特表2023-543190処理される少なくとも１つの糸および／またはリボン型基材に粉体を含浸させるための設備
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-10-13
(54)【発明の名称】処理される少なくとも１つの糸および／またはリボン型基材に粉体を含浸させるための設備
(51)【国際特許分類】
D06M 23/08 20060101AFI20231005BHJP
【ＦＩ】
D06M23/08
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023518371
(86)(22)【出願日】2021-09-20
(85)【翻訳文提出日】2023-05-19
(86)【国際出願番号】 FR2021051602
(87)【国際公開番号】W WO2022058696
(87)【国際公開日】2022-03-24
(31)【優先権主張番号】2009532
(32)【優先日】2020-09-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】FR
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】519390519
【氏名又は名称】フィブロリーヌ
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(74)【代理人】
【識別番号】100133400
【弁理士】
【氏名又は名称】阿部 達彦
(72)【発明者】
【氏名】ジョリック・マルデュエル
(72)【発明者】
【氏名】ソフィエン・ブズイタ
(72)【発明者】
【氏名】マルク・ドデュー
【テーマコード（参考）】
4L031
【Ｆターム（参考）】
4L031AB01
4L031AB21
4L031AB31
4L031BA31
4L031CB04
4L031DA11
(57)【要約】
本発明は、粉体搬送ユニットと、処理される基材を供給するユニットと、少なくとも２つの電極（１４）と、粉体および処理される基材のための循環領域とを備える、糸および／またはテープ型の少なくとも１つの処理される基材（１１ａ）に粉体を含浸させるための設備（１００）に関する。設備は、処理される基材および粉体（１２ａ）のための入口オリフィスと、含浸された基材（１１ｂ）のための出口オリフィスと、入口オリフィスから出口オリフィスまで閉じた輪郭部分とを有する閉込ユニット（１５）を備え、循環領域は、前記閉込ユニットの内部容積によって形成され、閉込ユニットは、電極のうちの少なくとも一方に対して固定され、処理される基材および粉体は、循環領域において、前記閉込ユニットの入口オリフィスと出口オリフィスとの間を移動可能である。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
糸および／またはテープ型の処理される少なくとも１つの基材（１１ａ）への粉体（１２ａ）の含浸設備（１００）であって、－粉体搬送ユニット（１３，１７，２５）と、
－処理される前記基材を供給するユニット（１８ａ，１９ａ，１９ｂ，２３，２４）と、
－交流発電機（２２）に接続された少なくとも２つの電極（１４）であって、前記電極（１４）間に形成された空間に交流電界を生成することが可能である、少なくとも２つの電極（１４）と、
－少なくとも前記交流電界が広がる領域内に延在する、前記粉体および処理される前記基材（１１ａ）の循環領域と
を備え、
－前記含浸設備（１００）が、閉込ユニット（１５）をさらに備え、前記閉込ユニットが、処理される前記基材（１１ａ）および前記粉体（１２ａ）のための入口オリフィスと、含浸された前記基材（１１ｂ）のための出口オリフィスと、前記入口オリフィスから前記出口オリフィスまでの閉じた輪郭部分とを有し、前記循環領域が、前記閉込ユニット（１５）の内部容積によって形成され、
－前記閉込ユニット（１５）が、前記電極（１４）のうちの少なくとも一方に対して固定され、処理される前記基材（１１ａ）および前記粉体（１２ａ）が、前記循環領域において、前記閉込ユニット（１５）の前記入口オリフィスと前記出口オリフィスとの間を移動可能であることを特徴とする、含浸設備（１００）。
【請求項2】
前記設備が、互いに対向して配置された２つの電極（１４）を備えることを特徴とする、請求項１に記載の含浸設備。
【請求項3】
前記基材が前記２つの電極の一方を形成することを特徴とする、請求項１または２に記載の含浸設備。
【請求項4】
前記閉込ユニット（１５）の一部が、前記電極（１４）間に形成された空間から突出して、前記粉体（１２ａ）と前記基材（１１ａ）とが処理されるために接触することを可能にすることを特徴とする、請求項１から３のいずれか１項に記載の含浸設備。
【請求項5】
前記閉込ユニット（１５）が、円形の管であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の含浸設備。
【請求項6】
前記閉込ユニット（１５）が、長円形の管であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の含浸設備。
【請求項7】
前記閉込ユニット（１５）が、矩形の管であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の含浸設備。
【請求項8】
前記閉込ユニット（１５）が、異なる領域の少なくとも２つの部分（１５２，１５３）を有することを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の含浸設備。
【請求項9】
前記閉込ユニット（１５）が、比誘電率が２以上である材料で作られていることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の含浸設備。
【請求項10】
前記閉込ユニット（１５）が、ガラスまたは石英またはセラミックを含む群に含まれる材料で作られていることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の含浸設備。
【請求項11】
前記閉込ユニット（１５）が垂直に配向されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の含浸設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、粉体材料を多孔質基材に含浸させる分野に関する。
【0002】
本発明は、特に、処理される糸および／またはテープ型の少なくとも１つの基材に粉体を含浸させる設備に関する。
【0003】
本発明は、使用される基材および粉体の種類に応じて、多くの分野で複数の用途を見出す。
【0004】
例として、医療分野における抗菌粉体を含浸させた包帯の製造、または機械的補強のためのガラス繊維糸への熱可塑性粉体の含浸に言及することができる。
【背景技術】
【0005】
粉体を多孔質基材に含浸させることは、その特性を有利に修正することを可能にする。これを行うために、異なる技術が使用されてもよい。一般に、これらの技術は、機械式、空気圧式、静電式の装置によって、または溶剤によって、粉体を基材の細孔に浸透させることで構成される。
【0006】
本出願人の特許文献１は、互いに対向して位置し、かつこれらの２つの電極間に位置する空間に交流電界を生成することが可能な２つの電極を含む多孔質基材を含浸させるための設備を記載している。基材および粉体は、基材および粉体を２つの電極間に位置する空間に搬送することができる２つのコンベヤ間に閉じ込められる。電極によって生成された電界の影響下で、粉体はほぼ不規則に全方向に移動させられる。したがって、粉体は基材の細孔内に浸透して、その厚さ全体にわたって、理想的には均一に含浸する。このような設備は、有利には、移動する粉体を閉じ込め、かつその損失を制限することを可能にする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】欧州特許第２３３１３０９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかし、このような設備は、典型的には０．５ｍ～６ｍの非常に広い基材のために設けられる。したがって、より小さい寸法の基材、すなわち糸またはテープには適していない。さらに、設備の寸法は、糸またはテープ型の基材の寸法よりも著しく大きく、粉体は、静電アプリケータと比較して小さな体積を呈する基材に浸透する確率が低く、基材内の分散粉体は均一ではない。さらに、小さなサイズの「糸」または「テープ」型の基材は、従来技術のダスティング技術によってそれらの表面に事前に粉体を堆積させることができない。
【0009】
さらに、このような設備の小型化は複雑であり、あまり有利ではないことが判明するだろう。実際、より狭いコンベヤの場合、コンベヤによって形成された閉じ込め空間から粉体が漏出する可能性が著しく増加する。したがって、糸および／またはテープに含浸する粉体の量と比較して、大量の粉体が無駄になる。
【0010】
従来技術の設備では、移動させられる粉体の一部は多孔質材料に含浸されず、材料の上下に配置され、設備の出口でこの非含浸粉体を回収することを可能にするコンベヤ上に堆積する。コンベヤは糸の幅ではないため、糸の処理はこの構成に適合しない。したがって、従来の設備での糸の処理は、表面が糸またはテープよりもはるかに大きいコンベヤ上での粉体の著しい損失をもたらす。
【0011】
本発明が解決しようとする技術的課題は、粉体の浪費を制限しながら、かつ多孔質基材の表面に粉体を堆積させる予備ステップを経ることなく、テープまたは糸などの従来技術の基材よりも小さい寸法の基材を均一に含浸させることを可能にする設備を開発することである。
【課題を解決するための手段】
【0012】
この問題に対処するために、本出願人は、処理される糸および／またはテープ型の少なくとも１つの基材上に粉体を含浸させるための設備を開発し、この設備は、
粉体搬送ユニットと、
処理される基材を供給するためのユニットと、
少なくとも２つの電極であって、交流発電機に接続され、かつ前記電極間に形成された空間内に交流電界を生成することが可能な、少なくとも２つの電極と、
少なくとも交流電界が広がる領域内に延在する、処理される基材および粉体の循環領域と
を備える。
粉体搬送ユニットと、
処理される基材を供給するためのユニットと、
少なくとも２つの電極であって、交流発電機に接続され、かつ前記電極間に形成された空間内に交流電界を生成することが可能な、少なくとも２つの電極と、
少なくとも交流電界が広がる領域内に延在する、処理される基材および粉体の循環領域と
を備える。
【0013】
このような設備は、
含浸設備が、処理される基材および粉体のための入口オリフィスと、含浸された基材のための出口オリフィスと、入口オリフィスから出口オリフィスまでの閉じた輪郭部分とを有する閉込ユニットをさらに備え、
循環領域が、前記閉込ユニットの内部容積によって形成され、
前記閉込ユニットが、前記電極のうちの少なくとも一方に対して固定され、処理される基材および粉体が、循環領域において、前記閉込ユニットの入口オリフィスと出口オリフィスとの間を移動可能である
ことを特徴とする。
含浸設備が、処理される基材および粉体のための入口オリフィスと、含浸された基材のための出口オリフィスと、入口オリフィスから出口オリフィスまでの閉じた輪郭部分とを有する閉込ユニットをさらに備え、
循環領域が、前記閉込ユニットの内部容積によって形成され、
前記閉込ユニットが、前記電極のうちの少なくとも一方に対して固定され、処理される基材および粉体が、循環領域において、前記閉込ユニットの入口オリフィスと出口オリフィスとの間を移動可能である
ことを特徴とする。
【0014】
換言すれば、本出願人は、基材および粉体が固定された閉込ユニット、典型的には管内で循環する糸および／またはテープを含浸するための設備を開発した。有利には、本発明による含浸設備は、閉込ユニット内で基材を移動させるためにコンベヤの使用を必要としない。さらに、従来技術の設備と比較して、供給ユニットは基材を移動させなければならず、したがって基材に一定の張力をかけなければならず、これには、処理される基材の細孔のサイズを減少させる効果が有り得る。しかし、予想外にも、含浸された基材は、従来技術の設備に匹敵する均一な含浸量を有する。
【0015】
実際には、閉込ユニットの一部は、電極間に形成された空間から突出して、粉体を移動させる電界の印加前に粉体と処理される基材とが接触することを可能にする。したがって、粉体は基材に可能な限り近接し、有利にはその表面に堆積する。したがって、基材の細孔に浸透する前に、粉体が移動する距離が減少する。これにより、粉体は基材内により深く浸透することができる。同様に、エネルギーを節約するために、粉体を移動させるのに必要な電界の強度を低減することができる。
【0016】
実際には、粉体に印加される電界は、粉体が閉込ユニット内を移動することを可能にしなければならない。したがって、交流電界とは、厳密に連続的ではないが、経時的に可変成分を有する電界を意味する。この可変成分は、例えば、電界が正弦波電位の整流から生じる電極間の電位の印加から生じる場合、連続成分に潜在的に追加されてもよい。
【0017】
一般に、設備は、閉込ユニットを通過する電界を閉込ユニットの外側に生成するように互いに対向して配置された２つの電極を備える。
【0018】
いくつかの場合、特に基材が導電性材料で作られる場合、基材は２つの電極のうちの１つを形成し、発電機に接続される。次いで、電界は、閉込ユニットの外部の電極（複数可）と、停止されている場合の閉込ユニット内の基材との間に生成される。
【0019】
閉込ユニットは、本発明を変更することなく異なる形状を採用してもよい。特に、閉込ユニットは円形の管である。
【0020】
変形例として、閉込ユニットは長円形の管である。あるいは、閉込ユニットは矩形の管である。これらの２つのシナリオでは、閉込ユニットの形状は、電極によって生成される電界を集中させる効果を有する。したがって、粉体粒子はより速い速度を得て、粉体粒子が基材内により深く浸透することが可能になる。したがって、等しく印加される電圧レベルでは、この種類の設備は、従来技術の設備よりも良好な含浸を可能にする。したがって、閉込ユニットのおかげで、収率がより高くなり、含浸の深さがより深くなる。したがって、この閉込ユニットは、より小型な設備およびより速い処理速度を可能にする。
【0021】
別の実施形態によれば、閉込ユニットは、異なる領域の少なくとも２つの部分を有する。
【0022】
第１の部分は１つの領域を有し、または円形管の場合は縮径を有する。この第１の部分は、典型的には、電極間に形成された空間の上流に突出している。有利には、粉体を基材の近くに集中させるように粉体が移動してもよい自由空間を減少させることを可能にする。この構成は、含浸される材料に沿った自由空間への粉体の落下を制限することを可能にするので、垂直設備の場合に特に関連する。
【0023】
第２の部分は、第１の部分よりも大きい面積を有する。この第２の部分は、電極間に配置され、かつ電界を受ける。直径は第１の部分よりも大きいため、粉体はほぼ不規則に全方向に移動し、基材の細孔に均一に浸透することが可能になる。この領域では、粉体は重力ではなく主に静電力を受けるため、材料の周りの自由空間は問題にならない。このより大きな面積は、閉込ユニットと含浸される多孔質材料との間に付着する可能性がある粉体を適切に放出するのにさらに有利である。
【0024】
予想外にも、特にこの構成では、より大きな第２の領域が交流電界の作用下での繊維の膨潤に有利であり、このようにして繊維質基材の多孔度を増加させることが分かった。したがって、繊維網内の粉体含浸の均一性が改善され、含浸効率、すなわち堆積した粉体の量に対する含浸した粉体の量も改善される。
【0025】
対向して配置される電極の構成は、決定された容量のコンデンサに相当する。一定の材料厚さにおいて、誘電率が空気よりも高い材料からなる閉込ユニットを配置することにより、電極によって形成されるコンデンサの静電容量を増加させることが可能である。しかし、コンデンサの静電容量が増加するほど、電極に印加される同じ電圧に対して循環領域に存在する電界が高くなり、追加のエネルギーを消費することなく粉体がより高速に得られる。したがって、閉込ユニットを構成する材料の誘電率を最大化することにより、電極によって形成されるコンデンサの静電容量を増加させて、装置の効率を改善することが可能になる。
【0026】
特に、閉込ユニットは、比誘電率が２以上である材料で作られ、それにより、粉体粒子に印加される電界に対する閉込ユニットの影響を最大化することを可能にする。
【0027】
好ましい実施形態によれば、閉込ユニットは、比誘電率が５よりも大きい材料、特にガラス、石英、またはセラミックを含む群に含まれる材料で作られる。
【0028】
有利には、閉込ユニットは垂直に配向される。このようにして、細孔に浸透しておらず、基材の表面上に残っている粉体は、重力の影響下で、この目的のために設備に設けられた容器内に自然に落下する。
【0029】
いくつかの用途では、設備の特定の部分に本質的に連続的な電界を印加することも可能であり、例えば、以前に処理された基材を交流電界で覆うことを可能にし、したがって粉体の含浸を確実にする。
【0030】
本発明の他の利点および特徴は、以下の添付図面を参照して例示的かつ非限定的な例として提供される以下の説明を読むことによって明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】本発明の一実施形態による粉体の移送含浸設備の基本斜視図である。
【図3a】第１の実施形態の閉込ユニットの中央縦断面図である。
【図3b】第１の実施形態の閉込ユニットの中央縦断面図である。
【図3c】第１の実施形態の閉込ユニットの中央縦断面図である。
【図4】閉込ユニットがない場合の電極の中心を通る軸に沿った電界の値のグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0032】
【0033】
含浸設備１００は、数千ボルト～数万ボルト程度の電圧を供給することを可能にする交流電圧発電機２２によって給電される。交流電圧発電機２２は、特に、互いに対向して配置された２つの電極１４を供給することを可能にする。電極１４は垂直に配置され、５ｍｍから２０ｍｍの距離だけ離間されている。各電極１４は、発電機２２の２つの端子のうちの一方に接続されている。電極１４が水平に配置される他の実施形態も可能である。他の電極形状ももちろん可能であるが、閉じ込め要素上に強い交流電界を生成することができなければならない。いくつかの場合、基材は導電性であってもよく、この場合、電気的に接地されなければならない。この場合、電極の形状および電気的接続は、閉込ユニットの環境内で再び交流電界を得るために適合されてもよい。
【0034】
電極１４は、それらの間に形成される空間に電界を発生させる。閉込ユニット１５は、電極１４間に配置される。閉込ユニット１５には粉体１２ａが充填され、基材１１ａが処理される。
【0035】
処理される基材１１ａのための供給ユニットは、その上に処理される基材１１ａがリール１８ａの形態で収められたマンドレル２４を含む。供給ユニットはまた、処理される基材１１ａをリール１８ａから含浸領域に搬送することを可能にする偏向ローラ１９ａ～１９ｂと、処理される基材１１ａを構成する様々な糸および／またはテープを分離することを可能にするコーム２３とを含む。実際には、処理される基材１１ａは、糸のみ、集合糸のみ、テープのみ、またはいくつかの種類の基材１１ａの混合物から構成されてもよい。
【0036】
粉体搬送ユニット１２ａは、粉体貯留部１３を含む。粉体１２ａは、供給スクリュー２５によって粉体貯留部１３から漏斗１７内に搬送される。供給スクリュー２５は、塊なしで、粉体１２ａの調整された規則的な流れを生成することを可能にする。供給スクリュー２５の回転速度を調整することによって、粉体１２ａの搬送速度を変更してもよい。
【0037】
含浸された基材１１ｂは、含浸された基材１１ｂの抽出ユニットによって閉込ユニット１５から抽出される。抽出ユニット１９ｃ、１８ｂは、リターンローラ１９ｃと、含浸された基材１１ｂを格納することが可能な巻取リール１８ｂとを備えている。
【0038】
実際には、粉体の流れは、粉体１２ｂの損失を最小限に抑えるように最適化される。閉込ユニット１５の壁に対する基材１１ａの摩擦により、基材１１ａに浸透しなかった粉体１２ｂの残りを閉込ユニット１５の下端まで搬送することが可能になる。したがって、残りの粉体１２ｂは、閉込ユニット１５から回収タンク２０内に開口する第２の漏斗１６に向かって抽出される。図示の例では、粉体は重力によって回収タンク２０に落下する。あるいは、閉込ユニット１５の水平構成では、コンベヤを使用して粉体を閉込ユニットの出口から回収タンク２０に移動させてもよい。
【0039】
処理される基材１１ａは、直径が数ミクロン～数百ミクロンの糸に対応してもよい。別の実施形態によれば、処理される基材１１ａは、幅が０．５ｃｍ～１０ｃｍのテープまたはストリップに対応してもよい。処理される基材１１ａは、任意の多孔質材料、典型的にはマルチフィラメント糸、集合糸、織布または不織布、組糸、粗糸および一般に全ての多孔質糸状材料に対応してもよい。材料は、天然材料、合成材料または人工材料にかかわらず、全ての従来の織物材料を含む。
【0040】
粉体１２ａは、直径がナノメートルスケールから数百ミクロンまでの粒子に対応してもよい。例えば、粉体は、基材を構成する糸および／またはテープによって強化された複合材料のマトリックスを形成するように、冷却後に溶融されるように意図された熱可塑性または熱硬化性ポリマーの粒子からなる。粉体１２ａはまた、有効成分、典型的には抗菌剤、着色剤、難燃剤などに対応してもよい。
【0041】
図２に示すように、処理される基材１１ａおよび粉体１２ａは、閉込ユニット１５の上部１５２で互いに接触する。この上部１５２は、典型的には１ｍｍから１０ｍｍの間の縮径を有し、基材と動作を合わせて閉込ユニットに浸透させるために、粉体１２ａを処理される基材１１ａに押し付けることを可能にする。次いで、処理される基材１１ａおよび粉体１２ａは、閉込ユニット１５の第３の部分１５３に搬送され、この第３の部分の直径は、縮径された部分１５２よりも大きい。閉込ユニット１５のこの部分１５３は、２つの電極１４間に位置決めされ、これらの電極１４によって生成される電界を受ける。部分１５３は、移動する粉体１２ａが閉じ込められて漏出することができない障壁を形成する。次いで、粉体１２ａは、運動中の粒子の大群を形成し、この粒子の大群は、閉込ユニット１５内を移動する処理される基材１１ａがもたらす牽引効果なしに、部分１５３のレベルで停滞する。この部分１５３では、繊維もまた移動する傾向があり、これにより、繊維の質感および印加された交流電界に従って繊維の膨潤が促進される。次いで、それらは領域の空間全体を占め、次いで多孔質網に浸透した粉体を引き寄せることができる。
【0042】
粉体粒子１２ａは分極している。したがって、電極１４の電界の影響下で、粉体粒子１２ａは、閉込ユニット１５の部分１５３内で不規則に移動させられる。粉体粒子１２ａの速度は、電界の強度および周波数の増加関数である。この電界が強いほど、粒子は高速で得られ、処理される基材１１ａの細孔内に深く浸透する可能性がある。周波数は、粉体の粒径に応じて調整されてもよい。有利には、より大きな粒子は、より低い周波数電界を受けて、電界の振動に従うことで、移動する時間が与えられてもよい。周波数は、一般に数十～数百ヘルツである。
【0043】
【0044】
図３ａは、入口オリフィスから出口オリフィスまでの直径一定部分３５３を含む閉込ユニット１５ａを示している。この形状は、繊維を移動させて膨潤させる能力が低い多孔質基材に適合される。
【0045】
また、多孔質基材への粉体の浸透の効果がそれほど重要ではない場合、および多孔質網の表面上でより多く、中心部でより少ない粉体の位置に所望の結果が対応する場合に適合されてもよい。
【0046】
有利には、図３ｂに示すように、閉込ユニット１５ｂは、直径一定部分２５３の上流に位置する追加の部分２５１を含んでもよい。この追加の部分２５１は漏斗の形状を有し、移動する糸および／またはテープと接触するように、かつ糸または基材に沿って可能な限り最も均一な量の含浸粉体を得るように動作を合わせて粉体１２ａを案内するように意図されている。実際、所望の含浸効果に加えて、含浸された基材の全長にわたって一定の粉体含有量を得ることが好ましい。このために、粉体ディスペンサの流量を有利に調整してもよく、閉込ユニットは、好ましくは紛体を蓄積せず、含浸における漂流または変動を回避する。
【0047】
あるいは、図３ｃに示すように、閉込ユニット１５ｃは、漏斗状部分１５１と、直径が一定の第２の部分１５２と、第２の部分１５２よりも直径が大きい第３の部分１５３とを有してもよい。
【0048】
閉込ユニット１５ａ～１５ｃの領域は、いくつかの形状を採用してもよい。例として、領域は、円形、長円形、正方形、矩形または楕円形であってもよい。
【0049】
これらの形状は、含浸される基材の体裁および特性に主に依存する。糸、集合糸および粗糸は、円形の部分を必要とする。組糸、リボン、織物は、長円形または矩形の断面を必要とする。
【0050】
これらの細長い部分はまた、いくつかの糸または材料を並行して処理するのにもよく適している。糸状または狭幅の材料を平行に配置することによって、有利には、より多くの基材を同時に処理することが可能になる。
【0051】
閉込ユニット１５ａ～１５ｃの断面の形状は、粉体および処理される基材の循環領域に存在する電界の強度に影響を及ぼす。
【0052】
実際、図４に示す例では、電極１４間に閉込ユニット１５が位置決めされていない場合、電極間の電界は、電極に印加される１０ｋＶの正弦波の電圧に対して８×１０５Ｖ／ｍである。図５に示すように、閉込ユニット１５が電極１４間に位置決めされると、電界は１２×１０５Ｖ／ｍに達する。したがって、閉込ユニット１５の矩形または長円形の形状は、初期値に対して５０％だけ電界を増加させることを可能にする。次いで、閉込ユニットは、粉体と繊維とが混合するように移動する閉鎖容積としてだけでなく、処理の有効性を増幅させるものとしても作用することが判明した。したがって、処理を実行するために最大約１００ｍ／分の含浸速度に達することが可能である。
【0053】
インタフェース２１は含浸設備１００を制御することを可能にし、例えば閉込ユニット１５内の処理される基材１１ａの移動速度、粉体１２ａの搬送速度、または交流電圧発電機２２によって送達される電圧さえも制御することを可能にする。
【0054】
結論として、本発明は、テープまたは糸などの基材を均一かつ連続的に含浸させることを可能にする設備であり、得られる生産速度および品質に関して高い効率を有する。
【符号の説明】
【0055】
１１ａ 基材、１１ｂ 基材、１２ａ 粉体、１２ｂ 粉体、１３ 粉体貯留部、１４ 電極、１５ 閉込ユニット、１５ａ 閉込ユニット、１５ｂ 閉込ユニット、１５ｃ 閉込ユニット、１６ 漏斗、１７ 漏斗、１８ａ リール、１８ｂ 巻取リール、１９ａ 偏向ローラ、１９ｂ 偏向ローラ、１９ｃ 戻しローラ、２０ 回収タンク、２１ インタフェース、２２ 交流電圧発電機、２３ コーム、２４ マンドレル、２５ 供給スクリュー、１００ 含浸設備、１０１ フレーム、１５１ 漏斗状部分、１５２ 第２の部分、１５３ 第３の部分、２５１ 追加の部分、２５３ 直径一定部分、３５３ 直径一定部分
【図1】
【図2】
【図3a】
【図3b】
【図3c】
【図4】
【図5】
【国際調査報告】