(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-08-21
(54)【発明の名称】フリンジモアレと光モアレ効果を使用した位置ずれ計測
(51)【国際特許分類】
G01B 11/00 20060101AFI20230814BHJP
【ＦＩ】
G01B11/00 H
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023503423
(86)(22)【出願日】2021-07-21
(85)【翻訳文提出日】2023-03-14
(86)【国際出願番号】 US2021042451
(87)【国際公開番号】W WO2022020402
(87)【国際公開日】2022-01-27
(31)【優先権主張番号】16/935,117
(32)【優先日】2020-07-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】500049141
【氏名又は名称】ケーエルエー コーポレイション
(74)【代理人】
【識別番号】110001210
【氏名又は名称】弁理士法人ＹＫＩ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】フェラー ヨエル
(72)【発明者】
【氏名】ギノフカー マーク
(72)【発明者】
【氏名】グレビッチ エフゲニー
(72)【発明者】
【氏名】レビンスキ ウラディミール
(72)【発明者】
【氏名】スヴィッツァー アレキサンダー
【テーマコード（参考）】
2F065
【Ｆターム（参考）】
2F065AA07
2F065AA20
2F065BB02
2F065FF06
2F065FF48
2F065GG21
2F065JJ03
2F065JJ26
2F065LL33
2F065LL42
2F065LL53
2F065LL55
2F065LL59
2F065MM03
2F065MM04
2F065PP12
2F065TT02
(57)【要約】
計測システム及び計測方法が開示される。計測システムは、照明サブシステム、収集サブシステム、検出器、及びコントローラを含む。コントローラは、サンプル上のオーバレイターゲットの画像を受け取り、測定方向に沿う２つのワーキングゾーン間の見かけのオーバレイを画像に基づいて決定し、２つのサンプル層間のオーバレイを、見かけのオーバレイをモアレ利得で除算することによって計算し、モアレ干渉を補償するように構成される。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
イメージングシステムであって、オーバレイターゲットを少なくとも１つの照明ローブを用いて照射するように構成された照明サブシステムであって、前記オーバレイターゲットが少なくとも第１のワーキングゾーン及び第２のワーキングゾーンを、測定方向に沿うオーバレイ測定のために含んでおり、ここで少なくとも前記第１のワーキングゾーンが２つのサンプル層上に前記測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されたモアレパターンを含み、前記２つのサンプル層上の前記周期構造の周期が異なる、照明サブシステム、
前記第１のワーキングゾーンによる前記少なくとも１つの照明ローブの各々の回折に関連するゼロ次回折及び１つのモアレ回折次数を収集するように構成された収集サブシステムであって、前記第２のワーキングゾーンによる前記少なくとも１つの照明ローブの各々の回折に関連するゼロ次回折及び１つの追加の回折次数を収集するように更に構成される、収集サブシステム、及び、
前記オーバレイターゲットの画像を、前記収集サブシステムによって収集された光を使用して生成するように構成された検出器、
を含む、イメージングシステムと、
前記イメージングシステムに結合されるように構成されたコントローラであって、プログラム命令を実行するように構成された１つ以上のプロセッサを含み、プログラム命令が前記１つ以上のプロセッサに、
前記オーバレイターゲットの前記画像を受け取らせ、ここで前記画像内の前記第１のワーキングゾーンの見かけの周期はモアレ干渉に基づいており、
前記第１のワーキングゾーンと前記第２のワーキングゾーンの間で前記測定方向に沿った見かけのオーバレイを、前記画像に基づいて決定させ、そして、
前記２つのサンプル層の間のオーバレイを、モアレ利得で前記見かけのオーバレイを除算することによって計算させて、モアレ干渉を補償させる、
コントローラと、
を備える、計測システム。
【請求項2】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記オーバレイターゲットに対して約９０°の角度で前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項１に記載の計測システム。
【請求項3】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記第１のワーキングゾーン又は前記第２のワーキングゾーンの少なくとも１つの中心部分又はその近くで前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項２に記載の計測システム。
【請求項4】
前記少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを前記オーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む、請求項１に記載の計測システム。
【請求項5】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて同時に照射する、請求項４に記載の計測システム。
【請求項6】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて順次照射する、請求項４に記載の計測システム。
【請求項7】
前記２つの照明ローブは前記測定方向に沿って向けられる、請求項４に記載の計測システム。
【請求項8】
前記２つの照明ローブは、前記測定方向に対して非ゼロ角度に向けられる、請求項４に記載の計測システム。
【請求項9】
前記収集サブシステムは、前記オーバレイターゲットの第１の画像を、前記第１のワーキングゾーンによる前記少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連する前記ゼロ次回折と１つのモアレ回折次数に基づいて生成し、前記オーバレイターゲットの第２の画像を、前記第２のワーキングゾーンによる前記少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連する前記ゼロ次回折と１つの追加の回折次数に基づいて生成し、ここで前記コントローラは更に、前記第１の画像及び前記第２の画像に関連付けられた見かけのオーバレイを平均することによって前記見かけのオーバレイを決定するように構成される、請求項１に記載の計測システム。
【請求項10】
前記少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを前記オーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む、請求項９に記載の計測システム。
【請求項11】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて同時に照射し、ここで前記収集サブシステムは、前記第１の画像及び前記第２の画像を、前記第１のワーキングゾーンに関連する収集された光を前記第２のワーキングゾーンに関連する収集された光から分離することによって同時に生成する、請求項１０に記載の計測システム。
【請求項12】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて順次照射する、請求項１０に記載の計測システム。
【請求項13】
前記第１のワーキングゾーンの前記モアレパターンは、第１のモアレパターンであり、前記第２のワーキングゾーンは、前記２つのサンプル層上の前記測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成される第２のモアレパターンを含み、前記第２のワーキングゾーンにおける前記２つのサンプル層上の前記周期構造の周期は異なり、前記第２のモアレパターンは前記第１のモアレパターンとは異なる、請求項１に記載の計測システム。
【請求項14】
計測方法であって、サンプル上のオーバレイターゲットの画像を、少なくとも１つの照明ローブを用いた前記オーバレイターゲットの照射に基づき受け取ることであって、前記オーバレイターゲットは、少なくとも第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンを測定方向に沿ったオーバレイ測定のために含み、ここで少なくとも前記第１のワーキングゾーンは、２つのサンプル層上の前記測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されるモアレパターンを含み、前記２つのサンプル層上の前記周期構造の周期が異っており、
ここで前記画像は、前記第１のワーキングゾーンによる前記少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折と１つのモアレ回折次数に基づいており、前記画像は更に、前記第２のワーキングゾーンによる前記少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折と１つの追加の回折次数に基づいており、前記画像における前記第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づいており、
前記第１のワーキングゾーンと前記第２のワーキングゾーンの間で前記測定方向に沿った見かけのオーバレイを、前記画像に基づいて決定すること、及び、
前記２つのサンプル層間のオーバレイを、モアレ利得で前記見かけのオーバレイを除算することによって計算し、前記モアレ干渉を補償すること、
を含む、計測方法。
【請求項15】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記オーバレイターゲットに対して約９０°の角度で前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項１４に記載の計測方法。
【請求項16】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記第１のワーキングゾーン又は前記第２のワーキングゾーンの少なくとも１つの中心部分又はその近くで前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項１５に記載の計測方法。
【請求項17】
前記少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを前記オーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む、請求項１４に記載の計測方法。
【請求項18】
計測システムであって、イメージングシステムが、
オーバレイターゲットを少なくとも１つの照明ローブを用いて照射するように構成された照明サブシステムであって、前記オーバレイターゲットが少なくとも第１のワーキングゾーン及び第２のワーキングゾーンを、測定方向に沿うオーバレイ測定のために含んでおり、ここで少なくとも前記第１のワーキングゾーンが２つのサンプル層上に前記測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されたモアレパターンを含み、前記２つのサンプル層は第１のサンプル層及び第２のサンプル層を含み、前記２つのサンプル層上の前記周期構造の周期が異なる、照明サブシステム、
前記第１のワーキングゾーンに関連する前記２つのサンプル層のそれぞれから１次回折を収集するように構成された収集サブシステムであって、前記第２のワーキングゾーンに関連する前記２つのサンプル層のそれぞれから１次回折を収集するように更に構成される、収集サブシステム、及び、
前記オーバレイターゲットの画像を、前記収集サブシステムによって収集された光を使用して生成するように構成された検出器、
を含む、イメージングシステムと、
前記イメージングシステムに結合されるように構成されたコントローラであって、プログラム命令を実行するように構成された１つ以上のプロセッサを含み、プログラム命令が前記１つ以上のプロセッサに、
前記オーバレイターゲットの前記画像を受け取らせ、ここで前記画像内の前記第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、前記検出器でのモアレ干渉に基づき、
前記画像をフィルタリングさせて前記モアレ干渉を分離させ、
前記第１のワーキングゾーンと前記第２のワーキングゾーンの間で前記測定方向に沿った見かけのオーバレイを、前記画像に基づいて決定させ、そして、
前記２つのサンプル層の間のオーバレイを、モアレ利得で前記見かけのオーバレイを除算することによって計算させて、前記モアレ干渉を補償させる、
コントローラと、
を備える、計測システム。
【請求項19】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記オーバレイターゲットに対して約９０°の角度で前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項１８に記載の計測システム。
【請求項20】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記第１のワーキングゾーン又は前記第２のワーキングゾーンの少なくとも１つの中心部分又はその近くで前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項１９に記載の計測システム。
【請求項21】
前記収集サブシステムは、１つ以上のブロッカを含み、前記第１のワーキングゾーン又は前記第２のワーキングゾーンのうちの少なくとも１つからのゼロ次回折をブロックする、請求項１８に記載の計測システム。
【請求項22】
前記収集サブシステムの開口数は、前記照明サブシステムの開口数よりも小さく、前記第１のワーキングゾーン又は前記第２ワーキングゾーンの少なくとも１つからのゼロ次回折の収集を防止する、請求項１８に記載の計測システム。
【請求項23】
前記少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを前記オーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む、請求項１８に記載の計測システム。
【請求項24】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて同時に照射する、請求項２３に記載の計測システム。
【請求項25】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて順次照射する、請求項２３に記載の計測システム。
【請求項26】
前記２つの照明ローブは前記測定方向に沿って向けられる、請求項２３に記載の計測システム。
【請求項27】
前記２つの照明ローブは、前記測定方向に対して非ゼロ角度に向けられる、請求項２３に記載の計測システム。
【請求項28】
前記収集サブシステムは、前記オーバレイターゲットの第１の画像を、前記第１のワーキングゾーンに関連付けられた前記２つのサンプル層のそれぞれからの前記１次回折に基づいて生成し、前記オーバレイターゲットの第２の画像を、前記第２のワーキングゾーンに関連付けられた前記２つのサンプル層のそれぞれからの前記１次回折に基づいて生成し、前記コントローラは、前記見かけのオーバレイを、前記第１の画像及び前記第２の画像に関連付けられた見かけのオーバレイを平均することによって決定するように更に構成される、請求項１８に記載の計測システム。
【請求項29】
前記少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを前記オーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む、請求項１８に記載の計測システム。
【請求項30】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて同時に照射し、ここで前記収集サブシステムは、前記第１の画像及び前記第２の画像を、前記第１のワーキングゾーンに関連する収集された光を前記第２のワーキングゾーンに関連する収集された光から分離することによって同時に生成する、請求項２９に記載の計測システム。
【請求項31】
前記照明サブシステムは、前記オーバレイターゲットを前記２つの照明ローブを用いて順次照射する、請求項３０に記載の計測システム。
【請求項32】
計測方法であって、サンプル上のオーバレイターゲットの画像を、少なくとも１つの照明ローブを用いた前記オーバレイターゲットの照射に基づき受け取ることであって、前記オーバレイターゲットは、少なくとも第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンを測定方向に沿ったオーバレイ測定のために含み、ここで少なくとも前記第１のワーキングゾーンは、２つのサンプル層上の前記測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されるモアレパターンを含み、前記２つのサンプル層上の前記周期構造の周期が異なっており、
ここで前記画像は、前記第１のワーキングゾーンに関連する前記２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に基づいており、前記画像は、前記第２のワーキングゾーンに関連する前記２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に更に基づいており、前記画像における前記第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づいており、
前記第１のワーキングゾーンと前記第２のワーキングゾーンの間で前記測定方向に沿った見かけのオーバレイを、前記画像に基づいて決定すること、及び、
前記２つのサンプル層間のオーバレイを、モアレ利得で前記見かけのオーバレイを除算することによって計算し、前記モアレ干渉を補償すること、
を含む、計測方法。
【請求項33】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記オーバレイターゲットに対して約９０°の角度で前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項３２に記載の計測方法。
【請求項34】
前記少なくとも１つの照明ローブは、前記第１のワーキングゾーン又は前記第２のワーキングゾーンの少なくとも１つの中心部分又はその近くで前記オーバレイターゲットを照射するように構成される、請求項３３に記載の計測方法。
【請求項35】
前記少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを２つの斜照射角で含む、請求項３２に記載の計測方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、一般に、イメージングオーバレイ計測に関し、特に、モアレ要素を有するイメージングオーバレイターゲットに関する。
【背景技術】
【0002】
オーバレイ計測に対する設計ルールの縮小と仕様のより高い要求により、オーバレイ計測方法の感度と堅牢性に対する要求が高まっている。オーバレイ計測は、通常、関心のある複数のサンプル層に作製されたフィーチャを有する専用の計測ターゲットを作製することによって実行される。したがって、作製された計測ターゲットの分析は、関心のあるサンプル層の間のオーバレイ誤差（例えば、相対位置合わせ誤差）の測定値を提供し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０１９／０２１９９３０号
【特許文献2】米国特許出願公開第２００７／０２７９６３０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
多種多様なオーバレイ計測ターゲットの設計が提案されているが、計測ターゲットの設計、及び作製された計測ターゲットを正確かつ効率的に分析するための測定方法を改善する必要性が継続的に存在する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
計測システムが、本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って開示される。１つの例示的な実施形態では、計測システムはイメージングシステムを含む。別の例示的な実施形態では、イメージングシステムは、（１）オーバレイターゲットを少なくとも１つの照明ローブを用いて、オーバレイターゲットに対して斜照射角で照射するように構成された照明サブシステムであって、オーバレイターゲットが少なくとも第１のワーキングゾーン及び第２のワーキングゾーンを、測定方向に沿うオーバレイ測定のために含んでおり、少なくとも第１のワーキングゾーンが２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されたモアレパターンを含み、２つのサンプル層上の周期構造の周期が異なる、照明サブシステム、（２）第１のワーキングゾーンによる少なくとも１つの照明ローブの各々の回折に関連するゼロ次回折及び１つのモアレ回折次数を収集するように構成された収集サブシステムであって、第２のワーキングゾーンによる少なくとも１つの照明ローブの各々の回折に関連するゼロ次回折及び１つの追加の回折次数を収集するように更に構成される、収集サブシステム、及び、（３）オーバレイターゲットの画像を、収集サブシステムによって収集された光を使用して生成するように構成された検出器を含む。別の例示的な実施形態では、計測システムは、イメージングシステムに結合されるように構成されたコントローラを備え、コントローラは、プログラム命令を実行するように構成された１つ以上のプロセッサを含み、プログラム命令は１つ以上のプロセッサに、（ａ）サンプル上のオーバレイターゲットの画像を受け取らせ、ここで画像内の第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づき、（ｂ）第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間の、測定方向に沿った見かけのオーバレイを、画像に基づいて決定させ、そして（ｃ）２つのサンプル層の間のオーバレイを、モアレ利得で見かけのオーバレイを除算することによって計算させて、モアレ干渉を補償させる。
【0006】
別の例示的な実施形態では、少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブをオーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む。
【0007】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて同時に照射する。
【0008】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて順次照射する。
【0009】
別の例示的な実施形態では、２つの照明ローブは測定方向に沿って向けられる。
【0010】
別の例示的な実施形態では、２つの照明ローブは、測定方向に対して非ゼロ角度に向けられる。
【0011】
別の例示的な実施形態では、収集サブシステムは、オーバレイターゲットの第１の画像を、第１のワーキングゾーンによる少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折と１つのモアレ回折次数に基づいて生成し、ここで収集サブシステムは、オーバレイターゲットの第２の画像を、第２のワーキングゾーンによる少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折と１つの追加の回折次数に基づいて生成し、ここでコントローラは更に、第１の画像及び第２の画像に関連付けられた見かけのオーバレイを平均することによって見かけのオーバレイを決定するように構成される。
【0012】
別の例示的な実施形態では、少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブをオーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む。
【0013】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブで同時に照射し、ここで収集サブシステムは、第１の画像及び第２の画像を、第１のワーキングゾーンに関連する収集された光を第２のワーキングゾーンに関連する収集された光から分離することによって同時に生成する。
【0014】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて順次照射する。
【0015】
別の例示的な実施形態では、第１のワーキングゾーンのモアレパターンは、第１のモアレパターンであり、ここで第２のワーキングゾーンは、２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成される第２のモアレパターンを含み、ここで第２のワーキングゾーンにおける２つのサンプル層上の周期構造の周期は異なり、第２のモアレパターンは第１のモアレパターンとは異なる。
【0016】
計測方法は、本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って開示される。１つの例示的な実施形態では、計測方法は、サンプル上のオーバレイターゲットの画像を、オーバレイターゲットに対して少なくとも１つの照明ローブを斜照射角で用いたオーバレイターゲットの照射に基づき受け取ることを含み、オーバレイターゲットは、少なくとも第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンを測定方向に沿ったオーバレイ測定のために含み、ここで少なくとも第１のワーキングゾーンは、２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されるモアレパターンを含み、２つのサンプル層上の周期構造の周期は異なり、画像は、第１のワーキングゾーンによる少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折と１つのモアレ回折次数に基づき、画像は更に、第２のワーキングゾーンによる少なくとも１つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折と１つの追加の回折次数に基づき、画像における第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づく。別の例示的な実施形態では、計測方法は、第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間の測定方向に沿う見かけのオーバレイを、画像に基づき決定することを含む。別の例示的な実施形態では、計測方法は、２つのサンプル層間のオーバレイを、モアレ利得で見かけのオーバレイを除算することによって計算し、モアレ干渉を補償することを含む。
【0017】
別の例示的な実施形態では、少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを、オーバレイターゲットに対する２つの斜照射角で含む。
【0018】
計測システムが、本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って開示される。１つの例示的な実施形態では、計測システムはイメージングシステムを含む。別の例示的な実施形態では、イメージングシステムは、（１）オーバレイターゲットを少なくとも１つの照明ローブを用いて、オーバレイターゲットに対して斜照射角で照射するように構成された照明サブシステムであって、オーバレイターゲットが少なくとも第１のワーキングゾーン及び第２のワーキングゾーンを、測定方向に沿うオーバレイ測定のために含んでおり、少なくとも第１のワーキングゾーンが２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されたモアレパターンを含み、２つのサンプル層は第１のサンプル層及び第２のサンプル層を含み、２つのサンプル層上の周期構造の周期が異なる、照明サブシステム、（２）第１のワーキングゾーンに関連する２つのサンプル層のそれぞれから１次回折を収集するように構成された収集サブシステムであって、第２のワーキングゾーンに関連する２つのサンプル層のそれぞれから１次回折を収集するように更に構成される、収集サブシステム、及び、（３）オーバレイターゲットの画像を、収集サブシステムによって収集された光を使用して生成するように構成された検出器を含む。別の例示的な実施形態では、計測システムは、イメージングシステムに結合されるように構成されたコントローラを含み、コントローラは、プログラム命令を実行するように構成された１つ以上のプロセッサを含み、プログラム命令は１つ以上のプロセッサに、（ａ）サンプル上のオーバレイターゲットの画像を受け取らせ、ここで画像内の第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、検出器でのモアレ干渉に基づき、（ｂ）画像をフィルタリングさせてモアレ干渉を分離させ、（ｃ）第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間の測定方向に沿った見かけのオーバレイを、画像に基づいて決定させ、そして（ｄ）２つのサンプル層の間のオーバレイを、モアレ利得で見かけのオーバレイを除算することによって計算させて、モアレ干渉を補償させる。
【0019】
別の例示的な実施形態では、収集サブシステムは、１つ以上のブロッカを含み、第１のワーキングゾーン又は第２のワーキングゾーンのうちの少なくとも１つからのゼロ次回折をブロックする。
【0020】
別の例示的な実施形態では、収集サブシステムの開口数は、照明サブシステムの開口数よりも小さく、第１のワーキングゾーン又は第２ワーキングゾーンの少なくとも１つからのゼロ次回折の収集を防止する。
【0021】
別の例示的な実施形態では、少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブをオーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む。
【0022】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて同時に照射する。
【0023】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて順次照射する。
【0024】
別の例示的な実施形態では、２つの照明ローブは、測定方向に沿って向けられる。
【0025】
別の例示的な実施形態では、２つの照明ローブは、測定方向に対して非ゼロ角度に向けられる。
【0026】
別の例示的な実施形態では、収集サブシステムは、オーバレイターゲットの第１の画像を、第１のワーキングゾーンに関連付けられた２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に基づいて生成し、ここで収集サブシステムは、オーバレイターゲットの第２の画像を、第２のワーキングゾーンに関連付けられた２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に基づいて生成し、コントローラは、見かけのオーバレイを、第１の画像及び第２の画像に関連付けられた見かけのオーバレイを平均することによって決定するように更に構成される。
【0027】
別の例示的な実施形態では、少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブをオーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む。
【0028】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて同時に照射し、収集サブシステムは、第１の画像と第２の画像を、第１のワーキングゾーンに関連する収集された光を第２のワーキングゾーンに関連する収集された光から分離することによって同時に生成する。
【0029】
別の例示的な実施形態では、照明サブシステムは、オーバレイターゲットを２つの照明ローブを用いて順次照射する。
【0030】
計測方法は、本開示の１つ以上の例示的な実施形態に従って開示される。１つの例示的な実施形態では、計測方法は、サンプル上のオーバレイターゲットの画像を、オーバレイターゲットに対して少なくとも１つの照明ローブを斜照射角で用いたオーバレイターゲットの照射に基づき受け取ることを含み、オーバレイターゲットは、少なくとも第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンを測定方向に沿ったオーバレイ測定のために含み、ここで少なくとも第１のワーキングゾーンが２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造から形成されたモアレパターンを含み、２つのサンプル層上の周期構造の周期は異なり、画像は、第１のワーキングゾーンに関連する２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に基づき、画像は、第２のワーキングゾーンに関連する２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に更に基づき、画像における第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づく。別の例示的な実施形態では、計測方法は、第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間の測定方向に沿う見かけのオーバレイを、画像に基づき決定することを含む。別の例示的な実施形態では、２つのサンプル層間のオーバレイを、モアレ利得で見かけのオーバレイを除算することによって計算し、モアレ干渉を補償することを含む。
【0031】
別の例示的な実施形態では、少なくとも１つの照明ローブは、２つの照明ローブを、オーバレイターゲットに対して２つの斜照射角で含む。
【0032】
前述の一般的な説明と以下の詳細な説明の両方は、例示的かつ説明的なものにすぎず、特許請求される本発明を必ずしも限定するものではないことを理解されたい。明細書に援用され、その一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を示し、一般的な説明とともに、本発明の原理を説明するのに役立つ。
【図面の簡単な説明】
【0033】
本開示の多くの利点は、添付の図面を参照することにより、当業者によってよりよく理解されるであろう。
【図1】本開示の１つ以上の実施形態による、計測システムのブロック図である。
【図2A】本開示の１つ以上の実施形態による、複数の回転対称ワーキングゾーン内の格子オーバ格子(grating-over-grating)構造に基づくモアレパターンを有する計測ターゲットの上面ブロック図である。
【図3】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用してオーバレイを計算する方法を示す流れ図である。
【図4】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を示す概念図である。
【図5】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。
【図6】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。
【図7】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。
【図8A】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図8B】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図9A】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図9B】本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図10】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用してオーバレイを計算する方法を示す流れ図である。
【図11】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を示す概念図である。
【図12】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心構成を示す。
【図13A】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図13B】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図14A】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図14B】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図15A】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図15B】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図16A】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図16B】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図17A】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図17B】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図18A】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図18B】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。
【図19】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。
【図20】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。
【図21】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。
【図22】本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心構成を示す。
【図23A】本開示の１つ以上の実施形態による、オーバレイを測定する方法で実行されるステップを示す流れ図である。
【図23B】本開示の１つ以上の実施形態による、ワーキンググループの対称軸を決定する方法を示す流れ図である。
【図25】本開示の１つ以上の実施形態による、第１のモアレパターンの２つのインスタンスを含む第１のワーキングゾーンと、第２のモアレパターンの２つのインスタンスを含む第２のワーキングゾーンとを含む計測ターゲットの上面図である。
【図26A】本開示の１つ以上の実施形態による、第１のモアレパターンの２つのインスタンスを含む第１のワーキングゾーンと、第２のモアレパターンの単一のインスタンスを含む第２のワーキングゾーンとを含む計測ターゲットの上面図である。
【図27】本開示の１つ以上の実施形態による、モアレインボックス計測ターゲットの上面図であり、第１のワーキングゾーンはモアレパターンの単一のインスタンスを含み、第２のワーキングゾーンはモアレパターンを取り囲む非周期的な単層構造を含む。
【図28A】本開示の１つ以上の実施形態による、複数の層にわたる格子オーバ格子構造に基づくモアレパターンを有する３層計測ターゲットの上面ブロック図である。
【図29A】本開示の１つ以上の実施形態による、トリプルモアレ計測ターゲットの上面ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0034】
ここで、添付の図面に示されている、開示された主題を詳細に参照する。本開示は、特定の実施形態及びその特定の特徴に関して、具体的に示し説明している。本明細書に記載された実施形態は、限定ではなく例示と見なされる。本明細書で使用される場合、「左」、「右」、「上部」、「底部」、「上に」、「下に」、「上方」、「上方向」、「下方」、「下へ」及び「下方向」などの方向を示す用語は、説明を目的として相対位置を提供することを意図しており、絶対基準系を指示することを意図していない。形態及び詳細における様々な変更及び修正は、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく行い得ることは、当業者には容易に明らかであろう。
【0035】
現在、様々な主要な技術がオーバレイ測定のために使用されており、イメージング、スキャトロメトリ、及び走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）が挙げられる。イメージングに使用される主な光学アーキテクチャは、中心的に照射された通常のイメージングである。オーバレイ計測に従来のイメージング技術を使用することには、いくつかの欠点があり、（１）イメージングシステムの焦点依存性による制限された感度、（２）焦点選択に応じた振幅の不正確さ、及び（３）測定マップ内の格子のピッチを制限する対物レンズの開口数（ＮＡ）が挙げられる。
【0036】
本開示は、イメージングオーバレイ測定技術に関し、それは収集カメラ又は別の収集デバイスをフィールド平面に配置して、サンプル上のオーバレイターゲットの画像を取り込むことを必要とする。特に、本開示は、モアレ格子オーバ格子効果を使用してオーバレイを測定することに関する。本開示は、二重散乱モアレ効果（例えば、ゼロ次回折及び少なくとも１つのモアレ回折次数を収集すること）を用いてオーバレイを測定する方法と、単一散乱光モアレ効果（単一散乱効果間の干渉によりカメラに現れるモアレ効果、例えば、１次回折を収集し、画像をフィルタリングしてモアレ干渉を分離すること）を用いてオーバレイを測定する方法を提供する。本開示の照射及び収集システムは、（ａ）モアレ効果が測定可能である、（ｂ）他の効果が測定に干渉しない、（ｃ）精度が最大化される、（ｄ）測定可能性が最大化される、（ｅ）設計の単純さが強調される、という点において有利である。
【0037】
二重散乱モアレ効果に関して、光学スキームを、２つの回折次数のみが任意の所与の時点で干渉するように設計することで、コントラストが改善され、振幅の不正確さが除去される。ゼロ次回折を使用する場合は常に、ゼロ次回折は基準ビームで置き換えられ得て、また通常のイメージングの代わりに、干渉計測ソリューションを（不安定性などのその問題と、強度制御などのその利益を用いて）生成し得る。単一散乱光モアレ効果に関して、ゼロ次及びモアレ縞を除去することによって、コントラストが改善され、振幅の不正確さが除去される。
【0038】
図１は、サンプルの画像を生成するように構成された計測システムを示す。図２Ａ～図２Ｃは、１つ以上の回転対称ワーキングゾーンにおける格子オーバ格子構造に基づくモアレパターンを有するオーバレイターゲットの計測を示す。図３～図９Ｂは、二重散乱モアレ効果を使用してサンプルのオーバレイを計算することを示す。図１０～図２２は、単一散乱光モアレ効果を使用してサンプルのオーバレイを計算することを示す。図２３Ａ～図２３Ｂは、ワーキングゾーンの対称性を利用することによってオーバレイを計算する方法を示す流れ図である。図２４Ａ～図２６Ｂは、２つのワーキングゾーンにモアレパターンを有する計測ターゲットを使用したオーバレイを示す。図２７～図２８Ｃは、１つのワーキングゾーンにモアレパターンを有し、第２のワーキングゾーンに単層構造（例えば、格子オーバ格子構造ではない）を有する計測ターゲットを使用するオーバレイを示す。図２９Ａ及び図２９Ｂは、２つのワーキングゾーンにモアレパターンを有する３つ以上の層を備える計測ターゲットを使用するオーバレイを示し、１つの層は参照層として機能する。
【0039】
計測ターゲット上のモアレパターンは、異なる周期を有する異なるサンプル層上の格子構造から形成された格子オーバ格子構造を含み得る。この開示の目的のために、「格子」又は「格子構造」は、任意の周期構造又は一連の要素を記述し得て、要素には、限定するものではないが、ライン／スペースパターンが含まれる。モアレパターンの画像は、モアレ縞をモアレピッチで含み、モアレピッチは異なるサンプル層上の格子間の空間変動性の重なり合いに関連付けられる。通常、モアレピッチはいずれの格子構造よりも長ピッチであり、格子構造のピッチ間の差異に関連する。例えば、モアレピッチ（ｐＭ）は、
ｐＭ＝（ｐ１・ｐ２）／（ｐ１－ｐ２） （１）
として特徴付けることができ、ここでｐ１は第１の層上の第１の格子構造の周期、ｐ２は第２の層上の第２の格子構造の周期である。
ｐＭ＝（ｐ１・ｐ２）／（ｐ１－ｐ２） （１）
として特徴付けることができ、ここでｐ１は第１の層上の第１の格子構造の周期、ｐ２は第２の層上の第２の格子構造の周期である。
【0040】
本明細書では、モアレパターンを含む計測ターゲットは、敏感なオーバレイ測定を容易にし得ると考えられる。特に、モアレパターン内の別の格子に対するある格子の、周期的な方向に沿った物理的シフト（例えば、サンプル上の２つのサンプル層の相対シフトに関連するオーバレイ誤差）は、測定方向に沿うモアレ縞の対応する横方向シフトをもたらす。更に、モアレ縞のシフトの大きさは、通常、物理的シフトの大きさよりも大きい。特に、モアレ縞のシフトの大きさは、基準系に依存する条件付モアレファクタによって、物理的シフト（例えば、オーバレイ誤差）に比例する。引き続き上記の例によれば、第１の層に対する第２の層のシフトによって、公称位置（例えば、オーバレイ誤差なし）からのモアレ縞のシフトは、
Ｍ＝ｐ１／（ｐ１－ｐ２） （２）
の条件付モアレファクタ（Ｍ）によってもたらされる。しかし、本開示の文脈において「第１の層」、「第２の層」、「第３の層」などの参照は、単に様々なサンプル層を区別することを意図しており、サンプル上の層の物理的順序を示すものではない。したがって、「第１の層」がサンプル上で「第２の層」の上方にあっても下方にあってもよい。
Ｍ＝ｐ１／（ｐ１－ｐ２） （２）
の条件付モアレファクタ（Ｍ）によってもたらされる。しかし、本開示の文脈において「第１の層」、「第２の層」、「第３の層」などの参照は、単に様々なサンプル層を区別することを意図しており、サンプル上の層の物理的順序を示すものではない。したがって、「第１の層」がサンプル上で「第２の層」の上方にあっても下方にあってもよい。
【0041】
これに関して、オーバレイ測定は、モアレ縞のシフトを計測ターゲット上の関連付けられた格子構造の周期的な方向に沿って測定し、その値をモアレ利得により調整することによって実行され得て、モアレ利得は計測ターゲットの特定の設計と行われる特定の測定とに依存する。例えば、モアレ縞のシフトを、別の構造又は別の一組のモアレ縞に対して測定することが望ましく、それは単一のモアレ縞のシフトの絶対測定が、一部のターゲット設計に対して困難、非現実的、又は不可能となる場合があるためである。オーバレイ計測におけるモアレパターンの使用は、２００８年１０月２１日に発行された米国特許第７，４４０，１０５号、２００８年３月２５日に発行された米国特許第７，３４９，１０５号、及び２０１８年７月５日に公開された米国特許出願公開第２０１８／０１８８６６３号に記載されており、それらのすべては全体が本明細書に援用される。
【0042】
本明細書において、計測ターゲットの要素を対称構成に配置することで、対称性の利用に基づく要素の相対位置の決定が容易になり得ることが認識される。例えば、オーバレイ計測ターゲットは、第１のサンプル層上の要素の対称中心が第２のサンプル層上の要素の対称中心と重なるように形成され得る。したがって、作製された計測ターゲットの第２の層に対する第１の層の要素の対称中心間の差は、オーバレイ誤差に起因する場合がある。オーバレイ計測ターゲット (例えば、先進イメージング計測（ＡＩＭ）ターゲット) における対称性の利用は、２００６年６月２７日に発行された米国特許第７，０６８，８３３号、２００５年７月２６日に発行された米国特許第６，９２１，９１６号、及び２００７年２月１３日に発行された米国特許第７，１７７，４５７号に記載されており、これらはすべて参照によりその全体が本明細書に援用される。
【0043】
本開示の実施形態は、対称分布で配置された１つ以上のモアレパターンを伴う少なくとも１つのワーキングゾーンを有するオーバレイ計測ターゲットを対象とし得る。例えば、ワーキングゾーン内のモアレパターンは、鏡面対称分布又は回転対称分布（例えば、９０°回転対称分布、１８０°回転対称分布など）で分布することができる。これに関して、モアレパターンの利点と計測ターゲットにおける対称性の利点を組み合わせて一緒に利用することで、正確で堅牢なオーバレイ計測を容易にし得る。
【0044】
本明細書において、モアレパターンの１つ以上のインスタンスを含むワーキンググループに対する物理的なオーバレイ誤差の影響は、本明細書で前述したように、モアレ縞のシフトに基づいて対称中心をシフトする可能性があることが認識される。したがって、対称中心に基づくオーバレイの任意の測定は、モアレ利得係数に基づいて調整される必要がある。本明細書では、モアレ利得係数がオーバレイ計測ターゲット内の要素の特定の配置に依存する可能性があることが更に認識される。
【0045】
図１は、本開示の１つ以上の実施形態による、計測システム１００のブロック図である。計測システム１００は、当技術分野で周知の任意の方法を使用して、サンプル１０２の１枚以上の画像を少なくとも１つの検出器１０４上で生成し得る。
【0046】
１つの実施形態では、計測システム１００は、照明源１０６を含み、照明ビーム１０８を生成する。照明ビーム１０８は、１つ以上の選択された波長の光を含み得て、限定するものではないが、真空紫外放射（ＶＵＶ）、深紫外放射（ＤＵＶ）、紫外（ＵＶ）放射、可視放射、又は赤外（ＩＲ）放射が含まれる。照明源１０６は、任意の範囲の選択された波長を含む照明ビーム１０８を更に生成し得る。別の実施形態では、照明源１０６は、スペクトル調節可能な照明源を含み、調節可能なスペクトルを有する照明ビーム１０８を生成し得る。
【0047】
照明源１０６は、任意の時間プロファイルを有する照明ビーム１０８を更に生成し得る。例えば、照明源１０６は、連続照明ビーム１０８、パルス照明ビーム１０８、又は変調照明ビーム１０８を生成し得る。加えて、照明ビーム１０８は、照明源１０６から、自由空間伝播又は導波光（例えば、光ファイバ、ライトパイプなど）を介して伝送され得る。いくつかの実施形態では、照明ビーム１０８はインコヒーレント光を含んでもよい。別の実施形態では、照明ビーム１０８はコヒーレント光を含み得る。
【0048】
別の実施形態では、照明源１０６は、照明ビーム１０８をサンプル１０２に、照明経路１１０を介して向ける。照明経路１１０は、１つ以上のレンズ１１２あるいは追加の照明光学部品１１４を含み得て、それらは照明ビーム１０８を修正及び／又は調整するのに適する。例えば、１つ以上の照明光学部品１１４は、限定するものではないが、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上のビームスプリッタ、１つ以上のディフューザ、１つ以上のホモジナイザ、１つ以上のアポダイザ、１つ以上ビーム整形器、又は１つ以上シャッタ（例えば、機械シャッタ、電気光学シャッタ、音響光学シャッタなど）を含み得る。別の例として、１つ以上の照明光学部品１１４は、サンプル１０２上への照射の角度を制御するための開口絞り、及び／又はサンプル１０２上への照射の空間的範囲を制御するための視野絞りを含み得る。１つの例では、照明経路１１０は、対物レンズ１１６の後方焦点面に対して共役な平面に置かれた開口絞りを含み、サンプルのテレセントリック照射を行い得る。別の実施形態では、計測システム１００は、対物レンズ１１６を含み、サンプル１０２上に照明ビーム１０８を合焦させる。
【0049】
別の実施形態では、サンプル１０２はサンプルステージ１１８上に配置される。サンプルステージ１１８は、計測システム１００内でのサンプル１０２の位置決めに適切な任意のデバイスを有し得る。例えば、サンプルステージ１１８は、直線並進ステージ、回転ステージ、ティップ／ティルトステージなどの任意の組み合せを有してもよい。
【0050】
別の実施形態では、検出器１０４は、サンプル１０２から発出される放射（例えば、サンプル光１２０）を、集光経路１２２を介して取り込むように構成される。例えば、集光経路１２２は、限定するものではないが、集光レンズ（例えば、図１に示される対物レンズ１１６）、又は１つ以上の追加の集光経路レンズ１２４を含み得る。これに関して、検出器１０４は、サンプル１０２から（例えば、鏡面反射、拡散反射などを介して）反射又は散乱された放射、あるいはサンプル１０２によって生成された放射（例えば、照明ビーム１０８の吸収に関連付けられるルミネッセンスなど）を、受け取ることができる。
【0051】
集光経路１２２は、任意の数の集光用光学部品１２６を更に含み、対物レンズ１１６により集められた照射を方向付け、及び／又は修正し得て、限定するものではないが、１つ以上の集光経路レンズ１２４、１つ以上のフィルタ、１つ以上のポラライザ、１つ以上のビームブロックが含まれる。加えて、集光経路１２２は、検出器１０４上に撮像されたサンプルの空間的範囲を制御する視野絞り、又はサンプルからの照射の角度範囲を制御する開口絞りを更に含み、それを用いて検出器１０４上に画像を生成し得る。別の実施形態では、集光経路１２２は、光学素子である対物レンズ１１６の後方焦点面に対して共役な平面に置かれた開口絞りを含み、サンプルのテレセントリックイメージングを行う。
【0052】
検出器１０４は、サンプル１０２から受け取った照射を測定するのに適した、当技術分野で周知の任意の種類の光学的検出器を含み得る。例えば、検出器１０４は、静止サンプル１０２の１枚以上の画像を（例えば、静的動作モードにおいて）生成するのに適したセンサを含み得て、限定するものではないが、電荷結合デバイス（ＣＣＤ）、相補型金属酸化物半導体（ＣＭＯＳ）センサ、光電子増倍管（ＰＭＴ）アレイ、又はアバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ）アレイが挙げられる。更に、検出器１０４は、ピクセル当たり２つ以上のタップを有するマルチタップセンサを含み得て、限定するものではないが、マルチタップＣＭＯＳセンサが挙げられる。この場合、マルチタップ画素内の電荷は、その画素に対する１つ以上の駆動信号に基づき、露出ウィンドウ中に選択された任意のタップに向けられ得る。従って、マルチタップ画素のアレイを含むマルチタップセンサは、それぞれ関連画素の相異なるタップに関する複数枚の画像を、単一の読み出しフェーズ中に生成し得る。更に、本開示の目的上、マルチタップセンサのタップは、関連画素に接続された出力タップを指す場合がある。この場合、マルチタップセンサの各タップを（例えば、読み出しフェーズにおいて）読み出すことで、個別画像を生成し得る。
【0053】
別の例として、検出器１０４は、動作中（例えば、走査動作モード）のサンプル１０２の１枚以上の画像を生成するのに適したセンサを含み得る。例えば、検出器１０４は、画素行を含むラインセンサを含み得る。ここで、計測システム１００は、サンプル１０２を、その画素行に対して垂直な走査方向に、計測視野を通して並進させること、並びに連続露出ウィンドウ中にラインセンサを連続クロッキングすることにより、一度に１行、連続画像（例えば、ストリップ画像）を生成し得る。
【0054】
別の例によれば、検出器１０４は、複数本の画素行と読み出し行を有するＴＤＩセンサを含み得る。ＴＤＩセンサは、ラインセンサと同様に動作し得るが、クロッキング信号が電荷を画素行から次の画素行へと、電荷が読み出し行に達するまで順次動かし、そこで画像の行が生成される、ということは異なっている。電荷転送（例えば、クロッキング信号に基づく）をサンプルの走査方向に沿った運動と同期させることによって、電荷が画素行にわたって蓄積し続け、ラインセンサに比べて相対的に高い信号対雑音比を提供し得る。
【0055】
別の実施形態では、検出器１０４は、サンプル１０２から発出される放射の波長を識別するのに適した分光検出器を含み得る。別の実施形態では、計測システム１００は、複数の検出器１０４（例えば、１つ以上のビームスプリッタによって生成される複数のビーム経路に関連付けられる）を含み、計測システム１００によって複数の計測測定を容易にし得る。例えば、計測システム１００は、静的モードイメージングに適した１つ以上の検出器１０４と、走査モードイメージングに適した１つ以上の検出器１０４とを含み得る。別の実施形態では、計測システム１００は、静的及び走査イメージングモードの両方に適した１つ以上の検出器１０４を含んでもよい。
【0056】
１つの実施形態では、図１に示すように、計測システム１００は、ビームスプリッタ１２８を含み、ビームスプリッタ１２８は、対物レンズ１１６が照明ビーム１０８をサンプル１０２へ方向付けて、同時にサンプル１０２から発出される放射を集めることができるように配向される。
【0057】
別の実施形態では、サンプル１０２への照明ビーム１０８の入射角は調整可能である。例えば、ビームスプリッタ１２８及び対物レンズ１１６を通る照明ビーム１０８の経路は、サンプル１０２への照明ビーム１０８の入射角を制御するために調整され得る。これ関して、照明ビーム１０８は、ビームスプリッタ１２８及び対物レンズ１１６を通る公称経路を有し、その結果、照明ビーム１０８はサンプル１０２に対して直交入射角を有する。別の例として、サンプル１０２への照明ビーム１０８の入射角は、ビームスプリッタ１２８への照明ビーム１０８の位置及び／又は角度を（例えば、回転式ミラー、空間光変調器、自由形状照明源などによって）修正することによって制御され得る。別の実施形態では、照明源１０６は、１つ以上の照明ビーム１０８をある角度（例えば視射角、４５°など）でサンプル１０２に向ける。
【0058】
別の実施形態では、計測システム１００はコントローラ１３０を含む。別の実施形態では、コントローラ１３０は、１つ以上のプロセッサ１３２を含み、それは記憶媒体１３４上に維持されたプログラム命令を実行するように構成される。この場合、コントローラ１３０の１つ以上のプロセッサ１３２は、本開示を通じて説明される様々なプロセスステップのいずれかを実行し得る。更に、コントローラ１３０は、限定するものではないが、検出器１０４からのサンプル１０２の画像を含むデータを受け取るように構成され得る。
【0059】
コントローラ１３０の１つ以上のプロセッサ１３２は、当技術分野で周知の任意の処理要素を含み得る。この意味で、１つ以上のプロセッサ１３２は、アルゴリズム及び／又は命令を実行するように構成された任意のマイクロプロセッサタイプのデバイスを含み得る。１つの実施形態では、１つ以上のプロセッサ１３２は、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、又はプログラムを実行するように構成された任意の他のコンピュータシステム（例えば、ネットワーク化されたコンピュータ）から構成され得て、プログラムは本開示を通じて説明されるように、計測システム１００を動作するように構成される。「プロセッサ」という用語は、非一時的記憶媒体１３４からのプログラム命令を実行する１つ以上の処理要素を有する任意のデバイスを包含するように広く定義され得ることが更に認識される。更に、本開示を通じて説明されるステップは、単一のコントローラ１３０によって、又は代替的に、複数のコントローラによって実行され得る。加えて、コントローラ１３０は、共通ハウジング又は複数のハウジング内に収容された１つ以上のコントローラを含み得る。このようにして、任意のコントローラ又はコントローラの組み合わせは、計測システム１００への統合に適したモジュールとして個別にパッケージ化されてもよい。更に、コントローラ１３０は、検出器１０４から受信したデータを分析し、そのデータを計測システム１００内又は計測システム１００の外部の追加の構成要素に伝送し得る。
【0060】
記憶媒体１３４は、関連する１つ以上のプロセッサ１３２によって実行可能なプログラム命令を格納するのに適した、当技術分野で周知の任意の記憶媒体を含み得る。例えば、記憶媒体１３４は非一時的記憶媒体を含み得る。別の例として、記憶媒体１３４は、限定するものではないが、読み取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、磁気又は光メモリデバイス（例えば、ディスク）、磁気テープ、固体ドライブなどを含み得る。記憶媒体１３４は、１つ以上のプロセッサ１３２を有する共通のコントローラハウジングに収容され得ることに更に留意されたい。１つの実施形態では、記憶媒体１３４は、１つ以上のプロセッサ１３２及びコントローラ１３０の物理的位置に対して離れて配置され得る。例えば、コントローラ１３０の１つ以上のプロセッサ１３２は、ネットワーク（例えば、インターネット、イントラネットなど）を介してアクセス可能なリモートメモリ（例えば、サーバ）にアクセスし得る。したがって、上記の説明は、本発明に対する限定としてではなく、単なる例示として解釈されるべきである。
【0061】
別の実施形態では、コントローラ１３０は、計測システム１００の１つ以上の要素に通信可能に結合される。これに関して、コントローラ１３０は、計測システム１００の任意の構成要素からのデータを送信及び／又は受信し得る。更に、コントローラ１３０は、関連する構成要素に対して１つ以上の駆動信号を生成することによって、計測システム１００の任意の構成要素を指示又は制御し得る。例えば、コントローラ１３０は、検出器１０４に通信可能に結合されて、検出器１０４から１枚以上の画像を受け取り得る。
【0062】
更に、コントローラ１３０は、検出器１０４に１つ以上の駆動信号を供給し、本明細書に記載の任意の検出技術を実行し得る。別の例によれば、コントローラ１３０は、任意の構成要素の組み合わせに通信可能に結合され、画像に関する光学構成、限定するものではないが、照明源１０６、照明用光学部品１１４、集光用光学部品１２６、検出器１０４などを制御し得る。
【0063】
図２Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、格子オーバ格子構造に基づくモアレパターンを複数の回転対称ワーキングゾーンに有する計測ターゲット２０２の上面ブロック図である。図２Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、図２Ａのモアレパターンにおける多層格子構造の概念図である。
【0064】
１つの実施形態では、計測ターゲット２０２は、第１のワーキングゾーン２０４を含み、それは第１のワーキングゾーン２０４が回転対称であるように配置された第１のモアレパターン２０６の２つのインスタンスから形成される。別の実施形態では、計測ターゲット２０２は、第２のワーキングゾーン２０８を含み、それは第２のワーキングゾーン２０８が回転対称であるように配置された第２のモアレパターン２１０の２つのインスタンスから形成される。本開示の文脈において、ワーキングゾーンは、一緒に分析されることが意図された一群のフィーチャである。例えば、オーバレイ測定は、あるワーキングゾーンの特性を別のワーキングゾーンと比較することによって実行され得る。
【0065】
一般的な意味で、計測ターゲット２０２の様々なワーキングゾーンの回転対称の中心は独立していてもよい。しかし、計測ターゲット２０２を、ワーキングゾーンの一部又は全部の対称中心が（選択された公差内で）、オーバレイ誤差がない場合に一致するように設計することが望ましい場合がある。このターゲット設計は、測定システム（例えば、計測システム１００）とウェハ軸との間の回転ミスアライメントによって生じる可能性がある誤差を最小限に抑え得る。１つの実施形態では、同じ方向（例えば、Ｘ方向オーバレイ測定）のワーキングゾーンは、同じ対称中心を有する。更に、異なる方向に沿ったオーバレイ測定に関連するワーキングゾーンの対称中心は、必須ではないが、一致してもよい。
【0066】
図２Ａのように、オーバレイ誤差のない状況では、第１のワーキングゾーン２０４及び第２のワーキングゾーン２０８は、対称中心２１２を中心に１８０°回転して対称である。
【0067】
図２Ａの計測ターゲット２０２は、先進イメージング計測（ＡＩＭ）ターゲットと同様の回転対称特性を有し得て、それは２００６年６月２７日に発行された米国特許第７，０６８，８３３号、２００５年７月２６日に発行された米国特許第６，９２１，９１６号、及び２００７年２月１３日に発行された米国特許第７，１７７，４５７号に一般的に記載されている。しかし、通常のＡＩＭターゲット内の各ワーキングゾーンは単層内にフィーチャを含むが、計測ターゲット２０２の少なくとも１つのワーキングゾーン（例えば、第１のワーキングゾーン２０４及び第２のワーキングゾーン２０８）は、格子構造から形成されるモアレパターンを関心のある複数の層に含む。図２Ｂに示されるように、第１のモアレパターン２０６は、第１の層（層Ａ）にピッチＱを有する第１の格子構造２１４と、第２の層（層Ｂ）にピッチＰを有する第２の格子構造２１６とから形成され、ここでＰ≠Ｑである。更に、第２のモアレパターン２１０は、第１の層（層Ａ）にピッチＴを有する第３の格子構造２１８と、第２の層（層Ｂ）にピッチＳを有する第４の格子構造２２０とから形成され、ここでＳ≠Ｔである。一般的な意味では、Ｐ、Ｑ、Ｓ、及びＴの値は、独立して変更され得て、図２Ａ及び図２Ｂは、一般的なモアレＡＩＭターゲットを表す。
【0068】
式（１）及び（２）に関して本明細書において前述したように、第１のワーキングゾーン２０４は、次のモアレピッチ（ｐＭ１）を有し、
ｐＭ１＝ＱＰ／（Ｑ－Ｐ） （３）
そして、第２のワーキングゾーン２０８は、次のモアレピッチ（ｐＭ２）を有する。
ｐＭ２＝ＳＴ／（Ｓ－Ｔ） （４）
ｐＭ１＝ＱＰ／（Ｑ－Ｐ） （３）
そして、第２のワーキングゾーン２０８は、次のモアレピッチ（ｐＭ２）を有する。
ｐＭ２＝ＳＴ／（Ｓ－Ｔ） （４）
【0069】
第１のワーキングゾーン２０４は、次の条件付きモアレファクタ（Ｍ１）を有し、
Ｍ１＝Ｐ／（Ｐ－Ｑ） （５）
層Ｂに対する層Ａのミスアライメントに関連付けられ、そして、第２のワーキングゾーン２０８は、次の条件付きモアレファクタ（Ｍ２）を有し、
Ｍ２＝Ｓ／（Ｓ－Ｔ） （６）
層Ｂに対する層Ａのシフトと関連付けられる。同様に、層Ａに対する層Ｂのシフトにより、Ｍ１＝Ｑ／（Ｑ－Ｐ）及びＭ２＝Ｔ／（Ｔ－Ｓ）となる。
Ｍ１＝Ｐ／（Ｐ－Ｑ） （５）
層Ｂに対する層Ａのミスアライメントに関連付けられ、そして、第２のワーキングゾーン２０８は、次の条件付きモアレファクタ（Ｍ２）を有し、
Ｍ２＝Ｓ／（Ｓ－Ｔ） （６）
層Ｂに対する層Ａのシフトと関連付けられる。同様に、層Ａに対する層Ｂのシフトにより、Ｍ１＝Ｑ／（Ｑ－Ｐ）及びＭ２＝Ｔ／（Ｔ－Ｓ）となる。
【0070】
１つの実施形態では、第１のモアレパターン２０６及び／又は第２のモアレパターン２１０は、それぞれの格子が完全に重なり合う格子オーバ格子構造を含む。例えば、第１のモアレパターン２０６の第１の格子構造２１４及び第２の格子構造２１６は、サンプル１０２上で完全に重なり合うことができる。同様に、第２のモアレパターン２１０の第３の格子構造２１８及び第４の格子構造２２０は、サンプル１０２上で完全に重なり合うことができる。この場合、計測ターゲット２０２のサイズは最小化されて、サンプル１０２上のスペースを効率的に利用し得る。
【0071】
本明細書において、隣接するモアレパターンを含む計測ターゲット２０２は、クロストークを生じやすいと考えられる。更に、クロストークの酷さは、限定するものではないが、スタックの厚さ、材料特性、格子設計、又は測定システム（例えば、計測システム１００）の条件を含む、いくつかのファクタに依存する可能性がある。いくつかの実施形態では、計測ターゲット２０２は、ワーキングゾーン間の除外ゾーン、又は異なるワーキングゾーンに関連付けられたモアレパターンを含み、クロストークを選択された公差内に低減し得る。例えば、第１のモアレパターン２０６及び第２のモアレパターン２１０のインスタンスは、十分な大きさの除外ゾーン２２２によって分離され、対応するモアレ縞間のクロストークを指定の公差内に軽減し得る。いくつかの実施形態では、除外ゾーン２２２は、０．２５～０．５ミクロン以上の範囲である。
【0072】
除外ゾーン２２２は、空所であってもよく、又はいくつかの設計ルールによって要求され得るサブ解像度補助フィーチャで満たされていてもよい。１つの実施形態では、除外ゾーン２２２は、測定方向（ここではＸ方向）に直交する向きのサブ解像度補助フィーチャで満たされる。一般的な意味では、各ワーキングゾーンが回転対称である限り、各ワーキングゾーン内の要素(モアレパターンを含む)は、選択された公差内までクロストークを軽減するのに適した任意の２Ｄ分布に配置され得る。
【0073】
更に、図２Ａには、単一方向（例えば、Ｘ方向）に沿った測定に関連するワーキングゾーンを示すが、追加の方向（例えば、Ｙ方向）に沿った測定に関連する計測ターゲット２０２のターゲット及び方法は、本開示の趣旨及び範囲内にある。１つの実施形態では、計測ターゲット２０２は、Ｙ方向に沿った測定に適した第３のワーキングゾーン２２４及び第４のワーキングゾーン２２６を含む。更に、第３のワーキングゾーン２２４及び／又は第４のワーキングゾーン２２６内のフィーチャは、オーバレイ測定に適した任意のフィーチャを有してもよく、また必須ではないが、１つ以上のモアレパターンを含んでもよい。別の実施形態では、図示しないが、計測ターゲット２０２は、複数方向（例えば、Ｘ方向及びＹ方向）に周期的フィーチャを含む２Ｄモアレパターンを有するワーキングゾーンを含む。この場合、２Ｄモアレパターンは、モアレ縞を複数の次元に沿って同時に示す場合があり、したがって、複数の方向における同時オーバレイ測定に適し得る。
【0074】
図２Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、２つの直交方向に沿う測定のための、図２Ａ及び図２Ｂに基づく計測ターゲット２０２の上面図である。特に、図２Ｃに示される計測ターゲット２０２は、Ｐ＝Ｔ及びＱ＝Ｓである一例を表す。更に、図２Ｃは、Ｘ方向又はＹ方向のいずれにもオーバレイ誤差がない状況を示す。この場合、第１のワーキングゾーン２０４の対称軸と第２のワーキングゾーン２０８の対称軸は、Ｘ方向及びＹ方向の両方に沿って重なり合う（例えば、第１のワーキングゾーン２０４の対称軸と第２のワーキングゾーン２０８の対称軸が重なり合う）。
【0075】
しかし、図２Ｃ及び関連する説明は、単に例示を目的として提供されており、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。
【0076】
１つの実施形態では、計測ターゲット２０２は、Ｘ方向に沿う測定のための第１のモアレパターン２０６の２つのインスタンスを有する第１のワーキングゾーン２０４、第２のモアレパターン２１０の２つのインスタンスを有する第２のワーキングゾーン２０８、Ｙ方向に沿って測定するための第１のモアレパターン２０６の２つのインスタンスを有する第３のワーキングゾーン２２４、及び、垂直方向に沿う計測用の第２のモアレパターン２１０の２つのインスタンスを有する第４のワーキングゾーン２２６を含む。この場合、第３のワーキングゾーン２２４及び第４のワーキングゾーン２２６は、第１のワーキングゾーン２０４及び第２のワーキングゾーン２０８を、それぞれ回転させたバージョンである。
【0077】
図３は、本開示の１つ以上の実施形態による、二重散乱モアレ効果を使用してオーバレイを測定するための方法３００を示す流れ図である。例えば、本方法３００を適用して、オーバレイターゲット、例えば、限定するものではないが、図２Ａ～図２Ｃ、及び図２４Ａ～図２９Ｂに示される計測ターゲットと、それらの関連するワーキングゾーン（例えば、計測ターゲット２０２と、ワーキングゾーン２０４及び２０８）に基づきオーバレイを測定し得る。出願人は、計測システム１００の文脈において本明細書で前述した実施形態及び実現テクノロジは、方法３００にまで及ぶように解釈されるべきであることに留意している。しかし、方法３００は、計測システム１００のアーキテクチャに限定されないことを更に留意されたい。更に、方法３００を適用して、１つ以上の測定方向に沿ってオーバレイを測定し得る。
【0078】
１つの実施形態では、方法３００は、サンプル上のオーバレイターゲット（例えば、計測ターゲット２０２）を２つの斜照射角で２つの照明ローブを用いて照射するステップ３１０を含む。オーバレイターゲットは、測定方向に沿ったオーバレイ測定のための少なくとも第１のワーキングゾーン及び第２のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０４及び２０８）を含み得る。第１のワーキングゾーンは、２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造（例えば、格子構造２１４及び２１６）から形成されるモアレパターン（例えば、モアレパターン２０６）を含み得て、ここで２つのサンプル層上の周期構造の周期は異なる。
【0079】
別の実施形態では、方法３００は、照射に基づいて画像を受け取るステップ３２０を含む。画像は、第１のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０４）による２つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折及び１つのモアレ回折次数に基づき得て、また第２のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０８）による２つの照明ローブのそれぞれの回折に関連するゼロ次回折及び１つの追加の回折次数に基づき得る。画像内の第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づく場合がある。
【0080】
別の実施形態では、方法３００は、第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間の測定方向に沿う見かけのオーバレイを画像に基づき決定するステップ３３０を含む。この決定は、例えば、図２３Ａ及び図２３Ｂに関して説明した方法２３００及び２３１２によって実行され得る（例えば、対称中心間の差を見つける）が、ステップ３３０はこれに限定されず、ワーキングゾーン間の位置ずれを計算する任意の方法が使用され得る。見かけのオーバレイは、２つのサンプル層の間の物理的なオーバレイ誤差と等しくないことに留意されたい。むしろ、見かけのオーバレイは、第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間のモアレ縞の相対的シフトに対応する。したがって、測定方向に沿ったサンプル層の間の物理的なオーバレイ誤差は、測定方向に直交する対称軸間の差をモアレ利得で除算することによって決定され得る。
【0081】
別の実施形態では、方法３００は、見かけのオーバレイをモアレ利得で除算することによって２つのサンプル層の間のオーバレイを計算し、モアレ干渉を補償するステップ３４０を含む。この計算は、例えば、図２３Ａに関して説明した方法２３００のステップ２３２２によってなされ得るが、ステップ３４０はこれに限定されない。
【0082】
図４は、ワーキングゾーン２０４（図２Ａ～図２Ｃに示す）での２つのサンプル層２１４と２１６との間の二重散乱モアレ効果を示す概念図である。光ビーム（例えば、照明ビーム１０８）は、１つのモアレ回折次数（＋Ｍ）が収集システム（例えば、検出器１０４）によって収集され得るように、サンプル層２１４及び２１６を照射し得る。光ビームは、インコヒーレント光を含んでもよい。光ビームの入射角は、回折次数の少なくとも１つ（光が上部格子から回折する場合に１次又は－１次、あるいは光が底部格子から回折する場合に１次又は－１次のいずれか）が、２つのサンプル層２１４及び２１６のスタック内を伝播するように構成され得る。この効果は、サンプル層２１４及び２１６に限定されず、例えば、図２Ｂのサンプル層２１８と２２０との間、図２８Ｂのサンプル層８０６と８０８との間、図２９Ｂのサンプル層９１４と９１６との間などで生じ得ることに留意されたい。
【0083】
図５～図９Ｂは、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射（例えば、照射又は入射瞳における）及び収集（例えば、集光又は射出瞳における）のための様々な構成を示す。照射されるサンプルは、例えば、ワーキングゾーン２０４のサンプル層２１４及び２１６であり得る。追加のサンプル層（例えば、ワーキングゾーン２０８のサンプル層２１８及び２２０）は、同時に、又は別々に照射され得る。１つの測定方向（例えば、Ｘ方向）が１度に測定されてもよく、又は２つの測定方向（例えば、Ｘ及びＹ方向）が測定されてもよい。計測ターゲットのピッチ、照明及び集光経路の開口数、照明の配置、及びサンプル光の波長を構成することによって、適切な回折次数が集光経路によって収集され、オーバレイ測定のための画像が生成され得る。
【0084】
図５は、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。照明ローブ５０１及び５０２は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又は、サンプル層２１８及び２２０など）を照射することができ、モアレ回折次数（＋Ｍ及び－Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。この実施形態では、モアレ回折次数及びゼロ次回折は、リトロー型照明構成であってもよい。リトロー型照明は、米国特許出願公開第２０２０／０１３２４４６号に記載されている (図１などを参照)。リトロー型照明構成では、モアレ回折次数の１つ（例えば、＋Ｍ）は、照明ローブ（例えば、照明ローブ５０１）の方向に対して１８０°で回折され得て、別のモアレ回折次数（例えば、－Ｍ）は、他の照明ローブ（例えば、照明ローブ５０２）の方向に対して１８０°で回折され得る。加えて、モアレ回折次数のそれぞれは、モアレ回折次数の他方に対して鏡面対称であり得て、ゼロ回折次数のそれぞれは、ゼロ回折次数の他方に対して鏡面対称であり得る。リトロー型照明構成の利点には、焦点の独立性と精度の向上を含み得る。本開示はこれに限定するものではなく、他の照明構成（例えば、回折次数の非対称配置）も可能であることに留意されたい。リトロー型照明構成が使用される場合、オーバレイ測定とコントラストの両方は焦点位置に対して鈍感であり得る。リトロー型照明構成が使用されていない場合、コントラストのみが焦点位置に対して鈍感である場合がある。
【0085】
図６は、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための代替のワンステップの中心から外れた構成を示す。照明ローブ５０１及び５０２は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又は、サンプル層２１８及び２２０など）を照射することができ、モアレ回折次数（＋Ｍ及び－Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。照明ローブ５０１及び５０２の位置を移動させることによって、上部及び底部格子の１次回折及び－１次回折は収集からブロックされ、一方でモアレ次数（＋Ｍ及び－Ｍ）とゼロ次回折（０）が依然として収集され得て、したがって、モアレターゲットの設計と測定モードが拡張される。加えて、同じ構成は、Ｘ及びＹ方向に同時に使用されてもよい（例えば、Ｘ及びＹ方向が同じ設計を有する場合）。
【0086】
図７は、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。照明ローブ５０１及び５０２は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又は、サンプル層２１８及び２２０など）を照射することができ、モアレ回折次数（＋Ｍ及び－Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。この構成では、収集は、プリズムを使用して多数の領域（例えば、収集領域５１３及び５１７）に分割され得る。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次のモアレ次数の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、測定のコントラストは焦点位置に対する感度が低い場合がある（例えば、合焦システムに関する要件が低くなる）。オーバレイ計算のために２つの異なる画像（一方は収集領域５１３から、他方は収集領域５１７から）を使用することにより、画像間の差は、測定中に追加のメトリックとして使用され得て、したがって、将来の測定における精度と安定性の向上が可能になる。
【0087】
図８Ａ～図８Ｂは、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図８Ａでは、照明ローブ５０１は、サンプルを照射し得て、モアレ回折次数（－Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。図８Ｂでは、照明ローブ５０２は、サンプルを照射し得て、モアレ回折次数（＋Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、オーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある（例えば、合焦システムに関する要件が低くなる）。この実施形態では、モアレ回折次数及びゼロ次回折は、リトロー型照明構成であってもよい。リトロー型照明は、米国特許出願公開第２０２０／０１３２４４６号に記載されている (図１などを参照)。リトロー型照明構成では、モアレ回折次数の１つ（例えば、＋Ｍ）は、照明ローブ（例えば、照明ローブ５０１）の方向に対して１８０°で回折され得て、別のモアレ回折次数（例えば、－Ｍ）は、他の照明ローブ（例えば、照明ローブ５０２）の方向に対して１８０°で回折され得る。加えて、モアレ回折次数のそれぞれは、モアレ回折次数の他方に対して鏡面対称であり得て、ゼロ回折次数のそれぞれは、ゼロ回折次数の他方に対して鏡面対称であり得る。リトロー型照明構成の利点には、焦点の独立性と精度の向上を含み得る。リトロー型照明構成が使用される場合、オーバレイ測定とコントラストの両方は焦点位置に対して鈍感であり得る。リトロー型照明構成が使用されていない場合、コントラストのみが焦点位置に対して鈍感である場合がある。
【0088】
加えて、図７に関して説明した構成と比較して、図８Ａ～図８Ｂの構成は、より小さなモアレピッチを使用するように構成され得る。例えば、対物レンズの開口数が０．７、照明の開口数が０．２、波長が５００ｎｍの場合、ピッチは（波長）／（ＮＡ距離）＝５００／１＝５００ｎｍである。このピッチにより、より小さな計測ターゲットが可能になり得る（例えば、約５～６ピッチが、アルゴリズムを堅牢に機能するために必要になる場合があるため、有効なターゲットサイズは２つの方向性計測ターゲットの場合、約６ミクロン×６ミクロンとなり得る）。いくつかの実施形態では、有効なターゲットサイズは、５～５０ミクロン×５～５０ミクロン（例えば、２０ミクロン×２０ミクロン、２５ミクロン×２５ミクロンなど）であってもよい。
【0089】
図９Ａ～図９Ｂは、二重散乱モアレ効果を使用したサンプル照射及び収集のための代替の２ステップの中心から外れた構成を示す。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図９Ａでは、照明ローブ５０１は、サンプルを照射し得て、モアレ回折次数（－Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。図９Ｂでは、照明ローブ５０２は、サンプルを照射し得て、モアレ回折次数（＋Ｍ）とゼロ次回折（０）が、収集システムにより収集され得る。照明ローブ５０１及び５０２の位置を移動させることによって、上部及び底部格子の１次回折及び－１次回折は収集からブロックされ、一方でモアレ次数（＋Ｍ及び－Ｍ）とゼロ次回折（０）が依然として収集され得て、したがって、モアレターゲットの設計と測定モードが拡張される。加えて、同じ構成は、Ｘ及びＹ方向に同時に使用されてもよい（例えば、Ｘ及びＹ方向が同じ設計を有する場合）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、画像のコントラストは焦点位置に対する感度が低い場合がある（例えば、合焦システムに関する要件が低くなる）。
【0090】
いくつかの実施形態では、本開示は、米国特許第７，５２８，９４１号（その全体が参照により本明細書に援用される）の図１７Ａに示されるサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心構成を対象とすることができる。図１７Ａに示すように、空間変調デバイス４０６（例えば、ブロッカ４０６）は、ゼロ次回折４０４ｂが収集されるのをブロックする一方で、回折次数４０４ａ及び４０４ｃ（例えば、＋Ｍ及び－Ｍモアレ回折次数）が収集されることを可能にし得る。これらの実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点への依存が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。＋Ｍ及び－Ｍモアレ回折次数の光路は類似するため、焦点位置に対する感度が高く、ツール起因性シフトは最小限に抑えられる。
【0091】
図１０は、本開示の１つ以上の実施形態による、単一散乱光モアレ効果を使用してオーバレイを測定するための方法１０００を示す流れ図である。例えば、方法１０００を適用して、オーバレイターゲット、例えば限定するものではないが、図２Ａ～図２Ｃ及び図２４Ａ～図２９Ｂに示される計測ターゲットと、それらに関連するワーキングゾーン（例えば、計測ターゲット２０２とワーキングゾーン２０４及び２０８）に基づきオーバレイを測定し得る。出願人は、計測システム１００の文脈において本明細書で前述した実施形態及び実現テクノロジが、方法１０００にまで及ぶように解釈されるべきであることに留意している。しかし、方法１０００は、計測システム１００のアーキテクチャに限定されないことに更に留意されたい。更に、方法１０００を適用して、１つ以上の測定方向に沿ってオーバレイを測定し得る。
【0092】
１つの実施形態では、方法１０００は、サンプル上のオーバレイターゲット（例えば、計測ターゲット２０２）を２つの斜照射角で２つの照明ローブを用いて照射するステップ１０１０を含む。オーバレイターゲットは、測定方向に沿ったオーバレイ測定のための少なくとも第１のワーキングゾーン及び第２のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０４及び２０８）を含み得る。第１のワーキングゾーンは、２つのサンプル層上の測定方向に沿って重なり合う周期構造（例えば、格子構造２１４及び２１６）から形成されるモアレパターン（例えば、モアレパターン２０６）を含み得て、ここで２つのサンプル層上の周期構造の周期は異なる。
【0093】
別の実施形態では、方法１０００は、照射に基づいて画像を受け取るステップ１０２０を含む。画像は、第１のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０４）に関連する２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に基づき得て、また第２のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０８）に関連する２つのサンプル層のそれぞれからの１次回折に基づき得る。画像内の第１のワーキングゾーンの見かけの周期は、モアレ干渉に基づく場合がある。
【0094】
別の実施形態では、方法１０００は、第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間の測定方向に沿う見かけのオーバレイを画像に基づき決定するステップ１０３０を含む。この決定は、例えば、図２３Ａ及び図２３Ｂに関して説明された方法２３００及び２３１２によって実行され得る（例えば、対称中心間の差を見つける）が、ステップ１０３０はこれに限定されず、２つのワーキングゾーン間の位置ずれを計算する任意の方法が使用され得る。見かけのオーバレイは、２つのサンプル層の間の物理的なオーバレイ誤差と等しくないことに留意されたい。むしろ、見かけのオーバレイは、第１のワーキングゾーンと第２のワーキングゾーンとの間のモアレ縞の相対的シフトに対応する。したがって、測定方向に沿った２つのサンプル層の間の物理的なオーバレイ誤差は、測定方向に直交する対称軸間の差をモアレ利得で除算することによって決定され得る。
【0095】
別の実施形態では、方法１０００は、見かけのオーバレイをモアレ利得で除算することによって２つのサンプル層の間のオーバレイを計算し、モアレ干渉を補償するステップ１０４０を含む。この計算は、例えば、図２３Ａに関して説明された方法２３００のステップ２３２２によってなされ得るが、ステップ１０４０はこれに限定されない。
【0096】
図１１は、ワーキングゾーン２０４（図２Ａ～図２Ｃに示す）における２つのサンプル層２１４と２１６との間の単一散乱光モアレ効果を示す概念図である。光ビーム（例えば、サンプル光１２０）は、１次回折（例えば、＋１及び＋１’）がサンプル層２１４及び２１６のそれぞれから収集システム（例えば、検出器１０４）によって収集され得るように、サンプル層２１４及び２１６を照射し得る。光ビームは、インコヒーレント光を含んでもよい。この効果は、サンプル層２１４及び２１６に限定されず、例えば、図２Ｂのサンプル層２１８と２２０との間、図２８Ｂのサンプル層８０６と８０８との間、図２９Ｂのサンプル層９１４と９１６との間などで生じ得ることに留意されたい。単一散乱光モアレ効果を使用することにより、必要な光が少なくなり、計測ターゲットの設計と測定モードの選択がより簡単になる可能性がある。
【0097】
図１２～図２２は、単一散乱光モアレ効果を使用したサンプル照射（例えば、照明又は入射瞳における）及び収集（例えば、集光又は射出瞳における）のための様々な構成を示す。照射されるサンプルは、例えば、ワーキングゾーン２０４内のサンプル層２１４及び２１６であり得る。追加のサンプル層（例えば、ワーキングゾーン２０８内のサンプル層２１８及び２２０）は、同時に、又は個別に照射され得る。１つの測定方向（例えば、Ｘ方向）が１度に測定されてもよく、又は２つの測定方向（例えば、Ｘ及びＹ方向）が測定されてもよい。計測ターゲットのピッチ、照明及び集光経路の開口数、照明の配置、及びサンプル光の波長を構成することによって、適切な回折次数が集光経路によって収集され、オーバレイ測定のための画像が生成され得る。
【0098】
図１２は、ブロッカ５２３を含む単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心構成を示す。ブロッカ５２３は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。照明ローブ５０１は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）を照射し得て、１次回折（＋１、＋１’、－１、－１’）が、収集システムによって収集され得る。照明ローブ５０１は、サンプルに対して約９０°の角度でサンプルを照射し得て、第１のワーキングゾーン又は第２のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０４又は２０８）の中心部分又はその近くでサンプルに衝突し得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成によって生成される画像には、モアレピッチ高調波と、はるかに小さいピッチの少なくとも３つの追加の高調波が含まれる場合がある。したがって、画像が生成されると、非モアレ高調波は、アルゴリズム的に除去されてもよい（例えば、フーリエローパスフィルタの類似物を使用する）。
【0099】
図１３Ａ～図１３Ｂは、ブロッカ５２３を含む単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。ブロッカ５２３は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図１３Ａでは、照明ローブ５０１はサンプルを照射し得て、１次回折（－１及び－１’）が収集システムによって収集され得る。図１３Ｂでは、照明ローブ５０２はサンプルを照射し得て、１次回折（＋１及び＋１’）が収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。
【0100】
図１４Ａ～図１４Ｂは、非中心ワーキング領域を有する対物レンズ５３７を含んだ、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のための代替の２ステップの中心から外れた構成を示す。非中心ワーキング領域を有する対物レンズ５３７は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。この構成は、集光瞳へのアクセスを必要としないため、簡単である。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図１４Ａでは、照明ローブ５０１はサンプルを照射し得て、１次回折（－１及び－１’）が収集システムによって収集され得る。図１４Ｂでは、照明ローブ５０２はサンプルを照射し得て、１次回折（＋１及び＋１’）が収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。
【0101】
図１５Ａ～図１５Ｂは、ブロッカ５２３を含む単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のための２ステップの中心から外れた構成を示す。ブロッカ５２３は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図１５Ａでは、照明ローブ５０１はサンプルを照射し得て、１次回折（－１及び－１’）が収集システムによって収集され得る。図１５Ｂでは、照明ローブ５０２はサンプルを照射し得て、１次回折（＋１及び＋１’）が収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成を使用すると、モアレターゲットの設計と測定モードが拡張され、同じ構成がＸ方向とＹ方向に同時に使用され得る（例えば、Ｘ方向とＹ方向が同じ設計を有する場合）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。
【0102】
図１６Ａ～図１６Ｂは、対物レンズ５４３を含んだ、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のための代替の２ステップの中心から外れた構成を示す。対物レンズ５４３の外側を照射することにより、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数はブロックされ得る。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図１６Ａでは、照明ローブ５０１はサンプルを照射し得て、１次回折（－１及び－１’）が収集システムによって収集され得る。図１６Ｂでは、照明ローブ５０２はサンプルを照射し得て、１次回折（＋１及び＋１’）が収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。
【0103】
図１７Ａ～図１７Ｂは、対物レンズ５４３を含んだ、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のための代替の２ステップの中心から外れた構成を示す。対物レンズ５４３の外側を照射することにより、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数はブロックされ得る。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図１７Ａでは、照明ローブ５０１はサンプルを照射し得て、１次回折（－１及び－１’）が収集システムによって収集され得る。図１７Ｂでは、照明ローブ５０２はサンプルを照射し得て、１次回折（＋１及び＋１’）が収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成を使用すると、モアレターゲットの設計と測定モードが拡張され、同じ構成がＸ方向とＹ方向に同時に使用され得る（例えば、Ｘ方向とＹ方向が同じ設計を有する場合）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。
【0104】
図１８Ａ～図１８Ｂは、特別に設計されたワーキング領域を有する入射瞳で対物レンズ５５７を含んだ、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のための代替の２ステップの中心から外れた構成を示す。特別に設計されたワーキング領域を有する対物レンズ５５７は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。この構成は、集光瞳へのアクセスを必要としないため、簡単である。この実施形態では、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）は、（最初に照明ローブ５０１によって、その後で照明ローブ５０２によって）順次照射され得る。図１８Ａでは、照明ローブ５０１はサンプルを照射し得て、１次回折（－１及び－１’）が収集システムによって収集され得る。図１８Ｂでは、照明ローブ５０２はサンプルを照射し得て、１次回折（＋１及び＋１’）が収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成を使用すると、モアレターゲットの設計と測定モードが拡張され、同じ構成がＸ方向とＹ方向に同時に使用され得る（例えば、Ｘ方向とＹ方向が同じ設計を有する場合）。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。
【0105】
図１９は、対物レンズ５４３を含む単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。対物レンズ５４３の外側を照射することにより、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数がブロックされ得る。この構成は、集光瞳へのアクセスを必要としないため、簡単である。この実施形態では、照明ローブ５０１及び５０２は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）を照射し得て、１次回折（＋１、＋１’、－１、－１’）が、収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成によって生成される画像には、モアレピッチ高調波と、異なるピッチの追加の高調波が含まれ得る。したがって、画像が生成されると、非モアレ高調波は、アルゴリズム的に除去されてもよい（例えば、フーリエローパスフィルタの類似物を使用する）。
【0106】
図２０は、ブロッカ５６１を含む単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。ブロッカ５６１は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。この実施形態では、照明ローブ５０１及び５０２は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）を照射し得て、１次回折（＋１、＋１’、－１、－１’）が、収集システムによって収集され得る。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成によって生成される画像には、モアレピッチ高調波と、異なるピッチの追加の高調波が含まれ得る。したがって、画像が生成されると、非モアレ高調波は、アルゴリズム的に除去されてもよい（例えば、フーリエローパスフィルタの類似物を使用する）。
【0107】
図２１は、単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心から外れた構成を示す。この実施形態では、照明ローブ５０１及び５０２は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）を照射し得て、１次回折（＋１、＋１’、－１、－１’）が、収集システムによって収集され得る。この構成では、集合は、プリズムを使用していくつかの領域（例えば、集光領域５６３及び５６７）に分割され得る。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成によって生成される画像には、モアレピッチ高調波と、異なるピッチの追加の高調波が含まれ得る。したがって、画像が生成されると、非モアレ高調波は、アルゴリズム的に除去されてもよい（例えば、フーリエローパスフィルタの類似物を使用する）。
【0108】
図２２は、ブロッカ５２３を含む単一散乱光モアレ効果を使用するサンプル照射及び収集のためのワンステップの中心構成を示す。ブロッカ５２３は、ゼロ次回折、及び可能であればモアレ回折次数をブロックし得る。照明ローブ５０１は、サンプル（例えば、サンプル層２１４及び２１６、及び／又はサンプル層２１８及び２２０など）を照射し得て、１次回折（＋１、＋１’、－１、－１’）が、収集システムによって収集され得る。照明ローブ５０１は、サンプルに対して約９０°の角度でサンプルを照射することができ、第１のワーキングゾーン又は第２のワーキングゾーン（例えば、ワーキングゾーン２０４又は２０８）の中心部分又はその近くでサンプルに衝突し得る。この構成では、収集は、プリズムを使用していくつかの領域（例えば、集光領域５６３及び５６７）に分割され得る。２つのビームが撮像に使用されるため、１次と－１次の間の振幅の非対称性は不正確さを示唆するものではなく、更にコントラストとオーバレイ測定は焦点位置に対する感度が低い場合がある (オーバレイフォーカスの独立性には、ターゲットサンプル層がＰＱＱＰタイプであることが必須である)。この実施形態では、信号ＤＣは最小化される（例えば、ＤＣは、収集された非ゼロ高調波と同じ大きさである）。この構成によって生成される画像には、モアレピッチ高調波と、異なるピッチの追加の高調波が含まれ得る。したがって、画像が生成されると、非モアレ高調波は、アルゴリズム的に除去されてもよい（例えば、フーリエローパスフィルタの類似物を使用する）。
【0109】
図２１及び図２２の構成はそれぞれ、集光瞳の位置に基づいて画像をいくつかの画像に分割するように構成されたプリズムを含む。集光瞳を分割することによって、ブロッカ（例えば、ブロッカ５２３）は、分割により、望ましくない信号（例えば、望ましくない回折次数）が別の光路に移動する可能性があるため（そして結果として、望ましくない信号と他の信号との間に干渉がないため）必要ない。したがって、 図２１及び図２２では、望ましくないゼロ次回折は、集光瞳を分割することによって除去される。一般に、図５～図９Ｂ及び図１２～図２２に関して説明された構成のいずれかは、ブロッカの代わりに瞳分割を含み得る。
【0110】
ここで、図２３Ａ～図２９Ｂを参照すると、オーバレイを測定する様々な計測ターゲット及び方法が詳細に説明される。図２３Ａ～図２３Ｂは、ワーキングゾーンの対称性を利用することによってオーバレイを計算する方法を示す流れ図である。図２４Ａ～図２６Ｂは、２つのワーキングゾーンにモアレパターンを有する計測ターゲットを使用したオーバレイを示す。図２７～図２８Ｃは、１つのワーキングゾーンにモアレパターンを有し、第２のワーキングゾーンに単層構造（例えば、格子オーバ格子構造ではない）を有する計測ターゲットを使用するオーバレイを示す。図２９Ａ及び図２９Ｂは、２つのワーキングゾーンにモアレパターンを有する３つ以上の層を伴う計測ターゲットを使用するオーバレイを示し、１つの層が参照層として機能する。本明細書では、図３～図２２の構成に関して説明されたサンプル及び計測ターゲットは、図２３Ａ～図２９Ｂに関して説明されたサンプル及び計測ターゲットのいずれかと同様、又は実質的に同一であり得ることに留意されたい。例えば、図３～図２２に関して説明されたサンプルのいずれも、図２８Ｂのサンプル層８０６及び８０８を有する計測ターゲット、又は、図２９Ｂのサンプル層９１４及び９１６を有する計測ターゲット、などを含み得る。
【0111】
図２３Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、オーバレイを測定するための方法２３００において実行されるステップを示す流れ図である。例えば、方法２３００を適用して、計測ターゲット、例えば限定するものではないが、図２Ａ～図２Ｃに示される計測ターゲット２０２に基づきオーバレイを測定し得る。出願人は、計測システム１００の文脈において本明細書で前述した実施形態及び実現テクノロジが、方法２３００にまで及ぶように解釈されるべきであることに留意している。しかし、方法２３００は、計測システム１００のアーキテクチャに限定されないことに更に留意されたい。更に、方法２３００を適用して、１つ以上の測定方向に沿ってオーバレイを測定し得る。
【0112】
１つの実施形態では、方法２３００は、計測ターゲットの第１のワーキングゾーンの画像を受け取るステップ２３０２を含み、第１のワーキングゾーンは、２つのサンプル層に格子を含む第１のモアレパターンの１つ以上のインスタンスを含む。別の実施形態では、方法２３００は、計測ターゲットの第２のワーキングゾーンの画像を受け取るステップ２３０４を含み、第２のワーキングゾーンは、２つのサンプル層に格子を含む第２のモアレパターンの１つ以上のインスタンスを含む。
【0113】
第１のモアレパターン２０６及び第２のモアレパターン２１０の画像は、別個の画像又は単一の共通の画像に関連付けることができる。１つの実施形態では、計測ターゲット２０２全体の画像は、第１のワーキングゾーン２０４及び第２のワーキングゾーン２０８が同じ画像に基づき分析され得るように、（例えば、計測システム１００を用いて）取得される。別の実施形態では、計測ターゲット２０２（又はその一部）の別個の画像は、第１のワーキングゾーン２０４及び第２のワーキングゾーン２０８の分析のために生成される。この場合、画像は、異なる撮像条件（例えば、異なる照明波長、照明入射角、偏光、焦点など）を使用して生成され得る。
【0114】
別の実施形態では、方法２３００は、第１のワーキングゾーンに関連する測定方向に直交する第１の対称軸を決定するステップ２３０６を含む。別の実施形態では、方法２３００は、第２のワーキングゾーンに関連する測定方向に直交する第２の対称軸を決定するステップ２３０８を含む。別の実施形態では、方法２３００は、第１の対称軸と第２の対称軸との間の差を測定するステップ２３１０を含む。更に、１つ以上のワーキングゾーンの対称中心２１２は、異なる方向（例えば、直交方向）に直交する対称軸を決定して、交点を見つけ出すことによって、見つけることができる。
【0115】
第１のワーキングゾーン２０４及び第２のワーキングゾーン２０８の対称軸は、ステップ２３０２又はステップ２３０４において、当技術分野で周知の任意の技術を使用して決定され得る。例えば、モアレパターンのない典型的なＡＩＭターゲットの対称中心の測定に適した技術が、使用され得る。
【0116】
図２３Ｂは、測定方向に直交するワーキンググループの対称軸を決定するための方法２３１２を示す流れ図である。これに関して、方法２３１２は、ステップ２３０６及び／又はステップ２３０８に関連付けられ得る。図２４Ａは、図２Ｃの計測ターゲット２０２の上面図であり、本開示の１つ以上の実施形態による、方法２３１２の適用を示す追加のマーキングを伴う。
【0117】
１つの実施形態では、ステップ２３１４は、ワーキンググループ内の要素の少なくとも一部分を含む関心領域（ＲＯＩ）を選択することを含む。例えば、図２４Ａの実線枠内は、第１のワーキングゾーン２０４内の第１のモアレパターン２０６の部分を選択するＲＯＩ４０２を表し、破線枠内は、第２のワーキングゾーン２０８内の第２のモアレパターン２１０の部分を選択するＲＯＩ４０４を表す。
【0118】
別の実施形態では、ステップ２３１６は、ＲＯＩに基づいて測定信号を生成することを含む。例えば、測定方向に沿った測定信号の各値は、直交方向に沿ったＲＯＩにおける平均（又は累積）強度値を含み得る。
【0119】
本明細書では、モアレパターン（例えば、第１のモアレパターン２０６又は第２のモアレパターン２１０）に関連するモアレ縞は、計測ターゲット２０２の画像内に見られ得るモアレパターンを形成する格子構造に対して比較的低いコントラストを有する場合があると考えられる。別の実施形態では、ステップ２３１８は、測定信号内のモアレ縞を分離することを含む。例えば、ステップ２３１８は、１つ以上の次数のモアレ縞（例えば、１次、２次など）を含み得る。モアレ縞を分離することで、ノイズが減少し、ステップ２３０６及び／又は２３０８における対称軸の決定の精度及び／又は感度が向上し得て、それによって対称軸の決定の精度及び／又は堅牢性が向上する可能性がある。
【0120】
モアレ縞は、当技術分野で周知の任意の技術を使用して、ステップ２３１８で分離され得る。１つの実施形態では、測定信号がフィルタリングされて、モアレ縞を分離する。例えば、測定信号の空間周波数成分は、１Ｄ又は２Ｄフーリエフィルタリングあるいは他の周波数ベースの分解技術（例えば、測定信号のサイン信号及び／又はコサイン信号への分解）を使用して分析され得る。更に、周波数選択フィルタを使用して、モアレ縞（例えば、１次モアレ縞、２次モアレ縞など）の空間周波数を分離し得る。
【0121】
別の実施形態では、方法２３１２は、測定信号に基づいて、測定方向に直交するワーキングゾーンの対称軸４０６を決定するステップ２３２０を含み得る。測定方向に直交するワーキングゾーンの対称軸４０６は、当技術分野で周知の任意の技術を使用して決定され得る（例えば、方法２３００のステップ２３０６又はステップ２３０８、あるいは方法２３１２のステップ２３２０において）。１つの実施形態では、第１のモアレパターン２０６の画像の一部分（例えば、ステップ３１４のＲＯＩ）は、対称軸を決定するためにそれ自体の対称バージョンと相関される。例えば、第１のワーキングゾーン２０４の対称軸４０６は、第１のワーキングゾーン２０４を含む画像の部分のコピーを生成し、計測ターゲット２０２の関連する回転対称性によって画像コピーを回転させ（例えば、９０°、１８０°など）、元の画像と画像コピーとの間の相関を、様々な位置で測定方向に沿った位置の関数として実行することによって決定され得る。この場合、元の画像と回転されたバージョンとの間の最高の相関を提供する測定方向に沿った位置は、第１のワーキングゾーン２０４の対称軸４０６に対応し得る。別の例として、反射対称性（又は鏡面対称性）を有するワーキングゾーンの場合、ワーキングゾーンの対称軸４０６は、ワーキングゾーンの反射コピーをそれ自体と相関させることによって決定され得る。
【0122】
本明細書で前述したように、方法２３１２に関連するステップを適用して、任意の数のワーキングゾーンの対称軸４０６を決定し得る。例えば、ステップ２３０６とステップ２３０８の両方は、方法２３１２の適用を含み得る。
【0123】
しかし、測定方向に沿ってワーキングゾーンの対称軸４０６を決定するための方法２３１２は、単に説明目的のために提供され、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。むしろ、対称軸４０６は、当技術分野で周知の任意の技術を使用して決定され得る。１つの実施形態では、測定方向に沿ったワーキンググループの対称軸４０６は、最初に関心領域（例えば、ステップ３１４のＲＯＩ４０２）を決定し、１つ以上の次数のモアレ縞を、ＲＯＩ全体に対して空間周波数フィルタリング動作を実行することで（例えば、直交方向に沿い無限大寸法を有するものとしてフィーチャを扱い、ステップ３１８に類似する１Ｄフィルタリング動作を適用することで）その計測方向に沿って分離させ、そしてＲＯＩをそれ自体の回転されたバージョンと相関し、対称軸４０６を決定することにより、適用され得る。
【0124】
別の実施形態では、方法２３００は、測定方向に沿った２つのサンプル層の間のオーバレイ誤差を、測定方向に直交する第１及び第２のワーキングゾーン２０４、２０８の対称軸間の差をモアレ利得係数で除算することによって計算するステップ２３２２を含む。例えば、図２４Ａでは、第１のワーキングゾーン２０４と第２のワーキングゾーン２０８の両方は、図２４Ａがオーバレイ誤差のない場合を示すため、測定方向（例えば、Ｘ方向）に直交する重なり合う対称軸４０６を有する。しかし、物理的なオーバレイ誤差の場合、対称軸４０６は重ならない。
【0125】
例えば、図２４Ｂでは、第１のワーキングゾーン２０４と第２のワーキングゾーン２０８は重なり合う対称軸を有していない。図２４Ｂでは、第１のワーキングゾーン２０４は、回転対称中心２１２を伴う対称軸４０６を有し、一方、第２のワーキングゾーン２０８は、回転対称中心２１３を伴う対称軸４０７を有する。対称軸４０６は対称軸４０７と重ならず、回転対称中心２１２は回転対称中心２１３と重ならない。したがって、図２４Ｂは、オーバレイ誤差がある場合を示す。
【0126】
モアレ縞の存在のため、ステップ２３１０で決定された対称軸間の差は、第１及び第２のサンプル層の間の物理的なオーバレイ誤差とは異なる。むしろ、対称軸間の差は、モアレ縞の相対的なシフトに対応する。したがって、測定方向に沿った物理的なオーバレイ誤差は、測定方向に直交する対称軸間の差を、計測ターゲット２０２の特定のレイアウトに関連するモアレ利得で除算することによって決定され得る。
【0127】
本明細書では、モアレ利得は計測ターゲット２０２の特定のレイアウトに依存することが認識される。例えば、図２Ａの計測ターゲット２０２に関連するモアレ利得係数（Ｍｇ）は、オーバレイが層Ｂに対する層Ａのシフトに関連する場合、
Ｍｇ＝Ｍ１－Ｍ２＝Ｐ／（Ｐ－Ｑ）－Ｓ／（Ｓ－Ｔ）＝－（Ｑ／（Ｑ－Ｐ）－Ｔ／（Ｔ－Ｓ）） （７）
として特徴付けることができる。同様に、層Ｂに対する層Ａのシフトに関連するモアレ利得係数は、－Ｍｇ＝Ｍ２－Ｍ１として特徴付けることができる。
Ｍｇ＝Ｍ１－Ｍ２＝Ｐ／（Ｐ－Ｑ）－Ｓ／（Ｓ－Ｔ）＝－（Ｑ／（Ｑ－Ｐ）－Ｔ／（Ｔ－Ｓ）） （７）
として特徴付けることができる。同様に、層Ｂに対する層Ａのシフトに関連するモアレ利得係数は、－Ｍｇ＝Ｍ２－Ｍ１として特徴付けることができる。
【0128】
式（７）によって明らかなように、モアレ利得は、第１のモアレパターン２０６及び第２のモアレパターン２１０に関連する条件付きモアレファクタによって影響され、これらは、格子ピッチＰ、Ｑ、Ｓ、及びＴの特定の値の関数となる。したがって、格子ピッチＰ、Ｑ、Ｓ、及びＴの値を選択することで、合成モアレ利得と、それにより物理的なオーバレイ誤差に対する感度を増加又は最適化し得る。例えば、合成モアレ利得は、一般に、格子ピッチＰ、Ｑ、Ｓ、及びＴの値を選択することによって増加され得て、その結果、第１のワーキングゾーン２０４と第２のワーキングゾーン２０８のモアレ利得は異なる符号を有する。
【0129】
ここで、図２５及び図２６Ａ～図２６Ｂを参照すると、本明細書において、方法２３００は、図２Ａに示される計測ターゲット２０２の特定の形状に限定されないことが企図される。一般的な意味では、ワーキングゾーン (例えば、第１のワーキングゾーン２０４又は第２のワーキングゾーン２０８）は、ワーキングゾーンが回転及び／又は反射対称である限り、モアレパターン（例えば、第１のモアレパターン２０６又は第２のモアレパターン２１０）の任意の数のインスタンスを含み得る。
【0130】
図２５は、本開示の１つ以上の実施形態による計測ターゲット２０２の上面図であり、第１のモアレパターン２０６の２つのインスタンスを含んでいる第１のワーキングゾーン２０４と、第２のモアレパターン２１０の２つのインスタンスを含んでいる第２のワーキングゾーン２０８とを含む。
【0131】
図２６Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による計測ターゲット２０２の上面図であり、第１のモアレパターン２０６の２つのインスタンスを含んでいる第１のワーキングゾーン２０４と、第２のモアレパターン２１０の単一のインスタンスを含んでいる第２のワーキングゾーン２０８とを含む。
【0132】
図２６Ｂは、図２６Ａの計測ターゲットの上面図であり、図２３Ｂの方法２３１２の適用を示す追加のマーキングを伴う。図２６Ａの実線枠は、第１のワーキングゾーン２０４における第１のモアレパターン２０６の部分を選択するＲＯＩ４０２を表し、破線枠は、第２のワーキングゾーン２０８における第２のモアレパターン２１０の部分を選択するＲＯＩ４０４を表す（例えば、方法２３１２のステップ２３１４）。ＲＯＩ４０２及びＲＯＩ４０４を使用して、ベースとなる測定信号を生成する（例えば、方法２３１２のステップ２３１６）。
【0133】
図２７は、本開示の１つ以上の実施形態による、モアレインボックス計測ターゲット２０２の上面図であり、第１のワーキングゾーン２０４がモアレパターン７０２の単一インスタンスを含み、第２のワーキングゾーン２０８がモアレパターン７０２を囲む非周期単層構造を含む。図２７では、モアレパターン７０２が、Ｘ方向のみに周期性を有する格子オーバ格子構造を含むことで、図７の計測ターゲット２０２を用いて、（例えば、方法３００に従い）Ｘ方向におけるオーバレイ測定を行い得る。しかし、図７の計測ターゲット２０２の例は単に例示目的で提示されたものであり、限定として解釈すべきではないことを理解されたい。１つの実施形態では、図示しないが、モアレインボックスターゲットは、Ｘ方向及びＹ方向の両方に沿って周期性を有する格子オーバ格子構造を伴う２Ｄモアレパターンを含み、Ｘ方向及びＹ方向の両方に沿ってオーバレイ測定が行われる。
【0134】
ここで、図２８Ａ～図２９Ｂを参照すると、いくつかの実施形態では、計測ターゲット２０２は参照層を含む。この場合、参照層の構造は、追加層の構造と光学的に相互作用して、デバイス様計測ターゲット（例えば、デバイスフィーチャと同様のサイズ、密度、及び／又はピッチを有するフィーチャを備えるターゲット）を提供し得る。参照層を含むデバイス様計測ターゲットは、一般に、２０１８年７月５日に公開された米国特許出願公開第２０１８／０１８８６６３号に記載されており、参照によりその全体が本明細書に援用される。
【0135】
図２８Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による３層計測ターゲット２０２の上面ブロック図であり、複数の層にわたる格子オーバ格子構造に基づくモアレパターンを有する。図２８Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、図２８Ａのモアレパターンにおける多層格子構造の概念図である。１つの実施形態では、計測ターゲット２０２は、第１のモアレパターン８０２の２つのインスタンスを含んでいる第１のワーキングゾーン２０４と、第２のモアレパターン８０４の２つのインスタンスを含んでいる第２のワーキングゾーン２０８とを含む。
【0136】
図２８Ｂに示すように、第１のモアレパターン８０２は、第１の層（層Ａ）にピッチＰを有する格子構造８０６と、参照層（層Ｂ）にピッチＱを有する格子構造８０８から形成され、第３の層（層Ｃ）には格子構造がなく、ここでＰ≠Ｑとされる。更に、第２のモアレパターン８０４は、参照層（層Ｂ）にピッチｘ・Ｑを有する格子構造８１０と、第３層（層Ａ）にピッチｘ・Ｐを有する格子構造８１２とから形成され、ここで、ｘは正の数 (例えば、有理数) である。この場合、第１のモアレパターン８０２と第２のモアレパターン８０４の両方が、参照層の構造を組み込んでいる。更に、参照層構造は、第１のモアレパターン８０２及び第２のモアレパターン８０４に同じピッチを有する必要はない。
【0137】
本明細書では、図２８Ａの計測ターゲット２０２は、層Ａと層Ｃとの間のオーバレイ測定を行うのに適している。この計測ターゲット２０２では、層Ｂに対する層Ａのシフトに関連するモアレ利得（Ｍｇ）は次のとおりである。
Ｍｇ＝Ｑ／（Ｐ－Ｑ） （９）
Ｍｇ＝Ｑ／（Ｐ－Ｑ） （９）
【0138】
図２８Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態により、２つの直交方向に沿う測定のための図２８Ａ及び図２８Ｂに基づく計測ターゲット２０２の上面図である。特に、図２８Ｃに示される計測ターゲット２０２は、ｘ＝１の例を表す。
【0139】
図２８Ａ～図２８Ｃ及び関連する説明は、単に例示を目的として提供されており、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。いくつかの実施形態では、計測ターゲット２０２は、３つの層に３つの重なり合う格子を有するモアレパターンを伴う少なくとも１つのワーキングゾーンを含み、１つの層は参照層である。この場合、他の２対の層の間のオーバレイは、アルゴリズム的に（例えば、１つ以上の測定信号をフィルタリングして、所望の空間周波数及び／又はモアレ縞を分離又は抑制することによって）又は物理的に（例えば、追加のワーキングゾーンを使用して）いずれかで復元され得る。
【0140】
図２９Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、トリプルモアレ計測ターゲット２０２の上面ブロック図である。図２９Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、図２９Ａのモアレパターンにおける多層格子構造の概念図である。１つの実施形態では、計測ターゲット２０２は、第１のモアレパターン９０４の２つのインスタンスを含んでいる第１のワーキングゾーン９０２、第２のモアレパターン９０８の２つのインスタンスを含んでいる第２のワーキングゾーン９０６、及び第３のモアレパターン９１２の２つのインスタンスを含んでいる第３のワーキングゾーン９１０を含む。図２９Ｂに示すように、第１のモアレパターン９０４は、第１の層（層Ａ）にピッチＱを有する格子構造９１４と、第２の層（層Ｂ）にピッチＰを有する格子構造９１６から形成され、第３の層（層Ｃ）には格子構造がなく、ここでＰ≠Ｑである。第２のモアレパターン９０８は、第１の層（層Ａ）にピッチＴを有する格子構造９１８と、第２の層（層Ｂ）にピッチＳを有する格子構造９２０とから形成され、ここでＴ≠Ｓである。第３のモアレパターン９１２は、第３の層（Ｃ層）にピッチＴを有する格子構造９２２と、第２の層（Ｂ層）にピッチＳを有する格子構造９２４から形成される。
【0141】
本明細書では、図２９Ａの計測ターゲット２０２は、層Ａと層Ｃとの間、又は層Ａと層Ｂとの間のオーバレイ測定を行うのに適している。この計測ターゲット２０２では、層Ｂに対する層Ａのシフトに関連するモアレ利得（Ｍｇ）は次のとおりである。
Ｍｇ＝Ｐ／（Ｐ－Ｑ）－Ｓ／（Ｓ－Ｔ） （１０）
Ｍｇ＝Ｐ／（Ｐ－Ｑ）－Ｓ／（Ｓ－Ｔ） （１０）
【0142】
この計測ターゲット２０２では、層Ｃに対する層Ａのシフトに関連するモアレ利得（Ｍｇ）は次のとおりである。
Ｍｇ＝Ｔ／（Ｓ－Ｔ） （１１）
Ｍｇ＝Ｔ／（Ｓ－Ｔ） （１１）
【0143】
図２９Ａ及び図２９Ｂ及び関連する記述は、例示の目的のみに提示されたものであり、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。例えば、トリプルモアレ計測ターゲット２０２は、一般に、３層にわたる格子構造の配列の更なるバージョンを含む。１つの実施形態では、トリプルモアレ計測ターゲット２０２は、層Ａ及びＢ上の格子構造に基づくモアレパターンを有する第１のワーキングゾーン９０２と、層Ｂ及びＣ上に格子構造を有する第２のワーキングゾーン９０６と、層Ａ及びＣ上に格子構造を有する第３のワーキングゾーン９１０とを含む。このようなターゲットは、層ＡとＢ間、ならびに層ＢとＣ間のオーバレイ測定にも適し得る。更に、計測ターゲット２０２は、一般に任意の数の層を有していてもよい。例えば、Ｎ重計測ターゲット２０２は、選択された層上に格子構造があるＮ個の層を有し、選択された層間のオーバレイ測定を行い得る。
【0144】
本明細書で説明される主題は、時として、別の構成要素内に含有される、又は別の構成要素と接続される、異なる構成要素を示す。そのような図示のアーキテクチャは単なる例示であり、実際には、同じ機能性を達成する他の多くのアーキテクチャを実装し得ることを理解されたい。概念的には、同じ機能性を達成するための構成要素の任意の配置は、所望の機能性が達成されるよう効果的に「関連付け」られる。すなわち、特定の機能性を達成するために組み合わされる任意の２つの構成要素は、アーキテクチャ又は仲介の構成要素に関係なく、所望の機能性が達成されるよう互いに「関連付け」られると、見ることができる。同様に、そのように関連付けられる任意の２つの構成要素は、その所望の機能性が達成されるよう互いに「接続され」又は「結合され」る、と見ることができ、また、そのように関連付け得る任意の２つの構成要素はまた、その所望の機能性が達成されるよう互いに「結合可能」であるものと見ることができる。結合可能の特定の例には、限定するものではないが、物理的に相互作用可能な及び／又は物理的に相互作用する構成要素、及び／又は無線で相互作用可能な及び／又は無線で相互作用する構成要素、及び／又は論理的に相互作用可能な及び／又は論理的に相互作用する構成要素を含む。
【0145】
本開示及びそれに付随する利点の多くは、前述の説明により理解されると考えられ、また開示された主題から逸脱することなく、又はその重要な利点のすべてを犠牲にすることなく、様々な変更が構成要素の形状、構造、及び配置に加え得ることが明らかであろう。記述された形態は単に説明のためのものであり、以下の特許請求の範囲の意図は、そのような変更を包括し含有することにある。更に、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図9A】
【図9B】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13A】
【図13B】
【図14A】
【図14B】
【図15A】
【図15B】
【図16A】
【図16B】
【図17A】
【図17B】
【図18A】
【図18B】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23A】
【図23B】
【図24A】
【図24B】
【図25】
【図26A】
【図26B】
【図27】
【図28A】
【図28B】
【図28C】
【図29A】
【図29B】
【国際調査報告】