的な特徴は、ＵＶ光モデリングソフトウェアの使用によって選択することができ、例えば、キー内に装填される添加材の密度及びタイプ、並び種々異なる厚さを、表面上の所期ＵＶ強度測定値に基づいて選択することができる。
【0137】
図１６はマウス１６００を示している。マウス１６００のハウジングに添加材を装填することにより、その光学特徴を改善することができ、或いはマウスの外側表面にＵＶ拡散被膜を被着することができる。加えて、マウス１５００の厚さを変更することにより、マウスの露出面の周りにＵＶ光を適応させて案内することができる。例えば、マウスの角隅及びエッジ１６０２は異なる厚さを有することができる。大まかに言えば、材料が薄ければ薄いほど、ＵＶ透過性は高くなる。したがって、マウスの厚さを変更することにより、マウスのＵＶ透過特徴を変化させることができ、マウス上で又はマウスへ向かって照らされるＵＶ光から生じるＵＶ光パターンを変化させることができる。マウスの可変厚と、例えばＵＶ光を拡散する添加材の装填との組み合わせは、マウス１６００のＵＶ消毒特性を改善するように協働する。すなわち、マウス１６００上に照らされた特定のＵＶＣ光パターンに応じて、ＵＶＣ光は材料全体にわたって露出面に分配され、効果的で改善された消毒を可能にする。マウス１６００の具体的な特徴は、ＵＶ光モデリングソフトウェアの使用によって選択することができ、例えば、キー内に装填される添加材の密度及びタイプ、並び種々異なる厚さを、表面上の所期ＵＶ強度測定値に基づいて選択することができる。
【0138】
方向を意味する用語、例えば「鉛直」、「水平」、「上」、「底」、「上側」、「下側」、「内側」、「内方」、「外側」、及び「外方」という用語は、図示された実施態様の配向に基づいて本発明を説明するのを助けるために使用される。方向に関する用語を使用することが、本発明を特定の配向に限定するものと解釈するべきではない。
【0139】
上記説明は本発明の本実施態様に関するものである。添付のクレームに定義された本発明の思想及びより広範な態様から逸脱することなしに、種々の変更及び変化を加えることができる。これらは、均等論を含む特許法の原則にしたがって解釈されるべきである。本開示は例示を目的として提供したものであって、本発明の全実施態様の網羅的な説明として解釈するべきではなく、或いは請求の範囲を、これらの実施態様との関連で例示又は説明した特定のエレメントに限定するものと解釈するべきでもない。例えば、そしてこれに限定するものではないが、記載の発明の任意の個々のエレメントを、ほぼ同様の機能を提供するか又は適宜の動作を提供する代わりのエレメントに置き換えることもできる。このことは、目下知られている別のエレメント、例えば当業者に現在知られているかもしれないエレメント、及び将来開発され得る別のエレメント、例えば開発時に代替物として当業者に認識されるかもしれないエレメントを含む。さらに、開示された実施態様は、同時に記載された、そして協働して利点の集合を提供し得る複数の態様を含む。本発明は、発行されたクレームに明示されている場合を除いて、これらの態様のすべてを含む実施態様、又は言及された利点のすべてを提供する実施態様にのみ限定されるものではない。例えば冠詞「a」、「an」、「the」又は「said」を使用した、単数形のクレーム要素の言及は、要素を単数形に限定するものと解釈するべきではない。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33A-33B】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【手続補正書】
【提出日】2022-06-21
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0139】
上記説明は本発明の本実施態様に関するものである。添付のクレームに定義された本発明の思想及びより広範な態様から逸脱することなしに、種々の変更及び変化を加えることができる。これらは、均等論を含む特許法の原則にしたがって解釈されるべきである。本開示は例示を目的として提供したものであって、本発明の全実施態様の網羅的な説明として解釈するべきではなく、或いは請求の範囲を、これらの実施態様との関連で例示又は説明した特定のエレメントに限定するものと解釈するべきでもない。例えば、そしてこれに限定するものではないが、記載の発明の任意の個々のエレメントを、ほぼ同様の機能を提供するか又は適宜の動作を提供する代わりのエレメントに置き換えることもできる。このことは、目下知られている別のエレメント、例えば当業者に現在知られているかもしれないエレメント、及び将来開発され得る別のエレメント、例えば開発時に代替物として当業者に認識されるかもしれないエレメントを含む。さらに、開示された実施態様は、同時に記載された、そして協働して利点の集合を提供し得る複数の態様を含む。本発明は、発行されたクレームに明示されている場合を除いて、これらの態様のすべてを含む実施態様、又は言及された利点のすべてを提供する実施態様にのみ限定されるものではない。例えば冠詞「a」、「an」、「the」又は「said」を使用した、単数形のクレーム要素の言及は、要素を単数形に限定するものと解釈するべきではない。
（態様１）
ＵＶ消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジング内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
（態様２）
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ 2 マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料である、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３）
ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有している、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様４）
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ 2 マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料であり、且つ前記ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有しており、これらが組み合わさって前記ＵＶ－Ｃレンズの形態、前記概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンに貢献する、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様５）
ＵＶ－Ｃレンズの内側表面がＵＶブロッキングパターンを含む、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６）
ＵＶ－Ｃレンズの外側表面がテキスチャ加工されている、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７）
ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズであって、前記パターン化レンズが、
レンズと、
前記レンズの表面に被着されたＵＶブロッキングパターンであって、前記ＵＶブロッキングパターンが、レンズによってレンズ表面全体にわたって入射するＵＶ光を一様にし、ＵＶ光が所定の部分へ向かって集中するのを防止するように形成されている、ＵＶブロッキングパターンと
を含む、ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズ。
（態様８）
前記ＵＶブロッキングパターンは、レンズを通した比較的均一な光分布をもたらし、これにより前記レンズ内のＵＶホットスポットを低減する、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様９）
前記ＵＶブロッキングパターン及び前記レンズを通過するＵＶ光によって生成されたＵＶ光パターンが概ね均一であるように、前記ＵＶブロッキングパターンの形状、サイズ、及び材料が選択される、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１０）
前記ＵＶブロッキングパターンの特徴が、ＵＶ源の形状にしたがって選択される、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１１）
前記ＵＶブロッキングパターンの特徴が、ＵＶ源の測定されたＵＶ光出力マッピング、及び仮想環境内のＵＶ源のシミュレートされたＵＶ光出力マッピングのうちの少なくとも一方にしたがって選択される、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１２）
前記ＵＶブロッキングパターンが、前記レンズの表面に被着された薄膜及び被膜のうちの少なくとも１つである、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１３）
前記ＵＶブロッキングパターンが、前記レンズの表面上にエッチングされたパターンである、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１４）
前記ＵＶブロッキングパターンが種々異なる光学特徴を有する複数のゾーンを含む、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１５）
複数のゾーンが、より高い強度のＵＶ光を受容する一次ゾーンと、より低い強度のＵＶ光を受容する二次ゾーンとを含み、それぞれのゾーン内の前記パターン化レンズを通るＵＶ光が、ＵＶ消毒システム内の通常の使用を通して、ＵＶレンズを変形、損傷、又は変色させ得る閾値を下回ったままにするように、前記複数のゾーンが協働する、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１６）
ヒューマンインターフェイスデバイスであって、
前記ヒューマンインターフェイスデバイスのＵＶ拡散特性を改善するためのＵＶ拡散マイクロ粒子を装填されたＵＶ透過ハウジングを含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様１７）
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボードキー、マウス、カウンタートップ、及びデスク表面のうちの少なくとも１つである、態様１６に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様１８）
前記ＵＶ透過ハウジングが約７０％のＰＦＡと３０重量％のＳｉＯ 2 マイクロビードとから形成されている、態様１６に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様１９）
前記ＳｉＯ 2 マイクロビードが銅を有している、態様１８に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様２０）
ＵＶ消毒デバイスと一緒に使用するための複合レンズであって、前記複合レンズが、
第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
複合レンズ。
（態様２１）
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって選択される、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２２）
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２３）
前記一次及び二次レンズが接合されている態様２０に記載の複合レンズであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２４）
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２５）
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２６）
ＵＶ消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされた複合レンズであって、前記複合レンズが、前記ＵＶ－Ｃ源のより近くでは低減された強度でＵＶ光パターンを生成し、標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように形成されている、複合レンズと、
を含み、前記複合レンズが、
第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
ＵＶ消毒デバイス。
（態様２７）
前記ＵＶ－Ｃ源が前記標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、複合レンズを含む前記ＵＶ消毒デバイスが、前記標的消毒領域に対して非垂直角度に位置決めされている、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様２８）
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって、選択される、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様２９）
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３０）
前記一次及び二次レンズが接合されている態様２６のＵＶ消毒デバイスであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３１）
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３２）
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３３）
前記一次レンズが補助プリズムを含み、前記補助プリズムが、前記標的消毒領域でより均一な光分布を生成するように形成された、前記標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３４）
ＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズであって、前記可変厚レンズが、
ＵＶ光入力面と、
ＵＶ光出力面と、
ＵＶ光入力面とＵＶ光出力面との間のＵＶ光媒体であって、前記ＵＶ光媒体の厚さが、ＵＶ光入力面に入射したＵＶ光に応じて、ＵＶ出力面を通る概ね均一な強度を有する拡散ＵＶエネルギーパターンを提供するように選択される、ＵＶ光媒体と、
を含む、ＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズ。
（態様３５）
前記ＵＶ出力面を通る概ね均一な強度が、ＵＶ消毒デバイス内の通常の使用を通して、ＵＶホットスポットが前記可変厚レンズ上に形成されるのを防止する、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３６）
前記可変厚レンズが前記ＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、ＵＶ源の形状及び位置にしたがって、前記ＵＶ光媒体の厚さが選択される、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３７）
前記ＵＶ光入力面の曲率、前記ＵＶ光出力面の曲率、ＵＶ光媒体の厚さ、前記ＵＶ光媒体内の光学変向特性を有する添加材、及びＵＶ光出力面の表面テキスチャの組み合わせが、前記拡散ＵＶエネルギーのパターンを形成するように選択される、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３８）
前記ＵＶ光媒体の厚さが、測定されたＵＶ光出力マッピング、及び仮想環境内のシミュレートされたＵＶ光出力マッピングのうちの少なくとも一方に応じて選択される、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３９）
ＵＶ源と併せて動作可能なヒューマンインタフェースデバイスであって、前記ヒューマンインターフェイスデバイスは、
定義されたＵＶ光パターンに従って当該ハウジングによって入射したＵＶ光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成された、ハウジング
を含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４０）
前記ハウジングの光学特性が、前記ハウジングに添加材を装填すること、前記ハウジングの少なくとも一部に異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、及びハウジング材料のタイプ、厚さ、形状、層、又はテキスチャを変更すること、のうちの１つ又は２つ以上の組み合わせによって、選択される、態様３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４１）
前記光学特性が、前記ハウジングによって入射したＵＶ光に応じて、所期ＵＶ消毒線量を前記ハウジングの露出面に提供することを含む、態様３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４２）
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボード、マウス、チューブ、及びデバイスケースのうちの少なくとも１つである、態様３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４３）
ＵＶ源と併せて動作可能なＵＶ光分配改善型カウンタートップであって、前記ＵＶ光分配改善型カウンタートップが、
露出面を有するカウンタートップと、
前記カウンタートップと接合されたＵＶ透過スキンであって、前記ＵＶ透過スキンが、前記カウンタートップの露出面に沿った、定義されたＵＶ光パターンにしたがって、ＵＶ透過スキンによって、入射したＵＶ光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成されている、ＵＶ透過スキンと
を含む、
ＵＶ光分配改善型カウンタートップ。
（態様４４）
光学特性が、前記ＵＶ透過スキンにＵＶ透過マイクロ粒子を装填すること、前記ＵＶ透過スキンの厚さを変更すること、及びＵＶ透過スキンの表面テキスチャを変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって選択される、態様４３に記載のＵＶ光分配改善型カウンタートップ。
（態様４５）
ヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにＵＶ光を分配するヒューマンインターフェイスデバイスに接合可能な多層フィルムであって、前記多層フィルムが、
前記多層フィルムの長さに沿ってＵＶ光を透過させるためのＵＶ透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された１つの表面と、人間相互作用に晒された１つの表面とを有するインターフェイス層と、
を含み、
前記輸送層が、前記輸送層内のＵＶ光をインターフェイス層へ再指向する第１量のＵＶ光変更マイクロ粒子を含み、
インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために露出面へ拡散する第２量のＵＶ光変化マイクロ粒子を含む、
多層フィルム。
（態様４６）
前記輸送層が第１厚を有し、前記インターフェイス層が第２厚を有しており、前記輸送層の第１厚が、前記輸送層内でＵＶ光を前記インターフェイス層へ再指向することに貢献し、前記インターフェイス層の第２厚が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために前記露出面へ拡散することに貢献する、態様４５に記載の多層フィルム。
（態様４７）
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のＵＶ光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記輸送層への所定のＵＶ入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分な線量を与える多層フィルム形態を提供する、態様４６に記載の多層フィルム。
（態様４８）
定義されたＵＶ入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のＵＶ光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なＵＶ光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、ＵＶ光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なＵＶ光がある、態様４６に記載の多層フィルム。
（態様４９）
テキスタイル製品であって、
織り合わされてファブリックになった複数の繊維であって、前記複数の繊維の部分集合が、改善型ＵＶ透過繊維であり、前記改善型ＵＶ透過繊維が前記ファブリックを通るＵＶ光貫通量を増大させ、前記ファブリックの内部で捕捉された生物活性を処理するように形成されている、
テキスタイル製品。
（態様５０）
前記テキスタイル製品がラボコート及び実験用座席のうちの少なくとも一方である、態様４９に記載のテキスタイル製品。
（態様５１）
前記改善型ＵＶ透過繊維がＰＦＡ、ＦＥＰ、及びＰＴＦＥのうちの少なくとも１種から製造されている、態様４９に記載のテキスタイル製品。
（態様５２）
前記改善型ＵＶ透過繊維が、ＵＶ光拡散特性を高めるために、ＳｉＯ 2 マイクロ粒子を装填されている、態様５１に記載のテキスタイル製品。
（態様５３）
前記改善型ＵＶ透過繊維の形状及びサイズが、可撓性及び摩耗特徴にしたがって可変である、態様４９に記載のテキスタイル製品。
（態様５４）
当該ＵＶ消毒充電器上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにＵＶ光を分配するＵＶ消毒充電器に接続可能な多層媒体であって、前記多層媒体が、
前記多層媒体の長さに沿ってＵＶ光を透過させるためのＵＶ透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された１つの表面と、前記ヒューマンインターフェイスデバイスの処理のために晒された１つの表面とを有するインターフェイス層と
を含み、
前記輸送層が、前記ＵＶ光を前記輸送層に沿って導くＵＶ光特性を有しており、
前記インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、前記消毒のために露出面へ拡散するＵＶ光学特性を有している、
多層媒体。
（態様５５）
前記輸送層が第１厚を有し、前記インターフェイス層が第２厚を有しており、前記輸送層の第１厚が、前記輸送層内でＵＶ光を導くことに貢献し、前記インターフェイス層の第２厚が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために露出面へ拡散することに貢献する、態様５４に記載の多層媒体。
（態様５６）
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のＵＶ光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記多層媒体へのＵＶ入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するのに十分な線量を提供する多層フィルム形態を提供する、態様５５に記載の多層媒体。
（態様５７）
定義されたＵＶ入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のＵＶ光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なＵＶ光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、ＵＶ光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なＵＶ光がある、態様５５に記載の多層媒体。
（態様５８）
ＵＶ透過ガスケットを含む、態様５４に記載の多層媒体。
（態様５９）
前記ＵＶ透過ガスケットが前記輸送層を取り囲み、そしてＵＶ光を前記輸送層へ向かって促進する、態様５８に記載の多層媒体。
（態様６０）
ＵＶ消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ光源であって、前記ＵＶ－Ｃ光源がＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をシールするように形成されたレンズであって、前記レンズが、前記ＵＶ－Ｃ光源からのＵＶ－Ｃ光を、前記開口を通して導くように形成されている、レンズと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃリフレクタであって、前記ＵＶ－Ｃリフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を、前記ハウジングの前記開口へ向かって反射するように形成されたＵＶ－Ｃリフレクタと、
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
（態様６１）
前記ハウジングが前記ハウジングの開口内部に複数の指向性ルーバを含み、前記レンズが、前記ＵＶ－Ｃ光を前記複数のルーバに向けるように形成されており、複数のルーバ間の空間を通るＵＶ－Ｃ光が、ＵＶ－Ｃ光をＵＶ－Ｃ光パターンに制限し、前記複数のルーバの間隔は、前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均一性を高めるように形成されている、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６２）
前記ハウジングがアイブローを含み、前記アイブローが複数のルーバと協働して、前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均一性を高める、態様６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６３）
前記開口が下向きの角度を指すように、前記ハウジングが配向されており、アイブローが、前記ＵＶ消毒デバイスと同じ目の高さに位置決めされた使用者のために、ＵＶ源に対する視線を制限する、態様６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６４）
前記ハウジングが前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段を含み、前記開口を通るＵＶ－Ｃ光の一部が前記光学遮蔽手段によってブロックされることにより、前記ＵＶ－Ｃ光が２つの異なるＵＶ－Ｃ光パターンに分割されて、一方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の一方の側に入り、そして他方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の他方の側に入るようになっており、前記光学遮蔽手段が前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均質性を高める、態様６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６５）
前記標的消毒領域における前記ＵＶ－Ｃ光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、前記光学遮蔽手段は、ＵＶ光が通過するのを可能にするアパーチャを含む、態様６４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６６）
前記光学遮蔽手段は、第１アパーチャと、より大きい第２のアパーチャとを含み、前記第２のアパーチャは、前記標的消毒領域における前記ＵＶ－Ｃ光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、ＵＶ光が通過するのを可能にする、態様６４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６７）
前記ハウジングが、前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段のエッジから外方へ向かって延びるフィン対を含み、前記フィン対がそれぞれ前記ＵＶ消毒デバイスの端部へ向かって角度付けされている、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６８）
各フィンの内側表面がＵＶ反射性である態様６７に記載のＵＶ消毒デバイスであって、前記ＵＶ消毒デバイスがキーボード上に搭載されたときにＵＶ－Ｃ光パターンが前記キーボードのエッジに達するように、前記フィンの角度が前記ＵＶ－Ｃ光パターンを成形するように形成されている、態様６７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６９）
前記フィンが、前記強度を前記ＵＶ－Ｃ光パターンの中心へ向かって制限する、態様６８に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７０）
前記レンズが、切り欠き部分を有するＵＶ透過シートであり、前記切り欠き部分が、前記開口をカバーするために前記ハウジングの内部キャビティ内部に前記ＵＶ透過シートを整合させるように形成されている、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７１）
前記ＵＶ透過シートがＵＶ透過パターンを含み、前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ消毒デバイスに対して標的領域のＵＶ－Ｃ光の強度の均一性を高めるように形成されている、態様７０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７２）
前記レンズが、ＵＶ透過パターンを形成する複数のアパーチャを有するシリコーンシートを含む、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７３）
前記レンズが、ＵＶ透過パターンを形成する複数のアパーチャを含むホウケイ酸ガラスシートを含む、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７４）
ＵＶレンズがＵＶ不透明層とＵＶ透過層とを含み、前記ＵＶ不透明層が、パターン状に形成された複数のアパーチャを含む、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７５）
前記複数のアパーチャのパターンがＸよりも大きい密度を含む、態様７４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７６）
パターンが、前記レンズの中心の近くに大きなアパーチャを、より小さなアパーチャの２つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、態様７４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７７）
ＵＶ消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ光源であって、前記ＵＶ－Ｃ光源がＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ光源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をカバーするように形成されたＵＶ透過パターンを有するシートであって、前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ－Ｃ光源からのＵＶ－Ｃ光を、前記開口を通して導くように形成されている、シートと、
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
（態様７８）
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃリフレクタを含み、前記ＵＶ－Ｃリフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光をＵＶ透過フィルムへ向かって反射するように形成されている、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７９）
前記ＵＶ透過パターンが、前記ハウジングをシールするフィルムである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８０）
前記ＵＶ透過パターンが、２つの層、すなわち第１ＵＶ透過フィルム層と、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有する第２ＵＶ不透明層とを含むフィルムである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８１）
前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有するホウケイ酸ガラスシートである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８２）
ホウケイ酸ガラスシートの厚さが１７５ミリメートルである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８３）
前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有するシリコーンシートである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８４）
前記シリコーンシートの厚さが２００マイクロメートルである、態様８３に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８５）
前記ＵＶ透過パターンが、ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有する金属シートである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８６）
前記ＵＶ透過パターンが、前記パターンの中心の近くに大きな穴を、より小さなアパーチャの２つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８７）
前記ＵＶ透過パターンが、第１密度を有する複数の穴を含む、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８８）
前記ＵＶ透過パターンが、第２密度を有する複数の穴を含む、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８９）
ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法であって、
ＵＶ不透明材料層を用意し、
ＵＶ透過材料層を用意し、
前記ＵＶ不透明材料層から材料を除去することにより、前記ＵＶ不透明材料層内に複数の穴を穴パターンの形態で形成し、ＵＶ不透明材料層の残りの部分がＵＶブロッキングパターンを形成し、
前記ＵＶブロッキングパターンを形成する、前記ＵＶ不透明材料層の前記残りの部分を、前記ＵＶ透過材料層と接合し、これにより、前記ＵＶ不透明材料層の前記接合された残りの部分と前記ＵＶ透過材料層とが、ＵＶブロッキング部分を有するＵＶ－Ｃ透過レンズを形成する、
ことを含む、ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９０）
ＵＶ不透明材料層がホウケイ酸塩である、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９１）
前記ＵＶ不透明材料層がシリコーンである、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９２）
前記ＵＶ不透明材料層が金属である、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９３）
前記穴パターンを有するＵＶ不透明材料層と、ＵＶ透過材料層とを接合したものをカットすることにより、レンズの形状にすることを含む、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９４）
レンズの形状が、前記ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを消毒デバイスのハウジングに対して位置決めしシーリングするための複数の切り欠きを含む、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様１）
ＵＶ消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジング内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
（態様２）
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ 2 マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料である、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３）
ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有している、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様４）
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ 2 マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料であり、且つ前記ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有しており、これらが組み合わさって前記ＵＶ－Ｃレンズの形態、前記概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンに貢献する、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様５）
ＵＶ－Ｃレンズの内側表面がＵＶブロッキングパターンを含む、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６）
ＵＶ－Ｃレンズの外側表面がテキスチャ加工されている、態様１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７）
ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズであって、前記パターン化レンズが、
レンズと、
前記レンズの表面に被着されたＵＶブロッキングパターンであって、前記ＵＶブロッキングパターンが、レンズによってレンズ表面全体にわたって入射するＵＶ光を一様にし、ＵＶ光が所定の部分へ向かって集中するのを防止するように形成されている、ＵＶブロッキングパターンと
を含む、ＵＶ消毒デバイスのためのパターン化レンズ。
（態様８）
前記ＵＶブロッキングパターンは、レンズを通した比較的均一な光分布をもたらし、これにより前記レンズ内のＵＶホットスポットを低減する、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様９）
前記ＵＶブロッキングパターン及び前記レンズを通過するＵＶ光によって生成されたＵＶ光パターンが概ね均一であるように、前記ＵＶブロッキングパターンの形状、サイズ、及び材料が選択される、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１０）
前記ＵＶブロッキングパターンの特徴が、ＵＶ源の形状にしたがって選択される、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１１）
前記ＵＶブロッキングパターンの特徴が、ＵＶ源の測定されたＵＶ光出力マッピング、及び仮想環境内のＵＶ源のシミュレートされたＵＶ光出力マッピングのうちの少なくとも一方にしたがって選択される、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１２）
前記ＵＶブロッキングパターンが、前記レンズの表面に被着された薄膜及び被膜のうちの少なくとも１つである、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１３）
前記ＵＶブロッキングパターンが、前記レンズの表面上にエッチングされたパターンである、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１４）
前記ＵＶブロッキングパターンが種々異なる光学特徴を有する複数のゾーンを含む、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１５）
複数のゾーンが、より高い強度のＵＶ光を受容する一次ゾーンと、より低い強度のＵＶ光を受容する二次ゾーンとを含み、それぞれのゾーン内の前記パターン化レンズを通るＵＶ光が、ＵＶ消毒システム内の通常の使用を通して、ＵＶレンズを変形、損傷、又は変色させ得る閾値を下回ったままにするように、前記複数のゾーンが協働する、態様７に記載のパターン化レンズ。
（態様１６）
ヒューマンインターフェイスデバイスであって、
前記ヒューマンインターフェイスデバイスのＵＶ拡散特性を改善するためのＵＶ拡散マイクロ粒子を装填されたＵＶ透過ハウジングを含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様１７）
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボードキー、マウス、カウンタートップ、及びデスク表面のうちの少なくとも１つである、態様１６に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様１８）
前記ＵＶ透過ハウジングが約７０％のＰＦＡと３０重量％のＳｉＯ 2 マイクロビードとから形成されている、態様１６に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様１９）
前記ＳｉＯ 2 マイクロビードが銅を有している、態様１８に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様２０）
ＵＶ消毒デバイスと一緒に使用するための複合レンズであって、前記複合レンズが、
第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
複合レンズ。
（態様２１）
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって選択される、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２２）
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２３）
前記一次及び二次レンズが接合されている態様２０に記載の複合レンズであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２４）
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２５）
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、態様２０に記載の複合レンズ。
（態様２６）
ＵＶ消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされた複合レンズであって、前記複合レンズが、前記ＵＶ－Ｃ源のより近くでは低減された強度でＵＶ光パターンを生成し、標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように形成されている、複合レンズと、
を含み、前記複合レンズが、
第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
ＵＶ消毒デバイス。
（態様２７）
前記ＵＶ－Ｃ源が前記標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、複合レンズを含む前記ＵＶ消毒デバイスが、前記標的消毒領域に対して非垂直角度に位置決めされている、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様２８）
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって、選択される、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様２９）
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３０）
前記一次及び二次レンズが接合されている態様２６のＵＶ消毒デバイスであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３１）
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３２）
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３３）
前記一次レンズが補助プリズムを含み、前記補助プリズムが、前記標的消毒領域でより均一な光分布を生成するように形成された、前記標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している、態様２６に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様３４）
ＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズであって、前記可変厚レンズが、
ＵＶ光入力面と、
ＵＶ光出力面と、
ＵＶ光入力面とＵＶ光出力面との間のＵＶ光媒体であって、前記ＵＶ光媒体の厚さが、ＵＶ光入力面に入射したＵＶ光に応じて、ＵＶ出力面を通る概ね均一な強度を有する拡散ＵＶエネルギーパターンを提供するように選択される、ＵＶ光媒体と、
を含む、ＵＶ消毒デバイスのための可変厚レンズ。
（態様３５）
前記ＵＶ出力面を通る概ね均一な強度が、ＵＶ消毒デバイス内の通常の使用を通して、ＵＶホットスポットが前記可変厚レンズ上に形成されるのを防止する、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３６）
前記可変厚レンズが前記ＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、ＵＶ源の形状及び位置にしたがって、前記ＵＶ光媒体の厚さが選択される、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３７）
前記ＵＶ光入力面の曲率、前記ＵＶ光出力面の曲率、ＵＶ光媒体の厚さ、前記ＵＶ光媒体内の光学変向特性を有する添加材、及びＵＶ光出力面の表面テキスチャの組み合わせが、前記拡散ＵＶエネルギーのパターンを形成するように選択される、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３８）
前記ＵＶ光媒体の厚さが、測定されたＵＶ光出力マッピング、及び仮想環境内のシミュレートされたＵＶ光出力マッピングのうちの少なくとも一方に応じて選択される、態様３４に記載の可変厚レンズ。
（態様３９）
ＵＶ源と併せて動作可能なヒューマンインタフェースデバイスであって、前記ヒューマンインターフェイスデバイスは、
定義されたＵＶ光パターンに従って当該ハウジングによって入射したＵＶ光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成された、ハウジング
を含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４０）
前記ハウジングの光学特性が、前記ハウジングに添加材を装填すること、前記ハウジングの少なくとも一部に異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、及びハウジング材料のタイプ、厚さ、形状、層、又はテキスチャを変更すること、のうちの１つ又は２つ以上の組み合わせによって、選択される、態様３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４１）
前記光学特性が、前記ハウジングによって入射したＵＶ光に応じて、所期ＵＶ消毒線量を前記ハウジングの露出面に提供することを含む、態様３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４２）
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボード、マウス、チューブ、及びデバイスケースのうちの少なくとも１つである、態様３９に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
（態様４３）
ＵＶ源と併せて動作可能なＵＶ光分配改善型カウンタートップであって、前記ＵＶ光分配改善型カウンタートップが、
露出面を有するカウンタートップと、
前記カウンタートップと接合されたＵＶ透過スキンであって、前記ＵＶ透過スキンが、前記カウンタートップの露出面に沿った、定義されたＵＶ光パターンにしたがって、ＵＶ透過スキンによって、入射したＵＶ光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成されている、ＵＶ透過スキンと
を含む、
ＵＶ光分配改善型カウンタートップ。
（態様４４）
光学特性が、前記ＵＶ透過スキンにＵＶ透過マイクロ粒子を装填すること、前記ＵＶ透過スキンの厚さを変更すること、及びＵＶ透過スキンの表面テキスチャを変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって選択される、態様４３に記載のＵＶ光分配改善型カウンタートップ。
（態様４５）
ヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにＵＶ光を分配するヒューマンインターフェイスデバイスに接合可能な多層フィルムであって、前記多層フィルムが、
前記多層フィルムの長さに沿ってＵＶ光を透過させるためのＵＶ透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された１つの表面と、人間相互作用に晒された１つの表面とを有するインターフェイス層と、
を含み、
前記輸送層が、前記輸送層内のＵＶ光をインターフェイス層へ再指向する第１量のＵＶ光変更マイクロ粒子を含み、
インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために露出面へ拡散する第２量のＵＶ光変化マイクロ粒子を含む、
多層フィルム。
（態様４６）
前記輸送層が第１厚を有し、前記インターフェイス層が第２厚を有しており、前記輸送層の第１厚が、前記輸送層内でＵＶ光を前記インターフェイス層へ再指向することに貢献し、前記インターフェイス層の第２厚が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために前記露出面へ拡散することに貢献する、態様４５に記載の多層フィルム。
（態様４７）
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のＵＶ光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記輸送層への所定のＵＶ入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分な線量を与える多層フィルム形態を提供する、態様４６に記載の多層フィルム。
（態様４８）
定義されたＵＶ入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のＵＶ光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なＵＶ光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、ＵＶ光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なＵＶ光がある、態様４６に記載の多層フィルム。
（態様４９）
テキスタイル製品であって、
織り合わされてファブリックになった複数の繊維であって、前記複数の繊維の部分集合が、改善型ＵＶ透過繊維であり、前記改善型ＵＶ透過繊維が前記ファブリックを通るＵＶ光貫通量を増大させ、前記ファブリックの内部で捕捉された生物活性を処理するように形成されている、
テキスタイル製品。
（態様５０）
前記テキスタイル製品がラボコート及び実験用座席のうちの少なくとも一方である、態様４９に記載のテキスタイル製品。
（態様５１）
前記改善型ＵＶ透過繊維がＰＦＡ、ＦＥＰ、及びＰＴＦＥのうちの少なくとも１種から製造されている、態様４９に記載のテキスタイル製品。
（態様５２）
前記改善型ＵＶ透過繊維が、ＵＶ光拡散特性を高めるために、ＳｉＯ 2 マイクロ粒子を装填されている、態様５１に記載のテキスタイル製品。
（態様５３）
前記改善型ＵＶ透過繊維の形状及びサイズが、可撓性及び摩耗特徴にしたがって可変である、態様４９に記載のテキスタイル製品。
（態様５４）
当該ＵＶ消毒充電器上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにＵＶ光を分配するＵＶ消毒充電器に接続可能な多層媒体であって、前記多層媒体が、
前記多層媒体の長さに沿ってＵＶ光を透過させるためのＵＶ透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された１つの表面と、前記ヒューマンインターフェイスデバイスの処理のために晒された１つの表面とを有するインターフェイス層と
を含み、
前記輸送層が、前記ＵＶ光を前記輸送層に沿って導くＵＶ光特性を有しており、
前記インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、前記消毒のために露出面へ拡散するＵＶ光学特性を有している、
多層媒体。
（態様５５）
前記輸送層が第１厚を有し、前記インターフェイス層が第２厚を有しており、前記輸送層の第１厚が、前記輸送層内でＵＶ光を導くことに貢献し、前記インターフェイス層の第２厚が、前記輸送層から受容されたＵＶ光を、消毒のために露出面へ拡散することに貢献する、態様５４に記載の多層媒体。
（態様５６）
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のＵＶ光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記多層媒体へのＵＶ入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するのに十分な線量を提供する多層フィルム形態を提供する、態様５５に記載の多層媒体。
（態様５７）
定義されたＵＶ入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のＵＶ光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なＵＶ光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、ＵＶ光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なＵＶ光がある、態様５５に記載の多層媒体。
（態様５８）
ＵＶ透過ガスケットを含む、態様５４に記載の多層媒体。
（態様５９）
前記ＵＶ透過ガスケットが前記輸送層を取り囲み、そしてＵＶ光を前記輸送層へ向かって促進する、態様５８に記載の多層媒体。
（態様６０）
ＵＶ消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ光源であって、前記ＵＶ－Ｃ光源がＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をシールするように形成されたレンズであって、前記レンズが、前記ＵＶ－Ｃ光源からのＵＶ－Ｃ光を、前記開口を通して導くように形成されている、レンズと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃリフレクタであって、前記ＵＶ－Ｃリフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を、前記ハウジングの前記開口へ向かって反射するように形成されたＵＶ－Ｃリフレクタと、
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
（態様６１）
前記ハウジングが前記ハウジングの開口内部に複数の指向性ルーバを含み、前記レンズが、前記ＵＶ－Ｃ光を前記複数のルーバに向けるように形成されており、複数のルーバ間の空間を通るＵＶ－Ｃ光が、ＵＶ－Ｃ光をＵＶ－Ｃ光パターンに制限し、前記複数のルーバの間隔は、前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均一性を高めるように形成されている、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６２）
前記ハウジングがアイブローを含み、前記アイブローが複数のルーバと協働して、前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均一性を高める、態様６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６３）
前記開口が下向きの角度を指すように、前記ハウジングが配向されており、アイブローが、前記ＵＶ消毒デバイスと同じ目の高さに位置決めされた使用者のために、ＵＶ源に対する視線を制限する、態様６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６４）
前記ハウジングが前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段を含み、前記開口を通るＵＶ－Ｃ光の一部が前記光学遮蔽手段によってブロックされることにより、前記ＵＶ－Ｃ光が２つの異なるＵＶ－Ｃ光パターンに分割されて、一方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の一方の側に入り、そして他方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の他方の側に入るようになっており、前記光学遮蔽手段が前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるＵＶ－Ｃ光パターンの均質性を高める、態様６１に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６５）
前記標的消毒領域における前記ＵＶ－Ｃ光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、前記光学遮蔽手段は、ＵＶ光が通過するのを可能にするアパーチャを含む、態様６４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６６）
前記光学遮蔽手段は、第１アパーチャと、より大きい第２のアパーチャとを含み、前記第２のアパーチャは、前記標的消毒領域における前記ＵＶ－Ｃ光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、ＵＶ光が通過するのを可能にする、態様６４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６７）
前記ハウジングが、前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段のエッジから外方へ向かって延びるフィン対を含み、前記フィン対がそれぞれ前記ＵＶ消毒デバイスの端部へ向かって角度付けされている、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６８）
各フィンの内側表面がＵＶ反射性である態様６７に記載のＵＶ消毒デバイスであって、前記ＵＶ消毒デバイスがキーボード上に搭載されたときにＵＶ－Ｃ光パターンが前記キーボードのエッジに達するように、前記フィンの角度が前記ＵＶ－Ｃ光パターンを成形するように形成されている、態様６７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様６９）
前記フィンが、前記強度を前記ＵＶ－Ｃ光パターンの中心へ向かって制限する、態様６８に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７０）
前記レンズが、切り欠き部分を有するＵＶ透過シートであり、前記切り欠き部分が、前記開口をカバーするために前記ハウジングの内部キャビティ内部に前記ＵＶ透過シートを整合させるように形成されている、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７１）
前記ＵＶ透過シートがＵＶ透過パターンを含み、前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ消毒デバイスに対して標的領域のＵＶ－Ｃ光の強度の均一性を高めるように形成されている、態様７０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７２）
前記レンズが、ＵＶ透過パターンを形成する複数のアパーチャを有するシリコーンシートを含む、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７３）
前記レンズが、ＵＶ透過パターンを形成する複数のアパーチャを含むホウケイ酸ガラスシートを含む、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７４）
ＵＶレンズがＵＶ不透明層とＵＶ透過層とを含み、前記ＵＶ不透明層が、パターン状に形成された複数のアパーチャを含む、態様６０に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７５）
前記複数のアパーチャのパターンがＸよりも大きい密度を含む、態様７４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７６）
パターンが、前記レンズの中心の近くに大きなアパーチャを、より小さなアパーチャの２つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、態様７４に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７７）
ＵＶ消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ光源であって、前記ＵＶ－Ｃ光源がＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ光源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をカバーするように形成されたＵＶ透過パターンを有するシートであって、前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ－Ｃ光源からのＵＶ－Ｃ光を、前記開口を通して導くように形成されている、シートと、
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
（態様７８）
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃリフレクタを含み、前記ＵＶ－Ｃリフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光をＵＶ透過フィルムへ向かって反射するように形成されている、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様７９）
前記ＵＶ透過パターンが、前記ハウジングをシールするフィルムである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８０）
前記ＵＶ透過パターンが、２つの層、すなわち第１ＵＶ透過フィルム層と、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有する第２ＵＶ不透明層とを含むフィルムである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８１）
前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有するホウケイ酸ガラスシートである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８２）
ホウケイ酸ガラスシートの厚さが１７５ミリメートルである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８３）
前記ＵＶ透過パターンが、前記ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有するシリコーンシートである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８４）
前記シリコーンシートの厚さが２００マイクロメートルである、態様８３に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８５）
前記ＵＶ透過パターンが、ＵＶ透過パターンを形成する複数の穴を有する金属シートである、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８６）
前記ＵＶ透過パターンが、前記パターンの中心の近くに大きな穴を、より小さなアパーチャの２つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８７）
前記ＵＶ透過パターンが、第１密度を有する複数の穴を含む、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８８）
前記ＵＶ透過パターンが、第２密度を有する複数の穴を含む、態様７７に記載のＵＶ消毒デバイス。
（態様８９）
ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法であって、
ＵＶ不透明材料層を用意し、
ＵＶ透過材料層を用意し、
前記ＵＶ不透明材料層から材料を除去することにより、前記ＵＶ不透明材料層内に複数の穴を穴パターンの形態で形成し、ＵＶ不透明材料層の残りの部分がＵＶブロッキングパターンを形成し、
前記ＵＶブロッキングパターンを形成する、前記ＵＶ不透明材料層の前記残りの部分を、前記ＵＶ透過材料層と接合し、これにより、前記ＵＶ不透明材料層の前記接合された残りの部分と前記ＵＶ透過材料層とが、ＵＶブロッキング部分を有するＵＶ－Ｃ透過レンズを形成する、
ことを含む、ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９０）
ＵＶ不透明材料層がホウケイ酸塩である、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９１）
前記ＵＶ不透明材料層がシリコーンである、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９２）
前記ＵＶ不透明材料層が金属である、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９３）
前記穴パターンを有するＵＶ不透明材料層と、ＵＶ透過材料層とを接合したものをカットすることにより、レンズの形状にすることを含む、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
（態様９４）
レンズの形状が、前記ＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを消毒デバイスのハウジングに対して位置決めしシーリングするための複数の切り欠きを含む、態様８９に記載のＵＶ－Ｃ透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ＵＶ消毒デバイスであって、ハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジング内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと
を含む、ＵＶ消毒デバイス。
【請求項2】
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ2マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料である、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項3】
ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有している、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項4】
ＵＶ－Ｃレンズが、ＳｉＯ2マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料であり、且つ前記ＵＶ－Ｃレンズが可変の厚さを有しており、これらが組み合わさって前記ＵＶ－Ｃレンズの形態、前記概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンに貢献する、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項5】
ＵＶ－Ｃレンズの内側表面がＵＶブロッキングパターンを含む、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項6】
ＵＶ－Ｃレンズの外側表面がテキスチャ加工されている、請求項１に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項7】
ＵＶ消毒デバイスであって、ハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたＵＶ－Ｃ源であって、前記ＵＶ－Ｃ源が、ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにＵＶ－Ｃ光を発するように形成されている、ＵＶ－Ｃ源と、
前記ハウジングの内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記ＵＶ－Ｃ源から発せられたＵＶ－Ｃ光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なＵＶ－Ｃ光パターンを生成するように形成されたレンズと、
前記ハウジングと接合され、前記ＵＶ－Ｃ源と前記ＵＶ消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされた複合レンズであって、前記複合レンズが、前記ＵＶ－Ｃ源のより近くでは低減された強度でＵＶ光パターンを生成し、標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように形成されている、複合レンズと、
を含み、前記複合レンズが、
第１ＵＶＣ透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第１ＵＶＣ透過性レベルよりも高い第２ＵＶＣ透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、ＵＶ消毒デバイスの通常の使用中にＵＶホットスポットを低減又は防止する、
ＵＶ消毒デバイス。
【請求項8】
前記ＵＶ－Ｃ源が前記標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、複合レンズを含む前記ＵＶ消毒デバイスが、前記標的消毒領域に対して非垂直角度に位置決めされている、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項9】
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるＵＶブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの１つ又は２つ以上を変更すること、のうちの１つ又は２つ以上によって、選択される、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項10】
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項11】
前記一次及び二次レンズが接合されている請求項７のＵＶ消毒デバイスであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたＵＶ消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なＵＶ光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項12】
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項13】
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【請求項14】
前記一次レンズが補助プリズムを含み、前記補助プリズムが、前記標的消毒領域でより均一な光分布を生成するように形成された、前記標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している、請求項７に記載のＵＶ消毒デバイス。
【国際調査報告】