特表2023-508745改善された波長分散を有する、位置選択的に置換されたセルロースエステルをベースとするＣ＋補償フィルム
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-03-03
(54)【発明の名称】改善された波長分散を有する、位置選択的に置換されたセルロースエステルをベースとするＣ＋補償フィルム
(51)【国際特許分類】
C08J 5/18 20060101AFI20230224BHJP
G02B 5/30 20060101ALI20230224BHJP
C08K 5/00 20060101ALI20230224BHJP
C08L 1/10 20060101ALI20230224BHJP
C08B 3/16 20060101ALN20230224BHJP
C08K 5/3492 20060101ALN20230224BHJP
C08K 5/07 20060101ALN20230224BHJP
【ＦＩ】
C08J5/18 CEP
G02B5/30
C08K5/00
C08L1/10
C08B3/16
C08K5/3492
C08K5/07
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022548703
(86)(22)【出願日】2021-02-10
(85)【翻訳文提出日】2022-10-05
(86)【国際出願番号】 US2021017363
(87)【国際公開番号】W WO2021163121
(87)【国際公開日】2021-08-19
(31)【優先権主張番号】62/975,873
(32)【優先日】2020-02-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】594055158
【氏名又は名称】イーストマン ケミカル カンパニー
(74)【代理人】
【識別番号】100118902
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 修
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【弁理士】
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100196508
【弁理士】
【氏名又は名称】松尾 淳一
(74)【代理人】
【識別番号】100168066
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 雄太
(72)【発明者】
【氏名】チャン，チエンチエン
(72)【発明者】
【氏名】ブキャナン，チャールズ・マイケル
(72)【発明者】
【氏名】エルキンス，ケイシー・リン
(72)【発明者】
【氏名】マコーネル，ウェズレー・ウェイン
(72)【発明者】
【氏名】ワン，ビン
(72)【発明者】
【氏名】シャープ，ロバート・ジャックス
【テーマコード（参考）】
2H149
4C090
4F071
4J002
【Ｆターム（参考）】
2H149AA01
2H149AB01
2H149DA02
2H149DA12
2H149FA02Y
2H149FD05
2H149FD06
2H149FD25
2H149FD47
4C090BA25
4C090BB52
4C090BB97
4C090BD15
4C090BD36
4C090CA38
4C090DA31
4F071AA09
4F071AE04
4F071AF31Y
4F071AF35Y
4F071AH12
4F071AH19
4F071BA02
4F071BB02
4F071BC01
4F071BC12
4J002AB021
4J002EE046
4J002EU186
4J002FD056
4J002GP00
(57)【要約】
本出願は、位置選択的に置換されたセルロースエステルと成分Ａ（式中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、ｍ、ｎおよびｋは本明細書中で規定する）とを含むフィルムを開示する。フィルムは、改善された波長分散を示すＣ＋フィルムである。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、
（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および
（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基
を含む、位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、
ここで：
ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．７であり、
芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、
（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が０．９～２．２であり、
芳香族－ＣＯ－が（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］
である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと；
（２）
【化1】
環Ａは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｂは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｃは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
Ｒ１は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、任意選択により１～５つの飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、ハロによって置換される（Ｃ６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；－ＣＨ２Ｃ（Ｏ）－Ｒ３であり；
Ｒ２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキルであり；
Ｒ３は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ６によって置換され；
Ｒ４は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳからなる群から選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；
各Ｒ５は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロアルコキシ、またはハロであり；
各Ｒ６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、またはハロまたは（Ｃ６～２０）アリールであり、ここで、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ７によって置換され；
各Ｒ７は、独立に、ヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～６）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルコキシであり；
各Ｒ８は、Ｒ４－Ｏ－、ヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルケニル、（Ｃ１～２０）アルケニル－Ｏ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；
各ｍは、１、２、３、４または５であり；
ｎは、１、２、３、４または５である］
である成分Ａと；
を含む、フィルムであって、
ここで：
成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、
フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が１μｍ～２００μｍであり、
フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、
Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、
Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、
Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、フィルム。
【請求項2】
Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比が１．０５未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）が、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである、請求項１に記載のフィルム。
【請求項3】
Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比が０．７５～０．８５である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項4】
Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比が０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである、請求項１～３のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項5】
Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比が１．１０～１．２５である、請求項４に記載のフィルム。
【請求項6】
Ｒｔｈが２０～２００ｎｍである、請求項１～５のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項7】
成分Ａが、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）、またはこれらの組合せである、請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項8】
成分Ａが、２０ｗｔ％未満で存在する、請求項１～７のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項9】
芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである、請求項１～８のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項10】
第１の不飽和または飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基が、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、またはクロトニルである、請求項１～９のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項11】
セルロースエステルが、複数の第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基をさらに含む、請求項１～９のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項12】
第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基が、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、または２－エチルヘキサノイルである、請求項１～１１のいずれか一項に記載のフィルム。【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【0001】
Ｃ＋フィルムは、ディスプレイに広範に使用されてきた。該フィルムは通常、ディスプレイの画質を改善するために、Ａ＋フィルムと一緒に多層構造中に使用される。最近では、Ｃ＋フィルムは、液晶ベースの材料およびポリスチレン誘導体などのいくつかの異なる材料から作製することができる。また、Ｃ＋フィルムを製造するためにセルロースエステルが利用されてきた。例えば、米国特許公開第２０１７０３０６０５４号は、Ｃ＋フィルムを製造するために使用できる位置選択的に置換されたセルロースエステルを開示している。しかしながら、Ｃ＋フィルムの波長分散は通常、正常であり、短波長のＣ＋フィルムのΔｎｔｈまたはＲｔｈが長波長より大きく、結果として色ずれが生じる。したがって、改善された波長分散を有するＣ＋フィルムが、依然として満たされていない大きなニーズとして存在する。本出願は、改善された波長分散を示す位置選択的に置換されたセルロースエステルが配合されて含まれるＣ＋フィルムを開示する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0002】
本出願は、
（１）
（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、
（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および
（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基
を含む、位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、
ここで：
ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．７であり、
芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、
（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が０．９～２．２であり、
芳香族－ＣＯ－が、（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］
である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、
（２）
（１）
（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、
（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および
（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基
を含む、位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、
ここで：
ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．７であり、
芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、
（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が０．９～２．２であり、
芳香族－ＣＯ－が、（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］
である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、
（２）
【0003】
【化1】
【0004】
［式中：
環Ａは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｂは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｃは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
Ｒ１は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、任意選択により１～５つの飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、ハロによって置換される（Ｃ６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；－ＣＨ２Ｃ（Ｏ）－Ｒ３であり；
Ｒ２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキルであり；
Ｒ３は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ６によって置換され；
Ｒ４は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳからなる群から選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；
各Ｒ５は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロアルコキシ、またはハロであり；
各Ｒ６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、またはハロまたは（Ｃ６～２０）アリールであり、ここで、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ７によって置換され；
各Ｒ７は、独立に、ヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～６）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルコキシであり；
各Ｒ８は、Ｒ４－Ｏ－、ヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルケニル、（Ｃ１～２０）アルケニル－Ｏ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；
各ｍは、１、２、３、４または５であり；
ｎは、１、２、３、４または５である］
である成分Ａと、
を含むフィルムであって、
ここで：
成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、
フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が、１μｍ～２００μｍであり、
フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、
Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、
Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、
Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、
フィルムを開示する。
環Ａは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｂは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｃは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
Ｒ１は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、任意選択により１～５つの飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、ハロによって置換される（Ｃ６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；－ＣＨ２Ｃ（Ｏ）－Ｒ３であり；
Ｒ２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキルであり；
Ｒ３は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ６によって置換され；
Ｒ４は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳからなる群から選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；
各Ｒ５は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロアルコキシ、またはハロであり；
各Ｒ６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、またはハロまたは（Ｃ６～２０）アリールであり、ここで、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ７によって置換され；
各Ｒ７は、独立に、ヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～６）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルコキシであり；
各Ｒ８は、Ｒ４－Ｏ－、ヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルケニル、（Ｃ１～２０）アルケニル－Ｏ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；
各ｍは、１、２、３、４または５であり；
ｎは、１、２、３、４または５である］
である成分Ａと、
を含むフィルムであって、
ここで：
成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、
フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が、１μｍ～２００μｍであり、
フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、
Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、
Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、
Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、
フィルムを開示する。
【0005】
本出願は、以下の図面について言及する。
【図面の簡単な説明】
【0006】
【発明を実施するための形態】
【0007】
本発明は、本発明の以下の詳細な説明およびその中で記述される実施例を参照することによって、より容易に理解することができる。本発明は、記載される特定の方法、配合、および条件に限定されず、変更が可能とすることを理解されたい。また、本明細書中で用いられる用語は、本発明の特定の態様を説明することのみを目的とし、限定されることは意図しないことも理解すべきである。
【0008】
定義
本明細書および後続の特許請求の範囲において、多数の用語が言及されるが、これらは、以下の意味を有すると定義されるものとする。
本明細書および後続の特許請求の範囲において、多数の用語が言及されるが、これらは、以下の意味を有すると定義されるものとする。
【0009】
値は、所与の数を「約」または「およそ」で表すことができる。同様に、範囲を、本明細書において、「約」＋特定の１つの値から、かつ／または「約」＋別の特定の値までを表すことができる。そのような範囲を表すとき、別の態様は、特定の１つの値から、かつ／または他の特定の値までを含む。同様に、頭に「約」を用いることによって値を近似値として表すとき、特定の値は別の態様を形成すると理解されよう。
【0010】
本明細書中で用いられる場合、用語「ある（a）」、「ある（an）」および「その（the）」は、１または複数を意味する。
本明細書中で用いられる場合、用語「および／または」は、２以上の項目のリスト中で用いられるとき、列挙された項目のいずれか１つをそれ自体で用いることができる、または２つ以上の列挙された項目の任意の組合せで用いることができることを意味する。例えば、組成物が、成分Ａ、Ｂおよび／またはＣを含有すると説明される場合、組成物は、単独のＡ、単独のＢ、単独のＣ、ＡとＢの組合せ、ＡとＣの組合せ、ＢとＣの組合せ、またはＡ、ＢおよびＣの組合せを含有することができる。
本明細書中で用いられる場合、用語「および／または」は、２以上の項目のリスト中で用いられるとき、列挙された項目のいずれか１つをそれ自体で用いることができる、または２つ以上の列挙された項目の任意の組合せで用いることができることを意味する。例えば、組成物が、成分Ａ、Ｂおよび／またはＣを含有すると説明される場合、組成物は、単独のＡ、単独のＢ、単独のＣ、ＡとＢの組合せ、ＡとＣの組合せ、ＢとＣの組合せ、またはＡ、ＢおよびＣの組合せを含有することができる。
【0011】
本明細書中で用いられる場合、用語「含む（comprising）」、「含む（comprises）」および「含む（comprise）」は、用語の前に列挙された対象から用語の後に列挙された１つ以上の要素への移行のために用いられるオープンエンド移行句であり、移行句の後に列挙される１つ以上の要素は必ずしも、対象を構成する要素のみではない。
【0012】
本明細書中で用いられる場合、用語「有する（having）」、「有する（has）」および「有する（have）」は、上記の「含む（comprising）」、「含む（comprises）」および「含む（comprise）」と同じオープンエンドの意味を有する。
【0013】
本明細書中で用いられる場合、用語「含む（including）」、「含む（includes）」および「含む（include）」は、上記の「含む（comprising）」、「含む（comprises）」および「含む（comprise）」と同じオープンエンドの意味を有する。
【0014】
光学フィルムの製造における使用に好適な位置選択的に置換されたセルロースエステルは、複数のアルキル－アシルまたはアルキル－ＣＯ－置換基、複数のアリール－アシルまたはアリール－ＣＯ－置換基、ヘテロアリール－アシルまたはヘテロアリール－ＣＯ－置換基を含むことができる。本明細書中で用いられる場合、用語「アシル置換基」または「Ｒ－ＣＯ－」は、構造：
【0015】
【化2】
【0016】
を有する置換基を示すものとする。
セルロースエステル中のそのようなアシルまたはＲ－ＣＯ－基は、一般に、エステル結合を介して（すなわち、酸素原子を通じて）セルロースのピラノース環に結合される。
セルロースエステル中のそのようなアシルまたはＲ－ＣＯ－基は、一般に、エステル結合を介して（すなわち、酸素原子を通じて）セルロースのピラノース環に結合される。
【0017】
芳香族－ＣＯ－は、芳香族含有環系を有するアシル置換基である。例としては、アリール－ＣＯ－またはヘテロアリール－ＣＯ－が挙げられる。具体例としては、ベンゾイル、ナフトイル、およびフロイルが挙げられ、それぞれ、非置換であるか、または置換されている。
【0018】
本明細書中で用いられる場合、用語「アリール－アシル」置換基は、「Ｒ」がアリール基であるアシル置換基を示すものとする。本明細書中で用いられる場合、用語「アリール」は、アレーン（すなわち、単環式または多環式芳香族炭化水素）中の環炭素から水素原子を除去することによって形成される一価の基を示すものとする。ある場合には、アリール－アシル基の前に炭素単位が付く（例えば、（Ｃ５～６）アリール－アシル、（Ｃ６～１２）アリール－アシル、または（Ｃ６～２０）アリール－アシル）。さまざまな実施形態における使用に好適なアリール基の例としては、これらに限定されないが、フェニル、ベンジル、トリル、キシリル、およびナフチルが挙げられる。そのようなアリール基は、置換されていても置換されていなくてもよい。
【0019】
本明細書中で用いられる場合、用語「アルキル－アシル」は、「Ｒ」がアルキル基であるアシル置換基を示すものとする。本明細書中で用いられる場合、用語「アルキル」は、非芳香族炭化水素から水素原子を除去することによって形成される一価の基を示すものとし、ヘテロ原子を含んでもよい。本明細書における使用に好適なアルキル基は、直鎖状、分枝状、または環状であってもよく、飽和でも不飽和でもよい。本明細書における使用に好適なアルキル基としては、（Ｃ１～２０）、（Ｃ１～１２）、（Ｃ１～５）、または（Ｃ１～３）アルキル基のいずれかが挙げられる。さまざまな実施形態において、アルキルは、Ｃ１～５直鎖状アルキル基であってもよい。さらに他の実施形態において、アルキルは、Ｃ１～３直鎖状アルキル基であってもよい。好適なアルキル基の具体例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、シクロペンチル、およびシクロヘキシル基が挙げられる。アルキル－アシル基の例としては、アセチル、プロピオニル、ブチロイルなどが挙げられる。
【0020】
「ヘテロアルキル」は、１個以上の炭素原子が、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択されるヘテロ原子と置き換えられるアルキルである。
「ハロアルキル」は、少なくとも１個の水素がハロゲン基で置き換えられるアルキル置換基を意味する。ハロアルキル基中の炭素単位が含まれていることが多い（例えばハロ（Ｃ１～６）アルキル）。ハロアルキル基は、直鎖状でも分枝状であってもよい。ハロアルキルの非限定例としては、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジブロモエチルなどが挙げられる。
「ハロアルキル」は、少なくとも１個の水素がハロゲン基で置き換えられるアルキル置換基を意味する。ハロアルキル基中の炭素単位が含まれていることが多い（例えばハロ（Ｃ１～６）アルキル）。ハロアルキル基は、直鎖状でも分枝状であってもよい。ハロアルキルの非限定例としては、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジブロモエチルなどが挙げられる。
【0021】
「ヘテロアリール」は、アリール環中の少なくとも１つの炭素単位が、Ｏ、ＮおよびＳなどのヘテロ原子で置き換えられるアリールを意味する。ヘテロアリールは、単環式でも多環式であってもよい環である。多くの場合、ヘテロアリール環系を構成する単位、例えば、５～２０員環系が含まれる。５員ヘテロアリールは、ヘテロアリール環を形成する５個の原子を有する環系を意味する。ヘテロアリールの非限定例としては、ピリジニル、キノリニル、ピリミジニル、チオフェニルなどが挙げられる。
【0022】
「アルコキシ」は、アルキル－Ｏ－または酸素基に末端結合したアルキル基を意味する。多くの場合、炭素単位が含まれる（例えば、（Ｃ１～６）アルコキシ）。アルコキシの非限定例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどが挙げられる。
【0023】
「ハロアルコキシ」は、複数の水素のうちの少なくとも１個がハロゲンで置き換えられるアルコキシを意味する。多くの場合、炭素単位が含まれる（例えば、ハロ（Ｃ１～６）アルコキシ）。ハロアルコキシの非限定例としては、トルフルオロメトキシ、ブロモメトキシ、１－ブロモ－エトキシなどが挙げられる。
【0024】
「ハロ」は、フルオロ、クロロ、ブロモ、またはヨードなどのハロゲンを意味する。
「置換度」は、一無水グルコース単位（「ＡＧＵ」）当たりの置換基の平均置換レベルを説明するために用いられる。一般に、従来のセルロースは、置換されうる各ＡＧＵ中の３つヒドロキシル基を含有する。したがって、ＤＳは、０～３の間の値を有しうる。しかしながら、低分子量セルロース混合エステルは、末端基寄与から３より少し高い全置換度を有しうる。低分子量セルロース混合エステルは、本開示においてより詳細に後述する。ＤＳが統計的平均値であるため、１の値は、すべてのＡＧＵが単一置換基を有することを保証しない。ある場合では、一部は２つ、また一部は３つの置換基を有する非置換の無水グルコース単位であり得、大半の場合、値は整数でない。全ＤＳは、ヒドロキシル置換基を含まない、一無水グルコース単位当たりの全置換基の平均数として定義される。一ＡＧＵ当たりの置換度はまた、例えば、ヒドロキシル、アセチル、ブチリル、またはプロピオニルなどの特定の置換基も指しうる。加えて、置換度は、無水グルコース単位の炭素単位のいずれかを指定することができる。
「置換度」は、一無水グルコース単位（「ＡＧＵ」）当たりの置換基の平均置換レベルを説明するために用いられる。一般に、従来のセルロースは、置換されうる各ＡＧＵ中の３つヒドロキシル基を含有する。したがって、ＤＳは、０～３の間の値を有しうる。しかしながら、低分子量セルロース混合エステルは、末端基寄与から３より少し高い全置換度を有しうる。低分子量セルロース混合エステルは、本開示においてより詳細に後述する。ＤＳが統計的平均値であるため、１の値は、すべてのＡＧＵが単一置換基を有することを保証しない。ある場合では、一部は２つ、また一部は３つの置換基を有する非置換の無水グルコース単位であり得、大半の場合、値は整数でない。全ＤＳは、ヒドロキシル置換基を含まない、一無水グルコース単位当たりの全置換基の平均数として定義される。一ＡＧＵ当たりの置換度はまた、例えば、ヒドロキシル、アセチル、ブチリル、またはプロピオニルなどの特定の置換基も指しうる。加えて、置換度は、無水グルコース単位の炭素単位のいずれかを指定することができる。
【0025】
置換度がヒドロキシルを指す場合、すなわち、ＤＳＯＨの場合、置換されない一無水グルコース当たりの平均ヒドロキシル基を指す。結果として、ＤＳＯＨは、全置換度の計算には用いられない。
【0026】
数値域
本明細書は、本発明に関連する特定のパラメータを定量化するために数値域を用いる。数値域を記載する場合、その範囲は、範囲の下限値のみを列挙するクレーム制限ならびに範囲の上限値のみを列挙するクレーム制限の文字的サポートを与えるものとして解釈されるべきであることを理解されたい。例えば、開示される１０～１００の数値域は、「１０超」（上界なし）を列挙するクレームおよび「１００未満」（下界なし）を列挙するクレームの文字的サポートを提供する。
本明細書は、本発明に関連する特定のパラメータを定量化するために数値域を用いる。数値域を記載する場合、その範囲は、範囲の下限値のみを列挙するクレーム制限ならびに範囲の上限値のみを列挙するクレーム制限の文字的サポートを与えるものとして解釈されるべきであることを理解されたい。例えば、開示される１０～１００の数値域は、「１０超」（上界なし）を列挙するクレームおよび「１００未満」（下界なし）を列挙するクレームの文字的サポートを提供する。
【0027】
本明細書は、本発明に関連する特定のパラメータを定量化するために特定の数値を用いるが、この特定の数値は、特に数値域の一部ではない。本明細書中に記載されるそれぞれの特定の数値は、広範囲、中程度の範囲、狭い範囲の文字的サポートを提供するものとして解釈されるものと理解されたい。それぞれの特定の数値に関連する広い範囲は、数値プラス／マイナス数値の６０パーセントを２有効桁まで四捨五入したものである。それぞれの特定の数値に関連する中程度の範囲は、数値プラス／マイナス数値の３０パーセントを２有効桁まで四捨五入したものである。それぞれの特定の数値に関連する狭い範囲は、数値プラス／マイナス数値の１５パーセントを２有効桁まで四捨五入したものである。例えば、本明細書が６２°Ｆの特定温度を記載する場合、該説明は、２５°Ｆ～９９°Ｆ（６２°Ｆ＋／－３７°Ｆ）の広い数値域、４３°Ｆ～８１°Ｆ（６２°Ｆ＋／－１９°Ｆ）の中程度の数値域、および５３°Ｆ～７１°Ｆ（６２°Ｆ＋／－９°Ｆ）の狭い数値域の文字的サポートを提供する。これらの広い、中程度の、および狭い数値域は、特定値のみに該当するだけでなく、これらの特定値間の差にも該当すべきである。したがって、本明細書が、１１０ｐｓｉａの第１の圧力および４８ｐｓｉａの第２の圧力（６２ｐｓｉの差）を記載する場合、これらの２つのストリーム間の圧力差の広範囲、中範囲、および狭範囲は、それぞれ、２５～９９ｐｓｉ、４３～８１ｐｓｉ、および５３～７１ｐｓｉであると考えられる。
【0028】
特許文献および刊行物が参照される本出願を通して、これらの参考文献の全体開示は、本発明が関与する最新技術をより完全に説明するために、本発明と矛盾しない程度まで参照により本出願に組み込まれることが意図される。
【0029】
補償フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）および有機発光ダイオードディスプレイ（ＯＬＥＤ）の画質を改善するために重要である。補償フィルムの複屈折は、画質に重要である。これは、補償フィルムを特性評価するために、面内複屈折（Δｎｅ）および面外複屈折（Δｎｔｈ）で広範に使用されている。ΔｎｅおよびΔｎｔｈは、以下の式によって規定される。
【0030】
Δｎｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）
Δｎｔｈ＝［ｎｚ－（ｎｘ＋ｎｙ）／２］
普通、ポリマーから作られるフィルム（通常、延伸される）は、複屈折の発生を要する。高分子フィルムは、一方向（ｘ方向）に沿って存在し、ｎｘは、フィルム面内の延伸方向に沿った屈折率であり、一方でｎｙは、フィルム面内の延伸方向に対して垂直にある屈折率であり、ｎｚは、フィルム面に対して垂直にある屈折率である。Δｎｅが負のフィルムの場合、延伸方向に沿った屈折率は、延伸方向に対して垂直方向に沿った屈折率より小さく、これはｎｘ＜ｎｙを意味する。したがって、負の複屈折を有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎｙは遅軸に沿った屈折率である。Δｎｅが正のフィルムの場合、延伸方向に沿った屈折率は、延伸方向に対して垂直方向に沿った屈折率より大きく、これはｎｘ＞ｎｙを意味する。したがって正の複屈折を有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率として定義され、ｎｙは速軸に沿った屈折率である。延伸されなかったフィルムまたはΔｎｅが０のフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であるのに対し、ｎｙはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎｚはフィルム面に対して垂直にある屈折率である。これに応じて、面内リタデーション（Ｒｅ）および面外リタデーション（Ｒｔｈ）が、Δｎｅと補償フィルムの厚さ（ｄ）との積およびΔｎｔｈとｄとの積として規定される。
Δｎｔｈ＝［ｎｚ－（ｎｘ＋ｎｙ）／２］
普通、ポリマーから作られるフィルム（通常、延伸される）は、複屈折の発生を要する。高分子フィルムは、一方向（ｘ方向）に沿って存在し、ｎｘは、フィルム面内の延伸方向に沿った屈折率であり、一方でｎｙは、フィルム面内の延伸方向に対して垂直にある屈折率であり、ｎｚは、フィルム面に対して垂直にある屈折率である。Δｎｅが負のフィルムの場合、延伸方向に沿った屈折率は、延伸方向に対して垂直方向に沿った屈折率より小さく、これはｎｘ＜ｎｙを意味する。したがって、負の複屈折を有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎｙは遅軸に沿った屈折率である。Δｎｅが正のフィルムの場合、延伸方向に沿った屈折率は、延伸方向に対して垂直方向に沿った屈折率より大きく、これはｎｘ＞ｎｙを意味する。したがって正の複屈折を有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率として定義され、ｎｙは速軸に沿った屈折率である。延伸されなかったフィルムまたはΔｎｅが０のフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であるのに対し、ｎｙはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎｚはフィルム面に対して垂直にある屈折率である。これに応じて、面内リタデーション（Ｒｅ）および面外リタデーション（Ｒｔｈ）が、Δｎｅと補償フィルムの厚さ（ｄ）との積およびΔｎｔｈとｄとの積として規定される。
【0031】
Ｒｅ＝（ｎｘ－ｎｙ）＊ｄ
Ｒｔｈ＝［ｎｚ－（ｎｘ＋ｎｙ）／２］＊ｄ
加えて、Ｎｚ係数も広範に使用され、以下の式によって規定される。
Ｒｔｈ＝［ｎｚ－（ｎｘ＋ｎｙ）／２］＊ｄ
加えて、Ｎｚ係数も広範に使用され、以下の式によって規定される。
【0032】
Ｎｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）＝－Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５
適用分野に応じて、３つの屈折率すべてが異なる（ｎｘ≠ｎｙ、ｎｘ≠ｎｚおよびｎｙ≠ｎｚ）二軸フィルムや、２つの屈折率が非常に近いが第３の屈折率とは異なる（ｎｘ＝ｎｙ≠ｎｚ、ｎｘ＝ｎｚ≠ｎｙ、ｎｙ＝ｎｚ≠ｎｘ）一軸フィルムなどのさまざまな補償フィルムが開発されてきた。一軸フィルムの場合、Ａ＋フィルム、Ａ－フィルム、Ｃ＋フィルムおよびＣ－フィルムがあり、これらは以下の式によって規定される。
Ａ＋：ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ；Ｎｚ係数＝１
Ａ－：ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ；Ｎｚ係数＝１
Ｃ＋：ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ；Ｎｚ係数＝∞
Ｃ－：ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ；Ｎｚ係数＝∞
負のΔｎｅまたはＲｅを有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の速軸に沿った屈折率である。正のΔｎｅまたはＲｅを有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率である。延伸されなかったフィルムまたはΔｎｅが０のフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であるのに対し、ｎｙはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎｚはフィルム面に対して垂直にある屈折率である。
適用分野に応じて、３つの屈折率すべてが異なる（ｎｘ≠ｎｙ、ｎｘ≠ｎｚおよびｎｙ≠ｎｚ）二軸フィルムや、２つの屈折率が非常に近いが第３の屈折率とは異なる（ｎｘ＝ｎｙ≠ｎｚ、ｎｘ＝ｎｚ≠ｎｙ、ｎｙ＝ｎｚ≠ｎｘ）一軸フィルムなどのさまざまな補償フィルムが開発されてきた。一軸フィルムの場合、Ａ＋フィルム、Ａ－フィルム、Ｃ＋フィルムおよびＣ－フィルムがあり、これらは以下の式によって規定される。
Ａ＋：ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ；Ｎｚ係数＝１
Ａ－：ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ；Ｎｚ係数＝１
Ｃ＋：ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ；Ｎｚ係数＝∞
Ｃ－：ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ；Ｎｚ係数＝∞
負のΔｎｅまたはＲｅを有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の速軸に沿った屈折率である。正のΔｎｅまたはＲｅを有するフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率である。延伸されなかったフィルムまたはΔｎｅが０のフィルムの場合、ｎｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であるのに対し、ｎｙはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎｚはフィルム面に対して垂直にある屈折率である。
【0033】
Ｃ＋フィルムは、重量な一部類の補償フィルムである。Ｃ＋フィルムは通常、ディスプレイの光の漏れを保証するために利用される。多くの場合、Ｃ＋フィルムは、多層補償フィルム中で、Ａ＋フィルムなどの他の補償フィルムと一緒に使用される。
【0034】
加えて、波長分散も補償フィルムに重要である。波長分散は、光の波長による複屈折またはリタデーションに関連する。Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）およびＲｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍのリタデーションの比を示し、波長分散を特性評価するために広範に使用される。図２に示すように、正常波長分散は、補償フィルムの複屈折またはリタデーションが、短波長で大きくなることを意味し、フラット波長分散は、補償フィルムの複屈折またはリタデーションが、試験した波長範囲全体にわたって一定であることを意味し、逆波長分散は、補償フィルムの複屈折またはリタデーションが、短波長で小さくなることを意味する。逆波長分散は、ディスプレイの色ずれを顕著に低下させることができるため大変望ましい。
【0035】
セルロースエステルは、補償フィルムに幅広く使用されてきた。セルロースエステルは、ポリカーボネートおよびポリ（環状オレフィン）などの他の材料と比較して多くの利点を有する。ほとんどのセルロースエステル系補償フィルムは、酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロースおよび酢酸酪酸セルロースなどの脂肪族アシル置換基を有するセルロースエステルから作製される。アシル置換基は、無作為に分布される。該補償フィルムは通常、ゼロ未満のＲｔｈまたはΔｎｔｈを有するＣ－フィルムである。セルロースエステルをベースとするＣ＋フィルムは、セルロースエステルへの芳香族アシル置換基を追加し、芳香族アシル置換基または長鎖脂肪族アシル置換基の位置を制御することによって達成することができる。位置選択的に置換されたセルロースエステルをベースとするＣ＋フィルムの例は、ＵＳ２０１７０３０６０５４およびＵＳ出願第６２／８９１５９１号で報告されている。
【0036】
セルロースエステルから作製されるＣ＋補償フィルムの一問題は、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＞１およびＲｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１の該補償フィルムの正常波長分散である。フラットまたは逆波長分散を有するセルロースエステルをベースとするＣ＋フィルムの市販製品は存在しない。
【0037】
さまざまな実施形態において、ピラノース環のＣ２およびＣ３にアリール－アシル置換基が優先的に組み込まれる、位置選択的に置換されたセルロースエステルを用いることができる。位置選択性は、炭素１３ＮＭＲ分光法によってセルロースエステル中のＣ６、Ｃ３およびＣ２における相対的置換度（「ＲＤＳ」）を決定することによって測定することができる（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９１年、２４、３０５０～３０５９頁）。一タイプのアシル置換基の場合または第２のアシル置換基が少量しか存在しない（ＤＳ＜０．２）とき、ＲＤＳは、環炭素の統合によって直接、最も容易に決定することができる。同様の量の２つ以上のアシル置換基が存在するとき、環ＲＤＳの決定に加えて、場合によっては、カルボニル炭素の統合によって各置換基のＲＤＳを独立に決定するために、セルロースエステルを追加の置換基と完全に置換させる必要がある。従来のセルロースエステルでは、位置選択性は一般に観察されず、Ｃ６／Ｃ３、Ｃ６／Ｃ２、またはＣ３／Ｃ２のＲＤＳ比は一般に１に近いか、またはそれ以下である。本質的には、従来のセルロースエステルはランダムコポリマーである。対照的に、適当な溶媒中に溶解したセルロースに１種以上のアシル化試薬を添加すると、セルロースのＣ６位は、Ｃ２位およびＣ３位よりずっと速くアシル化される。その結果、Ｃ６／Ｃ３比およびＣ６／Ｃ２比は１より優位に大きく、これは６，３－または６，２－強化された位置選択的に置換されたセルロースエステルの特徴である。
【0038】
位置選択的に置換されたセルロースエステルの例およびその調製方法は、ＵＳ２０１７０３０６０５４、およびＵＳ２０１７０３０７７９６に記載されており、これらの内容は参照により本明細書に組み込まれる。一般に、これらの出願は、低い置換度（ＤＳ）を有する出発セルロースエステルを、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）およびＮ－メチルイミダゾール（ＮＭＩ）中に溶解し、次いでそれをアシル化試薬と接触させることによるセルロースエステルの調製に関する。これに応じて、本発明のさまざまな実施形態のために、位置選択的に置換されたセルロースエステルを調製するために２つの一般的な方法を用いることができる。一方法では、位置選択的に置換されたセルロースエステルは、まずセルロース溶液を１種以上のアルキルアシル化試薬と接触させ、後続して、所望の置換度（「ＤＳ」）および重合度（「ＤＰ」）を有するセルロースエステルを生成するために十分な接触温度および接触時間で、セルロース溶液をアリールアシル化試薬と接触させることによる段階的添加を用いて調製することができる。この段階的添加において、アルキル基を含有するアシル基をＣ６に優先的に取り入れてよく、アリール基を含有するアシル基をＣ２および／またはＣ３に優先的に取り入れてよい。あるいは、位置選択的に置換されたセルロースエステルは、セルロース溶液を１種以上のアルキルアシル化試薬と接触させ、後続して、アルキル基を含有するアシル基が優先的にＣ６に取り入れられたアルキルエステルを単離することによって調製することができる。次いで、アルキルエステルを適当な有機溶媒に溶解し、所望の置換度（「ＤＳ」）および重合度（「ＤＰ」）を有するセルロースエステルを生成するために十分な接触温度および接触時間で、アリール基を含有するアシル基をＣ２および／Ｃ３に優先的に取り入れることができるアリール－アシル化試薬と接触させてよい。こうして調製されたセルロースエステルは、一般に、以下の構造を含む：
【0039】
【化3】
【0040】
式中、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ６は、水素（ただし、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ６は同時に水素ではないことを条件とする）、アルキル－アシル基、および／またはアリール－アシル基（上記のものなど）であり、これらは、エステル結合を介してセルロースに結合される。
【0041】
これらの方法によって調製されたセルロースエステルの重合度（「ＤＰ」）は、少なくとも１０であってもよい。他の実施形態では、セルロースエステルのＤＰは、少なくとも５０、少なくとも１００、または少なくとも２５０であってもよい。他の実施形態では、セルロースエステルのＤＰは、約５～約１００の範囲、または約１０～約５０の範囲とすることができる。
【0042】
本明細書における使用に好適なアシル化試薬としては、これらに限定されないが、本明細書中に記載の位置選択的に置換されたセルロースエステルのアシル置換基における使用に好適な上記アルキルもしくはアリール基を含有する、アルキルもしくはアリールカルボン酸無水物、カルボン酸ハロゲン化物、および／またはカルボン酸エステルを挙げることができる。好適なカルボン酸無水物の例としては、これらに限定されないが、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、ピバロイル無水物、安息香酸無水物、およびナフトイル無水物が挙げられる。カルボン酸ハロゲン化物の例としては、これらに限定されないが、塩化または臭化アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル、およびナフトイルが挙げられる。カルボン酸エステルの例としては、これらに限定されないが、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイルおよびナフトイルメチルエステルが挙げられる。１つ以上の実施形態において、アシル化試薬は、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、ピバロイル無水物、ベンゾイル無水物、およびナフトイル無水物からなる群から選択される１種以上のカルボン酸無水物であってもよい。
【0043】
本出願は、（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基；（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基；および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで：ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．５であり、芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が０．９～２．２であり、芳香族－ＣＯ－が、（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）
【0044】
【化4】
【0045】
［式中：環Ａは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｂは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｃは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；Ｒ１は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、任意選択により１～５つの飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、ハロによって置換されている（Ｃ６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；－ＣＨ２Ｃ（Ｏ）－Ｒ３であり；Ｒ２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキルであり；Ｒ３は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ６によって置換され；Ｒ４は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳからなる群から選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；各Ｒ５は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロアルコキシ、またはハロであり；各Ｒ６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、またはハロまたは（Ｃ６～２０）アリールであり、ここで、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ７によって置換され；各Ｒ７は、独立に、ヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～６）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルコキシであり；各Ｒ８は、Ｒ４－Ｏ－、ヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルケニル、（Ｃ１～２０）アルケニル－Ｏ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換されており；各ｍは、１、２、３、４または５であり、ｎは、１、２、３、４または５である］である成分Ａと、を含むフィルムであって、ここで：成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が、１μｍ～２００μｍであり、フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、フィルムを開示する。
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換されており；各ｍは、１、２、３、４または５であり、ｎは、１、２、３、４または５である］である成分Ａと、を含むフィルムであって、ここで：成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が、１μｍ～２００μｍであり、フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、フィルムを開示する。
【0046】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは延伸されない。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは延伸される。この実施形態の一クラスにおいて、フィルムは、二軸延伸されるか、または一軸延伸される。
【0047】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ８は、Ｒ４－Ｏ－である。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－５ｎｍ～５ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、ここで、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションである。一実施形態において、フィルムは、－１ｎｍ～１ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、ここで、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションである。一実施形態において、フィルムは、０．２ｎｍ～９ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、ここで、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションである。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－５ｎｍ～５ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、ここで、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションである。一実施形態において、フィルムは、－１ｎｍ～１ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、ここで、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションである。一実施形態において、フィルムは、０．２ｎｍ～９ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、ここで、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションである。
【0048】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
【0049】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0050】
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0051】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0052】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0053】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0054】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0055】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0056】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比は１．０未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比は１．０未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0057】
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0058】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0059】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0060】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0061】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0062】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0063】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比は０．９未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比は０．９未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0064】
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0065】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0066】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0067】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0068】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0069】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが２．０超である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～２２である。
【0070】
このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０～１０である。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0071】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0072】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２５であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである。
【0073】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］である。この実施形態の一クラスにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである。この実施形態の一クラスにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている芳香族－ＣＯ－はベンゾイルである。この実施形態の一クラスにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されているナフトイルである。
【0074】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．５の全ＤＳＡｒＣＯを有する。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．２の全ＤＳＡｒＣＯを有する。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、１．２～１．５の全ＤＳＡｒＣＯを有する。
【0075】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ベンゾイルである。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．５の全ＤＳＡｒＣＯを有する。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．２の全ＤＳＡｒＣＯを有する。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、１．２～１．５の全ＤＳＡｒＣＯを有する。
【0076】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ナフトイルである。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．５の全ＤＳＡｒＣＯを有する。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．２の全ＤＳＡｒＣＯを有する。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、１．２～１．５の全ＤＳＡｒＣＯを有する。
【0077】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．７～２．２の、第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－アシル置換基（「ＤＳＦＡｋ」）の置換度を有する。一実施形態において、セルロースエステルは、０．７～１．９の、第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－アシル置換基（「ＤＳＦＡｋ」）の置換度を有する。
【0078】
この実施形態の一クラスにおいて、第１の不飽和または飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、またはクロトニルである。この実施形態の一クラスにおいて、第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、プロピオニル、またはクロトニルである。
【0079】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、複数の第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基をさらに含む。この実施形態の一クラスにおいて、第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基（「ＤＳＳＡｋ」）の置換度は０．０５～０．６である。
【0080】
この実施形態の一クラスにおいて、第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、または２－エチルヘキサノイルである。この実施形態の一クラスにおいて、第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、または２－エチルヘキサノイルである。この実施形態の一クラスにおいて、第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチルまたは２－エチルヘキサノイルである。
【0081】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されているナフトイルである。一実施形態において、芳香族－ＣＯ－はナフトイルである。
【0082】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、
【0083】
【化5】
【0084】
である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ８はＲ４－Ｏ－である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0085】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、
【0086】
【化6】
【0087】
である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0088】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール（Ｔｉｎｕｖｉｎ １５７７）、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート（Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７９）、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）（Ｔｉｎｕｖｉｎ ４６０）、またはこれらの組合せである。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0089】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオンである。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0090】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａはアヴォベンゾンである。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0091】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール（Ｔｉｎｕｖｉｎ １５７７）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0092】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート（Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７９）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0093】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。
【0094】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、２０ｗｔ％未満で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％超で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは２．５ｗｔ％超で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは２．５ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、２．５ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、５ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、２．５ｗｔ％～２５ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１８ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～１０ｗｔ％の範囲で存在する。
【0095】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは２である。一実施形態において、ｍは３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは５である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１、２、３または４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１、２または３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１または２である。
【0096】
一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは２である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは５である。一実施形態において、ｎは１、２、３、または４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１、２または３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１または２である。
【0097】
実施形態
実施形態１。（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基；（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基；および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで：ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．５であり、芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が０．９～２．２であり、芳香族－ＣＯ－が（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）
実施形態１。（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基；（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基；および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで：ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．５であり、芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が０．９～２．２であり、芳香族－ＣＯ－が（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）
【0098】
【化7】
【0099】
［式中：環Ａは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｂは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｃは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；Ｒ１は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、任意選択により１～５つの飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、ハロによって置換される（Ｃ６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；－ＣＨ２Ｃ（Ｏ）－Ｒ３であり；Ｒ２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキルであり；Ｒ３は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ６によって置換され；Ｒ４は、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳからなる群から選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換され；各Ｒ５は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和アルキル、飽和もしくは不飽和ハロアルキル、飽和もしくは不飽和アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロアルコキシ、またはハロであり；各Ｒ６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、またはハロまたは（Ｃ６～２０）アリールであり、ここで、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ７によって置換され；各Ｒ７は、独立に、ヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～６）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ１～６）アルコキシであり；各Ｒ８は、Ｒ４－Ｏ－、ヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルケニル、（Ｃ１～２０）アルケニル－Ｏ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ６～１０）アリール、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換されており；各ｍは、１、２、３、４または５であり；ｎは、１、２、３、４または５である］である成分Ａと、を含む、フィルムであって、ここで：成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が１μｍ～２００μｍであり、フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、フィルム。
ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルによって置換されており；各ｍは、１、２、３、４または５であり；ｎは、１、２、３、４または５である］である成分Ａと、を含む、フィルムであって、ここで：成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が１μｍ～２００μｍであり、フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、フィルム。
【0100】
実施形態２。（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基；（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基；および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで：ヒドロキシルの置換度（「ＤＳＯＨ」）が０～０．５であり、芳香族－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｒＣＯ」）が０．８～１．６であり、（Ｃ１～６）アルキル－ＣＯ－置換基の置換度（「ＤＳＡｋ」）が１．１～２．２であり、芳香族－ＣＯ－が（Ｃ６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）
【0101】
【化8】
【0102】
［式中：環Ａは、（Ｃ６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｂは、（Ｃ６～２０）アリールであり；環Ｃは、（Ｃ６～２０）アリールであり；Ｒ１は、アルキル、ハロアルキル、任意選択により１～５つのアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ハロによって置換される（Ｃ６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；－ＣＨ２Ｃ（Ｏ）－Ｒ３であり；Ｒ２は、独立に、水素、アルキル、またはハロアルキルであり；Ｒ３は、アルキル、ハロアルキル、（Ｃ６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ６によって置換され；Ｒ４は、（Ｃ１～２０）アルキル、ハロ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキルであり、それぞれ、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、（Ｃ１～２０）アルコキシル、またはハロ（Ｃ１～２０）アルコキシル、ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル、（Ｃ１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ１～２０）アルキル、または（Ｃ１～２０）アルコキシ－（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ１～２０）アルキル－によって置換され；各Ｒ５は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはハロであり；各Ｒ６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはハロまたは（Ｃ６～２０）アリールであり、ここで、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ７によって置換され；各Ｒ７は、独立に、ヒドロキシル、（Ｃ１～６）アルキル、ハロ（Ｃ１～６）アルキル、または（Ｃ１～６）アルコキシルであり；各ｍは、１、２、３、４または５であり；ｎは、１、２、３、４、または５である］である成分Ａと、を含むフィルムであって、ここで：成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）が１μｍ～２００μｍであり、フィルムが、－１０ｎｍ～１０ｎｍの範囲のＲｅ（５８９ｎｍ）を示し、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０３を乗じたものが１．０超であり、Ｒｅ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションである、フィルム。
【0103】
実施形態３。Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比が１．０５未満であり、ここで、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）が、４５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである、実施形態１または２のフィルム。
【0104】
実施形態４。Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（４５０ｎｍ）の比が０．７５～０．８５である、実施形態１または２のフィルム。
実施形態５。Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比が０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである、実施形態１～４のいずれか１つのフィルム。
実施形態５。Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比が０．９５超であり、ここで、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、６５０ｎｍで測定した面外リタデーションであり、Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が、５５０ｎｍで測定した面外リタデーションである、実施形態１～４のいずれか１つのフィルム。
【0105】
実施形態６。Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）に対するＲｔｈ（６５０ｎｍ）の比が１．１０～１．２５である、実施形態５のフィルム。
実施形態７。成分Ａが、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）、またはこれらの組合せである、実施形態１～６のいずれか１つのフィルム。
実施形態７。成分Ａが、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）、またはこれらの組合せである、実施形態１～６のいずれか１つのフィルム。
【0106】
実施形態８。成分Ａが、２０ｗｔ％未満で存在する、実施形態１～７のいずれか１つのフィルム。
実施形態９。芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである、実施形態１～８のいずれか１つのフィルム。
実施形態９。芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである、実施形態１～８のいずれか１つのフィルム。
【0107】
実施形態１０。第１の不飽和または飽和（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基が、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、またはクロトニルである、実施形態１～８のいずれか１つのフィルム。
【0108】
実施形態１１。セルロースエステルが、複数の第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基をさらに含む、実施形態１～１０のいずれか１つのフィルム。
実施形態１２。第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基が、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、または２－エチルヘキサノイルである、実施形態１～１１のいずれか１つのフィルム。
実施形態１２。第２の（Ｃ１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基が、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、または２－エチルヘキサノイルである、実施形態１～１１のいずれか１つのフィルム。
【実施例】
【0109】
略語
１ＭＩＭ：１－メチルイミダゾール；２ＥＨまたは２－ＥＨ：２－エチルヘキサノイル；２ＥＨＣｌ：塩化２－エチルヘキサノイル；ＡｃＯＨ：酢酸；Ａｋ：アルキルアシルまたはアルキル－ＣＯ－；Ａｒ：アリール；ＡｒＣＯ：アリール－アシルまたはアリール－ＣＯ－；ａｔｍ：大気圧；Ｂｚ：ベンゾイル；ＢｚＣｌ：塩化ベンゾイル；℃：摂氏度；Ｃ２ＤＳ：無水グルコース単位のＣ２位の平均置換度；Ｃ３ＤＳ：無水グルコース単位のＣ３位の平均置換度；Ｃ６ＤＳ：無水グルコース単位のＣ６位の平均置換度；ＣＥ：セルロースエステル；ＣＰＮ；シクロペンタノン；ＣＰｒ：プロピオニル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨ：プロピオニルおよび２－エチルヘキサノイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＢｚ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびベンゾイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸安息香酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＮｐ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたは２－エチルヘキサン酸ナフトエ酸セルロース（cellulose 2-ethylhexanoate naphthoate）；ＣＰｒＰｖＮｐ：プロピオニル、ピバロイルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸ピバル酸ナフトエ酸セルロース；ＤＣＭ：ジクロロメタン；ＤＥＰ：フタル酸ジエチル；ＤＭＡＣ：ジメチルアセトアミド；ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド；ＤＰＤＯ：１，３－ジフェニルプロパン－１，３－ジオン；ＤＳ：平均置換度；ｅｑ：当量；ＥｔＯＨ：エタノール；Ｅｘ：実施例；ＦＡｋ：第１のアルキル－アシルまたは第１のアルキル－ＣＯ－；ＳＡｋ：第２のアルキル－アシルまたは第２のアルキル－ＣＯ－；ＦＡｒ：第１のアリール－アシルまたは第１のアリール－ＣＯ－；ｇ：グラム；Ｉｎｔ：中間体；ｉ－ＰｒＯＨまたはｉＰｒＯＨ：イソプロパノール；ＫＯＡｃ：酢酸カリウム；ＭＥＫ：メチルエチルケトン；ＭｅＯＨ：メタノール；ＭＩＰＫ：メチルイソプロピルケトン；ｈｒまたはｈ：時間；Ｌ：リットル；ｍｉｎ：分；ｍＬ：ミリリットル；μｍ：マイクロメートルまたはミクロン；ｍｏｌ：モル；ＮＭＩ：Ｎ－メチルイミダゾール；ＮＭＲ：核磁気共鳴；Ｎｐ：ナフトイル；ＮｐＣｌ：２－塩化ナフトイル；Ｐｒ：プロピオニル；ＲＢＦ：丸底フラスコ；ＲＭ：反応混合物；ｒｔ：室温；ＳＡｒ：第２のアリール－アシルまたは第２のアリール－ＣＯ－；Ｔｏｔ．：合計；ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸；ＴＦＡＡ：無水トリフルオロ酢酸。
１ＭＩＭ：１－メチルイミダゾール；２ＥＨまたは２－ＥＨ：２－エチルヘキサノイル；２ＥＨＣｌ：塩化２－エチルヘキサノイル；ＡｃＯＨ：酢酸；Ａｋ：アルキルアシルまたはアルキル－ＣＯ－；Ａｒ：アリール；ＡｒＣＯ：アリール－アシルまたはアリール－ＣＯ－；ａｔｍ：大気圧；Ｂｚ：ベンゾイル；ＢｚＣｌ：塩化ベンゾイル；℃：摂氏度；Ｃ２ＤＳ：無水グルコース単位のＣ２位の平均置換度；Ｃ３ＤＳ：無水グルコース単位のＣ３位の平均置換度；Ｃ６ＤＳ：無水グルコース単位のＣ６位の平均置換度；ＣＥ：セルロースエステル；ＣＰＮ；シクロペンタノン；ＣＰｒ：プロピオニル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨ：プロピオニルおよび２－エチルヘキサノイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＢｚ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびベンゾイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸安息香酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＮｐ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたは２－エチルヘキサン酸ナフトエ酸セルロース（cellulose 2-ethylhexanoate naphthoate）；ＣＰｒＰｖＮｐ：プロピオニル、ピバロイルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸ピバル酸ナフトエ酸セルロース；ＤＣＭ：ジクロロメタン；ＤＥＰ：フタル酸ジエチル；ＤＭＡＣ：ジメチルアセトアミド；ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド；ＤＰＤＯ：１，３－ジフェニルプロパン－１，３－ジオン；ＤＳ：平均置換度；ｅｑ：当量；ＥｔＯＨ：エタノール；Ｅｘ：実施例；ＦＡｋ：第１のアルキル－アシルまたは第１のアルキル－ＣＯ－；ＳＡｋ：第２のアルキル－アシルまたは第２のアルキル－ＣＯ－；ＦＡｒ：第１のアリール－アシルまたは第１のアリール－ＣＯ－；ｇ：グラム；Ｉｎｔ：中間体；ｉ－ＰｒＯＨまたはｉＰｒＯＨ：イソプロパノール；ＫＯＡｃ：酢酸カリウム；ＭＥＫ：メチルエチルケトン；ＭｅＯＨ：メタノール；ＭＩＰＫ：メチルイソプロピルケトン；ｈｒまたはｈ：時間；Ｌ：リットル；ｍｉｎ：分；ｍＬ：ミリリットル；μｍ：マイクロメートルまたはミクロン；ｍｏｌ：モル；ＮＭＩ：Ｎ－メチルイミダゾール；ＮＭＲ：核磁気共鳴；Ｎｐ：ナフトイル；ＮｐＣｌ：２－塩化ナフトイル；Ｐｒ：プロピオニル；ＲＢＦ：丸底フラスコ；ＲＭ：反応混合物；ｒｔ：室温；ＳＡｒ：第２のアリール－アシルまたは第２のアリール－ＣＯ－；Ｔｏｔ．：合計；ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸；ＴＦＡＡ：無水トリフルオロ酢酸。
【0110】
ＮＭＲ特性評価：プロトンＮＭＲデータを、６００ＭＨｚで操作するＪＥＯＬ Ｍｏｄｅｌ Ｅｃｌｉｐｓｅ－６００ ＮＭＲ分光計で入手した。サンプル管のサイズは５ｍｍであり、サンプル濃度は、１ｍＬのＤＭＳＯ－ｄ６当たり約２０ｍｇだった。各スペクトルを、６４のスキャンおよび１５秒のパルス遅延を用いて８０℃で記録した。１～２滴のトリフルオロ酢酸－ｄを各サンプルに添加して、目的のスペクトル領域から残留水をシフトした。内部基準としてＤＭＳＯ－ｄ６の中心ピークを用いてテトラメチルシランから化学シフトを１００万分の１（「ｐｐｍ」）で報告する（２．４９ｐｐｍ）。
【0111】
定量的１３Ｃ ＮＭＲデータを、１００ＭＨｚで操作するＪＥＯＬ Ｍｏｄｅｌ ＧＸ－４００ ＮＭＲ分光計で入手した。サンプル管のサイズは１０ｍｍであり、サンプル濃度は、１ｍＬのＤＭＳＯ－ｄ６当たり約１００ｍｇ／ｍＬだった。緩和剤としてのセルロースエステル１００ｍｇ当たり５ｍｇで、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトネートを各サンプルに添加した。各スペクトルは、典型的には、１００００のスキャンおよび１秒のパルス遅延を用いて、８０℃で記録した。内部基準としてＤＭＳＯ－ｄ６の中心ピークを用いてテトラメチルシランから化学シフトをｐｐｍで報告する（３９．５ｐｐｍ）。
【0112】
ＵＳ２０１２／０２６２６５０で開示された手順を適応することによって、セルロースエステルのさまざまなアシル基のプロトンおよび炭素ＮＭＲ割当、置換度および相対的置換度（「ＲＤＳ」）を決定した。
【0113】
ＤＭＴＡ測定を、５分間の等温温度に設定したＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製のＤＭＡ Ｑ８００で行い、後続して３℃／ｍｉｎでの２５℃～２３０℃への温度ランプ上で行った。振動ずれは０．１％で設定した。
【0114】
フィルムの調製のためのセルロースエステル溶液およびフィルム調製物は、ＵＳ２０１２／０２６２６５０に開示される手順を適応することによって作製した。
フィルムキャスティングのためのドープ溶液調製：セルロースエステル固形物および添加剤を溶媒に添加して、セルロースエステルおよび可塑剤の総重量に対して８～１６ｗｔ％の最終濃度を得た。混合物を密封し、ローラー上に置き、２４時間混合して均一な溶液を作製した。
フィルムキャスティングのためのドープ溶液調製：セルロースエステル固形物および添加剤を溶媒に添加して、セルロースエステルおよび可塑剤の総重量に対して８～１６ｗｔ％の最終濃度を得た。混合物を密封し、ローラー上に置き、２４時間混合して均一な溶液を作製した。
【0115】
溶液調製に使用される溶媒は、これらに限定されないが、ＣＰＮ、ＭＥＫ、ＤＣＭ／アセトン＝９０／１０（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ＝９０／１０（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ＝９５／５（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＥｔＯＨ＝９０／１０（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＥｔＯＨ＝９５／５（ｗｔ／ｗｔ）、およびＭＥＫ／ＭＩＰＫ＝２０／８０（ｗｔ／ｗｔ）であってもよい。
【0116】
フィルムキャスティング：フィルム（１．１～１．９、２．１）の場合、上記で調製した溶液を、ドクターブレードを使用して、ガラス薄板上にキャスティングして、所望の厚さのフィルムを得た。キャスティングは、４５％～５０％に制御した相対湿度下の換気フード中で行った。キャスティング後、ＤＣＭ／アセトン＝９０／１０（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＥｔＯＨ＝９０／１０（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＥｔＯＨ＝９５／５（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ＝９０／１０（ｗｔ／ｗｔ）、ＤＣＭ／ＭｅＯＨ＝９５／５（ｗｔ／ｗｔ）を溶媒として使用した場合、特に断りのない限り、カバーパン下でフィルムを４５分間乾燥させて、溶媒の蒸発速度を最小限にした後でパンを取り除いた。パンが取り除かれたままフィルムを１５分間乾燥させた。フィルムをガラス基板上で静置し、強制空気オーブン中、１００℃で１０分間焼きなました。ＭＥＫまたはＭＥＫ／ＭＩＰＫ＝２０／８０（ｗｔ／ｗｔ）を溶媒として使用した場合、特に断りのない限り、フィルムを８５℃のオーブン中で１５分間乾燥し、強制空気オーブン中、１００℃で１０分間焼きなました。フィルムを９つの部分で測定した。フィルム３．１、４．１、４．２、５．１、５．２、６．１、６．２、７．１、および７．２の場合、上記で調製したドープを、ドクターブレードを使用して、ガラス板上にキャスティングして、所望の厚さのフィルムを得た。キャスティングは、４５％～５０％に制御した相対湿度下の換気フード中で行った。カバーパン下でフィルムを６０分間乾燥させて、溶媒の蒸発速度を最小限にした後でパンを取り除いた。パンが取り除かれたままフィルムを１５分間乾燥させ、次いで、フィルムをガラスから剥がし、強制空気オーブン中、１００℃で１０分間焼きなました。
【0117】
光学的測定：フィルムの光学的リタデーションおよび分散の測定は、３７０～１０００ｎｍのスペクトル領域を有するＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ Ｍ－２０００Ｖ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃｃ Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒまたは２５０～２５００ｎｍのスペクトル領域を有するＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ ＲＣ２ Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒを使用して行った。Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌａｍ Ｃｏ．，Ｉｎｃ．製のＲｅｔＭｅａｓ（リタデーション測定）プログラムを使用して光学フィルムの面内リタデーション（Ｒｅ）および面外リタデーション（Ｒｔｈ）を得た。フィルム厚さは、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ Ｐｒｉｓｍ Ｃｏｕｐｌｅｒ ２０１０（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ Ｃｏｒｐ．製）または手持ち型Ｐｏｓｉｔｅｃｔｏｒ ６０００を使用して測定した。ヘイズおよびｂ＊の測定は、拡散透過率モード（２．５４ｃｍ（１インチ）直径のポート）のＨｕｎｔｅｒＬａｂ Ｕｌｔｒａｓｃａｎ ＶＩＳ比色計を使用して行った。
【0118】
化学薬品：１，３－ジフェニルプロパン－１，３－ジオンは、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｓｉｇｍａから購入し、アヴォベンゾンは、東京化成工業株式会社（ＴＣＩ）から購入し、Ｔｉｎｕｖｉｎ １５７７は、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．から購入し、Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７９はＢＡＳＦから購入した。
【0119】
中間体１（ＣＰｒ、ＤＳｐｒ＝１．１３）
４口丸底フラスコに、Ｎ２雰囲気下、オーバーヘッド攪拌および底弁を用いて、ｉＰｒＯＨ（２５９ｇ）を添加した。ジャケットは４１℃に設定した。反応容器に、Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ ４８２－２０（６０ｇ）を添加し、ＲＭを４０分間攪拌した。ＲＭに、ＡｃＯＨ（４．６３ｇ、０．４１当量）およびＤＭＳＯ（２５９ｇ）中のＮ２Ｈ４・Ｈ２Ｏ（１８．０ｇ、１．８９当量）を添加した。ＲＭを２４時間攪拌した。水を添加することによって粗生成物を沈降させた。粗生成物をウォッシュバッグで濾過し、多量の水で洗浄した。固形物をアルミニウムパンに移し、真空下（６０℃）で終夜乾燥して標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳｐｒ＝１．１３、ＤＳＯＨ＝１．８７、Ｃ２ＤＳ＝０．２６、Ｃ３ＤＳ＝０．３４、Ｃ６ＤＳ＝０．５３。
４口丸底フラスコに、Ｎ２雰囲気下、オーバーヘッド攪拌および底弁を用いて、ｉＰｒＯＨ（２５９ｇ）を添加した。ジャケットは４１℃に設定した。反応容器に、Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ ４８２－２０（６０ｇ）を添加し、ＲＭを４０分間攪拌した。ＲＭに、ＡｃＯＨ（４．６３ｇ、０．４１当量）およびＤＭＳＯ（２５９ｇ）中のＮ２Ｈ４・Ｈ２Ｏ（１８．０ｇ、１．８９当量）を添加した。ＲＭを２４時間攪拌した。水を添加することによって粗生成物を沈降させた。粗生成物をウォッシュバッグで濾過し、多量の水で洗浄した。固形物をアルミニウムパンに移し、真空下（６０℃）で終夜乾燥して標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳｐｒ＝１．１３、ＤＳＯＨ＝１．８７、Ｃ２ＤＳ＝０．２６、Ｃ３ＤＳ＝０．３４、Ｃ６ＤＳ＝０．５３。
【0120】
中間体２（ＣＰｒ、ＤＳＰｒ＝１．１６）
Ｉｎｔ ２は、Ｉｎｔ １の調製手順を適応するが、例外としてＮ２Ｈ４・Ｈ２Ｏ（１．８７当量）およびＡｃＯＨ（０．４当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０当量）に添加することによって調製した。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳｐｒ＝１．１６、ＤＳＯＨ＝１．８４、Ｃ２ＤＳ＝０．２６、Ｃ３ＤＳ＝０．３２、Ｃ６ＤＳ＝０．５７。
Ｉｎｔ ２は、Ｉｎｔ １の調製手順を適応するが、例外としてＮ２Ｈ４・Ｈ２Ｏ（１．８７当量）およびＡｃＯＨ（０．４当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０当量）に添加することによって調製した。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳｐｒ＝１．１６、ＤＳＯＨ＝１．８４、Ｃ２ＤＳ＝０．２６、Ｃ３ＤＳ＝０．３２、Ｃ６ＤＳ＝０．５７。
【0121】
中間体３（ＣＰｒ２ＥＨ、ＤＳｐｒ＝１．１３およびＤＳ２ＥＨ＝０．４９）
窒素雰囲気下、オーバーヘッド機械的攪拌子を備えたジャケット付き４口樹脂窯反応フラスコに、無水ＤＭＡＣ（１．８６ｍｏｌ）およびＮＭＩ（０．３９ｍｏｌ）を添加した。Ｉｎｔ １（０．０８９モル）をＲＭに添加し、ＲＭを（３０℃で）４８時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（０．０８９モル）中の２－ＥＨＣｌ（０．５２モル）を２５分にわたってゆっくり添加した。ＲＭを（７０℃で）１６時間攪拌し、水（４Ｌ）を添加することによって粗生成物を沈降させた。固形物を集め、脱イオン水で６時間連続的に洗浄し、真空下（５５℃）で終夜乾燥して標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳＰｒ＝１．１３、ＤＳ２ＥＨ＝０．４９、ＤＳＯＨ＝１．３８、Ｃ２ＤＳ＝０．３８、Ｃ３ＤＳ＝０．４０、Ｃ６ＤＳ＝０．８５。
窒素雰囲気下、オーバーヘッド機械的攪拌子を備えたジャケット付き４口樹脂窯反応フラスコに、無水ＤＭＡＣ（１．８６ｍｏｌ）およびＮＭＩ（０．３９ｍｏｌ）を添加した。Ｉｎｔ １（０．０８９モル）をＲＭに添加し、ＲＭを（３０℃で）４８時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（０．０８９モル）中の２－ＥＨＣｌ（０．５２モル）を２５分にわたってゆっくり添加した。ＲＭを（７０℃で）１６時間攪拌し、水（４Ｌ）を添加することによって粗生成物を沈降させた。固形物を集め、脱イオン水で６時間連続的に洗浄し、真空下（５５℃）で終夜乾燥して標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳＰｒ＝１．１３、ＤＳ２ＥＨ＝０．４９、ＤＳＯＨ＝１．３８、Ｃ２ＤＳ＝０．３８、Ｃ３ＤＳ＝０．４０、Ｃ６ＤＳ＝０．８５。
【0122】
実施例１
Ｅｘ１は、ＵＳ２０１７０３０６０５４（Ｅｘ１２、表３）に記載のとおりに調製した。
Ｅｘ１は、ＵＳ２０１７０３０６０５４（Ｅｘ１２、表３）に記載のとおりに調製した。
【0123】
実施例２
Ｅｘ２は、ＵＳ出願第６２／８９１５６１号（Ｅｘ７、表９）に記載の手順に従って調製した。
Ｅｘ２は、ＵＳ出願第６２／８９１５６１号（Ｅｘ７、表９）に記載の手順に従って調製した。
【0124】
実施例３（ＣＰｒ２ＥＨＢｚ）
窒素雰囲気下、ＤＭＡＣ（８６ｍＬ、２１．２モル当量）および１ＭＩＭ（１６ｍＬ、４．５モル当量）を含有するＲＢフラスコ中に攪拌混合物に、真空下で終夜乾燥したＩｎｔ３（１０ｇ、１．０モル当量）を添加した。ＲＭを２６℃で４時間攪拌し、次いでＤＭＡＣ（１４ｍＬ）中のＢｚＣｌ（５．１ｇ、０．９１モル当量）をゆっくり１時間にわたってＲＭ中に添加した。ＲＭを２６℃で１４時間攪拌した。粗生成物をｉＰｒＯＨ（２．２Ｌ）中に沈降させ、固形物を水で洗浄（２×５００ｍＬ）し、連続的に脱イオン水で５時間洗浄し、真空下で終夜乾燥して、標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤｓＰｒ＝１．１３、Ｄｓ２ＥＨ＝０．４９、ＤｓＢｚ＝０．９６、Ｃ２ＤＳ＝０．９４、Ｃ３ＤＳ＝０．６３、Ｃ６ＤＳ＝１．００。
窒素雰囲気下、ＤＭＡＣ（８６ｍＬ、２１．２モル当量）および１ＭＩＭ（１６ｍＬ、４．５モル当量）を含有するＲＢフラスコ中に攪拌混合物に、真空下で終夜乾燥したＩｎｔ３（１０ｇ、１．０モル当量）を添加した。ＲＭを２６℃で４時間攪拌し、次いでＤＭＡＣ（１４ｍＬ）中のＢｚＣｌ（５．１ｇ、０．９１モル当量）をゆっくり１時間にわたってＲＭ中に添加した。ＲＭを２６℃で１４時間攪拌した。粗生成物をｉＰｒＯＨ（２．２Ｌ）中に沈降させ、固形物を水で洗浄（２×５００ｍＬ）し、連続的に脱イオン水で５時間洗浄し、真空下で終夜乾燥して、標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤｓＰｒ＝１．１３、Ｄｓ２ＥＨ＝０．４９、ＤｓＢｚ＝０．９６、Ｃ２ＤＳ＝０．９４、Ｃ３ＤＳ＝０．６３、Ｃ６ＤＳ＝１．００。
【0125】
実施例４（ＣＰｒ２ＥＨＢｚ）
Ｅｘ４は、Ｅｘ３の調製手順を適応することによって調製した。Ｅｘ５の場合、Ｉｎｔ３（１０ｇ、１．０モル当量）およびＢｚＣｌ（５．４８ｇ、１．０６モル当量）を使用した。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤｓＰｒ＝１．１３、Ｄｓ２ＥＨ＝０．４９、ＤｓＢｚ＝１．０２、Ｃ２ＤＳ＝０．９４、Ｃ３ＤＳ＝０．６８、Ｃ６ＤＳ＝１．００。
Ｅｘ４は、Ｅｘ３の調製手順を適応することによって調製した。Ｅｘ５の場合、Ｉｎｔ３（１０ｇ、１．０モル当量）およびＢｚＣｌ（５．４８ｇ、１．０６モル当量）を使用した。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤｓＰｒ＝１．１３、Ｄｓ２ＥＨ＝０．４９、ＤｓＢｚ＝１．０２、Ｃ２ＤＳ＝０．９４、Ｃ３ＤＳ＝０．６８、Ｃ６ＤＳ＝１．００。
【0126】
実施例５
一般的手順は、出願ＷＯ２０１９１９０７５６Ａ１（中間体１および実施例１の調製）に記載されていた。
一般的手順は、出願ＷＯ２０１９１９０７５６Ａ１（中間体１および実施例１の調製）に記載されていた。
【0127】
ステップ（１）中間体４（クロトン酸セルロース）（ＤｓＣｒ＝１．３９）の調製
１ＡＲＹセルロースパルプ（７０ｇ、１．０当量、５ｗｔ％）を、冷やした（２５℃の）ジャケット付き反応窯に添加した。次いで、ＴＦＡＡ（１５１ｇ、１．６７当量）のＴＦＡ（１１８０ｇ、２４当量）溶液を、オーバーヘッド攪拌しながら、冷やしたセルロース固形物に添加した。添加を完了した後、ＲＭを５５℃で加熱し、１６時間攪拌し、次いで室温まで冷却した。次いで、トランス－クロトン酸（５２．０ｇ、１．４当量）、ＴＦＡ（１０ｍＬ）、およびＴＦＡＡ（１５４ｇ、１．７当量）の溶液を調製し、４５分間攪拌した。結果として得られた試薬混合物を、室温で、ＲＭに添加し、結果として得られたＲＭを８時間攪拌した。ＲＭを脱イオン水（１０００ｍＬ）で処理し、濾過した固体材料を得た。固形物をｉＰｒＯＨ中に懸濁し、３０分間攪拌し、混合物を濾過した。結果として得られた固形物を水性ＫＯＡｃ（５Ｍ、２０００ｍＬ）中に懸濁し、３６時間攪拌した。固形物を濾過して集め、脱イオン水で８時間連続的に洗浄し、真空下（６０℃、１２時間）で乾燥して標題中間体を得た。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳＣｒ＝１．３９、ＤＳＯＨ＝１．６１、Ｃ２ＤＳ＝０．６１、Ｃ３ＤＳ＝０．７２、Ｃ６ＤＳ＝０．０５。
１ＡＲＹセルロースパルプ（７０ｇ、１．０当量、５ｗｔ％）を、冷やした（２５℃の）ジャケット付き反応窯に添加した。次いで、ＴＦＡＡ（１５１ｇ、１．６７当量）のＴＦＡ（１１８０ｇ、２４当量）溶液を、オーバーヘッド攪拌しながら、冷やしたセルロース固形物に添加した。添加を完了した後、ＲＭを５５℃で加熱し、１６時間攪拌し、次いで室温まで冷却した。次いで、トランス－クロトン酸（５２．０ｇ、１．４当量）、ＴＦＡ（１０ｍＬ）、およびＴＦＡＡ（１５４ｇ、１．７当量）の溶液を調製し、４５分間攪拌した。結果として得られた試薬混合物を、室温で、ＲＭに添加し、結果として得られたＲＭを８時間攪拌した。ＲＭを脱イオン水（１０００ｍＬ）で処理し、濾過した固体材料を得た。固形物をｉＰｒＯＨ中に懸濁し、３０分間攪拌し、混合物を濾過した。結果として得られた固形物を水性ＫＯＡｃ（５Ｍ、２０００ｍＬ）中に懸濁し、３６時間攪拌した。固形物を濾過して集め、脱イオン水で８時間連続的に洗浄し、真空下（６０℃、１２時間）で乾燥して標題中間体を得た。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳＣｒ＝１．３９、ＤＳＯＨ＝１．６１、Ｃ２ＤＳ＝０．６１、Ｃ３ＤＳ＝０．７２、Ｃ６ＤＳ＝０．０５。
【0128】
ステップ２、Ｅｘ５（クロトン酸安息香酸セルロース）（ＤｓＣｒ＝１．３９、ＤｓＢｚ＝０.９４）の調製
オーブン乾燥した１０００ｍＬのジャケット付き３口丸底フラスコ（機械的攪拌子を備える）に、Ｉｎｔ １１（２０ｇ、１．０当量）、後続してピリジン（１５０ｍＬ）およびＤＭＡＣ（５０ｍＬ）をジャケット付き丸底フラスコにＮ２雰囲気下で添加した。ＲＭを、窒素の雰囲気下で固体添加用漏斗を使用して投入した。ＲＭを５０℃まで加熱し、固体が溶解するまで混合物を攪拌し、次いでＲＭを２５℃まで冷却した。次いでＢｚＣｌ（１５．０８ｇ、１．４当量）を２５℃で２分にわたって添加し、ＲＭを３０分間攪拌した後、５０℃で終夜攪拌した。アセトン（約１５０ｍＬ）をＲＭに添加し、後続して脱イオン水（２２００ｍＬ）を添加して粗生成物を沈降させた。粗生成物を濾過し、ｉＰｒＯＨ：水の１：１溶液で洗浄した（２×）。粗生成物を脱イオン水で少なくとも５時間連続的に洗浄し、固形物を濾過して集め、真空（２２．５ｍｍ Ｈｇ、６０℃）下で終夜乾燥した。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳＣｒ＝１．３９、ＤＳＢｚ＝０．９４、ＤＳＯＨ＝０．２９、Ｃ２ＤＳ＝０．８３、Ｃ３ＤＳ＝０．８９、Ｃ６ＤＳ＝０．９９。
オーブン乾燥した１０００ｍＬのジャケット付き３口丸底フラスコ（機械的攪拌子を備える）に、Ｉｎｔ １１（２０ｇ、１．０当量）、後続してピリジン（１５０ｍＬ）およびＤＭＡＣ（５０ｍＬ）をジャケット付き丸底フラスコにＮ２雰囲気下で添加した。ＲＭを、窒素の雰囲気下で固体添加用漏斗を使用して投入した。ＲＭを５０℃まで加熱し、固体が溶解するまで混合物を攪拌し、次いでＲＭを２５℃まで冷却した。次いでＢｚＣｌ（１５．０８ｇ、１．４当量）を２５℃で２分にわたって添加し、ＲＭを３０分間攪拌した後、５０℃で終夜攪拌した。アセトン（約１５０ｍＬ）をＲＭに添加し、後続して脱イオン水（２２００ｍＬ）を添加して粗生成物を沈降させた。粗生成物を濾過し、ｉＰｒＯＨ：水の１：１溶液で洗浄した（２×）。粗生成物を脱イオン水で少なくとも５時間連続的に洗浄し、固形物を濾過して集め、真空（２２．５ｍｍ Ｈｇ、６０℃）下で終夜乾燥した。１Ｈ ＮＭＲ、１３Ｃ ＮＭＲ：ＤＳＣｒ＝１．３９、ＤＳＢｚ＝０．９４、ＤＳＯＨ＝０．２９、Ｃ２ＤＳ＝０．８３、Ｃ３ＤＳ＝０．８９、Ｃ６ＤＳ＝０．９９。
【0129】
Ｅｘ６（ＣＰｒＢｚ）
窒素雰囲気下、ＤＭＡＣ（１７２ｍＬ、２１．２モル当量）および１－メチルイミダゾール（３２ｍＬ、４．５モル当量）を含有するＲＢフラスコ中の攪拌混合物に、真空下で終夜乾燥したＩｎｔ２（２０ｇ、１．０モル当量）を添加した。ＲＭを５０℃で４時間攪拌し、２６℃に冷却し、次いでＢｚＣｌ（１４．２ｇ、ＤＭＡＣ（１４ｍＬ）中１．３モル当量）をゆっくり１時間にわたってＲＭ中に添加した。ＲＭを２６℃で１４時間攪拌した。粗生成物は、沈降したｉＰｒＯＨ（２．２Ｌ）であり、固形物を水（２×５００ｍＬ）で洗浄し、脱イオン水で５時間連続的に洗浄し、真空下で終夜乾燥して標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤｓＰｒ＝１．１８、ＤｓＢｚ＝１．２５（表１）。
窒素雰囲気下、ＤＭＡＣ（１７２ｍＬ、２１．２モル当量）および１－メチルイミダゾール（３２ｍＬ、４．５モル当量）を含有するＲＢフラスコ中の攪拌混合物に、真空下で終夜乾燥したＩｎｔ２（２０ｇ、１．０モル当量）を添加した。ＲＭを５０℃で４時間攪拌し、２６℃に冷却し、次いでＢｚＣｌ（１４．２ｇ、ＤＭＡＣ（１４ｍＬ）中１．３モル当量）をゆっくり１時間にわたってＲＭ中に添加した。ＲＭを２６℃で１４時間攪拌した。粗生成物は、沈降したｉＰｒＯＨ（２．２Ｌ）であり、固形物を水（２×５００ｍＬ）で洗浄し、脱イオン水で５時間連続的に洗浄し、真空下で終夜乾燥して標題化合物を得た。１Ｈ ＮＭＲおよび１３Ｃ ＮＭＲ：ＤｓＰｒ＝１．１８、ＤｓＢｚ＝１．２５（表１）。
【0130】
Ｅｘ７（ＣＰｒＢｚ）
Ｅｘ７は、同様の手順で、ただし例外として１．５モル当量のＢｚＣｌを添加して調製した。
Ｅｘ７は、同様の手順で、ただし例外として１．５モル当量のＢｚＣｌを添加して調製した。
【0131】
表１は、位置選択的に置換されたセルロースエステルＥｘ１～７についての特性評価の情報の概要を提供する。
【0132】
【表1】
【0133】
表２は、フィルムをキャスティングするために使用される溶媒系と共に成分Ａを用いて配合されたさまざまな位置選択的に置換されたセルロースエステルから調製されたフィルムの特性評価を提供する。
【0134】
フィルム中の成分Ａおよび可塑剤のパーセンテージは、以下のとおりに規定する。成分Ａまたは可塑剤のパーセンテージ＝成分Ａまたは可塑剤の重量／（セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤および添加する他のすべての成分）の総重量。
【0135】
ドープ溶液の濃度は、以下のように規定される。ドープ溶液の濃度＝（溶媒を除外したセルロースエステル、成分Ａ、可塑剤および添加される他のすべての成分）の総重量／（セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤、添加される他のすべての成分および溶媒）の総重量。
【0136】
例えば、フィルム１．３の場合、樹脂１（５ｇ、９０ｗｔ％）および成分Ａ（０．５５６ｇ、１０ｗｔ％）をＭＥＫ：ＭＩＰＫ（２０：８０）（４０．７４ｇ、１２ｗｔ％の濃度）中に添加した。全成分が完全に混合して透明の溶液が得られるまで、混合物をローラー上に置いた。
【0137】
【表2】
【0138】
表３に示すように、対照フィルムサンプルと比較して、本発明のフィルムサンプルは、改善された波長分散を示した。例えば、フィルム１．１（対照）と比較して、フィルム１．２および１．３は、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．０７以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９６以上の改善された波長分散を示した。さらに、フィルム１．６および１．８は、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．０５以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９６以上のさらに改善された波長分散を示した。フィルム１．４、１．５，１．７および１．９は、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９２以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．０以上のさらに改善された波長分散を示した。
【0139】
フィルム２．１（対照）と比較して、フィルム２．２はまた、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．０５以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９６以上の改善された波長分散を示した。
【0140】
フィルム３．１と比較して、フィルム３．２はまた、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．０３以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９７以上の改善された波長分散を示した。
【0141】
フィルム４．１と比較して、フィルム４．２はまた、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９４以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．００以上の改善された波長分散を示した。
【0142】
フィルム５．１と比較して、フィルム５．２はまた、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９８以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９８以上の改善された波長分散を示した。
【0143】
フィルム６．１、６．２、７．１および７．２は、Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が１．０以下であり、Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）が０．９８以上の波長分散を有する。
【0144】
表３は、フィルムについての追加の光情報の概要を提供する。
【0145】
【表3】
【図1】
【図2】
【国際調査報告】