特表 2023-519151 供給装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2023-05-10

(54)【発明の名称】供給装置

(51)【国際特許分類】

   B05B 1/20 20060101AFI20230428BHJP

【ＦＩ】

B05B1/20

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2022552896

(86)(22)【出願日】2021-03-02

(85)【翻訳文提出日】2022-11-02

(86)【国際出願番号】 US2021020518

(87)【国際公開番号】W WO2021178436

(87)【国際公開日】2021-09-10

(31)【優先権主張番号】202010139401.0

(32)【優先日】2020-03-03

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】591203428

【氏名又は名称】イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド

(74)【代理人】

【識別番号】100099759

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 篤

(74)【代理人】

【識別番号】100123582

【弁理士】

【氏名又は名称】三橋 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100153729

【弁理士】

【氏名又は名称】森本 有一

(74)【代理人】

【識別番号】100211177

【弁理士】

【氏名又は名称】赤木 啓二

(72)【発明者】

【氏名】クオホア リウ

【テーマコード（参考）】

4F033

【Ｆターム（参考）】

4F033AA04

4F033BA02

4F033DA05

4F033EA06

4F033NA01

(57)【要約】

本出願は、電子部品を加工する供給装置を提供する。供給装置は、第１のトラック部品及び第２のトラック部品と、第１の流れ誘導部品及び第２の流れ誘導部品とを備え、第１の流れ誘導部品は、第１のトラック部品の頂部に配置され、第２の流れ誘導部品は、第２のトラック部品の頂部に配置され、第１の流れ誘導部品は、互いに連通する少なくとも１つの第１のガス入口及び少なくとも１つの第１のガス出口を有し、少なくとも１つの第１のガス入口は、清浄ガス源と連通し、第２の流れ誘導部品は、互いに連通する少なくとも１つの第２のガス入口及び少なくとも１つの第２のガス出口を有し、少なくとも１つの第２のガス入口は、第１のガス出口を向くように配置され、少なくとも１つの第２のガス出口はガス排出動力装置と連通し、その結果、清浄ガスは、少なくとも１つの第１のガス出口から少なくとも１つの第２のガス入口に向かって流れることができ、これにより、加工される電子部品の上に清浄ガス領域を形成し、加工中における不純物による汚染を避ける。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

電子部品を加工する供給装置において、
並列に配置され、加工される電子部品を保持する第１のトラック部品（１０１）及び第２のトラック部品（１０２）と、
第１の流れ誘導部品（１０３）及び第２の流れ誘導部品（１０４）であって、該第１の流れ誘導部品（１０３）は、前記第１のトラック部品（１０１）の頂部に配置され、該第２の流れ誘導部品（１０４）は、前記第２のトラック部品（１０２）の頂部に配置され、該第１の流れ誘導部品（１０３）は第１の内側部（２１４）を有し、該第２の流れ誘導部品（１０４）は第２の内側部（３１４）を有し、該第１の内側部（２１４）及び該第２の流れ誘導部品の内側部（３１４）は互いに対面するように配置される、第１の流れ誘導部品（１０３）及び第２の流れ誘導部品（１０４）とを具備し、
前記第１の流れ誘導部品（１０３）は、互いに連通する少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）及び少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）を有し、前記少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）は、清浄ガス源と連通し、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）は、前記第１の流れ誘導部品（１０３）の前記第１の内側部（２１４）に配置され、前記第２の流れ誘導部品（１０４）は、互いに連通する少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）及び少なくとも１つの第２のガス出口（３０２）を有し、前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）は、前記第２の流れ誘導部品（１０３）の前記第２の内側部（３１４）に配置され、前記少なくとも１つの第２のガス出口（３０２）はガス排出動力装置と連通し、その結果、清浄ガスは、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）から前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）に向かって流れることができ、これにより、加工される前記電子部品の上に清浄ガス領域を形成することを特徴とする供給装置。

【請求項2】

前記第１の流れ誘導部品（１０３）は、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）にそれぞれ対応する少なくとも１つの送出チャネル（４０５）を有し、該少なくとも１つの送出チャネル（４０５）は、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）から前記第１の流れ誘導部品（１０３）の内部へと延在するように形成され、前記第１のトラック部品（１０１）に垂直な長さ方向における前記送出チャネル（４０５）の高さは、前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）から内側に向かって徐々に減少することを特徴とする請求項１に記載の供給装置。

【請求項3】

前記少なくとも１つの第１のガス出口（２０４）は、複数のガス出口と、該複数のガス出口にそれぞれ対応する複数の送出チャネルとを含み、前記複数のガス出口は、前記第１の流れ誘導部品（１０３）の長さ方向において分散されることを特徴とする請求項２に記載の供給装置。

【請求項4】

前記第１の流れ誘導部品（１０３）は第１の収容キャビティ（４０３）を有し、該第１の収容キャビティ（４０３）は、前記第１の流れ誘導部品（１０３）の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）及び前記少なくとも１つの送出チャネル（４０５）と連通することを特徴とする請求項２に記載の供給装置。

【請求項5】

前記第１の流れ誘導部品（１０３）の前記長さ方向における前記複数のガス出口のうちの最初のガス出口の外面と最後のガス出口の外面との間の距離は、加工される電子部品の長さ以上であることを特徴とする請求項３に記載の供給装置。

【請求項6】

前記第２の流れ誘導部品（１０４）は、前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）に対応する少なくとも１つの導入チャネル（５０５）を有し、該少なくとも１つの導入チャネル（５０５）は、前記第２のガス入口（３０４）から前記第２の流れ誘導部品（１０４）の内部へと延在するように形成され、前記第２のトラック部品（１０２）に垂直な長さ方向における前記少なくとも１つの導入チャネル（５０５）の高さは、前記第２のガス入口（３０４）から内側に向かって徐々に減少することを特徴とする請求項２に記載の供給装置。

【請求項7】

前記少なくとも１つの第２のガス入口（３０４）は、複数のガス入口と、該複数のガス入口にそれぞれ対応する複数の導入チャネルとを含み、前記複数のガス入口は、前記第２の流れ誘導部品の長さ方向において分散され、
前記第２の流れ誘導部品（１０４）は、第２の収容キャビティ（５０３）を有し、該第２の収容キャビティ（５０３）は、前記第２の流れ誘導部品（１０４）の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第２のガス出口（３０２）及び前記少なくとも１つの導入チャネル（５０５）と連通することを特徴とする請求項６に記載の供給装置。

【請求項8】

前記第１の流れ誘導部品（１０３）の内面と前記第２の流れ誘導部品（１０４）の内面との間の距離は、加工される前記電子部品の幅よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の供給装置。

【請求項9】

入口端部（６３０）及び出口端部（６４０）を有する空気濾過装置（６０８）であって、前記入口端部（６３０）は空気源と連通し、前記出口端部（６４０）は前記少なくとも１つの第１のガス入口（２０２）と連通し、該空気濾過装置（６０８）は、清浄空気を前記第１の流れ誘導部品（１０３）に供給する空気濾過装置（６０８）を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の供給装置。

【請求項10】

前記第２のガス出口（３０３）と連通し、該第２のガス出口（３０２）から流出する空気を浄化可能なガス処理装置（７２０）を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の供給装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

［関連出願］
本出願は、２０２０年３月３日に出願された中国特許出願第２０２０１０１３９４０１．０号の利益を主張する。中国特許出願第２０２０１０１３９４０１．０号の全体が引用することにより明示的に本明細書の一部をなす。

【0002】

本出願は、供給装置に関し、特に、電子部品加工の分野において使用される供給装置に関する。

【背景技術】

【0003】

電子部品加工の分野において、供給装置を使用して流体液滴を電子部品の表面上又は電子部品内に供給することが必要であり、流体供給工程において、流体又は加工が行われる電子部品の領域を塵又は不純物が汚染した場合、電子部品の加工品質に影響が及ぶ。したがって、塵又は不純物による汚染を可能な限り避けるために、電子部品の加工領域内の空気の清浄度を保証することが必要である。

【発明の概要】

【0004】

本出願は、動作中における塵又は不純物による汚染を効果的に避けることができる供給装置を提供する。該供給装置は、並列に配置され、加工される電子部品を保持する第１のトラック部品及び第２のトラック部品と、第１の流れ誘導部品及び第２の流れ誘導部品であって、該第１の流れ誘導部品は、前記第１のトラック部品の頂部に配置され、該第２の流れ誘導部品は前記第２のトラック部品の頂部に配置され、該第１の流れ誘導部品は第１の内側部を有し、該第２の流れ誘導部品は第２の内側部を有し、該第１の内側部及び該第２の流れ誘導部品の内側部は、互いに対面するように配置される、第１の流れ誘導部品及び第２の流れ誘導部品とを備え、前記第１の流れ誘導部品は、互いに連通する少なくとも１つの第１のガス入口及び少なくとも１つの第１のガス出口を有し、前記少なくとも１つの第１のガス入口は、清浄ガス源と連通し、前記少なくとも１つの第１のガス出口は、前記第１の流れ誘導部品の前記第１の内側部に配置され、前記第２の流れ誘導部品は、互いに連通する少なくとも１つの第２のガス入口及び少なくとも１つの第２のガス出口を有し、前記少なくとも１つの第２のガス入口は、前記第２の流れ誘導部品の前記第２の内側部に配置され、前記少なくとも１つの第２のガス出口はガス排出動力装置と連通し、その結果、清浄ガスは、前記少なくとも１つの第１のガス出口から前記少なくとも１つの第２のガス入口に向かって流れることができ、これにより、加工される前記電子部品の上に清浄ガス領域を形成する。

【0005】

上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品は、前記少なくとも１つの第１のガス出口にそれぞれ対応する少なくとも１つの送出チャネルを有し、該少なくとも１つの送出チャネルは、前記少なくとも１つの第１のガス出口から前記第１の流れ誘導部品の内部へと延在するように形成され、前記第１のトラック部品に垂直な長さ方向における前記送出チャネルの高さは、前記少なくとも１つの第１のガス出口から内側に向かって徐々に減少する。

【0006】

上記の供給装置において、前記少なくとも１つの第１のガス出口は、複数のガス出口と、該複数のガス出口にそれぞれ対応する複数の送出チャネルとを含み、前記複数のガス出口は、前記第１の流れ誘導部品の長さ方向において分散される。

【0007】

上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品は、第１の収容キャビティを有し、該第１の収容キャビティは、前記第１の流れ誘導部品の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第１のガス入口及び前記少なくとも１つの送出チャネルと連通する。

【0008】

上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品の前記長さ方向における前記複数のガス出口のうちの最初のガス出口の外面と最後のガス出口の外面との間の距離は、加工される電子部品の長さ以上である。

【0009】

上記の供給装置において、前記第２の流れ誘導部品は、前記少なくとも１つの第２のガス入口に対応する少なくとも１つの導入チャネルを有し、該少なくとも１つの導入チャネルは、前記第２のガス入口から前記第２の流れ誘導部品の内部へと延在するように形成され、前記第２のトラック部品に垂直な長さ方向における前記少なくとも１つの導入チャネルの高さは、前記第２のガス入口から内側に向かって徐々に減少する。

【0010】

上記の供給装置において、前記少なくとも１つの第２のガス入口は、複数のガス入口と、該複数のガス入口にそれぞれ対応する複数の導入チャネルとを含み、前記複数のガス入口は、前記第２の流れ誘導部品の長さ方向において分散され、
前記第２の流れ誘導部品は第２の収容キャビティを有し、該第２の収容キャビティは前記第２の流れ誘導部品の長さ方向において延在し、前記少なくとも１つの第２のガス出口及び前記少なくとも１つの導入チャネルと連通する。

【0011】

上記の供給装置において、前記第１の流れ誘導部品の内面と前記第２の流れ誘導部品の内面との間の距離は、加工される前記電子部品の幅よりも小さい。

【0012】

上記の供給装置は、入口端部及び出口端部を有する空気濾過装置であって、前記入口端部は空気源と連通し、前記出口端部は前記少なくとも１つの第１のガス入口と連通し、該空気濾過装置は清浄空気を前記第１の流れ誘導部品に供給する空気濾過装置を更に備える。

【0013】

上記の供給装置は前記第２のガス出口と連通し、該第２のガス出口から流出する空気を浄化可能なガス処理装置を更に備える。

【0014】

本出願において提供される供給装置は、塵及び不純物による汚染を避けるために、電子部品が加工される領域において清浄ガス領域を形成することができる。本出願において提供される供給装置は、一対の流れ誘導部品を備え、清浄ガスを有効利用し、使用する清浄ガスの量を削減し、加工領域内の空気の清浄度を保証することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1A】本出願の一実施形態における供給装置の三次元概略図である。

【図1B】図１Ａの供給装置の分解図である。

【図2A】図１Ｂの第１の流れ誘導部品１０３の三次元図である。

【図2B】第１の流れ誘導部品１０３の別の実施形態の三次元図である。

【図3】図１Ｂの第２の流れ誘導部品１０４の三次元図である。

【図4A】長さ方向に切断した図２Ａの第１の流れ誘導部品の三次元図である。

【図4B】図２Ａの第１の流れ誘導部品の断面図である。

【図5A】半径方向に切断した図３の第２の流れ誘導部品の三次元図である。

【図5B】図３の第２の流れ誘導部品の軸方向断面図である。

【図6】図１Ｂのガス輸送組立体の三次元図である。

【図7】図１Ｂのガス排出組立体の三次元図である。

【図8A】図１Ａの供給装置の部分の断面図である。

【図8B】図８Ａの部分Ｃの部分拡大図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、本明細書の一部をなす添付図面を参照しながら、本出願の種々の特定の実施形態を記載する。「正面」、「背面」、「上」、「下」、「左」、及び「右」等の方向を示す用語が、本出願の種々の実証的な構造部品及び要素を記述するために本出願において用いられているが、これらの用語は、本明細書において単に説明を容易にするために用いられているものであり、図面に示す実証的な方向に基づいて決定されていることが理解されるべきである。本出願に開示されている実施形態は、様々な方向に従って配置することができるので、方向を示すこれらの用語は、単に例示であり、限定とみなされるべきでない。

【0017】

図１Ａは、本出願の一実施形態における供給装置である。図１Ａにおいて、本出願の発明的な特徴をより明確に示すために、供給装置の一部のみを示す。図１Ｂは、図１Ａの供給装置の分解図である。供給装置は、回路基板等の電子部品の加工に使用される。供給装置は、電子部品を加工するために、はんだペースト又はシリコーングリース等の流体を電子部品の上に供給し、流体を電子部品の表面上又は電子部品の内部に滴下又は拡散する。供給装置によって電子部品が加工される工程において、供給装置内側の空気は、塵等の不純物によって汚染するおそれがあるが、加工が行われる電子部品の領域には、清浄度が比較的高い空気が必要であり、したがって、空気中の塵が、加工が行われている電子部品の領域又は供給される流体に侵入した場合、電子部品の品質に影響が及ぶおそれがある。本出願において提供される供給装置は、この問題を軽減することができる。図１Ａ、１Ｂは、供給装置の部分を示す。本出願の電子部品に近い空気の清浄度を改善することが可能な構造を示しやすくするために、図１Ａ、１Ｂにおいては、供給装置の供給組立体、ハウジング及び他の組立体のうちの幾つかを省いている。図１Ａ、１Ｂに示すように、供給装置は、基部１０５と、第１のトラック部品１０１及び第２のトラック部品１０２と、第１の流れ誘導部品１０３及び第２の流れ誘導部品１０４と、ガス輸送組立体１１０と、ガス排出組立体１２０とを備える。第１のトラック部品１０１及び第２のトラック部品１０２は、加工される電子部品１４０を保持及び搬送するために使用され、加工される電子部品１４０の２つの側部は、第１のトラック部品１０１及び第２のトラック部品１０２にそれぞれ接触する。基部１０５は、長さ方向Ｌ及び幅方向Ｗを有する。第１のトラック部品１０１及び第２のトラック部品１０２は、幅方向Ｗにおいて基部１０５上に並列に配置される。第２のトラック部品１０２は、固定式に基部１０５に接続され、基部１０５の１つの側縁部に配置される。基部１０５は、長さ方向Ｌにおいて延在する一対のスライドレール１５２を備える。第１のトラック部品１０１は、一対のスライドレール１５２によって基部１０５に摺動可能に接続され、種々の仕様の電子部品に適合するために、第１のトラック部品１０１は、基部１０５の長さ方向Ｌにおいて摺動し、これにより、第１のトラック部品１０１と第２のトラック部品１０２との間の幅を調整することができる。

【0018】

第１の流れ誘導部品１０３は、第１のトラック部品１０１の頂部に接続され、第２の流れ誘導部品１０４は、第２のトラック部品１０２の頂部に接続される。ガス輸送組立体１１０は、第１の流れ誘導部品１０３と連通し、ガス輸送組立体１１０は、清浄空気を第１の流れ誘導部品１０３に供給することができる。ガス排出組立体１２０は、第２の流れ誘導部品１０４と連通し、ガス排出組立体１２０は、第２の流れ誘導部品１０４内のガスを吸い込んで排出することができる。電子部品１４０が加工中に塵等の不純物からの干渉を全く受けないか、又は可能な限りそのような干渉を受けないように電子部品１４０を保護するために、ガス輸送組立体１１０及びガス排出組立体１２０の作用下で、清浄空気が第１の流れ誘導部品１０３から第２の流れ誘導部品１０４に向かって流れ、加工される電子部品１４０の上に清浄空気領域を形成する。

【0019】

図２Ａは、図１Ｂの第１の流れ誘導部品１０３の三次元図である。図２Ａに示すように、第１の流れ誘導部品１０３は、実質的に長いストリップの形態であり、本体２１０と接続部２１８及び２１９とを有する。接続部２１８及び２１９は、それぞれ、本体２１０の長さ方向における２つの端部から外向きに延在し、接続部２１８及び２１９は、第１の流れ誘導部品１０３への接続に使用される。第１の流れ誘導部品１０３は、第１の内側部２１４を有する。第１の流れ誘導部品１０３が第１のトラック部品１０１に取り付けられると、第１の内側部２１４は、第２の流れ誘導部品１０４の方を向く。第１の流れ誘導部品１０３の本体２１０の長さ方向における２つの端部には、一対の第１のガス入口２０２が設けられ、第１の内側部２１４には、複数の第１のガス出口２０４が設けられる。一対の第１のガス入口２０２は、複数の第１のガス出口２０４と連通する。一対の第１のガス入口２０２は、清浄空気を第１の流れ誘導部品１０３へと導くように、ガス輸送組立体１１０と連通し、清浄空気を第１のガス出口２０４から排出することができる。

【0020】

本出願の一実施形態において、第１の流れ誘導部品１０３は、第１のトラック部品１０１と実質的に同じ長さである。複数の第１のガス出口２０４は、第１の流れ誘導部品１０３の長さ方向において分散される。複数のガス出口のうちの最初のガス出口及び最後のガス出口は、それぞれ、第１の流れ誘導部品１０３の長さ方向における２つの端部に近く、これにより、複数のガス出口２０４によって生成することができる清浄ガス領域の長さは、第１のトラック部品１０１の長さに近くなる。清浄ガス領域の長さは、加工される電子部品の上に十分に大きい清浄ガス領域が形成されることを保証するように、加工される電子部品の長さと少なくとも同等である。

【0021】

図２Ｂは、本出願の流れ誘導部品の別の実施形態であり、図２Ａに示す実施形態と同様であり、相違点は、単一の第１のガス出口２４０が、第１の流れ誘導部品１０３の長さ方向において延在するように設けられ、これにより、長いストリップの形態で第１のガス出口を形成し、第１のガス出口の長さは、加工される電子部品の長さと同等であることである。この実施形態における第１のガス出口も、或る特定の清浄ガス領域を形成することができる。

【0022】

図３は、図１Ｂの第２の流れ誘導部品１０４の三次元図である。第２の流れ誘導部品１０４の構造は、第１の流れ誘導部品１０３の構造と同様である。図３に示すように、第２の流れ誘導部品１０４は、実質的に長いストリップの形態であり、本体３１０と接続部３１８及び３１９とを有する。接続部３１８及び３１９は、それぞれ、本体３１０の長さ方向における２つの端部から外向きに延在し、接続部３１８及び３１９は、第２の流れ誘導部品１０４への接続に使用される。第２の流れ誘導部品１０４は、第２の内側部３１４を有する。第２の流れ誘導部品１０４が第２のトラック部品１０２に取り付けられると、第２の内側部３１４は、第１の流れ誘導部品１０３の方を向く。すなわち、第１の内側部２１４及び第２の内側部３１４は、互いに対面するように配置される。第２の流れ誘導部品１０４の本体３１０の長さ方向における２つの端部には、一対の第２のガス出口３０２が設けられ、第２の内側部３１４には、複数の第２のガス入口３０４が設けられる。一対の第２のガス出口３０２は、複数の第２のガス入口３０４と連通する。一対の第２のガス出口３０２は、ガス排出組立体１２０と連通し、これにより、清浄空気は、第２のガス入口３０４を通して第２の流れ誘導部品１０４へと導かれ、第２のガス出口３０２から排出されるようになっている。第２の流れ誘導部品１０４及び第１の流れ誘導部品１０３は、構造的に対称であるが、内部ガス流れ方向が異なる。

【0023】

本出願においては、第２の流れ誘導部品１０４及び第１の流れ誘導部品１０３は、対称的に配置されるが、他の実施形態においては、第２の流れ誘導部品は第１の流れ誘導部品１０３とは構造的に異なってもよい。例えば、第２のガス入口３０４の数及びサイズは、第２のガス入口３０４が第２の内側部３１４に配置される限り、第１のガス出口２０４の数及びサイズとは異なる。第２のガス入口３０４は、長さ方向において延在する単一の入口としてもよく、又は異なるサイズの複数の入口の組み合わせとしてもよい。

【0024】

図４Ａは、長さ方向に切断した図２Ａの第１の流れ誘導部品の三次元図であり、図４Ｂは、線Ａ－Ａに沿って切断した図２Ａの第１の流れ誘導部品の横断面図である。図４Ａに示すように、第１の流れ誘導部品１０３は、第１の収容キャビティ４０３と複数の送出チャネル４０５とを有する。第１の収容キャビティ４０３は、複数の送出チャネル４０５と連通する。複数の送出チャネル４０５は、対応する第１のガス出口２０４から内向きに第１の収容キャビティ４０３まで延在する。２つの第１のガス入口２０２は、第１の収容キャビティ４０３の２つの端部に配置され、複数の第１のガス出口２０４のそれぞれは、対応する送出チャネル４０５及び第１の収容キャビティ４０３によって第１のガス入口２０２と連通する。第１のガス入口２０２の位置及び数は設計要件に従って設定することができることは説明しておかなければならない。１つ以上の第１のガス入口を設けてもよく、これらが第１の収容キャビティ４０３と連通する限り、第１の流れ誘導部品１０３の表面の任意の領域に配置してもよい。

【0025】

図４Ｂに示すように、送出チャネル４０５は、対応する第１のガス出口２０４から内側に向かって（すなわち、第１の収容キャビティ４０３に向かって）徐々に狭まり、送出チャネル４０５は、サイズが内側から外側まで徐々に増大するフレア形状を有する。このことは、ガスが第１のガス出口２０４を離れる際に発散形態を有し、電子部品の上の空間を可能な限り充填することができるようにする助けとなる。送出チャネル４０５は、第１のトラック部品１０１に垂直な長さ方向における高さが外側から内側まで徐々に減少する限り、規則的なフレア形状を有する必要はない。すなわち、送出チャネル４０５が、第１の流れ誘導部品１０３の軸方向断面において内側から外側までサイズが徐々に減少する場合、ガス流の誘導効果を達成することができる。

【0026】

図５Ａは、半径方向に切断した図３の第２の流れ誘導部品の三次元図であり、図５Ｂは、線Ｂ－Ｂに沿って切断した図３の第２の流れ誘導部品の軸方向断面図である。図３並びに図５Ａ、５Ｂに示すように、第１の流れ誘導部品１０３と同様に、第２の流れ誘導部品１０４は、第２の収容キャビティ５０３と複数の導入チャネル５０５とを有する。第２の収容キャビティ５０３は、複数の導入チャネル５０５と連通する。複数の導入チャネル５０５は、対応する第２のガス入口３０４から内向きに（すなわち、第２の収容キャビティ５０３に向かって）第２の収容キャビティ５０３まで延在する。２つのガス出口３０２は、第２の収容キャビティ５０３の２つの端部に配置され、複数の第２のガス入口３０４のそれぞれは、対応する導入チャネル５０５及び第２の収容キャビティ５０３によって第２のガス出口３０２と連通する。第２のガス出口３０２の位置及び数は設計要件に従って設定することができることは説明しておかなければならない。１つ以上の第２のガス出口を設けてもよく、これらが第２の収容キャビティ５０３と連通する限り、第２の流れ誘導部品１０４の表面の任意の領域に配置してもよい。

【0027】

図５Ｂに示すように、第１の流れ誘導部品１０３と対称をなすように、導入チャネル５０５は、対応する第２のガス入口３０４から内側に向かって徐々に狭まり、導入チャネル５０５は、サイズが内側から外側まで徐々に増大するフレア形状を有する。このことは、ガスを電子部品の上の大きい範囲内に収集しやすくする。同様に、導入チャネル５０５は、第２のトラック部品１０２に垂直な長さ方向における高さが外側から内側まで徐々に減少する限り、規則的なフレア形状を有する必要はない。すなわち、導入チャネル５０５が、第２の流れ誘導部品１０４の軸方向断面において内側から外側までサイズが徐々に減少する場合、ガス収集の簡易化効果を達成することができる。第２の流れ誘導部品１０４の導入チャネル５０５を、内径が均一なチャネルとしてもよいことを説明しておかなければならない。この理由は、第１の流れ誘導部品１０３の送出チャネル４０５の形状により、清浄ガスが電子部品の上の領域まで拡散することができることを既に保証することができ、加工の要件が満たされ、第２の流れ誘導部品１０４は、ガスのこの部分を流出するように誘導することができるだけで済むからである。

【0028】

図６は、図１Ｂのガス輸送組立体１１０である。図１Ｂに示すように、ガス輸送組立体１１０は、空気濾過装置６０８と、入口端部６３０と出口端部６４０とを備える。入口端部６３０は、空気を空気濾過装置６０８内に送達するために、一端が空気濾過装置６０８と連通し、他端が送風装置と連通する。入口端部６３０は、入口ダクト６３５と、流れ調節弁６３７と、圧力調節弁６３８とを備え、流れ調節弁６３７及び圧力調節弁６３８は、ダクト上に接続され、それぞれ、空気濾過装置６０８に流入するガスの流量及び圧力を調節する。出口端部６４０は、出口ダクト６４５を備える。出口ダクト６４５は、主管６４１及び分岐管６４２を含む。主管６４１は、一端が空気濾過装置６０８と連通し、他端が第１の流れ誘導部品１０３の第１のガス入口２０２のうちの一方と連通する。分岐管６４２は、一端が主管６４１と連通し、他端が第１の流れ誘導部品１０３の第１のガス入口２０２のうちの他方と連通する。したがって、環境内の空気は、空気濾過装置６０８による濾過の後に清浄空気になり、この清浄空気は第１の流れ誘導部品内に送達される。第１の流れ誘導部品１０３は、高圧清浄空気源と直接連通してもよく、この場合、送風装置及び空気フィルターを更に設ける必要がなくなることを説明しておかなければならない。第１の流れ誘導部品１０３に流入するガスが、或る特定の圧力を有する清浄空気である限り、本出願の技術的効果を達成することができる。

【0029】

図７は、ガス排出組立体１２０の三次元図である。図７に示すように、ガス排出組立体１２０は、ガス排出ダクト７４０と、真空発生器７１０と、ガス処理装置７２０とを備える。ガス排出ダクト７４０は、主管７４１及び分岐管７４２を含む。主管７４１は、一端が真空発生器７１０と連通し、他端が第２の流れ誘導部品１０４の第２のガス出口３０２と連通する。分岐管７４２は、一端が主管７４１と連通し、他端が第２のガス出口３０２と連通する。真空発生器７１０は、第２の流れ誘導部品内で或る特定の程度の真空を形成し、これにより、第２の流れ誘導部品のガス出口３０２を通してガスを流出するように誘導することができる。ガス処理装置７２０は、真空発生器７１０と連通し、第２の流れ誘導部品１０４から流出するガスを濾過して処理する。ガス処理装置７２０は、供給装置の外側に配置することができる。本出願の一実施形態において、真空発生器はベンチュリチューブであり、或る程度の真空を発生させるように、ガス排出ダクト７４０及び外部高圧ガス源と別々に連通する。他の実施形態において、真空発生器は、真空ポンプ又は別のガス排出装置としてもよい。

【0030】

図８Ａは、図１Ａの供給装置の断面図であり、図８Ｂは、図８Ａの供給装置の部分Ｃの部分拡大図である。図８Ａ、８Ｂに示すように、第１のトラック部品１０１及び第２のトラック部品１０２は、それぞれ、第１のコンベヤベルト８１１及び第２のコンベヤベルト８１２を備える。電子部品１４０は、第１のコンベヤベルト８１１及び第２のコンベヤベルト８１２によって保持及び搬送される。第１のコンベヤベルト８１１及び第２のコンベヤベルト８１２が電子部品１４０を加工位置まで搬送すると、電子部品１４０の２つの側部の縁部が、第１の流れ誘導部品１０３及び第２の流れ誘導部品１０４の下側部に当接するまで、クランプ部品（図示せず）は、電子部品１４０を持ち上げ、このとき、電子部品１４０は動かなくなり、電子部品１４０の上に位置する供給組立体（図示せず）は、電子部品１４０の上面に流体を供給する。電子部品１４０が加工されると、クランプ部品（図示せず）は下に移動し、電子部品１４０は第１のコンベヤベルト８１１及び第２のコンベヤベルト８１２と再び接触し、これにより、供給装置から離れるように搬送される。この実施形態において、第１の流れ誘導部品１０３の第１の内側部２１４と、第２の流れ誘導部品１０４の第２の内側部３１４との間の距離は、電子部品１４０の幅よりも小さく、第１の流れ誘導部品１０３及び第２の流れ誘導部品１０４は、クランプ部品（図示せず）と協働して、加工が行われる位置に電子部品１４０を固定する。別の実施形態において、電子部品１４０は、別の対応する機械的構造とクランプ部品（図示せず）との協働によって、加工が行われる位置に固定してもよい。このとき、第１の流れ誘導部品１０３及び第２の流れ誘導部品１０４は、加工される電子部品１４０と接触しないが、第１の流れ誘導部品１０３と第２の流れ誘導部品１０４との間の幅は、加工される電子部品の幅と実質的に同様である。第１の流れ誘導部品１０３と第２の流れ誘導部品１０４との間の妥当な距離により、使用する清浄空気の量を削減するために電子部品１４０の加工要件を満たしながら、電子部品１４０の上の清浄空気領域は、清浄空気が必要ない周辺領域には拡散する量が可能な限り少ないことを保証することができる。

【0031】

別の実施形態において、第１のトラック部品１０１及び第２のトラック部品１０２は、コンベヤベルトを備える必要はない。電子部品１４０を加工が行われる位置に置くために、電子部品１４０を対応する機械装置によって把持してもよい。

【0032】

電子部品１４０が、加工が行われる位置に達して締められると、清浄ガスは、第１の流れ誘導部品１０３の第１の内側部２１４の第１のガス出口２０４を通して排出される。送出チャネル２０５がフレア状であるため、ガスは、矢印８０２によって示す方向において流出し、これにより、電子部品１４０の上に清浄ガス領域８０１が形成される。清浄ガス領域８０１内のガスの大半は、矢印８０３に沿って第２の流れ誘導部品１０４の第２の内側部３１４を通して吸入され、ガス処理装置７２０内で処置された後に排出される。第１の流れ誘導部品１０３と第２の流れ誘導部品１０４との協働により、電子部品１４０の上に形成される清浄ガス領域８０１は、比較的集中している。清浄ガス領域８０１は、供給部品が加工中に流体を供給する領域であり、清浄ガス領域８０１は加工品質を保証することができる。第１の流れ誘導部品１０３と第２の流れ誘導部品１０４との協働は結果として、清浄ガス領域の範囲が小さくなり、比較的集中することになり、他の不要な領域への清浄ガスの拡散が避けられ、清浄ガスの利用度が高く、使用する清浄ガスの量が少なくなるため、エネルギー損失を削減することができる。

【0033】

本出願の一部の特徴しか本明細書には図示及び記載されていないが、当業者であれば、多くの改良及び変更を行うことができる。したがって、添付の特許請求の範囲は、本出願の本質的な趣旨の範囲内に含まれる上述の改良及び変更の全てを包含するように意図されている。

【符号の説明】

【0034】

１０１ 第１のトラック部品
１０２ 第２のトラック部品
１０３ 誘導部品
１０４ 誘導部品
１０５ 基部
１１０ ガス輸送組立体
１２０ ガス排出組立体
１４０ 電子部品
１５２ スライドレール
２０２ 第１のガス入口
２０４ 第１のガス出口
２０５ 送出チャネル
２１０ 本体
２１４ 第１の内側部
２１８ 接続部
２１９ 接続部
２４０ 第１のガス出口
３０２ 第２のガス出口
３０３ 第２のガス出口
３０４ 第２のガス入口
３１０ 本体
３１４ 第２の内側部
３１８ 接続部
３１９ 接続部
４０３ 第１の収容キャビティ
４０５ 送出チャネル
５０３ 第２の収容キャビティ
５０５ 導入チャネル
６０８ 空気濾過装置
６３０ 入口端部
６３５ 入口ダクト
６３７ 調節弁
６３８ 圧力調節弁
６４０ 出口端部
６４１ 主管
６４２ 分岐管
６４５ 出口ダクト
７１０ 真空発生器
７２０ ガス処理装置
７４０ ガス排出ダクト
７４１ 主管
７４２ 分岐管
８０１ 清浄ガス領域

【図1A】

【図1B】

【図2A】

【図2B】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図5A】

【図5B】

【図6】

【図7】

【図8A】

【図8B】

【国際調査報告】