特表 2023-531575 表示基板及び表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2023-07-25

(54)【発明の名称】表示基板及び表示装置

(51)【国際特許分類】

   G09F 9/30 20060101AFI20230718BHJP

   H10K 59/123 20230101ALI20230718BHJP

   H10K 59/131 20230101ALI20230718BHJP

   H10K 59/65 20230101ALI20230718BHJP

   H10K 50/10 20230101ALI20230718BHJP

   H10K 77/10 20230101ALI20230718BHJP

【ＦＩ】

G09F9/30 338

G09F9/30 365

G09F9/30 308Z

G09F9/30 349Z

H10K59/123

H10K59/131

H10K59/65

H10K50/10

H10K77/10

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2022533553

(86)(22)【出願日】2021-05-17

(85)【翻訳文提出日】2022-06-03

(86)【国際出願番号】 CN2021094032

(87)【国際公開番号】W WO2021258911

(87)【国際公開日】2021-12-30

(31)【優先権主張番号】202010574224.9

(32)【優先日】2020-06-22

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】510280589

【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ

(71)【出願人】

【識別番号】511121702

【氏名又は名称】成都京東方光電科技有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＣＨＥＮＧＤＵ ＢＯＥ ＯＰＴＯＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１１８８，Ｈｅｚｕｏ Ｒｄ．，（Ｗｅｓｔ Ｚｏｎｅ），Ｈｉ－ｔｅｃｈ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｚｏｎｅ，Ｃｈｅｎｇｄｕ，Ｓｉｃｈｕａｎ，６１１７３１，Ｐ．Ｒ．ＣＨＩＮＡ

(74)【代理人】

【識別番号】110002000

【氏名又は名称】弁理士法人栄光事務所

(72)【発明者】

【氏名】ホァン ヤオ

(72)【発明者】

【氏名】チョン ユディアオ

(72)【発明者】

【氏名】ホァン ウェイユ

(72)【発明者】

【氏名】ロン ユエ

(72)【発明者】

【氏名】チュウ ユァンヨウ

【テーマコード（参考）】

3K107

5C094

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC41

3K107CC45

3K107DD39

3K107DD44Z

3K107DD46Z

3K107DD90

3K107EE03

3K107EE68

3K107FF00

3K107FF15

3K107HH05

5C094BA03

5C094BA14

5C094BA27

5C094DA13

5C094DA20

5C094DB01

5C094EA01

5C094EA04

5C094EA10

5C094EB02

5C094FA02

5C094JA01

5C094JA08

(57)【要約】

表示基板及び表示装置であって、該表示基板（０１）は、表示用の第１側と、第１側に対向する第２側とを有し、表示領域（１０）を備え、表示領域（１０）は、第１表示領域（１１）及び第２表示領域（１２）を備え、第１表示領域（１１）は、第１発光素子（４１１）を備え、第１側からの光が少なくとも部分的に第２側に透過することを可能にし、第２表示領域（１２）は第１画素回路（４１２）を備え、第１発光素子（４１１）は、第１画素回路（４１２）に電気的に接続され、表示基板（０１）には、信号伝送線（１１０）及び第１ダミー配線（１２１）が設けられ、第１発光素子（４１１）は、信号伝送線（１１０）を介して第１画素回路（４１２）に接続され、第１ダミー配線（１２１）は、第１表示領域（１１）内に少なくとも部分的に位置し、信号伝送線（１１０）及び第１発光素子（４１１）から絶縁され、第１ダミー配線（１２１）の表示基板（０１）に平行な平面内での正投影は、信号伝送線（１１０）の表示基板（０１）に平行な平面内での正投影と少なくとも部分的にずらしている。該表示基板は、第１側から第２側に透過する光の均一性を向上させることができる。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

表示基板であって、表示用の第１側と、前記第１側に対向する第２側とを有し、表示領域を備え、
前記表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を備え、前記第２表示領域は、前記第１表示領域を少なくとも部分的に取り囲み、前記第１表示領域と前記第２表示領域は、互いに重ならず、
前記第１表示領域は、少なくとも１つの第１発光素子を備え、前記第１側からの光が少なくとも部分的に前記第２側に透過することを可能にし、
前記第２表示領域は、少なくとも１つの第１画素回路を備え、前記第１発光素子は、前記第１画素回路に電気的に接続され、
前記表示基板には、少なくとも１つの信号伝送線及び少なくとも１つの第１ダミー配線が設けられ、
前記信号伝送線は、前記第１表示領域及び前記第２表示領域に少なくとも部分的に位置し、前記第１発光素子は、前記信号伝送線を介して前記第１画素回路に接続され、
前記第１ダミー配線は、前記第１表示領域内に少なくとも部分的に位置し、前記信号伝送線及び前記第１発光素子から絶縁され、
前記信号伝送線と前記第１ダミー配線は、それぞれ第１方向に沿って延び、前記第１ダミー配線の前記表示基板に平行な平面内での正投影は、前記信号伝送線の前記表示基板に平行な平面内での正投影と少なくとも部分的にずらしている、表示基板。

【請求項2】

前記第１ダミー配線と前記信号伝送線は、同じ層に位置する、請求項１に記載の表示基板。

【請求項3】

前記第１ダミー配線と前記信号伝送線との両方は、直線に沿って延び、互いに平行である、請求項１又は２に記載の表示基板。

【請求項4】

前記少なくとも１つの第１ダミー配線は、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配列され、第１電圧信号を受信するように構成される複数の第１ダミー配線を備え、
前記表示基板は、前記第２方向に沿って延び、前記複数の第１ダミー配線を互いに電気的に接続して前記第１電圧信号を受信するように前記複数の第１ダミー配線に電気的に接続される少なくとも１つの第２ダミー配線をさらに備える、請求項１～３のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項5】

前記複数の第１ダミー配線のうちの少なくとも１つは、ビア構造を介して前記第１電圧信号を提供する第１電源線に電気的に接続される、請求項４に記載の表示基板。

【請求項6】

前記第２ダミー配線と前記第１ダミー配線は、同じ層に位置し、又は
前記第２ダミー配線と前記第１ダミー配線は、異なる膜層に位置し、前記異なる膜層は、ビアが設けられていない位置で互いに絶縁される、請求項４又は５に記載の表示基板。

【請求項7】

前記少なくとも１つの信号伝送線は、前記第２方向に沿って配列された複数の信号伝送線を備え、
前記複数の信号伝送線と前記複数の第１ダミー配線は、配線アレイを構成し、１つの信号伝送線は、前記配線アレイの１つのラインユニットとして機能し、１つの第１ダミー配線は、前記配線アレイの１つのラインユニットとして機能し、
前記配線アレイの少なくとも１つのラインユニットと前記第２方向に隣接するラインユニットとの間の距離は等しい、請求項４～６のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項8】

前記第１表示領域は、中間領域、及び前記第１方向に前記中間領域の両側に位置する周辺領域を備え、
前記第１表示領域の中軸線は、前記中間領域内に位置し、前記周辺領域は、前記第２表示領域に隣接し、
前記複数の第１ダミー配線の前記中間領域における単位面積あたりの分布比は、前記複数の第１ダミー配線の前記周辺領域における単位面積あたりの分布比よりも大きい、請求項７に記載の表示基板。

【請求項9】

前記信号伝送線、前記第１ダミー配線及び前記第２ダミー配線は、それぞれ透明導電配線を備える、請求項４～８のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項10】

前記第１ダミー配線の前記第１方向とは異なる第２方向における幅は、前記信号伝送線の前記第２方向における幅と同じである、請求項１～９のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項11】

前記信号伝送線は、前記信号伝送線と前記第１発光素子の陽極との間に位置する絶縁層を少なくとも貫通するビア構造を介して前記第１発光素子の陽極に電気的に接続される、請求項１～１０のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項12】

前記ビア構造の前記表示基板に平行な平面内での正投影は、前記少なくとも１つの第１ダミー配線の前記表示基板に平行な平面内での正投影と互いに重ならない、請求項１１に記載の表示基板。

【請求項13】

前記第１画素回路は、薄膜トランジスタを備え、前記薄膜トランジスタは、ゲート、第１極及び第２極を備え、
前記信号伝送線は、前記薄膜トランジスタの第１極又は第２極に電気的に接続される、請求項１～１２のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項14】

ソースドレイン金属層をさらに備え、
前記薄膜トランジスタの第１極及び第２極は、前記ソースドレイン金属層に位置し、前記第１発光素子の陽極は、前記ソースドレイン金属層上に位置し、
前記信号伝送線と前記第１ダミー配線が位置する膜層は、前記第１発光素子の陽極と前記ソースドレイン金属層との間に位置する、請求項１３に記載の表示基板。

【請求項15】

前記表示領域は、第３表示領域をさらに備え、
前記第３表示領域は、前記第２表示領域を少なくとも部分的に取り囲み、前記第１表示領域、前記第２表示領域及び前記第３表示領域は、互いに重ならず、
前記第２表示領域は、少なくとも１つの第２発光素子及び少なくとも１つの第２画素回路をさらに備え、前記第２発光素子は、前記第２画素回路に電気的に接続され、
前記第３表示領域は、少なくとも１つの第３発光素子及び少なくとも１つの第３画素回路を備え、前記第３発光素子は、前記第３画素回路に電気的に接続される、請求項１～１４のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項16】

前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子は、それぞれ有機発光ダイオードを備える、請求項１５に記載の表示基板。

【請求項17】

前記少なくとも１つの第１発光素子は、複数の第１発光素子を備え、前記少なくとも１つの第２発光素子は、複数の第２発光素子を備え、前記少なくとも１つの第３発光素子は、複数の第３発光素子を備え、
前記複数の第１発光素子の前記第１表示領域における単位面積あたりの分布密度は、前記複数の第２発光素子の前記第２表示領域における単位面積あたりの分布密度以下であり、
前記複数の第２発光素子の前記第２表示領域における単位面積あたりの分布密度は、前記複数の第３発光素子の前記第３表示領域における単位面積あたりの分布密度よりも小さい、請求項１５又は１６に記載の表示基板。

【請求項18】

前記第１表示領域のうちの、前記少なくとも１つの信号伝送線の前記表示基板に平行な平面内での正投影と、前記少なくとも１つの第１ダミー配線の前記表示基板に平行な平面内での正投影とで被覆される領域の面積と前記第１表示領域の面積との比は、７０％～９５％である、請求項１～１７のいずれか１項に記載の表示基板。

【請求項19】

請求項１～１８のいずれか１項に記載の表示基板を備える表示装置。

【請求項20】

センサをさらに備え、
前記センサは、前記表示基板の第２側に位置し、前記表示基板の第１側からの光を受光するように構成される、請求項１９に記載の表示装置。

【請求項21】

前記センサの前記表示基板における正投影は、前記第１表示領域と少なくとも部分的に重なる、請求項２０に記載の表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は、２０２０年６月２２日に提出された中国特許出願第２０２０１０５７４２２４．９号の優先権を主張し、該中国特許出願の全内容は引用により本願の一部として組み込まれている。

【0002】

本開示の実施例は、表示基板及び表示装置に関する。

【背景技術】

【0003】

有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ－Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示デバイスは、広い視野角、高いコントラスト、速い応答速度、広い色域、高い画面占有率、自発光、軽量化、薄型化などの特徴を有する。上記特徴及び利点を有するため、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示デバイスは、徐々に幅広く注目されており、携帯電話、ディスプレイ、ノートパソコン、スマートウォッチ、デジタルカメラ、計器、フレキシブルウェアラブルデバイスなど表示機能を備えた装置に適用できる。表示技術のさらなる発展に伴い、画面占有率の高い表示装置は、人々のニーズを満たすことができなくなり、全画面表示装置は、将来の表示技術の開発動向となっている。

【発明の概要】

【0004】

本開示の少なくとも１つの実施例は、表示基板を提供し、該表示基板は、表示用の第１側と、前記第１側に対向する第２側とを有し、表示領域を備え、前記表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を備え、前記第２表示領域は、前記第１表示領域を少なくとも部分的に取り囲み、前記第１表示領域と前記第２表示領域は、互いに重ならず、前記第１表示領域は、少なくとも１つの第１発光素子を備え、前記第１側からの光が少なくとも部分的に前記第２側に透過することを可能にし、前記第２表示領域は、少なくとも１つの第１画素回路を備え、前記第１発光素子は、前記第１画素回路に電気的に接続され、前記表示基板には、少なくとも１つの信号伝送線及び少なくとも１つの第１ダミー配線が設けられ、前記信号伝送線は、前記第１表示領域及び前記第２表示領域に少なくとも部分的に位置し、前記第１発光素子は、前記信号伝送線を介して前記第１画素回路に接続され、前記第１ダミー配線は、前記第１表示領域内に少なくとも部分的に位置し、前記信号伝送線及び前記第１発光素子から絶縁され、前記信号伝送線と前記第１ダミー配線は、それぞれ第１方向に沿って延び、前記第１ダミー配線の前記表示基板に平行な平面内での正投影は、前記信号伝送線の前記表示基板に平行な平面内での正投影と少なくとも部分的にずらしている。

【0005】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１ダミー配線と前記信号伝送線は、同じ層に位置する。

【0006】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１ダミー配線と前記信号伝送線との両方は、直線に沿って延び、互いに平行である。

【0007】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記少なくとも１つの第１ダミー配線は、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配列され、第１電圧信号を受信するように構成される複数の第１ダミー配線を備え、前記表示基板は、前記第２方向に沿って延び、前記複数の第１ダミー配線を互いに電気的に接続して前記第１電圧信号を受信するように前記複数の第１ダミー配線に電気的に接続される少なくとも１つの第２ダミー配線をさらに備える。

【0008】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記複数の第１ダミー配線のうちの少なくとも１つは、ビア構造を介して前記第１電圧信号を提供する第１電源線に電気的に接続される。

【0009】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第２ダミー配線と前記第１ダミー配線は、同じ層に位置し、又は、前記第２ダミー配線と前記第１ダミー配線は、異なる膜層に位置し、前記異なる膜層は、ビアが設けられていない位置で互いに絶縁される。

【0010】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記少なくとも１つの信号伝送線は、前記第２方向に沿って配列された複数の信号伝送線を備え、前記複数の信号伝送線と前記複数の第１ダミー配線は、配線アレイを構成し、１つの信号伝送線は、前記配線アレイの１つのラインユニットとして機能し、１つの第１ダミー配線は、前記配線アレイの１つのラインユニットとして機能し、前記配線アレイの少なくとも１つのラインユニットと前記第２方向に隣接するラインユニットとの間の距離は等しい。

【0011】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１表示領域は、中間領域、及び前記第１方向に前記中間領域の両側に位置する周辺領域を備え、前記第１表示領域の中軸線は、前記中間領域内に位置し、前記周辺領域は、前記第２表示領域に隣接し、前記複数の第１ダミー配線の前記中間領域における単位面積あたりの分布比は、前記複数の第１ダミー配線の前記周辺領域における単位面積あたりの分布比よりも大きい。

【0012】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記信号伝送線、前記第１ダミー配線及び前記第２ダミー配線は、それぞれ透明導電配線を備える。

【0013】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１ダミー配線の前記第１方向とは異なる第２方向における幅は、前記信号伝送線の前記第２方向における幅と同じである。

【0014】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記信号伝送線は、前記信号伝送線と前記第１発光素子の陽極との間に位置する絶縁層を少なくとも貫通するビア構造を介して前記第１発光素子の陽極に電気的に接続される。

【0015】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記ビア構造の前記表示基板に平行な平面内での正投影は、前記少なくとも１つの第１ダミー配線の前記表示基板に平行な平面内での正投影と互いに重ならない。

【0016】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１画素回路は、薄膜トランジスタを備え、前記薄膜トランジスタは、ゲート、第１極及び第２極を備え、前記信号伝送線は、前記薄膜トランジスタの第１極又は第２極に電気的に接続される。

【0017】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板は、ソースドレイン金属層をさらに備え、前記薄膜トランジスタの第１極及び第２極は、前記ソースドレイン金属層に位置し、前記第１発光素子の陽極は、前記ソースドレイン金属層上に位置し、前記信号伝送線と前記第１ダミー配線が位置する膜層は、前記第１発光素子の陽極と前記ソースドレイン金属層との間に位置する。

【0018】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記表示領域は、第３表示領域をさらに備え、前記第３表示領域は、前記第２表示領域を少なくとも部分的に取り囲み、前記第１表示領域、前記第２表示領域及び前記第３表示領域は、互いに重ならず、前記第２表示領域は、少なくとも１つの第２発光素子及び少なくとも１つの第２画素回路をさらに備え、前記第２発光素子は、前記第２画素回路に電気的に接続され、前記第３表示領域は、少なくとも１つの第３発光素子及び少なくとも１つの第３画素回路を備え、前記第３発光素子は、前記第３画素回路に電気的に接続される。

【0019】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子は、それぞれ有機発光ダイオードを備える。

【0020】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記少なくとも１つの第１発光素子は、複数の第１発光素子を備え、前記少なくとも１つの第２発光素子は、複数の第２発光素子を備え、前記少なくとも１つの第３発光素子は、複数の第３発光素子を備え、前記複数の第１発光素子の前記第１表示領域における単位面積あたりの分布密度は、前記複数の第２発光素子の前記第２表示領域における単位面積あたりの分布密度以下であり、前記複数の第２発光素子の前記第２表示領域における単位面積あたりの分布密度は、前記複数の第３発光素子の前記第３表示領域における単位面積あたりの分布密度よりも小さい。

【0021】

例えば、本開示の一実施例に係る表示基板では、前記第１表示領域のうちの、前記少なくとも１つの信号伝送線の前記表示基板に平行な平面内での正投影と、前記少なくとも１つの第１ダミー配線の前記表示基板に平行な平面内での正投影とで被覆される領域の面積と前記第１表示領域の面積との比は、７０％～９５％である。

【0022】

本開示の少なくとも１つの実施例は、本開示のいずれかの実施例に記載の表示基板を備える表示装置をさらに提供する。

【0023】

例えば、本開示の一実施例に係る表示装置は、前記表示基板の第２側に位置し、前記表示基板の第１側からの光を受光するように構成されるセンサをさらに備える。

【0024】

例えば、本開示の一実施例に係る表示装置では、前記センサの前記表示基板における正投影は、前記第１表示領域と少なくとも部分的に重なる。

【0025】

本開示の実施例の技術案をより明確に説明するために、以下、実施例の図面を簡単に説明し、明らかなように、以下に説明される図面は本開示のいくつかの実施例に関するものに過ぎず、本開示を限定するものではない。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】図１は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示基板の平面模式図である。

【図2A】図２Ａは図１に示す表示基板の第１表示領域及び第２表示領域の平面模式図である。

【図2B】図２Ｂは図２Ａに示す第１表示領域及び第２表示領域の発光素子及び画素回路の配置模式図である。

【図3】図３は図２Ａに示す表示基板の第１表示領域及び第２表示領域の一例の模式図である。

【図4】図４は図３の部分領域ＲＥＧ１の拡大図である。

【図5】図５は図３の部分領域ＲＥＧ２の拡大図である。

【図6】図６は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示基板の表示領域のエッジに近い部分の一例の模式図である。

【図7】図７は表示基板の光透過領域の模式図である。

【図8】図８は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示基板の積層構造模式図である。

【図9】図９は図１に示す表示基板の第３表示領域の部分領域ＲＥＧ３の拡大図である。

【図10】図１０は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示装置の模式的なブロック図である。

【図11】図１１は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示装置の積層構造模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

本開示の実施例の目的、技術案及び利点をより明確にするために、以下、本開示の実施例の図面を参照しながら、本開示の実施例の技術案を明確かつ完全に説明する。明らかなように、説明される実施例は本開示の実施例の一部であり、実施例の全部ではない。説明される本開示の実施例に基づき、当業者が創造的労働を必要とせずに得た他の実施例は、全て本開示の保護範囲に属する。

【0028】

特に定義されない限り、本開示で使用される技術用語又は科学用語は、当業者が理解できる一般的な意味を有するべきである。本開示で使用される「第１」、「第２」及び類似する用語は、何らかの順序、数又は重要性を示すものではなく、異なる構成要素を区別するためのものに過ぎない。同様に、「１つ」、「一」又は「該」などの類似する用語は、数を制限するものではなく、少なくとも１つが存在することを意味する。「備える」又は「含む」などの類似する用語は、該用語の前に記載された素子又は部材が、該用語の後に列挙される素子又は部材、及びそれらの同等物を含むことを指し、他の素子又は部材を排除しない。「接続」又は「連結」などの類似する用語は、物理的又は機械的接続に限定されず、直接接続されるか間接的に接続されるかに関わらず、電気的接続を含んでもよい。「上」、「下」、「左」、「右」などは、相対位置関係を示すことのみに用いられ、説明対象の絶対位置が変化すると、該相対位置関係もそれに応じて変化する可能性がある。

【0029】

画面下センサ（例えば、カメラ）を備えた現在の表示基板について、表示基板の画面下センサに対応する表示領域の光透過率を向上させるために、画面下センサに対応する表示領域の発光素子の単位面積あたりの分布密度（ＰＰＩ）は、表示基板の他の表示領域の発光素子の単位面積あたりの分布密度よりも小さくてもよい。

【0030】

しかしながら、表示基板の異なる領域の発光素子の単位面積あたりの分布密度が異なるため、異なる領域の発光素子及び対応する画素回路の設置形態も異なる。例えば、画面下センサに対応する表示領域の発光素子は、他の表示領域に位置する対応する画素回路に電気的に接続される必要があるため、画面下センサに対応する表示領域における配線を均一に配置することは困難である。画面下センサに対応する表示領域の光透過率に影響を与え、例えば、該領域を透過する光の均一性を低減させ、さらに画面下センサが光を受光する時に反射などの問題が発生しやすくなり、画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を正確に実現することは困難であり、該表示基板を用いた表示装置の性能に悪影響を与えてしまう。

【0031】

本開示の少なくとも１つの実施例は、表示基板を提供し、該表示基板は、表示用の第１側と、第１側に対向する第２側とを有し、表示領域を備え、表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を備え、第２表示領域は、第１表示領域を少なくとも部分的に取り囲み、第１表示領域と第２表示領域は、互いに重ならず、第１表示領域は、少なくとも１つの第１発光素子を備え、第１側からの光が少なくとも部分的に第２側に透過することを可能にし、第２表示領域は、少なくとも１つの第１画素回路を備え、第１発光素子は、第１画素回路に電気的に接続され、表示基板には、少なくとも１つの信号伝送線及び少なくとも１つの第１ダミー配線が設けられ、信号伝送線は、第１表示領域及び第２表示領域に少なくとも部分的に位置し、第１発光素子は、信号伝送線を介して第１画素回路に接続され、第１ダミー配線は、第１表示領域内に少なくとも部分的に位置し、信号伝送線及び第１発光素子から絶縁され、信号伝送線と第１ダミー配線は、それぞれ第１方向に沿って延び、第１ダミー配線の表示基板に平行な平面内での正投影は、信号伝送線の表示基板に平行な平面内での正投影と少なくとも部分的にずらしている。

【0032】

本開示の上記少なくとも１つの実施例に係る表示基板は、第１表示領域における配線設計を最適化し、それにより、第１表示領域の光透過率を改善し、第１表示領域を透過する光の均一性及び整合性を向上させることができる。例えば、該第１表示領域は、画面下センサ（例えば、カメラ）に対応する表示領域であってもよく、それにより、本開示の上記実施例に係る表示基板は、画面下センサが光を受光する時に発生する可能性がある反射などの問題を軽減又は回避することができ、それにより画面下センサが画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を正確に実現することに寄与し、さらに該表示基板を用いた表示装置（例えば、全画面表示装置）の性能を向上させることに寄与する。

【0033】

以下、図面を参照しながら、本開示の実施例を詳細に説明する。ただし、異なる図面では同じ符号は説明された同じ素子を示すことに用いられる。

【0034】

図１は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示基板の平面模式図である。図１に示すように、該表示基板０１は、表示領域１０を備え、表示領域１０は、第１表示領域１１及び第２表示領域１２を備える。例えば、第１表示領域１１と第２表示領域１２は、互いに重ならず、第２表示領域１２は、第１表示領域１１を少なくとも部分的に取り囲む（例えば、完全に取り囲む）。

【0035】

例えば、該表示基板０１は、表示用の第１側と、第１側に対向する第２側とを有する。例えば、いくつかの例では、図１に示すように、第１側は、表示基板０１の表側（すなわち、図１に示す平面）であり、第２側は、表示基板の裏側である。例えば、表示基板０１の第２側の、第１表示領域１１に対応する位置にセンサが設けられてもよく、該センサは、画像センサ又は赤外線センサなどであってもよい。該センサは、表示基板０１の第１側からの光を受光するように構成され、それにより画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を実行できる。

【0036】

図２Ａは図１に示す表示基板の第１表示領域及び第２表示領域の平面模式図であり、図２Ｂは図２Ａに示す第１表示領域及び第２表示領域の発光素子及び画素回路の配置模式図である。なお、第１表示領域及び第２表示領域の発光素子及び画素回路の配置形態を明確かつ簡潔に説明するために、図２Ｂにおける符号で示される矩形フレームは、発光素子及び画素回路の大まかな位置を示すためのものに過ぎず、発光素子及び画素回路の具体的な形状又は具体的な境界などを表すものではなく、且つ、図２Ｂにおける矩形フレームは、発光素子及び画素回路の配置形態を説明するためのものに過ぎず、第１表示領域及び第２表示領域における発光素子及び画素回路の実際の数を表すものではなく、発光素子及び画素回路の具体的な構造などは、本分野の通常の設計を参照すればよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0037】

例えば、図１、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、第２表示領域１２は、第１表示領域１１を少なくとも部分的に取り囲む（例えば、完全に取り囲む）。

【0038】

例えば、第１表示領域１１の形状は、円形又は楕円形であってもよく、第２表示領域１２の形状は、矩形であってもよいが、本開示の実施例はこれに限定されない。さらに例えば、第１表示領域１１と第２表示領域１２の形状は、いずれも矩形又は他の適切な形状であってもよい。

【0039】

図３は図２Ａに示す表示基板の第１表示領域及び第２表示領域の一例の模式図であり、図４は図３の部分領域ＲＥＧ１の拡大図であり、図５は図３の部分領域ＲＥＧ２の拡大図である。なお、第１発光素子と第１画素回路との接続関係を明確かつ簡潔に説明するために、図５では、発光素子、画素回路、信号伝送線などの構造のみが示されるが、本開示の実施例を限定するものではない。

【0040】

例えば、図２Ａ～図５に示すように、第１表示領域１１は、少なくとも１つの（例えば複数の）第１発光素子４１１を備える。なお、明確にするために、関連図面では、第１発光素子４１１を模式的に示すために第１発光素子４１１の陽極構造が使用される。例えば、第１表示領域１１は、アレイ状に配置された複数の第１発光素子４１１を備え、第１発光素子４１１は、光を発するように構成される。例えば、第１表示領域１１には画素回路がなく、第１発光素子４１１を駆動するための画素回路（すなわち、第１画素回路４１２）が第２表示領域１２に設けられ、それにより第１表示領域１１の金属被覆面積を小さくし、第１表示領域１１の光透過率を向上させる。第１発光素子４１１を駆動する画素回路については、以下、説明されるが、ここでは繰り返し説明しない。

【0041】

例えば、複数の第１発光素子４１１は、複数の発光ユニットに設けられてもよく、これらの発光ユニットは、アレイ状に配置される。例えば、各発光ユニットは、１つ又は複数の第１発光素子４１１を備えてもよい。例えば、複数の第１発光素子４１１は、同じ色の光又は、白色光、赤色光、青色光、緑色光などの異なる色の光を放出することができ、これは、実際のニーズに応じて決められ、本開示の実施例はこれを限定しない。例えば、複数の第１発光素子４１１の配置形態は、ＧＧＲＢ、ＲＧＢＧ、ＲＧＢなどの通常の画素ユニットの配置形態を参照すればよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0042】

例えば、第１表示領域１１は、表示基板０１の第１側からの光が少なくとも部分的に表示基板０１の第２側に透過することを可能にする。このように、表示基板０１の第２側の、第１表示領域１１に対応する位置にセンサを設けることが容易であり、該センサは第１側からの光を受光でき、それにより画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を実行できる。

【0043】

例えば、図２Ａ～図５に示すように、第２表示領域１２は、少なくとも１つの（例えば複数の）第１画素回路４１２を備え、第１発光素子４１１は、第１画素回路４１２に電気的に接続される。例えば、第１発光素子４１１は、第１画素回路４１２に１対１で対応して電気的に接続され、複数の第１画素回路４１２は、複数の第１発光素子４１１を１対１で対応して駆動することに用いられる。すなわち、１つの第１画素回路４１２は、１つの対応する第１発光素子４１１を駆動し、異なる第１画素回路４１２は、異なる第１発光素子４１１を駆動する。例えば、複数の第１画素回路４１２は、複数の第１画素駆動ユニットに設けられてもよく、図５に示す矩形フレーム（符号４１２で示される黒枠白塗りつぶし領域）は、第１画素駆動ユニットを表し、これらの第１画素駆動ユニットは、アレイ状に配置される。

【0044】

なお、図３、図４及び図５では、第１画素駆動ユニットは、１つ又は複数の第１画素回路４１２を備えてもよい。第１表示領域１１の発光ユニットが、１つの第１発光素子４１１を備えると、該第１画素駆動ユニットも、１つの第１画素回路４１２を備える。第１表示領域１１の発光ユニットが、複数の第１発光素子４１１を備えると、該第１画素駆動ユニットも、複数の第１画素回路４１２を備え、各発光ユニットの第１発光素子４１１の数は、例えば、各第１画素駆動ユニットの第１画素回路４１２の数に等しく、それにより１対１で対応する駆動を実現する。

【0045】

例えば、複数の第１発光素子４１１は、アレイ状に配置され、複数の第１画素回路４１２も、アレイ状に配置される。ここでは、「アレイ状に配置される」とは、複数のデバイスが１組になり、複数組のデバイスがアレイ状に配置されることを指してもよく、複数のデバイス自体がアレイ状に配置されることを指してもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。例えば、いくつかの例では、図３、図４及び図５に示すように、４つごとの第１発光素子４１１が１組になり、複数組の第１発光素子４１１がアレイ状に配置され、それに対応して、４つごとの第１画素回路４１２が１組になり、複数組の第１画素回路４１２がアレイ状に配置され、このとき、各第１画素駆動ユニットには、４つの第１画素回路４１２が備えられる。

【0046】

例えば、図３、図４及び図５に示すように、表示基板０１には、少なくとも１つの（例えば複数の）信号伝送線１１０及び少なくとも１つの（例えば複数の）第１ダミー配線１２１が設けられる。信号伝送線１１０は、第１表示領域１１及び第２表示領域１２に少なくとも部分的に位置し、第１発光素子４１１は、信号伝送線１１０を介して第１画素回路４１２に接続される。例えば、信号伝送線１１０は、第１端が、第１表示領域１１内に位置し、第１発光素子４１１に電気的に接続され、第２端が、第２表示領域１２内に位置し、第１画素回路４１２に電気的に接続され、それにより第１発光素子４１１と第１画素回路４１２との電気的接続を実現する。第１ダミー配線１２１は、第１表示領域１１内に少なくとも部分的に位置し、例えば、第１表示領域１１内にのみ位置してもよく、第２表示領域１２内に延びてもよく、第１ダミー配線１２１は、信号伝送線１１０及び第１発光素子４１１から絶縁される。

【0047】

例えば、信号伝送線１１０と第１ダミー配線１２１は、それぞれ第１方向Ｒ１に沿って延び、第１ダミー配線１２１の表示基板０１に平行な平面内での正投影は、信号伝送線１１０の表示基板０１に平行な平面内での正投影と少なくとも部分的にずらしている。例えば、第１ダミー配線１２１の表示基板０１に平行な平面内での正投影と、信号伝送線１１０の表示基板０１に平行な平面内での正投影とは重なる部分がなく、それにより第１ダミー配線１２１と信号伝送線１１０は、それぞれ第１表示領域１１の異なる領域を被覆でき、第１表示領域１１における配線レイアウトの均一性及び整合性をさらに向上させ、それにより第１表示領域１１の光透過率を改善し、第１表示領域１１を透過する光の均一性及び整合性を向上させ、さらに表示基板０１の第１表示領域１１におけるエッチング均一性を向上させることができる。

【0048】

例えば、図７に示す表示基板の光透過領域ＬＲを例とし、光透過領域ＬＲにおける配線の分布が比較的不均一であり、該光透過領域ＬＲを透過する光の均一性及び整合性が低下し、さらに該光透過領域ＬＲの光透過効果に深刻な悪影響を与える。例えば、該光透過領域ＬＲに対応して設けられた画面下センサが光を受光する時に反射などの問題が発生しやすくなり、それにより画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を正確に実現することは困難である。

【0049】

図７に示す表示基板の光透過領域ＬＲに比べて、本開示の上記実施例に係る表示基板０１は、表示基板０１に平行な平面内に信号伝送線１１０と重ならない第１ダミー配線１２１を設けることにより、第１表示領域１１における配線設計を最適化し、例えば、第１表示領域１１における配線レイアウトの均一性及び整合性を向上させ、それにより第１表示領域１１を透過する光の均一性及び整合性を向上させ、さらに第１表示領域１１の光透過率を改善することができる。例えば、画面下センサ（例えば、カメラ）が第１表示領域１１に対応して設けられる場合、本開示の上記実施例に係る表示基板０１は、画面下センサが光を受光する時に発生する可能性がある反射などの問題を軽減又は回避することができ、それにより画面下センサが画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を正確に実現することに寄与し、さらに該表示基板０１を用いた表示装置（例えば、全画面表示装置）の性能を向上させることに寄与する。

【0050】

本開示のいくつかの実施例では、第１表示領域１１のうちの、信号伝送線１１０の表示基板０１に平行な平面内での正投影と、第１ダミー配線１２１の表示基板０１に平行な平面内での正投影とで被覆される領域の面積と第１表示領域１１の面積との比は、７０％～９５％であり、さらに例えば８０％～９０％であり、例えば、７５％又は８５％であってもよい。すなわち、信号伝送線１１０と第１ダミー配線１２１全体は、表示基板０１に平行な平面内で、第１表示領域１１の総面積の７０％～９５％を被覆し、それにより、第１表示領域１１における配線レイアウトの均一性及び整合性をさらに向上させ、第１表示領域１１を透過する光の均一性及び整合性を向上させ、第１表示領域１１の光透過効果を改善することができる。

【0051】

本開示のいくつかの実施例では、図３、図４及び図５に示すように、第１ダミー配線１２１と信号伝送線１１０は、同じ層に位置してもよく、それにより、表示基板０１の製造プロセスを簡素化し、表示基板０１の製造コストを削減する。

【0052】

本開示の他のいくつかの実施例では、例えば、信号伝送線における信号伝送負荷を増加させ又は製造プロセスをさらに簡素化するなどの実際の様々なニーズに応じて、第１ダミー配線と信号伝送線は、異なる層に位置してもよく、又は、第１ダミー配線は、一部が信号伝送線と同じ層に設けられ、他部が信号伝送線とは異なる層に設けられるようにしてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0053】

なお、本開示の説明では、「同じ層」に位置することとは、同じ膜層に位置することを指す。例えば、同じ膜層に位置する配線は、同じプロセスで製造されてもよく、例えば、必要な配線が１回のパターニングプロセスで形成される。例えば、該表示基板０１がベース基板を備えると、ベース基板に垂直な方向に、同じ膜層に位置する配線とベース基板との距離は、同じであり又は略同じである。すなわち、該膜層における配線とベース基板との距離は、同じであり又は略同じである。以下の説明では、「同じ層」に位置することの意味は、上記説明を参照すればよく、繰り返し説明しない。

【0054】

なお、本開示の説明では、「異なる層」に位置することとは、異なる膜層に位置することを指し、これらの異なる膜層は、ビアが設けられていない位置で互いに絶縁される。例えば、異なる膜層に位置する配線を互いに電気的に接続する必要がある場合、ビアを設けることで、異なる膜層に位置する配線の電気的接続を実現する。例えば、これらの異なる膜層は、異なるプロセスで製造され、例えば、まず、第１プロセスでこれらの異なる膜層のうちの１つの膜層を製造し、次に、第２プロセスでこれらの異なる膜層のうちの別の膜層を製造する。例えば、第１プロセスが実施された後、第２プロセスが実施される前に、さらに第３プロセスで絶縁層を製造してもよく、該絶縁層は、異なる膜層の間に位置することで、異なる膜層をビアが設けられていない位置で互いに絶縁させる。例えば、第１プロセス、第２プロセス及び第３プロセスは、同じであってもよい又は異なってもよい。例えば、該表示基板０１がベース基板を備えると、ベース基板に垂直な方向に、異なる膜層とベース基板との距離は異なる。すなわち、異なる膜層のうち、一方の膜層はベース基板に近く、他方の膜層はベース基板から遠い。以下の説明では、「異なる層」に位置することの意味は、上記説明を参照すればよく、繰り返し説明しない。

【0055】

本開示のいくつかの実施例では、図３、図４及び図５に示すように、第１ダミー配線１２１と信号伝送線１１０の両方は、直線に沿って延び、互いに平行であり、それにより、第１ダミー配線１２１と信号伝送線１１０の第１表示領域１１におけるレイアウトの均一性及び整合性にさらに寄与し、表示基板０１のプロセス要件をさらに簡素化でき、表示基板０１の製造にさらに寄与する。

【0056】

なお、本開示の他のいくつかの実施例では、第１表示領域１１における発光素子又は他の構造、デバイスのレイアウト設計などの実際のニーズに応じて、第１ダミー配線１２１又は信号伝送線１１０は、曲線、折れ線又は他の適切な形状に沿って延びてもよく、又は、第１ダミー配線１２１の延び線と信号伝送線１１０の延び線とは、互いに交差してもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0057】

本開示のいくつかの実施例では、第１ダミー配線１２１は、第１電圧信号（例えば、高レベル信号又は接地信号などの低レベル信号）を受信するように構成されてもよく、又は、フローティング状態になるように構成されてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。例えば、第１ダミー配線１２１が、高レベル信号又は低レベル信号を受信することを例として、第１ダミー配線１２１は、信号伝送線１１０間の信号クロストークを軽減又は回避することができ、それにより回路環境の均一性及び安定性を向上させ、信号伝送線１１０の信号伝送効果を改善する。

【0058】

例えば、図３、図４及び図５に示すように、第１表示領域１１における複数の第１ダミー配線１２１は、第１方向Ｒ１とは異なる第２方向Ｒ２に沿って配列され、第１電圧信号を受信するように構成される。表示基板は、第２方向Ｒ２に沿って延び、複数の第１ダミー配線１２１を互いに電気的に接続して第１電圧信号を受信するように複数の第１ダミー配線１２１に電気的に接続される少なくとも１つの（例えば複数の）第２ダミー配線１２２をさらに備える。それにより、複数の第１ダミー配線１２１間の電気的接続効果を改善し、回路環境の均一性及び安定性をさらに向上させる。

【0059】

なお、第１方向Ｒ１と第２方向Ｒ２との夾角は、例えば７０°～９０°であってもよく、且つ７０°及び９０°を含む。例えば、第１方向Ｒ１と第２方向Ｒ２との夾角は、７０°、７５°、８５°、９０°又は８０°などであってもよく、該夾角の具体的な数は、実際の状況に応じて設定されてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0060】

例えば、複数の第１ダミー配線１２１のうちの少なくとも１つは、ビア構造を介して第１電圧信号を提供する第１電源線に電気的に接続され、例えば、該第１電源線は、表示用の第１電圧信号を第１画素回路４１２に提供するための電源線であってもよく、それにより、表示基板０１の配線レイアウトを簡素化し、表示基板０１の構造設計を最適化することができる。

【0061】

図６は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示基板の表示領域のエッジに近い部分の一例の模式図であり、例えば、図６に示す部分は、図３に示す部分領域ＲＥＧ４に位置してもよい。例えば、複数の第１ダミー配線１２１のうち、第２方向Ｒ２に表示基板０１のエッジに近い１つの第１ダミー配線１２１Ａは、ビア構造Ｈ３を介して第１電源線ＬＶＤＤに電気的に接続されて、第１電圧信号を受信し、該第１ダミー配線１２１Ａに接続された第２ダミー配線１２２Ａを介して、受信された第１電圧信号を、他の第１ダミー配線１２１及び／又は第２ダミー配線１２２に伝送する。

【0062】

なお、図６の第１電源配線ＬＶＤＤの形状、位置、第１ダミー配線１２１Ａとの重なり面積などは、例示的に説明に過ぎず、本開示の実施例は、第１電源配線ＬＶＤＤの具体的な形状、設置位置などを限定しない。本開示のいくつかの実施例では、第１電源配線ＬＶＤＤは、図６に示すように、１つの第１ダミー配線１２１Ａのみに電気的に接続されてもよいが、本開示の他のいくつかの実施例では、第１電源配線ＬＶＤＤは、２つ、３つ又は４つなどの複数の第１ダミー配線１２１Ａに電気的に接続されてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。本開示のいくつかの実施例では、第１電源配線ＬＶＤＤと第１ダミー配線１２１Ａとの電気的接続を実現するためのビア構造Ｈ３は、図６に示すように、１つのビアのみを備えてもよいが、本開示の他のいくつかの実施例では、第１電源配線ＬＶＤＤと第１ダミー配線１２１Ａとの電気的接続を実現するためのビア構造Ｈ３は、２つ、３つ又は４つなどの複数のビアを備えてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0063】

本開示のいくつかの実施例では、第２ダミー配線１２２は、図４に示すように、第１ダミー配線１２１と同じ層に位置してもよく、それにより、製造プロセスを簡素化し、製造コストを削減し、又は、本開示の他のいくつかの実施例では、第２ダミー配線１２２は、第１ダミー配線１２１とは異なる層に位置してもよく、例えば、第２ダミー配線１２２と第１ダミー配線１２１は、異なる膜層に位置し、異なる膜層は、ビアが設けられていない位置で互いに絶縁され、それにより、配線間の信号クロストークを軽減又は回避する。本開示の実施例はこれを限定しない。

【0064】

例えば、図３、図４及び図５に示すように、複数の第１ダミー配線１２１は、第２方向Ｒ２に沿って配列され、複数の信号伝送線１１０は、第２方向Ｒ２に沿って配列され、複数の信号伝送線１１０と複数の第１ダミー配線１２１は、配線アレイを構成し、１つの信号伝送線１１０は、配線アレイの１つのラインユニット１４０として機能し、１つの第１ダミー配線１２１は、配線アレイの１つのラインユニット１４０として機能し、配線アレイの少なくとも１つのラインユニット１４０と第２方向Ｒ２に隣接するラインユニット１４０との間の距離は等しい。すなわち、複数の第１ダミー配線１２１及び複数の信号伝送線１１０のうちの少なくとも１つの第１ダミー配線１２１又は信号伝送線１１０と、第２方向Ｒ２に隣接する（例えば、第２方向Ｒ２にその両側に位置する）２つの配線（この２つの配線は、第１ダミー配線１２１及び／又は信号伝送線１１０であってもよい）との間の距離は、等しい。それにより、第１表示領域１１における配線設計をさらに最適化し、第１表示領域１１における配線レイアウトの均一性及び整合性をさらに向上させ、それにより、第１表示領域１１を透過する光の均一性及び整合性をさらに向上させ、第１表示領域１１の光透過率を改善することができる。

【0065】

例えば、図３、図４及び図５に示すように、第１表示領域１１において、各信号伝送線１１０と、第２方向Ｒ２に隣接する２つの配線（この２つの配線は、第１ダミー配線１２１及び／又は信号伝送線１１０であってもよい）との間の距離は等しく、それにより、第１表示領域１１における配線レイアウトの均一性及び整合性を向上させ、さらに回路環境の均一性及び安定性を向上させ、それにより信号伝送線１１０の信号伝送効果を改善することができる。

【0066】

例えば、図２Ａ～図５に示すように、第１表示領域１１は、中間領域１１０１、及び第１方向Ｒ１に中間領域１１０１の両側（例えば、第１方向Ｒ１に中間領域１１０１を完全に取り囲む）に位置する周辺領域１１０２を備え、第１表示領域１１の中軸線Ｌ１１は、中間領域１１０１内に位置し、周辺領域１１０２は、第２表示領域１２に隣接し、複数の第１ダミー配線１２１の中間領域１１０１における単位面積あたりの分布比は、複数の第１ダミー配線１２１の周辺領域１１０２における単位面積あたりの分布比よりも大きい。例えば、第１表示領域１１内の周辺領域１１０２から中間領域１１０１への方向（例えば、第１表示領域１１の第１方向Ｒ１におけるエッジから中軸線Ｌ１１への方向）に沿って、複数の第１ダミー配線１２１の単位面積あたりの分布比は、徐々に増大する。複数の信号伝送線１１０の中間領域１１０１における単位面積あたりの分布比は、複数の信号伝送線１１０の周辺領域１１０２における単位面積あたりの分布比よりも小さく、例えば、第１表示領域１１内の周辺領域１１０２から中間領域１１０１への方向に沿って、複数の信号伝送線１１０の単位面積あたりの分布比は、徐々に減少し、従って、本開示の実施例に係る表示基板０１では、第１ダミー配線１２１の第１表示領域１１における分布形態は、信号伝送線１１０の第１表示領域１１における分布形態に適合でき、それにより、第１表示領域１１における配線設計をさらに最適化し、第１表示領域１１における配線レイアウトの均一性及び整合性をさらに向上させ、それにより第１表示領域１１を透過する光の均一性及び整合性をさらに向上させ、第１表示領域１１の光透過率を改善する。

【0067】

なお、上記「単位面積あたりの分布比」とは、配線の単位面積あたりの分布面積を指し、すなわち単位面積あたりの分布比が大きいほど、配線が単位面積あたりの領域内で被覆する面積が大きくなり、例えば、配線の長さが略同じである場合、配線が対応する領域内で密になり、数が多くなり、単位面積あたりの分布比が小さいほど、配線が単位面積あたりの領域内で被覆する面積が小さくなり、例えば、配線の長さが略同じである場合、配線が対応する領域内で疎らになり、数が少なくなる。

【0068】

本開示のいくつかの実施例では、信号伝送線１１０、第１ダミー配線１２１及び第２ダミー配線１２２は、それぞれ透明導電配線を備えてもよく、それにより表示基板０１の第１表示領域１１の光透過率をさらに向上させることができる。該透明導電配線は、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）又は他の適切な透明導電材料などで製造されてもよい。

【0069】

本開示のいくつかの実施例では、第１ダミー配線１２１の第２方向Ｒ２における幅は、信号伝送線１１０の第２方向Ｒ２における幅と同じであり、それにより、第１表示領域１１における第１ダミー配線１２１及び信号伝送線１１０の分布の均一性及び整合性をさらに向上させ、回路環境の均一性及び安定性を向上させ、それにより信号伝送線１１０の信号伝送効果を改善することができる。

【0070】

本開示のいくつかの実施例では、図３、図４及び図５に示すように、信号伝送線１１０は、信号伝送線１１０と第１発光素子４１１の陽極との間に位置する絶縁層を少なくとも貫通するビア構造Ｈ１を介して第１発光素子４１１の陽極に電気的に接続され、それにより第１発光素子４１１に電気信号を提供して第１発光素子４１１を発光駆動する。

【0071】

例えば、ビア構造Ｈ１の表示基板０１に平行な平面内での正投影と、第１ダミー配線１２１の表示基板０１に平行な平面内での正投影は、互いに重ならず、例えば、表示基板０１に垂直な方向に、第１ダミー配線１２１は、ビア構造Ｈ１の位置をできるだけ避けるように設けられる。それにより、第１ダミー配線１２１が第１発光素子４１１に提供された電気信号に与える可能性がある干渉を軽減又は回避し、それにより第１発光素子４１１の動作の安定性を向上させ、第１発光素子４１１の発光効果を改善することができる。

【0072】

なお、表示基板０１の実際の構造に基づき、ビア構造Ｈ１はさらに、絶縁層以外の、信号伝送線１１０と第１発光素子４１１の陽極との間に位置する他の膜層又は構造などを貫通して、信号伝送線１１０と第１発光素子４１１の陽極との電気的接続を実現することができ、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0073】

例えば、第１画素回路４１２は、薄膜トランジスタを備え、薄膜トランジスタは、ゲート、第１極及び第２極を備え、信号伝送線１１０は、薄膜トランジスタの第１極又は第２極に電気的に接続されて、第１画素回路４１２の出力信号を第１発光素子４１１に提供する。例えば、第１画素回路４１２の回路構造に基づき、該薄膜トランジスタは、第１画素回路４１２の駆動薄膜トランジスタであってもよく、第１画素回路４１２の発光制御薄膜トランジスタ、又は他のタイプの薄膜トランジスタであってもよい。

【0074】

図８は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示基板の積層構造模式図であり、該積層構造模式図は、主に第１画素回路４１２の部分構造及び第１発光素子４１１を模式的に示している。例えば、図８は、表示基板０１の図５に示すＡ－Ａ’線に沿った断面構造の模式図であってもよい。

【0075】

例えば、図５及び図８に示すように、表示基板０１は、ベース基板１０１上に位置するソースドレイン金属層（ＳＤ層）を備え、第１画素回路４１２の薄膜トランジスタ４１２Ｔの第１極及び第２極（すなわち、ソースドレイン電極、例えば、ソース４１２３及びドレイン４１２４）は、ソースドレイン金属層に位置する。

【0076】

第１発光素子４１１は、陽極４１１１、陰極４１１３、及び陽極４１１１と陰極４１１３との間に位置する１発光層４１１２を備え、第１発光素子４１１の陽極４１１１は、ソースドレイン金属層上に位置し、信号伝送線１１０及び第１ダミー配線１２１（図８では図示せず）が位置する膜層は、第１発光素子４１１の陽極４１１１とソースドレイン金属層との間に位置する。陽極４１１１は、ビア構造Ｈ１を介して信号伝送線１１０に電気的に接続され、さらに信号伝送線１１０を介して第１画素回路４１２に含まれる薄膜トランジスタ４１２Ｔに電気的に接続される。

【0077】

例えば、陽極４１１１は、複数の陽極サブ層を備えてもよく、例えば、ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯの三層構造など（図示せず）を備え、本開示の実施例は、陽極４１１１の具体的な形態を限定しない。例えば、陰極４１１３は、表示基板０１の表面全体に形成された構造であってもよく、陰極４１１３は、例えば、リチウム（Ｌｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）などの金属材料を含んでもよい。例えば、陰極４１１３が非常に薄い層として形成されるため、陰極４１１３は、光透過性に優れている。

【0078】

例えば、薄膜トランジスタ４１２Ｔは、活性層４１２１、ゲート４１２２及びソースドレイン電極（すなわち、ソース４１２３及びドレイン４１２４）などの構造を備える。例えば、活性層４１２１は、ベース基板１０１に設けられ、活性層４１２１のベース基板１０１から離れる側に第１ゲート絶縁層７４１が設けられる。ゲート４１２２は、第１ゲート絶縁層７４１のベース基板１０１から離れる側に位置し、ゲート４１２２のベース基板１０１から離れる側に第２ゲート絶縁層７４２が設けられる。ソースドレイン電極は、層間絶縁層７４３のベース基板１０１から離れる側に設けられ、第１ゲート絶縁層７４１、第２ゲート絶縁層７４２及び層間絶縁層７４３に位置するビアを介して活性層４１２１に電気的に接続される。ソースドレイン電極のベース基板１０１から離れる側に平坦化層７４４が設けられることで、第１画素回路４１２を平坦化する。

【0079】

例えば、平坦化層７４４にはビアＨ２があり、薄膜トランジスタ４１２Ｔのドレイン４１２４（又はソース４１２３）は、平坦化層７４４のビアＨ２を介して信号伝送線１１０に電気的に接続され、さらに信号伝送線１１０を介して陽極４１１１に電気的に接続される。

【0080】

例えば、第１表示領域１１は、ベース基板１０１上に位置する透明支持層７８をさらに備え、第１発光素子４１１は、透明支持層７８のベース基板１０１から離れる側に位置する。それにより、ベース基板１０１について、第１表示領域１１の第１発光素子４１１は、第２表示領域１２の第２発光素子（以下の第２表示領域１２及び第２発光素子４１２についての説明を参照すればよい）及び第３表示領域の第３発光素子（以下の第３表示領域１３及び第３発光素子４１３についての説明を参照すればよい）と略同じ高さにあってもよく、それにより表示基板０１の表示効果を向上させることができる。

【0081】

例えば、該表示基板０１は、画素定義層７４６、パッケージ層７４７などの構造をさらに備える。例えば、画素定義層７４６は、陽極４１１１（例えば、陽極４１１１の部分構造）に設けられ、異なる画素又はサブ画素を定義するように複数の開口部を備え、第１発光層４１１２は、画素定義層７４６の開口部に形成される。例えば、パッケージ層７４７は、単層又は多層のパッケージ構造を備えてもよく、多層のパッケージ構造は、例えば、無機パッケージ層と有機パッケージ層との積層を備えてもよく、それにより、表示基板０１のパッケージ効果を向上させる。

【0082】

例えば、本開示の各実施例では、ベース基板１０１は、ガラス基板、石英基板、金属基板又は樹脂基板などであってもよく、剛性基板又は可撓性基板であってもよい。本開示の実施例はこれを限定しない。

【0083】

例えば、第１ゲート絶縁層７４１、第２ゲート絶縁層７４２、層間絶縁層７４３及び平坦化層７４４、絶縁層７４５、画素定義層７４６、パッケージ層７４７は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素などの無機絶縁材料を含んでもよく、又は、ポリイミド、ポリフタルイミド、ポリフタルアミド、アクリル酸樹脂、ベンゾシクロブテン又はフェノール樹脂などの有機絶縁材料を含んでもよい。本開示の実施例は、上記各機能層の材料を具体的に限定しない。

【0084】

例えば、活性層４１２１の材料は、多結晶シリコン又は酸化物半導体（例えば、インジウムガリウム亜鉛酸化物）などの半導体材料を含んでもよい。例えば、活性層４１２１の一部は、高い導電性を有するように、ドーピングなどの導体化処理により導体化され得る。

【0085】

例えば、ゲート４１２２の材料は、例えば、モリブデン、アルミニウム及びチタンなどを含む金属材料又は合金材料を含んでもよい。

【0086】

例えば、ソース４１２３とドレイン４１２４の材料は、例えば、モリブデン、アルミニウム及びチタンなどで形成された金属単層又は多層構造のような金属材料又は合金材料を含んでもよく、例えば、該多層構造は、例えば、チタン、アルミニウム、チタンの三層金属積層（Ｔｉ ／Ａｌ／Ｔｉ）などの多層金属積層である。

【0087】

本開示のいくつかの実施例では、図１に示すように、表示領域１０は、第３表示領域１３をさらに備え、第３表示領域１３は、第２表示領域１２を少なくとも部分的に取り囲み（例えば、部分的に取り囲み）、第１表示領域１１、第２表示領域１２及び第３表示領域１３は、互いに重ならない。なお、いくつかの例では、表示基板０１は、第３表示領域１３を少なくとも部分的に取り囲む周辺領域をさらに備えてもよい。

【0088】

例えば、図２Ｂ及び図５に示すように、第２表示領域１２は、少なくとも１つの（例えば複数の）第２発光素子４２１、及び少なくとも１つの（例えば複数の）第２画素回路４２２をさらに備え、第２発光素子４２１は、第２画素回路４２２に電気的に接続され、例えば、１対１で対応して電気的に接続され、第２画素回路４２２は、第２発光素子４２１を発光駆動することに用いられる。なお、図５における符号４２２で示される矩形フレームは、第２画素回路４２２の大まかな位置を示すためのものに過ぎず、第２画素回路４２２の具体的な形状及び第２画素回路４２２の具体的な境界を表すものではない。例えば、複数の第２発光素子４２１は、アレイ状に配置され、複数の第２画素回路４２２も、アレイ状に配置される。例えば、少なくとも１つの第２発光素子４２１及び対応する第２画素回路４２２は、１つの第２画素駆動ユニット４２を構成する。

【0089】

なお、図５では、第２画素駆動ユニット４２は、１つの第２画素回路４２２及び１つの第２発光素子４２１を備えてもよく、又は、複数の第２画素回路４２２及び複数の第２発光素子４２１を備えてもよい。第２画素駆動ユニット４２が複数の第２画素回路４２２及び複数の第２発光素子４２１を備えると、各第２画素駆動ユニット４２の第２画素回路４２２の数は、例えば、第２発光素子４２１の数に等しく、それにより１対１で対応する駆動を実現する。

【0090】

例えば、複数の第２発光素子４２１は、アレイ状に配置され、複数の第２画素回路４２２も、アレイ状に配置される。ここでは、「アレイ状に配置される」とは、複数のデバイスが１組になり、複数組のデバイスがアレイ状に配置されることを指してもよく、複数のデバイス自体がアレイ状に配置されることを指してもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。例えば、いくつかの例では、図５に示すように、４つごとの第２発光素子４２１が１組になり、複数組の第２発光素子４２１がアレイ状に配置され、それに対応して、４つごとの第２画素回路４２２が１組になり、複数組の第２画素回路４２２がアレイ状に配置され、このとき、各第２画素駆動ユニット４２には、４つの第２画素回路４２２及び４つの第２発光素子４２１が備えられる。

【0091】

図９は図１に示す表示基板の第３表示領域１３の部分領域ＲＥＧ３の拡大図である。

【0092】

例えば、図９に示すように、第３表示領域１３は、少なくとも１つの（例えば複数の）第３発光素子４３１、及び少なくとも１つの（例えば複数の）第３画素回路４３２を備え、第３発光素子４３１は、第３画素回路４３２に電気的に接続され、例えば、１対１で対応して電気的に接続され、第３画素回路４３２は、第３発光素子４３１を発光駆動することに用いられる。なお、図９における符号４３２で示される矩形フレームは、第３画素回路４３２の大まかな位置を示すためのものに過ぎず、第３画素回路４３２の具体的な形状及び第３画素回路４３２の具体的な境界を表すものではない。例えば、複数の第３発光素子４３１は、アレイ状に配置され、複数の第３画素回路４３２も、アレイ状に配置される。例えば、少なくとも１つの第３発光素子４３１及び対応する第３画素回路４３２は、１つの第３画素駆動ユニット４３を構成する。

【0093】

なお、図９では、第３画素駆動ユニット４３は、１つの第３画素回路４３２及び１つの第３発光素子４３１を備えてもよく、又は、複数の第３画素回路４３２及び複数の第３発光素子４３１を備えてもよい。第３画素駆動ユニット４３が複数の第３画素回路４３２及び複数の第３発光素子４３１を備えると、各第３画素駆動ユニット４３の第３画素回路４３２の数は、例えば、第３発光素子４３１の数に等しく、それにより１対１で対応する駆動を実現する。

【0094】

例えば、複数の第３発光素子４３１は、アレイ状に配置され、複数の第３画素回路４３２も、アレイ状に配置される。ここでは、「アレイ状に配置される」とは、複数のデバイスが１組になり、複数組のデバイスがアレイ状に配置されることを指してもよく、複数のデバイス自体がアレイ状に配置されることを指してもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。例えば、いくつかの例では、図９に示すように、４つごとの第３発光素子４３１が１組になり、複数組の第３発光素子４３１がアレイ状に配置され、それに対応して、４つごとの第３画素回路４３２が１組になり、複数組の第３画素回路４３２がアレイ状に配置され、このとき、各第３画素駆動ユニット４３には、４つの第３画素回路４３２及び４つの第３発光素子４３１が備えられる。

【0095】

例えば、第１表示領域１１における複数の第１発光素子４１１の単位面積あたりの分布密度は、第２表示領域１２における複数の第２発光素子４２１の単位面積あたりの分布密度よりも小さく、第２表示領域１２における複数の第２発光素子４２１の単位面積あたりの分布密度は、第３表示領域１３における複数の第３発光素子４３１の単位面積あたりの分布密度よりも小さい。例えば、第１表示領域１１と第２表示領域１２は、表示基板０１の低解像度領域と呼ばれ得、それに対応して、第３表示領域１３は、表示基板０１の高解像度領域と呼ばれ得る。例えば、第２表示領域１２と第１表示領域１１の画素発光面積の合計は、第３表示領域１３の画素発光面積の１／８～１／２であってもよい。

【0096】

なお、いくつかの例では、第１表示領域１１における複数の第１発光素子４１１の単位面積あたりの分布密度は、第２表示領域１２における複数の第２発光素子４２１の単位面積あたりの分布密度に等しくてもよく、実際のニーズに応じて決められてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0097】

第１表示領域１１、第２表示領域１２及び第３表示領域１３における発光素子の単位面積あたりの分布密度を順に増大させることにより、３つの表示領域が正常に発光して画面を表示することを確保するとともに、表示基板０１の第１側の光が第１表示領域１１を透過して第２側に到達することが容易であり、さらに表示基板０１の第２側に設けられたセンサが光を感知することが容易である。

【0098】

例えば、第１発光素子４１１、第２発光素子４２１及び第３発光素子４３１は、それぞれ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を備える。もちろん、本開示の実施例はこれに限定されず、第１発光素子４１１、第２発光素子４２１及び第３発光素子４３１はさらに、量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）又は他の適切な発光デバイスであってもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0099】

例えば、本開示の実施例に係る表示基板０１は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示基板又は量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）表示基板などであってもよく、本開示の実施例は、表示基板の具体的なタイプを限定しない。

【0100】

例えば、表示基板が有機発光ダイオード表示基板である場合、発光層（例えば、上記第１発光層４１１２）は、小分子有機材料又はポリマー分子有機材料を含んでもよく、蛍光発光材料又は燐光発光材料であってもよく、赤色光、緑色光、青色光、又は白色光などを放出することができる。また、実際の様々なニーズに応じて、異なる例では、発光層は、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層、正孔輸送層などの機能層をさらに備えてもよい。

【0101】

例えば、表示基板が量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）表示基板である場合、発光層（例えば、上記第１発光層４１１２）は、シリコン量子ドット、ゲルマニウム量子ドット、硫化カドミウム量子ドット、セレン化カドミウム量子ドット、テルル化カドミウム量子ドット、セレン化亜鉛量子ドット、硫化鉛量子ドット、セレン化鉛量子ドット、リン化インジウム量子ドット及びヒ化インジウム量子ドットなどの量子ドット材料を含んでもよく、量子ドットの粒径は、例えば２ｎｍ～２０ｎｍである。

【0102】

本開示の少なくとも１つの実施例は、本開示のいずれかの実施例に係る表示基板を備える表示装置をさらに提供する。

【0103】

図１０は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示装置の模式的なブロック図である。例えば、図１０に示すように、該表示装置３０は、表示基板３１０を備え、表示基板３１０は、例えば、上記表示基板０１のような本開示のいずれかの実施例に係る表示基板であってもよい。

【0104】

該表示装置３０は、例えば、スマートフォン、ノートパソコン、タブレットＰＣ、テレビなど表示機能を備えた任意の電子装置であってもよい。例えば、表示装置３０がスマートフォン又はタブレットＰＣである場合、該スマートフォン又はタブレットＰＣは、全画面設計を有し、すなわち、例えば、第１表示領域１１、第２表示領域１２又は第３表示領域１３を取り囲む周辺領域がないようにしてもよい。また、該スマートフォン又はタブレットＰＣは、画面下センサ（例えば、カメラ、赤外線センサなど）をさらに有し、画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を実行できる。

【0105】

なお、該表示基板３１０及び表示装置３０の他の構成部分（例えば、画像データ符号化／復号装置、クロック回路など）については、適切な部材を用いてもよく、これらはいずれも当業者にとって理解されるべきものであり、ここでは繰り返し説明されず、本開示の実施例を限定するものではない。

【0106】

図１１は本開示の少なくとも１つの実施例に係る表示装置の積層構造模式図である。例えば、図１１に示すように、該表示装置３０は、表示基板３１０を備え、表示基板３１０は、上記表示基板０１のような本開示のいずれかの実施例に係る表示基板であってもよい。例えば、該表示装置３０は、センサ３２０をさらに備える。

【0107】

例えば、表示基板３１０が上記表示基板０１であることを例として、該表示基板０１は、表示用の第１側Ｆ１と、第１側Ｆ１に対向する第２側Ｆ２とを有する。すなわち、第１側Ｆ１は表示側、第２側Ｆ２は非表示側である。表示基板０１は、第１側Ｆ１で表示操作を実行するように構成され、すなわち、表示基板０１の第１側Ｆ１は、表示基板０１の出光側であり、第１側Ｆ１はユーザに面している。第１側Ｆ１と第２側Ｆ２は、表示基板０１の表示面の法線方向に対向して設けられる。

【0108】

図１１に示すように、センサ３２０は、表示基板０１の第２側Ｆ２に設けられ、第１側Ｆ１からの光を受光するように構成される。例えば、センサ３２０と第１表示領域１１は、表示基板０１の表示面の法線方向（例えば、表示基板０１に垂直な方向）に積み重ねられ、センサ３２０は、第１表示領域１１を貫通する光信号を受信して処理することができ、該光信号は、可視光、赤外光などであってもよい。例えば、第１表示領域１１は、第１側Ｆ１からの光が少なくとも部分的に第２側Ｆ２に透過することを可能にする。例えば、第１表示領域１１には画素回路が設けられておらず、この場合、第１表示領域１１の光透過率を向上させることができる。

【0109】

例えば、センサ３２０の表示基板０１における正投影は、第１表示領域１１と少なくとも部分的に重なる。例えば、いくつかの例では、直下型の設置形態が用いられると、センサ３２０の表示基板０１における正投影は、第１表示領域１１内にある。例えば、別のいくつかの例では、他の導光素子（例えば、導光板、導光管など）を用いて光を側面からセンサ３２０に入射させると、センサ３２０の表示基板０１における正投影は、第１表示領域１１と部分的に重なる。このとき、光がセンサ３２０に横方向に伝播できるため、センサ３２０が第１表示領域１１に対応する位置に完全に位置する必要はない。

【0110】

例えば、第１画素回路４１２を第２表示領域１２に設け、センサ３２０と第１表示領域１１を表示基板０１の表示面の法線方向に積み重ねることにより、第１表示領域１１の素子が第１表示領域１１に入射されてセンサ３２０に照射される光信号を遮断することを減らし、それにより、センサ３２０によって出力される画像の信号対雑音比を向上させることができる。例えば、第１表示領域１１は、表示基板０１の低解像度領域の高光透過領域と呼ばれ得る。

【0111】

例えば、センサ３２０は、センサ３２０の集光面に面する外部環境の画像を収集できる画像センサであってもよく、例えば、ＣＭＯＳ画像センサ又はＣＣＤ画像センサであってもよい。該センサ３２０は、赤外線センサ、距離センサなどであってもよい。例えば、該表示装置３０が携帯電話、ノートパソコンなどの携帯端末である場合、該センサ３２０は、携帯電話、ノートパソコンなどの携帯端末のカメラとして実現されてもよく、必要に応じて、光路を変調するように、レンズ、反射鏡又は光導波路などの光学デバイスを備えてもよい。例えば、該センサ３２０は、アレイ状に配置された感光画素を備えてもよい。例えば、各感光画素は、感光検出器（例えば、フォトダイオード、フォトトランジスタ）及びスイッチングトランジスタ（例えば、スイッチング薄膜トランジスタ）を備えてもよい。例えば、フォトダイオードは、照射された光信号を電気信号に変換でき、スイッチングトランジスタは、フォトダイオードに電気的に接続されることで、フォトダイオードが光信号を収集する状態にあるか否か、及び光信号の収集時間を制御することができる。

【0112】

いくつかの例では、第１発光素子４１１の陽極は、ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯの積層構造を用い、この場合、第１表示領域１１では、第１発光素子４１１の陽極のみが不透明であり、すなわち、第１発光素子４１１を駆動するための配線（例えば、上記信号伝送線１１０）、第１発光素子４１１から互いに絶縁される配線（例えば、上記第１ダミー配線１２１又は第２ダミー配線１２２）は、透明配線として設けられる。この場合、第１表示領域１１の光透過率をさらに向上させるだけでなく、第１表示領域１１を透過する光の均一性及び整合性を向上させ、さらにセンサ３２０が光を受光する時に発生する可能性がある反射などの問題を軽減又は回避することができ、それによりセンサ３２０が画像撮影、距離感知、光強度感知などの操作を正確に実現することに寄与し、表示装置３０（例えば、全画面表示装置）の性能を向上させることに寄与する。

【0113】

なお、本開示の実施例では、表示装置３０は、より多くの部材及び構造をさらに備えてもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。該表示装置３０の技術的効果及び詳細な説明は、上記表示基板０１についての説明を参照すればよく、ここでは繰り返し説明しない。

【0114】

例えば、上記表示装置３０は、表示基板、表示パネル、電子ペーパー、携帯電話、タブレットＰＣ、テレビ、ディスプレイ、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム、ナビゲータなど表示機能を備えた任意の製品又は部材であってもよく、本開示の実施例はこれを限定しない。

【0115】

本開示の実施例に係る表示装置３０の具体的な説明及び技術的効果は、本開示の実施例に係る表示基板の対応する内容を参照すればよく、例えば、上記実施例の表示基板０１の対応する内容を参照すればよく、ここでは繰り返し説明しない。

【0116】

さらに以下の点を説明する必要がある。

【0117】

（１）本開示の実施例の図面は、本開示の実施例に係る構造のみに関し、他の構造は通常の設計を参照すればよい。

【0118】

（２）明確にするために、本開示の実施例を説明するための図面において、層又は領域の厚さが拡大又は縮小されており、すなわち、これらの図面は実際の縮尺で描かれていない。理解できるように、層、膜、領域又は第１基板などの素子が別の素子の「上」又は「下」に位置すると記載される場合、該素子は別の素子の「上」又は「下」に「直接」位置してもよく、又は中間素子が存在してもよい。

【0119】

（３）矛盾がない限り、本開示の実施例及び実施例の特徴を互いに組み合わせて新たな実施例を得ることができる。

【0120】

以上は、本開示の具体的な実施形態に過ぎないが、本開示の保護範囲はこれに限定されず、当業者が本開示に開示されている技術的範囲内に容易に想到できる変化や置換は、いずれも本開示の保護範囲内に含まれるべきである。従って、本開示の保護範囲は、特許請求の範囲の保護範囲に準じるべきである。

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【国際調査報告】