(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-08-22
(54)【発明の名称】ホットスタンピング部品
(51)【国際特許分類】
C22C 38/00 20060101AFI20230815BHJP
C22C 38/38 20060101ALI20230815BHJP
【FI】
C22C38/00 301Z
C22C38/38
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2022575422
(86)(22)【出願日】2021-12-08
(85)【翻訳文提出日】2023-02-02
(86)【国際出願番号】 KR2021018545
(87)【国際公開番号】W WO2022124798
(87)【国際公開日】2022-06-16
(31)【優先権主張番号】10-2020-0171510
(32)【優先日】2020-12-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(31)【優先権主張番号】10-2021-0049138
(32)【優先日】2021-04-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】510307299
【氏名又は名称】ヒュンダイ スチール カンパニー
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100127465
【氏名又は名称】堀田 幸裕
(74)【代理人】
【識別番号】100107582
【氏名又は名称】関根 毅
(74)【代理人】
【識別番号】100210790
【氏名又は名称】石川 大策
(72)【発明者】
【氏名】ユ、ビョンギル
(72)【発明者】
【氏名】キム、ジェウス
(72)【発明者】
【氏名】ド、ヒョンヒョプ
(72)【発明者】
【氏名】ハン、ソンキョン
(57)【要約】
炭素C:0.19~0.25重量%、シリコン(Si):0.1~0.6重量%、マンガン(Mn):0.8~1.6重量%、リン(P):0.03重量%以下、硫黄(S):0.015重量%以下、クロム(Cr):0.1~0.6重量%、ホウ素(B):0.001~0.005重量%、添加剤0.1重量%以下、及び残りの鉄(Fe)、並びにその他不可避な不純物を含むベース鋼板を含むホットスタンピング部品において、ナノ押し込み試験時に観察される200nmないし600nmの押し込み深さに係わる押し込み変形率において、押し込み動的変形時効の個数は、26個から40個である、ホットスタンピング部品である。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
炭素C:0.19~0.25重量%、シリコン(Si):0.1~0.6重量%、マンガン(Mn):0.8~1.6重量%、リン(P):0.03重量%以下、硫黄(S):0.015重量%以下、クロム(Cr):0.1~0.6重量%、ホウ素(B):0.001~0.005重量%、添加剤0.1重量%以下、及び残りの鉄(Fe)、並びにその他不可避な不純物を含むベース鋼板を含むホットスタンピング部品において、
ナノ押し込み試験時に観察される200nmないし600nmの押し込み深さに係わる押し込み変形率において、押し込み動的変形時効の個数は、26個から40個である、ホットスタンピング部品。
【請求項2】
前記ベース鋼板は、複数のラス構造が分布されたマルテンサイト組織を含む、請求項1に記載のホットスタンピング部品。
【請求項3】
前記複数のラスの平均間隔は、140nmないし300nmである、請求項2に記載のホットスタンピング部品。
【請求項4】
前記ベース鋼板内に分布された微細析出物をさらに具備し、
前記微細析出物は、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)のうち少なくともいずれか1つの窒化物または炭化物を含む、請求項1に記載のホットスタンピング部品。
【請求項5】
単位面積(100μm
2)当たりに分布された前記微細析出物の個数は、7,500個以上18,000個以下である、請求項4に記載のホットスタンピング部品。
【請求項6】
前記微細析出物の平均直径は、0.0068μm以下である、請求項4に記載のホットスタンピング部品。
【請求項7】
前記微細析出物において、0.01μm以下の直径を有する比率は、63%以上である、請求項4に記載のホットスタンピング部品。
【請求項8】
前記微細析出物において、0.005μm以下の直径を有する比率は、28%以上である、請求項4に記載のホットスタンピング部品。
【請求項9】
前記ホットスタンピング部品のVベンディング角度は、50°以上である、請求項1に記載のホットスタンピング部品。
【請求項10】
前記ホットスタンピング部品の引っ張り強度は1,350MPa以上である、請求項1に記載のホットスタンピング部品。
【請求項11】
前記ホットスタンピング部品の活性化水素量は、0.8wppm以下である、請求項1に記載のホットスタンピング部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ホットスタンピング部品に係わる。
【背景技術】
【0002】
世界的に、環境規制及び燃費規制が強化されながら、さらに軽い車両素材を求める必要性が増大している。それにより、超高強度鋼とホットスタンピング鋼とに係わる研究開発が活発になされている。そのうち、ホットスタンピング工程は、普遍的に、加熱/成形/冷却/トリミングによってなり、工程中において、素材の相変態、及び微細組織の変化を利用することになる。
【0003】
最近では、ホットスタンピング工程によって製造されたホットスタンピング部品において生じる遅延破断、耐食性及び溶接性を向上させようとする研究が活発に進められている。それと係わる技術としては、大韓民国特許公開公報第10-2018-0095757号(発明の名称:ホットスタンピング部品の製造方法)などがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の実施形態は、衝突性能が向上されたホットスタンピング部品を提供する。
【0005】
しかしながら、そのような課題は、例示的なものであり、それにより、本発明の範囲が限定されるものではない。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様によれば、炭素(C):0.19~0.25重量%、シリコン(Si):0.1~0.6重量%、マンガン(Mn):0.8~1.6重量%、リン(P):0.03重量%以下、硫黄(S):0.015重量%以下、クロム(Cr):0.1~0.6重量%、ホウ素(B):0.001~0.005重量%、添加剤0.1重量%以下、及び残りの鉄(Fe)、並びにその他不可避な不純物を含むベース鋼板を含むホットスタンピング部品において、ナノ押し込み試験時に観察される200nmないし600nmの押し込み深さに係わる押し込み変形率(indentation strain rate)において、押し込み動的変形時効(indentation dynamic strain aging)の個数は、26個から40個であるホットスタンピング部品が提供される。
【0007】
本実施形態によれば、前記ベース鋼板は、複数のラス(lath)構造が分布されたマルテンサイト組織を含むものでもある。
【0008】
本実施形態によれば、前記複数のラスの平均間隔は、140nmないし300nmでもある。
【0009】
本実施形態によれば、前記ベース鋼板内に分布された微細析出物をさらに具備し、前記微細析出物は、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)のうち少なくともいずれか1つの窒化物または炭化物を含むものでもある。
本実施形態によれば、単位面積(100μm2)当たりに分布された前記微細析出物の個数は、7,500個以上18,000個以下でもある。
【0010】
本実施形態によれば、前記微細析出物の平均直径は、0.0068μm以下でもある。
【0011】
本実施形態によれば、前記微細析出物において、0.01μm以下の直径を有する比率は、63%以上でもある。
【0012】
本実施形態によれば、前記微細析出物において、0.005μm以下の直径を有する比率は、28%以上でもある。
【0013】
本実施形態によれば、前記ホットスタンピング部品のVベンディング角度は、50°以上でもある。
【0014】
本実施形態によれば、前記ホットスタンピング部品の引っ張り強度は、1,350MPa以上でもある。
【0015】
本実施形態によれば、前記ホットスタンピング部品の活性化水素量は、0.8wppm以下でもある。
【発明の効果】
【0016】
前述のところのようになされた本発明の一実施形態によれば、ホットスタンピング部品を具現することができる。ここで、そのような効果により、本発明の範囲が限定されるものではないということは、言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【
図1】本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品の一部を図示するTEM(transmission electron microscope)イメージである。
【
図2】本発明の一実施形態に係わるホットスタンピング部品のナノ押し込み試験による荷重・変位グラフである。
【
図3】
図2のA部分のセレーション(serration)挙動を図示した拡大図である。
【
図4】押し込み動的変形時効を測定したグラフである。
【
図5】
図4のB部分を拡大して図示した拡大図である。
【
図6】本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品のラス(lath)、及びラス境界における転位移動による押し込み動的変形時効のメカニズムを示した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
本発明は、多様な変換を加えることができ、さまざまな実施形態を有することができるが、特定実施形態を図面に例示し、詳細な説明によって詳細に説明する。本発明の効果、特徴、及びそれらを達成する方法は、図面と共に詳細に後述されている実施形態を参照すれば、明確になるであろう。しかしながら、本発明は、は以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、多様な形態にも具現される。
【0019】
以下、添付された図面を参照し、本発明の実施形態について詳細に説明するが、図面を参照して説明するとき、同一であるか、あるいは対応する構成要素は、同一図面符号を付し、それに係わる重複説明は、省略する。
【0020】
本明細書において、第1、第2のような用語は、限定的な意味ではなく、1つの構成要素を、他の構成要素と区別する目的に使用されている。
【0021】
本明細書において、単数の表現は、文脈上、明白に異なって意味しない限り、複数の表現を含む。
【0022】
本明細書において、「含む」または「有する」というような用語は、明細書上に記載された特徴または構成要素が存在するということを意味するものであり、1以上の他の特徴または構成要素が付加される可能性を事前に排除するものではない。
【0023】
本明細書において、膜、領域、構成要素のような部分が、他の部分の「上」または「上部」にあるとするとき、他の部分の真上にある場合だけではなく、その中間に、さらに他の膜、領域、構成要素などが介在されている場合も含む。
【0024】
本明細書において、膜、領域、構成要素などが連結されているとするとき、膜、領域、構成要素が直接連結されている場合、または/及び膜、領域、構成要素の中間に、他の膜、領域、構成要素が介在され、間接的に連結されている場合も含む。例えば、本明細書において、膜、領域、構成要素などが電気的に連結されているとするとき、膜、領域、構成要素などが、直接電気的に連結されている場合、及び/またはその中間に、他の膜、領域、構成要素などが介在され、間接的に電気的に連結されている場合を示す。
【0025】
本明細書において、「A及び/またはB」は、Aであるか、Bであるか、あるいはA及びBである場合を示す。そして、「A及びBのうち少なくとも一つ」は、Aであるか、Bであるか、あるいはA及びBである場合を示す。
【0026】
本明細書において、ある実施形態が異なって具現可能である場合、特定の工程順序は、説明される順序と異なるようにも遂行される。例えば、連続して説明される2つの工程が、実質的に同時に遂行されもするし、説明される順序と反対の順序にも進められる。
【0027】
図面においては、説明の便宜のために、構成要素がその大きさが誇張されている場合もあり、縮小されている場合もある。例えば、図面に示されている各構成の大きさ及び厚みは、説明の便宜のために、任意に示されているので、本発明は、必ずしも図示されているところに限定されるものではない。
【0028】
図1は、本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品の一部を図示するTEM(transmission electron microscope)イメージである。
【0029】
図1を参照すれば、ホットスタンピング部品は、ベース鋼板を含むものでもある。該ベース鋼板は、所定の合金元素を、所定含量含むように鋳造されたスラブに対し、熱延工程及び/または冷延工程を進めて製造された鋼板でもある。一実施形態として、該ベース鋼板は、炭素(C)、シリコン(Si)、マンガン(Mn)、リン(P)、硫黄(S)、クロム(Cr)、ホウ素(B)、及び残部の鉄(Fe)、並びにその他不可避な不純物を含むものでもある。また、一実施形態として、該ベース鋼板は、添加剤として、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)のうち少なくともいずれか一つをさらに含むものでもある。他の実施形態として、該ベース鋼板は、所定含量のカルシウム(Ca)をさらに含むものでもある。
【0030】
炭素(C)は、ベース鋼板内のオーステナイト安定化元素ととして作用する。炭素は、ベース鋼板の強度及び硬度を決定する主要元素であり、ホットスタンピング工程以後、該ベース鋼板の引っ張り強度(例えば、1,350MPa以上の引っ張り強度)を確保し、焼き入れ性特性を確保するための目的で添加される。そのような炭素は、ベース鋼板全体重量につき、0.19wt%ないし0.25wt%で含まれるものでもある。炭素の含量が0.19wt%未満である場合、硬質相(マルテンサイトなど)確保が困難であり、ベース鋼板の機械的強度を満足させ難い。それと反対に、炭素の含量が0.25wt%を超える場合、ベース鋼板の脆性発生または曲げ性能低減の問題が引き起こされうる。
【0031】
シリコン(Si)は、ベース鋼板内のフェライト安定化元素として作用する。シリコン(Si)は、固溶強化元素として、ベース鋼板の強度を向上させ、低温域炭化物の形成を抑制することにより、オーステナイト内の炭素濃化度を進める。また、シリコンは、熱延、冷延、熱間プレス組織均質化(パーライト、マンガン偏析帯の制御)、及びフェライト微細分散の核心元素である。シリコンは、マルテンサイト強度不均質制御元素として作用し、衝突性能を向上させる役割を行う。そのようなシリコンは、ベース鋼板全体重量につき、0.1wt%ないし0.6wt%含まれるものでもある。シリコンの含量が0.1wt%未満である場合、前述の効果を得難く、最終ホットスタンピングマルテンサイト組織において、セメンタイトの形成及び粗大化が生じ、ベース鋼板の均一化効果が微々たるものであり、Vベンディング角を確保することができなくなる。それと反対に、シリコンの含量が0.6wt%を超える場合、熱延、冷延の負荷が増大し、熱延赤スケールが過多になり、ベース鋼板のメッキ特性が低下されてしまう。
【0032】
マンガン(Mn)は、ベース鋼板内のオーステナイト安定化元素として作用する。マンガンは、熱処理時、焼き入れ性及び強度の増大目的で添加される。そのようなマンガンは、ベース鋼板全体重量につき、0.8wt%ないし1.6wt%含まれるものでもある。マンガンの含量が0.8wt%未満である場合、硬化能効果が十分ではなく、焼き入れ性不十分により、ホットスタンピング後、成型品内の硬質相分率が不十分になってしまう。一方、マンガンの含量が1.6wt%を超える場合、マンガン偏析またはパーライトバンドによる延性及び靭性が低下されし、曲げ性能低下の原因になり、不均質微細組織が生じてしまう。
【0033】
リン(P)は、ベース鋼板の靭性低下を防止するために、ベース鋼板全体重量につき、0超過0.03wt%以下で含まれるものでもある。リンの含量が0.03wt%を超える場合、リン化鉄化合物が形成され、靭性及び溶接性が低下され、製造工程中、ベース鋼板にクラックが誘発されうる。
【0034】
硫黄(S)は、ベース鋼板全体重量につき、0超過0.015wt%以下含まれるものでもある。硫黄の含量が0.015wt%を超えれば、熱間加工性、溶接性及び衝撃特性が低下され、巨大介在物生成により、クラックのような表面欠陥が生じてしまう。
【0035】
クロム(Cr)は、ベース鋼板の焼き入れ性及び強度を向上させる目的で添加される。クロムは、析出硬化を介する結晶粒の微細化及び強度の確保を可能にする。そのようなクロムは、ベース鋼板全体重量につき、0.1wt%ないし0.6wt%含まれるものでもある。クロムの含量が0.1wt%未満である場合、析出硬化効果が低調であり、それと反対に、クロムの含量が0.6wt%を超える場合、Cr系析出物及びマトリックス固溶量が増加して靭性が低下され、原価上昇により、生産費が上昇してしまう。
【0036】
ホウ素(B)は、フェライト、パーライト及びベイナイトの変態を抑制し、マルテンサイト組織を確保することにより、ベース鋼板の焼き入れ性及び強度を確保する目的で添加される。また、ホウ素は、結晶粒界に偏析され、粒界エネルギーを低くし、焼き入れ性を上昇させ、オーステナイト結晶粒成長温度上昇により、結晶粒微細化効果を有する。そのようなホウ素は、ベース鋼板全体重量につき、0.001wt%ないし0.005wt%で含まれるものでもある。ホウ素が、前述の範囲で含まれるとき、硬質相粒界脆性発生を防止し、高靭性と曲げ性とを確保することができる。ホウ素の含量が0.001wt%未満である場合、焼き入れ性効果が不足し、それと反対に、ボロンの含量が0.005wt%を超える場合、固溶度が低く、熱処理条件により、結晶粒界において、容易に析出され、焼き入れ性が劣化されたり、高温脆化の原因になったりし、硬質相粒界脆性発生により、靭性及び曲げ性が低下されてしまう。
【0037】
一方、本発明の一実施形態によるベース鋼板内においては、微細析出物が含まれるものでもある。ベース鋼板に含まれた元素のうち一部を構成する添加剤は、微細析出物形成に寄与する窒化物または炭化物の生成元素でもある。
【0038】
具体的には、該添加剤は、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)のうち少なくともいずれか一つを含むものでもある。チタン(Ti)、ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)は、窒化物形態または炭化物形態の微細析出物を形成することにより、ホットスタンピング、焼き入れを行った部材の強度を確保することができる。また、それらは、Fe-Mn系複合酸化物に含有され、耐遅延破壊特性向上に有効な水素トラップサイトとして機能し、耐遅延破壊性を改善させるのに必要な元素である。そのような添加剤は、総計で、ベース鋼板全体重量につき、0.1wt%以下で含まれるものでもある。該添加剤の含量が0.1wt%を超えれば、降参強度が過度に上昇してしまう。
【0039】
チタン(Ti)は、熱間プレス熱処理後、析出物形成による結晶粒微細化強化及び材質向上目的にも添加される。また、高温において、TiC及び/またはTiNなどの析出相を形成させ、オーステナイト結晶粒微細化に効果的に寄与する。そのようなチタンは、ベース鋼板全体重量につき、0.018wt%ないし0.045wt%含まれるものでもある。チタンが前記含量範囲で含まれれば、延鋳不良及び析出物粗大化を防止し、鋼材の物性を容易に確保することができ、鋼材表面におけるクラック発生のような欠陥を防止することができる。一方、チタンの含量が0.045wt%を超えれば、析出物が粗大化され、延伸率及び曲げ性の下落が生じてしまう。
【0040】
ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)は、マルテンサイトパケット(packet)サイズ低減による強度及び靭性の上昇を目的に添加される。ニオブ及びバナジウムそれぞれは、ベース鋼板全体重量につき、0.025wt%ないし0.050wt%含まれるものでもある。ニオブ及びバナジウムが前記範囲に含まれるとき、熱間圧延及び冷間圧延の工程において、鋼材の結晶粒微細化効果にすぐれ、製鋼/連鋳時、スラブのクラック発生と、製品の脆性破断発生とを防止し、製鋼性粗大析出物生成を最小化させることができる。
【0041】
カルシウム(Ca)は、介在物形状制御のためにも添加される。そのようなカルシウムは、ベース鋼板全体重量につき、0.003wt%以下で含まれるものでもある。
【0042】
前述のように、本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品は、ベース鋼板内において、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)及びバナジウム(V)のうち少なくともいずれか1つの窒化物または炭化物を含む微細析出物を含むものでもある。そのような微細析出物は、ベース鋼板内に分布され、水素をトラップする役割を行うことができる。すなわち、該微細析出物は、ホットスタンピング部品の製造過程または製造後において、内部に流入された水素に対するトラップサイトを提供することにより、ホットスタンピング部品の水素脆性を向上させることができる。
【0043】
一実施形態として、微細析出物が、ベース鋼板内に形成される個数が事前設定された範囲を満足するようにも制御される。一実施形態として、該微細析出物は、ベース鋼板内に、単位面積(100μm2)当たり、6,000個/100μm2以上、21,000個/100μm2以下に含まれるものでもある。また、一実施形態として、ベース鋼板内に分布される微細析出物の平均直径は、約0.0075μm以下でもあり、望ましくは、約0.004μmないし0.0075μmでもある。前述の微細析出物を含むホットスタンピング部品は、Vベンディング特性に優れ、曲げ性及び衝突性能が向上されうる。
【0044】
さらに具体的には、微細析出物は、ベース鋼板内に、単位面積(100μm2)当たり、7,500個/100μm2以上、18,000個/100μm2以下に含まれるものでもある。また、一実施形態として、ベース鋼板内に分布する微細析出物の平均直径は、約0.0068μm以下でもある。そのような微細析出物において、10nm以下の直径を有する微細析出物の比率は、約63%以上であり、5nm以下の直径を有する比率は、約28%以上でもある。前述の条件内において、微細析出物を含むホットスタンピング部品は、曲げ性及び衝突性能にすぐれるだけではなく、水素遅延破壊特性も、共に向上されうる。
【0045】
そのような微細析出物の直径は、水素遅延破壊特性改善に大きい影響を与えうる。微細析出物の個数、大きさ及び比率などが、前述の範囲において形成されれば、ホットスタンピング後、要求される引っ張り強度(例えば、1,350MPa)を確保し、成形性ないし曲げ性を向上させることができる。例えば、単位面積(100μm2)当たり、微細析出物の個数が7,500個/100μm2未満である場合、ホットスタンピング部品の強度が低下され、18,000個/100μm2を超える場合、ホットスタンピング部品の成形性ないし曲げ性が低下されうる。
【0046】
また、一実施形態として、ベース鋼板内の活性化水素量は、約0.8wppm以下でもある。活性化水素量は、ベース鋼板内に流入された水素のうち、微細析出物にトラップされた水素を除いた水素量を意味する。そのような活性化水素量は、加熱脱ガス分析(thermal desorption spectroscopy)方法を利用して測定することができる。具体的には、試片を、事前設定された加熱速度で加熱して昇温させ、特定温度以下において、試片から放出される水素量を測定することができる。このとき、特定温度以下において、試片から放出される水素は、試片内に流入された水素において、トラップされえずに、水素遅延破壊に影響を与える活性化水素とも理解される。例えば、比較例として、ホットスタンピング部品が、ベース鋼板内の活性化水素量0.8wppmを超えて含む場合、水素遅延破壊特性が低下され、同一条件下の曲げ試験において、本実施形態によるホットスタンピング部品に比べ、容易に破断されうる。
【0047】
一方、本実施形態によるベース鋼板は、微細構造が分布されたマルテンサイト組織を含むものでもある。該マルテンサイト組織は、冷却中、マルテンサイト変態の開始温度(Ms)下において、オーステナイトγの無拡散変態結果である。該マルテンサイト組織内における微細構造は、初期オーステナイト結晶粒界(PAGB:prior austenite grain boundary)という結晶粒内に急冷中に作られる無拡散変態組織であり、複数のラスL(lath)構造を含むものでもある。複数のラスL構造は、さらには、ブロック(block)、パケット(packet)のような単位体を構成しうる。さらに詳細には、複数のラスL構造は、ブロックを形成し、複数のブロックは、パケットを形成し、複数のパケットは、初期オーステナイト結晶粒界(PAGB)を形成することができる。
【0048】
前述のところのように、マルテンサイトは、オーステナイトそれぞれの初期結晶粒内において、一方向に配向された長くて薄いロッド(rod)形態のラスL構造を有することができる。複数のラスL構造は、それら間の境界、すなわち、ラス境界(LB:lath boundary)において、外部変形に抵抗する特性を有することができる。それについては、詳細に後述する。
【0049】
一方、本実施形態によるホットスタンピング部品のVベンディング角度は、50°以上でもある。「Vベンディング」は、ホットスタンピング部品の曲げ性能において示される変形のうち、最大荷重区間における曲げ変形物性を評価するパラメータである。すなわち、ホットスタンピング部品の荷重・変位評価による巨視的サイズ、微視的サイズにおける曲げ時、引っ張り変形領域について述べれば、局所的な引っ張り領域において、微細クラックが生じて伝播されれば、Vベンディング角度と呼ばれる曲げ性能が評価されうる。
【0050】
前述のところのように、本実施形態によるホットスタンピング部品は、複数のラスL構造を有するマルテンサイト組織を含むものでもあるが、曲げ変形時に生成されるクラックは、転位(dislocation)という一次元的欠陥が、マルテンサイト組織内において、相互作用を介して移動することによっても生じる。このとき、与えられた塑性変形において、局所的な変形率速度が大きい値を有するほど、マルテンサイトの塑性変形に対するエネルギー吸収程度が高く、衝突性能は、高くなるとも理解される。
【0051】
本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品においては、マルテンサイト組織が複数のラスL構造を有することにより、曲げ変形時、転位が、ラスLとラス境界(LB)とを反復的に移動する過程において、変形率速度差による動的変形時効(DSA:dynamic strain aging)、すなわち、押し込み動的変形時効(indentation dynamic strain aging)が示されうる。該押し込み動的変形時効は、塑性変形吸収エネルギーの概念であり、変形に対する抵抗性能を意味するために、押し込み動的変形時効現象が頻煩であるほど、変形に対する抵抗性能にすぐれると評価されうる。
【0052】
本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品においては、マルテンサイト組織が、稠密な形態の複数のラスL構造を有することにより、押し込み動的変形時効現象が頻繁に生じ、それを介し、Vベンディング角度を50°以上確保し、曲げ性及び衝突性能を向上させうる。
【0053】
一実施形態として、本実施形態によるホットスタンピング部品のマルテンサイト組織に含まれた複数のラスLの平均間隔は、約140nmないし300nmでもある。比較例として、前述の元素の組成を外れるベース鋼板を含むホットスタンピング部品がラス構造を含む場合を仮定する。比較例のホットスタンピング部品のラス構造間の平均間隔は、本実施形態によるホットスタンピング部品のラスL構造の平均間隔よりもさらに大きく形成される。すなわち、本実施形態によるホットスタンピング部品は、比較例に比べ、さらに稠密なラスL構造を有し、そのように、ホットスタンピング部品内のラスL構造が稠密になることにより、押し込み動的変形時効の個数は、さらに増加しうる。
【0054】
図2は、本発明の一実施形態に係わるホットスタンピング部品のナノ押し込み試験による荷重・変位グラフであり、
図3は、
図2のA部分のセレーション(serration)挙動を図示した拡大図である。
【0055】
図2を参照すれば、本発明の一実施形態に係わるホットスタンピング部品につき、ナノ押し込み試験を進めた結果を示したグラフを図示する。該「ナノ押し込み試験」は、ホットスタンピング部品の表面において、押し込み子(indenter)を垂直に押し、深さによる力の変形を測定した試験である。
図2において、x軸は、押し込み子が押し込まれた深さを示し、y軸は、押し込まれた深さによる力を示す。一例として、
図2においては、押し込み子として、キューブ・コーナーチップ(cube-corner tip):中心線と面との角度(centerline-to-face angle)=35.3°、押し込み変形率(indentation strain rate)=0.22)を使用したが、本発明は、それに限定されるものではなく、ベルコビッチ圧子(Berkovich tip:中心線と面との角度=65.3°、押し込み変形率=0.072)を使用することもできる。
【0056】
図2のA部分を拡大させた
図3を参照すれば、ナノ押し込み試験時に生じる押し込み変形、塑性変形のうち、鋸歯形態の変形、すなわち、セレーションと呼ばれる特徴的な挙動が観察されることが分かる。該セレーション挙動は、大体のところ、一定間隔を置いて反復的に示され、
図3においては、下矢印(↓)でセレーション挙動を表記した。
【0057】
該セレーション挙動は、ホットスタンピング部品の押し込み試験時、そこに含まれた初期オーステナイト結晶粒界(PAGB)内の無拡散変態組織によっても示される。さらに具体的には、
図2のような荷重・変位曲線で示されるセレーション挙動は、材料内で拡散される溶質原子と転位との相互作用によって示されるものであり、初期オーステナイト結晶粒界(PAGB)内に分布された複数のラスと、それら間に形成されるラス境界部分とにおける外圧に対する抵抗力差に始まるものであるとも理解される。そのようなセレーション挙動は、後述する
図4の動的変形時効(DSA)、すなわち、押し込み動的変形時効現象の主要証拠とも認識される。
【0058】
図4は、押し込み動的変形時効を測定したグラフであり、
図5は、
図4のB部分を拡大して図示した拡大図である。
【0059】
図4は、
図3の荷重・変位曲線を基に、ナノ押し込み変形率速度([dh/dt]/h(h:押し込み深さ、t:単位時間))を解析したグラフである。
【0060】
一実施形態として、ホットスタンピング部品は、ナノ押し込み試験時に観察される約200nmないし600nmの押し込み深さに係わる押し込み変形率(indentation strain rate)において、押し込み動的変形時効の個数が約26個から40個でもある。該押し込み動的変形時効は、押し込み変形率が、複数個のピークを反復的に形成する挙動としても示される。
【0061】
押し込み動的変形時効の個数は、ベースラインCを中心にし、それを通過するピークを基準に算定することができる。すなわち、押し込み動的変形時効の個数は、ベースラインCを中心に、ベースラインCの上下に形成されるピークは、算定せず、ベースラインCを通過して形成されたピークを基準に算定したものでもある。ベースラインCは、押し込み変形率測定時、ラス及びラス境界の構造による押し込み動的変形時効を除去した場合を仮定した線である。
【0062】
図5の押し込み変形率グラフを参照すれば、押し込み深さがだんだんと深くなる場合、押し込み動的変形時効の個数及び大きさがだんだんと小さくなることが分かる。それは、押し込み深さがだんだんと深くなるほど、初期オーステナイト結晶の押し込み物性が混在され、押し込み動的変形時効がほとんど示されないためである。
図4を参照すれば、押し込み深さ600nm以上においては、実質的に押し込み動的変形時効がほとんど示されないということが分かる。
図4のグラフにおいては、押し込み深さ700nm以上は、測定されていないが、700nm以上の押し込み深さに係わる押し込み変形率を続けて測定すれば、当該区間において、動的変形時効が除去された曲線を得ることができる。ベースラインCは、そのように、押し込み動的変形時効が除去された押し込み深さにおける押し込み変形率曲線を逆に推定して導き出すことができる。
【0063】
前述のところのように、本実施形態によるホットスタンピング部品の押し込み動的変形時効の個数は、26個ないし40個でもあるが、それは、押し込み深さ約200nmないし600nmの区間において測定されたところを基準にする。
図4においては、押し込み深さを、0nmから約700nmまで測定したが、押し込み深さ約200nm未満においては、鈍くなった押し込み子の影響により、押し込み変形率の正確度が低く、押し込み深さ約600nm超過時、初期オーステナイト結晶自体の押し込み物性が混在され、動的変形時効の評価が容易ではないためである。
【0064】
図4に図示されているように、押し込み変形率は、巨視的に見るとき、押し込み深さにより、二次関数的にだんだんと小さくなる様相を示す。このとき、押し込み動的変形時効は、該押し込み変形率が複数個のピークを反復的に形成する挙動としても示される。それを詳細に観察するために、
図5においては、
図4の350nmないし400nmの押し込み深さに係わる押し込み変形率を拡大して図示した。
【0065】
図5を参照すれば、押し込み変形率は、上昇区間と下降区間とが反復される形態で示されうる。a区間は、押し込み試験時、押し込み変形率が上昇する区間であり、抵抗を吸収する区間を意味しうる。すなわち、a区間は、曲げ変形において、引っ張り発生部において転位が移動するとき、初期オーステナイト結晶粒界(PAGB)内に分布されたラス内において転位が滑って移動(gliding)する区間とも理解される。そのように転位がラス内において移動する間、ホットスタンピング部品は、外部抵抗を吸収する性質を示し、それは、
図5のように、押し込み変形率が上昇する区間とも示される。該転位は、ラス境界部分まで上昇していて、ラス境界を通過する瞬間、b区間のように、押し込み変形率が下降することになるが、それは、ラス境界に分布された微細析出物との相互作用による現象とも解釈される。
【0066】
図6は、本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品の曲げ変形において、転位移動による押し込み動的変形時効のメカニズムを示した模式図である。
【0067】
図6を参照すれば、曲げ変形において、引っ張り発生部における初期オーステナイト結晶粒界(PAGB)内に分布されたラスL及びラス境界LBを図示しながら、
図5の押し込み動的変形時効による転位移動を、模式的に図示している。前述のところのように、曲げ変形において転位は、隣接したラスLに沿って移動することができる。
【0068】
【0069】
そのように、転位移動時、ラスL内とラス境界LBとにおけるエネルギー吸収程度による押し込み変形率が異なるとも解釈される。
図5及び
図6を共に参照すれば、ラスL内において、
図6の矢印に沿って転位が移動する間は、
図5のa区間にも該当する。すなわち、ラスL内において転位が移動する間、押し込み変形率は、上昇しうる。該押し込み変形率は、転位がラス境界LBに隣接するまで上昇していて、ラス境界LBを通過する瞬間に下降するが、それは、
図5のb区間にも該当する。そのように、転位移動時、転位とラス境界LBとの相互作用により、
図5のような押し込み動的変形時効が生じうる。前述のように、ラス境界LBには、微細析出物Pが分布し、変形を遅延させる特性を示し、そのように、変形率の上昇及び低下は、複数のラスLを通過する間、反復的に形成され、押し込み動的変形時効を生じさせることができる。
【0070】
本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品は、ベース鋼板内に含まれた微細析出物を制御することにより、複数のラス間の平均間隔を縮小させ、転位が、曲げ変形において滑って移動するとき、押し込み動的変形時効現象がさらに頻繁に起こる特性を有しうる。そのように、ラス構造の稠密化を介し、押し込み動的変形時効現象が増大することにより、本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品は、曲げ変形時、破断されずに、Vベンディング角度を50°以上確保することができ、それを介し、曲げ性及び衝突性能が向上されうる。
【0071】
以下においては、実施形態及び比較例を介し、本発明についてさらに詳細に説明する。しかしながら、下記の実施形態及び比較例は、本発明についてさらに具体的に説明するためのものであり、本発明の範囲は、下記の実施形態及び比較例によって限定されるものではない。下記の実施形態及び比較例は、本発明の範囲内において、当業者によって適切に修正、変更されうる。
【0072】
本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品は、下記[表1]のような組成を有するベース鋼板に対し、ホットスタンピング工程を経て形成されることができる。
【表1】
【0073】
前述のように、本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品は、ベース鋼板内に、添加剤の窒化物及び/または炭化物を含む微細析出物を含むものでもあり、該ホットスタンピング部品内の微細析出物は、ベース鋼板内に、単位面積(100μm
2)当たり、6,000個/100μm
2以上、21,000個/100μm
2以下に含まれるものでもある。また、一実施形態として、ベース鋼板内に分布する微細析出物の平均直径は、約0.004ないし0.0075μmでもある。前述の条件を満足するホットスタンピング部品の場合、Vベンディング角度が50°以上を示すことができる。以下[表2]は、チタン含量による本発明による実施形態と比較例との微細析出物の析出挙動、及びそれによる押し込み動的変形時効の個数、Vベンディング角度を数値化して測定した値を示す。
【表2】
【0074】
前述の[表2]において、実施形態1ないし実施形態7は、前述のように、チタン含量による微細析出物の析出挙動条件、及び複数のラス形成条件を満足する実施形態である。具体的には、実施形態1内ないし実施形態7内において、チタンは、約0.018wt%ないし0.045wt%含まれるものでもあり、それによる複数のラスの平均間隔は、約140nmないし300nmでもあり、チタンを含む微細析出物、例えば、チタン炭化物(TiC)の単位面積当たり個数は、6,000個/100μm2以上、21,000個/100μm2以下でもあり、全体微細析出物の平均直径は、0.004μmないし0.0075μmでもある。その場合、押し込み動的変形時効の個数は、26個ないし40個の条件を満足する。そのように、本発明の析出挙動条件、及び複数のラス形成条件を満足する実施形態1ないし実施形態7は、Vベンディング角度を50°以上確保することができ、引っ張り強度及び曲げ性が向上されたことを確認することができる。一方、比較例1及び比較例2は、前述の析出挙動条件、及び複数のラス形成条件のうち少なくとも一部を満足させることができないことにより、引っ張り強度及び曲げ性が、実施形態1ないし実施形態7に比べ、低くなっていることを確認することができる。
【0075】
比較例1の場合、チタン含量が0.047wt%であることにより、微細析出物のサイズが粗大化され、複数のラスの平均間隔は、約135nmと小さくなり、押し込み動的変形時効は、24個と、前述の条件を満足させることができない。それにより、比較例1のVベンディング角度は、43°に過ぎないということを確認することができる。
【0076】
比較例2の場合、チタン含量が0.017wt%であることにより、微細析出物のサイズ及び密度が小さくなることになり、複数のラスの平均間隔は、約320nmと大きくなり、押し込み動的変形時効は、25個と、やはり前述の条件を満足させることができない。それにより、比較例2のVベンディング角度は、45°に過ぎないということを確認することができる。
【0077】
さらに具体的には、本発明の一実施形態によるホットスタンピング部品内の微細析出物は、ベース鋼板内に、単位面積(100μm2)当たり、7,500個/100μm2以上、18,000個/100μm2以下に含まれるものでもある。また、一実施形態として、ベース鋼板内に分布する微細析出物の平均直径は、約0.0068μm以下でもある。そのような微細析出物において、0.01μm以下の直径を有する微細析出物の比率は、約63%以上であり、0.005μm以下の直径を有する比率は、28%以上でもある。また、一実施形態として、ベース鋼板内の活性化水素量は、約0.8wppm以下でもある。そのような特性を有するホットスタンピング部品は、曲げ性にすぐれ、耐水素脆性が向上されうる。
【0078】
下記[表3]は、本発明による実施形態と比較例との微細析出物の析出挙動を数値化して測定した値を示す。
【0079】
微細析出物の析出挙動は、TEM(transmission electron microscope)イメージを分析する方法でもって測定することができる。具体的には、試片について事前設定された個数ほど、任意領域に係わるTEMイメージを獲得する。獲得されたイメージから、イメージ分析プログラムなどを介し、微細析出物を抽出し、抽出された微細析出物につき、微細析出物の個数、微細析出物間の平均距離、微細析出物の直径などを測定することができる。
【0080】
一実施形態として、微細析出物の析出挙動測定のために、測定対象試片に、前処理として、表面複製法(replication method)を適用することができる。例えば、1段階レプリカ法、2段階レプリカ法、抽出レプリカ法などが適用されうるが、前述の例示に限定されるものではない。
【0081】
他の実施形態として、微細析出物の直径測定時、微細析出物の形態の不均一性を考慮し、微細析出物の形状を円院に換算し、微細析出物の直径を算出することができる。具体的には、特定の面積を有する単位ピクセルを利用し、抽出された微細析出物の面積を測定し、微細析出物を、測定された面積と同一面積を有する円院に換算し、微細析出物の直径を算出することができる。
【表3】
【0082】
前記[表3]においては、試片AないしNにつき、微細析出物の析出挙動(単位面積当たり全体微細析出物個数、全体微細析出物平均直径、直径10nm以下の微細析出物の比率、直径5nm以下の微細析出物の比率、活性化水素量)を測定したものである。[表3]の試片AないしJは、本発明による実施形態であり、前述の含量条件([表1]参照)を満足するベース鋼板を利用して製造されたホットスタンピング部品の試片である。言い換えれば、試片AないしJは、前述の微細析出物の析出挙動条件を満足する試片である。具体的には、試片AないしJは、微細析出物が、鋼板内に7,500個/100μm2以上、18,000個/100μm2以下に形成され、全体微細析出物の平均直径は、0.0068μm以下であり、鋼板内に形成される微細析出物の63%以上が10nm以下の直径を有し、28%以上が5nm以下の直径を満足する。そのような本発明の析出挙動条件を満足する試片AないしJは、活性化水素量が0.8wppm以下の条件を満足することにより、水素遅延破壊特性が向上されることを確認することができる。
【0083】
一方、試片KないしNは、前述の微細析出物の析出挙動条件のうち少なくとも一部を満足させることができない試片であり、引っ張り強度、曲げ性及び/または水素遅延破壊特性が、試片AないしJと対比させ、落ちるということを確認することができる。
【0084】
試片Kの場合、全体微細析出物の平均直径が0.0070μmである。それは、全体微細析出物の平均直径条件の下限に達していない。それにより、試片Kの活性化水素量は、相対的に高い0.891wppmであることを確認することができる。
【0085】
試片Lの場合、直径10nm以下微細析出物の比率が62.8%と測定された。それにより、試片Lの活性化水素量は、相対的に高い0.878wppmであることを確認することができる。
【0086】
試片M及び試片Nの場合、直径5nm以下微細析出物の比率が、それぞれ27.8%及び27.9%と測定された。それにより、試片M及び試片Nの活性化水素量は、相対的に高い0.865wppm及び0.859wppmであることをそれぞれ確認することができる。
【0087】
試片KないしNから分かるように、本発明の析出挙動条件を満足することができない場合は、ホットスタンピング工程において、1つの微細析出物に、相対的に多くの水素がトラップされているか、あるいはトラップされた水素原子が局所的に密集され、トラップされた水素原子が互いに結合し、水素分子(H2)を形成することにより、内部圧力を発生させることになり、それにより、ホットスタンピング加工された製品の水素遅延破壊特性を低下させたと判断される。
【0088】
一方、試片AないしJのように、本発明の析出挙動条件を満足する場合は、ホットスタンピング工程において、1つの微細析出物にトラップされる水素原子の個数が相対的に少ないか、あるいはトラップされた水素原子が相対的に等しく分散されうる。従って、トラップされた水素原子によって形成される水素分子による内部圧力発生を低下させることができ、それにより、ホットスタンピング加工された製品の水素遅延破壊特性が向上されていると判断される。
【0089】
結果として、前述の本発明の含量条件が適用されたホットスタンピング部品は、ホットスタンピングを経た後、前述の微細析出物の析出挙動条件を満足することにより、水素遅延破壊特性が向上されたことを確認した。
【0090】
本発明は、図面に図示された実施形態を参照して説明されたが、それらは、例示的なものに過ぎず、当該技術分野において当業者であるならば、それらから、多様な変形、及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解するであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められるものである。
【国際調査報告】