特表 2023-542959 フィルタ除塵機能を有する排出ガス中の粉体の収集装置及びこれを備えた排出ガス処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2023-10-12

(54)【発明の名称】フィルタ除塵機能を有する排出ガス中の粉体の収集装置及びこれを備えた排出ガス処理装置

(51)【国際特許分類】

   B01D 46/76 20220101AFI20231004BHJP

   B01D 46/00 20220101ALI20231004BHJP

   B01D 53/38 20060101ALI20231004BHJP

   H01L 21/31 20060101ALI20231004BHJP

【ＦＩ】

B01D46/76

B01D46/00 F

B01D53/38 110

H01L21/31 B

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023518430

(86)(22)【出願日】2021-09-21

(85)【翻訳文提出日】2023-03-22

(86)【国際出願番号】 IB2021058595

(87)【国際公開番号】W WO2022064361

(87)【国際公開日】2022-03-31

(31)【優先権主張番号】10-2020-0123451

(32)【優先日】2020-09-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】522069345

【氏名又は名称】シーエスケイ インコーポレイテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100103610

【弁理士】

【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100098475

【弁理士】

【氏名又は名称】倉澤 伊知郎

(74)【代理人】

【識別番号】100130937

【弁理士】

【氏名又は名称】山本 泰史

(74)【代理人】

【識別番号】100144451

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 博子

(74)【代理人】

【識別番号】100170634

【弁理士】

【氏名又は名称】山本 航介

(72)【発明者】

【氏名】キム ジンホン

(72)【発明者】

【氏名】カン ミョンフン

【テーマコード（参考）】

4D002

4D058

5F045

【Ｆターム（参考）】

4D002AA40

4D002BA04

4D002BA14

4D002DA70

4D002EA01

4D002EA03

4D058JA02

4D058LA01

4D058LA07

4D058MA06

4D058SA20

4D058TA02

4D058UA25

5F045BB08

5F045EG07

5F045EG08

(57)【要約】

本発明に提供されるのは、排出ガス中の粉体の収集装置であって、上記粉体の収集装置が、吸着反応を利用して排出ガスを処理する円筒形吸着反応装置内に排出ガスを導入する前に、前記排出ガス中に含まれる粉体の収集装置を備え、円筒形フィルタ本体が排出ガスをフィルタ処理するフィルタ部材を含み、吸着反応装置に接続されるように吸着反応装置の下方に配置され、フィルタ本体を収容するための内部空間を提供するハウジングと、フィルタ本体に物理的な衝撃を与えてフィルタ部材に付着した粉体を除去するフィルタ打撃モジュールと、を備える。
【選択図】図６

【特許請求の範囲】

【請求項1】

吸着反応を利用して排出ガスを処理する円筒形吸着反応装置内に前記排出ガスを導入する前に、前記排出ガス中に含まれる粉体の収集装置であって、
前記排出ガスをフィルタ処理するフィルタ部材を含み、前記吸着反応装置に接続されるように前記吸着反応装置の下方に配置される円筒形フィルタ本体と、
前記フィルタ本体を収容するための内部空間を提供するハウジングと、
前記フィルタ本体に物理的な衝撃を与えて前記フィルタ部材に付着した粉体を除去するフィルタ打撃モジュールと、
を備え、
前記フィルタ打撃モジュールは、前記ハウジングの外側に設置された動作ユニットと、前記内部空間において前記フィルタ本体を打撃するように前記動作ユニットによって動作するリンク構造と、を含み、
前記リンク構造は、前記内部空間に配置されるレバーユニットと、前記レバーユニットと前記動作ユニットとを接続する接続ロッドと、を含み、
前記レバーユニットは、前記内部空間のフロアに接触する支持体と、前記支持体から延びて前記接続ロッドにヒンジ結合される第１の延長ロッドと、前記支持体から前記第１の延長ロッドと反対側に延びる第２の延長ロッドと、を含み、
前記第２の延長ロッドの端部は、前記フィルタ本体の下方に位置し、
前記第１の延長ロッドの端部が、前記動作ユニットの動作により前記支持体に対して降下し、前記第２の延長ロッドの端部は上昇して前記フィルタユニットを下方から打撃する、粉体の収集装置。

【請求項2】

複数の前記第２の延長ロッドが一列に並んで配置されている、請求項１に記載の粉塵の収集装置。

【請求項3】

前記リンク構造は更に、前記第２の延長ロッドの端部にヒンジ結合された打撃部材を含み、複数の打撃ユニットが、前記打撃部材に相互に離間して形成され、ヒンジを介して回転軸の半径方向に配置される、請求項１に記載の集塵用装置。

【請求項4】

吸着反応を利用して排出ガスを処理する円筒形吸着反応装置に前記排出ガスを導入する前に、前記排出ガス中に含まれる粉体の収集装置であって、
前記排出ガスをフィルタ処理するフィルタ部材を含み、前記吸着反応装置に接続されるように前記吸着反応装置の下方に配置される円筒形フィルタ本体と、
前記フィルタ本体を収容するための内部空間を提供するハウジングと、
前記フィルタ本体に物理的な衝撃を与えて前記フィルタ部材に付着した粉体を除去するフィルタ打撃モジュールと、
を備え、
前記フィルタ打撃モジュールは、前記ハウジングの外側に設置された動作ユニットと、前記内部空間において前記フィルタ本体を打撃するように前記動作ユニットによって動作するリンク構造と、を含む、
前記リンク構造は、前記内部空間に配置されるレバーユニットと、前記レバーユニットと前記動作ユニットとを接続する接続ロッドと、を含み、
前記レバーユニットは、支持脚部と、前記支持脚部に回転可能に結合されたレバーとを含み、
前記レバーの一端部は、前記接続ロッドにヒンジ結合され、前記レバーの他端部は、前記フィルタユニットの下方に位置し、
前記動作ユニットの動作により、前記レバーの一端が降下し、前記レバーの他端が上昇して、前記フィルタ本体を下方から打撃する、粉体の収集装置。

【請求項5】

前記接続ロッドが、垂直方向に延びるように配置されており、
前記接続ロッドの下部が、前記第１の延長ロッドの端部にヒンジ結合され、
前記動作ユニットにより、前記接続ロッドが垂直方向に沿って移動する、
請求項１～請求項３の何れか１項に記載の排出ガス中の粉体の収集装置。

【請求項6】

吸着反応を利用して排出ガスを処理する円筒形吸着反応装置内に前記排出ガスを導入する前に、前記排出ガス中に含まれる粉体の収集装置であって、
前記排出ガスをフィルタ処理するフィルタ部材を含み、前記吸着反応装置に接続されるように前記吸着反応装置の下方に配置される円筒形フィルタ本体と、
前記フィルタ本体を収容するための内部空間を提供するハウジングと、
前記フィルタ本体に物理的な衝撃を与えて前記フィルタ部材に付着した粉体を除去するフィルタ打撃モジュールと、
を備え、
前記フィルタ打撃モジュールは、前記ハウジングの外側に設置された動作ユニットと、前記内部空間において前記フィルタ本体を打撃するように前記動作ユニットによって動作するリンク構造と、を含み、
前記動作ユニットは、前記ハウジングに形成されたポートに設置され、
前記動作ユニットは、前記ポートに結合されるポートカプラと、前記ポートカプラから離間して配置されて前記リンク構造に結合される圧力プレートと、を含み、
前記ポートカプラと前記圧力プレートとを接続する弾性チューブを含み、
前記圧力プレートが、前記ポートカプラまでの距離が変化するように移動することを可能にし、
前記弾性チューブは、前記圧力プレートと前記ポートカプラが互いに離れて移動する方向に弾性を提供する、
ことを特徴とする、粉体の収集装置。

【請求項7】

吸着反応を利用して排出ガスを処理する円筒形吸着反応装置と、
前記吸着反応装置内に前記排出ガスを導入する前に、前記排出ガス中に含まれる粉体を収集する前記排出ガス中の粉体収集装置と、
を更に備えた排出ガス処理装置であって、
前記排出ガス中の粉体収集装置が、請求項１～４及び６の何れか１項に記載の排出ガス中の粉体の収集装置である、ことを特徴とする、排出ガス処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体製造プロセスにおける排出ガスの処理技術に関し、より詳細には、排出ガス中に含まれる粉体の収集装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスは、フォトリソグラフィ、エッチング、拡散、金属蒸着などのプロセスをプロセスチャンバ内でウェハー上で繰り返し行うことにより製造される。半導体製造プロセスの間では、様々なプロセスガスが使用され、プロセス完了後のプロセスチャンバ内には残留ガスが存在する。プロセスチャンバ内の残留ガスには有害成分が含まれているので、真空ポンプにより吐出されて、スクラバーなどの排出ガス処理装置により浄化される。排出ガス中には粉体が存在するが、排出ガス中の粉体は、プロセスチャンバにおいて発生した副産物であるか、プロセスチャンバからの残留ガスが排出ラインを通じて吐出される過程で、温度及び圧力の変化に起因して排出ガス中に含まれる何らかの成分が固化したときに形成される。排出ガス中の粉体は、排出ラインに蓄積して流路を詰まらせることがあるため、排出ライン上に設置された粉体収集装置を通じて収集される。

【0003】

粉体収集装置は、通常、フィルタを用いて粉体を収集するが、時間の経過と共にフィルタの表面に粉体が付着し、これにより差圧の上昇を引き起こす。従って、フィルタの表面に付着した粉体を除去するために、定期的に除塵作業を行う必要がある。従来、一般的な除塵方法は、ガスの流れと逆方向に高圧ガスを噴射して、フィルタ表面に付着している粉体を除去することを含むが、この除塵方法は、高圧ガスを噴射した後、フィルタ内部の流体の流れが止まるか又は有意に低下する。従って、排出ガス処理プロセスの全体の流れに悪影響を及ぼす。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】大韓民国登録特許第１０－１８０６１７０号明細書（「Ｄｒｙ Ｓｃｒｕｂｂｅｒ」 （０７．１２．２０１７））

【特許文献2】大韓民国公開特許１０－２００３－００６３７８６号明細書（「Ｅｆｆｌｕｅｎｔ Ｇａｓ Ｄｒｙ Ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ａｐｐａｒａｔｕｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ」 （３１．０７．２００３））

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の目的は、経済的で安定したフィルタ除塵機能を有する排出ガス中の粉体の収集装置及びこれを備えた排出ガス処理装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の目的を達成するために、本発明で提供されるのは、排出ガス中の粉体の収集装置であって、上記粉体の収集装置が、吸着反応を利用して排出ガスを処理する円筒形吸着反応装置内に排出ガスを導入する前に、前記排出ガス中に含まれる粉体の収集装置を備え、円筒形フィルタ本体が排出ガスをフィルタ処理するフィルタ部材を含み、吸着反応装置に接続されるように吸着反応装置の下方に配置され、フィルタ本体を収容するための内部空間を提供するハウジングと、フィルタ本体に物理的な衝撃を与えてフィルタ部材に付着した粉体を除去するフィルタ打撃モジュールと、を備える。

【0007】

（発明の効果）
本発明の上述の目的は、本発明の手段によって全て達成することができる。具体的には、リンク構造を用いてフィルタを直接打撃し、フィルタに付着した粉体を除去することにより、フィルタ圧力を効果的に低減することができる。

【0008】

また、フィルタ打撃構造として比較的簡単な構造のリンク構造を用いることにより、本方法は、誤作動の可能性が低い経済的である。

【0009】

また、フィルタを下から打撃することにより、フィルタに対する損傷を最小限に抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の第１の実施形態による粉体収集装置を備えた排出ガス処理装置の斜視図である。

【図2】図１に示された粉体収集装置の側面図である。

【図3】図１に示された粉体収集装置の平面図である。

【図4】図１に示された粉体の収集装置の正面図である。

【図5】図２のＡ－Ａ’線に沿ってハウジングを切断して内部を露出させた、図１に示された粉体収集装置を示す図である。

【図6】図３のＢ－Ｂ’線に沿ってハウジングを切断して内部を露出させた、図１に示された粉体収集装置を示す図である。

【図7】図６に示されたフィルタ打撃モジュールを描いた斜視図である。

【図8】図６に示されたフィルタ打撃モジュールの異なる実施形態を描いた斜視図である。

【図9】図６に示されたフィルタ打撃モジュールの他の実施形態を描いた斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の一実施形態の構成及び動作について、図面を参照しながら詳細に説明する。

【0012】

図１は、本発明の一実施形態による排出ガス処理装置を示す斜視図である。図１を参照すると、本発明の第１の実施形態による排出ガス処理装置（１００）は、フィルタを用いて排出ガス中の粉体を収集する粉体収集装置（１１０）と、粉体収集装置（１１０）から吐出された排出ガスを吸着反応を利用して処理する吸着反応装置（１９０）とを備える乾式スクラバーの１種である。

【0013】

粉体収集装置（１１０）は、フィルタを通して排出ガスをフィルタ処理し、排出ガス中に含まれる粉体を収集する。粉体収集装置（１１０）から吐出される排出ガスは、吸着反応装置（１９０）に供給される。

【0014】

図１～図６を参照すると、粉体収集装置（１１０）は、ハウジング（１２０）と、ハウジング（１２０）の内部に位置するように設置されたフィルタモジュール（１５０）と、ハウジング（１２０）に設置されたフィルタ打撃モジュール（１６０）とを備える。

【0015】

ハウジング（１２０）は、フィルタ設置ユニット（１３０）と、フィルタ設置ユニット（１３０）から拡張する形態の拡張ユニット（１４０）とを備える。ハウジング（１２０）の内部空間は、収集された粉体を貯蔵する粉体貯蔵空間を形成する。

【0016】

フィルタ設置ユニット（１３０）は、略円筒形であり、フィルタモジュール（１５０）が内部に配置される隆起した円筒形フィルタ設置空間（１３１）を提供する。円筒形のフィルタ設置空間（１３１）の中心軸（Ｘ）は、垂直方向に延びている。フィルタ設置ユニット（１３０）は、ベースフロアプレート（１３２）と、ベースフロアプレート（１３２）から上方に延びるベース側壁（１３５）とを備えている。ベースフロアプレート（１３２）は、水平方向に配置される略平坦な円形であり、ベースフロアプレート（１３２）の上面は、フィルタ設置空間（１３１）のフロアを形成する。フィルタモジュール（１５０）は、フィルタ設置空間（１３１）からベースフロアプレート（１３２）の中央部に配置される。ベース側壁（１３５）は、ベースフロアプレート（１３２）の縁部から上方に延び、フィルタ設置空間（１３１）の側壁を形成する。ベース側壁（１３５）の上側内部領域は開放されており、フィルタ設置空間（１３１）と外側部分とが連通する開口部（１３７）を形成する。オペレータは、フィルタモジュール（１５０）の取り付け又は取り外しのために、開口部（１３７）を介して外部からフィルタ設置空間（１３１）にアクセスすることができる。また、開口部（１３７）は、吸着反応装置（１９０）が粉体収集装置（１１０）に結合されるプロセスにおいて適切にシールすることができる。

【0017】

拡張ユニット（１４０）は、フィルタ設置ユニット（１３０）の側面の一部から側方に突出するように拡張するよう形成されている。拡張ユニット（１４０）は、内部でフィルタ設置空間（１３１）と連通する拡張空間（１４１）を形成する。拡張空間（１４１）は、円筒形のフィルタ設置空間（１３１）から中心軸（Ｘ）に対して半径方向に部分的に拡張するように形成されている。拡張空間（１４１）は、フィルタ設置空間（１３１）と共に、ハウジング（１２０）の内部空間を形成している。拡張ユニット（１４０）は、拡張フロアプレート（１４２）と、拡張フロアプレート（１４２）から離間して上方にある上側拡張プレート（１４５）と、拡張フロアプレート（１４２）と上側拡張プレート（１４５）とを接続する拡張側壁（１４７）とを備えている。収集される粉体の量は、拡張ユニット（１４０）によって形成される拡張空間（１４１）によって増加するので、粉体収集装置（１１０）の使用時間を延長することができる。

【0018】

拡張フロアプレート（１４２）は、平坦であるように配置され、フィルタ設置ユニット（１３０）のベースフロアプレート（１３２）に接合される。拡張フロアプレート（１４２）は、ベースフロアプレート（１３２）と一体的に形成されることが好ましい。拡張フロアプレート（１４２）は、円筒形のベースフロアプレート（１３２）の半円弧から外側に拡張している。拡張フロアプレート（１４２）の上面は、拡張空間（１４１）のフロアを形成する。ベースフロアプレート（１３２）の上面と拡張フロアプレート（１４２）の上面とは、ハウジング（１２０）の内部空間全体のフロアを形成するように、平坦であるように接続されている。

【0019】

上側拡張プレート（１４５）は、拡張フロアプレート（１４２）から離間して上方にあり、互いに対向するように配置され、拡張フロアプレート（１４２）と実質的に同じ形状である。上側拡張プレート（１４５）は、平坦であり、ベース側壁（１３５）から外側に拡張する。上側拡張プレート（１４５）は、拡張空間（１４１）の天井を形成する。上側拡張プレート（１４５）は、フィルタ打撃モジュール（１６０）を設置するための設置ポート（１４６）を形成する。

【0020】

拡張側壁（１４７）は、垂直壁であり、拡張空間（１４１）の側壁を形成する。拡張側壁（１４７）の下端は、拡張フロアプレート（１４２）の縁部に接続され、拡張側壁（１４７）の上端は、上側拡張プレート（１４５）の縁部に接続し、拡張側壁（１４７）の円周方向の両端はベース側壁（１３５）に接続されている。拡張側壁（１４７）は、互いに対面する第１の延長壁ユニット（１４８ａ）及び第２の延長壁ユニット（１４８ｂ）と、２つの延長壁ユニット（１４８ａ、１４８ｂ）を接続する接続壁ユニット（１４８ｃ）とを含む。

【0021】

第１の延長壁ユニット（１４８ａ）は、ベース側壁（１３５）から延びるように形成され、拡張側壁（１４７）の円周方向に沿って直線状に延びる。第１の延長壁ユニット（１４８ａ）の円周方向の一端は、ベース側壁（１３５）に対する接平面を構成して接続し、円周方向の他端は、接続壁（１４８ｃ）に接続している。第１の延長壁ユニット（１４８ａ）の内壁は、拡張側壁（１４７）の内壁と接平面を構成し接合される。

【0022】

第２の延長壁ユニット（１４８ｂ）は、第１の延長壁ユニット（１４８ａ）に面し、これらは互いに平行となるように配置される。第２の延長壁ユニット（１４８ｂ）は、ベース側壁（１３５）から延び、拡張側壁（１４７）の円周方向に沿って直線状に延びる。第２の延長壁ユニット（１４８ｂ）の円周方向の一端は、ベース側壁（１３５）に対する接平面を構成して接合され、円周方向の他端は、接続壁ユニット（１４８ｃ）に接続される。第２の延長壁ユニット（１４８ｂ）の内壁は、拡張側壁（１４７）の内壁に対する接平面を構成し接合される。

【0023】

接続壁ユニット（１４８ｃ）は、拡張側壁（１４７）の円周方向に沿ってフィルタ設置ユニット（１３０）から突出した湾曲形状で延びている。接続壁ユニット（１４８ｃ）の円周方向の両端部は各々、第１の延長壁ユニット（１４８ａ）及び第２の延長壁ユニット（１４８ｂ）に対する接平面を構成し接合される。本実施形態では、接続壁（１４８ｃ）が拡張側壁（１４７）の円周方向に沿って半円弧状に延びる態様を記載している。第１の延長壁ユニットの内壁（１４８ａ）及び第２の延長壁ユニットの内壁（１４８ｂ）は、接続壁（１４８ｃ）の内壁に対する接線壁を構成している。

【0024】

ハウジング（１２０）の内部空間と連通するガス吸入パイプ（１４９）は、接続壁ユニット（１４８ｃ）に接続される。処理すべき排出ガスは、ガス吸入パイプ（１４９）を通じてハウジング（１２０）の内部空間に導入される。ガス吸入パイプ（１４９）は、水平方向に直線的に延び、接続壁ユニット（１４８ｃ）の接線方向に延びるように配置される。ガス吸入パイプ（１４９）は、接続壁ユニット（１４８ｃ）から、フィルタ設置ユニット（１３０）と最も遠い箇所に接続され、接続壁ユニット（１４８ｃ）の両側まで延びる。ガス吸入パイプ（１４９）の両端は開口しており、第１及び第２のガス吸入ポート（１４９ａ，１４９ｂ）が、ガス吸入パイプ（１４９）の両端に形成されている。第１のガス吸入ポート（１４９ａ）又は第２のガス吸入ポート（１４９ｂ）のうちガス供給部の長さを短縮できる１つが選択されてガス吸入ポートとして使用される。残りのポートには圧力計、安全バルブなどを設置して、プロセス動作の安全性を確保することができる。図５は、２つのガス吸入ポート（１４９ａ、１４９ｂ）のうち、ガス吸入ポートとして第２のガス吸入ポート（１４９ｂ）が選択された場合の破線矢印で示されるハウジング（１２０）内部のガスの流れを示す。図５を参照すると、第２のガス吸入ポート（１４９ｂ）を通ってハウジング（１２０）の内部空間に流入した排出ガスは、ベース壁（１３５）及び接続壁ユニット（１４８ｃ）の第１の延長壁ユニット（１４８ａ）に沿ってフィルタモジュール（１５０）の近傍まで均一に流れる。ハウジング（１２０）の内部空間から排出ガスが流れると、排出ガスに含まれる粉体のうち比較的重い物質が自重で落下し、ハウジング（１２０）の内部空間に蓄積される。

【0025】

排出ガス処理装置（１００）の移動を容易にするために、ハウジング（１２０）の内部には複数のホイール（１２９）が設置されている。

【0026】

フィルタモジュール（１５０）は、ハウジング（１２０）のフィルタ設置空間（１３１）に設置される。フィルタモジュール（１５０）は、フィルタを含むフィルタ本体（１５１）と、フィルタ本体（１５１）を支持する複数の支持脚部（１５８）とを含む。

【0027】

フィルタ本体（１５１）は、ハウジング（１２０）の内部空間に導入された排出ガスをフィルタを用いてフィルタ処理し、吸着反応装置（１９０）に供給する。フィルタ本体（１５１）は、ほぼ直立した円筒体であり、円筒形のフィルタ設置空間（１３１）と同軸上に配置される。フィルタ本体（１５１）は、下部プレート部材（１５２）、上部プレース部材（１５３）、及びフィルタ部材（１５４）を含む。フィルタ本体（１５１）は、フィルタ設置空間（１３１）のフロアから離間して配置される。

【0028】

下部プレート部材（１５２）は、平坦な円形プレート形状であり、水平に配置される。

【0029】

上部プレート部材（１５３）は、平坦な円形プレート形状であり、下部プレート部材（１５２）の上方に離間して水平方向に配置されている。上部プレート部材（１５３）の中央には、フィルタ処理された排出ガスが吐出される出口（１５３ａ）がある。出口（１５３ａ）は、中心軸（Ｘ）上に配置されている。フィルタ本体（１５１）と吸着反応装置（１９０）は、出口（１５３ａ）を介して連通する。

【0030】

フィルタ部材（１５４）は、下部プレート部材（１５２）と上部プレート部材（１５３）との間に配置され、そこに導入される排出ガスをフィルタ処理する。図示されていないが、中心部に近づくほど連続的なフィルタ処理を実現するために、複数のフィルタ部材（１５４）を半径方向に沿って設置することができる。フィルタ部材（１５４）の表面に付着した粉体は、フィルタ打撃モジュール（１６０）によって取り外されて除去することができる。

【0031】

複数の支持脚部（１５８）の各々は、フィルタ本体（１５１）から下方に延び、フィルタ本体（１５１）をフィルタ設置空間（１３１）のフロアから分離するようにする。

【0032】

フィルタ打撃モジュール（１６０）は、フィルタ本体（１５１）に物理的な衝撃を加えて、フィルタ部材（１５４）の表面に付着した粉体を取り外して除去し、フィルタの除塵機能を実施する。図７は、フィルタ打撃モジュール（１６０）の斜視図である。図１～図７を参照すると、フィルタ打撃モジュール（１６０）は、動作ユニット（１８０）と、動作ユニット（１８０）に接続されるリンク構造（１７０）とを含む。

【0033】

動作ユニット（１８０）は、オペレータによって動作されるように、ハウジング（１２０）の外側に設置される。具体的には、動作ユニット（１８０）は、ハウジング（１２０）の上側拡張プレート（１４５）に形成される設置ポート（１４６）に設置される。動作ユニット（１８０）は、圧力プレート（１８１）と、ポートカプラ（１８３）と、圧力プレート（１８１）とポートカプラ（１８３）との間に結合された可撓性チューブ（１８５）とを含む。

【0034】

圧力プレート（１８１）は、設置ポート（１４６）の上方で離間して配置されるように位置付けられる。可撓性チューブ（１８５）及びリンク構造（１７０）は、圧力プレート（１８１）に接続される。オペレータは、圧力プレート（１８１）を押下して移動させることにより、リンク構造体（１７０）を動作することができる。

【0035】

ポートカプラ（１８３）は、圧力プレート（１８１）から離間して下方に配置され、上部拡張プレート（１４５）に形成された設置ポート（１４６）にシール結合される。可撓性チューブ（１８５）は、ポートカプラ（１８３）に結合される。

【0036】

可撓性チューブ（１８５）は、垂直方向に離間して配置されたポートカプラ（１８３）と圧力プレートとの間に垂直方向に延びている。可撓性チューブ（１８５）の上端は、圧力プレート（１８１）に接続され、可撓性チューブ（１８５）の下端は、ポートカプラ（１８３）に接続される。可撓性チューブ（１８５）は、圧力プレート（１８１）とポートカプラ（１８３）とが互いに離れる方向に弾性力を与える。圧力プレート（１８１）は、これにかかる外力によって初期位置から下方に移動した後、外力が除去されると、可撓性チューブ（１８５）の弾性力によって上方に移動して初期位置に戻る。本実施形態の説明において、可撓性チューブ（１８５）には従来のベローズが使用されている。可撓性チューブ（１８５）の内部空間は、上側拡張プレート（１４５）に形成された設置ポート（１４６）を介してハウジング（１２０）の内部空間と連通し、可撓性チューブ（１８５）の内部空間は外部に対してシールされている。

【0037】

リンク構造（１７０）は、レバーユニット（１７８）と、レバーユニット（１７８）と圧力プレート（１８１）とを接続する接続ロッド（１７１）とを含む。

【0038】

レバーユニット（１７８）は、ハウジング（１２０）の内部空間に配置される。レバーユニット（１７８）は、支持体（１７４）と、支持体（１７４）から延びる第１の延長ロッド（１７３）と、支持体（１７４）から延びる複数の第２の延長ロッド（１７５）とを含む。支持体（１７４）、第１の延長ロッド（１７３）、及び複数の第２の延長ロッド（１７５）は、一体的に形成されている。

【0039】

支持体（１７４）は、ハウジング（１２０）の内部空間においてフロアと接触し、フィルタ本体（１５１）と設置ポート（１４６）との間に配置される。支持体（１７４）は、円形パイプ形状であり、フィルタ本体（１５１）の幅方向に沿って水平方向に延びるように配置される。

【0040】

第１の延長ロッド（１７３）は、支持体（１７４）から設置ポート（１４５）に向かって延びるように形成されている。第１の延長ロッド（１７３）の端部は、接続ロッド（１７１）に対して第１のヒンジ（１７２）によって第１の回転軸（Ｘ１）の周りに回転可能に結合される。第１の回転軸（Ｘ１）は、支持体（１７４）の延長方向と平行に延びる直線である。動作ユニット（１８０）の圧力プレート（１８１）がその初期位置にあるとき、第１の延長ロッド（１７３）は、支持体（１７４）から設置ポート（１４６）に向かって移動して上方に向かうように傾斜して延びる。これは、第１の延長ロッド（１７３）の端部が下方に移動できるように、十分な距離を確保するためである。

【0041】

複数の第２の延長ロッド（１７５）は、支持体（１７４）から第１の延長ロッド（１７３）とは反対側にあるフィルタ本体（１５１）に向かって延びるように形成されている。複数の第２の延長ロッド（１７５）は、互いに離間しながら、フィルタ本体（１５１）の幅方向に沿って順に横並びで配置されている。本実施形態では、３つの第２の延長ロッド（１７５）があるとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、第２の延長ロッド（１７５）は１、２、４又はそれよりも多く存在することができ、これもまた本発明の範囲内である。複数の第２の延長ロッド（１７５）の各端部は、フィルタ本体（１５１）の下方に位置し、これら複数の第２の延長ロッド（１７５）は、第１の延長ロッド（１７３）と１８０度未満の角度を形成する。複数の第２の延長ロッド（１７５）の各々は、端部にて曲げられて上方に延びる打撃ユニット（１７６）を有して形成されている。打撃ユニット（１７６）の端部は、上方に移動してフィルタ本体（１５１）の下部を打撃する。

【0042】

吸着反応装置（１９０）は、粉体収集装置（１１０）から吐出される排出ガスを吸着反応を利用して処理する。吸着反応装置（１９０）は、粉体収集装置（１１０）の上部に結合され、粉体収集装置（１１０）のハウジング（１２０）に形成された開口部（１３７）を閉鎖するようにする。図示されていないが、処理されるガス成分を排出ガスから吸着するための吸着剤から作られている吸着層が、吸着反応装置（１９０）の内部に形成されており、吸着層は粉体収集装置（１１０）の出口（１５３ａ）と連通している。吸着反応装置（１９０）は、複数のガスを吸着して処理されるように、異なるタイプの吸収剤で作られた複数の吸着層を含むことができる。吸着反応装置（１９０）は、略円筒形であり、直立した形態でフィルタ本体（１５１）と同軸に配置される。吸着反応装置（１９０）の側壁（１９３）は、ハウジング（１３０）のベース壁（１３５）の垂直方向に沿って形成され、単一の円筒体の形状を形成するようにする。

【0043】

以下、図６を参照しながら、フィルタ打撃モジュール（１６０）の動作について詳細に説明する。図６を参照すると、動作ユニット（１８０）がオペレータからの外圧を受けない場合、リンク構造（１７０）の打撃ユニット（１７６）は、実線で図示されるようにフィルタ本体（１５１）の下方で離間した状態になる。これは、本実施形態においてフィルタ打撃モジュール（１６０）の通常状態と呼ばれる。この通常状態において、オペレータが動作ユニット（１８０）の圧力プレート（１８１）を押圧して下方に移動させると、圧力プレート（１８１）に結合されている接続ロッド（１７１）が下方に移動する。接続ロッド（１７１）が下方に移動すると、第１のヒンジ（１７１）によって接続ロッド（１７１）の端部に結合されているレバーユニット（１７８）の第１の延長ロッド（１７３）の端部が、これに応じて下方に移動し、接続ロッド（１７１）と第１の延長ロッド（１７３）との間の角度が減少する。第１の延長ロッド（１７３）の端部が下方に移動すると、これに応じて支持体（１７４）が、フィルタ本体（１５１）に向かって僅かに移動し、第２の延長ロッド（１７５）の端部は、フィルタ本体（１５１）の下部に向かって上方に移動する。第２の延長ロッド（１７５）の端部が上方に移動し、第２の延長ロッド（１７５）の端部に形成されている打撃ユニット（１７６）が、フィルタ本体（１５１）の下部を打撃する。これは、本実施形態では、フィルタ打撃モジュール（１６０）の打撃状態と呼ばれる。打撃ユニット（１７６）がフィルタ本体（１５１）の下部を打撃するように構成されているので、垂直方向及び同軸上に接続された吸着反応装置（１９０）とフィルタ本体（１５１）との接続は、安定的に維持することができる。フィルタ部材（１５４）の表面に付着した粉体は、打撃ユニット（１７６）の打撃により落下し、ハウジング（１２０）のフロアに蓄積される。動作ユニット（１８０）に加えられた外力を取り除くと、可撓性チューブ（１８５）の弾性力により圧力プレート（１８１）が元の位置に戻り、フィルタ打撃モジュール（１６０）は自動的に通常状態に戻る。

【0044】

上記実施形態では、フィルタ打撃モジュール（１６０）がオペレータによって手動で動作される場合を示している。しかしながら、液圧ピストンなどの機械装置を設置ポート（１４６）に追加して自動運転を可能にすることができ、これもまた本発明の範囲内である。

【0045】

図８は、本発明の異なる実施形態によるフィルタ打撃モジュールを示した斜視図である。図８を参照すると、フィルタ打撃モジュール（２６０）は、動作ユニット（１８０）と、動作ユニット（１８０）に接続されるリンク構造（２７０）とを含む。

【0046】

動作ユニット（１８０）は、圧力プレート（１８１）と、ポートカプラ（１８３）と、圧力プレート（１８１）とポートカプラ（１８３）との間に結合される可撓性チューブ（１８５）とを含む。この構成は、図７に示された動作ユニット（１８０）と同様であるので、その詳細な説明は省略する。

【0047】

リンク構造（２７０）は、レバーユニット（２７８）と、レバーユニット（２７８）と圧力プレート（１８１）とを接続する接続ロッド（１７１）と、レバーユニット（２７８）に接続される打撃部材（２７６）と、を含む。

【0048】

レバーユニット（１７８）は、支持体（１７４）と、支持体（１７４）から延びる第１の延長ロッド（１７３）と、支持体（１７４）から延びる第２の延長ロッド（１７５）とを含む。レバーユニット（１７８）は、レバーユニット（１７８）に１つの第２の拡張ユニット（１７５）のみが設けられていることを除いて、図７に示されたレバーユニット（１７８）と実質的に同じ構成であるので、その詳細な説明は省略する。また、本実施形態では、第２の延長ロッド（１７５）が１つであるとして説明したが、図７に示すように、複数であってもよく、これもまた本発明の範囲内である。

【0049】

打撃部材（２７６）は、第２のヒンジ２７７によって第２の回転軸（Ｘ２）の周りで第２の延長ロッド（１７５）の端部に回転可能に結合される。第２の回転軸（Ｘ２）は、支持体（１７４）の延長方向と平行に延びる直線である。打撃部材（２７６）は、間に第２のヒンジ（２７７）を配置して第２の回転軸（Ｘ２）の半径方向に沿って両方向に延び且つ第２の延長ロッド（１７５）の上方に配置される打撃ロッド（２７６ａ）を含む。打撃ロッド（２７６ａ）の両端には、上方に突出する第１の打撃部（２７６ｂ）及び第２の打撃部（２７６ｃ）が形成されている。動作ユニット（１８０）の動作によって第２の延長ロッド（１７５）の端部が上昇すると、第１の打撃部（２７６ｂ）又は第２の打撃部（２７６ｃ）の何れか一方が、フィルタ本体（図６の１５１）を打撃し、次いで、他方がフィルタ本体（１５１）を連続して打撃する。図８に示す実施形態では、２つの打撃ユニット（２７６ｂ、２７６ｃ）が常に上向きの状態となるように、第２のヒンジ（２７７）の回転範囲に制限があることが好ましい。

【0050】

接続ロッド１７１は、図７に示す接続ロッド（１７１）の構成と実質的に同じであるので、その詳細な説明は省略する。

【0051】

図９は、本発明の他の実施形態によるフィルタ打撃モジュールの斜視図である。図９を参照すると、フィルタ打撃モジュール３６０は、動作ユニット（１８０）と、動作ユニット（１８０）に接続されたリンク構造（３７０）とを含む。

【0052】

動作ユニット（１８０）は、圧力プレート（１８１）と、ポートカプラ（１８３）と、圧力プレート（１８１）とポートカプラ（１８３）との間に結合される可撓性チューブ（１８５）とを含む。この構成は、図７に示された動作ユニット（１８０）と同じであるので、その詳細な説明は省略する。

【0053】

リンク構造（３７０）は、レバーユニット（３７８）と、レバーユニット（１７８）と圧力プレート（１８１）とを接続する接続ロッド（１７１）と、を含む。

【0054】

レバーユニット（３７８）は、支持脚部（３７５）と、支持脚部（３７５）に回転可能に結合されたレバー（３７６）と、を含む。

【0055】

支持脚部（３７５）は、垂直方向に延び、ハウジング（１２０）の内部空間のフロアからで上方に延び、フィルタ本体（１５１）と設置ポート（１４６）との間に配置されるロッド形状である。レバー（３７６）は、第３のヒンジ（３７４）によって第３の回転軸（Ｘ３）を中心として支持脚部（３７５）の上端に回転可能に結合される。第３の回転軸（Ｘ３）は、フィルタ本体（１５１）の幅方向に沿って延びる直線である。

【0056】

レバー（３７６）は、長く延びるロッド形状であり、長さ方向でレバー（３７６）の両端間の箇所において、第３のヒンジ（３７４）によって支持脚部（３７５）の上端部に回転可能に結合される。レバー（３７６）の一端（３７６ａ）は、第１のヒンジ（１７２）を介して接続ロッド（１７１）に回転可能に結合され、レバー（３７６）の他端（３７６ｂ）は、フィルタ本体（図６の１５１）の下方に配置される。

【0057】

レバー（３７６）の他端（３７６ｂ）は、動作ユニット（１８０）の動作により上昇し、フィルタ本体（図６の１５１）を打撃する。

【0058】

接続ロッド（１７１）は、図７に示された接続ロッド（１７１）と実質的に同じ構造であるので、その詳細な説明は省略する。

【0059】

図８に示された実施形態の打撃部材（２７６）は、レバー（３７６）の端部にヒンジ結合することにより使用することもでき、これもまた本発明の範囲内である。

【0060】

上記の実施形態を通じて本発明を説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではない。上記の実施形態は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく修正又は変更することができ、当業者であれば、このような修正又は変更が本発明に属することを理解するであろう。

【符号の説明】

【0061】

１００ 排出ガス処理装置
１１０ 粉体収集装置
１２０ ハウジング
１２１ ベースフロアプレート
１３０ フィルタ設置ユニット
１３１ フィルタ設置空間
１３５ ベース側壁
１３７ 開口部
１４０ 拡張ユニット
１４１ 拡張空間
１４２ 延長用フロアプレート
１４５ 上部拡張空間
１４６ 設置ポート
１４７ 拡張側壁
１４８ａ 第１の延長壁
１４８ｂ 第２の延長壁
１４８ｃ 接続壁
１４９ ガス吸入パイプ
１４９ａ 第１のガス供給開口部
１４９ｂ 第２のガス供給開口部
１５０ フィルタモジュール
１５１ フィルタ本体
１５２ 下側プレート部材
１５３ 上側プレート部材
１５３ａ 出口
１５４ フィルタ部材
１５８ 支持脚部
１６０ フィルタ打撃モジュール
１７０ リンク構造
１７１ 接続ロッド
１７２ 第１のヒンジ
１７３ 第１の延長ロッド
１７４ 支持部
１７５ 第２の延長ロッド
１７６ 打撃ユニット
１７８ レバーユニット
１８０ 動作ユニット
１８１ 圧力プレート
１８３ ポートカプラ
１８５ 可撓性チューブ
１９０ 吸着反応装置
２６０ フィルタ打撃モジュール
２７０ リンク構造
２７６ 打撃部材
２７６ａ 打撃ロッド
２７７ 第２のヒンジ
２７８ レバーユニット
３６０ フィルタ打撃モジュール
３７０ リンク構造
３７４ 第３のヒンジ
３７５ 支持脚部
３７６ レバー
３７８ レバーユニット
Ｘ１ 第１の回転軸
Ｘ２ 第２の回転軸
Ｘ３ 第３の回転軸

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【国際調査報告】