特表 2023-541356 オレフィン系ニトリルをヒドロシリル化するための方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2023-10-02

(54)【発明の名称】オレフィン系ニトリルをヒドロシリル化するための方法

(51)【国際特許分類】

   C07F 7/18 20060101AFI20230925BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20230925BHJP

【ＦＩ】

C07F7/18 P

C07B61/00 300

【審査請求】未請求

【予備審査請求】有

(21)【出願番号】P 2023511902

(86)(22)【出願日】2021-08-02

(85)【翻訳文提出日】2023-02-16

(86)【国際出願番号】 US2021044116

(87)【国際公開番号】W WO2022046360

(87)【国際公開日】2022-03-03

(31)【優先権主張番号】63/071,388

(32)【優先日】2020-08-28

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】590001418

【氏名又は名称】ダウ シリコーンズ コーポレーション

(71)【出願人】

【識別番号】502141050

【氏名又は名称】ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】バーグマン、エバン

(72)【発明者】

【氏名】ハサン、トウヒド

(72)【発明者】

【氏名】ペイズリー、ショーン

(72)【発明者】

【氏名】パナー、レーザ

(72)【発明者】

【氏名】ライシュ、ショーン

(72)【発明者】

【氏名】サイモン、クリス

【テーマコード（参考）】

4H039

4H049

【Ｆターム（参考）】

4H039CA92

4H039CF90

4H049VN01

4H049VP01

4H049VQ41

4H049VR22

4H049VR42

4H049VS19

4H049VT17

4H049VV02

4H049VW01

4H049VW02

(57)【要約】

シアノアルキル官能性シランを調製するための方法が開示される。この方法は、オレフィン系ニトリルからシアン化物不純物を除去した後、ヒドリドシランでオレフィン系ニトリルをヒドロシリル化することを含む。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

方法であって、
１）シアン化物不純物を含む、Ａ’）オレフィン系ニトリルを提供することと、
２）Ａ’）前記オレフィン系ニトリルから前記シアン化物不純物の全部又は一部分を除去し、それによってＡ）精製オレフィン系ニトリルを生成することと、
３）２０℃～１５０℃の温度で、
Ａ）前記精製オレフィン系ニトリル、
Ｂ）式Ｒ^１ _ｘＨＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘは、０、１、又は２であり、各Ｒ^１は、独立して選択される１～１８個の炭素原子の一価炭化水素基であり、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子及び式ＯＲ^１のアルコキシ基からなる群から選択される）を有するヒドリドシラン、並びに
Ｃ）出発物質Ａ）、Ｂ）、及びＣ）の合計重量に基づいて５ｐｐｍ～＜２００ｐｐｍのＰｔを提供するのに十分な量の白金ヒドロシリル化反応触媒
を含む、出発物質を合わせることと、
を含む、方法。

【請求項2】

Ａ’）前記オレフィン系ニトリルが、３－ブテンニトリル及び２－メチル－３－ブテンニトリルからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

Ａ’）において、前記シアン化物不純物が、２５ｐｐｍ～１２５ｐｐｍのＨ－Ｃ≡Ｎを含む、請求項１又は請求項２に記載の方法。

【請求項4】

Ｂ’前記ヒドリドシランが、０又は１であるｘ、アルキル基であるＲ^１、及びアルコキシ基であるＸを有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。

【請求項5】

ｘ＝１であり、Ｒ^１がメチル基であり、各Ｘがメトキシ基である、請求項４に記載の方法。

【請求項6】

前記白金ヒドロシリル化反応触媒が、塩化白金酸、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒、又は炭素、シリカ、若しくはアルミナから選択される担体上の白金を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。

【請求項7】

工程２）が、Ａ’）前記オレフィン系ニトリルと、銅、鉄、銀、又はニッケルからなる群から選択される単体金属とを合わせることを含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。

【請求項8】

工程２）が、Ａ’）前記オレフィン系ニトリルと、活性炭及びモレキュラーシーブからなる群から選択される吸着剤とを合わせることを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。

【請求項9】

工程２）が、Ａ’）前記オレフィン系ニトリルを、銅、鉄、銀、若しくはニッケル、又はこれらの金属の酸化物からなる群から選択される金属に合わせ、その後、生成物と吸着剤とを合わせて、Ａ）前記精製オレフィン系ニトリルを形成することを含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。

【請求項10】

工程２）が、ストリッピング、蒸留、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１～９のいずれか一項に記載の方法。

【請求項11】

工程２）で生成されたＡ）前記精製オレフィン系ニトリルが、０ｐｐｍのシアン化物不純物から、工程１）で提供されたＡ’）前記オレフィン系ニトリルよりも少なくとも１０ｐｐｍ少ないシアン化物不純物までを含有する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。

【請求項12】

Ａ）前記精製オレフィン系ニトリルが、５ｐｐｍ～４０ｐｐｍのシアン化物不純物を含有する、請求項１１に記載の方法。

【請求項13】

工程３）の際及び／又は後にＤ）促進剤を添加することを更に含む、請求項１～１２のいずれか一項に記載の方法。

【請求項14】

溶媒中で１つ以上の出発物質を送達することを更に含む、請求項１～１３のいずれか一項に記載の方法。

【請求項15】

式Ｒ^１ _ｘＲ^２ＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘ及びＲ^１は、上で定義された通りであり、Ｒ^２は、式Ｎ≡Ｃ－Ｄ－の基であり、Ｄは、二価炭化水素基である）の化合物を含む生成物を生成する、請求項１～１４のいずれか一項に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

（関連出願の相互参照）
本願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下、２０２０年８月２８日に出願された米国仮特許出願６３／０７１，３８８号の利益を主張するものである。米国仮特許出願第６３／０７１，３８８号は、参照により本明細書に組み込まれる。

【0002】

（発明の分野）
本発明は、オレフィン系ニトリル及びヒドリドシランをヒドロシリル化するための改良された方法に関する。より具体的には、本発明は、２－メチル－３－ブテンニトリル及びメチルジメトキシシランの白金触媒ヒドロシリル化によって３－シアノブチル－メチルジメトキシシランを調製するための改良された方法に関する。

【背景技術】

【0003】

３－シアノブチル－メチルジメトキシシランは、２－メチル－３－ブテンニトリル（市販されているオレフィン系ニトリル）及びメチルジメトキシシランから白金触媒ヒドロシリル化によって調製されている。典型的な触媒充填では、十分な反応物質転化率を達成するために、（２－メチル－３－ブテンニトリル及びメチルジメトキシシランの合計重量に基づいて）２００ｐｐｍを超える白金を反応混合物に提供するのに十分な量を必要とする。白金触媒は高価であり、次第に不足してきている。

【0004】

【化1】

【発明の概要】

【0005】

方法は、
１）シアン化物不純物を含む、Ａ’）オレフィン系ニトリルを提供することと、
２）Ａ’）当該オレフィン系ニトリルからシアン化物不純物の全部又は一部分を除去し、それによってＡ）精製オレフィン系ニトリルを生成することと、
３）２０℃～１５０℃の温度で、
Ａ）当該精製オレフィン系ニトリル、
Ｂ）式Ｒ^１ _ｘＨＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘは、０、１、又は２であり、各Ｒ^１は、独立して選択される１～１８個の炭素原子の一価炭化水素基であり、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子及び式ＯＲ^１のアルコキシ基からなる群から選択される）を有するヒドリドシラン、並びに
Ｃ）出発物質Ａ）、Ｂ）、及びＣ）の合計重量に基づいて５ｐｐｍ～＜２００ｐｐｍのＰｔを提供するのに十分な量の白金ヒドロシリル化反応触媒
を含む、出発物質を合わせることと、
を含む。

【発明を実施するための形態】

【0006】

オレフィン系ニトリルは、当該技術分野において既知であり、市販されている。好適なオレフィン系ニトリルは、商業的供給源、例えば、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ，ＵＳＡ）；ＩＮＶＩＳＴＡ Ｎｏｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａ Ｓ．ａｒ．ｌ．；ＴＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．；又は東京化成工業（東京）によって提供され得る。オレフィン系ニトリルは、式Ｒ－Ｃ≡Ｎ（式中、Ｒは、ビニル、アリル、メチルプロペニル、ブテニル、メチルブテニル、及びペンテニルによって例示されるアルケニル基などの脂肪族不飽和一価炭化水素基を表す）を有し得る。オレフィン系ニトリルは、アクリロニトリル（ＣＨ_２＝ＣＨＣ≡Ｎ）、２－ブテンニトリル（ＣＨ_３－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ≡Ｎ）、３－ブテンニトリル（ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－Ｃ≡Ｎ）、２－メチル－３－ブテンニトリル（上に示す、ＣＡＳ番号１６５２９－５６－９）、及び２－ペンテンニトリル（ＣＨ_３－ＣＨ_２－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ≡Ｎ）によって例示される。あるいは、オレフィン系ニトリルは、３－ブテンニトリル及び２－メチル－３－ブテンニトリルからなる群から選択されてもよい。あるいは、オレフィン系ニトリルは、２－メチル－３－ブテンニトリルであってもよい。

【0007】

オレフィン系ニトリルは、上に提供したように、典型的には、シアン化物不純物を含有し、当該シアン化物不純物は、式Ｘ’－Ｃ≡Ｎ（式中、Ｘ’は、水素、ナトリウム、又はカリウムである）の化合物を指す。あるいは、シアン化物不純物は、式Ｈ－Ｃ≡Ｎのシアン化水素であってもよい。シアン化物不純物は、提供されるオレフィン系ニトリルの重量に基づいて、２５ｐｐｍ以上の量で存在してよい。あるいは、シアン化物不純物は、同じ基準で３０ｐｐｍ以上、あるいは３５ｐｐｍ以上、あるいは４０ｐｐｍ以上、あるいは４５ｐｐｍ以上の量で存在してもよい。同時に、シアン化物不純物は、同じ基準で最高２００ｐｐｍ、あるいは最高１７５ｐｐｍ、あるいは１５０ｐｐｍ、あるいは１２５ｐｐｍの量で存在してよい。あるいは、シアン化物不純物は、提供されるオレフィン系ニトリルの重量に基づいて、＞２５ｐｐｍ～２００ｐｐｍ、あるいは＞２５ｐｐｍ～１２５ｐｐｍ、あるいは４５～１２５ｐｐｍの量で存在してもよい。

【0008】

本発明者らは、驚くべきことに、シアン化物不純物がオレフィン系ニトリルのヒドリドシランとのヒドロシリル化反応を阻害し得ることを見出した。理論に束縛されるものではないが、Ｈ－Ｃ≡Ｎ含量は、白金触媒充填量が減少するにつれて触媒活性が失われることに関連している可能性があると考えられる。理論に束縛されるものではないが、オレフィン系ニトリルからシアン化物不純物の全て又は一部分を除去した後、オレフィン系ニトリル及びヒドリドシランをヒドロシリル化することにより、収率を改善することが可能になり、高価な白金触媒の使用量の低減を実現することが可能になり、又はこれらの両方が可能になると考えられる。更に、ヒドロシリル化反応が、より予測可能に進行し、反応物質の滞留の影響を受けにくい、及び／又は副生成物のＳｉＨ含量を最小化する場合、プロセスも安全性も改善され得る。

【0009】

上記方法の工程２）において、精製オレフィン系ニトリルは、シアン化物不純物の全て又は一部分を除去することによって調製され得る。シアン化物不純物を除去するための方法は、オレフィン系ニトリルを活性炭又はモレキュラーシーブなどの吸着剤と接触させることを含む。活性炭は、木質、ヤシ殻、又は亜炭ベースであってよく、様々な方法によって処理することができ、接触のための適切な表面積を提供する大きさにすることができる。例えば、本明細書で使用するための１つの好適な種類の活性炭は、１ｍｍの平均粒径を与える１２×４０のメッシュサイズで酸洗浄亜炭系活性炭を含む。工程２）におけるオレフィン系ニトリルと吸着剤との接触は、不活性雰囲気下で行ってよい。接触のための圧力は、例えば、０～５０ｐｓｉｇで変更し得る。温度は、例えば、２０～６０℃で変更し得る。接触時間は、例えば、１～２４時間、あるいは１～８時間で変更し得る。吸着剤の量は、吸着剤とオレフィン系ニトリルとの合計重量に基づいて１重量％～１０重量％、あるいは３重量％～５重量％であってよい。吸着剤の粒径は、例えば、１ｍｍ～２ｍｍであってよい。

【0010】

あるいは、工程２）は、オレフィン系ニトリルを、鉄（Ｆｅ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される金属を粉末、粒子、又は基材上の金属として含む金属吸収剤と接触させることを含んでいてもよい。金属吸収剤は、単体のＦｅ、Ｃｕ、Ａｇ、又はＮｉであってよい。あるいは、金属吸収剤は、単体のＦｅ、Ｃｕ、及びＡｇからなる群から選択されてもよい。あるいは、金属吸収剤は、炭素又はシリカなどの基材に結合している上述の金属であってもよい。金属吸収剤は、不活性条件などの金属の酸化を回避又は最小化する条件下で使用してよい。接触は、０～５０ｐｓｉｇなどの広範囲の圧力下で行ってよい。接触は、様々な温度下で行ってよく、例えば２０～６０℃が好ましい。接触は、０～５０ｐｓｉｇなどの広範囲の圧力下で行ってよい。接触は、２０～６０℃などの様々な温度下で行ってよい。接触は、ある時間、例えば、１～２４時間、あるいは１～８時間にわたって行ってよい。金属吸収剤の量は、金属吸収剤とオレフィン系ニトリルとの合計重量に基づいて１重量％～１０重量％、あるいは３重量％～５重量％であってよい。金属吸収剤の粒径は、例えば、１ｍｍ～２ｍｍであってよい。理論に束縛されるものではないが、金属は、金属とシアン化物不純物との錯体を形成することができ、これは、次いで、上述のように、濾過によって及び／又は活性炭などの吸着剤と接触させることによって除去することができると考えられる。理論に束縛されるものではないが、オレフィン系ニトリルを金属吸収剤と接触させることにより、シアン化物－金属錯体を形成することができ、次いで、上記のように、吸着剤と接触させることによって（例えば、金属が可溶性である場合）及び／又は濾過によって（例えば、基材に結合している金属を使用する場合、又は吸着剤と接触させた後）、シアン化物－金属錯体を除去することができると考えられる。

【0011】

あるいは、工程２）は、オレフィン系ニトリルを、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｇ、又はＮｉの酸化物からなる群から選択される金属酸化物吸収剤と接触させることを含んでいてもよい。接触は、０～５０ｐｓｉｇなどの広範囲の圧力下で行ってよい。接触は、様々な温度下で行ってよく、例えば２０～６０℃が好ましい。工程２）における接触は、不活性雰囲気下で行ってよい。接触は、０～５０ｐｓｉｇなどの広範囲の圧力下で行ってよい。接触は、２０～６０℃などの様々な温度下で行ってよい。接触は、ある時間、例えば、１～２４時間、あるいは１～８時間にわたって行ってよい。吸着剤の量は、金属酸化物とオレフィン系ニトリルとの合計重量に基づいて１重量％～１０重量％、あるいは３重量％～５重量％であってよい。金属酸化物の粒径は、例えば、１ｍｍ～２ｍｍであってよい。理論に束縛されるものではないが、金属酸化物中の金属は、金属とシアン化物不純物との錯体を形成することができ、次いで、この錯体は、濾過によって除去することができると考えられる。

【0012】

あるいは、オレフィン系ニトリルを、ストリッピング若しくは蒸留してもよい、及び／又は窒素若しくはアルゴンなどの別の不活性ガスでスパージしてもよい。シアン化物不純物は、最初の「初」留分（“heads”cut）で除去され、精製オレフィン系ニトリルをポットに残すことができる。これは、初留分の除去を達成するのに必要な温度を制限するために、大気圧付近で行ってよい。不活性ガスでスパージする場合、ガスは窒素であってよい。

【0013】

あるいは、上記の方法のうちの２つ以上を使用してもよく、例えば、オレフィン系ニトリルを金属吸収剤及び吸着剤と同時に又は逐次接触させてもよい（例えば、オレフィン系ニトリルを金属吸収剤と接触させ、濾過し、その後、活性炭などの吸着剤と接触させてもよい）。工程２）では、工程１）で提供されたＡ’）オレフィン系ニトリル中に存在するシアン化物不純物の量と比較して、Ａ）オレフィン系ニトリル中のシアン化物不純物の量を低減する。例えば、精製オレフィン系ニトリルは、０ｐｐｍのシアン化物不純物を含有し得る。あるいは、精製有機ニトリルは、工程１）で提供されたＡ’）オレフィン系ニトリルと比較して、工程２）の後に少なくとも１０ｐｐｍ少ないシアン化物不純物を含有し得る。

【0014】

上記のように調製されたＡ）精製オレフィン系ニトリル、Ｂ）ヒドリドシラン、及びＣ）白金ヒドロシリル化反応触媒を含む、出発物質は、上記の方法の工程３）において合わせられる。任意選択で加熱しながら、混合などの任意の好都合な手段によって合わせてよい。例えば、工程３）は、不活性雰囲気下で、２０℃～１５０℃、好ましくは６０～１００℃の温度で行ってよい。工程３）は、不活性雰囲気下で行ってよい。圧力は重要ではなく、例えば、０～５０ｐｓｉｇであってよく、あるいは、利便性のため周囲圧力を使用してもよい。工程３）は、反応の進行を管理するために加熱又は冷却しながら、バッチ式、半バッチ式、又は連続式で行ってよい。

【0015】

出発物質Ｂ）、ヒドリドシランは、式Ｒ^１ _ｘＨＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘは、０、１、又は２であり、各Ｒ^１は、独立して選択される１～１８個の炭素原子の一価炭化水素基であり、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子及び式ＯＲ^１のアルコキシ基からなる群から選択される）を有し得る。あるいは、ヒドリドシランは、アルコキシシランであってもよい。出発物質Ｂ）のためのアルコキシシランの例としては、メチルジメトキシシラン、トリメトキシシラン、エチルジメトキシシラン、トリエトキシシラン、エチルジエトキシシランが挙げられる。好適なヒドリドシランは、当該技術分野において公知であり、例えばＤｏｗ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ，ＵＳＡ）から市販されている。出発物質Ａ）及びＢ）は、１：１のモル当量のＡ）とＢ）とを提供するのに十分な量で使用され得る。あるいは、モル過剰のＡ）又はＢ）を使用してもよい。例えば、出発物質Ａ）とＢ）とのモル比（Ａ／Ｂ比）は、１０／１～１／１０、あるいは２／１～１／２、あるいは１／１．５～１．５／１、あるいは１／１～１．１：１、あるいは１．１／１～１／１であってよい。

【0016】

出発物質Ｃ）は、白金ヒドロシリル化反応触媒である。白金ヒドロシリル化反応触媒は、当該技術分野において公知であり、市販されている。白金ヒドロシリル化反応触媒は、白金金属を含んでいてよく、これは、任意選択で、シリカ、アルミナ、又は活性炭などの担体上に沈着していてもよい。あるいは、白金ヒドロシリル化反応触媒は、白金の化合物、例えば、塩化白金酸（Ｓｐｅｉｅｒ触媒）、塩化白金酸六水和物、又は二塩化白金であってもよい。あるいは、白金ヒドロシリル化反応触媒は、このような化合物と、例えば低分子量オルガノポリシロキサンとの錯体であってもよい。白金と低分子量オルガノポリシロキサンとの錯体としては、１，３－ジエテニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンの白金錯体（Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒）が挙げられる。あるいは、白金ヒドロシリル化反応触媒は、マトリックス又はコアシェル型構造中にマイクロカプセル化された上記の白金化合物又は白金錯体であってもよく、例えば、当該化合物又は錯体は、樹脂マトリックス中でマイクロカプセル化されてもよい。あるいは、白金ヒドロシリル化反応触媒は、塩化白金酸、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒、又は炭素、シリカ、若しくはアルミナから選択される担体上の白金を含んでいてもよい。例示的な白金ヒドロシリル化反応触媒は、例えば、Ｓｐｅｉｅｒの米国特許第２，８２３，２１８号；Ａｓｈｂｙの米国特許第３，１５９，６０１号；Ｌａｍｏｒｅａｕｘの米国特許第３，２２０，９７２号；Ｗｉｌｌｉｎｇの米国特許第３，４１９，５９３号；Ｍｏｄｉｃの米国特許第３，５１６，９４６号；Ｋａｒｓｔｅｄｔの米国特許第３，８１４，７３０号；Ｌｅｅらの米国特許第３，９８９，６６８号；Ｌｅｅらの米国特許第４，７６６，１７６号；Ｌｅｅらの米国特許第４，７８４，８７９号；Ｔｏｇａｓｈｉの米国特許第５，０１７，６５４号；Ｃｈｕｎｇらの米国特許第５，０３６，１１７号；及びＢｒｏｗｎらの米国特許第５，１７５，３２５号；並びにＴｏｇａｓｈｉの欧州特許出願公開第０ ３４７ ８９５（Ａ）号に記載されている。白金ヒドロシリル化反応触媒は、市販されており、例えば、ＳＹＳ－ＯＦＦ（商標）４０００触媒及びＳＹＬ－ＯＦＦ（商標）２７００が、Ｄｏｗ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ，ＵＳＡ）から入手可能である。白金ヒドロシリル化反応触媒は、出発物質Ａ）、Ｂ）、及びＣ）の合計重量に基づいて、５ｐｐｍ～２００ｐｐｍ、あるいは５ｐｐｍ～＜２００ｐｐｍ、あるいは５ｐｐｍ～１００ｐｐｍ、あるいは３５ｐｐｍ～７０ｐｐｍの白金を提供するのに十分な量で使用してよい。

【0017】

上記の方法は、任意選択で、工程３）の際及び／又は後に出発物質Ｄ）、促進剤を添加することを更に含んでいてもよい。ヒドロシリル化反応促進剤は、当該技術分野において公知であり、オレフィン系ニトリルの反応を改善するために適用することもできる。

【0018】

様々なカルボン酸を、本明細書に記載の方法において促進剤として使用することができる。例えば、ネオデカン酸を促進剤として使用してよい。存在する場合、カルボン酸は、＞０：１～１：１、あるいは０．００５：１～０．０２：１のカルボン酸：（ヒドリドシラン＋オレフィン系ニトリル）を提供するのに十分な量で添加してよく、これは以下の理由による：０．００５：１未満の成分比では、生成物の選択性及び生成物の収率に関する効果が不十分になる場合があるが、０．０２：１を超える比では、依然として本発明の有利な効果を生じさせる一方、過剰に材料が失われる場合がある。

【0019】

上記の方法は、任意選択で、Ｅ）溶媒中で上記の出発物質のうちの１つ以上を送達することを更に含んでもよい。例えば、出発物質Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒を溶媒中で送達してもよい。好適な溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、アルキルハロゲン化物、及び芳香族ハロゲン化物によって例示される有機液体が挙げられるが、これらに限定されない。炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ヘキサデカン、イソパラフィン、例えばＩｓｏｐａｒ Ｌ（Ｃ１１～Ｃ１３）、Ｉｓｏｐａｒ Ｈ（Ｃ１１～Ｃ１２）、水添ポリデセンが挙げられる。あるいは、溶媒は、ポリアルキルシロキサン及び芳香族炭化水素、例えば、トルエン、キシレン、又はそれらの組み合わせから選択されてもよい。好適な蒸気圧を有するポリアルキルシロキサンを溶媒として使用してもよく、これらとしては、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、トリス（トリメチルシロキシ）メチルシラン、テトラキス（トリメチルシロキシ）シラン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、ヘプタメチル－３－｛（トリメチルシリル）オキシ）｝トリシロキサン、ヘキサメチル－３，３，ビス｛（トリメチルシリル）オキシ｝トリシロキサンペンタメチル｛（トリメチルシリル）オキシ｝シクロトリシロキサン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。０．５～１．５ｃＳｔのポリジメチルシロキサンなどの低分子量ポリアルキルシロキサンは、当該技術分野において既知であり、Ｄｏｗ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販されているＤＯＷＳＩＬ（商標）２００ Ｆｌｕｉｄｓ及びＤＯＷＳＩＬ（商標）ＯＳ ＦＬＵＩＤＳとして市販されている。

【0020】

溶媒の量は、出発物質Ａ）、Ｂ）、及びＣ）、並びに存在する場合はＤ）の各々の種類及び量、並びに互いの相対的な適合性、並びにそれらを合わせるために使用される機器の種類を含む、様々な要因に応じて異なる。しかしながら、溶媒の量は、出発物質Ｃ）の重量に基づいて、０重量％～９５重量％であってよい。

【0021】

上記の方法では、式Ｒ^１ _ｘＲ^２ＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘ及びＲ^１は、上記で定義されたとおりであり、Ｒ^２は、式Ｎ≡Ｃ－Ｄ－の基であり、Ｄは、二価炭化水素基（例えば、Ｎ≡Ｃ－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－ＣＨ_２－）である）の化合物を含む、生成物を生成する。化合物は、シアノアルキル官能性アルコキシシランであってもよい（すなわち、ＸがＯＲ^１である場合）。（３－シアノブチル）メチルジメトキシシランなどのシアノアルキル官能性アルコキシシランは、例えば、米国特許第８，６５６，５８６号に記載されているように、電気ケーブルを処理するのに有用である。

【0022】

生成物は、未反応の出発物質、触媒、促進剤、及び使用される場合は溶媒を更に含んでいる場合がある。したがって、方法は、任意選択で、生成物から化合物を回収することを更に含んでもよい。回収は、ストリッピング及び／又は蒸留などの任意の好都合な手段によって行ってよい。

【実施例】

【0023】

これらの実施例は、本発明のいくつかの実施形態を説明することを意図しており、本特許請求の範囲に記載された本発明の範囲を限定するかのように解釈するべきではない。これらの実施例で使用した出発物質を表１に記載する。

【0024】

【表1】

【0025】

この比較例１では、２Ｍ３ＢＮ及びメチルジメトキシシランを以下の条件下でヒドロシリル化した。各々長さ１９．７ｃｍ（７．７５インチ）及び直径１．９ｃｍ（３／４インチ）の寸法のガラス管型反応器内で、１．１７ｍＬのメチルジメトキシシラン、１．１９ｍＬの２Ｍ３ＢＮ（メチルジメトキシシランに対して２５％モル過剰）、及び３５μＬのネオデカン酸を用いて、反応混合物を調製した。各管型反応器をドライアイス上で冷却し、次いで、以下の表２にまとめたとおり、異なる管型反応器内において反応混合物中の様々なＰｔ濃度を目標として、１重量％の白金を含有している得られた触媒溶液が添加されるように、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒の溶液をトルエン中に溶解させた。２Ｍ３ＢＮ中のシアン化物不純物濃度は４５ｐｐｍであると測定され、これは１０^６ｍｏｌの２Ｍ３ＢＮ当たり１４０．４ｍｏｌのシアン化物不純物のモル濃度に換算される。異なる量のＰｔ触媒（Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒を希釈するためにトルエン溶媒を使用して１重量％Ｐｔ溶液を作製し、次いで、様々な量の１重量％Ｐｔ溶液を添加した）を使用して、１００℃において１時間の反応時間で、ヒドロシリル化反応を完了した。溶出液をＧＣによって分析し、限定試薬の転化率を表２に示す。この比較例は、Ｐｔ濃度が低下するにつれて転化が著しく妨げられることを示した。

【0026】

この実施例２では、２Ｍ３ＢＮを精製した後ヒドロシリル化したことを除いて、比較例１のヒドロシリル化を繰り返した。比較例１で使用したものと同じ２Ｍ３ＢＮを、Ｃｕ床、続いて、亜炭系活性炭（ＡＣ）に通すことによって精製して、シアン化物不純物含量を減少させた。Ｃｕ及びＡＣの、処理された２Ｍ３ＢＮに対する質量比は３％であった。処理後の２Ｍ３ＢＮのシアン化物不純物濃度は７．３ｐｐｍであると測定され、これは１０^６ｍｏｌの２Ｍ３ＢＮ当たり２２．８ｍｏｌのシアン化物不純物のモル濃度に換算され、８３．８％減少していた。表２は、Ｐｔ濃度が低下した際、限定試薬の高い転化率が維持されたことを示す。

【0027】

この実施例３では、Ｃｕ及びＡＣの床を再利用したことを除いて、実施例２のヒドロシリル化を繰り返した。２Ｍ３ＢＮは、比較例１で使用したものと同じであった。この実施例３で使用した精製２Ｍ３ＢＮは、各々３％のＣｕ／ＡＣの２Ｍ３ＢＮに対する質量比で、実施例２に記載した床に通した材料の第４のアリコートとして得られた。表２は、Ｐｔ濃度が低下した際、転化率が維持されたことを示す。この実施例３は、床を再利用できることを示す。

【0028】

この比較例４では、１．１９ｍＬの２Ｍ３ＢＮの代わりに０．９７ｍＬの３ＢＮを使用したことを除いて、比較例１の反応を繰り返した。３ＢＮ中のシアン化物不純物濃度は２５．６ｐｐｍであると測定され、これは１０＾６ｍｏｌの３ＢＮ当たり６８ｍｏｌのシアン化物のモル濃度に換算される。

【0029】

この実施例５では、使用前に３ＢＮを精製してシアン化物不純物の含量を減少させたことを除いて、比較例４の反応を繰り返した。３ＢＮをＣｕ及びＡＣの床に通すことによって、精製を行った。Ｃｕ及びＡＣの、処理された３ＢＮに対する質量比は３％であった。処理後のシアン化物不純物濃度は５．２ｐｐｍであると測定され、これは１０^６モルの３ＢＮ当たり１３．８モルのシアン化物のモル濃度に換算され、７９．６％減少していた。この実施例５は、Ｐｔ濃度が低下した際であっても、転化率が維持されたことを示した。

【0030】

【表2】

【0031】

この参考例６では、２Ｍ３ＢＮのサンプルを得、シアン化物不純物濃度を低下させるための精製の前後に分析した。金属処理は、使用した場合、活性炭処理と同時に又はその前に行った。金属処理を最初に行った場合、これは、以下の表３において「段階的」と記される。Ｃｕ粉末又はＡｇ粉末（表３に示す量）を未処理の新たな２Ｍ３ＢＮに添加することによって、金属処理を行った。サンプルを１日間激しく振盪し、次いで、０．４５μｍシリンジフィルターで濾過した。活性炭処理を行った場合、濾過した２Ｍ３ＢＮのサンプルに、粉砕した又は粉砕していない、酸性、塩基性、又は中性の木質系活性炭を添加し、サンプルを１日間振盪した。次いで、別の０．４５μｍシリンジフィルターを通してサンプルを濾過した。処理の前後にイオン選択性電極を用いてＣＮ－イオン含量を測定して、濃度の低下を求めた。サンプルを以下の表３にまとめる。

【0032】

【表3】

【0033】

この参考例７では、上記表３の最終行に従って調製された精製２Ｍ３ＢＮ及び比較用の未精製２Ｍ３ＢＮを、以下のヒドロシリル化反応において使用した。窒素の管ヘッドスペースをこれらの実験に使用した。２．５ｍＬのメチルジメトキシシラン、２．５ｍＬの精製２Ｍ３ＢＮ、及び４４μＬのネオデカン酸を、各々長さ１９．７ｃｍ（７．７５インチ）及び直径１．９ｃｍ（３／４インチ）の寸法のガラス管型反応器に添加した。各々の管型反応器をドライアイスで冷却し、次いで、反応混合物中５０ｐｐｍのＰｔを目標として２０μＬの触媒溶液を添加した後、管を８０℃のヒーターブロック上に置いた。触媒溶液は、得られる触媒溶液が１重量％のＰｔを含有するようにキシレンで希釈されたＫａｒｓｔｅｄｔ触媒であった。管をヒーターブロック上に１時間放置し、次いで、ＧＣを用いて反応の進行を測定した。以下の表４に示す結果は、試験した条件下で、段階的処理によって有益な結果が得られたことを示す。

【0034】

【表4】

【0035】

この参考例８では、様々な吸着剤を用いて２Ｍ３ＢＮを精製した後、ヒドロシリル化反応で使用した。精製は以下のとおり行った：液面が吸着剤の高さの直上になるように、吸着剤を５ｍＬの２Ｍ３ＢＮに添加した。得られた混合物を、定期的に振盪しながら５日間浸漬した。その後、０．２μｍのフィルターを用いて吸着剤から液体をシリンジ濾過した。表５に、調製された２Ｍ３ＢＮサンプルをまとめる。

【0036】

【表5】

【0037】

次いで、表５の２Ｍ３ＢＮサンプルを以下のとおりヒドロシリル化反応に使用した：窒素の管ヘッドスペースをこれらの実験に使用した。比較例１と同寸法のガラス管に、１．７５ｍＬのメチルジメトキシシラン、１．３５ｍＬの２Ｍ３ＢＮ、及び２８μＬのネオデカン酸を添加した。各管をドライアイスで冷却し、次いで、反応混合物中２５０ｐｐｍのＰｔを目標として７５μＬの触媒溶液を添加した後、管を８０℃のヒーターブロック上に置いた。触媒溶液は、溶液が１％のＰｔを含有するようにキシレンで希釈したＫａｒｓｔｅｄｔ触媒であった。５時間後、ＧＣ分析を行って反応の進行を測定した。結果を以下の表６に示す。

【0038】

【表6】

【0039】

この参考例８は、銀で２Ｍ３ＢＮを精製するとヒドロシリル化合成の収率が改善したことを示した。活性炭及びモレキュラーシーブで２Ｍ３ＢＮを処理すると、ヒドロシリル化の収率が適度改善された。理論に束縛されるものではないが、８ｃにおける否定的な結果は、金属酸化物及び／又は金属酸化物とシアン化物不純物との錯体による反応の阻害に起因するものであったと考えられる。したがって、シアン化物不純物を除去するために金属酸化物を使用する場合、例えば濾過を介して任意の金属酸化物及び／又はその錯体を除去した後、本明細書に記載の方法の工程３）とすべきであると更に考えられる。

【0040】

この実施例９では、バッチ蒸留とそれに続くヒドロシリル化を介して、２Ｍ３ＢＮからシアン化物不純物を除去した。バッチ蒸留は、１Ｌの３つ口フラスコ及び１０段トレイガラスカラムを用いて行った。水凝縮器を使用して材料を凝縮させ、それを５０ｍＬ受け器で回収した。加熱マントルを使用してフラスコに入熱注入し、撹拌子で混合した。４５０グラムの２Ｍ３ＢＮをフラスコに充填した。フラスコを加熱し、３０．１グラムの材料を１：１の還流比でオーバーヘッド蒸留した。フラスコに残った精製２Ｍ３ＢＮは、シアン化物不純物が５３μｇ／ｍＬから８μｇ／ｍＬに減少していることが見出された。

【0041】

出発２Ｍ３ＢＮ及び精製２Ｍ３ＢＮの両方を、比較のためにヒドロシリル化反応に使用した。ヒドロシリル化反応は半バッチ式で行った。２７０ｇの２Ｍ３ＢＮ、１３．６ｇのネオデカン酸、及び０．４２ｇのＫａｒｓｔｅｄｔ触媒（２４％Ｐｔ）を３つ口フラスコに充填した。３３３．７ｇのメチルジメトキシシランをシリンジポンプに充填した。３０ｇの２Ｍ３ＢＮを１３．６ｇのネオデカン酸と混合し、第２のシリンジポンプに添加した。シリンジポンプの内容物を６時間にわたって計量注入した。反応器内容物の液体温度は８０～８５℃で維持した。ＧＣを使用して、反応の程度を測定した。

【0042】

比較サンプル９－１では、５３μｇ／ｍＬのシアン化物不純物を含有する対照２Ｍ３ＢＮを用いて反応を行った結果、メチルジメトキシシランの転化率は９７．９８％になった。８μｇ／ｍＬのシアン化物不純物を含有する精製２Ｍ３ＢＮを用いて反応を行った結果、メチルジメトキシシランの転化率は９９．９９％になった。

【0043】

蒸留による２Ｍ３ＢＮの精製は、シアン化物不純物濃度を低下させるのに有効であった。精製２Ｍ３ＢＮは、改善されたヒドロシリル化反応性能を有し、残留ＳｉＨが対照よりも９９．５％多く減少した。精製２Ｍ３ＢＮを使用した場合の反応粗製物中のＳｉＨがわずか０．４ｐｐｍであるのに対して、対照２Ｍ３ＢＮを使用した場合、サンプルは反応粗製物中に９６ｐｐｍの残留ＳｉＨを有していた。低レベルのＳｉＨを達成することは、廃棄物を安全に廃棄するために重要である。

【0044】

この実施例１０では、シアン化物不純物含量を減少させ、ヒドロシリル化性能を改善するために、２Ｍ３ＢＮの蒸留を以下のように行った。２５０ｍＬの３つ口フラスコ及び１０段トレイガラスカラムを用いたバッチ蒸留を使用した。水凝縮器を使用して材料を凝縮させ、それを５０ｍＬ受け器で回収した。加熱マントルを使用して３つ口フラスコに熱注入し、撹拌子で混合した。１４８．８ｇのＴＣＩ製２Ｍ３ＢＮをフラスコに充填した。フラスコを１２２℃に加熱し、カラムを１時間全還流下に置いた。次いで、様々な塔頂留分を回収した。

【0045】

様々な蒸留留分を用いてヒドロシリル化反応を行った。窒素の管ヘッドスペースをこれらの実験に使用した。１．０ｍＬのメチルジメトキシシラン、０．８ｍＬの２Ｍ３ＢＮを、比較例１の寸法のガラス管に添加した。管をドライアイス上で冷却し、次いで、反応混合物中１００ｐｐｍのＰｔを目標として触媒溶液を添加した。管を１００℃のヒーターブロック上に２時間置き、次いで、ＧＣを使用して反応の進行を測定した。結果を、以下の表７に示す。

【0046】

【表7】

【0047】

理論に束縛されるものではないが、この実施例９は、２Ｍ３ＢＮを蒸留してヒドロシリル化反応性を改善できることを示したと考えられる。より多量の（より低沸点の）シアン化物不純物を含有していた蒸留の初期の留分は、ヒドロシリル化反応において性能が非常に劣っており、対照よりも更に劣っていた。一方、蒸留の後期の２Ｍ３ＢＮ留分（例えば、留分４～８）は、より少ないシアン化物不純物を含有しており、ヒドロシリル化反応において対照（未蒸留２Ｍ３ＢＮを使用）よりも性能がはるかに良好であった。

【0048】

産業上の利用可能性
本発明者らは、驚くべきことに、シアン化物不純物がオレフィン系ニトリル及びヒドリドシランのヒドロシリル化に対する阻害剤として作用し得ることを見出した。具体的には、シアン化物不純物含量は、白金触媒の活性損失に直接関連することが見出された。オレフィン系ニトリル中のシアン化物不純物の量をわずか１０ｐｐｍ減少させただけで、同じ又はより少ない白金金属含量で限定試薬の転化率が上昇することが見出された。

【0049】

用語の使用
発明の概要及び要約は、参照により本明細書に組み込まれる。全ての量、比、及び百分率は、明細書の文脈により別途指示のない限り、重量によるものである。明細書の文脈により別途指定がない限り、冠詞「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、それぞれ１つ以上を指す。範囲の開示は、その範囲自体及び範囲内に包含される任意のもの、並びに端点を含む。例えば、＞０．３～０．８の範囲の開示には、＞０．３～０．８の範囲だけでなく、個別に０．４、０．５５、０．６、０．７、０．７８、及び０．８、並びにその範囲に包括される任意の他の数値も含まれる。更に、例えば、＞０．３～０．８の範囲の開示には、例えば０．４～０．６、０．３５～０．７８、０．４１～０．７５、０．７８～０．８、０．３２～０．４１、０．３５～０．５、及びその範囲に包括される任意の他のサブセットも含まれる。同様に、マーカッシュ群の開示は、その群全体を含み、そこに包含される任意の個別の要素及び下位群も含む。例えば、ビニル、アリル、又はヘキセニルのマーカッシュ群の開示は、個別にそのメンバーであるビニル；サブグループのビニル及びヘキセニル；並びにそれに包含される任意の他の個々のメンバー及びサブグループを包含する。

【0050】

本明細書で使用する略語は、以下の表８のとおり定義される。

【0051】

【表8】

【0052】

サンプルは、以下の条件下でＧＣによって分析した：
使用したガスクロマトグラフは、水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）においてＲＴＸ－１カラム（３０ｍ×２５０μｍ×１．００μｍ公称）を使用してＣｈｅｍｓｔａｔｉｏｎ ＯｐｅｎＬａｂ ＣＤＳ Ｒｅｖｉｓｉｏｎ Ｃ．０１．０７を実行するＡｇｉｌｅｎｔ ７８９０Ａであった。サンプル注入にはオートサンプラーを使用した。方法のパラメータは以下のとおりであった：
・開始：５０℃－１分保持
・勾配：１５℃／分
・終了：２６０℃－５分保持
・注入ポート：２５０℃
・検出器：３００℃
・ヘリウム流量－２．１ｍＬ／分
・スプリット５０：１
・注入体積：１．０μＬ

【0053】

本発明の実施形態
第１の実施形態では、シアノアルキル官能性シランを調製するための方法は、
１）≧４０ｐｐｍの量のシアン化物不純物を含む、Ａ’）オレフィン系ニトリルを提供することと、
２）Ａ’）当該オレフィン系ニトリルから当該シアン化物不純物の全部又は一部分を除去し、それによってＡ）精製オレフィン系ニトリルを生成することと、
３）２０℃～１５０℃の温度で、
Ａ）当該精製オレフィン系ニトリル、
Ｂ）式Ｒ^１ _ｘＨＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘは、０、１、又は２であり、各Ｒ^１は、独立して選択される１～１８個の炭素原子の一価炭化水素基であり、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子及び式ＯＲ^１のアルコキシ基からなる群から選択される）を有するヒドリドシラン、並びに
Ｃ）出発物質Ａ）、Ｂ）、及びＣ）の合計重量に基づいて５ｐｐｍ～＜２００ｐｐｍのＰｔを提供するのに十分な量の白金ヒドロシリル化反応触媒
を含む、出発物質を合わせることと、
を含む。

【0054】

第２の実施形態では、Ａ’）オレフィン系ニトリルは、３－ブテンニトリル及び２－メチル－３－ブテンニトリルからなる群から選択される。

【0055】

第３の実施形態では、シアン化物不純物は、Ｈ－Ｃ≡Ｎを含む。

【0056】

第４の実施形態では、シアン化物不純物は、Ａ’）オレフィン系ニトリルの重量に基づいて４０ｐｐｍ～２００ｐｐｍで存在する。

【0057】

第５の実施形態では、ヒドリドシランにおいて、ｘは０又は１であり、Ｒ^１はアルキル基であり、Ｘはアルコキシ基である。

【0058】

第６の実施形態では、第５の実施形態に記載のヒドリドシランは、ｘ＝１を有し、Ｒ^１はメチル基であり、各Ｘはメトキシ基である。

【0059】

第７の実施形態では、ヒドリドシランは、メチルトリメトキシシラン及びメチルジメトキシシランからなる群から選択される。

【0060】

第８の実施形態では、白金ヒドロシリル化反応触媒は、塩化白金酸、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒、又は炭素、シリカ、若しくはアルミナから選択される担体上の白金を含む。

【0061】

第９の実施形態では、工程２）は、オレフィン系ニトリルを、銅、鉄、銀、又はニッケルからなる群から選択される単体金属と合わせることを含む。

【0062】

第１０の実施形態では、第９の実施形態に記載の方法は、オレフィン系ニトリルを単体金属と合わせた後に、当該オレフィン系ニトリルを吸着剤と合わせることを更に含む。

【0063】

第１１の実施形態では、第９又は第１０の実施形態に記載の方法では、金属は銅である。

【0064】

第１２の実施形態では、上記実施形態のいずれか１つに記載の方法の工程２）は、オレフィン系ニトリルを、活性炭及びモレキュラーシーブからなる群から選択される吸着剤と接触させることを含む。

【0065】

第１３の実施形態では、第１～第８の実施形態のいずれか１つに記載の方法は、オレフィン系ニトリルを、銅、鉄、銀、及びニッケルからなる群から選択される金属の酸化物と接触させることを含む。

【0066】

第１４の実施形態では、上記実施形態のいずれか１つに記載の方法は、工程２）において濾過し、精製オレフィン系ニトリルを調製することを更に含む。

【0067】

第１５の実施形態では、上記実施形態のいずれか１つに記載の方法の工程２）は、ストリッピング、蒸留、又はこれらの組み合わせを更に含む。

【0068】

第１６の実施形態では、工程２）で生成された精製オレフィン系ニトリルは、０ｐｐｍのシアン化物不純物を含有する。

【0069】

第１７の実施形態では、工程２）で生成された精製オレフィン系ニトリルは、５～４０ｐｐｍのシアン化物不純物を含有し、但し、当該精製オレフィン系ニトリルは、工程１）で提供されたオレフィン系ニトリルよりも少ないシアン化物不純物を含有する。

【0070】

第１８の実施形態では、上記実施形態のいずれか１つに記載の方法は、工程３）の際及び／又は後にＤ）促進剤を添加することを更に含む。

【0071】

第１９の実施形態では、上記実施形態のいずれか１つに記載の方法は、溶媒中で１つ以上の出発物質を送達することを更に含む。

【0072】

第２０の実施形態では、上記実施形態のいずれか１つに記載の方法は、式Ｒ^１ _ｘＲ^２ＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘ及びＲ^１は、上で定義されたとおりであり、Ｒ^２は、式Ｎ≡Ｃ－Ｄ－の基であり、Ｄは、二価炭化水素基である）の化合物を含む、生成物を生成する。

【手続補正書】

【提出日】2023-03-15

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

方法であって、
１）式Ｘ’－Ｃ≡Ｎ（式中、Ｘ’は、水素、ナトリウム、又はカリウムである）のシアン化物不純物を含む、Ａ’）オレフィン系ニトリルを提供することと、
２）Ａ’）前記オレフィン系ニトリルから前記シアン化物不純物の全部又は一部分を除去し、それによってＡ）精製オレフィン系ニトリルを生成することであって、工程２）が、
Ａ’）前記オレフィン系ニトリルと、銅、鉄、銀、若しくはニッケルからなる群から選択される単体金属とを合わせること、又は
Ａ’）前記オレフィン系ニトリルと、活性炭及びモレキュラーシーブからなる群から選択される吸着剤とを合わせること、又は
Ａ’）前記オレフィン系ニトリルを、銅、鉄、銀、若しくはニッケル、又はこれらの金属の酸化物からなる群から選択される金属に合わせ、その後、生成物と吸着剤とを合わせて、Ａ）前記精製オレフィン系ニトリルを形成すること
のうちの１つ以上を含む、生成することと、
３）２０℃～１５０℃の温度で、
Ａ）前記精製オレフィン系ニトリル、
Ｂ）式Ｒ^１ _ｘＨＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘは、０、１、又は２であり、各Ｒ^１は、独立して選択される１～１８個の炭素原子の一価炭化水素基であり、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子及び式ＯＲ^１のアルコキシ基からなる群から選択される）を有するヒドリドシラン、並びに
Ｃ）出発物質Ａ）、Ｂ）、及びＣ）の合計重量に基づいて５ｐｐｍ～＜２００ｐｐｍのＰｔを提供するのに十分な量の白金ヒドロシリル化反応触媒
を含む、出発物質を合わせることと、
を含む、方法。

【請求項2】

Ａ’）前記オレフィン系ニトリルが、３－ブテンニトリル及び２－メチル－３－ブテンニトリルからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

Ａ’）において、前記シアン化物不純物が、２５ｐｐｍ～１２５ｐｐｍのＨ－Ｃ≡Ｎを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項4】

Ｂ’前記ヒドリドシランが、０又は１であるｘ、アルキル基であるＲ^１、及びアルコキシ基であるＸを有する、請求項１に記載の方法。

【請求項5】

ｘ＝１であり、Ｒ^１がメチル基であり、各Ｘがメトキシ基である、請求項４に記載の方法。

【請求項6】

前記白金ヒドロシリル化反応触媒が、塩化白金酸、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒、又は炭素、シリカ、若しくはアルミナから選択される担体上の白金を含む、請求項１に記載の方法。

【請求項7】

工程２）が、ストリッピング、蒸留、又はこれらの組み合わせを更に含む、請求項１に記載の方法。

【請求項8】

工程２）で生成されたＡ）前記精製オレフィン系ニトリルが、０ｐｐｍのシアン化物不純物から、工程１）で提供されたＡ’）前記オレフィン系ニトリルよりも少なくとも１０ｐｐｍ少ないシアン化物不純物までを含有する、請求項１に記載の方法。

【請求項9】

Ａ）前記精製オレフィン系ニトリルが、５ｐｐｍ～４０ｐｐｍのシアン化物不純物を含有する、請求項１１に記載の方法。

【請求項10】

工程３）の際及び／又は後にＤ）促進剤を添加することを更に含む、請求項１～１２のいずれか一項に記載の方法。

【請求項11】

溶媒中で１つ以上の出発物質を送達することを更に含む、請求項１に記載の方法。

【請求項12】

式Ｒ^１ _ｘＲ^２ＳｉＸ_{（３－ｘ）}（式中、下付き文字ｘ及びＲ^１は、上で定義された通りであり、Ｒ^２は、式Ｎ≡Ｃ－Ｄ－の基であり、Ｄは、二価炭化水素基である）の化合物を含む生成物を生成する、請求項１に記載の方法。

【国際調査報告】