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特表2023-505018層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-02-08
(54)【発明の名称】層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法
(51)【国際特許分類】
C23C 14/54 20060101AFI20230201BHJP
G02B 1/11 20150101ALI20230201BHJP
G02C 7/00 20060101ALN20230201BHJP
【ＦＩ】
C23C14/54 F
G02B1/11
G02C7/00
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022526086
(86)(22)【出願日】2020-12-18
(85)【翻訳文提出日】2022-06-07
(86)【国際出願番号】 EP2020087007
(87)【国際公開番号】W WO2021123154
(87)【国際公開日】2021-06-24
(31)【優先権主張番号】102019135195.2
(32)【優先日】2019-12-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】514073189
【氏名又は名称】ローデンシュトック ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】110000659
【氏名又は名称】弁理士法人広江アソシエイツ特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】シェルシュリヒト，リュディガー
(72)【発明者】
【氏名】ラドゥンツ，ステファン
【テーマコード（参考）】
2H006
2K009
4K029
【Ｆターム（参考）】
2H006BA01
2H006BA03
2K009AA02
2K009DD01
4K029AA09
4K029AA24
4K029BA42
4K029BA43
4K029BB02
4K029BC07
4K029EA01
(57)【要約】
本発明は、層システム（１０）を製造するためのコーティングシステム（１００）を動作させるための方法であって、（ｉ）コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）をコーティングするステップ（Ｓ１００）と、（ｉｉ）光学測定システム（１０４）における前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）を決定するステップ（Ｓ１０２）と、（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロット（９８）を前記実測プロット（９０）に適合させることによって実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を決定するステップ（Ｓ１１０）と、（ｉｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる前記シミュレーション対象測定プロット（９８）から、計算実層パラメータ（９６）として実層パラメータ（９６）を決定するステップ（Ｓ１１２）と、（ｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および前記計算実層パラメータ（９６）を少なくとも決定システム（１０８）に出力するステップ（Ｓ１１４）と、（ｖｉ）品質要件データを提供するステップ（Ｓ１１８）と、（ｖｉｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較に基づいて、前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）を決定するステップ（Ｓ１２０）と、を含む方法に関する。本発明は、同様に、層システム（１０）を製造するためのコーティングシステム（１００）に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
層システム（１０）を製造するためのコーティングシステム（１００）を動作させる方法であって、（ｉ）コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）をコーティングするステップ（Ｓ１００）と、
（ｉｉ）光学測定システム（１０４）における前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）を決定するステップ（Ｓ１０２）と、
（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロット（９８）を前記実測プロット（９０）に適合させることによって実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を決定するステップ（Ｓ１１０）と、
（ｉｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる前記シミュレーション対象測定プロット（９８）から、計算実層パラメータ（９６）として実層パラメータ（９６）を決定するステップ（Ｓ１１２）と、
（ｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および前記計算実層パラメータ（９６）を少なくとも決定システム（１０８）に出力するステップ（Ｓ１１４）と、
（ｖｉ）品質要件データを提供するステップ（Ｓ１１８）と、
（ｖｉｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較に基づいて、前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）を決定するステップ（Ｓ１２０）と
を含む方法。
【請求項2】
（ｉ）前記実測プロット（９０）から前記層システム（１０）の残留反射色の色値（８８）を計算するステップ（Ｓ１０４）と、（ｉｉ）前記実測プロット（９０）および前記計算された色値（８８）をファイリングデータベース（２１０）にファイルするステップ（Ｓ１０６）と、
（ｉｉｉ）前記層システム（１０）の前記完成したコーティングの設計を有する対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）を設計データベース（２００）および前記実測プロット（９０）からシミュレーションコンピュータ（１０６）にロードするステップ（Ｓ１０８）と、
（ｉｖ）前記シミュレーションコンピュータ（１０６）内で前記シミュレーション対象測定プロット（９８）を前記実測プロット（９０）に適合させることによって前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を決定するステップ（Ｓ１１０）と、
（ｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および前記計算実層パラメータ（９６）を前記決定システム（１０８）および前記ファイリングデータベース（２１０）に出力するステップ（Ｓ１１４）と、
（ｖｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較のために使用される、前記基準データベース（２２０）から前記層システム（１０）の承認基準をロードするステップ（Ｓ１１６）と、
（ｖｉｉ）承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）の決定を前記ファイリングデータベース（２１０）において文書化するステップと
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記承認基準は、特に、前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および／または前記計算実層パラメータ（９６）および／または前記実測プロット（９０）との比較に使用される、要件が導出される、少なくとも許容可能および／または非許容可能な層パラメータを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項4】
前記品質要件データは、層システム（１０）の前記対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）の公差値を含む、請求項２または３に記載の方法。
【請求項5】
前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認を決定するステップは、特に人工知能方法を使用することによる、自動的なソフトウェアベースの承認決定を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項6】
少なくとも前記対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）と前記基準データベース（２２０）からの承認基準との比較に基づいて、コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）のコーティングを決定するステップをさらに含む、請求項２から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
前記計算実層パラメータ（９６）は、前記実測プロット（９０）の外側の波長範囲内、特にＵＶ波長範囲内の反射値、および／または異なる入射角での反射値を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
コーティングシステム（１０２）内の層システム（１０）のコーティングは、干渉型層システム（１０）が基板（２２）の少なくとも１つの表面（２４）上に堆積されることを含み、前記層システム（１０）は、少なくとも４つの連続する層パケット（４２、４４、４６、４８、５０）のスタック（４０）を含み、各層パケット（４２、４４、４６、４８、５０）は、１対の第１および第２の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）を含み、前記第１の個別層（１１、１３、１５、１７、１９）は各々第１の光学的厚さ（ｔ１）を有し、前記第２の個別層（１２、１４、１６、１８、２０）は各々、前記第１の光学的厚さ（ｔ１）とは異なる第２の光学的厚さ（ｔ２）を有し、
前記基板により近い前記それぞれの第１の個別層（１１、１３、１５、１７、１９）の屈折率（ｎ１）は、前記基板からより離れた前記スタック（４０）の前記それぞれの第２の個別層（１２、１４、１６、１８、２０）の屈折率（ｎ２）よりも大きく、
前記層システム（１０）は、残留反射色の輝度（Ｌ＊）、色度（Ｃ＊）、および色相角（ｈ）を有し、
前記層システム（１０）の表面法線（７０）に対して０°および３０°の限界値を有する視角（ＡＯＩ）の間隔における前記残留反射色の色相角（ｈ）の変化量（Δｈ）は、前記視角（ＡＯＩ）の間隔における前記色度（Ｃ＊）の変化量（ΔＣ＊）よりも小さく、
－少なくとも、高屈折率の第１の個別層（１１、１３、１５、１７、１９）の第１の材料および低屈折率の第２の個別層（１２、１４、１６、１８、２０）の第２の材料と、前記個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）を含む所望の層パケット（４２、４４、４６、４８、５０）の数と、前記個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の厚さの開始値とを含む層設計を定義するステップと、
－少なくとも０°および３０°の前記限界値を有する視角（ＡＯＩ）の間隔の限界値における、輝度（Ｌ＊）、色度（Ｃ＊）、および色相角（ｈ）を含む目標色値を定義するステップと、
－最適化目標に達するまで前記個別層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）を変化させるための最適化方法を実行するステップと
が実行される、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
０°および３０°の限界値を有する前記視角（ＡＯＩ）の間隔における色相角（ｈ）は、最大で１５°変化し、好ましくは最大で１０°変化し、および／または０°から前記層システム（１０）上の前記表面法線（７０）に対して少なくとも３０°から最大４５°までの間の上限値を有する限界視角（θ）までの視角（ＡＯＩ）の第２の間隔における色相角（ｈ）の変化の量（Δｈ）は、前記視角（ＡＯＩ）の第２の間隔における前記色度（Ｃ＊）の変化量（ΔＣ＊）よりも小さく、前記限界視角（θ）における前記色度（Ｃ＊）の量は少なくとも２であり、特に、前記第２の間隔における前記色相角（ｈ）は、最大で２０°変化し、好ましくは最大で１５°変化し、および／または
０°および３０°の前記限界値を有する前記視角（ＡＯＩ）の間隔における明所反射力（Ｒｖ）は、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であり、
０°および３０°の前記限界値を有する前記視角（ＡＯＩ）の間隔における暗所反射力（Ｒｖ´）は、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％である、請求項８に記載の方法。
【請求項10】
前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）の決定のために、光学測定システム（１０４）内の前記層システム（１０）においてスペクトル反射測定が実行される、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項11】
前記実測プロット（９０）からの前記層システム（１０）の残留反射色の色値（８８）の計算は、前記残留反射色の輝度（Ｌ＊）、色度（Ｃ＊）、および色相角（ｈ）が前記実測プロット（９０）から決定されることをさらに含む、請求項２から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
前記シミュレーションコンピュータ（１０６）内でシミュレーション対象測定プロット（９８）を前記実測プロット（９０）に適合させることによる実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）の決定は、（ｉ）前記層システム（１０）の製造のための前記コーティング設備（１０２）において設定されたそれぞれの設備実層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）を有する１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）からなる前記層システム（１０）における実測プロット（９０）として、縦座標値および横座標値を有する少なくとも１つのスペクトル測定プロットを検出するステップであって、前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）は、前記少なくとも１つのコーティング設備（１０２）の対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）にしたがって製造され、前記対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）は、前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた、前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の少なくとも前記設備実層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）を含む、ステップ（Ｓ２００）と、
（ｉｉ）特に前記実測プロット（９０）の重要なスペクトル点について、割り当て基準にしたがって前記層システム（１０）の実測プロット（９０）を、１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）から形成された、対象層システム（１０＿ｓｏｌｌ）に基づく、縦座標値および横座標値を有する対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）の対象測定プロット（９２）に割り当てるステップであって、前記対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）は、前記それぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の既知の対象層厚（ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０）のうちの少なくとも１つを含む、ステップ（Ｓ２０２）と、
（ｉｉｉ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション実測プロット（９４）における前記実測プロット（９０）が少なくとも近似される、前記実測プロット（９０）の少なくとも１つのスペクトル間隔（８２）における前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の少なくともシミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）の変化と、前記それぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）を有する最終シミュレーション実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ＿ｓｉｍ）の受信とによる反復方法にしたがって、前記シミュレーション実測プロット（９４）を生成するステップであって、前記対象層厚（ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０）は、前記シミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）の開始値として使用される、ステップ（Ｓ２０４）と、
（ｉｖ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション対象測定プロット（９８）における前記対象測定プロット（９２）が少なくとも近似される、前記対象測定プロット（９２）の少なくとも１つのスペクトル間隔（８２）におけるそれぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の少なくとも前記シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）を変化させることと、前記それぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）を有する最終シミュレーション対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍ）の受信とによる反復方法にしたがって、シミュレーション対象測定プロット（９８）を生成するステップであって、前記シミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）は、前記シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）の開始値として使用される、ステップ（Ｓ２０６）と
をさらに含み、
前記反復方法は、１つ以上のスペクトル間隔（８２、８４、８６）で実行され、各後続の間隔（８４、８６）は前記前の間隔（８２、８４）を含む、請求項２から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる計算実層パラメータ（９６）の決定は、前記最終シミュレーション対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍ）を有する前記最終シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）から決定される、新しい設備実層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）の決定のために少なくとも１つ以上の補正実層厚（ｄ＿ｋｏｒｒ＿１１、．．．、ｄ＿ｋｏｒｒ＿２０）を有するさらなる層システム（１０＿ｎ＋１）を堆積するための新しい設備データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ＋１）として、前記少なくとも１つのコーティング設備（１０２）の前記最終シミュレーション対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍ）を提供するステップ（Ｓ２０８）をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項14】
請求項１から１３のうちの少なくとも１つに記載の方法を使用して層システム（１０）を製造するためのコーティングシステム（１００）であって、少なくとも－光学素子（８０）のための層システム（１０）で基板（２２）をコーティングするためのコーティング設備（１０２）と、
－前記コーティング設備（１０２）を制御し、シミュレーションコンピュータ（１０６）と通信するための制御コンピュータ（１１０）と、
－前記層システム（１０）のスペクトル分解実測プロット（９０）を決定するための光学測定装置（１０４）と、
－前記層システム（１０）の光計算および最適化のためのシミュレーションソフトウェア（１０７）がインストールされたシミュレーションコンピュータ（１０６）と、
－対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）を記憶するための設計データベース（２００）と、
－実測プロット（９０）、実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、計算実層パラメータ（９６）、および承認決定を記憶するためのファイリングデータベース（２１０）と、
－承認基準の記憶のための基準データベース（２２０）と、
－層システム（１０）の承認のための決定システム（１０８）と
を含む、コーティングシステム（１００）。
【請求項15】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の層システム（１０）を製造するための少なくとも１つのコーティングシステム（１００）を動作させる方法のためのコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータプログラム製品は、コンピュータシステム（１０６）上で実行可能であり、前記コンピュータシステム（１０６）に特に請求項１に記載の方法を実行させるプログラム命令を含む、少なくとも１つのコンピュータ可読記憶媒体を含み、前記方法は、（ｉ）コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）をコーティングするステップ（Ｓ１００）と、
（ｉｉ）光学測定システム（１０４）における前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）を決定するステップ（Ｓ１０２）と、
（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロット（９８）を実測プロット（９０）に適合させることによって実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を決定するステップ（Ｓ１１０）と、
（ｉｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる前記シミュレーション対象測定プロット（９８）から、計算実層パラメータ（９６）として実層パラメータ（９６）を決定するステップ（Ｓ１１２）と、
（ｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および前記計算実層パラメータ（９６）を少なくとも決定システム（１０８）に出力するステップ（Ｓ１１４）と、
（ｖｉ）品質要件データを提供するステップ（Ｓ１１８）と、
（ｖｉｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較に基づいて、前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）を決定するステップ（Ｓ１２０）と
を含む、コンピュータプログラム製品。
【請求項16】
特に請求項１に記載の、層システム（１０）を製造するための少なくとも１つのコーティングシステム（１００）を動作させるための方法を実行するためのコンピュータ可読プログラム命令を含む、データ処理プログラムを実行するためのデータ処理システム（１２４）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法に関する。本発明はまた、層システムを製造するためのコーティングシステム、コーティングシステムを動作させる方法のコンピュータプログラム製品、および層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法を実行するためのデータ処理システムにも関する。
【背景技術】
【0002】
基礎となるコーティングプロセスを有する製造環境で実施されるコーティング方法は、通常、コーティングバッチごとにばらつきを有する。これらのばらつきは、たとえば真空チャンバの壁上のコーティング材料の堆積物、コーティング設備にコーティング材料を投入するときのオペレータの影響、コーティング設備に設置された様々な構成要素の摩耗および断裂などにより、コーティング設備の状態がわずかに変化するという事実による。
【0003】
ほとんどのコーティングバッチについて測定された反射プロットは、通常、製造監視ツールに記憶される。これらのプロットは、Ｒｍ（平均反射力、Ｒｖ（視覚反射率）、およびそれらの色値に関して製造監視ツール内で評価されることが可能であり、対応する値を保存することができる。透過値、クロスカット値などのような他の入力値についても同様である。異なる層の変形例では、たとえば、品質関連変数は、承認の観点から間接的に決定されることが可能である。
【0004】
特許文献１から知られるものなど、干渉型反射防止コーティングを有する既知の光学素子は、通常、非特許文献１にしたがって計算される、およそ１％の光反射度を有する。残っている残留反射の色は、視角が変化したときに大きな変動を示す可能性がある。変動は、可視色域全体に及ぶ可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第２０１６／１１０３３９号パンフレット
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１３－１０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の目的は、品質に関連する態様を含む、層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法を提供することである。
【0008】
本発明のさらなる目的は、コーティングシステム、ならびにこのような方法を実行するためのコンピュータプログラム製品およびデータ処理システムを提供することである。
【0009】
目的は、独立請求項の特徴によって解決される。本発明の好ましい構成および利点は、さらなる請求項、説明、および図面から得られる。
【0010】
本発明は、光学素子の製造に特に有用である。本発明による方法は、光学素子およびコーティングの製造にも多層システムの堆積にも限定されないことが理解されるべきである。同様に、層システムが堆積される基板は、必要に応じて透明であっても不透明であってもよい。
【0011】
さらに、本発明は、基板上に堆積されて層厚を有する個別層からなる層システムに使用することができる。これは、個別層と基板との間に配置されている接着促進剤層および／または保護層で覆われている個別層を排除するものではない。可能な接着促進剤層および／または保護層は、１つの個別層を有する層システムの試験された特性に対して影響を及ぼさないか、または少なくとも有意な影響を及ぼさない。
【0012】
あるいは、層システムは、基板上で互いに重ねて堆積され、個別層が各々互いに同じであっても異なってもよい層厚を有する、いくつかの個別層から形成されることが可能である。ここでも、接着促進剤層は、基板に最も近い個別層と基板との間に配置されることが可能であり、および／または層システムは保護層で覆われることが可能である。可能な接着促進剤層および／または保護層は、いくつかの個別層を有する層システムの試験された特性に対して影響を及ぼさないか、または少なくとも有意な影響を及ぼさない。
【0013】
任意選択的に、基板と層システム、たとえば硬質塗料、プライマ塗料、緩衝塗料などのような従来の塗料システムとの間に、接着促進剤として中間層が提供されることも可能である。
【0014】
別途明記されない限り、本開示で使用される用語は、ドイツ規格協会（Ｇｅｒｍａｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｆｏｒ Ｓｔａｎｄａｒｄｉｓａｔｉｏｎ ｅ．Ｖ）の標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１３－１０（ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１２（Ｄ／Ｅ））およびＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１１６６４－４：２０１２－０６（ＥＮ ＩＳＯ１１６６４－４：２０１１）の意味の範囲内で理解されるべきである。
【0015】
標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１３－１０のセクション４．２によれば、可視光、可視放射、または可視波長範囲という用語は、人間に光感覚を直接引き起こすことができる光放射を指す。可視放射は一般に、４００ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲を指す。
【0016】
本開示の範囲内で、可視放射は、好ましくは、人間の目の最大感度に対応する、４００ｎｍまたは４６０ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲を指すことができる。同時に、フィルタ特性およびエッジ急峻度の構成のための設計の柔軟性を高めることができる。
【0017】
標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１３－１０のセクション１５．１によれば、スペクトル反射力、反射力、または反射率という用語は、特定の波長（λ）の入射放射束に対するそれぞれの材料または表面またはコーティングによって反射されたスペクトル放射束の比を指す。
【0018】
この場合、反射率は、個々の部分層の反射率ではなく、そのいくつかの高屈折および低屈折部分層を有するコーティング全体の反射率を指す。
【0019】
本発明の第１の態様によれば、層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法であって、
（ｉ）コーティング設備内で層システムをコーティングするステップと、
（ｉｉ）光学測定システムにおける層システムのスペクトル実測プロットを決定するステップと、
（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するステップと、
（ｉｖ）実データセットを使用する層システムのシミュレーションによるシミュレーション対象測定プロットから、計算実層パラメータとして実層パラメータを決定するステップと、
（ｖ）実データセットおよび計算実層パラメータを少なくとも決定システムに出力するステップと、
（ｖｉ）品質要件データを提供するステップと、
（ｖｉｉ）少なくとも実データセット、計算実層パラメータ、および品質要件データの比較に基づいて、決定システムにおける層システムの承認を決定するステップと
を含む方法が提案される。
（ｉ）コーティング設備内で層システムをコーティングするステップと、
（ｉｉ）光学測定システムにおける層システムのスペクトル実測プロットを決定するステップと、
（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するステップと、
（ｉｖ）実データセットを使用する層システムのシミュレーションによるシミュレーション対象測定プロットから、計算実層パラメータとして実層パラメータを決定するステップと、
（ｖ）実データセットおよび計算実層パラメータを少なくとも決定システムに出力するステップと、
（ｖｉ）品質要件データを提供するステップと、
（ｖｉｉ）少なくとも実データセット、計算実層パラメータ、および品質要件データの比較に基づいて、決定システムにおける層システムの承認を決定するステップと
を含む方法が提案される。
【0020】
有利には、本発明による方法は、品質に関連する態様の下でコーティングシステムの動作の自己制御フィードバックモードを可能にする。
【0021】
決定システムは、別個のプロセッサとして設計されることが可能である。しかしながら、決定システムはまた、たとえば、別個のハードウェアとしてではなく、コーティングシステムの制御コンピュータ上のプロセスとして実装されることも可能である。
【0022】
実測プロットは、光学測定システム内で製造された層システムのスペクトル測定によって決定されることが可能である。
【0023】
コーティングシステムの実データセットはシミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって決定されるので、実データセットは、製造された層システムから逆算されたコーティングシステムのコーティングパラメータを含むことができる。
【0024】
実層パラメータは、実データセットを用いて層システムをシミュレートすることによって、シミュレーション対象測定プロットから計算されることが可能である。
コーティングシステムの対象データセットは、設計データベース内にあってもよく、製造されるコーティングの元の設計（コーティングパラメータ）を含むことができる。そして対象データセットは、１つ以上の個別層に割り当てられた１つ以上の個別層の少なくとも設備実層厚を含むことができる。
コーティングシステムの対象データセットは、設計データベース内にあってもよく、製造されるコーティングの元の設計（コーティングパラメータ）を含むことができる。そして対象データセットは、１つ以上の個別層に割り当てられた１つ以上の個別層の少なくとも設備実層厚を含むことができる。
【0025】
対象測定プロットを有する対象データセットは、最適なコーティングのための対象データを包含する。スペクトル分解光学測定に加えて、このデータは、可視スペクトル範囲内の色値Ｌ＊、Ｃ＊、およびｈ＊、および／または定義される任意の間隔における平均化または重み付けされた透過値および／または反射値などの定義された計算可能なスペクトル変数など、他の対象変数を含むこともできる。
【0026】
さらに、対象データセットは、小さいものから大きいものまで入れ子になったコーティング固有のスペクトル間隔を包含する。可能な限り最大の指定間隔は、最大スペクトル視野範囲を反映する。間隔の数は自由に選択することができる。対象データセットは、コーティングの光学レイアウトを明確に固定する特徴的なスペクトル点を包含する。
【0027】
対象測定プロットは、製造される層システムのスペクトル対象データを包含することができる。
対象層厚は、製造される層システムの対象層厚を含むことができる。
シミュレーション実データセットは、反復最適化方法で決定された層システムの個別層のうちの１つの少なくとも１つのシミュレーション実層厚、または層システムのいくつかの個別層のシミュレーション実層厚を含む。シミュレーション実データセットは、対象測定プロットへのシミュレーション対象測定プロットの逆算のために使用される。
対象層厚は、製造される層システムの対象層厚を含むことができる。
シミュレーション実データセットは、反復最適化方法で決定された層システムの個別層のうちの１つの少なくとも１つのシミュレーション実層厚、または層システムのいくつかの個別層のシミュレーション実層厚を含む。シミュレーション実データセットは、対象測定プロットへのシミュレーション対象測定プロットの逆算のために使用される。
【0028】
シミュレーション実測プロットは、少なくとも１つのシミュレートされたスペクトル測定プロットを含み、これは、実測プロットとして実行された光学測定との可能な限り最良の一致を表す。
シミュレーション実測プロットにおける実測プロットは、シミュレーション実層厚によって少なくとも近似される。
シミュレーション実測プロットにおける実測プロットは、シミュレーション実層厚によって少なくとも近似される。
【0029】
シミュレーション対象データセットは、反復最適化方法で決定されたいくつかの個別層の少なくともシミュレーション対象層厚、またはシミュレーション対象セットにわたってオフセットした対象測定プロットとの可能な限り最良の一致を有する１つの個別層のシミュレーション対象層厚を含む。このデータセットの調整された１つ以上のシミュレーション対象層厚は、以下のコーティングバッチのプロセスパラメータを表す。
【0030】
この目的のために、シミュレーション対象データセットは、理想的な層および／または理想的なプロセスのためのシミュレートされた層システムの調整された計算パラメータ、理想的な屈折率値および理想的な堆積条件などの材料特性、ならびにコーティング形状、層厚制御などのような設備パラメータを含む。
【0031】
シミュレーション対象測定プロットは、対象測定プロットとシミュレーション実測プロットとの間の可能な限り最良の一致を表す少なくとも１つのシミュレートされたスペクトル測定プロットを含む。
【0032】
シミュレーション対象測定プロットにおける対象測定プロットは、シミュレーション対象層厚によって少なくとも近似される。
【0033】
設備データセットは、層システムがいくつかの個別層から形成される場合には、コーティング設備で調整されたいくつかの個別層の少なくとも実層厚、または層システムが１つの個別層のみから形成される場合には、コーティング設備で調整された１つの個別層の実層厚を含む。
【0034】
設備実層厚は、コーティング設備で調整された、製造される層システムの層厚であってもよい。
補正実層厚は、次の層システムを製造するために、最終シミュレーション対象データセットを用いて最終シミュレーション対象層厚から決定される新しい設備実層厚を表すことができる。
補正実層厚は、次の層システムを製造するために、最終シミュレーション対象データセットを用いて最終シミュレーション対象層厚から決定される新しい設備実層厚を表すことができる。
【0035】
承認基準は、たとえば、規格、特許出願、実用新案、登録特許などのような特許権であってもよい。特許権は、たとえば、請求項の特徴に基づく。請求項の特徴は、数値を導出することができ、自動的にチェックすることができる特徴を含む。承認基準は、たとえば、数値で表すことができる請求項の特徴を有する規格および／または特許明細書が記憶され得る基準データベースにある。
【0036】
しかしながら、承認基準は、スペクトル的に検証可能な変数、公差パラメータ、またはコーティングパラメータのばらつきによる指定された光学データの遵守など、他の特徴を有利に含むこともできる。
【0037】
したがって、承認基準は、特に、実データセットおよび／または計算実層パラメータおよび／または実測プロットとの比較に使用される、要件が導出される、少なくとも許容可能および／または非許容可能な層パラメータを含むことができる。
【0038】
品質要件データは承認基準に基づいて定義されることが可能であり、品質要件データは、層システムの対象データセットの公差値を含むことができる。
【0039】
このようにして、機器の状態のため、または測定が複雑すぎるために直接決定することができない承認決定のためのパラメータを使用することができる。こうして効率的なソフトウェアベースの品質保証が実行され得る。
【0040】
品質要件データは、特に基準データベースからロードされることが可能である。
任意選択的に、層システムの残留反射色の色値もまた実測プロットから計算されることが可能である。
任意選択的に、層システムの残留反射色の色値もまた実測プロットから計算されることが可能である。
【0041】
コーティングシステムは、たとえば光学素子のための層システムを製造するために好ましく使用されることが可能である。この場合、スペクトル測定プロットは、特に可視範囲内にある波長範囲にわたるスペクトル反射プロットの測定を含み、シミュレーション対象測定プロットは、同じ波長範囲内のシミュレートされたスペクトル反射プロットに対応する。
【0042】
コーティングの分野は、規制によってますます制限されており、これはとりわけ規格によって指定されるが、特許によっても指定される。たとえば、紫外スペクトル範囲内のコーティングの異なる特性を保護する多数の特許がある。
【0043】
新しいコーティングの開発段階の間、およびこれらの新しいコーティングのバッチを製造する製品ライフサイクル中のその後の両方において、これらの規制の準拠を監視することが重要である。これを監視することは、以前のように試験値をチェックおよび文書化するこことだけでなく、これらの規制の不適合の場合の開発段階中のコーティングまたは製造プロセスにおけるコーティングバッチの不承認も意味する。
【0044】
コーティングプロセス中の光学層の補正のために光学インラインまたはオンライン監視を用いて従来のコーティング設備で機能する既知の方法とは対照的に、本発明による方法は、次のコーティング実行（実行ｎ＋１）のために前のコーティング実行（実行ｎ）のデータから擬似的に「死後」に補正提案を抽出することができる。加えて、個々の光学層の相互の厚さの比を維持することができる。
【0045】
加えて、対象プロットに対する「任意」補正はないが、既存の層厚比を考慮したインテリジェント補正があり、したがって、主な層特性が維持される。最後になったが、ＣＥ承認などのような法的根拠もまた有利に満たされ維持されることが可能である。
【0046】
本発明による方法は、ソフトウェアベースのプロセスによるこのような承認決定を有利に可能にする。この承認決定は、記憶された試験ルーチンに基づいて自動的に行われることが可能である。これらの試験ルーチンは、たとえば、規格、出願、実用新案、登録特許などのような特許権を含むことができる承認基準に基づいて、品質要件データをチェックする。
【0047】
特許権は、たとえば、請求項の特徴に基づく。数値を導出することができる請求項の特徴は、自動的にチェックされることが可能である。このソフトウェアベースの品質保証は、たとえば、規格および／または特許明細書が、数値的に表すことができるその請求項の特徴とともに記憶され得る基準データベースを含む。
【0048】
しかしながら、承認基準は、スペクトル的に検証可能な変数、公差パラメータ、またはコーティングパラメータのばらつきによる指定された光学データの遵守など、他の特徴を有利に含むこともできる。
【0049】
その層構造が知られている完成した層システムは、基準データベースに包含された特徴との適合性についてチェックされることが可能である。層システム上の反射測定など、測定値から導出することができない特徴、またはそのデータが入手不可能な特徴をチェックできるようにするために、ソフトウェアを使用して測定をシミュレートすることができる。ソフトウェアベースの品質保証は、このシミュレーションステップを含む。
【0050】
シミュレーションと既存の測定とを比較することにより、記述の信頼性を保証することができる。
【課題を解決するための手段】
【0051】
有利な実施形態によれば、方法は、少なくとも以下のステップも含むことができる。
（ｉ）実測プロットから層システムの残留反射色の色値を計算するステップと、（ｉｉ）実測プロットおよび計算された色値をファイリングデータベースにファイルするステップと、（ｉｉｉ）層システムの完成したコーティングの設計を有する対象データセットを設計データベースおよび実測プロットからシミュレーションコンピュータにロードするステップと、（ｉｖ）シミュレーションコンピュータ内でシミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するステップと、（ｖ）実データセットおよび計算実層パラメータを決定システムおよびファイリングデータベースに出力するステップと、（ｖｉ）少なくとも実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、計算実層パラメータ（９６）、および品質要件データの比較のために使用される、基準データベースから層システムの承認基準をロードするステップと、（ｖｉｉ）承認の決定をファイリングデータベースにおいて文書化するステップ。
（ｉ）実測プロットから層システムの残留反射色の色値を計算するステップと、（ｉｉ）実測プロットおよび計算された色値をファイリングデータベースにファイルするステップと、（ｉｉｉ）層システムの完成したコーティングの設計を有する対象データセットを設計データベースおよび実測プロットからシミュレーションコンピュータにロードするステップと、（ｉｖ）シミュレーションコンピュータ内でシミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するステップと、（ｖ）実データセットおよび計算実層パラメータを決定システムおよびファイリングデータベースに出力するステップと、（ｖｉ）少なくとも実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、計算実層パラメータ（９６）、および品質要件データの比較のために使用される、基準データベースから層システムの承認基準をロードするステップと、（ｖｉｉ）承認の決定をファイリングデータベースにおいて文書化するステップ。
【0052】
たとえば、設計は、少なくとも：高屈折率の第１の個別層の第１の材料および低屈折率の第２の個別層の第２の材料と、個別層を有する所望の層パケットの数と、個別層の厚さの開始値とを含むことができる。
【0053】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、承認基準は、特に、実データセットおよび／または計算実層パラメータおよび／または実測プロットとの比較に使用される、要件が導出される、少なくとも許容可能および／または非許容可能な層パラメータを含むことができる。
【0054】
このようにして、規制基準または規範基準は、承認プロセスに含まれることが可能である。特に、その仕様が設備関連パラメータから導出され得ないこれらの基準を使用することができる。
【0055】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、品質要件データは、層システムの対象データセットの公差値を含むことができる。これにより、一定の光学測定値を有するコーティングバッチを製造すること、または設備パラメータが変化した場合に早い段階で適切な補正を行うことが可能である。
【0056】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、決定システムにおける層システムの承認を決定するステップは、特に人工知能方法を使用することによる、自動的なソフトウェアベースの承認決定を含むことができる。本発明による方法は、ソフトウェアベースのプロセスを通じて高度な自動化による承認決定を有利に可能にする。承認決定は、記憶された試験ルーチンに基づいて自動的に行われることが可能である。試験ルーチンは、たとえば、絶えず変化する基準データベースに基づく知識に基づいて、自動的に適合され、さらに開発されることが可能である。
【0057】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、コーティング設備内で層システムのコーティングを決定するステップは、少なくとも対象データセットと基準データベースからの承認基準との比較に基づいて行われることが可能である。
【0058】
このような承認決定は、開発中の設計プロセスにおいて早期に行われることが可能であり、これによって製造コストを節約することができ、これは後に使用することができない可能性がある。
【0059】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、計算実層パラメータは、実測プロットの外側の波長範囲内、特にＵＶ波長範囲内の反射値、および／または異なる入射角での反射値を含むことができる。このような手順は、承認基準に基づく品質要件データの導出された変数に基づいている。
【0060】
このようにして、機器の状態のため、または測定が複雑すぎるために直接決定することができない承認決定のためのパラメータを使用することができる。こうして効率的なソフトウェアベースの品質保証が実行され得る。
【0061】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、コーティングシステム内の層システムのコーティングは、基板の少なくとも１つの表面上に堆積されることを含むことができる。
【0062】
ここで、層システムは、少なくとも４つの連続する層パケットのスタックを含むことができ、各層パケットは、１対の第１および第２の個別層を含み、第１の個別層は各々第１の光学的厚さを有し、第２の個別層は各々、第１の光学的厚さとは異なる第２の光学的厚さを有する。基板により近いそれぞれの第１の個別層の屈折率は、基板からより離れたスタックのそれぞれの第２の個別層の屈折率よりも大きくてもよい。
【0063】
特に、干渉型層システムは、反射低減または反射増強層システムとして設計されることが可能である。
【0064】
層システムは、残留反射色の輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈを有することができ、層システム上の表面法線に対して０°および３０°の限界値を有する視角の間隔における残留反射色の色相角ｈの変化量Δｈは、視角の間隔における色度Ｃ＊の変化量ΔＣ＊よりも小さい。
【0065】
ここで、以下のステップが実行される。
－少なくとも、高屈折率の第１の個別層の第１の材料および低屈折率の第２の個別層の第２の材料と、個別層を含む所望の層パケットの数と、個別層の厚さの開始値とを含む層設計を定義するステップと、
－少なくとも０°および３０°の限界値を有する視角の間隔の限界値における、輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈを含む目標色値を定義するステップと、
－最適化目標に達するまで個別層厚を変化させるための最適化方法を実行するステップ。
－少なくとも、高屈折率の第１の個別層の第１の材料および低屈折率の第２の個別層の第２の材料と、個別層を含む所望の層パケットの数と、個別層の厚さの開始値とを含む層設計を定義するステップと、
－少なくとも０°および３０°の限界値を有する視角の間隔の限界値における、輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈを含む目標色値を定義するステップと、
－最適化目標に達するまで個別層厚を変化させるための最適化方法を実行するステップ。
【0066】
間隔の限界値における目標色値は、同じになるかまたは類似するように有利に選択されることが可能である。
特に、異なる残留反射色の色相角の最大偏差を指定することができる。
層システムは、有利には、４つまたは５つの層パケットを有することができる。５つより多くの層パケットが提供されることも可能である。
特に、異なる残留反射色の色相角の最大偏差を指定することができる。
層システムは、有利には、４つまたは５つの層パケットを有することができる。５つより多くの層パケットが提供されることも可能である。
【0067】
色度は、彩度と呼ばれることも可能である。色相角は、色角度と呼ばれることも可能である。
有利には、部分層の層厚を変化させることにより、色安定層システムを提供することができ、その残留反射色は、より大きい視角の変化があったとしても、変化しないかまたはほんのわずかしか変化しない。
有利には、部分層の層厚を変化させることにより、色安定層システムを提供することができ、その残留反射色は、より大きい視角の変化があったとしても、変化しないかまたはほんのわずかしか変化しない。
【0068】
好ましくは、色安定残留反射色は、広い視角範囲にわたって色度と色相角との適切な組合せを通じて達成することができる。
【0069】
基板により近い、スタック内の層のスタックの第１の部分層は、同じ第１の材料から形成されることが可能である。基板からより離れた第２の部分層もまた、第１の部分層の第１の材料とは異なる同じ第２の材料から形成されることが可能である。
【0070】
この場合、第２の部分層のものに匹敵する屈折特性を有する第３の材料で作られた機能層が、第１の部分層と第２の部分層との間の基板から最も離れた層パケット内に配置されることを前提とすることができる。計算目的のために、機能層は、任意選択的に第２の部分層に割り当てられることが可能である。あるいは、スタック内の第１の部分層の材料を変化させることもできる。同様に、第２の部分層が形成される材料がスタック内で変化することを、代替的に前提とすることができる。
【0071】
有利には、視角の上限における色度は、最大で１６の値を有することができ、および／または視角の間隔内の色度の最大値は、最大で１６である。これにより、色相角の縁部だけでなく、残留反射の高い色恒常性を有する全ての反射色の実現が可能になる。
【0072】
本発明による方法の有利な実施形態によれば０°および３０°の限界値を有する視角の間隔における色相角ｈは、最大で１５°変化することができ、好ましくは最大で１０°変化することができ、
および／または０°から層システムの表面法線に対して少なくとも３０°から最大４５°までの間の上限値を有する限界視角θまでの視角の第２の間隔における色相角ｈの変化の量Δｈは、視角の第２の間隔における色度Ｃ＊の変化量ΔＣ＊よりも小さくてもよく、限界視角θにおける色度Ｃ＊の量は少なくとも２であってもよい。
特に、第２の間隔における色相角ｈは、最大で２０°変化することができ、好ましくは最大で１５°変化することができ、
および／または０°および３０°の限界値を有する視角の間隔における明所反射力Ｒｖは、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であってもよく、
および／または０°および３０°の限界値を有する視角の間隔における暗所反射力Ｒｖ´は、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であってもよい。
明所反射力は、昼間視力での人間の目の分光感度を考慮しており、暗所反射力は、夜間視力での人間の目の分光感度を考慮している。
光学系の残留反射の色印象は、広範囲の視角にわたって観察者に取って完全にまたはほとんど変化しないままである。
色安定残留反射色は、視角により大きな変化があったとしても有利に得られる。
第１の部分層は、高屈折材料から有利に形成されることが可能である。
および／または０°から層システムの表面法線に対して少なくとも３０°から最大４５°までの間の上限値を有する限界視角θまでの視角の第２の間隔における色相角ｈの変化の量Δｈは、視角の第２の間隔における色度Ｃ＊の変化量ΔＣ＊よりも小さくてもよく、限界視角θにおける色度Ｃ＊の量は少なくとも２であってもよい。
特に、第２の間隔における色相角ｈは、最大で２０°変化することができ、好ましくは最大で１５°変化することができ、
および／または０°および３０°の限界値を有する視角の間隔における明所反射力Ｒｖは、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であってもよく、
および／または０°および３０°の限界値を有する視角の間隔における暗所反射力Ｒｖ´は、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であってもよい。
明所反射力は、昼間視力での人間の目の分光感度を考慮しており、暗所反射力は、夜間視力での人間の目の分光感度を考慮している。
光学系の残留反射の色印象は、広範囲の視角にわたって観察者に取って完全にまたはほとんど変化しないままである。
色安定残留反射色は、視角により大きな変化があったとしても有利に得られる。
第１の部分層は、高屈折材料から有利に形成されることが可能である。
【0073】
好ましくは、第１の部分層は、化合物Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２０３、Ｎｄ２Ｏ５、Ｐｒ２０３、ＰｒＴｉ０３、Ｌａ２０３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＩｎＳｎ酸化物、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＯ、ＣｅＯ２、ＺｎＳ、および／またはこれらの修飾物、特に、これらの他の酸化状態および／またはシランおよび／またはシロキサンとのこれらの混合物のうちの１つ以上からなることができる。
【0074】
これらの材料は、眼鏡レンズのコーティング用など、光学素子で使用するための高い古典的な屈折率を有する材料として知られている。
しかしながら、高屈折部分層は、部分層全体の屈折率が１．６超、好ましくは少なくとも１．７、より好ましくは少なくとも１．８、特に好ましくは少なくとも１．９である限り、ＳｉＯ２または他の低屈折材料も含有することができる。
第２の部分層は、低屈折材料から有利に形成されることが可能である。
しかしながら、高屈折部分層は、部分層全体の屈折率が１．６超、好ましくは少なくとも１．７、より好ましくは少なくとも１．８、特に好ましくは少なくとも１．９である限り、ＳｉＯ２または他の低屈折材料も含有することができる。
第２の部分層は、低屈折材料から有利に形成されることが可能である。
【0075】
低屈折部分層は、純粋な形態の、またはそのフッ素化誘導体を有するＡｌ、シラン、シロキサンが添加された材料ＭｇＦ２、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＯ２のうちの少なくとも１つを含むことができる。しかしながら、低屈折部分層はまた、ＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３との混合物を含むこともできる。低屈折部分層は好ましくは、少なくとも８０重量％のＳｉＯ２、最も好ましくは少なくとも９０重量％のＳｉＯ２を含有することができる。
【0076】
低屈折部分層の屈折率は、好ましくは最大で１．５５、好ましくは最大で１．４８、最も好ましくは最大で１．４である。
屈折率に関するこの情報は、２５°Ｃの温度および５５０ｎｍの使用される光強度の基準波長での通常条件に関する。
屈折率に関するこの情報は、２５°Ｃの温度および５５０ｎｍの使用される光強度の基準波長での通常条件に関する。
【0077】
異なる屈折率を有する層状材料の典型的な例は、１．４６の屈折率を有する二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、１．７の屈折率を有する酸化アルミニウム（ＡＩ２Ｏ３）、２．０５の屈折率を有する二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、２．１の屈折率を有する酸化プラセオジムチタン（ＰｒＴｉＯ３）、各々２．３の屈折率を有する酸化チタン（ＴｉＯ２）および硫化亜鉛（ＺｎＳ）である。これらの値は、コーティング方法および層厚に応じて最大１０％まで変化する可能性のある平均値を表す
【0078】
通例の光学ガラスは、１．５から２．０の間の屈折率を有する。したがって、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２などの１．５未満の屈折率を有する層状材料は、光学ガラスと組合せて低屈折材料と呼ばれ、ＺｒＯ２、ＰｒＴｉＯ３、ＴｉＯ２、ＺｎＳなどの２．０を超える屈折率を有する層状材料は、光学ガラスと組み合わせて高屈折材料と呼ばれる。
【0079】
第１および第２の部分層の高屈折材料と低屈折材料との間の屈折率の差は、コーティング方法および層厚に応じて、好ましくは少なくとも０．２から少なくとも０．５である。
【0080】
このタイプのコーティングに使用される材料は、たとえばＰＶＤ法（ＰＶＤ＝物理蒸着（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ））またはＣＶＤ法（ＣＶＤ＝化学蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ））を使用して光学において基板上に堆積される典型的な材料である。
【0081】
光学素子の好ましい構成によれば、少なくとも第１の部分層は同じ第１の材料から形成されることが可能であり、第２の部分層は、少なくとも主に同じ第２の材料から形成されることが可能である。
【0082】
任意選択的に、第２の部分層は、同じ第２の材料から形成され、基板から最も離れた層パケット内でのみ、第１の部分層と第２の部分層との間に機能層を有することができる。機能層は、低屈折性であってもよく、必要であれば、計算目的のために第２の部分層に追加されてもよい。
【0083】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、層システムのスペクトル実測プロットの決定のために、光学測定システム内の層システム上でスペクトル反射測定が実行されることが可能である。スペクトル反射測定から、さらに適切な層パラメータが、シミュレーション計算によって好ましく決定されることが可能である。
【0084】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、実測プロットからの層システムの残留反射色の色値の計算は、残留反射色の輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈが実測プロットから決定されることを、さらに含むことができる。
【0085】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、シミュレーションコンピュータ内でシミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによる実データセットの決定は、
（ｉ）層システムを製造するためのコーティング設備において設定されたそれぞれの設備実層厚を有する１つ以上の個別層からなる層システムにおける実測プロットとして、縦座標値および横座標値を有する少なくとも１つのスペクトル測定プロットを検出するステップであって、１つ以上の個別層は、少なくとも１つのコーティング設備の対象データセットにしたがって製造され、対象データセットは、１つ以上の個々のものに割り当てられた、１つ以上の個別層の少なくとも設備実層厚を含む、ステップと、
（ｉｉ）特に実測プロットの重要なスペクトル点について、割り当て基準にしたがって層システムの実測プロットを、１つ以上の個別層から形成された、対象層システムに基づく、縦座標値および横座標値を有する対象データセットの対象測定プロットに割り当てるステップであって、対象データセットは、それぞれの個別層に割り当てられた１つ以上の個別層の既知の対象層厚のうちの少なくとも１つを含む、ステップと、
（ｉｉｉ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション実測プロットにおける実測プロットが少なくとも近似される、実測プロットの少なくとも１つのスペクトル間隔における１つ以上の個別層の少なくともシミュレーション実層厚の変化と、それぞれの個別層に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション実層厚を有する最終シミュレーション実データセットの受信とによる反復方法にしたがって、シミュレーション実測プロットを生成するステップであって、対象層厚は、シミュレーション実層厚の開始値として使用される、ステップと、
（ｉｖ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション対象測定プロットにおける対象測定プロットが少なくとも近似される、対象測定プロットの少なくとも１つのスペクトル間隔におけるそれぞれの個別層に割り当てられた１つ以上の個別層の少なくともシミュレーション対象層厚を変化させることと、それぞれの個別層に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション対象層厚を有する最終シミュレーション対象データセットの受信とによる反復方法にしたがって、シミュレーション対象測定プロットを生成するステップであって、シミュレーション実層厚は、シミュレーション対象層厚の開始値として使用される、ステップと
をさらに含むことができ、
（ｉ）層システムを製造するためのコーティング設備において設定されたそれぞれの設備実層厚を有する１つ以上の個別層からなる層システムにおける実測プロットとして、縦座標値および横座標値を有する少なくとも１つのスペクトル測定プロットを検出するステップであって、１つ以上の個別層は、少なくとも１つのコーティング設備の対象データセットにしたがって製造され、対象データセットは、１つ以上の個々のものに割り当てられた、１つ以上の個別層の少なくとも設備実層厚を含む、ステップと、
（ｉｉ）特に実測プロットの重要なスペクトル点について、割り当て基準にしたがって層システムの実測プロットを、１つ以上の個別層から形成された、対象層システムに基づく、縦座標値および横座標値を有する対象データセットの対象測定プロットに割り当てるステップであって、対象データセットは、それぞれの個別層に割り当てられた１つ以上の個別層の既知の対象層厚のうちの少なくとも１つを含む、ステップと、
（ｉｉｉ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション実測プロットにおける実測プロットが少なくとも近似される、実測プロットの少なくとも１つのスペクトル間隔における１つ以上の個別層の少なくともシミュレーション実層厚の変化と、それぞれの個別層に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション実層厚を有する最終シミュレーション実データセットの受信とによる反復方法にしたがって、シミュレーション実測プロットを生成するステップであって、対象層厚は、シミュレーション実層厚の開始値として使用される、ステップと、
（ｉｖ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション対象測定プロットにおける対象測定プロットが少なくとも近似される、対象測定プロットの少なくとも１つのスペクトル間隔におけるそれぞれの個別層に割り当てられた１つ以上の個別層の少なくともシミュレーション対象層厚を変化させることと、それぞれの個別層に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション対象層厚を有する最終シミュレーション対象データセットの受信とによる反復方法にしたがって、シミュレーション対象測定プロットを生成するステップであって、シミュレーション実層厚は、シミュレーション対象層厚の開始値として使用される、ステップと
をさらに含むことができ、
【0086】
反復方法は、１つ以上のスペクトル間隔で実行され、各後続の間隔は前の間隔を含む。
実測プロットの重要な点は、試験されている層システムの実測プロットと一致する層システムの目標設計を見出し、次いで測定プロットの水平および／または横方向変位の形態の第１の近似にこれを使用するために、有利に使用されることが可能である。
実測プロットの重要な点は、試験されている層システムの実測プロットと一致する層システムの目標設計を見出し、次いで測定プロットの水平および／または横方向変位の形態の第１の近似にこれを使用するために、有利に使用されることが可能である。
【0087】
対象測定プロットを有する対象データセットは、最適なコーティングのための対象データを包含する。スペクトル分解光学測定に加えて、このデータは、可視スペクトル範囲内の色値Ｌ＊、Ｃ＊、およびｈ＊、および／または定義される任意の間隔における平均化または重み付けされた透過値および／または反射値などの定義された計算可能なスペクトル変数など、他の対象変数を含むこともできる。スペクトル的に計算可能な変数の例は、視界、ならびにＩＲ－Ａ／ＩＲ－Ｂおよび／またはＵＶ－Ａ／ＵＶ－Ｂ範囲であってもよい。
【0088】
さらに、対象データセットは、小さいものから大きいものまで入れ子になったコーティング固有のスペクトル間隔を包含する。最大の指定間隔は、最大スペクトル視野範囲を反映する。間隔の数は自由に選択することができる。対象データセットは、コーティングの光学レイアウトを明確に固定する特徴的なスペクトル点を包含する。
【0089】
実測プロットは、少なくとも実行された光学測定のデータを含む。設備データセットは、層システムがいくつかの個別層から形成される場合には、コーティング設備で調整されたいくつかの個別層の少なくとも実層厚、または層システムが１つの個別層のみから形成される場合には、コーティングシステムで調整された１つの個別層の実層厚を含む。
【0090】
シミュレーション実測プロットは、少なくとも１つのシミュレートされたスペクトル測定プロットを含み、これは、実測プロットとして実行された光学測定との可能な限り最良の一致を表す。
【0091】
実シミュレーションデータセットは、反復最適化方法で決定された層システムの個別層のうちの１つの少なくとも実シミュレーション層厚、または層システムのいくつかの個別層の実シミュレーション層厚を含む。
【0092】
シミュレーション対象測定プロットは、対象測定プロットとシミュレーション実測プロットとの間の可能な限り最良の一致を表す少なくとも１つのシミュレートされたスペクトル測定プロットを含む。
【0093】
シミュレーション対象データセットは、反復最適化方法で決定されたいくつかの個別層の少なくともシミュレーション対象層厚、またはシミュレーション対象データセットにわたってオフセットした対象測定プロット間の可能な限り最良の一致を有する１つの個別層のシミュレーション対象層厚を含む。このデータセットの調整された１つ以上のシミュレーション対象層厚は、次のコーティングバッチのプロセスパラメータを表す。
【0094】
この目的のために、シミュレーション対象データセットは、理想的な層および／または理想的なプロセスのためのシミュレートされた層システムの調整された計算パラメータ、理想的な屈折率値および理想的な堆積条件などの材料特性、ならびにコーティング形状、層厚制御などのようなシステムパラメータを含む。
【0095】
一方では、シミュレーション対象データセットは、実測プロットとシミュレーション実測プロットとの間の光学的差異を相関させ、コーティングバッチごとの形態学的および技術的偏差などのシステム関連偏差、ならびに取り扱いの差異などの非システム関連偏差を考慮に入れる。他方では、シミュレーション実データセットは、対象測定プロットへのシミュレーション対象測定プロットの逆算のために使用される。
【0096】
本発明による方法は、コーティング設備上に堆積された、層システムの実測プロットが、シミュレーションコンピュータのシミュレーションソフトウェアにロードされることを前提とする。
【0097】
前のステップからのスケーリングされた暫定的な１つ以上の層厚に基づいて、最適化方法は、限られたスペクトル間隔で開始する。この限られたスペクトル間隔は、コーティングに固有であり、対象データセットの間隔リストからの第１の候補として対象測定プロットに割り当てられた対象データセットに記憶される。
【0098】
この最適化方法の一部として、層システムが単層から形成されるときは１つの個別層の層厚が、または層システムがいくつかの個別層から形成されるときはいくつかの個別層の層厚が決定され、これは、第１の近似において基礎となるシミュレーション対象測定プロットを有する実測プロットを記述する。
【0099】
このステップの後、１つ以上の層厚の第２の前提的なセットが提供される。制限が必要ないとき、この第２のシミュレーション実データセットは、第１の暫定的なシミュレーション実データセットと同一である。
【0100】
ここで、最適化方法は、対象データセットの間隔リストからのさらなるスペクトル間隔ごとに適用される。現在実行している最適化方法は、前の最適化方法のシミュレーション実データセットのセットを常に使用する。
【0101】
典型的には、適合されたシンプレックスアルゴリズムを最適化方法として使用することができるが、他の既知のシミュレーション方法もまた適切であろう。このような最適化方法のシミュレーションソフトウェアは、様々な製造業者から市販されており、たとえば市販のシミュレーションソフトウェア「Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ ＭａｃＬｅｏｄ」、またはたとえば光学層を生成するための他の既知のシミュレーションソフトウェアがある。
【0102】
全ての間隔反復が実行されると、実測プロットのスペクトルデータが良好に一致して近似され、第１の最終シミュレーション実測プロット、およびシミュレーション実層厚の対応するセットもある。これら２セットのパラメータは、一時的に記憶されるシミュレーション実データセットを形成する。
【0103】
これらのステップは、統計的な選択方法が安定した結果を生み出すまで繰り返される。プロット全体は好ましくは、この目的のために、特に、たとえばカイ二乗偏差などに関して考慮されることが可能である。
【0104】
本発明による方法の有利な実施形態によれば、実データセットを使用する層システムのシミュレーションによる計算実層パラメータの決定は、最終シミュレーション対象データセットを有する最終シミュレーション対象層厚から決定される、新しい設備実層厚を決定するための少なくとも１つ以上の補正実層厚を有するさらなる層システムを堆積するための新しい設備データセットとして、少なくとも１つのコーティング設備の最終シミュレーション対象データセットを提供するステップをさらに含むことができる。
【0105】
実測プロットのスペクトルデータが可能な限り良好に一致して近似されると、最終シミュレーション対象データセットは、１つ以上のシミュレーション実層厚で生成されることが可能である。新しい設備データセットを用いると、元々望まれていた対象データセットにより良く対応するさらなる層システムを、コーティング設備上で製造することができる。
【0106】
本発明の、特に独立したさらなる態様によれば、上述の方法を使用して層システムを製造するためのコーティングシステムであって、少なくとも
光学素子のための層システムで基板をコーティングするためのコーティング設備と、コーティング設備を制御し、シミュレーションコンピュータと通信するための制御コンピュータと、層システムのスペクトル分解実測プロットを決定するための光学測定装置と、層システムの光計算および最適化のためのシミュレーションソフトウェアがインストールされたシミュレーションコンピュータと、対象データセットを記憶するための設計データベースと、実測プロット、実データセット、計算実層パラメータ、および承認決定を記憶するためのファイリングデータベースと、承認基準の記憶のための基準データベースと、層システムの承認のための決定システムと
を含むコーティングシステムが提案される。
光学素子のための層システムで基板をコーティングするためのコーティング設備と、コーティング設備を制御し、シミュレーションコンピュータと通信するための制御コンピュータと、層システムのスペクトル分解実測プロットを決定するための光学測定装置と、層システムの光計算および最適化のためのシミュレーションソフトウェアがインストールされたシミュレーションコンピュータと、対象データセットを記憶するための設計データベースと、実測プロット、実データセット、計算実層パラメータ、および承認決定を記憶するためのファイリングデータベースと、承認基準の記憶のための基準データベースと、層システムの承認のための決定システムと
を含むコーティングシステムが提案される。
【0107】
このようにして、コーティングシステムは、上述のような本発明による方法によるコーティングシステムを効果的に動作させるために必要とされる全ての必要な構成要素を含む。その結果、層システムを製造するためのコーティング設備を、より効果的かつ迅速に動作させることができる。これは、コーティング設備の動作中に相当な節約の可能性をもたらす。
【0108】
コーティング設備は、たとえば、様々なコーティング源、スクリーン、ガラスホルダ、ポンプなど、基板をコーティングするための関連する集合体を有する真空チャンバを含む。
【0109】
有利には、コーティングシステムは、本発明の第１の態様による方法を使用して、自己制御フィードバックモードで動作されることが可能である。
【0110】
コーティング設備の制御コンピュータは、コーティング設備でコーティングプロセスを制御し、コーティング設備との通信を引き継ぐ。このコンピュータは、少なくとも自動データ交換のためのネットワーク接続を含むことができる。
【0111】
光学基板および適用された層システムからなる光学素子を反射する、スペクトル分解測定信号は、光学測定装置に記録されることが可能である。このいわゆる実測プロットは、データタプルからなる二次元データセットとして、たとえばナノメートル単位の波長、％単位の反射率として提供されることが可能である。これらのデータは、「スペクトルデータ」と呼ばれる。
【0112】
シミュレーションソフトウェアは、シミュレーションコンピュータにインストールされる。
シミュレーションソフトウェアは、光学測定装置によって生成されたデータセットを少なくとも読み込むことができるコンピュータプログラムである。シミュレーションソフトウェアは、コーティング設備からデータセットを読み込んで出力することもできる。
シミュレーションソフトウェアは、光学測定装置によって生成されたデータセットを少なくとも読み込むことができるコンピュータプログラムである。シミュレーションソフトウェアは、コーティング設備からデータセットを読み込んで出力することもできる。
【0113】
ソフトウェアは、設計データベースからの入力によって動作し、たとえば設計データベースから対象データセットを読み出して、新たに計算されたシミュレーションデータセットをファイリングデータベースにファイルする。さらに、ソフトウェアは、市販のシミュレーションプログラム、たとえば「Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ ＭａｃＬｅｏｄ」に見られるように、少なくとも１つの任意の最適化／適合アルゴリズムを実装する。
【0114】
各コーティング設備および各コーティングプロセスについて得られたシミュレーション対象データセットは、ファイリングデータベースは、ファイリングデータベースに記憶され、後の時点で再び読み出されることが可能である。加えて、データベースは、全ての記憶されたコーティングプロセスの関連する対象データセットを包含する。
【0115】
関連する承認基準は、最新の規制に応じた基準データベース、特許データベースの検索、開発および販売の局面に応じた定義などに記憶される。
【0116】
別個のプロセッサとして設計され得る決定システムは、少なくとも実データセット、計算実層パラメータ、および品質要件データの比較に基づいて層システムのリリースに関する決定を行い、ファイリングデータベース内で決定を文書化する。
【0117】
しかしながら、決定システムはまた、たとえば、別個のハードウェアとしてではなく、コーティングシステムの制御コンピュータ上のプロセスとして実装されることも可能である。
【0118】
本発明の、特に独立したさらなる態様によれば、層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させる方法のためのコンピュータプログラム製品が提案され、コンピュータプログラム製品は、コンピュータシステム上で実行され、コンピュータシステムに方法を実行させるプログラム命令を含む、少なくとも１つのコンピュータ可読記憶媒体を含み、方法は、
（ｉ）コーティング設備内で層システムをコーティングするステップと、（ｉｉ）光学測定システムにおける層システムのスペクトル実測プロットを決定するステップと、（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するステップと、（ｉｖ）実データセットを使用する層システムのシミュレーションによるシミュレーション対象測定プロットから、計算実層パラメータとして実層パラメータを決定するステップと、（ｖ）実データセットおよび計算実層パラメータを少なくとも決定システムに出力するステップと、（ｖｉ）品質要件データを提供するステップと、（ｖｉｉ）少なくとも実データセット、計算実層パラメータ、および品質要件データの比較に基づいて、決定システムにおける層システムの承認を決定するステップと
を含む。
品質要件データは、特に基準データベースからロードされることが可能である。
任意選択的に、層システムの残留反射色の色値もまた実測プロットから計算されることが可能である。
（ｉ）コーティング設備内で層システムをコーティングするステップと、（ｉｉ）光学測定システムにおける層システムのスペクトル実測プロットを決定するステップと、（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するステップと、（ｉｖ）実データセットを使用する層システムのシミュレーションによるシミュレーション対象測定プロットから、計算実層パラメータとして実層パラメータを決定するステップと、（ｖ）実データセットおよび計算実層パラメータを少なくとも決定システムに出力するステップと、（ｖｉ）品質要件データを提供するステップと、（ｖｉｉ）少なくとも実データセット、計算実層パラメータ、および品質要件データの比較に基づいて、決定システムにおける層システムの承認を決定するステップと
を含む。
品質要件データは、特に基準データベースからロードされることが可能である。
任意選択的に、層システムの残留反射色の色値もまた実測プロットから計算されることが可能である。
【0119】
加えて、計算された反射プロット、特に角度依存の反射プロットが生成され、決定に使用されることが可能である。計算実層パラメータは、実測プロットの外側の波長範囲内、特にＵＶ波長範囲内の反射値、および／または異なる入射角での反射値を含むことができる。このような手順は、承認基準に基づく品質要件データの導出された変数に基づいている。このようにして、機器の状態のため、または測定が複雑すぎるために直接決定することができない承認決定のためのパラメータを使用することができる。
【0120】
コンピュータプログラム製品は、モジュール方式で層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させるためのソフトウェアを提供することができ、広範なデータ処理システムにアクセス可能にすることができる。コンピュータプログラム製品は、コーティング設備の制御プログラムと結合されたプロセスレシピプログラムとして有利に使用されることが可能である。
【0121】
有利には、コーティングシステムまたはコーティング設備のシステムは、本発明の第１の態様による方法を使用して、コンピュータプログラム製品によって自己制御フィードバックモードで動作されることが可能である。
【0122】
本発明の、特に独立したさらなる態様によれば、データ処理プログラムを実行するためのデータ処理システムが提案され、これは、特に上述のような、層システムを製造するための少なくとも１つのコーティングシステムを動作させるための方法を実行するためのコンピュータ可読プログラム命令を含む。
【0123】
データ処理システムは、好ましくは、シミュレーションコンピュータ、ならびに設計データベース、ファイリングデータベース、基準データベースを含むことができるが、任意選択的に、コーティング設備の制御コンピュータも含むことができる。
【0124】
有利には、本発明の第１の態様による方法を使用するデータ処理システムによって、コーティングシステムまたはコーティング設備のシステムは、自己制御フィードバックモードで動作されることが可能である。
【0125】
さらなる利点は、以下の図面の説明から得られる。図は、本発明の例示的な実施形態を示す。図は、本発明の例示的な実施形態を示す。図、説明、および請求項は、組み合わせた多数の特徴を含む。当業者はまた、便宜上、特徴を個別に考慮し、これらをさらに有意義な組み合せに組み合わせる。
以下に例示的に示す。
以下に例示的に示す。
【図面の簡単な説明】
【0126】
【図1】本発明の例示的な実施形態による、光学素子の層システムを製造するためのコーティングシステムを動作させるための方法のシーケンスである。
【図2】本発明の例示的な実施形態による、コーティングシステムのブロック図である。
【図3】本発明の方法による承認基準を有する表である。
【図4】本発明の例示的な実施形態による、基板上に５つの層パケットの層システムを有する光学素子を示す。
【図5】本発明の方法による、シミュレーション対象測定プロットを実測プロットに適合させることによって実データセットを決定するためのフローチャートである。
【図6】２８０ｎｍ～８００ｎｍまでの波長範囲における実測プロットと対象測定プロットとの比較による光の垂直入射を用いた、本発明による層システムの反射率プロットである。
【図8】対象測定プロットとスケーリングされたシミュレーション対象測定プロットとの比較による光の垂直入射を用いた層システムの反射率プロットである。
【図9】３８０ｎｍ～５８０ｎｍの第１のスペクトル間隔に適合された対象測定プロットとシミュレーション対象測定プロットとの比較による光の垂直入射を用いた層システムの反射率プロットである。
【図10】３８０ｎｍ～７８０ｎｍのより大きいスペクトル間隔に適合された対象測定プロットとシミュレーション対象測定プロットとの比較による光の垂直入射を用いた層システムの反射率プロットである。
【図11】２８０ｎｍ～８００ｎｍまでの全波長範囲にわたって適合された実測プロットとシミュレーション対象測定プロットとの比較による光の垂直入射を用いた層システムの反射率プロットである。
【発明を実施するための形態】
【0127】
図中、同じタイプの、または同じ効果を有する構成要素は、同じ参照符号で指定される。図は、単に例を示しており、限定として理解されるべきではない。
【0128】
以下で「左」、「右」、「上」、「下」、「前」、「背後」、「後」などの用語と共に使用される方向を示す用語は、単に図の理解を向上させるために役立つものであり、決して一般性を限定するように意図するものではない。図示される構成要素および要素、その設計および使用は、当業者の考慮事項に応じて変化することができ、それぞれの用途に適合することができる。
【0129】
図１は、本発明の例示的な実施形態による、光学素子８０の層システム１０を製造するためのコーティングシステム１００を動作させるための方法のシーケンスを示す。
【0130】
ステップＳ１００において、方法は、コーティング設備１０２内の層システム１０のコーティングを含む。システム構成要素は、図２に示されるコーティングシステム１００のブロック図に見ることができる。
【0131】
コーティングが完了するとすぐに、ステップＳ１０２において、層システム１０のスペクトル実測プロット９０が光学測定システム１０４内で決定されることが可能である。この目的のために、コーティングされた光学素子８０がコーティング設備から取り出され、実測プロット９０を記録するためにそこでスペクトル反射が測定される。たとえば、光学素子８０は、図４において層システム１０として指定されている。例示的な実測プロット９０が、図６および図７に示されている。
【0132】
任意選択的に、層システム１０の残留反射色の色値８８は、ステップＳ１０４において実測プロット９０から決定されることが可能であり、実測プロット９０および計算された色値８８は、ステップＳ１０６においてファイリングデータベース２１０にファイルされることが可能である。残留反射色の色値８８は、規格にしたがってスペクトル反射（λ，Ｒ（λ））のデータから計算される。たとえば、残留反射色の輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈは、実測プロットから決定される。
【0133】
次にステップＳ１０８において、設計データベース２００および実測プロット９０からの層システム１０の対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌがシミュレーションコンピュータ１０６にロードされる。実測プロット９０は、対象プロットとしてロードされることが可能である。加えて、完成したコーティングの設計が、対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌとして設計データベース２００で照会される。
【0134】
ステップＳ１１０において、シミュレーション対象測定プロット９８をシミュレーションコンピュータ１０６内で実測プロット９０に適合させることによって、実データセットＤａｔ＿ｉｓｔが決定される。このようなシミュレーション対象測定プロット９８は、たとえば、図８から図１０に示されている。層システム１０の基礎となる設計の物理的な個別層厚は、実測プロット９０が可能な限り最良の方法で満たされるまで、妥当な限界内で変化する。
【0135】
ステップＳ１１２において、実データセットＤａｔ＿ｉｓｔを用いて層システム１０をシミュレートすることによって、シミュレーション対象測定プロット９８から計算実層パラメータ９６として実層パラメータ９６が決定される。ここでシミュレーションは、異なる入射角での反射プロット、分光計の測定範囲外のスペクトル範囲での反射など、実測プロット９０として元の反射測定からアクセス不可能な追加のパラメータを取得するために使用されることが可能である。したがって、計算実層パラメータ９６は、たとえば、実測プロット９０の外側の波長範囲内、特にＵＶ波長範囲内の反射値、および／または異なる入射角での反射値を含むことができる。
【0136】
次に、ステップＳ１１４において、実データセットＤａｔ＿ｉｓｔ、計算実層パラメータ９６が、決定システム１０８およびファイリングデータベース２１０に出力される。スペクトル反射の生データ（λ，Ｒ（λ，））、ならびにそこから計算された色値は、ファイリングデータベース２１０に記憶される。
【0137】
ステップＳ１１６において、層システム１０の承認基準が、基準データベース２２０から決定システム１０８内にロードされる。ステップＳ１１８において、決定システム１０８には、特に基準データベース２２０から決定システム１０８内にロードされた、品質要件データが提供される。基準データベース２２０は、全てのコーティングについて正または負の基準を含むことができる。
【0138】
承認基準は、特に、実データセットＤａｔ＿ｉｓｔおよび／または計算実層パラメータ９６および／または実測プロット９０との比較に使用されることが可能な、要件が導出される、許容可能および／または非許容可能な層パラメータを含むことができる。
品質要件データは、層システム１０の対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌの公差値も含むことができる。
品質要件データは、層システム１０の対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌの公差値も含むことができる。
【0139】
次に、ステップＳ１２０において、少なくとも実データセットＤａｔ＿ｉｓｔ、計算実層パラメータ９６、および品質要件データの比較に基づいて、決定システム１０８において層システム１０の承認Ｓ１２２、Ｓ１２４について決定され、たとえば、Ｓ１２２は許可を意味することができ、Ｓ１２４は拒絶を意味することができる。計算されたパラメータは、目標値および定義された公差と比較されることが可能である。コーティングバッチが定義された品質要件データに対応するか否かについて、自動的なソフトウェアベースの承認決定が続く。
【0140】
したがって、決定システム１０８における層システム１０の承認に関する決定は、便宜上、自動的なソフトウェアベースの承認決定を含むことができる。特に、承認は、人工知能方法を使用して行うことができる。
【0141】
次に、決定Ｓ１２２、Ｓ１２４は、ファイリングデータベース２１０内で文書化される。
あるいは、決定システム１０８は、少なくとも対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌと基準データベース２２０からの承認基準との比較に基づいて、コーティング設備１０２内でコーティングが実行される前に、計画された層システム１０が既存の承認基準に基づいて承認を受信する機会を有するか否かを事前に決定することができる。
あるいは、決定システム１０８は、少なくとも対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌと基準データベース２２０からの承認基準との比較に基づいて、コーティング設備１０２内でコーティングが実行される前に、計画された層システム１０が既存の承認基準に基づいて承認を受信する機会を有するか否かを事前に決定することができる。
【0142】
【0143】
コーティングシステム１００は、基板２２を光学素子８０のための層システム１０でコーティングするためのコーティング設備１０２と、さらに、コーティング設備１０２を制御し、シミュレーションコンピュータ１０６と通信するための制御コンピュータ１１０とを含む。
【0144】
コーティングされた光学素子８０は、層システム１０のスペクトル分解実測プロット９０を決定するために、光学測定装置１０４に搬送されることが可能である。
設計データベース２００は、層システム１０からの対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌを記憶するために使用される。
コーティングシステム１００は、層システム１０の光計算および最適化のためのシミュレーションソフトウェア１０７がインストールされるシミュレーションコンピュータ１０６をさらに含む。
設計データベース２００は、層システム１０からの対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌを記憶するために使用される。
コーティングシステム１００は、層システム１０の光計算および最適化のためのシミュレーションソフトウェア１０７がインストールされるシミュレーションコンピュータ１０６をさらに含む。
【0145】
光学素子８０のための層システム１０を製造するための少なくとも１つのコーティング設備１０２を動作させるための本発明の第１の態様による方法のためのコンピュータプログラム製品は、シミュレーションコンピュータ１０６上に実装され、コンピュータプログラム製品は少なくとも１つのコンピュータ可読記憶媒体を含み、これは、コンピュータシステム１０６上で実行可能であり、コンピュータシステム１０６に方法を実行させる、プログラム命令を含む。
【0146】
コンピュータプログラム製品は、特に、データ処理システム１２４のシミュレーションコンピュータ１０６上で本発明の第１の態様による方法を実行するための、本発明の独立した態様と見なすことができる。
【0147】
少なくともシミュレーションコンピュータ１０６およびシミュレーションソフトウェア１０７を含むデータ処理システム１２４は、光学素子８０のための層システム１０を製造するためのコーティング設備１０２を動作させるための方法を実行するためのコンピュータ可読プログラム命令を含む、データ処理プログラムを実行するために使用される。
【0148】
データ処理システム１２４は、シミュレーションコンピュータ１０６を使用する本発明の第１の態様による方法を実行するための、本発明の独立した態様と見なすことができる。
ファイリングデータベース２０２は、実測プロット９０、実データセットＤａｔ＿ｉｓｔ、計算実層パラメータ９６、および承認決定を記憶するために使用される。
ファイリングデータベース２０２は、実測プロット９０、実データセットＤａｔ＿ｉｓｔ、計算実層パラメータ９６、および承認決定を記憶するために使用される。
【0149】
最後に、コーティングシステム１００には、層システム１０の承認のために決定システム１０８によってロードされ得る、承認基準を記憶するための基準データベース２２０がある。決定システム１０８は、これらの承認基準に基づいて製造された層システム１０を承認すべきか否かを決定する。承認基準および品質要件データの両方を、基準データベース２２０にファイルすることができる。
【0150】
図３は、本発明の方法による承認基準を有する表を示す。個々の承認基準は、たとえば１．１、１．２、１．３、１．４など、表中で連続的に番号付けされている。各基準について、基準を説明するための長文Ｔ１～Ｔ４、および数値的に検証可能な形態Ｎ１からＮ４ならびに基準が参照する要件Ｒ１からＲ４が列挙されている。
【0151】
たとえば、基準は、光学応用の特許明細書の個々の請求項の特徴を含むことができ、これらは以下の例に列挙されている。数値的にチェック可能な形態の個々の特徴は、簡単な比較アルゴリズムを使用して自動的にチェックされることが可能である。
図４は、本発明の例示的な実施形態による、基板２２上、たとえば眼鏡レンズ上に層システム１０を有する光学素子８０の一例を示す。干渉型層システム１０は、基板２２の少なくとも１つの表面２４上に配置される。層システム１０は、本発明の第１の態様による自己制御およびフィードバック方法を用いて有利に製造されることが可能である。
【表1】
図４は、本発明の例示的な実施形態による、基板２２上、たとえば眼鏡レンズ上に層システム１０を有する光学素子８０の一例を示す。干渉型層システム１０は、基板２２の少なくとも１つの表面２４上に配置される。層システム１０は、本発明の第１の態様による自己制御およびフィードバック方法を用いて有利に製造されることが可能である。
【0152】
基板２２上の最下層として、層システム１０は、たとえばスタック４０の接着性を改善するために、および／または基板２２のスクラッチ保護として、通常の方法で単層または多層中間層３０を有することができる。この中間層３０は通常の方法で、たとえば準化学量論的な低屈折金属酸化物、クロム、シラン、またはシロキサンからなることができる。中間層３０は、光学特性のさらなる検討には関係しない。中間層、たとえば、プライマ塗料などのような従来の塗料システムもまた、基板と層システムとの間の接着促進剤として提供されることが可能である。
【0153】
図５では、たとえば、スタック４０の５つの層パケット４２、４４、４６、４８、５０が、中間層３０上に次々に配置される。
【0154】
少なくとも４つ、この例では５つの連続する層パケット４２、４４、４６、４８、５０のスタック４０が中間層３０上に配置され、各層パケット４２、４４、４６、４８、５０は、１対の第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９および第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０を有する。
【0155】
基板に最も近い層パケット４２は、基板により近い個別層１１および基板からより離れた個別層１２を含み、次の層パケット４４は、基板により近い個別層１３および基板からより離れた個別層１４を含み、後続の層パケット４６は、基板により近い個別層１５および基板からより離れた個別層１６を含み、続く層パケット４８は、基板により近い個別層１７および基板からより離れた個別層１８を含み、基板から最も離れた層パケット５０は、基板により近い個別層１９および基板からより離れた個別層２０を含む。
【0156】
基板から最も離れた層パケット５０は、任意選択的に、基板により近い部分層１９と基板からより離れた部分層２０との間に機能層３４を有することができ、これはたとえば、導電率を高めるため、機械的応力を均等化するため、および／または拡散障壁として作用することができる。この機能層３４は、低屈折材料から形成されることが可能であり、アルミニウムなど、他の金属酸化物と合金化されることも可能である。光学特性の計算目的およびシミュレーション目的のために、機能層３４は、基板から最も離れた最上層パケット５０の低屈折部分層２０に追加されることが可能であり、または、たとえば比較的薄い層厚の場合、ことによると無視される可能性がある。
【0157】
各層パケット４２、４４、４６、４８、５０において、対応する第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９は各々第１の光学的厚さｔ１を有し、対応する第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０は各々、それぞれの層パケット４２、４４、４６、４８、５０の第１の光学的厚さｔ１とは異なる第２の光学的厚さｔ２を有する。
【0158】
基板により近いそれぞれの第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９の屈折率ｎ１は、基板からより離れたスタック４０のそれぞれの第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０の屈折率ｎ２よりも大きい。層システム１０は、残留反射色の輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈを有し、層システム１０の表面法線７０に対して０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔における残留反射色の色相角ｈの変化量Δｈは、視角ＡＯＩの間隔における色度Ｃ＊の変化量ΔＣ＊よりも小さい。
【0159】
層システムは、表面法線７０から測定して、０°から最大３０°などの臨界角までの視角ＡＯＩで観察者によって視認される。
【0160】
層システム１０を設計するために、以下のステップが有利に実行される。
－少なくとも、高屈折率の第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９の第１の材料および低屈折率の第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０の第２の材料と、個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０を含む所望の層パケット４２、４４、４６、４８、５０の数と、個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の厚さの開始値とを含む層設計を定義するステップと、
－少なくとも０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔の限界値における、輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈを含む目標色値を定義するステップと、
－最適化目標に達するまで個別層厚ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０を変化させるための最適化方法を実行するステップ。
－少なくとも、高屈折率の第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９の第１の材料および低屈折率の第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０の第２の材料と、個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０を含む所望の層パケット４２、４４、４６、４８、５０の数と、個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の厚さの開始値とを含む層設計を定義するステップと、
－少なくとも０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔の限界値における、輝度Ｌ＊、色度Ｃ＊、および色相角ｈを含む目標色値を定義するステップと、
－最適化目標に達するまで個別層厚ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０を変化させるための最適化方法を実行するステップ。
【0161】
基板２２は、プラスチック材料、たとえば、特に眼鏡レンズ用の透明プラスチック材料である。
【0162】
本開示の文脈において、眼鏡レンズという用語は、特に、標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１３－１０のセクション８．１．１３によるコーティングされた眼鏡レンズを指し、したがって、特にその特性の１つ以上を変化させるために１つ以上の表面コーティングが施された眼鏡レンズを指す。
【0163】
好ましくは、このような眼鏡レンズは、眼鏡（補正ありおよびなし）、サングラス、スキーゴーグル、作業用ゴーグル、ならびにヘッドマウントディスプレイ装置（いわゆる「ヘッドマウントディスプレイ」）に関連する眼鏡として特に有利に使用されることが可能である。
【0164】
本開示の文脈において、眼鏡レンズという用語は、半完成眼鏡レンズ製品、特に標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１３６６６：２０１３－１０のセクション８．４．２による眼鏡レンズブランクまたは眼鏡レンズ半完成製品、したがって、光学仕上げ表面を１つだけ有するレンズブランクまたはブランクをさらに含むことができる。
【0165】
図４の構成に基づいて、基板２２の反対面２６は、任意選択的に、コーティングなしまたは保護コーティングのみの、さらなる類似または同一の層システム１０を有することができる（図示せず）。
【0166】
基板により近い個別層１１、１３、１５、１７、１９の各々は、好ましくは同一の第１の材料から形成される。第１の材料は好ましくは、第１の屈折率ｎ１を有する高屈折材料である。
【0167】
基板からより離れた個別層１２、１４、１６、１８、２０の各々は、好ましくは同一の第２の材料から形成される。第２の材料は好ましくは、第２の屈折率ｎ２を有する低屈折材料である。屈折率ｎ１は屈折率ｎ２よりも大きく、屈折率ｎ１、ｎ２の差は、好ましくは少なくとも０．２、好ましくは最大で０．５である。
【0168】
第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９および第２の個別層１２、１４、１６、１８７、２０の順序は、各層パケット４２、４４、４６、４８、５０内で、基板により近いそれぞれの第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９が常に個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０のうちのより屈折率の高いものであり、基板からより離れたそれぞれの第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０が常により屈折率の低いものであるように、スタック４０内で同じままである。
【0169】
特に、より高屈折個別層１１、１３、１５、１７、１９は高屈折材料の層であり得、低屈折個別層１２、１４、１６、１８、２０は低屈折材料の層であり得る。
【0170】
スタック４０内の層パケット４２、４４、４６、４８、５０は、それぞれの厚さ、および／またはそれぞれの層パケット４２、４４、４６、４８、５０内の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の厚さにおいてのみ異なっている。
【0171】
スタック４０は、たとえば層システム１０をケアするのに役立つ、カバー層３２を用いてそれ自体既知の方法で閉じられる。カバー層３２は、スタック４０の最上層パケット５０の最後の光学的に関連する個別層２０に適用され、たとえばフッ素含有分子を含有することができる。カバー層３２は通常、撥水および撥油機能などの特性を含む改善されたケア特性をスタック４０に与え、表面エネルギーは通常、１５ｍＮ／ｍ未満である。
【0172】
カバー層３２は、もはや層システム１０の光学特性のさらなる検討には関係しない。
層システム１０のスタック４０の光学特性は、既知の計算方法および／または最適化方法を使用する計算によってシミュレートされることが可能である。次に層システム１０は、層パケット４２、４４、４６、４８、５０の個々の部分層６０、６２の特定の層厚で製造される。
層システム１０のスタック４０の光学特性は、既知の計算方法および／または最適化方法を使用する計算によってシミュレートされることが可能である。次に層システム１０は、層パケット４２、４４、４６、４８、５０の個々の部分層６０、６２の特定の層厚で製造される。
【0173】
光学層システム１０の製造の間、層システム１０の光学特性は、部分層６０、６２の製造中に調整される。たとえば、以下に簡単にまとめられた、国際公開第２０１６／１１０３３９号パンフレットから知られる方法を使用することができる。既知の方法を用いて、使用される材料が同じままであっても層厚のみを変更することにより、材料システムにおいてミラーリングまたは反射低減などの様々な光学効果を達成することができる。しかしながら、他の方法を使用することもまた可能である。
【0174】
国際公開第２０１６／１１０３３９号パンフレットに記載されるように、同じ材料を維持しながら層パケット厚を変化させることにより、特に反射低減効果のために、異なる反射率を達成することができる。これは、パラメータσを最小化または最適化することによって達成される。そして、パラメータσは、個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の層厚、または層４２、４４、４６、４８の４つのスタック（図示せず）またはスタック４０内の図５による層４２、４４、４６、４８、５０の５つのスタックの各々の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の光学的厚さｔ１、ｔ２の比の関数である。
【0175】
特定の波長λにおいて、ＦＷＯＴ（全波光学厚（ｆｕｌｌ ｗａｖｅ ｏｐｔｉｃａｌ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ））とも呼ばれる層の光学的厚さｔは、
によって決定され、ここでｄは個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の層厚であり、λは設計波長であり、ｎは屈折率である。
【0176】
反射率Ｒｍとパラメータσとの積が１未満になるように調整される場合、スタック４０による反射低減効果は、スタック４０の事前決定可能な反射率Ｒｍに対して達成されることが可能である。
Ｒｍ・σ＜１
反射力としても知られる反射率Ｒｍは、ここではエネルギー変数としての光ビームの入射強度に対する反射の比を記述する。反射率Ｒｍは、３８０ｎｍ～８００ｎｍまでの光の範囲にわたって便宜上平均化され、１００％に関連する。
Ｒｍ・σ＜１
反射力としても知られる反射率Ｒｍは、ここではエネルギー変数としての光ビームの入射強度に対する反射の比を記述する。反射率Ｒｍは、３８０ｎｍ～８００ｎｍまでの光の範囲にわたって便宜上平均化され、１００％に関連する。
【0177】
このような条件Ｒｍ・σ＜１は、層システム１０を製造するための方法の最適化の境界条件として設定されることが可能である。
【0178】
層パケット４２、４４、４６、４８、５０の第１および第２の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の光学的厚さｔ１、ｔ２は、パラメータσが最適化方法によって、好ましくは変動計算によって決定されるという点で、決定される。
【0179】
スタック４０内に５つの層パケット４２、４４、４６、４８、５０がある場合のそれぞれの個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の厚さは、好ましくは、層４２、４４、４６、４８、５０のそれぞれのスタックの高屈折の第１の個別層１１、１３、１５、１７、１９の第１の光学的厚さｔ１と低屈折の第２の個別層１２、１４、１６、１８、２０の第２の光学的厚さｔ２との商Ｖｉ（ｉ＝１、２、３、４、５とする）に依存して形成される。
【0180】
有利な実施形態では、図４による層システム１０において、５つの連続する層パケット４２、４４、４６、４８、５０を有するスタック４０のパラメータσは、
の関係から決定されることが可能であり、ここで、ｉ＝２から最大数５までの実行回数である。
【0181】
指数ｉ＝１、２、３、４、５は、基板２２上の層パケット４２、４４、４６、４８、５０のシーケンスを表す。したがって、ｖ１は基板に最も近い層パケット４２を表し、ｖ５は基板から最も離れた層パケット５０を表す。
【0182】
ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１１６６４－４：２０１２－０６（ＥＮ ＩＳＯ１１６６４－４：２０１１）に示されるように、デカルト座標内のいわゆるＣＩＥ－Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間（略してＣＩＥＬａｂ色空間）において知覚色を指定することが知られている。
【0183】
Ｌ＊はＣＩＥＬａｂ輝度であり、ａ＊、ｂ＊はＣＩＥＬａｂ座標であり、Ｃ＊はＣＩＥＬａｂ色度であり、ｈａｂはＣＩＥＬａｂ色相角である。
【0184】
Ｌ＊軸は、０～１００までの値を有する色の輝度（輝度値）を記述する。Ｌ＊軸は、ａ＊ｂ＊平面に垂直なゼロ点にある。全ての無彩色（グレーの濃淡）が黒色（Ｌ＊＝０）および白色（Ｌ＊＝１００）の終点の間に包含されるので、これは中性グレー軸と呼ぶこともできる。
【0185】
緑色および赤色はａ＊軸上で互いに対向しており、ｂ＊軸は青色と黄色との間に延びている。相補的な色調は、その中央で１８０°反対であり、すなわち、座標原点ａ＊＝０、ｂ＊＝０はグレーである。
【0186】
ａ＊軸は、ある色の緑色成分または赤色成分を記述し、負の値は緑色を表し、正の値は赤色を表す。ｂ＊軸は、ある色の青色成分または黄色成分を記述し、負の値は青色を表し、正の値は黄色を表す。
【0187】
ａ＊値はおよそ－１７０～＋１００までの範囲であり、ｂ＊値は－１００～＋１５０までの範囲であり、最大値は、中程度の輝度の特定の色調でのみ達成される。ＣＩＥＬａｂ色体は、中程度の輝度範囲にその最大範囲を有するが、これは色範囲に応じて高さおよびサイズが異なる。
【0188】
ＣＩＥＬａｂ色相角ｈａｂは、ａ＊およびｂ＊の両方が正のときには０°～９０°の間、ｂ＊が正でａ＊が負のときには９０°～１８０°の間、ａ＊およびｂ＊の両方が負のときには１８０°～２７０°の間、ｂ＊が負でａ＊が正のときには２７０°～３６０°の間でなければならない。
【0189】
ＣＩＥ－Ｌ＊Ｃ＊ｈ色空間（略してＣＩＥＬＣｈ色空間）の場合、ＣＩＥＬａｂ色空間のデカルト座標は極座標に変換される。円筒座標Ｃ＊（色度、相対彩度、中心でのＬ軸からの距離）およびｈ（色相角、ＣＩＥＬａｂ色相環における色相の角度）が指定される。ＣＩＥＬａｂ輝度Ｌ＊は変化しないままである。
色相角ｈは、ａ＊軸およびｂ＊軸から得られる。
ここで、色相角ｈは、干渉型層システム１０の残留反射の色を表す。
色度Ｃ＊は以下のようになる。
色度Ｃ＊は、色深度とも呼ばれる。
色相角ｈは、ａ＊軸およびｂ＊軸から得られる。
ここで、色相角ｈは、干渉型層システム１０の残留反射の色を表す。
色度Ｃ＊は以下のようになる。
【0190】
個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の層厚ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０を定義するために、最適化目標に達するまで個別層厚ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０を変化させるための最適化方法が実行される。次いで最適化プロセスは、最適化目標（色安定性）に達するまで個別層厚ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０を変化させる。
【0191】
０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔では、色相角ｈは、最大で１５°、好ましくは最大で１０°変化することができる。０°から層システム１０の表面法線７０に対して少なくとも３０°から最大４５°までの間の上限値を有する限界視角θまでの視角ＡＯＩの第２の間隔における色相角ｈの変化の量Δｈは、視角ＡＯＩの第２の間隔における色度Ｃ＊の変化量ΔＣ＊よりも小さく、限界視角θにおける色度Ｃ＊の量は、少なくとも２であり、特に、第２の間隔における色相角ｈは、最大で２０°変化し、好ましくは最大で１５°変化する。
【0192】
０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔における明所反射力Ｒｖは、有利には、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であり得る。
０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔における暗所反射力Ｒｖ´は、有利には、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であり得る。
０°および３０°の限界値を有する視角ＡＯＩの間隔における暗所反射力Ｒｖ´は、有利には、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であり得る。
【0193】
図５は、本発明の方法による、シミュレーション対象測定プロット９８を実測プロット９０に合させることによって実データセットＤａｔ＿ｉｓｔを決定するためのフローチャートを示す。
【0194】
方法は、シミュレーションコンピュータ１０６内で実行され、ステップＳ２００において、層システム１０での実測プロット９０として縦座標値および横座標値を有する少なくとも１つのスペクトル測定プロットを検出するステップを含み、これは、それぞれの設備実層厚ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０を有する１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０からなる。１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０は、コーティング設備１０２の対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌにしたがって製造される。対象データセットＤａｔ＿ｓｏｌｌは、少なくとも、１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の設備実層厚ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０を含み、これらは１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０に割り当てられる。
【0195】
ステップＳ２０２において、層システム１０の実測プロット９０は、特に実測プロット９０の重要なスペクトル点について、割り当て基準にしたがって、１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０から形成された、対象層システム１０＿ｓｏｌｌに基づく、縦座標値および横座標値を有する対象データセットＤＡＴ＿ｓｏｌｌの対象測定プロット９２に割り当てられる。対象データセットＤＡＴ＿ｓｏｌｌは、それぞれの個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０に割り当てられた１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の既知の対象層厚ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０のうちの少なくとも１つを含む。
【0196】
ステップＳ２０４において、シミュレーション実測プロット９４は、シミュレーション実測プロット９４における実測プロット９０が少なくとも近似される、実測プロット９０の少なくとも１つのスペクトル間隔８２における１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の少なくともシミュレーション実層厚ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０の変化と、それぞれの個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション実層厚ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０を有する最終シミュレーション実データセットＤａｔ＿ｉｓｔ＿ｓｉｍの受信とによる反復方法にしたがって生成される。これは、統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで実行される。対象層厚ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０は、シミュレーション実層厚ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０の開始値として使用される。
【0197】
ステップＳ２０６において、シミュレーション対象測定プロット９８は、シミュレーション対象測定プロット９８における対象測定プロット９２が少なくとも近似される、対象測定プロット９２の少なくとも１つのスペクトル間隔８２におけるそれぞれの個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０に割り当てられた１つ以上の個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の少なくともシミュレーション対象層厚ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０を変化させることと、それぞれの個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション対象層厚ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０を有する最終シミュレーション対象データセットＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍの受信とによる反復方法にしたがって生成される。これは、統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで実行される。シミュレーション実層厚ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０は、シミュレーション対象層厚ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０の開始値として使用される。
【0198】
この反復方法は、１つ以上のスペクトル間隔８２、８４、８６で実行され、各後続の間隔８４、８６は前の間隔８２、８４を含む。
【0199】
実データセットＤａｔ＿ｉｓｔを使用する層システム１０のシミュレーションによる計算実層パラメータ９６の決定は、最終シミュレーション対象データセットＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍを有する最終シミュレーション対象層厚ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０から決定される、新しい設備実層厚ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０として少なくとも１つ以上の補正実層厚ｄ＿ｋｏｒｒ＿１１、．．．、ｄ＿ｋｏｒｒ＿２０を有するさらなる層システム１０＿ｎ＋１をステップＳ２０８において堆積するための新しい設備データセット Ｄａｔ＿ｉｓｔ＋１として、少なくとも１つのコーティング設備１０２の最終シミュレーション対象データセットＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍを提供するステップを、便宜上さらに含むことができる。
【0200】
図６は、２８０ｎｍ～８００ｎｍまでの波長範囲における実測プロット９０（実線）と対象測定プロット９２（点線）との比較による、本発明による層システム１０の反射率プロットを示し、図７は、図６からの反射率プロットの拡大図を示す。対象測定プロット９２は、極値比較によって、実測プロット９０に対する対象測定プロット９２としてデータベース１０６から決定された。強いピーク変位は、２８０ｎｍ～３８０ｎｍの間のより低い波長範囲、および３８０ｎｍ～６８０ｎｍの波長範囲の図７の拡大図に見ることができる。
【0201】
図８は、対象測定プロット９２（点線）とスケーリングされたシミュレーション対象測定プロット９８（実線）との比較による、層システム１０の反射率プロットを示す。これにより、シミュレーション対象測定プロット９８の水平変位が生じた。完全な層システム１０は、プロセスにおいてスケーリングされ、すなわち、得られた個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０の全ての物理的な層厚ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０を包含するベクトルにスケーリング係数１２２が乗算され、すなわち、各個別層１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０が同じスケーリング係数１２２によってより厚くまたは薄くされた。
【0202】
図９は、３８０ｎｍ～５８０ｎｍの第１のスペクトル間隔８２に適合された対象測定プロット９２とシミュレーション対象測定プロット９８との比較による、層システム１０の反射率プロットを示す。反復最適化方法としてシンプレックスアルゴリズムを使用した。物理的な層厚ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０を変化させることにより、前のステップからのシミュレーション対象測定プロット９８を可能な限り正確に３８０ｎｍ～５８０ｎｍの間隔で対象測定プロット９２にマッピングする最適化目標で、アルゴリズムを開始した。結果は、選択された間隔８２における２つの測定プロット９２、９８の非常に良好な近似である。
【0203】
図１０は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍのより大きいスペクトル間隔８４に適合された対象測定プロット９２とシミュレーション対象測定プロット９８との比較による、層システム１０の反射率プロットを示す。この時間シンプレックス最適化を３８０ｎｍ～７８０ｎｍまでのより大きい間隔８４で適用した。層厚の関係は考慮しなかった。４００ｎｍ付近のより低い波長範囲では、２つの測定プロット９２、９８間の一致の質はわずかに劣るが、５８０ｎｍ～６８０ｎｍのより高い波長範囲ではより良好である。
【0204】
図１１は、２８０ｎｍ～８００ｎｍまでの間隔８６としての全波長範囲にわたって適合された対象測定プロット９２とシミュレーション対象測定プロット９８との比較による、層システム１０の反射率プロットを示す。この時間シンプレックス最適化を２８０ｎｍ～８００ｎｍまでのより大きい間隔８６で適用した。層厚の関係は考慮しなかった。２つの測定プロット９２、９８間の一致の質は、４８０ｎｍ～５８０ｎｍの中間波長範囲ではわずかに低下しているが、２８０ｎｍ～８００ｎｍまでの全波長範囲では、平均してより良好である。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【手続補正書】
【提出日】2022-06-07
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
層システム（１０）を製造するために自己制御フィードバックモードでコーティングシステム（１００）を動作させるための方法であって、
（ｉ）コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）をコーティングするステップ（Ｓ１００）と、
（ｉｉ）光学測定システム（１０４）における前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）を決定するステップ（Ｓ１０２）と、
（ｉｉｉ）前記層システム（１０）の完成したコーティングの設計を有する対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）を、設計データベース（２００）および前記実測プロット（９０）からシミュレーションコンピュータ（１０６）にロードするステップ（Ｓ１０８）と、
（ｉｖ）前記シミュレーションコンピュータ（１０６）内で、シミュレーション対象測定プロット（９８）を実測プロット（９０）に適合させることによって実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を決定するステップ（Ｓ１１０）と、
（ｖ）前記シミュレーションコンピュータ（１０６）内で、前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる前記シミュレーション対象測定プロット（９８）から、計算実層パラメータ（９６）として実層パラメータ（９６）を決定するステップ（Ｓ１１２）と、
（ｖｉ）プロセッサの形態で、または前記コーティングシステム（１００）の制御コンピュータ（１１０）上で、前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および前記計算実層パラメータ（９６）を少なくとも決定システム（１０８）に、およびファイリングデータベース（２１０）に出力するステップ（Ｓ１１４）と、
（ｖｉｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較に使用される、基準データベース（２２０）からの層システム（１０）の承認基準に基づいて、品質要件データを提供するステップ（Ｓ１１８）と、
（ｖｉｉｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較に基づいて、前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）を決定するステップ（Ｓ１２０）と
を含む方法。
【請求項2】
（ｉ）前記実測プロット（９０）から前記層システム（１０）の残留反射色の色値（８８）を計算するステップ（Ｓ１０４）と、
（ｉｉ）前記実測プロット（９０）および前記計算された色値（８８）を前記ファイリングデータベース（２１０）にファイルするステップ（Ｓ１０６）と、
（ｉｉｉ）承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）の決定を前記ファイリングデータベース（２１０）において文書化するステップと
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記承認基準は、特に、前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および／または前記計算実層パラメータ（９６）および／または前記実測プロット（９０）との比較に使用される、要件が導出される、少なくとも許容可能および／または非許容可能な層パラメータを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項4】
前記品質要件データは、層システム（１０）の前記対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）の公差値を含む、請求項２または３に記載の方法。
【請求項5】
前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認を決定するステップは、特に人工知能方法を使用することによる、自動的なソフトウェアベースの承認決定を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項6】
少なくとも前記対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）と前記基準データベース（２２０）からの承認基準との比較に基づいて、コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）のコーティングを決定するステップをさらに含む、請求項２から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
前記計算実層パラメータ（９６）は、前記実測プロット（９０）の外側の波長範囲内、特にＵＶ波長範囲内の反射値、および／または異なる入射角での反射値を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
コーティングシステム（１０２）内の層システム（１０）のコーティングは、干渉型層システム（１０）が基板（２２）の少なくとも１つの表面（２４）上に堆積されることを含み、前記層システム（１０）は、少なくとも４つの連続する層パケット（４２、４４、４６、４８、５０）のスタック（４０）を含み、各層パケット（４２、４４、４６、４８、５０）は、１対の第１および第２の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）を含み、前記第１の個別層（１１、１３、１５、１７、１９）は各々第１の光学的厚さ（ｔ１）を有し、前記第２の個別層（１２、１４、１６、１８、２０）は各々、前記第１の光学的厚さ（ｔ１）とは異なる第２の光学的厚さ（ｔ２）を有し、
前記基板により近い前記それぞれの第１の個別層（１１、１３、１５、１７、１９）の屈折率（ｎ１）は、前記基板からより離れた前記スタック（４０）の前記それぞれの第２の個別層（１２、１４、１６、１８、２０）の屈折率（ｎ２）よりも大きく、
前記層システム（１０）は、残留反射色の輝度（Ｌ＊）、色度（Ｃ＊）、および色相角（ｈ）を有し、
前記層システム（１０）の表面法線（７０）に対して０°および３０°の限界値を有する視角（ＡＯＩ）の間隔における前記残留反射色の色相角（ｈ）の変化量（Δｈ）は、前記視角（ＡＯＩ）の間隔における前記色度（Ｃ＊）の変化量（ΔＣ＊）よりも小さく、
－少なくとも、高屈折率の第１の個別層（１１、１３、１５、１７、１９）の第１の材料および低屈折率の第２の個別層（１２、１４、１６、１８、２０）の第２の材料と、前記個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）を含む所望の層パケット（４２、４４、４６、４８、５０）の数と、前記個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の厚さの開始値とを含む層設計を定義するステップと、
－少なくとも０°および３０°の前記限界値を有する視角（ＡＯＩ）の間隔の限界値における、輝度（Ｌ＊）、色度（Ｃ＊）、および色相角（ｈ）を含む目標色値を定義するステップと、
－最適化目標に達するまで前記個別層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）を変化させるための最適化方法を実行するステップと
が実行される、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
０°および３０°の限界値を有する前記視角（ＡＯＩ）の間隔における色相角（ｈ）は、最大で１５°変化し、好ましくは最大で１０°変化し、および／または０°から前記層システム（１０）上の前記表面法線（７０）に対して少なくとも３０°から最大４５°までの間の上限値を有する限界視角（θ）までの視角（ＡＯＩ）の第２の間隔における色相角（ｈ）の変化の量（Δｈ）は、前記視角（ＡＯＩ）の第２の間隔における前記色度（Ｃ＊）の変化量（ΔＣ＊）よりも小さく、前記限界視角（θ）における前記色度（Ｃ＊）の量は少なくとも２であり、特に、前記第２の間隔における前記色相角（ｈ）は、最大で２０°変化し、好ましくは最大で１５°変化し、および／または
０°および３０°の前記限界値を有する前記視角（ＡＯＩ）の間隔における明所反射力（Ｒｖ）は、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％であり、
０°および３０°の前記限界値を有する前記視角（ＡＯＩ）の間隔における暗所反射力（Ｒｖ´）は、最大で１．５％、好ましくは最大で１．２％である、請求項８に記載の方法。
【請求項10】
前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）の決定のために、光学測定システム（１０４）内の前記層システム（１０）においてスペクトル反射測定が実行される、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項11】
前記実測プロット（９０）からの前記層システム（１０）の残留反射色の色値（８８）の計算は、前記残留反射色の輝度（Ｌ＊）、色度（Ｃ＊）、および色相角（ｈ）が前記実測プロット（９０）から決定されることをさらに含む、請求項２から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
前記シミュレーションコンピュータ（１０６）内でシミュレーション対象測定プロット（９８）を前記実測プロット（９０）に適合させることによる実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）の決定は、（ｉ）前記層システム（１０）の製造のための前記コーティング設備（１０２）において設定されたそれぞれの設備実層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）を有する１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）からなる前記層システム（１０）における実測プロット（９０）として、縦座標値および横座標値を有する少なくとも１つのスペクトル測定プロットを検出するステップであって、前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）は、前記少なくとも１つのコーティング設備（１０２）の対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）にしたがって製造され、前記対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）は、前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた、前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の少なくとも前記設備実層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）を含む、ステップ（Ｓ２００）と、
（ｉｉ）特に前記実測プロット（９０）の重要なスペクトル点について、割り当て基準にしたがって前記層システム（１０）の実測プロット（９０）を、１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）から形成された、対象層システム（１０＿ｓｏｌｌ）に基づく、縦座標値および横座標値を有する対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）の対象測定プロット（９２）に割り当てるステップであって、前記対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ）は、前記それぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の既知の対象層厚（ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０）のうちの少なくとも１つを含む、ステップ（Ｓ２０２）と、
（ｉｉｉ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション実測プロット（９４）における前記実測プロット（９０）が少なくとも近似される、前記実測プロット（９０）の少なくとも１つのスペクトル間隔（８２）における前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の少なくともシミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）の変化と、前記それぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）を有する最終シミュレーション実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ＿ｓｉｍ）の受信とによる反復方法にしたがって、前記シミュレーション実測プロット（９４）を生成するステップであって、前記対象層厚（ｄ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｄ＿ｓｏｌｌ＿２０）は、前記シミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）の開始値として使用される、ステップ（Ｓ２０４）と、
（ｉｖ）統計的な選択方法による割り当て基準について安定した結果が達成されるまで、シミュレーション対象測定プロット（９８）における前記対象測定プロット（９２）が少なくとも近似される、前記対象測定プロット（９２）の少なくとも１つのスペクトル間隔（８２）におけるそれぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた前記１つ以上の個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）の少なくとも前記シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）を変化させることと、前記それぞれの個別層（１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０）に割り当てられた少なくとも最終シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）を有する最終シミュレーション対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍ）の受信とによる反復方法にしたがって、シミュレーション対象測定プロット（９８）を生成するステップであって、前記シミュレーション実層厚（ｇ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｇ＿ｉｓｔ＿２０）は、前記シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）の開始値として使用される、ステップ（Ｓ２０６）と
をさらに含み、
前記反復方法は、１つ以上のスペクトル間隔（８２、８４、８６）で実行され、各後続の間隔（８４、８６）は前記前の間隔（８２、８４）を含む、請求項２から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる計算実層パラメータ（９６）の決定は、前記最終シミュレーション対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍ）を有する前記最終シミュレーション対象層厚（ｇ＿ｓｏｌｌ＿１１、．．．、ｇ＿ｓｏｌｌ＿２０）から決定される、新しい設備実層厚（ｄ＿ｉｓｔ＿１１、．．．、ｄ＿ｉｓｔ＿２０）の決定のために少なくとも１つ以上の補正実層厚（ｄ＿ｋｏｒｒ＿１１、．．．、ｄ＿ｋｏｒｒ＿２０）を有するさらなる層システム（１０＿ｎ＋１）を堆積するための新しい設備データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ＋１）として、前記少なくとも１つのコーティング設備（１０２）の前記最終シミュレーション対象データセット（ＤＡＴ＿ｓｏｌｌ＿ｓｉｍ）を提供するステップ（Ｓ２０８）をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項14】
請求項１から１３のうちの少なくとも１つに記載の方法を使用して、自己制御フィードバックモードで層システム（１０）を製造するためのコーティングシステム（１００）であって、少なくとも
－光学素子（８０）のための層システム（１０）で基板（２２）をコーティングするためのコーティング設備（１０２）と、
－前記コーティング設備（１０２）を制御し、シミュレーションコンピュータ（１０６）と通信するための制御コンピュータ（１１０）と、
－前記層システム（１０）のスペクトル分解実測プロット（９０）を決定するための光学測定装置（１０４）と、
－前記層システム（１０）の光計算および最適化のためのシミュレーションソフトウェア（１０７）がインストールされたシミュレーションコンピュータ（１０６）と、
－対象データセット（Ｄａｔ＿ｓｏｌｌ）を記憶するための設計データベース（２００）と、
－実測プロット（９０）、実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、計算実層パラメータ（９６）、および承認決定を記憶するためのファイリングデータベース（２１０）と、
－承認基準の記憶のための基準データベース（２２０）と、
－層システム（１０）の承認のための決定システム（１０８）と
を含む、コーティングシステム（１００）。
【請求項15】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の層システム（１０）を製造するために自己制御フィードバックモードで少なくとも１つのコーティングシステム（１００）を動作させる方法のためのコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータプログラム製品は、コンピュータシステム（１０６）上で実行可能であり、前記コンピュータシステム（１０６）に特に請求項１に記載の方法を実行させるプログラム命令を含む、少なくとも１つのコンピュータ可読記憶媒体を含み、前記方法は、
（ｉ）コーティング設備（１０２）内で層システム（１０）をコーティングするステップ（Ｓ１００）と、
（ｉｉ）光学測定システム（１０４）における前記層システム（１０）のスペクトル実測プロット（９０）を決定するステップ（Ｓ１０２）と、
（ｉｉｉ）シミュレーション対象測定プロット（９８）を実測プロット（９０）に適合させることによって実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を決定するステップ（Ｓ１１０）と、
（ｉｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）を使用する前記層システム（１０）のシミュレーションによる前記シミュレーション対象測定プロット（９８）から、計算実層パラメータ（９６）として実層パラメータ（９６）を決定するステップ（Ｓ１１２）と、
（ｖ）前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）および前記計算実層パラメータ（９６）を少なくとも決定システム（１０８）に出力するステップ（Ｓ１１４）と、
（ｖｉ）品質要件データを提供するステップ（Ｓ１１８）と、
（ｖｉｉ）少なくとも前記実データセット（Ｄａｔ＿ｉｓｔ）、前記計算実層パラメータ（９６）、および前記品質要件データの比較に基づいて、前記決定システム（１０８）における前記層システム（１０）の承認（Ｓ１２２、Ｓ１２４）を決定するステップ（Ｓ１２０）と
を含む、コンピュータプログラム製品。
【請求項16】
特に請求項１に記載の、層システム（１０）を製造するための少なくとも１つのコーティングシステム（１００）を動作させるための方法を実行するためのコンピュータ可読プログラム命令を含む、データ処理プログラムを実行するためのデータ処理システム（１２４）。
【国際調査報告】