特表2023-538950磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層を備えるセキュリティ文書又は物品、及び前記光学効果層を製造するための方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-09-12
(54)【発明の名称】磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層を備えるセキュリティ文書又は物品、及び前記光学効果層を製造するための方法
(51)【国際特許分類】
B41M 3/14 20060101AFI20230905BHJP
B42D 25/369 20140101ALI20230905BHJP
【ＦＩ】
B41M3/14
B42D25/369
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023513649
(86)(22)【出願日】2021-08-30
(85)【翻訳文提出日】2023-04-20
(86)【国際出願番号】 EP2021073863
(87)【国際公開番号】W WO2022049024
(87)【国際公開日】2022-03-10
(31)【優先権主張番号】20194060.8
(32)【優先日】2020-09-02
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】311007051
【氏名又は名称】シクパ ホルディング ソシエテ アノニム
【氏名又は名称原語表記】ＳＩＣＰＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＳＡ
【住所又は居所原語表記】Ａｖｅｎｕｅ ｄｅ Ｆｌｏｒｉｓｓａｎｔ ４１，ＣＨ－１００８ Ｐｒｉｌｌｙ， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ
(74)【代理人】
【識別番号】100107456
【弁理士】
【氏名又は名称】池田 成人
(74)【代理人】
【識別番号】100128381
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 義憲
(74)【代理人】
【識別番号】100162352
【弁理士】
【氏名又は名称】酒巻 順一郎
(72)【発明者】
【氏名】ロギノフ， エフゲニー
(72)【発明者】
【氏名】カルガーリ， アンドレア
(72)【発明者】
【氏名】デスプラント， クロード‐アラン
【テーマコード（参考）】
2C005
2H113
【Ｆターム（参考）】
2C005HA04
2C005JB23
2C005KA61
2H113AA01
2H113AA06
2H113BA00
2H113BA01
2H113BA03
2H113BA05
2H113BA09
2H113BB02
2H113BB07
2H113BB08
2H113BB09
2H113BB10
2H113BB22
2H113BB32
2H113BC09
2H113BC11
2H113CA17
2H113CA25
2H113CA36
2H113CA39
2H113CA47
2H113DA04
2H113DA47
2H113DA49
2H113DA57
2H113DA63
2H113FA43
(57)【要約】
本発明は、例えば銀行券及び身分証明書などのセキュリティ文書を偽造及び違法な複製から保護する分野に関する。特に、本発明は、１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えるセキュリティ文書及び装飾品、並びに前記ＯＥＬを製造する方法を提供し、前記ＯＥＬは、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中に磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、人目を引く光学効果を示し、したがって、観察者は、約－４５°～約＋４５°の視野／観察角度で傾けると、ＯＥＬを簡単に認証できる。
【選択図】 図３Ａ
【選択図】 図３Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
２次元表面を有する基材（ｘ２０）と、前記基材（ｘ２０）上の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）とを備えるセキュリティ文書又は装飾品であって、前記１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）が、主軸線Ｘを有するとともに少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中に磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、
前記プレートレット形状の顔料粒子の配向が、前記粒子の前記主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが互いに実質的に平行であり、
前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが、前記粒子の位置で前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面に対して仰角γだけ角度を付けられ、前記仰角γが、
０°よりも大きく３０°よりも小さく（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜γ＜１８０°）、
それにより、前記１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）が、輝度の最大値に達する輝度の増大と、前記基材（ｘ２０）の－４５°～＋４５°の視野角内での輝度の減少とを示す、
セキュリティ文書又は装飾品。
【請求項2】
前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な粒子の少なくとも一部が、プレートレット形状の光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子によって構成される、請求項１に記載のセキュリティ文書又は装飾品。
【請求項3】
前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な粒子の少なくとも一部が、金属色、好ましくは銀色又は金色を呈するプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子によって構成される、請求項１に記載のセキュリティ文書又は装飾品。
【請求項4】
前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な粒子が互いに実質的に平行である、請求項１～３のいずれか一項に記載のセキュリティ文書又は装飾品。
【請求項5】
１つまたは複数のしるしを更に含み、前記１つまたは複数のしるしが、前記基材（ｘ２０）と前記１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）との間に存在する、請求項１～４のいずれか一項に記載のセキュリティ文書又は装飾品。
【請求項6】
前記１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）が、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中に磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むとともに、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）中に磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と少なくとも部分的に若しくは完全に重なり合い、又は、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と隣り合い、又は、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間され、前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）中で前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面に対して前記粒子の位置で更なる仰角γ’だけ角度付けられ、前記更なる仰角γ’が０°よりも大きく３０°よりも小さく（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜γ’＜１８０°）、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が、互いに異なる及び／又は同一平面上にない、請求項１～５のいずれか一項に記載のセキュリティ文書又は装飾品。
【請求項7】
前記仰角γが約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内である、請求項１～６のいずれか一項に記載のセキュリティ文書又は装飾品。
【請求項8】
２次元表面を有する基材（ｘ２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を生成する方法であって、ａ）基材（ｘ２０）表面上にプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであって、前記放射線硬化性コーティング組成物が、コーティング層（ｘ１０）を形成するように第１の液体状態にある、ステップと、
ｂ）前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、前記コーティング層（ｘ１０）を、磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に対して、前記磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域で曝露するステップであって、前記コーティング層（ｘ１０）を支持する前記基材（ｘ２０）が、前記磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域に設けられ、前記コーティング層（ｘ１０）と、前記磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域内の磁場の磁力線の接線とが成す角度αが、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α＜１８０°）、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と部分的に同時に又はステップｂ）の後に、前記コーティング層（ｘ１０）中の前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）を生成するように、前記コーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ４０）で少なくとも部分的に硬化させるステップと、
を含み、
前記プレートレット形状の顔料粒子の配向が、前記粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが互いに実質的に平行であり、前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが、前記粒子の位置で前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面に対して仰角γだけ角度を付けられ、前記仰角γが０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、
方法。
【請求項9】
前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が第２の主軸線Ｙを有し、前記プレートレット形状の顔料粒子の配向が、前記粒子の前記第２の主軸線Ｙと平行なベクトルである第２のプレートレットベクトルによって更に規定され、前記コーティング層（ｘ１０）を曝露する前記ステップｂ）が、前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するように行なわれ、その結果、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが互いに実質的に平行であるとともに、前記隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記第２のプレートレットベクトルが互いに実質的に平行である、請求項８に記載の方法。
【請求項10】
前記ステップｃ）が前記ステップｂ）と部分的に同時に行なわれる、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
前記光学効果層（ＯＥＬ）が、前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）上において少なくとも部分的に、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）と、を備え、前記第２のプレートレット形状の顔料粒子のそれぞれの配向が、前記第２のプレートレット形状の顔料粒子の前記主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合う第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが互いに実質的に平行であり、前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが、前記粒子の位置で前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面に対して、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）更なる仰角γ’だけ角度付けられ、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が、互いに異なる及び／又は同一平面上になく、
前記方法が、
前記ステップｃ）に続いて、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）上に、前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的又は完全に塗布するステップｄ）であって、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するように第１の液体状態にあり、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の前記放射線硬化性コーティング組成物と同じ又は異なる、ステップｄ）と、
前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を、第２の磁場発生装置の第２の磁場に対して、前記第２の磁場が均一である１つまたは複数の領域で曝露するステップｅ）であって、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を支持する前記基材（ｘ２０）が、前記磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域に設けられ、前記第２のコーティング層（ｘ１１）と、前記磁場が均一である前記１つまたは複数の領域内の前記第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さく（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜α’＜１８０°）、前記第２の磁場発生装置が、ステップｂ）の前記磁場発生装置と同じ又は異なり、α’がαと異なる、ステップｅ）と、
ｆ）前記第２のコーティング層（ｘ１１）を前記第２の磁場に曝露する前記ステップｅ）と部分的に同時に又は前記ステップｅ）の後に、前記第２のコーティング層（ｘ１１）中の前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）を生成するように、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を硬化ユニット（ｘ４０）で少なくとも部分的に硬化させるステップと、
を更に含む、請求項８～１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
前記光学効果層（ＯＥＬ）が、前記プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）と、を備え、前記第２のプレートレット形状の顔料粒子のそれぞれの配向が、前記第２のプレートレット形状の顔料粒子の前記主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合う第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが互いに実質的に平行であり、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）に隣り合う又は前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間し、前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の前記プレートレットベクトルが、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）中において前記粒子の位置で前記基材（ｘ２０）の前記２次元表面に対して、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）更なる仰角γ’だけ角度付けられ、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が、互いに異なる及び／又は同一平面上になく、
前記方法が、
前記ステップｃ）に続いて、前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップｄ）であって、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するように第１の液体状態にあり、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の前記放射線硬化性コーティング組成物と同じ又は異なり、前記第２のコーティング層（ｘ１１）が、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）に隣り合う又は前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間する、ステップｄ）と、
前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁場発生装置の第２の磁場に対して、前記磁場が均一である１つまたは複数の領域で曝露するステップｅ）であって、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を支持する前記基材（ｘ２０）が、前記磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域に設けられ、前記第２のコーティング層（ｘ１１）と、前記磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域内の前記第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さく（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜α’＜１８０°）、前記第２の磁場発生装置が、ステップｂ）の前記磁場発生装置と同じ又は異なり、α’がαと異なる、ステップｅ）と、
ｆ）前記第２のコーティング層（ｘ１１）を前記第２の磁場に曝露する前記ステップｅ）と部分的に同時に又は前記ステップｅ）の後に、前記第２のコーティング層（ｘ１１）中の前記第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）を生成するように、前記第２のコーティング層（ｘ１１）を硬化ユニット（ｘ４０）で少なくとも部分的に硬化させるステップと、
を更に含む、請求項８～１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
前記角度α’が、約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内である、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項14】
前記角度αが、約５°以上３０°未満（５°≦α＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α≦１７５°）、好ましくは約５°～約２５°（５°≦α≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α≦１７５°）の範囲内である、請求項８～１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項15】
請求項８～１４のいずれか一項に記載の方法によって製造された光学効果層（ＯＥＬ）。
【発明の詳細な説明】
【発明の分野】
【0001】
[001]本発明は、磁気的に配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）の分野に関する。特に、本発明は、１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えるセキュリティ文書及び装飾物品、並びに前記ＯＥＬを製造するための方法、及びセキュリティ文書又はセキュリティ物品の偽造防止手段としての並びに装飾目的での前記ＯＥＬの使用を提供する。
【発明の背景】
【0002】
[002]配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子、特に光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むインク、組成物、コーティング又は層を使用することは、セキュリティ要素の製造のため、例えばセキュリティ文書の分野において、当技術分野で知られている。配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング又は層は、例えば、米国特許第２，５７０，８５６号；米国特許第３，６７６，２７３号；米国特許第３，７９１，８６４号；米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示される。セキュリティ文書の保護に有用な、特に魅力的な光学効果をもたらす、配向された磁気カラーシフト顔料粒子を含むコーティング又は層は、国際公開第２００２／０９０００２号及び国際公開第２００５／００２８６６号に開示される。
【0003】
[003]例えばセキュリティ文書のためのセキュリティ特徴は、一般に、一方では「隠れた」セキュリティ特徴に、他方では「顕在的な」セキュリティ特徴に分類できる。秘密のセキュリティ特徴によって提供される保護は、そのような特徴は検出が困難であるという原則に依存しており、通常、検出には専門の機器及び知識が必要である。これに対し、「顕在的な」セキュリティ特徴は、肉眼的感覚で簡単に検出できるという概念に依存しており、例えば、そのような特徴は、目に見える及び／又は触覚を介して検出可能である場合があるが、作成及び／又はコピーすることは依然として困難である。しかしながら、明白なセキュリティ特徴の有効性は、セキュリティ特徴としての認識のしやすさに大きく依存する。
【0004】
[004]印刷インク又はコーティング中の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、対応する構造化された磁場の印加を通じて、磁気的に誘導された画像、デザイン、及び／又はパターンの生成を可能にし、未だ硬化／硬化していない（すなわち、湿った）コーティング中の磁性又は磁化可能な顔料粒子の局所配向を誘導し、その後、コーティングの硬化が続く。その結果、固定された安定した磁気的に誘導された画像、デザイン、又はパターンが得られる。コーティング組成物中の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向させるための材料及び技術は、例えば、米国特許第２，４１８，４７９号、米国特許第２，５７０，８５６号；米国特許第３，７９１，８６４号、独国特許出願公開第２００６８４８号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第５，３６４，６８９号、米国特許第６，１０３，３６１号、欧州特許第０４０６６６７号；米国特許出願公開第２００２／０１６０１９４号；米国特許出願公開第２００４／０００９３０８号；欧州特許出願公開第０７１０５０８号；国際公開第２００２／０９００２号；国際公開第２００３／０００８０１号；国際公開第２００５／００２８６６号；国際公開第２００６／０６１３０１号に開示される。このようにして、偽造に対して非常に耐性のある磁気誘導パターンを生成することができる。対象のセキュリティ要素は、磁性又は磁化可能な顔料粒子又は対応するインク、及び前記インクを印刷し、印刷されたインク内で前記顔料を配向するために使用される特定の技術の両方にアクセスすることによってのみ製造することができる。
【0005】
[005]例えば国際公開第２０１５／０１８６６３号に記載されているように、磁気的に配向された顔料又は粒子を含む顕在的なセキュリティ特徴には、高いコントラスト、輝度、及び反射率が不可欠であることが当技術分野で知られている。
【0006】
[006]光学効果層（ＯＥＬ）の磁性又は磁化可能な顔料粒子の磁気配向パターンに従って及び観察方向に従って、前記ＯＥＬは、明るい領域及び暗い領域を表示することができる。ＯＥＬの特定のゾーンの光学特性は、前記ＯＥＬを形成するコーティング層内の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向に直接依存する。
【0007】
[007]欧州特許第２４８４４５５号は、第１及び第２の曲面を模倣するように配向された顔料粒子を含む第１及び第２の硬化コーティング組成物の一緒に見えるゾーンを含むＯＥＬを開示する。欧州特許第２４８４４５５号及び[003]で引用されている先行技術、特に国際公開第２００４／００７０９５号に開示されるように、曲面を模倣するように配向された顔料粒子を含むコーティング組成物は、コーティング組成物を支持する基材を傾けると（すなわち、観察方向を変えると）移動する明るいゾーンとして、観察者に見える鏡面反射ゾーンを生成する。
【0008】
[008]欧州特許第２８４６９３２号は、光学効果層の視野角が変化するときに動いて見える又は現れたり消えたりするように見える明るい領域及び暗い領域のパターンを表示するように配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を伴うＯＥＬを開示する。[0046]に開示されているように、粒子は、その形状に基づいて、拡張表面に垂直な方向に最大反射率（最大投影面積）を有し、したがって、直交ビューでは、ＯＥＬの画像において、明るい領域は、その配向が表面の配向とほぼ一致する粒子に対応する。すなわち、入射光が実質的に同じ（直交）方向に反射されるように、ＯＥＬの表面に対して小さい角度θを有する粒子に対応する。
【0009】
[009]磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む顕在的なセキュリティ要素を認証する分野では、観察者は、法線方向（すなわち、セキュリティ要素を支持する基材表面に垂直な観察方向）からグレージング角（すなわち、基材表面に実質的に平行な観察方向）まで、すなわち±９０°から、その真正性を検証するために、前記セキュリティ要素を傾ける。しかしながら、専門家ではない観察者は、セキュリティ要素について訓練を受けていても、セキュリティ要素が存在する基材の法線から±４５°を超えない狭い範囲でセキュリティ要素を傾けるのが一般的である。更に、通りにいる人は、セキュリティ要素の検査／認証に最適な照明条件から常に恩恵を受けるとは限らない。
【0010】
[010]先行技術文献は、磁気的に配向された粒子の配向及び適切な仰角に関する情報を提供しておらず、観察者が従来のように前記要素を認証するプロセスで傾斜させたときに輝度の有意かつ観察可能な変動（すなわち、増大及び減少）を示すＯＥＬを生成する。
【0011】
[011]したがって、光学効果層（ＯＥＬ）及び前記ＯＥＬを製造する方法に対する必要性が残っており、前記ＯＥＬは、ＯＥＬを簡単に認証できるように、通りにいる人に適した観察角度で高度に対照的な高反射性（明るい）及び非反射性（暗い）領域を示すことによって人目を引き、容易に認識できる視覚的外観を示す。
【発明の概要】
【0012】
[012]したがって、本発明の目的は、先行技術の欠陥を克服することである。
【0013】
[013]これは、２次元表面を有する基材（ｘ２０）と、前記基材（ｘ２０）上の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）とを備えるセキュリティ文書又は装飾品を提供することによって達成され、
前記１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）は、主軸線Ｘを有し、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中にある、磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、
プレートレット形状の顔料粒子の配向は、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、
プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、粒子の位置で基材の２次元表面（ｘ２０）に対して仰角γだけ角度付けられ、前記仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、
それにより、１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）は、輝度の最大値に達する輝度の増大、及び基材（ｘ２０）の－４５°～＋４５°までの視野角内での輝度の減少を示す。
前記１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）は、主軸線Ｘを有し、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中にある、磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、
プレートレット形状の顔料粒子の配向は、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、
プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、粒子の位置で基材の２次元表面（ｘ２０）に対して仰角γだけ角度付けられ、前記仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、
それにより、１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）は、輝度の最大値に達する輝度の増大、及び基材（ｘ２０）の－４５°～＋４５°までの視野角内での輝度の減少を示す。
【0014】
[014]本明細書に記載の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）は、一軸配向プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む又は二軸配向プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む。
【0015】
[015]また、１つまたは複数のしるしを更に備える、本明細書に記載のセキュリティ文書又は物品も本明細書に記載されており、前記１つまたは複数のしるしは、基材（ｘ２０）と１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）との間に存在する。
【0016】
[016]また、本明細書に記載のセキュリティ文書又は物品であって、１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）が、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中に磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むとともに、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）中に磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と少なくとも部分的に若しくは完全に重なり合い、又は、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）に隣り合う、又は、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間し、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）において粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して更なる仰角γ’だけ角度付けられ、更なる仰角γ’が、０°よりも大きく３０°よりも小さく（（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜γ’＜１８０°）、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なる及び／又は同一平面上にない、セキュリティ文書又は物品も記載される。
【0017】
[017]また、本明細書では、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を製造する方法、及び、それによって得られる光学効果層（ＯＥＬ）についても記載される。２次元表面を有する基材（ｘ２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を生成する方法も本明細書に記載されており、前記方法は、
ａ）基材（ｘ２０）表面上にプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであって、前記放射線硬化性コーティング組成物がコーティング層（ｘ１０）を形成するように第１の液体状態にある、ステップと、
ｂ）プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、コーティング層（ｘ１０）を、磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に対して、前記磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域で曝露するステップであって、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が、磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域に設けられ、コーティング層（ｘ１０）と、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域内の磁場の磁力線の接線とが成す角度αが、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α≦１７５°）の範囲内である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と部分的に同時に又はステップｂ）の後に、コーティング層（ｘ１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）を生成するように、コーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ４０）で少なくとも部分的に硬化させるステップと、
を含み、
プレートレット形状の顔料粒子の配向が、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが互いに実質的に平行であり、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して仰角γだけ角度を付けられ、前記仰角γが０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）。
ａ）基材（ｘ２０）表面上にプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップであって、前記放射線硬化性コーティング組成物がコーティング層（ｘ１０）を形成するように第１の液体状態にある、ステップと、
ｂ）プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、コーティング層（ｘ１０）を、磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に対して、前記磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域で曝露するステップであって、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が、磁場が実質的に均一である前記１つまたは複数の領域に設けられ、コーティング層（ｘ１０）と、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域内の磁場の磁力線の接線とが成す角度αが、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α≦１７５°）の範囲内である、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と部分的に同時に又はステップｂ）の後に、コーティング層（ｘ１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）を生成するように、コーティング層（ｘ１０）を硬化ユニット（ｘ４０）で少なくとも部分的に硬化させるステップと、
を含み、
プレートレット形状の顔料粒子の配向が、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが互いに実質的に平行であり、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して仰角γだけ角度を付けられ、前記仰角γが０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）。
【0018】
[018]本明細書に記載のコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）は、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが互いに実質的に平行であるようにプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を一軸配向させるべく行なわれる。或いは、本明細書に記載のコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）は、本明細書に記載の主軸線Ｘ及び第２の主軸線Ｙを有するレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するように行なわれてもよく、配向は、粒子の第２の主軸線Ｙと平行なベクトルである第２のプレートレットベクトルによって更に規定され、それにより、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、前記隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の第２のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行である。
【0019】
[019]プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）とを備える光学効果層（ＯＥＬ）を製造するための方法も本明細書中に記載され、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）は、前記少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）上に少なくとも部分的に又は完全に存在し得る、又は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）に隣り合う、又は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間してもよく、第２のプレートレット形状の顔料粒子のそれぞれの配向は、第２のプレートレット形状の顔料粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合う第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して更なる仰角γ’だけ角度付けられ、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さく（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜γ’＜１８０°）、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なる及び／又は同一平面上にない。
【0020】
[020]本発明は、複雑な操作を必要とせずに、通りにいる人による及び拡散照明条件下での傾斜角の変化時に高度に対照的な高反射（明るい）及び非反射（暗い）領域を示すような、特定の仰角を有する磁気的に配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。したがって、本明細書に記載のＯＥＬは、通りにいる人によって容易に認証され得る。
【0021】
[021]ここで、図面及び特定の実施形態を参照して、明細書に記載の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を備えるセキュリティ文書又は物品、及び、基材（ｘ２０）上に前記ＯＥＬを製造するための本明細書に記載の方法について更に詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】通りにいる人が見たＯＥＬの正面図を概略的に示し、前記通りにいる人は、２次元表面を有する基板上でＯＥＬを容易に認証できるように、－４５°～＋４５°の観察角度でＯＥＬを傾斜軸線τの周りで傾ける。
【図2A】主軸線Ｘ及び主軸線Ｙを有するプレートレット形状の粒子を模式的に示す。
【図2B】一軸配向プレートレット形状粒子を概略的に示し、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトル（粒子の主軸線Ｘと平行なベクトル）は、互いに実質的に平行である。
【図2C】二軸配向プレートレット形状粒子を概略的に示し、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトル（粒子の主軸線Ｘと平行なベクトル）は、互いに実質的に平行であり、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の第２のプレートレットベクトル（粒子の主軸線Ｙと平行なベクトル）は、互いに実質的に平行である。
【図3A】基材（３２０）上のコーティング層（３１０）中の磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むＯＥＬの断面を概略的に示す。
【図3B】１つまたは複数の第１のゾーン（３１０－ａ）内のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び１つまたは複数の第２のゾーン（３１０－ｂ）内のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む単一の少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）を備えるＯＥＬの断面（ＯＥＬの傾斜軸線τと垂直な面に沿う断面）を概略的に示し、１つまたは複数のゾーン（３１０－ａ）内の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有し、１つまたは複数のゾーン（３１０－ｂ）内の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なっている及び／又は同一平面上にない。
【図3C】磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）と、磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）とを備えるＯＥＬの断面を概略的に示し、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）と部分的に重なり合い、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）中の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）中の実質的に全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なっている及び／又は同一平面上にない。
【図3D】磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）と、磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）とを備えるＯＥＬの断面を概略的に示し、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）と完全に重なり合い、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）中の全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）中の全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なっている及び／又は同一平面上にない。
【図3E】磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）と、磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）とを含むＯＥＬの断面を概略的に示し、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）に隣り合い、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）中の全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）中の全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なっている及び／又は同一平面上にない。
【図4A1】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を一軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）の断面を概略的に示し、前記装置（４３０）が棒双極子磁石を備え、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図4A2】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を一軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）を概略的に示し、前記装置（４３０）は、同じ磁気方向を有する２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）と鉄のヨーク（Ｙ）とから成り、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が特定の角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図4B1】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）（左）及び前記装置（４３０）の断面（右）を概略的に示し、前記装置（４３０）は、千鳥状又はジグザグ状に配置される４つの双極子磁石（Ｍ１～Ｍ４）の線形配置から成り、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａ及びＡ’として示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａ（又は代わりに領域Ａ’）に設けられる。
【図4B2】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）（左）及び前記装置（４３０）の断面（右）を概略的に示し、前記装置（４３０）は、反対の磁気方向を有する２つの双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）から成り、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａ及びＡ’として示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａ（又は代わりに領域Ａ’）に設けられる。
【図4B3】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）（左）及び前記装置（４３０）の断面（右）を概略的に示し、前記装置（４３０）は、同じ磁気方向を有する２つの双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）から成り、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図4B4】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）（左）及び前記装置（４３０）の平面図（右）を概略的に示し、前記装置（４３０）は、５つの双極子磁石（Ｍ１～Ｍ５）を備えるハルバッハアレイから成り、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図4B5】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性顔料粒子又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）の断面を概略的に示し、前記装置（４３０）は、それぞれがマグネットワイヤコイル（図示せず）によって取り囲まれた磁石棒（Ｍ１～Ｍ４）を備える４つの構造を備えるハルバッハシリンダセンブリから成り、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図4B6】基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（４３０）（左）及び前記装置（４３０）の平面図（右）を概略的に示し、前記装置（４３０）は、８つの棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ８）のアセンブリから成り、前記アセンブリは、第１の棒双極子磁石（Ｍ４）及び２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ６）を備える第１のセットと、第１の棒双極磁石（Ｍ５）及び２つの第２の棒双極磁石（Ｍ３；Ｍ８）を備える第２のセットと、第３の棒双極磁石（Ｍ２、Ｍ７）の第１の対とを備え、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）が角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図5A1】基材（５２０）上のコーティング層（５１０）中に含まれるプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を二軸配向するのに適した磁場発生装置（５３０）及び硬化装置（５４０）の斜視図（図５Ａ１）及び断面図（図５Ａ２～図５Ａ３）を概略的に示す。磁場発生装置（５３０）は、交互のＮ－Ｓ磁気方向を有して一列に配置された９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）を備え、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の平行六面体Ａとして示される）で磁場発生装置（５３０）の磁場の磁場（例示目的で、磁石Ｍ３～Ｍ９が図５Ａ２に示され、磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（５１０）を支持する基材（５２０）が角度αで前記領域Ａに設けられ、図５Ａ３は、硬化装置（５４０）による少なくとも部分的な硬化ステップが磁気配向ステップと同時に部分的に実行されるプロセスを示す。
【図5A2】基材（５２０）上のコーティング層（５１０）中に含まれるプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を二軸配向するのに適した磁場発生装置（５３０）及び硬化装置（５４０）の斜視図（図５Ａ１）及び断面図（図５Ａ２～図５Ａ３）を概略的に示す。磁場発生装置（５３０）は、交互のＮ－Ｓ磁気方向を有して一列に配置された９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）を備え、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の平行六面体Ａとして示される）で磁場発生装置（５３０）の磁場の磁場（例示目的で、磁石Ｍ３～Ｍ９が図５Ａ２に示され、磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（５１０）を支持する基材（５２０）が角度αで前記領域Ａに設けられ、図５Ａ３は、硬化装置（５４０）による少なくとも部分的な硬化ステップが磁気配向ステップと同時に部分的に実行されるプロセスを示す。
【図5A3】基材（５２０）上のコーティング層（５１０）中に含まれるプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を二軸配向するのに適した磁場発生装置（５３０）及び硬化装置（５４０）の斜視図（図５Ａ１）及び断面図（図５Ａ２～図５Ａ３）を概略的に示す。磁場発生装置（５３０）は、交互のＮ－Ｓ磁気方向を有して一列に配置された９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）を備え、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の平行六面体Ａとして示される）で磁場発生装置（５３０）の磁場の磁場（例示目的で、磁石Ｍ３～Ｍ９が図５Ａ２に示され、磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（５１０）を支持する基材（５２０）が角度αで前記領域Ａに設けられ、図５Ａ３は、硬化装置（５４０）による少なくとも部分的な硬化ステップが磁気配向ステップと同時に部分的に実行されるプロセスを示す。
【図6A】基材（６２０）上のコーティング層（６１０）中に含まれるプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を一軸配向するための磁場発生装置（６３０）及び硬化装置（６４０）の正面図を概略的に示す。磁場発生装置（６３０）は、長方形のアセンブリとして配置された２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備え、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一である１つの領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（６３０）の磁場の磁場（磁力線が、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、コーティング層（６１０）を支持する基材（６２０）が角度αで前記領域Ａに設けられる。
【図7B】図７Ａに示されて異なる仰角γを有する二軸配向顔料粒子を含むＯＥＬの輝度値の曲線を示し、ＯＥＬは、黒色基材上に配置された透明ＰＥＴ基材上に印刷されている。ｙ軸は、ＯＥＬの写真の１００ｘ１００ピクセル領域で計算された任意の単位でＯＥＬの明るさを表わし、ｘ軸は観察角度θを表わす。
【図9A】図９Ａ～図９Ｂは、約２０°の仰角γを有する一軸配向顔料粒子を含む２つのＯＥＬの輝度値の曲線を示し、ここでＯＥＬは黒色基材上（図９Ａ）又は白色基材上（図９Ｂ）に配置された透明ＰＥＴ基材上に印刷されている。ｙ軸は、ＯＥＬの写真の１００ｘ１００ピクセル領域で計算された任意の単位でＯＥＬの明るさを表わし、ｘ軸は観察角度θを表わす。
【発明を実施するための形態】
【0023】
[022]説明目的で図に示される磁場発生装置（ｘ３０）の磁場の磁力線（Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）はシミュレーションによって得られたものであり、前記磁場シミュレーションは、ソフトウェアＶｉｚｉｍａｇ ３．１９を用いて実行された。
【0024】
定義
[023]以下の規定は、本明細書で議論され、特許請求の範囲で引用される用語の意味を解釈するために使用されるものである。
[023]以下の規定は、本明細書で議論され、特許請求の範囲で引用される用語の意味を解釈するために使用されるものである。
【0025】
[024]本明細書で使用される「少なくとも１つ」という用語は、１つ又は複数、例えば、１つ又は２つ又は３つを規定することを意味する。
【0026】
[025]本明細書で使用される「約」及び「実質的に」という用語は、対象の量又は値が、指定された特定の値又はその近傍の他の値であり得ることを意味する。一般に、特定の値を示す「約」及び「実質的に」という用語は、その値の±５％以内の範囲を示すことを意図している。一例として、「約１００」という語句は、１００±５の範囲、すなわち９５～１０５の範囲を示す。一般に、「約」という用語が使用される場合、本発明による同様の結果又は効果を指示値の±５％の範囲内で得ることができると予期され得る。
【0027】
[026]「実質的に平行」という用語は、少なくとも１ｍｍ２のコーティング層表面上で、又は少なくとも約１００個の粒子上で、平行配列から平均して２°以下のずれを指す。
【0028】
[027]本明細書で使用される場合、「及び／又は」という用語は、前記群の要素の全て又は１つのみが存在し得ることを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、又はＢのみ、又はＡとＢの両方」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語はＢが存在しない、すなわち、「ＡのみでＢは存在しない」可能性を包含する。
【0029】
[028]本明細書で使用される「含む（備える）」という用語は、非排他的で無制限であることを意図している。したがって、例えば、化合物Ａを含む（備える）コーティング組成物は、Ａ以外の他の化合物を含んでもよい。しかし、「含む（備える）」という用語は、その特定の実施形態として、「～から本質的になる」及び「～から成る」のより限定的な意味も包含する。例えば、「Ａ、Ｂ、及び必要に応じてＣを含む（備える）混合物」は、（本質的に）Ａ及びＢからなるか、又は（本質的に）Ａ、Ｂ及びＣからなる場合もある。
【0030】
[029]本明細書で使用される「光学効果層（ＯＥＬ）」という用語は、配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層を意味し、前記磁性又は磁化可能な顔料粒子は磁場によって配向され、配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁気的に誘導された画像を形成するために、その配向及び位置が固定／凍結される（すなわち、硬化後）。
【0031】
[030]「コーティング組成物」という用語は、固体基材上に光学効果層（ＯＥＬ）を形成することができ、排他的ではないが好ましくは印刷法によって適用できる任意の組成物を指す。コーティング組成物は、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び本明細書に記載の結合剤を含む。
【0032】
[031]本明細書で使用される「湿潤」という用語は、少なくとも部分的に未だ硬化していないコーティング層、例えばプレートレット形状の磁性顔料粒子又は磁化可能な顔料粒子がそれらに作用する外力の影響下で未だその位置及び向きを変えることができるコーティングを指す。
【0033】
[032]「セキュリティ文書」という用語は、通常、少なくとも１つのセキュリティ特徴によって偽造又は詐欺から保護されている文書を指す。セキュリティ文書の例には、有価証券及び有価商品が含まれるが、これらに限定されない。
【0034】
[033]「セキュリティ特徴」という用語は、認証目的で使用できる画像、パターン、又はグラフィック要素を示すために使用される。
【0035】
[034]本明細書が「好ましい」実施形態／特徴に言及する場合、これらの「好ましい」実施形態／特徴の組み合わせも、「好ましい」実施形態／特徴のこの組み合わせが技術的に意味のあるものである限り、開示されていると見なされるものとする。
【0036】
[035]本発明は、２次元表面を有する基材（ｘ２０）と、前記基材（ｘ２０）上の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）とを備えるセキュリティ文書及び装飾品を提供し、前記ＯＥＬは、磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子に基づき、基材の（ｘ２０）の配向は、１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）のそれぞれの位置で基材の２次元表面（ｘ２０）に垂直な基材（ｘ２０）に対する局所法線ベクトルである基材ベクトルによって規定される。
【0037】
[036]装飾品の典型的な例としては、ぜいたく品、化粧品包装、自動車部品、電子／電化製品、家具及び爪用品が挙げられるがこれらに限定されない。或いは、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬは、例えばラベルなどの補助基材上に備えられ、その結果、別のステップで装飾品に移されてもよい。
【0038】
[037]セキュリティ文書は、有価証券及び有価商品を含むが、これらに限定されない。有価証券の典型的な例としては、紙幣、証書、切符、小切手、バウチャー、会計スタンプ及び税ラベル、契約書など、パスポート、身分証明書、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス文書又はカード、入場券、公共交通機関のチケット、学位記又は称号などの身分証明書、好ましくは紙幣、身分証明書、権利付与文書、運転免許証、及びクレジットカードが挙げられるが、これらに限定されない。「価値のある商品」という用語は、包装材料、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ製品、飲料又は食品、電気／電子製品、布地又は宝飾品、すなわち偽造から保護される物品、及び／又は、例えば本物の薬などのパッケージの内容を保証するための違法な複製を指す。これらの包装材料の例としては、認証ブランドラベル、不正開封防止ラベル、及びシールなどのラベルが挙げられるが、これらに限定されない。開示された基材、セキュリティ文書、及び装飾品は、本発明の範囲を制限することなく、例示の目的のみに与えられていることが指摘される。或いは、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬは、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、ホイル、デカール、窓又はラベルなどの補助基材上に備えられ、その結果、別のステップでセキュリティ文書に移されてもよい。
【0039】
[038]本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬの形状は、連続的又は不連続的であり得る。一実施形態によれば、１つまたは複数のＯＥＬの形状は、独立して、１つまたは複数のしるし、点及び／又は線を表わす。セキュリティ文書及び装飾品が２つ以上、すなわち２つ、３つなどのＯＥＬを備える実施形態では、前記ＯＥＬは隣り合っていてもよく、又は離間していてもよい。
【0040】
[039]本明細書で言及されるように、本明細書で説明される人目を引くＯＥＬにより、観察者は、約－４５°～約＋４５°の間で傾けることで、それらを容易に認証することができる。目を引く視覚的外観は、輝度のシャープでコントラストのあるスイッチオン／スイッチオフ効果として見られ、輝度の最大値に達するような輝度値の増大、及び、その後の、約－４５°～約＋４５°の視野角／観察角内での前記輝度の減少から成り、前述輝度の変化は肉眼で観察可能である。
【0041】
[040]図１に示されるように、通りにいる人は、通常、－４５°～＋４５°の観察角度を伴って傾斜軸τの周りでＯＥＬを傾け、前記ＯＥＬは、ｉ）垂直／経度軸線の周りで傾けることができ（上／下の動き）、又は、ｉｉ）水平／緯度軸線の周りで傾けることができる（左／右の動き）。しかしながら、任意の他の種類の傾斜軸線もτも使用され得る。
【0042】
[041]セキュリティ文書又は装飾品単一のＯＥＬを備える実施形態では、人目を引く視覚的外観は、ｉ）垂直／経度軸線の周りで又はｉｉ）水平／緯度軸線の周りで傾けると見られ得る。
【0043】
[042]セキュリティ文書又は装飾品が少なくとも２つのＯＥＬを備える実施形態では、ｉ）垂直／経度軸線の周りで又はｉｉ）水平／緯度軸線の周りで傾けると、前記２つのＯＥＬの両方の目を引く視覚的外観を見ることができ、或いは、前記２つのＯＥＬのうちの１つの人目を引く視覚的外観は、垂直／経度軸線の周りで傾けると見られ、一方、前記２つのＯＥＬの他方の人目を引く視覚的外観は、水平／緯度軸線の周りで傾けると見られ得る。
【0044】
[043]プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物並びにコーティング層（ｘ１０）並びに少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）に備えられる。本明細書に記載されるように、本明細書に記載される方法は、コーティング層（ｘ１０）を第２の状態まで少なくとも部分的に硬化させるステップｃ）を含み、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、現在の位置及び配向で固定され、前記層内で移動したり回転したりできない。本明細書で使用する場合、「コーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化させる」とは、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、採用された位置及び配向で固定／凍結され、もはや移動及び回転できないことを意味する（当該技術分野では、粒子の「固定」とも称される）。
【0045】
[044]本明細書に記載されているように、本明細書に記載の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層中に磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む。好ましくは、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、約５重量％～約４０重量％、より好ましくは約１０重量％～約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層の総重量に基づく。好ましくは、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、約５重量％～約４０重量％、より好ましくは約１０重量％～約３０重量％の量で存在し、重量パーセントは、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング層の総重量に基づく。
【0046】
[045]本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、それらの非球形に起因して、硬化バインダ材料が少なくとも部分的に透明である入射電磁放射に対して非等方性反射率を有すると規定される。本明細書で使用される場合、「非等方性反射率」という用語は、粒子によって特定の（視野／観察）方向（第２の角度）に反射される第１の角度からの入射放射の割合が、粒子の配向の関数であること、すなわち、第１の角度に対する粒子の配向の変化が視野／観察方向への異なる大きさの反射をもたらす可能性があることを意味する。好ましくは、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、約２００～約２５００ｎｍ、より好ましくは約４００～約７００ｎｍの一部又は全波長範囲において、入射電磁放射に対して非等方性反射率を有し、それにより、粒子の向きが変化すると、その粒子による特定の方向への反射が変化する。当業者に知られているように、本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、従来の顔料粒子が粒子の配向とは無関係に同じ色及び反射率を示すという点で、従来の顔料とは異なり、本明細書に記載の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、粒子の配向に依存する反射若しくは色、又はその両方を示す。一次元粒子と見なすことができる針状の顔料粒子とは対照的に、プレートレット形状の顔料粒子は、粒子の主な拡張面を規定するＸ軸及びＹ軸を有する（図２Ａ）。換言すれば、図２Ａに示されるように、プレートレット形状の顔料粒子は、それらの寸法の縦横比が大きいため、２次元粒子であると考えることができ、寸法Ｘ及びＹは、寸法Ｚより実質的に大きい。プレートレット形状の顔料粒子は、当技術分野ではオブラート粒子又はフレークとも呼ばれる。そのような顔料粒子は、顔料粒子を横切る最長の寸法に対応する主軸線Ｘと、やはり前記顔料粒子内にあるＸに垂直な第２の主軸線Ｙとで説明することができる。
【0047】
[046]プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向は、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり（図２Ｂ参照）、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して本明細書に記載される仰角γだけ角度付けられる。本明細書に記載の仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは、又は約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）である。より好ましくは、仰角γは、約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲である。
【0048】
[047]仰角が０°のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むＯＥＬは、区別できず、一般的には溶媒ベースのインクに分散された非磁性顔料で模倣することができ、溶媒が蒸発すると顔料は０°の仰角をとらされる。
【0049】
[048]例えば図３Ａに示されるように、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、本明細書に記載の仰角αで前述のように配向される。換言すれば、仰角はプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の主軸線Ｘと基材（ｘ２０）の２次元表面とによって形成され、ここで、前記仰角γは、光学効果層（ＯＥＬ）の断面で測定され（例えば、後述するようなコノスコピックスキャトロメータ又は顕微鏡を用いて）及び反時計回りに測定されるときに、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）である。より好ましくは、仰角γは、約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲である。
【0050】
[049]プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が例えば図２Ｂに示されるように一軸配向している実施形態では、プレートレット形状の顔料粒子の配向は、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、すなわち、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の主軸線Ｘのみが互いに実質的に平行である（言い換えると、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有する）。
【0051】
[050]プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が例えば図２Ｃに示されるように二軸配向している実施形態では、プレートレット形状の顔料粒子の配向は、粒子の主軸線Ｘと平行なベクトルであるプレートレットベクトルによって規定され、ここで、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、粒子の第２の軸線Ｙと平行なベクトルである第２のプレートレットベクトルによって更に規定され、ここで、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは互いに実質的に平行であり、前記隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の第２のプレートレットベクトルは互いに実質的に平行である。プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が例えば図２Ｃに示される二軸配向である実施形態では、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、互いに実質的に平行であり、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の主軸線Ｘが互いに実質的に平行である（言い換えれば、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有する）だけでなく、隣り合うプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の主軸線Ｙも互いに実質的に平行である。プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が例えば図２Ｃに示されるように二軸配向されている実施形態では、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な粒子が実質的に互いに平行である。
【0052】
[051]本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の適切な例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、及びニッケル（Ｎｉ）；鉄、マンガン、コバルト、ニッケル又はそれらの２つ以上の混合物の磁性合金；クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物；又はそれらの２つ以上の混合物から成る群から選択される磁性金属を含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。金属、合金、及び酸化物に関する「磁性」という用語は、強磁性又はフェリ磁性の金属、合金、及び酸化物を指す。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はそれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋な酸化物又は混合酸化物であり得る。磁性酸化物の例としては、ヘマタイト（Ｆｅ２Ｏ３）、磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４）、二酸化クロム（ＣｒＯ２）、磁性フェライト（ＭＦｅ２Ｏ４）、磁性スピネル（ＭＲ２Ｏ４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ１２Ｏ１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ３）、磁気ガーネットＭ３Ｒ２（ＡＯ４）３などの酸化鉄が挙げられるがこれらに限定されず、ここで、Ｍは２価の金属、Ｒは３価の金属、Ａは４価の金属を表わす。
【0053】
[052]本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、又はニッケル（Ｎｉ）；及び、鉄、コバルト又はニッケルの磁性合金などの磁性金属のうちの１つまたは複数から形成される磁性層Ｍを備える顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されず、ここで、前記磁性又は磁化可能な顔料粒子は、１つまたは複数の更なる層を備える多層構造であってもよい。好ましくは、１つまたは複数の更なる層は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、及び、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）などの金属フッ化物から成る群から選択される１つまたは複数から独立して形成される層Ａ、；又は、金属及び金属合金から成る群から選択される、好ましくは反射金属及び反射金属合金から成る群から選択される、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、更に好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から成る群から選択される１つまたは複数から独立して形成される層Ｂ；又は、上記のような１つまたは複数の層Ａと、上記のような１つまたは複数の層Ｂとの組み合わせである。上記の多層構造であるプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の典型的な例としては、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ／多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ／多層構造が挙げられるが、これらに限定されず、ここで、層Ａ、磁性層Ｍ及び層Ｂは、上記のものから選択される。
【0054】
[053]一実施形態によれば、好ましいプレートレット形状の磁性又は磁化可能な粒子の少なくとも一部は、プレートレット形状の光学的に可変な磁性又は磁化可能な顔料粒子によって構成される。光学的可変顔料とは、明度の変化、又は明度の変化と色相の変化の組み合わせを示す顔料を指す。一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性粒子又は磁化可能な粒子の少なくとも一部は、金属色、より好ましくは銀色又は金色を呈する粒子によって構成される。
【0055】
[054]インク、コーティング組成物、又は本明細書に記載の光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層を支持する物品又はセキュリティ文書を人間の肉眼的感覚を使用して想定し得る偽造から容易に検出、認識、及び／又は、区別できるようにする、光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子のカラーシフト特性によって提供される明らかな安全性に加えて、光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の光学特性は、ＯＥＬの認識のための機械可読ツールとしても使用することができる。したがって、光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の光学的特性は、顔料粒子の光学的（例えば、スペクトル）特性が解析され、したがって偽造抵抗を増大させる認証プロセスにおいて、秘密の又は半秘密のセキュリティ特徴として同時に使用することができる。
【0056】
[055]ＯＥＬにおけるプレートレット形状の光学可変の磁性又は磁化可能な顔料粒子の使用は、セキュリティ文書の用途におけるセキュリティ特徴としてのＯＥＬの重要性を高める。これは、そのような材料が、セキュリティ文書印刷業界に限定されており、一般に販売されていないためである。
【0057】
[056]好ましくは、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁性薄膜干渉顔料粒子、磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む干渉被覆顔料粒子、及びそれらの２つ以上の混合物から成る群から選択される。
【0058】
[057]磁性薄膜干渉顔料粒子は、当業者に知られており、例えば、米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０号、欧州特許第０６８６６７５号、国際公開第２００３／０００８０１号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３号、欧州特許第２４０２４０１号、国際公開第２０１９／１０３９３７号、国際公開第２０２０／００６２８６号及びそこで引用された文書に開示されている。好ましくは、磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は１つまたは複数の多層ファブリペロー構造を組み合わせた多層構造を有する顔料粒子を含む。
【0059】
[058]好ましい５層のファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体多層構造からなり、反射体及び／又は吸収体も磁性層であり、好ましくは反射体及び／又は吸収体は、ニッケル、鉄及び／若しくはコバルトを含む磁性層、並びに／又はニッケル、鉄及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物である。
【0060】
[059]好ましい６層のファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
【0061】
[060]好ましい７層ファブリペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているような吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体多層構造から成る。
【0062】
[061]１つまたは複数のファブリペロー構造を組み合わせた多層構造を有する好ましい顔料粒子は、国際公開第２０１９／１０３９３７号に記載されたものであり、少なくとも２つのファブリペロー構造の組み合わせから成り、前記２つのファブリペロー構造は、独立して、反射層、誘電体層及び／又は吸収層を独立して含み、反射体及び／又は吸収層はそれぞれ、独立して、１つまたは複数の磁性材料を含み、及び／又は、磁性層は２つの構造間に挟まれる。国際公開第２０２０／００６／２８６号及び欧州特許出願公開第３５８７５００号は、多層構造を有する更に好ましい顔料粒子を開示する。
【0063】
[062]好ましくは、本明細書に記載の反射層は、独立して、金属及び金属合金から成る群から選択される、好ましくは反射金属及び反射金属合金から成る群から選択される、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、錫（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの合金から成る群から選択される、更に好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）及びそれらの合金から成る群から選択される１つまたは複数、更により好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から形成される。好ましくは、誘電体層は、独立して、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えば、Ｎａ３ＡｌＦ６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）などの金属酸化物から成る群から選択される、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）から成る群から選択される１つまたは複数、更に好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）から形成される。好ましくは、吸収層は、独立して、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、それらの金属酸化物、それらの金属硫化物、それらの金属炭化物、及びそれらの金属合金から成る群から選択される、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、それらの金属酸化物、及びそれらの金属合金から成る群から選択される、更により好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの金属合金から成る群から選択される１つまたは複数から形成される。好ましくは、磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）；並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金；並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む。７層ファブリペロー構造を備える磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合、磁性薄膜干渉顔料粒子は、Ｃｒ／ＭｇＦ２／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｌ／ＭｇＦ２／Ｃｒ多層構造から成る７層ファブリペロー吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体多層構造を備えることが特に好ましい。
【0064】
[063]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人の健康及び環境に対して安全であると見なされて、例えば５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、及び７層ファブリペロー多層構造に基づいている多層顔料粒子であってもよく、前記顔料粒子は、約４０重量％～約９０重量％の鉄、約１０重量％～約５０重量％のクロム及び約０重量％から約３０重量％のアルミニウムを含む、実質的にニッケルを含まない組成を有する磁性合金を含む１つまたは複数の磁性層を含む。人間の健康及び環境にとって安全であると考えられる多層顔料粒子の典型的な例は、欧州特許第２４０２４０１号に見ることができ、その内容全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0065】
[064]光学的に可変な特性を示す適切な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。そのような顔料粒子は、例えば国際公開第２００６／０６３９２６号、米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示される。国際公開第２００６／０６３９２６号は、単層及びそれから得られた、磁化性などの追加の特定の特性を有する高い光沢及びカラーシフト特性を有する顔料粒子を開示している。開示された単層及び顔料粒子は、単層を粉砕することによって得られ、三次元的に架橋されたコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列Ａ１／Ｂ／Ａ２を含むプレートレット形状のコレステリック多層顔料粒子を開示し、ここで、Ａ１及びＡ２は、同一であっても又は異なっていてもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を備え、Ｂは層Ａ１及びＡ２によって伝達された光の全て又は一部を吸収する中間層であり、前記中間層に磁気特性を付与する。米国特許第６，５３１，２２１号は、配列Ａ／Ｂ及び任意にＣを含むプレートレット形状のコレステリック多層顔料粒子を開示し、Ａ及びＣは磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。
【0066】
[065]１つまたは複数の磁性材料を含む適切な干渉被覆顔料粒子としては、１つまたは複数の層でコーティングされたコアから成る群から選択される基材から成る構造が挙げられるが、これらに限定されず、コア又は１つまたは複数の層の少なくとも１つが磁気特性を有する。例えば、好適な干渉被覆顔料粒子は、上記のものなどの磁性材料で作られたコアを含み、前記コアは、１つまたは複数の金属酸化物で作られた１つまたは複数の層でコーティングされているか、又は、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（タルク、カオリン、及び絹雲母など）、ガラス（ホウケイ酸塩など）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物から形成されるコアから成る構造を有する。更に、着色層などの１つまたは複数の更なる層が存在してもよい。
【0067】
[066]本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、好ましくは、約２μｍ～約５０μｍのサイズｄ５０を有する（直接光学粒度測定法により測定）。
【0068】
[067]本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、コーティング組成物及びコーティング層で発生する可能性のある劣化から粒子を保護するため、並びに／又は前記コーティング組成物及びコーティング層へのそれらの組み込みを容易にするために、表面処理されてもよく、一般に腐食防止剤及び／又は湿潤剤を使用することができる。
【0069】
[068]例えば図３Ａに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた単一の少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）を備え、実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有する。
【0070】
[069]例えば図３Ｂ～図３Ｅに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む２つのゾーンを備え、１つのゾーン内の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は実質的に同じ仰角γを有し、他のゾーン内の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’は互いに異なる（好ましくは、それらは少なくとも１０°異なる）及び／又は同一平面上にない。
【0071】
[070]仰角γ及び更なる仰角γ’が異なるプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むＯＥＬの一実施形態によれば、更なる仰角γ’は、以下の値、すなわち、γ’＝１８０°－γを有し、例えば、γ’が２０°の場合、γ’が１６０°になる（すなわち、２つのゾーンの磁気配向パターンは実質的に対称である）。
【0072】
[071]例えば図３Ｂに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、１つまたは複数の第１のゾーン（３１０－ａ）内のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び１つまたは複数の第２のゾーン（３１０－ｂ）内のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む単一の少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）を備え、１つまたは複数の第１のゾーン（３１０－ａ）内の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有し、１つまたは複数の第２のゾーン（３１０－ｂ）内の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’は互いに異なる（好ましくは、それらは少なくとも１０°異なる）及び／又は同一平面上にない。
【0073】
[072]例えば図３Ｃ～図３Ｅに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）を備え、実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ仰角γを有するとともに、磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）を更に備え、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して更なる仰角γ’だけ角度付けられ、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さく（１５０°＜γ’＜１８０°）、前記仰角γ及び更なる仰角γ’は互いに異なる。少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と少なくとも部分的に若しくは完全に重なり合っている、又は、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）に隣り合っている、又は、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間している。
【0074】
[073]例えば図３Ｃに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、２つの少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０及び３１１）を備える。ＯＥＬは、ｉ）本明細書に記載のように磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）、及び、ｉｉ）磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）を備え、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）と部分的に重なり合い、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）中の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）中の実質的に全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’は互いに異なる（好ましくは、それらは少なくとも１０°異なる）及び／又は同一平面上にない。
【0075】
[074]例えば図３Ｄに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、２つの少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０及び３１１）を備える。ＯＥＬは、ｉ）本明細書に記載のように磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）、及び、ｉｉ）磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）を備え、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）に完全に重なり合い、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）中の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）中の実質的に全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ仰角γ’を有し、仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’は互いに異なる（好ましくは、それらは少なくとも１０°異なる）及び／又は同一平面上にない。
【0076】
[075]例えば図３Ｅに示される一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬは、２つの少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０及び３１１）を備える。ＯＥＬは、ｉ）本明細書に記載のように磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）、及び、ｉｉ）磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）を備え、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）に隣り合う（図３Ｅ）、又は、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）から離間し（図示せず）、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（３１０）中の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（３１１）中の実質的に全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内であり、更なる仰角γ’は、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’は互いに異なる（好ましくは、それらは少なくとも１０°異なる）及び／又は同一平面上にない。
【0077】
[076]本明細書に記載の基材（ｘ２０）は、好ましくは、セルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック及びポリマー、金属化プラスチック又はポリマー、複合材料、及びそれらの２つ以上の混合物又は組み合わせなどの紙又は他の繊維材料（織布及び不織繊維材料を含む）から成る群から選択される。典型的な紙、紙状又は他の繊維材料は、アバカ、綿、亜麻、木材パルプ、及びそれらのブレンドを含むがこれらに限定されない様々な繊維から形成される。当業者にはよく知られているように、銀行券には綿及び綿／麻混紡が好まれ、銀行券以外のセキュリティ文書には木材パルプが一般的に使用されている。別の実施形態によれば、本明細書に記載の基材（ｘ２０）は、プラスチック及びポリマー、金属化プラスチック又はポリマー、複合材料、並びにそれらの２つ以上の混合物又は組み合わせに基づく。プラスチック及びポリマーの適切な例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及び二軸配向ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）を含むポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６－ナフトエ酸）（ＰＥＮ）、及びポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）が挙げられる。Ｔｙｖｅｋ（登録商標）の商標で販売されているものなどのスパンボンドオレフィン繊維も基材として使用することができる。金属化プラスチック又はポリマーの典型的な例としては、表面に金属が連続的又は非連続的に配置された上記のプラスチック又はポリマー材料が挙げられる。金属の典型的な例としては、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、それらの合金、及び前述の金属の２つ以上の組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。前述のプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空コーティングプロセス、又はスパッタリングプロセスによって行なうことができる。複合材料の典型的な例としては、限定されないが、紙と、上記のものなどの少なくとも１つのプラスチック又はポリマー材料との多層構造又は積層体、並びに上記のものなどの紙状又は繊維状材料に組み込まれたプラスチック及び／又はポリマー繊維が挙げられる。勿論、基材は、充填剤、サイジング剤、増白剤、加工助剤、強化剤又は湿潤強化剤などの、当業者に知られている更なる添加剤を含むことができる。本明細書に記載のＯＥＬが、例えば指の爪のラッカーを含む装飾目的又は美容目的で使用される場合、前記ＯＥＬは、爪、付け爪、又は動物若しくは人間の他の部分を含む他のタイプの基材上で生成され得る。本明細書に記載の基材（ｘ２０）は、ウェブ、シート、スレッドリール、フィルムリール、ロールのラベル、又はラベルストックの形態であってもよい。
【0078】
[077]本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬがセキュリティ文書上にある場合、セキュリティレベル及び前記セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する耐性を更に高める目的で、基材は、印刷、コーティング、又はレーザーマーク若しくはレーザー穿孔されたしるし、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、ホイル、デカール、及びこれらの２つ以上の組み合わせを含んでもよい。セキュリティレベルを更に高め、セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対する耐性を高めるという同じ目的で、基材は、１つまたは複数のマーカー物質又はタガント及び／又は機械可読物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収性物質、磁性物質、及びそれらの組み合わせ）を含んでもよい。
【0079】
[078]一実施形態によれば、基材（ｘ２０）及び本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬを備えるセキュリティ文書及び装飾品は、１つまたは複数のパターンを更に含み、それらのそれぞれは独立してしるしの形状を有し、基材（ｘ２０）と１つまたは複数のＯＥＬとの間には、前記１つまたは複数のパターンが存在する（言い換えれば、１つまたは複数のＯＥＬＳが１つまたは複数のパターンと少なくとも部分的に重なり合う）。本明細書で使用される用語「しるし」及び「複数のしるし」は、識別マーク又は標識又はパターンからなる連続層及び不連続層を意味するものとする。好ましくは、本明細書に記載のしるしは、コード、記号、英数字記号、モチーフ、幾何学的パターン（例えば、円、三角形、及び正多角形又は不規則多角形）、文字、単語、数字、ロゴ、図、肖像画、及びそれらの組み合わせから成る群から選択される。コードの例としては、エンコードされた英数字データ、１次元バーコード、２次元バーコード、ＱＲコード（登録商標）、データマトリックス、及びＩＲ読み取りコードなどのエンコードされたマークが挙げられる。本明細書に記載の１つまたは複数のしるしは、立体のしるし及び／又はラスター（ｒａｓｔｅｒ）のしるしであってもよい。
【0080】
[079]一実施形態によれば、基材（ｘ２０）と、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬとを備えるセキュリティ文書及び装飾品は、１つまたは複数のプライマー層を更に含み、前記１つまたは複数のプライマー層は、基材（ｘ２０）と１つまたは複数のＯＥＬとの間に存在する。これにより、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬの品質が向上する又は接着が促進される可能性がある。そのようなプライマー層の例は、国際公開第２０１０／０５８０２６号で見出すことができる。
【0081】
[080]汚れ又は耐薬品性及び清浄性による耐久性を向上させ、したがって、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬを備えるセキュリティ文書又は装飾品の流通寿命を延ばす目的で、又はそれらの美的外観（例えば、光学的光沢）を変更する目的で、１つまたは複数の保護層を１つまたは複数のＯＥＬ上に塗布することができる。存在する場合、１つまたは複数の保護層は、一般に保護ワニスから形成される。保護ワニスは、放射線硬化性組成物、熱乾燥性組成物、又はそれらの任意の組み合わせであってもよい。好ましくは、１つまたは複数の保護層は放射線硬化性組成物であり、より好ましくはＵＶ－Ｖｉｓ硬化性組成物である。保護層は、一般に、ＯＥＬの形成後に塗布される。
【0082】
[081]本明細書に記載のＯＥＬは、基材（ｘ２０）上に直接に設けることができ、基材上に永続的に残る（紙幣用途又はラベル用途など）。或いは、ＯＥＬは、製造目的で一時的な基材上に設けられてもよく、その後、ＯＥＬはそこから取り除かれる。
【0083】
[082]或いは、１つまたは複数の接着剤層が、１つまたは複数のＯＥＬ上に存在してもよく、又は、基材（ｘ２０）上に存在してもよく、前記１つまたは複数の接着剤層は、１つまたは複数のＯＥＬが設けられる側とは反対の基材の側にある、及び／又は、１つまたは複数のＯＥＬと同じ側で且つ１つまたは複数のＯＥＬ上にある。したがって、１つまたは複数の接着剤層を１つまたは複数のＯＥＬ又は基材に塗布することができ、前記１つまたは複数の接着剤層は、硬化ステップが完了した後に塗布される。そのような対象物は、機械及びかなりの労力を必要とする印刷又はその他のプロセスを伴うことなく、あらゆる種類の文書又はその他の物品若しくはアイテムに付着することができる。或いは、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬを備える本明細書に記載の基材は、別の転写ステップで文書又は物品に適用できる転写箔の形態であってもよい。この目的のために、基材には剥離コーティングが設けられ、その上に１つまたは複数のＯＥＬが形成される。
【0084】
[083]本発明は、本明細書に記載の２次元表面を有する基材（ｘ２０）上に本明細書に記載の１つまたは複数の光学効果層（ＯＥＬ）を製造する方法を提供する。
【0085】
[084]本明細書に記載の方法は、本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップａ）を含み、前記放射線硬化性コーティング組成物は、コーティング層（ｘ１０）としてのその塗布を可能にし且つ顔料粒子が層内で移動及び回転できる未だ少なくとも部分的に硬化されていない（すなわち、湿った）状態にある第１の液体状態にある。本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、基材（ｘ２０）表面上に設けられるようになっているため、放射線硬化性コーティング組成物は、少なくともバインダ材料と、磁性又は磁化可能な顔料粒子とを含み、前記組成物は、所望の印刷又はコーティング機器でのその処理を可能にする形態を成す。好ましくは、前記ステップａ）は、好ましくは、スクリーン印刷、輪転グラビア印刷、フレキソ印刷、凹版印刷（当技術分野では彫刻銅版印刷、彫刻鋼金型印刷とも呼ばれる）、パッド印刷、及びカーテンコーティングから成る群から選択される、より好ましくは、スクリーン印刷、グラビア印刷、パッド印刷、及びフレキソ印刷、更により好ましくは、スクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセスによって行なわれる。
【0086】
[085]本明細書に記載の方法は、プレートレット形状の磁気又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように磁場発生装置（ｘ３０）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）を更に含み、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルは、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して仰角γだけ角度付けられ、前記仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内である。
【0087】
[086]プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向及び本明細書に記載される仰角γは、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を、磁場が実質的に均一な（すなわち、関心領域全体にわたって実質的に一定の大きさ及び方向を有する磁場（一軸配向の場合）、又は、平面に実質的に閉じ込められた磁場（二軸配向の場合））１つまたは複数の領域（点線長方形Ａ及びＡ’として図示される）で本明細書に記載される磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に供することによって得られ、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）は、コーティング層（ｘ１０）と、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域内の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場の磁力線の接線とが成る角度αを伴って前記１つまたは複数の領域に設けられる。角度αは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α≦１７５°）の範囲内である。
【0088】
[087]本明細書に記載のステップｂ）は、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を一軸又は二軸配向するように実施される。磁性又は磁化可能な顔料粒子がそれらの主軸線のみが磁場によって拘束されるような態様で配向される一軸配向とは対照的に（図２Ｂ）、二軸配向を実行することは、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子がそれらの２つの主軸線Ｘ及びＹが拘束されるように配向させられる（図２Ｃ）ことを意味する。すなわち、それぞれのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、顔料粒子の平面内に長軸を有し且つ顔料粒子の平面内に直交する短軸を有すると考えることができる。プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の軸線Ｙ及びＹはそれぞれ、磁場に従って配向させられる。効果的に、これは、互いに実質的に平行になるように空間内で互いに接近している隣り合うプレートレット形状の磁性顔料粒子をもたらす。別の言い方をすれば、二軸配向は、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の平面を整列させ、その結果、前記顔料粒子の平面は、隣り合う（全ての方向で）プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の平面に対して実質的に平行になるように配向される。
【0089】
[088]一実施形態によれば、ステップｂ）は、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を一軸配向するように実施される。本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を一軸配向するための適切な磁場発生装置は限定されない。
【0090】
[089]図４Ａ１に示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を一軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、棒双極子磁石からなる。図４Ａ１に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で本明細書に記載の磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線は、Ｎ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、前記１つまたは複数の領域で磁力線が互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αを伴って前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0091】
[090]図４Ａ２に示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を一軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、同じ磁気方向を有する２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）と鉄ヨーク（Ｙ）とを備えるアセンブリから成り、前記磁場発生装置は、米国特許第７，０４７，８８３号に記載される。図４Ａ２に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で本明細書に記載の磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0092】
[091]図６Ａ～図６Ｂに示されて以下の例で使用される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を一軸配向するための適切な磁場発生装置（６３０）は、２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）と２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備える長方形のアセンブリから成る。基材（６２０）上のコーティング層（６１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（６３０）の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（６１０）を支持する基材（６２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0093】
[092]別の実施形態によれば、ステップｂ）は、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するように実施される。本明細書に記載の方法が、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向させるようにコーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に曝露するステップを含む実施形態では、コーティング層（ｘ１０）は、前記磁場発生装置に２回以上曝露されてもよい。本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を二軸配向するための適切な磁場発生装置は限定されない。当業者に知られているように、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の二軸配向は、Ｘ軸とＹ軸の両方の主軸線が揃うまでその方向を変えて粒子を強制的に振動させる動的磁場（すなわち、時間可変／時間依存磁場）を必要とする。換言すれば、二軸配向は、磁場発生装置に関してプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）の付随しない動きを必要とする。
【0094】
[093]国際公開第２０１８／０１９５９４号の図１０に示されている一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、千鳥状又はジグザグ状に配置される少なくとも４つの磁石（Ｍ１～Ｍ４）の線形配置から成る。図４Ｂ１に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａ，Ａ’として示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。欧州特許第出願公開２１５７１４１号は、図５に同様の適切な磁場発生装置を開示し、磁場発生装置は、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するために使用することができ、千鳥状に又はジグザグ状に配置される少なくとも３つ、好ましくは少なくとも４つの磁石の線形配置から成る。
【0095】
[094]図４Ｂ２及び国際公開第２０１８／０１９５９４号の図８Ａ～図８Ｂに示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、反対の磁気方向を有する２つの双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）から成る。図４Ｂ２に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａ，Ａ’として示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0096】
[095]図４Ｂ３及び国際公開第２０１８／０１９５９４号の図７Ａ～図７Ｂに示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、同じ磁気方向を有する２つの双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）から成る。図４Ｂ３に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0097】
[096]図４Ｂ４及び国際公開第２０１８／０１９５９４号の図３Ａ～図３Ｂに示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、５つの双極子磁石（Ｍ１～Ｍ５）を備えるハルバッハ配列から成る。図４Ｂ４に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0098】
[097]図４Ｂ５及び国際公開第２０１６／０８３２５９号の図１２Ａに示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、それぞれがマグネットワイヤコイル（図示せず）に囲まれた磁石棒（Ｍ１～Ｍ４）を備える４つの構造を備えるハルバッハシリンダセンブリから成る。図４Ｂ５に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0099】
[098]図４Ｂ６及び同時係属出願の欧州特許第２０１７６５０６．２号の図２Ａに示される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するための適切な磁場発生装置（４３０）は、８個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ８）のアセンブリから成り、前記アセンブリは、第１の棒双極子磁石（Ｍ４）及び２つの第２の棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ６）を備える第１のセットと、第１の棒双極子磁石（Ｍ５）及び２つの第２棒双極子磁石（Ｍ３；Ｍ８）を備える第２のセットと、第３の棒双極子磁石（Ｍ２、Ｍ７）の第１の対とを備える。図４Ｂ６に示されるように、基材（４２０）上のコーティング層（４１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（４３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（４１０）を支持する基材（４２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0100】
[099]図５Ａ１～３に示されて以下の例で使用される一実施形態によれば、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するのに適した磁場発生装置（５３０）は、Ｎ－Ｓ磁気方向が交互になって一列に配置された９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ５）を備えるアセンブリから成る。図５Ａ２に示されるように、基材（５２０）上のコーティング層（５１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域（点線の長方形Ａとして示される）で磁場発生装置（５３０）の磁場の磁場（磁力線がＮ極からＳ極へと指し示す矢印を伴う線として示される）に曝露され、磁力線は、前記１つまたは複数の領域で互いに実質的に平行であり、コーティング層（５１０）を支持する基材（５２０）は、本明細書に記載の角度αで前記１つまたは複数の領域に設けられる。
【0101】
[0100]当業者に知られているように、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が静的であるか又は図４Ｂ１～図４Ｂ６及び図５に示される磁場発生装置に付随して移動する（すなわち、磁場発生装置と同じ速度で移動する）場合、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、前記装置への曝露時に一軸配向される。
【0102】
[0101]磁性又は磁化可能な顔料粒子の本明細書に記載の磁気配向中、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）は、１つまたは複数の非磁性材料から形成される非磁性支持プレート（ｘ４０）上に配置されてもよい。
【0103】
[0102]本明細書に記載の方法は、ステップｂ）と部分的に同時に又はそれに続いて、コーティング層（ｘ１０）中のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、本明細書に記載の少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）を生成するように、コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）で少なくとも部分的に硬化させるステップｃ）を更に含み、本明細書に記載の仰角γは、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦γ≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ≦１７５°）の範囲内である。
【0104】
[0103]本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を二軸配向するように工程ｂ）が実施される実施形態に関し、本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化するステップｃ）は、好ましくはステップｂ）と部分的に同時に実施される。
【0105】
[0104]図３Ｂに示されて上記で説明された実施形態などの１つまたは複数のＯＥＬを調製するための１つの実施形態、すなわち、前記ＯＥＬが、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を１つまたは複数の第１のゾーン（ｘ１０－ａ）に含むとともにプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を１つまたは複数の第２のゾーン（ｘ１０－ｂ）に含む単一の少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）を備える又はこのコーティング層（ｘ１０）から成り、磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、１つまたは複数の第１のゾーン（ｘ１０－ａ）で仰角γを有するとともに、１つまたは複数の第２のゾーン（ｘ１０－ｂ）で更なる仰角γ’を有して組み込まれ、仰角γ及び更なる仰角γ’が、独立して、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ，γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ，γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ，γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ、γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ、γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ，γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び仰角γ’が互いに異なる及び／又は同一平面上にない、実施形態によれば、方法は、
本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を適用するステップａ）と、
コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載の角度αで本明細書に記載の磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域にコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が設けられた状態で、本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に曝露するステップｂ）と、
ｃ）選択的硬化ユニット（ｘ５０）を用いてコーティング層（ｘ１０）の１つまたは複数の第１の領域を選択的に少なくとも部分的に硬化して、プレートレット形状の磁性粒子又は磁化可能な粒子の少なくとも一部をそれらの採用された位置及び配向に固定し、コーティング層（ｘ１０）の１つまたは複数の第２のゾーンが照射に曝露されないままであるようにするステップであって、前記ステップが、ステップｂ）と部分的に同時に又はステップｂ）に続いて実施される、ステップと、
ｄ）プレートレット形状の磁性粒子又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、コーティング層（ｘ１０）を、第２の磁場が均一な１つまたは複数の領域で、第２の磁場発生装置の第２の磁場に曝露するステップであって、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域に設けられ、コーティング層（ｘ１０）と、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域内の第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内であり、α’がαとは異なる、ステップと、
ｅ）コーティング層（ｘ１０）を第２の磁場発生装置の磁場に曝露するステップｄ）と部分的に同時に又はそれに続いて、本明細書に記載される硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化させるステップｅ）と、
を含む。
本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を適用するステップａ）と、
コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載の角度αで本明細書に記載の磁場が実質的に均一な１つまたは複数の領域にコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が設けられた状態で、本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場に曝露するステップｂ）と、
ｃ）選択的硬化ユニット（ｘ５０）を用いてコーティング層（ｘ１０）の１つまたは複数の第１の領域を選択的に少なくとも部分的に硬化して、プレートレット形状の磁性粒子又は磁化可能な粒子の少なくとも一部をそれらの採用された位置及び配向に固定し、コーティング層（ｘ１０）の１つまたは複数の第２のゾーンが照射に曝露されないままであるようにするステップであって、前記ステップが、ステップｂ）と部分的に同時に又はステップｂ）に続いて実施される、ステップと、
ｄ）プレートレット形状の磁性粒子又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するように、コーティング層（ｘ１０）を、第２の磁場が均一な１つまたは複数の領域で、第２の磁場発生装置の第２の磁場に曝露するステップであって、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域に設けられ、コーティング層（ｘ１０）と、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域内の第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内であり、α’がαとは異なる、ステップと、
ｅ）コーティング層（ｘ１０）を第２の磁場発生装置の磁場に曝露するステップｄ）と部分的に同時に又はそれに続いて、本明細書に記載される硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化させるステップｅ）と、
を含む。
【0106】
[0105]図３Ｃ～図３Ｄに示されて上記で説明された実施形態などの１つまたは複数のＯＥＬを調製するための１つの実施形態、すなわち、前記ＯＥＬが、ｉ）磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と、ｉｉ）磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）とを備える又はこれらから成り、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と部分的又は完全に重なり合い、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）中の実質的に全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、第２のプレートレット形状の顔料粒子のそれぞれの配向が、本明細書に記載のプレートレットベクトルによって規定され、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して更なる仰角γ’だけ角度付けられ、仰角γ及び更なる仰角γ’が、独立して、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ，γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ，γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ，γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ，γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ，γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ，γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なる及び／又は同一平面上にない、１つの実施形態によれば、方法は、
本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップａ）と、
本明細書に記載の角度αで本明細書に記載の磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域にコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が設けられた状態で本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）と、
ステップｂ）と部分的に同時又はそれに続いて、本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化するステップｃ）と、
ステップｃ）に続いて、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）上に、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を部分的（図３Ｃ）又は完全（図３Ｄ）のいずれかで塗布するステップｄ）であって、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するように第１の液体状態にあり、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物と同じ又は異なる、ステップｄ）と、
第２プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向させるように、第２の磁場が均一である１つまたは複数の領域で第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁場発生装置の第２の磁場に曝露するステップｅ）であって、第２のコーティング層（ｘ１１）を支持する基材（ｘ２０）が前記１つまたは複数の領域に設けられ、第２のコーティング層（ｘ１１）と、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域内の第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内であり、第２の磁場発生装置が、ステップｂ）の磁場発生装置と同じ又は異なり、α’がαとは異なる、ステップｅ）と、
第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界発生装置に曝露するステップｅ）と部分的に同時に又はそれに続いて、第２のコーティング層（ｘ１１）中の第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）を生成するように、硬化ユニット（ｘ４０）で第２のコーティング層（ｘ１１）を少なくとも部分的に硬化させるステップｆ）と、
を含む。
本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップａ）と、
本明細書に記載の角度αで本明細書に記載の磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域にコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が設けられた状態で本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）と、
ステップｂ）と部分的に同時又はそれに続いて、本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化するステップｃ）と、
ステップｃ）に続いて、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）上に、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を部分的（図３Ｃ）又は完全（図３Ｄ）のいずれかで塗布するステップｄ）であって、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するように第１の液体状態にあり、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物と同じ又は異なる、ステップｄ）と、
第２プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向させるように、第２の磁場が均一である１つまたは複数の領域で第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁場発生装置の第２の磁場に曝露するステップｅ）であって、第２のコーティング層（ｘ１１）を支持する基材（ｘ２０）が前記１つまたは複数の領域に設けられ、第２のコーティング層（ｘ１１）と、磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域内の第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内であり、第２の磁場発生装置が、ステップｂ）の磁場発生装置と同じ又は異なり、α’がαとは異なる、ステップｅ）と、
第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界発生装置に曝露するステップｅ）と部分的に同時に又はそれに続いて、第２のコーティング層（ｘ１１）中の第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）を生成するように、硬化ユニット（ｘ４０）で第２のコーティング層（ｘ１１）を少なくとも部分的に硬化させるステップｆ）と、
を含む。
【0107】
[0106]図３Ｅに示されて上記で説明された実施形態などの１つまたは複数のＯＥＬを調製するための１つの実施形態、すなわち、前記ＯＥＬが、ｉ）磁気的に配向されたプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と、ｉｉ）磁気的に配向された第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が組み込まれた、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）とを備える又はこれらから成り、前記少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）が少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）と隣り合い（図３Ｅ）又は少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）から離間し（図示せず）、少なくとも部分的に硬化されたコーティング層（ｘ１０）中の実質的に全てのプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ仰角γを有し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）中の実質的に全ての第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が実質的に同じ更なる仰角γ’を有し、第２のプレートレット形状の顔料粒子のそれぞれの配向が、本明細書に記載のプレートレットベクトルによって規定され、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子のプレートレットベクトルが、粒子の位置で基材（ｘ２０）の２次元表面に対して更なる仰角γ’だけ角度付けられ、仰角γ及び更なる仰角γ’が、独立して、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜γ，γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜γ，γ’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦γ，γ’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜γ，γ’≦１７５°）、より好ましくは、約５°～約２５°（５°≦γ，γ’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦γ，γ’≦１７５°）の範囲内であり、前記仰角γ及び更なる仰角γ’が互いに異なる及び／又は同一平面上にない、１つの実施形態によれば、方法は、
本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップａ）と、
本明細書に記載の角度αで本明細書に記載の磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域にコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が設けられた状態で本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）と、
ステップｂ）と部分的に同時又はそれに続いて、本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化するステップｃ）と、
ステップｃ）に続いて、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップｄ）であって、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するように第１の液体状態にあり、前記第２のコーティング層（ｘ１１）がコーティング層（ｘ１０）に隣り合う（図３Ｅ）又はコーティング層（ｘ１０）から離間し（図示せず）、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物と同じ又は異なる、ステップｄ）と、
第２の磁場が均一である１つまたは複数の領域で第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁場発生装置の磁場に曝露して、第２プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップｅ）であって、第２のコーティング層（ｘ１１）を支持する基材（ｘ２０）が、第２のコーティング層（ｘ１１）と、磁場が均一である１つまたは複数の領域内の第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’で前記１つまたは複数の領域に設けられ、角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内であり、第２の磁場発生装置が、ステップｂ）の磁場発生装置と同じ又は異なり、α’がαとは異なる、ステップｅ）と、
第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界発生装置に曝露するステップｅ）と部分的に同時に又はそれに続いて、第２のコーティング層（ｘ１１）中の第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）を生成するように、硬化ユニット（ｘ４０）で第２のコーティング層（ｘ１１）を少なくとも部分的に硬化させるステップｆ）と、
を含む。
本明細書に記載の基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップａ）と、
本明細書に記載の角度αで本明細書に記載の磁場が実質的に均一である１つまたは複数の領域にコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）が設けられた状態で本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）の磁場にコーティング層（ｘ１０）を曝露するステップｂ）と、
ステップｂ）と部分的に同時又はそれに続いて、本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）でコーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化するステップｃ）と、
ステップｃ）に続いて、第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップｄ）であって、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、第２のコーティング層（ｘ１１）を形成するように第１の液体状態にあり、前記第２のコーティング層（ｘ１１）がコーティング層（ｘ１０）に隣り合う（図３Ｅ）又はコーティング層（ｘ１０）から離間し（図示せず）、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物が、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物と同じ又は異なる、ステップｄ）と、
第２の磁場が均一である１つまたは複数の領域で第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁場発生装置の磁場に曝露して、第２プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップｅ）であって、第２のコーティング層（ｘ１１）を支持する基材（ｘ２０）が、第２のコーティング層（ｘ１１）と、磁場が均一である１つまたは複数の領域内の第２の磁場の磁力線の接線とが成す角度α’で前記１つまたは複数の領域に設けられ、角度α’が、０°よりも大きく３０°よりも小さい（０°＜α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく１８０°よりも小さい（１５０°＜α’＜１８０°）、好ましくは約５°以上３０°未満（５°≦α’＜３０°）又は１５０°よりも大きく約１７５°以下（１５０°＜α’≦１７５°）、より好ましくは約５°～約２５°（５°≦α’≦２５°）又は約１５５°～約１７５°（１５５°≦α’≦１７５°）の範囲内であり、第２の磁場発生装置が、ステップｂ）の磁場発生装置と同じ又は異なり、α’がαとは異なる、ステップｅ）と、
第２のコーティング層（ｘ１１）を第２の磁界発生装置に曝露するステップｅ）と部分的に同時に又はそれに続いて、第２のコーティング層（ｘ１１）中の第２のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の位置及び配向を少なくとも部分的に固定し、少なくとも部分的に硬化された第２のコーティング層（ｘ１１）を生成するように、硬化ユニット（ｘ４０）で第２のコーティング層（ｘ１１）を少なくとも部分的に硬化させるステップｆ）と、
を含む。
【0108】
[0107]適切な硬化ユニット（ｘ４０）は、高出力発光ダイオード（ＬＥＤ）ランプ、又は中圧水銀アーク（ＭＰＭＡ）若しくは化学線源としての金属蒸気アークランプなどのアーク放電ランプを備える紫外可視硬化ユニット用の機器を含む。本明細書に記載の選択的硬化ユニット（ｘ５０）は、コーティング層の一部として形成されるパターンに対応する１つまたは複数の空隙を含む、１つまたは複数の固定又は取り外し可能なフォトマスクを備え得る。１つまたは複数の選択的硬化ユニット（ｘ５０）は、欧州特許出願公開第２ ４６８ ４２３号に開示されている走査レーザービーム、国際公開第２０１７／０２１５０４号に開示されている発光ダイオード（ＬＥＤ）のアレイ、又は同時係属中の特許出願ＰＣＴ／ＥＰ２０１９／０８７０７２に開示されている個別にアドレス可能な化学線エミッターのアレイを備える化学線ＬＥＤ源（ｘ４１）など、アドレス指定可能であり得る。
【0109】
[0108]セキュリティ文書又は装飾品が、本明細書に記載の基材（ｘ２０）、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬ、及び基材（ｘ２０）と１つまたは複数のＯＥＬとの間の本明細書に記載の１つまたは複数のパターンを備え、それらのそれぞれが独立して証印の形状を有する、一実施形態によれば、本明細書に記載の方法は、証印の形状を有する１つまたは複数のパターンの形態で組成物を塗布するステップを含み、前記ステップは、本明細書に記載のステップａ）の前に行なわれる。本明細書に記載の１つまたは複数のパターンの形態で組成物を塗布するステップは、カーテンコーティング、スプレーコーティング、エアロゾルジェット印刷、電気流体力学的印刷、及びインクジェット印刷などの非接触流体マイクロディスペンシングプロセスによって実行されてもよく、又は、オフセット印刷、スクリーン印刷、輪転グラビア印刷、フレキソ印刷、凹版印刷（当技術分野では、彫刻銅板印刷、彫刻鋼金型印刷とも呼ばれる）から成る群から選択される印刷プロセスによって実行されてもよい。
【0110】
[0109]また、本明細書には、１つまたは複数の印刷ユニット、１つまたは複数の磁場発生装置（ｘ３０）、及び１つまたは複数の硬化ユニット（ｘ４０）を備える印刷装置も記載され、１つまたは複数の印刷ユニット、１つまたは複数の磁場発生装置（ｘ３０）及び１つまたは複数の硬化ユニット（ｘ４０）は、固定された印刷ユニットの後、固定された硬化ユニットの前に固定磁場発生装置（ｘ３０）が配置されるように、順次及び交互の固定位置で配置される。
【0111】
[0110]また、本明細書には、回転磁気シリンダと、本明細書に記載の１つまたは複数の磁場発生装置（ｘ３０）とを備える印刷装置が記載され、前記１つまたは複数の磁場発生装置（ｘ３０）は、回転磁気シリンダ並びにフラットベッド印刷ユニット及び本明細書に記載の１つまたは複数の磁場発生装置（ｘ３０）を備える印刷アセンブリの周方向溝又は軸方向溝に取り付けられ、前記１つまたは複数の磁場発生装置（ｘ３０）はフラットベッド印刷ユニットの凹部に取り付けられる。
【0112】
[0111]回転磁気シリンダは、印刷若しくはコーティング装置内で、又は印刷若しくはコーティング装置と組み合わせて使用され、又はその一部となるように、及び、本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）のうちの１つまたは複数を支持するようになっている。一実施形態では、回転磁気シリンダは、高速印刷で連続的に作動する回転式、枚葉式又は巻紙式の工業用印刷機の一部である。
【0113】
[0112]フラットベッド印刷ユニットは、印刷若しくはコーティング装置内で、又は印刷若しくはコーティング装置と組み合わせて使用され、又はその一部となるように、及び、本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）のうちの１つまたは複数を支持するようになっている。一実施形態では、フラットベッド印刷ユニットは、不連続的に作動する枚葉印刷機の一部である。
【0114】
[0113]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載のフラットベッド印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を備えるコーティング層（ｘ１０、ｘ１１）をその上に有する本明細書に記載のような基材を供給するための基材フィーダを含んでもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備える印刷装置の実施形態では、基材は、シート又はウェブの形態で基材フィーダによって供給される。本明細書に記載のフラットベッド印刷ユニットを備える印刷装置の一実施形態では、基材はシートの形態で供給される。
【0115】
[0114]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載のフラットベッド印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載のプレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基材（ｘ２０）上に塗布するためのコーティング又は印刷ユニットを含んでもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備える印刷装置の一実施形態では、コーティング又は印刷ユニットは、回転式の連続プロセスに従って動作する。本明細書に記載のフラットベッド印刷ユニットを備える印刷装置の一実施形態では、コーティング又は印刷ユニットは、線形の不連続プロセスに従って機能する。
【0116】
[0115]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載のフラットベッド印刷ユニットを含む印刷装置は、本明細書に記載の磁場発生装置（ｘ３０）によって磁気的に配向され、それによって顔料粒子の配向及び位置を固定して、本明細書に記載の１つまたは複数のＯＥＬを生成する、プレートレット形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるための本明細書に記載の硬化ユニット（ｘ４０）を含んでもよい。
【0117】
例
[0116]例及び比較例は、表１に示される配合のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インク並びに以下に記載される第１及び第２の磁気アセンブリを使用することによって実行された。
[0116]例及び比較例は、表１に示される配合のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インク並びに以下に記載される第１及び第２の磁気アセンブリを使用することによって実行された。
【表1】
【0118】
[0117]本発明に係る例Ｅ１～Ｅ８は、水平／緯度軸の周りに傾けると人目を引く視覚的外観を示した。人目を引く視覚的外観は、輝度のシャープで対照的なスイッチオン／スイッチオフ効果として見られ、輝度の最大値に到達するための輝度値の増大と、その後、約－４５°及び約＋４５°の視野角／観察角内での前記輝度の減少から成る。
【0119】
二軸配向用磁場発生装置（図５）
[0118]磁気アセンブリ（５３０）を使用して、顔料粒子を二軸配向させた。磁気アセンブリ（５３０）は、９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）を備えていた。
[0118]磁気アセンブリ（５３０）を使用して、顔料粒子を二軸配向させた。磁気アセンブリ（５３０）は、９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）を備えていた。
【0120】
[0119]９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）のそれぞれは、以下の寸法、すなわち、１００ｍｍ（Ｌ１）ｘ１０ｍｍ（Ｌ２）ｘ１０ｍｍ（Ｌ３）を有していた。磁場発生装置（５３０）は、２５０ｍｍｘ１５０ｍｍｘ１２ｍｍの寸法を有するポリオキシメチレン（ＰＯＭ）製の非磁性ホルダ（図示せず）に埋め込まれた。９個のバーダイポールマグネット（Ｍ１～Ｍ９）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０製である。
【0121】
[0120]９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）は、互いに約１０ｍｍの距離（ｄ１）で一列に配置され、９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）の上面は面一であった。９個の棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）のそれぞれの磁軸は、前記磁石の厚さ（Ｌ３）と実質的に平行であり、隣り合う２つの磁石（Ｍ１～Ｍ９）の磁気方向は反対方向（交互磁化）を指していた。
【0122】
【0123】
一軸配向用磁場発生（図６）
[0122]磁場発生装置（６３０）を使用して、顔料粒子を一軸配向させた。磁場発生装置（６３０）は、２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備えた。
[0122]磁場発生装置（６３０）を使用して、顔料粒子を一軸配向させた。磁場発生装置（６３０）は、２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）を備えた。
【0124】
[0123]２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）のそれぞれは、以下の寸法、すなわち、４０ｍｍ（Ｌ１）ｘ４０ｍｍ（Ｌ２）ｘ１０ｍｍ（Ｌ３）を有していた。２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）はＮｄＦｅＢ Ｎ４０製である。
【0125】
[0124]２つの棒双極磁石（Ｍ１、Ｍ２）は、互いに約４０ｍｍの距離（ｄ１）にあった。２つの棒双極磁石（Ｍ１、Ｍ２）のそれぞれの磁気軸は、前記磁石の長さ（Ｌ１）に実質的に平行であり、前記２つの棒双極磁石（Ｍ１、Ｍ２）の磁気方向は同じ方向を指していた。
【0126】
[0125]２つの極片（Ｐ１、Ｐ２）のそれぞれは、６０ｍｍ（Ｌ４）ｘ４０ｍｍ（Ｌ５）ｘ３ｍｍ（Ｌ６）の寸法を有していた。２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）は鉄（ＡＲＭＣＯ（登録商標））でできていた。
【0127】
[0126]２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）及び２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）は、中央に長方形の立方体のボイドを有する長方形の立方体を形成するように配置され、前記ボイドは、磁場が存在する領域Ａから成り、磁磁場は実質的に均一であり、２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）間の距離（ｄ２）が約４０ｍｍ、すなわち２つの磁極片（Ｐ１、Ｐ２）間の距離（ｄ２）が２つの棒双極子磁石（Ｍ１、Ｍ２）の長さ（Ｌ１）となるように、磁力線は互いに実質的に平行であった。
【0128】
Ｅ１～Ｅ５及びＣ１～Ｃ３（図３Ａ、図５、図７）
[0127]各サンプルについて、表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、ＰＥＴ（ＦｏｌｅｘからのＢＧ７１カラーレーザープリンター＆コピー機ＯＨＰフィルム、厚さ１００マイクロメートル、４５ｍｍｘ３０ｍｍ）片（５２０）上に塗布し、コーティング層（４０ｍｍｘ２５ｍｍ）（５１０）を形成し、この場合、２０μｍの厚さを有するコーティング層（５１０）を形成するために、前記塗布ステップは、９０Ｔスクリーンを使用する実験室用スクリーン印刷装置で実施された。
[0127]各サンプルについて、表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、ＰＥＴ（ＦｏｌｅｘからのＢＧ７１カラーレーザープリンター＆コピー機ＯＨＰフィルム、厚さ１００マイクロメートル、４５ｍｍｘ３０ｍｍ）片（５２０）上に塗布し、コーティング層（４０ｍｍｘ２５ｍｍ）（５１０）を形成し、この場合、２０μｍの厚さを有するコーティング層（５１０）を形成するために、前記塗布ステップは、９０Ｔスクリーンを使用する実験室用スクリーン印刷装置で実施された。
【0129】
[0128]コーティング層（５１０）がまだ濡れていて、まだ少なくとも部分的に硬化していない状態である間に、基材（５２０）を高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）製の支持プレート（３００ｍｍｘ４０ｍｍｘ１ｍｍ）の中央の上に置いた。基材（５２０）及びコーティング層（５１０）を支持する支持プレートを、約１０ｃｍ／秒の速度で磁場発生装置（５３０）（図５に示すように）のそばを、基材（５２０）に面する磁場発生装置（５３０）の表面とコーティング層（５１０）の最も近い端との間で、約２０ｍｍの距離（ｄ５）にわたって移動させ、前記最も近いコーティング層（５１０）の縁部と磁場発生装置（５３０）の底面との間の高さは、棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）の長さの半分（１／２ｘＬ１）である。基材（５２０）及びコーティング層（５１０）を支持する支持プレートは、コーティング層（５１０）と、磁場が均一な領域Ａ内の磁場発生装置（５３０）の磁場の磁力線の接線とが成す角度αを採用しながら同時に移動し、前記角度αは、約１°（Ｅ１）、５°（Ｅ２）、１０°（Ｅ３）、２０°（Ｅ４）、２５°（Ｅ５）、３０°（Ｃ１）、４０°（Ｃ２）、及び５０°（Ｃ３）の値を有する。
【0130】
[0129]コーティング層（５１０）は、図５Ａ１～図５Ａ３に示すように、独立して、棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）の長さ（Ｌ１）の中心に関して約１５ｍｍの距離（ｄ４）を隔てて基材経路の上方で、８番目と９番目の棒双極子磁石（Ｍ８及びＭ９）との間の空間の傍で、及び、約１０ｍｍの距離（ｄ３）を隔てて９番目の棒双極子磁石（Ｍ９）の傍に配置される硬化ユニット（５４０）（ＰｈｏｓｅｏｎからのＵＶＬＥＤランプ（ＦｉｒｅＦｌｙ３９５ｎｍ、４Ｗ／ｃｍ２））によって少なくとも部分的に硬化された。
【0131】
Ｅ６（図３Ｄ、図５、図８）
[0130]表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、一片のＰＥＴ（ＦｏｌｅｘからのＢＧ７１カラーレーザープリンター＆コピー機ＯＨＰフィルム、厚さ１００マイクロメートル、４５ｍｍｘ３０ｍｍ）（５２０）上に塗布して、「Ａ」（６ｍｍ）（５１０）の形状を有する第１のコーティング層（５１０）を形成し、前記塗布ステップは、厚さ約２０μｍのコーティング層（５１０）を形成するために９０Ｔスクリーンを使用する実験室用スクリーン印刷装置を用いて実施された。
[0130]表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、一片のＰＥＴ（ＦｏｌｅｘからのＢＧ７１カラーレーザープリンター＆コピー機ＯＨＰフィルム、厚さ１００マイクロメートル、４５ｍｍｘ３０ｍｍ）（５２０）上に塗布して、「Ａ」（６ｍｍ）（５１０）の形状を有する第１のコーティング層（５１０）を形成し、前記塗布ステップは、厚さ約２０μｍのコーティング層（５１０）を形成するために９０Ｔスクリーンを使用する実験室用スクリーン印刷装置を用いて実施された。
【0132】
[0131]コーティング層（５１０）が未だ濡れていて、未だ少なくとも部分的に硬化していない状態である間に、基材（５２０）を、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）から形成される支持プレート（３００ｍｍｘ４０ｍｍ）の中央の上端に置いた。基材（５２０）及びコーティング層（５１０）を支持する支持プレートを、磁場発生装置（５３０）（図５に示すように）の傍で約１０ｃｍ／秒の速度で、基材（５２０）に面する磁場発生装置（５３０）の表面とコーティング層（５１０）の最も近い縁部との間で約２０ｍｍの距離（ｄ５）を隔てて移動させ、また、前記最も近いコーティング層（５１０）の縁部と磁場発生装置（５３０）の底面との間の高さは、棒双極子磁石（Ｍ１～Ｍ９）の長さの半分（１／２ｘＬ１）である。基材（５２０）及びコーティング層（５１０）を支持する支持プレートは、コーティング層（５１０）と磁場が均一である領域Ａ内の磁場発生装置（５３０）の磁場の磁力線の接線とが成す角度αを採用しながら、同時に移動され、角度αの値は約２０°であった。
【0133】
[0132]第１のコーティング層（５１０）は、Ｅ１～Ｅ５及びＣ１～Ｃ３と同じ条件／位置の下で、硬化ユニット（５４０）によって少なくとも部分的に硬化された。
【0134】
[0133]各サンプルについて、表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、既に塗布されたコーティング層（５１０）の上に塗布して、「Ｔ」（６ｍｍ）の形状を有する第２のコーティング層（５１１）を形成し、前記塗布ステップは、約２０μｍの厚さを有するコーティング層（５１１）を形成するように、９０Ｔスクリーンを使用する実験用スクリーン印刷装置を用いて行なわれた。
【0135】
[0134]第２のコーティング層（５１１）が未だ濡れており、未だ少なくとも部分的に硬化していない状態である間に、角度α’が約１６０°であることを除いて第１のコーティング層（５１０）と同じ条件下で基材（５２０）を磁場発生装置（５３０）の磁場に曝露した。
【0136】
[0135]第２のコーティング層（５１１）は、Ｅ１～Ｅ５及びＣ１～Ｃ３と同じ条件／位置の下で、硬化ユニット（５４０）によって少なくとも部分的に硬化された。
【0137】
Ｅ７～Ｅ８（図３Ａ、図６、図９）
[0136]表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、一片のＰＥＴ（ＦｏｌｅｘからのＢＧ７１カラーレーザープリンター＆コピー機ＯＨＰフィルム、厚さ１００マイクロメートル、４５ｍｍｘ３０ｍｍ）（６２０）上に塗布して、コーティング層（４０ｍｍｘ２５ｍｍ）（６１０）を形成し、前記塗布ステップは、約２０μｍの厚さを有するコーティング層（６１０）を形成するように、９０Ｔスクリーンを使用する実験室用スクリーン印刷装置を用いて行なわれた。
[0136]表１のＵＶ－Ｖｉｓ硬化性スクリーン印刷インクを、一片のＰＥＴ（ＦｏｌｅｘからのＢＧ７１カラーレーザープリンター＆コピー機ＯＨＰフィルム、厚さ１００マイクロメートル、４５ｍｍｘ３０ｍｍ）（６２０）上に塗布して、コーティング層（４０ｍｍｘ２５ｍｍ）（６１０）を形成し、前記塗布ステップは、約２０μｍの厚さを有するコーティング層（６１０）を形成するように、９０Ｔスクリーンを使用する実験室用スクリーン印刷装置を用いて行なわれた。
【0138】
[0137]コーティング層（６１０）が未だ濡れており、未だ少なくとも部分的に硬化していない状態である間に、基材（６２０）を高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）製の支持プレート（６０ｍｍｘ４０ｍｍｘ１ｍｍ）の中央の上端に置いた。
【0139】
[0138]基材（６２０）及びコーティング層（５１０）を支持する支持プレートは、コーティング層（６１０）と磁場が均一である領域Ａ内の磁場発生装置（６３０）の磁場の磁力線の接線とが成す角度αを採用しながら、図６に示されるように磁気アセンブリ（６３０）の空隙の中心に配置され、角度αの値は約２０°であった。
【0140】
[0139]サンプルＥ７については、約１秒後、コーティング層（６１０）は、図６Ｂ１に示されるように、硬化ユニット（６４０）（ＵＶＬＥＤランプ（ＰｈｏｓｅｏｎからのＦｉｒｅＦｌｙ ３９５ｎｍ、４Ｗ／ｃｍ２））によって少なくとも部分的に硬化された。
【0141】
[0140]サンプルＥ８については、磁場への曝露に続いて、基材（６２０）及びコーティング層（６１０）を支持する支持プレートを、磁気アセンブリ（６３０）から約１ｃｍの距離（ｄｉ）だけ離して移動させ、コーティング層（６１０）は、図６Ｂ２に示すように、Ｐｈｏｓｅｏｎ（ＦｌｅＴｙｐｅＦｉｒｅＦｌｅｘ ５０ｘ７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ２）のＵＶ－ＬＥＤランプ（６４０）に約０．５秒間露光されて硬化された。
【0142】
配向ステップ中の角度αとコーティング層（ｘ１０）中の顔料粒子の仰角γとの相関
[0141]前述の方法中の角度αと仰角γとの間の相関関係は、国際公開第２０１９／０３８３７１号に開示された方法に従ってコノスコピックスキャトロメータ測定を使用して前記仰角γを測定することによって、及び、ＳＥＭ写真（以下の寸法、すなわち、１０ｍｍ×１０ｍｍ×３０ｍｍを有するエポキシマトリックス（Ｔｅｃｈｎｉｃｏｌ ９４６１）に埋め込むことによるサンプル調製の標準的な方法を使用するＺＥＩＳＳ ＥＶＯ ＨＤ１５）コーティング層（ｘ１０）の断面上の５つの隣り合う顔料粒子の選択の仰角を測定することによって評価された。結果を表２に示す。
[0141]前述の方法中の角度αと仰角γとの間の相関関係は、国際公開第２０１９／０３８３７１号に開示された方法に従ってコノスコピックスキャトロメータ測定を使用して前記仰角γを測定することによって、及び、ＳＥＭ写真（以下の寸法、すなわち、１０ｍｍ×１０ｍｍ×３０ｍｍを有するエポキシマトリックス（Ｔｅｃｈｎｉｃｏｌ ９４６１）に埋め込むことによるサンプル調製の標準的な方法を使用するＺＥＩＳＳ ＥＶＯ ＨＤ１５）コーティング層（ｘ１０）の断面上の５つの隣り合う顔料粒子の選択の仰角を測定することによって評価された。結果を表２に示す。
【表2】
【0143】
[0142]コノスコピックスキャトロメータ測定は、国際公開第２０１９／０３８３７１号、図４Ａ（ＥｃｋｈａｒｔｄＯｐｔｉｃｓＬＬＣ、５４３０Ｊｅｆｆｅｒｓｏｎ Ｃｔ、Ｗｈｉｔｅ Ｂｅａｒ Ｌａｋｅ、ＭＮ ５５１１０から取得；ｈｔｔｐ：／／ｅｃｋｏｐ．ｃｏｍ）に記載されているように、コノスコピックスキャトロメータを使用して実施された。仰角γは、約１ｍｍ２のコーティング層表面で測定された。すなわち、報告された値は、約１０００個の粒子で平均化された。
【0144】
[0143]ＳＥＭ測定は、ＳＥＭ顕微鏡（ＺＥＩＳＳ ＥＶＯ ＨＤ１５、倍率ｘ５００）を用いて、サンプルのミクロトーム切片（図３に示されるように、基材表面及びコーティング層の厚さに垂直で、傾斜軸に垂直な切片面）で行なった。コーティング層を支持する基材は、まず最初に、以下の寸法、すなわち、１０ｍｍ×１０ｍｍ×３０ｍｍを有するサンプルを作成するためにミクロトームスライスを切断及び研磨する前に室温で２４時間乾燥させたままだったエポキシ樹脂（Ｔｅｃｈｎｉｃｏｌ９４６１）に個別に埋め込まれた。報告された値は、５つの粒子で平均化された。
【0145】
[0144]表２に示されるように、角度αと測定された仰角γとの間には優れた相関関係があった。
【0146】
様々な観察角度θでの輝度
[0145]サンプルを紙基材（それぞれ黒色又は白色）上に配置してスコッチテープで固定した。図１０に示すように、コーティング層（ｘ１０、ｘ１１）、ＰＥＴ基材（ｘ２０）、及び紙基材を支持するアセンブリを、積分球（Ｄｏｎｇｇｕａｎ Ｙａｏｋｅ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔからの内径１ｍ）の傾斜ホルダ上に個別に配置した。アセンブリは、ＰＥＴ基材表面から約１００ｃｍの距離を隔てて配置された照明源（電球（３０Ｗ、１００％電力））で照明された。
[0145]サンプルを紙基材（それぞれ黒色又は白色）上に配置してスコッチテープで固定した。図１０に示すように、コーティング層（ｘ１０、ｘ１１）、ＰＥＴ基材（ｘ２０）、及び紙基材を支持するアセンブリを、積分球（Ｄｏｎｇｇｕａｎ Ｙａｏｋｅ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔからの内径１ｍ）の傾斜ホルダ上に個別に配置した。アセンブリは、ＰＥＴ基材表面から約１００ｃｍの距離を隔てて配置された照明源（電球（３０Ｗ、１００％電力））で照明された。
【0147】
[0146]カメラ（Ｎｉｋｏｎ Ｄ８００、レンズＮｉｋｋｏｒ １０５／２．８ ＥＤ、シャッター速度１／２００秒、絞りｆ／３６、ＩＳＯ６４００）を、アセンブリと照明源との間の仮想線上に、ＰＥＴ基材から約５０ｃｍの距離を隔てて配置した。画像は３６８０ｘ２４５６ピクセル（ＴＩＦＦ）で取得された。
【0148】
[0147]図１に示すように、アセンブリを支持するホルダを、前記ホルダが観察角度α＝５０°、４０°、３０°、２０°、１０°、０°、－５°、－１０°、－１５°、－２０°、－２５°、－３０°、－３５°、－４０°、－４５°、－５０°、－５５°、－６０°、－６５°、及び－７０°（θ＜０°は、アセンブリの上端縁がカメラの近くにあることに対応し、θ＞０°は、アセンブリの下端縁がカメラの近くにあることに対応する）で観察されるように回転させた。
【0149】
【0150】
[0149]Ｅ１～Ｅ５、Ｅ７～Ｅ８、及びＣ１～Ｃ３の輝度は、ＡｄｏｂｅＰｈｏｔｏｓｈｏｐ（登録商標）を使用し、コーティング層（ｘ１０、ｘ１１）、ＰＥＴ基材（ｘ２０）及び紙基材を備える各個々のアセンブリの１００ピクセルｘ１００ピクセル領域の輝度の平均を計算することによって評価した。図７Ｂは、Ｅ１～Ｅ５及びＣ１～Ｃ３の輝度を報告することによって得られたグラフを示し、図９は、－５０°～＋７０°（ｘ軸：観察角度θ［度、°］；ｙ軸：輝度（任意単位））で変化する異なる観察角度θでの輝度Ｅ７～Ｅ８を報告することによって得られたグラフを示す。輝度曲線は、プレート（Ｐ）の存在に起因して球体の僅かにしか照らされていない領域の結果として非対称である。
【0151】
[0150]図７Ａ～図７Ｂに示されるように、Ｅ１～Ｅ５（０°＜γ＜３０°、特に５°≦γ＜３０°、５°≦γ≦２５°）の光学効果層は、人目を引く効果、並びに、約－４５°及び約＋４５°の視野角／観察角度内で輝度の最大値に到達するための輝度の容易に観察可能な増大、及びその後の前記輝度値の減少を示した。
【0152】
[0151]Ｅ１（１°）は、約－１０°の観察角度θでの最大輝度を示し、Ｅ２（５°）は、約－１５°の観察角度θでの最大輝度を示し、Ｅ３（１０°）は、約－２５°の観察角度θでの輝度の最大値を示し、Ｅ４は、約－３５°の観察角度θでの輝度の最大値を示し、Ｅ５は、約－４０°の観察角度θでの輝度の最大値を示した。
【0153】
[0152]図８に示すように、「Ａ」の形状を有するＥ６の第１のコーティング層（図５の５１０、図３Ｄの３１０）は、約＋４０°の観察角度での輝度の最大値を伴って約０°～約＋５０°の観察角度で見ることができ、一方、「Ｔ」の形状を有する第２の／上端コーティング層（図５の５１１、図３Ｄの３１１）は、約－３５°の観察角度での輝度の最大値を伴って－１５°～約－６５°で見ることができる。
【0154】
[0153]図９Ａ（黒色基材）及び図９Ｂ（白色基材）に示すように、Ｅ７～Ｅ８は、Ｅ７の場合は－（２０°～２５°）、Ｅ８の場合は－（１０°～１５°）の観察角度θで輝度の最大値を伴う容易に観察できる輝度の増減を示した。
【図1】
【図2A】
【図2B】
【図2C】
【図3A】
【図3B】
【図3C】
【図3D】
【図3E】
【図4A1】
【図4A2】
【図4B1】
【図4B2】
【図4B3】
【図4B4-1】
【図4B4-2】
【図4B5】
【図4B6-1】
【図4B6-2】
【図5A1】
【図5A2】
【図5A3】
【図6A-1】
【図6A-2】
【図6B1】
【図6B2】
【図7A-1】
【図7A-2】
【図7A-3】
【図7B】
【図8-1】
【図8-2】
【図9A】
【図9B】
【図10】
【国際調査報告】