▶ ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニーの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-11-09
(54)【発明の名称】プロセス
(51)【国際特許分類】
C07C 29/151 20060101AFI20231101BHJP
C07C 31/125 20060101ALI20231101BHJP
C07C 33/025 20060101ALI20231101BHJP
C07C 33/22 20060101ALI20231101BHJP
C07C 33/46 20060101ALI20231101BHJP
B01J 31/24 20060101ALI20231101BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20231101BHJP
【ＦＩ】
C07C29/151
C07C31/125
C07C33/025
C07C33/22
C07C33/46
B01J31/24 Z
C07B61/00 300
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023518041
(86)(22)【出願日】2021-11-03
(85)【翻訳文提出日】2023-04-07
(86)【国際出願番号】 GB2021052850
(87)【国際公開番号】W WO2022096875
(87)【国際公開日】2022-05-12
(31)【優先権主張番号】2017456.1
(32)【優先日】2020-11-04
(33)【優先権主張国・地域又は機関】GB
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】590004718
【氏名又は名称】ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニー
【氏名又は名称原語表記】ＪＯＨＮＳＯＮ ＭＡＴＴＨＥＹ ＰＵＢＬＩＣ ＬＩＭＩＴＥＤ ＣＯＭＰＡＮＹ
(74)【代理人】
【識別番号】100145403
【弁理士】
【氏名又は名称】山尾 憲人
(74)【代理人】
【識別番号】100132263
【弁理士】
【氏名又は名称】江間 晴彦
(74)【代理人】
【識別番号】100221501
【弁理士】
【氏名又は名称】式見 真行
(72)【発明者】
【氏名】ベイリー、ローワン
(72)【発明者】
【氏名】ガオ、チャン
(72)【発明者】
【氏名】グレインジャー、ダミアン
(72)【発明者】
【氏名】ザノッティ－ジェローザ、アントニオ
【テーマコード（参考）】
4G169
4H006
4H039
【Ｆターム（参考）】
4G169AA06
4G169AA11
4G169AA14
4G169BA27A
4G169BA27B
4G169BC70A
4G169BC70B
4G169BC73A
4G169BE01A
4G169BE01B
4G169BE07A
4G169BE14A
4G169BE14B
4G169BE16A
4G169BE16B
4G169BE21A
4G169BE21B
4G169BE26A
4G169BE27A
4G169BE27B
4G169BE29A
4G169BE31A
4G169BE36A
4G169BE37A
4G169BE38A
4G169BE38B
4G169BE46A
4G169BE46B
4G169CB02
4G169CB70
4G169DA04
4H006AA02
4H006AC13
4H006AC41
4H006BA23
4H006BA39
4H006BA47
4H006BA48
4H006FE11
4H039CA60
4H039CB20
4H039CB40
(57)【要約】
本発明は、エステル含有基質を分子状水素の存在下で、塩基及び遷移金属触媒で処理することを含む、エステル含有基質の水素化プロセスであって、塩基が、エステル含有基質の総量に基づいて少なくとも３０モル％で存在し、基質／触媒充填量が、１０，０００／１以上である、プロセスに関する。
【選択図】なし
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
エステル含有基質を分子状水素の存在下で塩基及び遷移金属触媒で処理することを含む、エステル含有基質の水素化プロセスであって、前記塩基が、エステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも３０モル％で存在し、基質／触媒充填量が、１０，０００／１以上である、プロセス。
【請求項2】
前記塩基が、エステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも３５モル％、好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも４０モル％で存在する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項3】
前記塩基が、エステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも４５モル％、好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも５０モル％で存在する、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項4】
前記塩基が、金属アルコキシド、好ましくはアルカリ金属アルコキシドである、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項5】
前記塩基が、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、又はカリウムエトキシドから選択される、アルカリ金属エトキシド、好ましくはナトリウムエトキシドである、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項6】
前記プロセスが、溶媒の非存在下で行われる、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項7】
前記プロセスが、少なくとも１種の溶媒の存在下で行われる、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項8】
前記少なくとも１種の溶媒が、アルコール、トルエン、ＴＨＦ、及びＭｅ－ＴＨＦから選択される、請求項７に記載のプロセス。
【請求項9】
前記少なくとも１種の溶媒が、エステル含有基質の総体積に基づいて、１０～１００体積％の量で存在する、請求項７又は８に記載のプロセス。
【請求項10】
前記プロセスが、第１の溶媒及び第２の溶媒の存在下で行われる、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項11】
前記第１溶媒が、トルエン又はＴＨＦであり、前記第２溶媒が、アルコール、好ましくはエタノールである、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項12】
前記第１の溶媒が、エステル含有基質の総体積に基づいて、１０～１００体積％の量で存在する、請求項１０又は１１に記載のプロセス。
【請求項13】
前記第２の溶媒が、前記エステル含有基質の総体積に基づいて、１～１５体積％の量で存在する、請求項１０～１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項14】
温度が、２０～１５０℃の範囲、好ましくは２０～１４０℃の範囲である、請求項１～１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項15】
圧力が、５～１００バールの範囲、好ましくは１０～９５バールの範囲である、請求項１～１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項16】
前記基質／触媒充填量が、２０，０００／１以上、好ましくは３０，０００／１以上である、請求項１～１５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項17】
前記基質／触媒充填量が、５０，０００／１以上、好ましくは１００，０００／１以上である、請求項１～１６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項18】
前記遷移金属触媒が、三座配位子を含む、請求項１～１７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項19】
前記遷移金属触媒が、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、【化1】
Ｘは、－ＳＲａ、－ＯＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又はＲ１、並びにＲ３ａ及びＲ３ｂのうちの１つ、若しくはＲｘ、並びにＲ３ａ及びＲ３ｂのうちの１つが、それらが結合している原子と一緒になって、環を形成し、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｙは、－ＳＲａ、－ＯＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又はＲ２、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つ、若しくはＲｙ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つが、それらが結合する原子と一緒になって、環を形成し、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、及びＲ４ｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又はＲ３ａ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つ、若しくはＲ３ｂ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つが、それらが結合している原子と一緒になって、複素環を形成し、
Ｒ５は、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する、請求項１８に記載のプロセス。
【請求項20】
前記遷移金属触媒が、式（ＩＩ）又は式（ＩＩＩ）を有し、［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｄ］ （ＩＩ）
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｄ］Ｗ （ＩＩＩ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、請求項１９に記載の三座配位子であり、
Ｌ２は、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｄは、１、２、又は３であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である、請求項１～１９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項21】
Ｍが、Ｒｕ及びＯｓから選択される遷移金属、好ましくはＲｕである、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項22】
各Ｌ２は独立して、－Ｈ、－ＣＯ、－ＣＮ、－Ｐ（Ｒ’）３、－Ａｓ（Ｒ’）３、－ＣＲ’、－ＯＲ’、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ’、－ＮＲ’２、ハロゲン（例えば、－Ｃｌ、－Ｂｒ、－Ｉ）、及び溶媒から選択され、式中、各Ｒ’は、独立して、置換若しくは非置換アルキル、置換若しくは非置換アルケニル、置換若しくは非置換アルキニル、置換若しくは非置換ヘテロアルキル、置換若しくは非置換アルコキシ、置換若しくは非置換シクロアルキル、置換若しくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換アリール、及び置換若しくは非置換ヘテロアリールから選択される、請求項２０又は２１に記載のプロセス。
【請求項23】
前記遷移金属触媒が、以下である、請求項１～２２のいずれか一項に記載のプロセス【化2】
【請求項24】
前記エステル含有基質が、式（Ｘ）のものであり、【化3】
Ｒ６及びＲ７は独立して、１～７０個の炭素原子を有する有機基であり、又は
Ｒ６／Ｒ７は、それらが結合している原子と一緒になって、環構造を形成する、請求項１～２３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項25】
前記エステル含有基質が、メチルエステル又はエチルエステル、好ましくはエチルエステルである、請求項１～２４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項26】
バッチプロセス、好ましくは任意の過剰な塩基が再循環又は再使用されるバッチプロセスである、請求項１～２５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項27】
フロープロセス、好ましくは任意の過剰な塩基が再循環又は再使用されるフロープロセスである、請求項１～２５のいずれか一項に記載のプロセス。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、エステル含有基質の水素化プロセスに関する。
【背景技術】
【0002】
エステルの還元は、第一級アルコールへの経路として化学工業において不可欠な変換である。エステルの還元は、従来、エタノール中のナトリウム金属などの試薬を（化学量論量若しくは過剰量で）使用して（Ｂｏｕｖｅａｕｌｔ－Ｂｌａｎｃ還元）、又はより最近では、ＬｉＡｌＨ４若しくはＮａＢＨ４などの金属水素化物試薬を使用して行われてきた。しかしながら、これらの還元反応は、特に極度に発熱性の急冷工程と関連付けられる安全上の懸念に起因して、大規模で効果的に実施することが困難である。したがって、エステルの還元に関する研究は、より最近では、水素ガスを使用する接触還元に焦点を当てている。例えば、Ｃｕ又はＺｎ系不均一触媒は、主に、非常に大規模な天然洗浄剤アルコール（Natural Detergent Alcohol、ＮＤＡ）市場において、エステル還元のために使用される。しかしながら、これらの方法は、大規模な専用生産設備に加えて、非常に高い圧力及び／又は温度を必要とする。他の感受性官能基と比較したエステル還元の化学選択性も、これらの方法を使用するいくつかの場合において問題となり得る。
【0003】
遷移金属触媒を使用するエステル水素化のための多くの他のプロセスが開発されているが、これらのプロセスは、有用な変換率及びターンオーバー数（turnover number、ＴＯＮ）を達成するために大量の触媒の使用を必要とする傾向がある。これは、高価であり、かつ環境に悪影響を及ぼす。したがって、高い触媒活性及びＴＯＮを依然として維持しながら、より低い触媒充填量を必要とするエステル水素化のための改善されたプロセスを提供する必要性が存在する。
【発明の概要】
【0004】
本発明は、エステル含有化合物の水素化のための改良されたプロセスを提供する。このプロセスは、単純、経済的、安全であり、標準的な水素化容器中で操作することができる。特定の実施形態において、本プロセスは、従来のプロセスで使用されるよりもはるかに少ない量の触媒の使用を必要とすることによって、環境上の利益を有し得る。
【0005】
第１の態様において、本発明は、エステル含有基質を分子状水素の存在下で、塩基及び遷移金属触媒で処理することを含む、エステル含有基質の水素化のためのプロセスであって、塩基が、エステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも３０モル％で存在し、基質／触媒充填量が、１０，０００／１以上である、プロセスを提供する。
【0006】
定義
部分又は置換基の結合点は、「－」によって表される。例えば、－ＯＨは、酸素原子を介して結合される。
部分又は置換基の結合点は、「－」によって表される。例えば、－ＯＨは、酸素原子を介して結合される。
【0007】
本明細書で使用される場合、「アルキル」という用語は、直鎖又は分岐鎖飽和炭化水素基を指す。特定の実施形態において、アルキル基は、１～２０個の炭素原子、特定の実施形態において、１～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、１～８個の炭素原子を有し得る。アルキル基は、非置換であり得る。代替的に、アルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、アルキル基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。典型的なアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0008】
本明細書で使用される場合、「アルケニル」という用語は、少なくとも１つの炭素－炭素二重結合を含む直鎖又は分岐鎖の不飽和炭化水素基を指す。
【0009】
本明細書で使用される場合、「アルキニル」という用語は、少なくとも１つの炭素－炭素三重結合を含む直鎖又は分岐鎖の不飽和炭化水素基を指す。
【0010】
本明細書で使用される場合、「シクロアルキル」という用語は、飽和炭素環式炭化水素基を表すために使用される。シクロアルキル基は、単一の環又は複数の縮合環を有し得る。特定の実施形態において、シクロアルキル基は、３～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、３～１０個の炭素原子、特定の実施形態において、３～８個の炭素原子を有し得る。シクロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、シクロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、シクロアルキル基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。典型的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0011】
本明細書で使用される場合、「シクロアルケニル」という用語は、不飽和非芳香族炭素環式環（非芳香族炭素環）を指す。したがって、シクロアルケニル基は、少なくとも１つの炭素－炭素二重結合を有するが、より多くの炭素－炭素二重結合を有し得る。特定の実施形態において、シクロアルキル基は、３～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、３～１０個の炭素原子、特定の実施形態において、３～８個の炭素原子を有し得る。シクロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、シクロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、シクロアルケニル基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。典型的なシクロアルケニル基としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0012】
本明細書で使用される場合、「アルコキシ」という用語は、式アルキル－Ｏ－又はシクロアルキル－Ｏ－［式中、アルキル及びシクロアルキルは、上記で定義されたとおりである］の任意選択的に置換された基を指す。
【0013】
本明細書で使用される場合、「アリール」という用語は、芳香族炭素環式基を指す。アリール基は、単一の環又は複数の縮合環を有し得る。特定の実施形態において、アリール基は、６～２０個の炭素原子、特定の実施形態において、６～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、６～１２個の炭素原子を有し得る。アリール基は、非置換であり得る。代替的に、アリール基は、置換され得る。別途指定されない限り、アリール基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、アントラセニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0014】
本明細書で使用される場合、「アリールアルキル」という用語は、式アリール－アルキル－［式中、アリール及びアルキルは、上に定義したとおりである］の任意選択的に置換された基を指す。
【0015】
本明細書で使用される場合、「ハロゲン」、「ハロ」、又は「ｈａｌ」という用語は、－Ｆ、－Ｃｌ、－Ｂｒ、及び－Ｉを指す。
【0016】
本明細書で使用される場合、「ヘテロアルキル」という用語は、１つ以上の炭素原子が１つ以上のヘテロ原子（例えば、窒素、酸素、リン及び／又は硫黄原子）で独立して置き換えられた直鎖又は分岐鎖飽和炭化水素基を指す。ヘテロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、ヘテロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、ヘテロアルキル基は、任意の好適な原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。ヘテロアルキル基の例としては、エーテル、チオエーテル、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミンなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0017】
本明細書で使用される場合、「ヘテロアルキル」という用語は、１つ以上の炭素原子が１つ以上のヘテロ原子（例えば、窒素、酸素、リン及び／又は硫黄原子）で独立して置き換えられた飽和環状炭化水素基を指す。ヘテロシクロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、ヘテロシクロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、ヘテロシクロアルキル基は、任意の好適な原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。ヘテロシクロアルキル基の例としては、エポキシド、モルホリニル、ピペラジニル（piperadinyl）、ピペラジニル（piperazinyl）、チラニル、ピロリジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリジニル、チアゾリジニル、チオモルホリニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0018】
本明細書で使用される場合、「ヘテロアリール」という用語は、１つ以上の炭素原子が１つ以上のヘテロ原子（例えば、窒素、酸素、リン及び／又は硫黄原子）で独立して置き換えられた芳香族炭素環式基を指す。ヘテロアリール基は、非置換であり得る。代替的に、ヘテロアリール基は、置換され得る。別途指定されない限り、ヘテロアリール基は、任意の好適な原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。ヘテロアリール基の例としては、チエニル、フラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、チオフェニル、オキサジアゾリル、ピリジニル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、キノリニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【0019】
本明細書で使用される場合、「複素環」という用語は、ヘテロシクロアルキル基及びヘテロアリール基の両方を包含する。
【0020】
本明細書で使用される場合、「置換」という用語は、１つ以上の水素原子が各々、同じ又は異なり得る置換基（例えば、１、２、３、４、５つ、又はそれら以上）で独立して置き換えられた基を指す。置換基の例としては、－ハロ、－Ｃ（ハロ）３、－Ｒｃ、＝Ｏ、＝Ｓ、－Ｏ－Ｒｃ、－Ｓ－Ｒｃ、－ＮＲｃＲｄ、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｃ（Ｏ）－Ｒｃ、－ＣＯＯＲｄ、－Ｃ（Ｓ）－Ｒｃ、－Ｃ（Ｓ）ＯＲｄ、－Ｓ（Ｏ）２ＯＨ、－Ｓ（Ｏ）２－Ｒｃ、－Ｓ（Ｏ）２ＮＲｃＲｄ、－Ｏ－Ｓ（Ｏ）－Ｒｃ及び－ＣＯＮＲｃＲｄ、例えば、－ハロ、－Ｃ（ハロ）３（例えば、－ＣＦ３）、－Ｒｃ、－Ｏ－Ｒｃ、－ＮＲｃＲｄ、－ＣＮ、又は－ＮＯ２が挙げられるが、これらに限定されない。Ｒｃ及びＲｄは、Ｈ、アルキル、アリール、アリールアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロアリールからなる群から独立して選択され、又は、Ｒｃ及びＲｄはそれらが結合している原子と一緒になって、ヘテロシクロアルキル基を形成する。Ｒｃ及びＲｄは、本明細書で定義されるように、非置換であり得るか、又は更に置換され得る。
【0021】
本明細書で使用される場合、「脂肪酸」という用語は、飽和又は不飽和のいずれかであり得る長い脂肪族鎖（例えば、＞６個の炭素原子）を有するカルボン酸を指す。脂肪酸の脂肪族鎖は、分岐鎖又は非分岐鎖であり得る。特定の実施形態において、脂肪酸の脂肪族鎖は、１２～２４個の炭素原子を含む。特定の実施形態において、脂肪酸の脂肪族鎖は、０～５個の炭素－炭素二重結合を含む。
【0022】
本明細書で使用される場合、「脂肪アルコール」という用語は、飽和又は不飽和のいずれかであり得る長い脂肪族鎖（例えば、＞６個の炭素原子）を有するアルコールを指す。脂肪アルコールの脂肪族鎖は、分岐鎖又は非分岐鎖であり得る。特定の実施形態において、脂肪アルコールの脂肪族鎖は、１２～２４個の炭素原子を含む。特定の実施形態において、脂肪アルコールの脂肪族鎖は、０～５個の炭素－炭素二重結合を含む。
【0023】
本明細書で使用される場合、「ワックスエステル」という用語は、脂肪酸と脂肪アルコールとのエステルを指し、ここで、脂肪酸及び脂肪アルコールは、上で定義したとおりである。
【0024】
本明細書で使用される場合、「二座配位子」という用語は、２対の電子を金属原子に供与する配位子を指す。
【0025】
本明細書で使用される場合、「三座配位子」という用語は、金属原子に３対の電子を供与する配位子を指す。
【0026】
本明細書で使用される場合、「四座配位子」という用語は、金属原子に４対の電子を供与する配位子を指す。
【0027】
本明細書で使用される場合、「Ｒｕ－ＳＮＳ」という用語は、ジクロロトリフェニルホスフィン［ビス（２－（エチルチオ）エチル）アミン］ルテニウム（ＩＩ）を指す。
【0028】
本明細書で使用される場合、「Ｒｕ－ＰＮＮ」という用語は、ジクロロトリフェニルホスフィン［２－（ジフェニルホスフィノ）－Ｎ－（２－ピリジニルメチル）エタンアミン］ルテニウム（ＩＩ）を指す。
【0029】
本明細書で使用される場合、「Ｒｕ－ＳＮＮ」という用語は、ジクロロトリフェニルホスフィン［２－（エチルチオ）－Ｎ－（２－ピリジニルメチル）エタンアミン］ルテニウム（ＩＩ）を指す。
【0030】
本明細書で使用される場合、「Ｓ／Ｃ」という用語は、「基質／触媒」の略語であり、反応において用いられる触媒充填量を説明するために使用され、すなわち、反応混合物中に存在するエステル含有基質と触媒とのモル比を説明する。エステル含有基質が２つ以上のエステル部分を含む場合、Ｓ／Ｃ値は、それに応じて調整される。例えば、１０，０００：１のトリグリセリド対触媒のモル比は、３０，０００：１のＳ／Ｃに等しい（トリグリセリド基質は３つのエステル部分を含有するので）。
【0031】
本明細書で使用される場合、「ターンオーバー数」（ＴＯＮ）という用語は、１モルの触媒が失活する前に変換することができる基質のモル数を指す。
【0032】
本明細書で使用される場合、別途指定されない限り、「モル％」は、エステル含有基質のモル量に対する指定された材料（例えば、塩基）のモル量をパーセンテージとして説明する。特定の材料（例えば、塩基）について与えられる「モル％」量は、反応チャンバ（すなわち、水素化反応が起こる場所）において用いられるその材料の量である。
【0033】
本明細書中で使用される場合、「ニート条件」という用語は、エステル含有基質及び塩基の混合物を少なくとも９５体積％を含む反応混合物で開始する反応を説明するために使用される。
【0034】
本明細書で使用される場合、「水素化」という用語は、分子状水素を使用する水素化を指す。
【発明を実施するための形態】
【0035】
これより、本発明の好ましいかつ／又は任意選択的な特徴が、記載される。本発明のいずれの態様も、文脈による別途の要求がない限り、本発明のいずれの他の態様とも組み合わせることができる。本発明のいずれの態様の好ましい又は任意選択的な特徴のいずれも、文脈による別途の要求がない限り、本発明のいずれの態様とも、単一又は組み合わせで、組み合わせることができる。
【0036】
本発明は、エステル含有基質を、分子状水素の存在下で、塩基及び遷移金属触媒で処理することを含む、エステル含有基質の水素化のためのプロセスであって、塩基が、エステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも３０モル％で存在し、基質／触媒充填量が、１０，０００／１以上である、プロセスを提供する。
【0037】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、エステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも３５モル％、好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも４０モル％、より好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも４５モル％、更により好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、少なくとも５０モル％で存在する。理論に束縛されることを望むものではないが、本発明のプロセスにおける多量の塩基の使用は、既知のプロセスと比較してより低い触媒充填量の使用を可能にすると考えられる。場合によっては、極めて低い触媒充填量、例えば、Ｓ／Ｃ＝１００，０００／１以上が達成されている。
【0038】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、エステル含有基質の総量に基づいて、２００モル％以下、より好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、１２５モル％以下で存在する。
【0039】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、エステル含有基質の総量に基づいて、３０～７０モル％の範囲、より好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、３０～６０モル％の範囲、更により好ましくはエステル含有基質の総量に基づいて、３０～５０モル％の範囲で存在する。
【0040】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、金属アルコキシドである。金属アルコキシドは、好ましくは、金属メトキシド、金属エトキシド、金属イソプロポキシド、又は金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。好ましい金属アルコキシドとしては、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、又はカリウムエトキシドが挙げられる。
【0041】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、アルカリ金属アルコキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、好ましくは、アルカリ金属メトキシド、アルカリ金属エトキシド、アルカリ金属イソプロポキシド、又はアルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、より好ましくは、アルカリ金属メトキシド又はアルカリ金属エトキシドである。
【0042】
本発明の特に好ましいプロセスにおいて、塩基は、アルカリ金属エトキシドである。アルカリ金属エトキシドは、好ましくはリチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド又はカリウムエトキシドであり、より好ましくはナトリウムエトキシドである。
【0043】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、固体形態である。
【0044】
本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、支持されている。より好ましくは、塩基は、樹脂に支持されている。
【0045】
本発明の好ましいプロセスにおいて、本プロセスは、溶媒の非存在下で行われる。これは、プロセスを実行するのをより容易かつより安価にするという利点を有する。
【0046】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、プロセスは、ニート条件下で行われる。
【0047】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、プロセスは、少なくとも１つの溶媒の存在下で行われる。
【0048】
好ましくは、少なくとも１種の溶媒は、アルコール、トルエン、ＴＨＦ、及びＭｅ－ＴＨＦから選択される。より好ましくは、少なくとも１種の溶媒は、メタノール、エタノール、トルエン、ＴＨＦ、及びＭｅ－ＴＨＦから選択される。最も好ましくは、少なくとも１種の溶媒は、メタノール、エタノール、及びトルエンから選択される。
【0049】
本発明の好ましいプロセスにおいて、少なくとも１種の溶媒は、エステル含有基質の総体積に基づいて、１０～１００体積％、好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて、１５～９５体積％、より好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて２０～９０体積％（例えば、エステル含有基質の総体積に基づいて、５０体積％）の量で存在する。
【0050】
本発明の好ましいプロセスにおいて、少なくとも１種の溶媒とエステル含有基質との体積比は、１：１以下、好ましくは１：２以下である。
【0051】
本発明の好ましいプロセスにおいて、少なくとも１種の溶媒とエステル含有基質との体積比は、１：２～１：１の範囲、好ましくは１：２～１：１．５の範囲である。
【0052】
本発明の好ましいプロセスにおいて、本プロセスは、２つ以上の溶媒の存在下で行われる。好ましい溶媒は、上記のとおりである。
【0053】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、本プロセスは、第１の溶媒及び第２の溶媒の存在下で行われる。
【0054】
本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、トルエン、ＴＨＦ、及びＭｅ－ＴＨＦから選択される。本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の溶媒は、アルコール、好ましくはエタノールである。
【0055】
本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、トルエンであり、第２の溶媒は、アルコール、好ましくはエタノールである。
【0056】
本発明の代替的な特に好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、ＴＨＦであり、第２の溶媒は、アルコール、好ましくはエタノールである。
【0057】
本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、エステル含有基質の総体積に基づいて１０～１００体積％、好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて、１５～９５体積％、より好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて、２０～９０体積％（例えば、エステル含有基質の総体積に基づいて、５０体積％）の量で存在する。
【0058】
本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒とエステル含有基質との体積比は、１：１以下、好ましくは１：２以下である。
【0059】
本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒とエステル含有基質との体積比は、１：２～１：１の範囲、好ましくは１：２～１：１．５の範囲である。
【0060】
本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の溶媒は、エステル含有基質の総体積に基づいて、１～１５体積％の量で、好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて、１～１０体積％の量で、好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて、１～７．５体積％の量で、より好ましくはエステル含有基質の総体積に基づいて１～５体積％の量で存在する。
【0061】
本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、エステル含有基質の総体積に基づいて、１０～１００体積％の量で存在し、第２の溶媒はエステル含有基質の総体積に基づいて、１～１０体積％の量で存在し、好ましくは第１の溶媒はエステル含有基質の総体積に基づいて、１５～９５体積％の量で存在し、第２の溶媒はエステル含有基質の総体積に基づいて、１～７．５体積％の量で存在し、より好ましくは第１の溶媒はエステル含有基質の総体積に基づいて、２０～９０体積％の量で存在し、第２の溶媒はエステル含有基質の総体積に基づいて１～５体積％の量で存在する。
【0062】
本発明の好ましいプロセスにおいて、本プロセスは、２０～１５０℃の範囲、より好ましくは２０～１４０℃の範囲、より好ましくは２５～１３０℃の範囲、より好ましくは２５～１２０℃の範囲、より好ましくは３０～１００℃の範囲、より好ましくは３０～９０℃の範囲、より好ましくは３０～８０℃の範囲、より好ましくは３５～７５℃の範囲、更により好ましくは３７．５～６０℃の範囲、更により好ましくは４０～５５℃の範囲、最も好ましくは４０～５０℃の範囲（例えば４０℃）の温度で行われる。本発明の好ましいプロセスは、比較的低い温度で実施され、これは、反応へのエネルギー入力がより低いので、プロセスがより経済的であることを意味する。エステル水素化のためのより低い温度もまた、触媒安定性を改善するのに役立ち得ると考えられる。
【0063】
本発明の好ましいプロセスは、少なくとも５バール、より好ましくは少なくとも１０バール、更により好ましくは少なくとも２０バール、更により好ましくは少なくとも３０バール、更により好ましくは少なくとも４０バール、最も好ましくは少なくとも５０バールである圧力で行われる。
【0064】
本発明の好ましいプロセスは、５～１００バールの範囲、より好ましくは１０～９５バールの範囲、更により好ましくは２０～９０バールの範囲、更により好ましくは２５～７０バールの範囲、最も好ましくは３０～５０バールの範囲である圧力で行われる。
【0065】
本発明の好ましいプロセスは、１～２４時間、より好ましくは２～１６時間、更により好ましくは３～１０時間、最も好ましくは４～８時間の期間にわたって行われる。
【0066】
本発明のプロセスは、エステル水素化のための工業的に有用なＴＯＮ及び変換を依然として達成しながら、低い触媒充填量を必要とする。より低い触媒充填量は、反応がより環境に優しく、より効率的であることを意味する。より低い触媒充填量はまた、反応のコストが低減され得ることを意味する。
【0067】
本発明のプロセスにおいて、基質／触媒充填量は、１０，０００／１以上である。本発明の好ましいプロセスにおいて、基質／触媒充填量は、２０，０００／１以上、より好ましくは３０，０００／１以上、より好ましくは４０，０００／１以上、更により好ましくは５０，０００／１以上、より好ましくは６０，０００／１以上、更により好ましくは７０，０００／１以上、更により好ましくは８０，０００／１以上、更により好ましくは９０，０００／１以上、更により好ましくは１００，０００／１以上、更により好ましくは２００，０００／１以上、更により好ましくは３００，０００／１以上、更により好ましくは４００，０００／１以上、更により好ましくは５００，０００／１以上、更により好ましくは６００，０００／１以上、更により好ましくは７００，０００／１以上、更により好ましくは８００，０００／１以上、更により好ましくは９００，０００／１以上、更により好ましくは１，０００，０００／１以上である。
【0068】
本発明のプロセスのいくつかの実施形態において、基質／触媒充填量は、２，０００，０００／１以下である。
【0069】
本発明のプロセスは、遷移金属触媒を用いる。遷移金属触媒は、予備形成され得るか、又はエステル水素化反応中にその場で形成され得る。好ましくは、遷移金属触媒は、予備形成される。代替的に、遷移金属触媒は、エステル水素化反応中にその場で形成される。
【0070】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒中の遷移金属は、第６族、第７族、第８族、又は第９族の遷移金属である。より好ましくは、遷移金属触媒中の遷移金属は、第７族、第８族、又は第９族の遷移金属である。更により好ましくは、遷移金属触媒中の遷移金属は、第８族の遷移金属である。
【0071】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒中の遷移金属は、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ及びＯｓから選択される。より好ましくは、遷移金属触媒中の遷移金属は、Ｒｕ及びＯｓから選択される。最も好ましくは、遷移金属触媒中の遷移金属は、Ｒｕである。
【0072】
本発明の好ましいプロセスにおいて、本発明のプロセスにおいて用いられる遷移金属触媒は、三座配位子を含む。
【0073】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
【0074】
【化1】
Ｘは、－ＳＲａ、－ＯＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又はＲ１、並びにＲ３ａ及びＲ３ｂのうちの１つ、若しくはＲｘ、並びにＲ３ａ及びＲ３ｂのうちの１つが、それらが結合している原子と一緒になって、環を形成し、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｙは、－ＳＲａ、－ＯＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又はＲ２、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つ、若しくはＲｙ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つが、それらが結合する原子と一緒になって、環を形成し、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、及びＲ４ｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又はＲ３ａ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つ、若しくはＲ３ｂ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つが、それらが結合する原子と一緒になって、複素環を形成し、
Ｒ５は、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって複素環を形成する。
【0075】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｘは、好ましくは－ＳＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択される。より好ましくは、Ｘは、－ＳＲａ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択される。更により好ましくは、Ｘは－ＳＲａ及び－ＰＲａＲｂから選択される。最も好ましくは、Ｘは－ＳＲａである。
【0076】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ１及びＲｘは、各々水素である。
【0077】
式（Ｉ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成する。より好ましくは、Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成する。より好ましくは、任意選択的に置換されたヘテロ芳香環は、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香環である。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される。最も好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環はピリジニルである。
【0078】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｙは、好ましくは－ＳＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択される。より好ましくは、Ｙは－ＳＲａ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択される。更により好ましくは、Ｙは－ＳＲａ及び－ＰＲａＲｂから選択される。最も好ましくは、Ｙは－ＳＲａである。
【0079】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ２及びＲｙは、各々水素である。
【0080】
式（Ｉ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｙは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成する。より好ましくは、Ｙは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成する。より好ましくは、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環は、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環である。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される。最も好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環はピリジニルである。
【0081】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、及びＲ４ｂは、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、及びＲ４ｂは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、及びＲ４ｂは、各々水素である。
【0082】
式（Ｉ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｒ３ａ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つ、又はＲ３ｂ、並びにＲ４ａ及びＲ４ｂのうちの１つは、それらが結合している原子と一緒になって、複素環を形成する。好ましくは、複素環は、６員環複素環である。
【0083】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｒ５は、好ましくは、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ５は、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ５は水素である。
【0084】
式（Ｉ）の三座配位子において、各ｍ及びｎは、好ましくは１である。
【0085】
式（Ｉ）の三座配位子において、Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、好ましくは水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択される。より好ましくは、Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ１～１０－アルキル）及び置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリールから選択される。特に好ましいＣ１～２０－アルキル基としては、エチル、エチル、ｎ－プロピル、イソ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、イソ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはエチルが挙げられる。好ましいＣ６～２０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルが挙げられ、より好ましくはフェニルである。
【0086】
式（Ｉ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｘ及び／若しくはＹが－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、－ＯＰＲａＲｂ、若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0087】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
式中、
Ｘは、－ＳＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
式中、
Ｘは、－ＳＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲａ、－ＣＲａ、－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＮＲａＲｂ、－ＰＲａＲｂ若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0088】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
式中、
Ｘは、－ＳＲａ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲａ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＹはヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、Ｒｙが存在しない場合、ヘテロ芳香族環を形成し、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＰＲａＲｂ若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
式中、
Ｘは、－ＳＲａ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲａ、－ＰＲａＲｂ、及び－ＮＨＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＹはヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、Ｒｙが存在しない場合、ヘテロ芳香族環を形成し、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＰＲａＲｂ若しくは－ＮＨＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0089】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
式中、
Ｘは、－ＳＲａ及び－ＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲａ及び－ＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
式中、
Ｘは、－ＳＲａ及び－ＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲａ及び－ＰＲａＲｂから選択され、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ２と一緒になった場合、それは、Ｒｙが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＰＲａＲｂである場合、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0090】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、－ＳＲａであり、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｙは－ＳＲａであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択される。
Ｘは、－ＳＲａであり、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｙは－ＳＲａであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択される。
【0091】
好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、－ＳＲａであり、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｙは－ＳＲａであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。
Ｘは、－ＳＲａであり、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｙは－ＳＲａであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。
【0092】
より好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、－ＳＲａであり、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択され、
Ｙは－ＳＲａであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。
Ｘは、－ＳＲａであり、
Ｒ１及びＲｘは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択され、
Ｙは－ＳＲａであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキルから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択される。
【0093】
更により好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘ及びＹは、各々－ＳＲａであり、
Ｒ１、Ｒｘ、Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ及びＲ５は、各々水素であり、
ｍ及びｎは、各々１であり、
Ｒａは、各々独立して、置換若しくは非置換のＣ１～２０アルキル、好ましくはＣ１～１０アルキルである。
Ｘ及びＹは、各々－ＳＲａであり、
Ｒ１、Ｒｘ、Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ及びＲ５は、各々水素であり、
ｍ及びｎは、各々１であり、
Ｒａは、各々独立して、置換若しくは非置換のＣ１～２０アルキル、好ましくはＣ１～１０アルキルである。
【0094】
更により好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘ及びＹは、各々－ＳＥｔであり、
Ｒ１、Ｒｘ、Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
ｍ及びｎは、各々１である。
Ｘ及びＹは、各々－ＳＥｔであり、
Ｒ１、Ｒｘ、Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
ｍ及びｎは、各々１である。
【0095】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｒａ及びＲｂは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0096】
好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択される。
Ｘは窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２及びＲｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキルから選択され、
各ｍ及びｎは、独立して、１若しくは２であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択される。
【0097】
より好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される、窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２ ，Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル及び置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリールから選択される。
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される、窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２ ，Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル及び置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリールから選択される。
【0098】
更により好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。
Ｘは窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。
【0099】
更により好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたピリジニル環を形成し、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたピリジニル環を形成し、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々独立して、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。
【0100】
更により好ましくは、遷移金属触媒は、式（Ｉ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたピリジニル環を形成し、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々フェニルである。
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ１と一緒になった場合、それは、Ｒｘが存在しない場合、任意選択的に置換されたピリジニル環を形成し、
Ｙは、－ＰＲａＲｂであり、
Ｒ２、Ｒｙ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、及びＲ５は、各々水素であり、
各ｍ及びｎは、１であり、
Ｒａ及びＲｂは、各々フェニルである。
【0101】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（ＩＩ）又は式（ＩＩＩ）を有する。
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｄ］ （ＩＩ）
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｄ］Ｗ （ＩＩＩ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、先に定義した三座配位子であり、
Ｌ２は、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｄは、１、２又は３であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｄ］ （ＩＩ）
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｄ］Ｗ （ＩＩＩ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、先に定義した三座配位子であり、
Ｌ２は、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｄは、１、２又は３であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。
【0102】
本発明の好ましいプロセスにおいて、Ｍは、第６族、第７族、第８族又は第９族の遷移金属である。より好ましくは、Ｍは、第７族、第８族、又は第９族の遷移金属である。更により好ましくは、Ｍは、第８族の遷移金属である。
【0103】
本発明の好ましいプロセスにおいて、Ｍは、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ及びＯｓから選択される遷移金属である。より好ましくは、ＭはＲｕ及びＯｓから選択される遷移金属である。最も好ましくは、ＭはＲｕである。
【0104】
本発明の好ましいプロセスにおいて、ｄは、３である。
【0105】
当業者によって理解されるように、各Ｌ２は、Ｌ２配位子の組み合わせが原子価の規則によって許容されるという条件で、単座配位子又は多座配位子であり得る。本発明の好ましいプロセスにおいては、各Ｌ２は単座配位子である。好ましくは、各Ｌ２は、独立して、中性単座配位子又はアニオン性単座配位子である。本発明の好ましいプロセスにおいて、各Ｌ２は、独立して、－Ｈ、－ＣＯ、－ＣＮ、－Ｐ（Ｒ’）３、－Ａｓ（Ｒ’）３、－ＣＲ’、－ＯＲ’、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ’、－ＮＲ’２、ハロゲン（例えば、－Ｃｌ、－Ｂｒ、－Ｉ）及び溶媒から選択され、式中、各Ｒ’は、独立して、置換若しくは非置換アルキル、置換若しくは非置換アルケニル、置換若しくは非置換アルキニル、置換若しくは非置換ヘテロアルキル、置換若しくは非置換アルコキシ、置換若しくは非置換シクロアルキル、置換若しくは非置換ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換アリール、及び置換若しくは非置換ヘテロアリールから選択される。好ましくは、各Ｌ２は、独立して、－Ｈ、－ＣＯ、－Ｐ（Ｒ’）３、及びハロゲンから選択される。より好ましくは、各Ｌ２は、独立して、－ＣＯ、－ＰＰｈ３、及び－Ｃｌから選択される。Ｌ２が溶媒である場合、溶媒は、好ましくは、ＴＨＦ、Ｍｅ－ＴＨＦ、ＭｅＣＮ、Ｈ２Ｏ及びアルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど）から選択される。
【0106】
式（ＩＩＩ）の遷移金属触媒において、Ｗは非配位アニオン性配位子である。「非配位アニオン性配位子」とは、アニオン配位子が金属中心の外圏に強制的に配置されることを意味する。したがって、アニオン性配位子は金属中心から解離される。これは、アニオン配位子が配位圏内の金属に結合している中性錯体とは対照的である。アニオン性配位子は、一般に、カチオン性錯体のＸ線結晶構造を分析することによって、非配位性として同定することができる。好ましくは、Ｗは、トリフレート（すなわち、ＴｆＯ－又はＣＦ３ＳＯ３
－）、テトラフルオロホウ酸塩（すなわち－ＢＦ４）、ヘキサフルオロアンチモネート（すなわち－ＳｂＦ６）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ６
－）、［Ｂ［３，５－（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４］－（［ＢＡｒＦ
４］－）、ハロゲン化物（例えばＣｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－）及びメシレート（ＭｓＯ－又はＭｅＳＯ３
－）からなる群から選択される。
【0107】
好ましくは、遷移金属触媒は、式（ＩＩ）の遷移金属触媒である。
【0108】
代替的に、遷移金属触媒は、式（ＩＩＩ）の遷移金属触媒である。
【0109】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、以下のものである
【0110】
【化2】
【0111】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、Ｒｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮである。
【0112】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、以下のものである
【0113】
【化3】
【0114】
本発明の好ましいプロセスにおいて、本発明のプロセスにおいて用いられる遷移金属触媒は、二座配位子を含む。
【0115】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（ＩＶ）を有する二座配位子を含み、
【0116】
【化4】
Ｘ’は、－ＮＨＲａｘであり、
Ｙ’は、－ＳＲａｘ、－ＯＲａｘ、－ＣＲａｘ、－ＮＲａｘＲｂｘ、－ＰＲａｘＲｂｘ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａｘＲｂｘ、－ＯＰＲａｘＲｂｘ、及び－ＮＨＰＲａｘＲｂｘから選択され、
Ｒ８ａ、Ｒ８ｂ、Ｒ９ａ、及びＲ９ｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
ｐは、１若しくは２であり、
Ｒａｘ及びＲｂｘは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｘ’及び／又はＹ’が－ＮＲａｘＲｂｘ、－ＰＲａｘＲｂｘ、－ＯＰＲａｘＲｂｘ、若しくは－ＮＨＰＲａｘＲｂｘである場合、Ｒａｘ及びＲｂｘは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0117】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（Ｖ）又は式（ＶＩ）を有する。
［Ｍ（Ｌ１）ｅ（Ｌ２）ｆ］ （Ｖ）
［Ｍ（Ｌ１）ｅ（Ｌ２）ｆ］Ｗ （ＶＩ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、同じ又は異なり得る、先に定義した二座配位子であり、
Ｌ２は、存在する場合、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｅは１又は２であり、ｅが１である場合、ｆは２、３又は４であり、ｅが２である場合、ｆは０、１又は２であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。
［Ｍ（Ｌ１）ｅ（Ｌ２）ｆ］ （Ｖ）
［Ｍ（Ｌ１）ｅ（Ｌ２）ｆ］Ｗ （ＶＩ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、同じ又は異なり得る、先に定義した二座配位子であり、
Ｌ２は、存在する場合、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｅは１又は２であり、ｅが１である場合、ｆは２、３又は４であり、ｅが２である場合、ｆは０、１又は２であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。
【0118】
Ｍ、Ｌ２及びＷは、一般的に上記のとおりである。
【0119】
本発明の好ましいプロセスにおいて、本発明のプロセスにおいて用いられる遷移金属触媒は、四座配位子を含む。
【0120】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（ＶＩＩ）を有する四座配位子を含み、
【0121】
【化5】
Ｑは、－ＳＲａｙ、－ＯＲａｙ、－ＣＲａｙ、－ＮＲａｙＲｂｙ、－ＰＲａｙＲｂｙ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａｙＲｂｙ、－ＯＰＲａｙＲｂｙ、及び－ＮＨＰＲａｙＲｂｙから選択され、
Ｒ１５及びＲｑは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＱは、ヘテロ原子であり、Ｒ１５と一緒になった場合、それは、Ｒｑが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｗは、Ｓ、Ｏ、ＮＲａ、及びＰＲａから選択され、
Ｒ１６、Ｒｗ及びＲｚは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
又はＲ１６は、Ｒｚと一緒になった場合、Ｒｗが存在しない場合、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｚは、－ＳＲａｙ、－ＯＲａｙ、－ＣＲａｙ、－ＮＲａｙＲｂｙ、－ＰＲａｙＲｂｙ、－Ｐ（＝Ｏ）ＲａｙＲｂｙ、－ＯＰＲａｙＲｂｙ、及び－ＮＨＰＲａｙＲｂｙから選択され、
Ｒ１０ａ、Ｒ１０ｂ、Ｒ１１ａ、及びＲ１１ｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｒ１０ａ、並びに及びＲ１１ａ及びＲ１１ｂのうちの１つ、若しくは、Ｒ１０ｂ、並びにＲ１１ａ及びＲ１１ｂのうちの１つは、それらが結合している原子と一緒になって、複素環を形成し、
Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１３ａ、Ｒ１３ｂ、及びＲ１４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｒは、各々独立して、１又は２であり、
ｓは、０、１又は２であり、
Ｒａｙ及びＲｂｙは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリールから選択され、又は、Ｑ及び／又はＺが－ＮＲａｙＲｂｙ、－ＰＲａｙＲｂｙ、－ＯＰＲａｙＲｂｙ、若しくは－ＮＨＰＲａｙＲｂｙである場合、Ｒａｙ及びＲｂｙは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。
【0122】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、式（ＶＩＩＩ）は式（ＩＸ）を有し、
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｇ］ （ＶＩＩＩ）
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｇ］Ｗ （ＩＸ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、先に定義した四座配位子であり、
Ｌ２は、存在する場合、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｇは、０、１又は２であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｇ］ （ＶＩＩＩ）
［Ｍ（Ｌ１）（Ｌ２）ｇ］Ｗ （ＩＸ）
式中、
Ｍは、遷移金属であり、
Ｌ１は、先に定義した四座配位子であり、
Ｌ２は、存在する場合、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｇは、０、１又は２であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。
【0123】
Ｍ、Ｌ２及びＷは、一般的に上記のとおりである。
【0124】
本発明の好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、共溶媒を使用する沈殿工程によって反応混合物から除去される。
【0125】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、生成物の蒸留によって反応混合物から除去される。
【0126】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、生成物の結晶化によって反応混合物から除去される。
【0127】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、遷移金属触媒は、金属スカベンジャを使用して反応混合物から除去される。
【0128】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、少なくとも１つのエステル部分を含有する。
【0129】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、１つのエステル部分を含有する。好ましくは、エステル含有基質は、式（Ｘ）のものである
【0130】
【化6】
Ｒ６及びＲ７は独立して、１～７０個の炭素原子を有する有機基であり、又は
Ｒ６／Ｒ７は、それらが結合している原子とともに環構造を形成する。
【0131】
本発明の好ましいプロセスにおいて、Ｒ６及びＲ７は独立して、１～７０個の炭素原子を有する有機基である。
【0132】
本発明の好ましいプロセスにおいて、Ｒ６は、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～７０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～７０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～７０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～７０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～７０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～７０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～７０－ヘテロアリール、好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～５０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～５０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～５０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～５０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～５０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～５０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～５０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～５０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～５０－ヘテロアリール、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～３０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～３０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～３０－アルキニル、置換若しくは非置換Ｃ１～３０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～３０－シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ３～３０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換Ｃ２～３０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～３０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～３０－ヘテロアリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ８～２０－アルキル）、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル（例えば、Ｃ８～２０－アルケニル）、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルキニル（例えば、Ｃ８～２０－アルキニル）、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル（例えば、Ｃ８～２０－ヘテロアルキル）、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルキル（例えば、Ｃ８～２０－シクロアルキル）、置換若しくは非置換Ｃ３～２０－シクロアルケニル（例えば、Ｃ８～２０－シクロアルケニル）、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－ヘテロシクロアルキル（例えば、Ｃ８～２０－ヘテロシクロアルキル）、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール（例えば、Ｃ８～２０－アリール）、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリール（例えば、Ｃ８～２０－ヘテロアリール）から選択される。好ましくは、Ｒ６は、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～７０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～７０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～７０－ヘテロアリール、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～５０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～５０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ１～５０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～５０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～５０－ヘテロアリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～３０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～３０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ１～３０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６～３０－アリール、及び置換若しくは非置換Ｃ４～３０－ヘテロアリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ８～２０－アルキル）、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル（例えば、Ｃ８～２０－アルケニル）、置換若しくは非置換Ｃ１～２０－ヘテロアルキル（例えば、Ｃ８～２０－ヘテロアルキル）、置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール（例えば、Ｃ８～２０－アリール）、及び置換若しくは非置換Ｃ４～２０－ヘテロアリール（例えば、Ｃ８～２０－ヘテロアリール）から選択される。より好ましくは、Ｒ６は、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～７０－アルケニル、及び置換若しくは非置換Ｃ６～７０－アリール、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～５０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～５０－アルケニル、及び置換若しくは非置換Ｃ６～５０－アリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～３０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２～３０－アルケニル、及び置換若しくは非置換Ｃ６～３０－アリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ８～２０－アルキル）、置換若しくは非置換Ｃ２～２０－アルケニル（例えば、Ｃ８～２０－アルケニル）、及び置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール（例えば、Ｃ８～２０－アリール）から選択される。より好ましくは、Ｒ６は、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－アルキル及び置換若しくは非置換Ｃ６～７０－アリール、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～５０－アルキル及び置換若しくは非置換Ｃ６～５０－アリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～３０－アルキル及び置換若しくは非置換Ｃ６～３０－アリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ８～２０－アルキル）、及び置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール（例えば、Ｃ８～２０－アリール）から選択される。更により好ましくは、Ｒ６は、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。
【0133】
本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、Ｒ６は、少なくとも９個の炭素原子を含有する脂肪族基である。好ましくは、Ｒ６は、置換若しくは非置換Ｃ９～７０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ９～７０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ９～７０－シクロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ９～７０－シクロアルケニル、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ９～５０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ９～５０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ９～５０－シクロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ９～５０－シクロアルケニル、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ９～３０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ９～３０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ９～３０－シクロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ９～３０－シクロアルケニル、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ９～２０－アルキル、置換若しくは非置換Ｃ９～２０－アルケニル、置換若しくは非置換Ｃ９～２０－シクロアルキル、及び置換若しくは非置換Ｃ９～２０－シクロアルケニルから選択される。
【0134】
本発明の好ましいプロセスにおいて、Ｒ７は、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－アルキル又は置換若しくは非置換Ｃ６～７０－アリール、好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～５０－アルキル又は置換若しくは非置換Ｃ６～５０－アリール、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～３０－アルキル又は置換若しくは非置換Ｃ６～３０－アリール、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ８～２０－アルキル）又は置換若しくは非置換Ｃ６～２０－アリール（例えば、Ｃ８～２０－アリール）から選択される。好ましくは、Ｒ７は、置換若しくは非置換Ｃ１～７０－アルキル、より好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～５０－アルキル、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～３０－アルキル、更により好ましくは置換若しくは非置換Ｃ１～２０－アルキル（例えば、Ｃ８～２０－アルキル）から選択される。より好ましくは、Ｒ７は、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、及びオクチルから選択される。
【0135】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、メチルエステル（例えば、酢酸メチル）である。
【0136】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、エチルエステル（例えば、酢酸エチル）である。
【0137】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、ワックスエステルである。
【0138】
本発明の好ましいプロセスにおいて、Ｒ６／Ｒ７は、それらが結合している原子とともに環構造を形成する（すなわち、環構造は、ラクトンである）。好ましくは、環構造は、４～７員環系である。より好ましくは、環構造は、５～６員環系である。
【0139】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、２つ以上のエステル部分、好ましくは２つ又は３つのエステル部分を含有する。
【0140】
本発明の好ましいプロセスにおいて、エステル含有基質は、以下から選択される
【0141】
【化7】
【0142】
【化8】
【0143】
エステル含有基質がモノエステルである場合、本発明のプロセスの生成物は、アルコールである。エステル含有基質がラクトンである場合、本発明のプロセスの生成物は、ジオールである。エステル含有基質が複数のエステル部分を含有する場合、本発明のプロセスの生成物は、ポリオール及びアルコールである。本発明の好ましいプロセスにおいて、本プロセスは、ヘミアセタール副生成物を生成しない。
【0144】
エステル含有基質がアルケニル及び／又はアルキニル部分を含有する場合、本発明のプロセスは、好ましくは、アルケン及び／又はアルキンの不飽和炭素－炭素結合よりもエステル部分を選択的に水素化する。代替的に、エステル含有基質がアルケニル及び／又はアルキニル部分を含有する場合、本発明のプロセスは、好ましくは、アルケン及び／又はアルキンのエステル部分及び不飽和炭素－炭素結合の両方を水素化する。
【0145】
エステル含有基質がケトン及び／又はアルデヒド部分を含有する場合、本発明のプロセスは、好ましくはエステル部分並びにケトン及び／又はアルデヒドの炭素－酸素二重結合の両方を水素化する。
【0146】
エステル含有基質がアルケニル及び／又はアルキニル部分、並びにケトン及び／又はアルデヒド部分を含有する場合、本発明のプロセスは、好ましくは、アルケン及び／又はアルキンの不飽和炭素－炭素結合よりも、エステル部分並びにケトン及び／又はアルデヒドの炭素－酸素二重結合の両方を選択的に水素化する。代替的に、エステル含有基質がアルケニル及び／又はアルキニル部分、並びにケトン及び／又はアルデヒド部分を含有する場合、本発明のプロセスは、好ましくは、エステル部分、アルケン及び／又はアルキンの不飽和炭素－炭素結合、並びにケトン及び／又はアルデヒドの炭素－酸素二重結合を水素化する。
【0147】
当業者によって理解されるように、アルコキシド塩基が添加され、本発明の水素化プロセスの間、存在し続ける。アルコキシド塩基は、反応混合物から回収され、本発明のその後の水素化プロセスにおいて再循環又は再使用することができる。例えば、エステル含有基質が酢酸エチルであり、塩基がナトリウムエトキシドである場合、水素化反応はエタノールを生成し、ナトリウムエトキシドを生成物として戻し、回収されたナトリウムエトキシドは再循環又は再利用することができる。別の例として、エステル含有基質がデカン酸エチルであり、塩基がナトリウムエトキシドである場合、水素化反応はエタノール及びデカノールを生成する。この場合、回収され再使用可能なアルコキシド塩基は、ナトリウムエトキシド及び／又はデカン酸ナトリウムであり得る。
【0148】
本発明の好ましいプロセスにおいて、プロセスはバッチプロセスである。好ましくは、本プロセスはバッチプロセスであり、任意の過剰の塩基は再循環又は再使用される。塩基は、１回、２回、３回、又はそれ以上再循環又は再使用され得る。
【0149】
本発明の好ましいプロセスにおいて、プロセスは、フロープロセスである。好ましくは、本プロセスは、任意の過剰な塩基が再循環又は再使用されるフロープロセスである。塩基は、１回、２回、３回、又はそれ以上再循環又は再使用され得る。
【0150】
これから、以下の非限定的な実施例を用いて本発明を更に説明する。
【実施例】
【0151】
材料
Ｒｕ－ＳＮＳ及びＲｕ－ＰＮＮは、Ｊｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙから市販されている。
Ｒｕ－ＳＮＳ及びＲｕ－ＰＮＮは、Ｊｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙから市販されている。
【0152】
Ｒｕ－ＳＮＮは、Ｐｕｙｌａｅｒｔ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０１７，２３，８４７３－８４８１に概要を述べた手順により作製された。
【0153】
ＮａＯＥｔ並びにエステル含有基質ＥＥ１、ＥＥ２、ＥＥ３、ＥＥ５、ＥＥ６、ＭＥ１、ＭＥ２、ＭＥ６、ＷＥ１、ＭＭ、ＥＭ、ＥＴＤ、ＥＤ、ＭＯ、及び酢酸エチルは全て、例えばＳｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、Ａｃｒｏｓ Ｏｒｇａｎｉｃｓなどから市販されている。
【0154】
測定方法
ガスクロマトグラフィ（gas chromatography、ＧＣ）測定は、Ｖａｒｉａｎ３９００又は３８００ガスクロマトグラフシステムを使用して行った。別途示されない限り、反応変換率は、ＧＣ分析によって判定した。
ガスクロマトグラフィ（gas chromatography、ＧＣ）測定は、Ｖａｒｉａｎ３９００又は３８００ガスクロマトグラフシステムを使用して行った。別途示されない限り、反応変換率は、ＧＣ分析によって判定した。
【0155】
核磁気共鳴（nuclear magnetic resonance、ＮＭＲ）測定は、Ｂｒｕｋｅｒ Ａｖａｎｃｅ ＩＩＩ ４００（４００ＭＨｚ）分光計を使用して行った。
【0156】
エステル水素化のための一般手順
８ｍＬバイアルに、触媒Ｒｕ－ＳＮＳ、Ｒｕ－ＰＮＮ、Ｒｕ－ＳＮＮを添加し、続いて固体塩基、ＮａＯＥｔ、次いで１０～２０ｍｍｏｌのエステル含有基質を添加した。次いで、バイアルをＢｉｏｔａｇｅ Ｅｎｄｅａｖｏｒスクリーニングシステムに加えた後、撹拌ヘッドを密封し、反応混合物を窒素でパージした。パージシーケンスは、約４５ｐｓｉの窒素に加圧し、次いで圧力を解放することを含んでいた（５回繰り返した）。次いで、反応器を水素で加圧し、次いで加熱し、水素の設定圧力まで加圧した。反応時間（典型的には１６時間）が完了したら、反応物を室温まで冷却した。次いで、窒素パージサイクル（５回繰り返し）を行って水素を除去した。次いで、反応混合物をＧＣ及びＮＭＲによって分析した。
８ｍＬバイアルに、触媒Ｒｕ－ＳＮＳ、Ｒｕ－ＰＮＮ、Ｒｕ－ＳＮＮを添加し、続いて固体塩基、ＮａＯＥｔ、次いで１０～２０ｍｍｏｌのエステル含有基質を添加した。次いで、バイアルをＢｉｏｔａｇｅ Ｅｎｄｅａｖｏｒスクリーニングシステムに加えた後、撹拌ヘッドを密封し、反応混合物を窒素でパージした。パージシーケンスは、約４５ｐｓｉの窒素に加圧し、次いで圧力を解放することを含んでいた（５回繰り返した）。次いで、反応器を水素で加圧し、次いで加熱し、水素の設定圧力まで加圧した。反応時間（典型的には１６時間）が完了したら、反応物を室温まで冷却した。次いで、窒素パージサイクル（５回繰り返し）を行って水素を除去した。次いで、反応混合物をＧＣ及びＮＭＲによって分析した。
【0157】
実施例１：エステル水素化
上記の一般的手順を、以下のエステル含有基質に対して行った
上記の一般的手順を、以下のエステル含有基質に対して行った
【0158】
【化9】
【0159】
各反応で使用した条件を以下の表１ａ及び１ｂに列挙する。変換率及びＴＯＮに関する各反応の結果も表１ａ及び１ｂに列挙する。基質がＥＥ３及びＥＴＤであった場合、炭素－炭素二重結合は反応条件下で還元されなかった（すなわち、プロセスはエステル部分の還元について選択的であった）。
【0160】
表１ａ及び１ｂの結果は、本発明のプロセスが、メチルエステル、エチルエステル、更にワックスエステルを含む広範囲のエステル含有基質のエステル水素化のための高い変換率及び工業的に有用なＴＯＮを、極めて低い触媒充填量（例えば、４００，０００／１ Ｓ／Ｃ以下）で達成することができることを示す。これらの結果はまた、三座配位子を含有する様々な異なる遷移金属触媒を使用して水素化反応を行うことができることを示している。
【0161】
表１ａのエントリ１は更に、５バールという低い水素圧力でさえ、効率的なターンオーバー（ＴＯＮ＝４８６５０）及び変換率（９７．３％）が、非常に低い触媒充填量（５０，０００／１ Ｓ／Ｃ、ＥＥ１／Ｒｕ－ＰＮＮ）で依然として達成され得ることを実証する。
【0162】
表１ａのエントリ３は、３２４０００の非常に高いＴＯＮが達成されたので、経済的なエステル水素化プロセスが極めて低い触媒充填量（４００，０００／１ Ｓ／Ｃ、ＥＥ１／Ｒｕ－ＳＮＳ）で達成され得ることを更に示す。反応は８１．０％の変換率で進行したが、これは、非常に低い触媒充填量で生じる触媒活性と変換率との間のトレードオフによるものと考えられる。そのような高いＴＯＮ値では、出発物質及び生成物が容易に分離可能であるため、部分的な変換は問題ではない。回収された出発物質は、次に、本発明のエステル水素化プロセスに再度供することができる。
【0163】
表１ｂのエントリ５及び６は、少量の溶媒（例えば、ＥｔＯＨ）の使用が変換又はＴＯＮに有害でないことを更に示す。反対に、本発明者らは、この方法での溶媒の使用が、特定のタイプの基質に対する反応性能の改善に役立ち得ることを見出した。
【0164】
実施例２ａ：塩基の量の変化
エステル含有基質としてドデカン酸エチル（ＥＥ２）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮのいずれかを使用して（１００，０００／１のＳ／Ｃ充填量で）、上記の一般的手順を実施した。温度、圧力、触媒充填量、及び基質量を一定に保ったが、固体ＮａＯＥｔ塩基の量を変化させた。結果を下記表２ａに示す。
エステル含有基質としてドデカン酸エチル（ＥＥ２）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮのいずれかを使用して（１００，０００／１のＳ／Ｃ充填量で）、上記の一般的手順を実施した。温度、圧力、触媒充填量、及び基質量を一定に保ったが、固体ＮａＯＥｔ塩基の量を変化させた。結果を下記表２ａに示す。
【0165】
表２ａの結果は、反応混合物中の固体ＮａＯＥｔ塩基の量が増加すると、Ｓ／Ｃ触媒充填量が極めて低いままである（すなわち、１００，０００／１）にもかかわらず、エステル水素化反応の変換率が劇的に増加することを明確に示している。これは、両方の組の実験、すなわち、Ｒｕ－ＳＮＳ触媒を含むもの及びＲｕ－ＰＮＮ触媒を含むものについて観察された。各組の実験において、変換率は、塩基が１０モル％から４０モル％まで増加するにつれて増加する。更に、塩基の量が少なくとも３０モル％である場合、９６％を超える変換率を達成することができる。３０モル％未満の塩基量では著しく低い変換率が観察され、例えば２０モル％の塩基では、Ｒｕ－ＳＮＳについて８５．７％の変換率が観察され、Ｒｕ－ＰＮＮについて５９．３％の変換率が観察されたが、１０モル％の塩基では、Ｒｕ－ＳＮＳについて５３．５％の変換率が観察され、Ｒｕ－ＰＮＮについて２５．４％の変換率が観察された。
【0166】
実施例２ｂ：塩基の量の変化
エステル含有基質としてデカン酸エチル（ethyl decanoate、ＥＤ）及び触媒としてＲｕ－ＰＮＮ（１００，０００／１のＳ／Ｃ充填量で）を使用して、上記の一般的手順を実施した。温度、圧力、触媒充填量、及び基質量を一定に保ったが、固体ＮａＯＥｔ塩基の量を変化させた。いくつかの実験において、用いられる塩基の量は、実施例２ａの実験で用いられる量よりも多かった。結果を下記表２ｂに示す。
エステル含有基質としてデカン酸エチル（ethyl decanoate、ＥＤ）及び触媒としてＲｕ－ＰＮＮ（１００，０００／１のＳ／Ｃ充填量で）を使用して、上記の一般的手順を実施した。温度、圧力、触媒充填量、及び基質量を一定に保ったが、固体ＮａＯＥｔ塩基の量を変化させた。いくつかの実験において、用いられる塩基の量は、実施例２ａの実験で用いられる量よりも多かった。結果を下記表２ｂに示す。
【0167】
表２ｂの結果は、反応混合物中の固体ＮａＯＥｔ塩基の量が増加すると、Ｓ／Ｃ触媒充填量が極めて低いままである（すなわち、１００，０００／１）にもかかわらず、エステル水素化反応の変換率が増加することを示す。これらの実験において、変換率は、塩基が３０モル％から５０モル％まで増加するにつれて増加した。
【0168】
実施例２ｃ：塩基の量の変化
エステル含有基質としてデカン酸エチル（ＥＤ）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮのいずれかを使用して（５０，０００／１のＳ／Ｃ充填量で）、上記の一般的手順を実施した。温度、圧力、触媒充填量、及び基質量を一定に保ったが、固体ＮａＯＥｔ塩基の量を変化させた。結果を下記表２ｃに示す。
エステル含有基質としてデカン酸エチル（ＥＤ）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮのいずれかを使用して（５０，０００／１のＳ／Ｃ充填量で）、上記の一般的手順を実施した。温度、圧力、触媒充填量、及び基質量を一定に保ったが、固体ＮａＯＥｔ塩基の量を変化させた。結果を下記表２ｃに示す。
【0169】
実施例２ａ及び２ｂに説明される実験と比較して、実施例２ｃの実験は、１２バールのより低い水素圧力で行った。これは、反応がより低い水素濃度によって制限されるので、塩基の量の変化の効果がより顕著であることを意味する。表２ｃの結果は、より多くの塩基を使用する反応においてより高い活性が観察されたことを示す：Ｒｕ－ＳＮＳ及びＲｕ－ＰＮＮの両方について、使用される塩基の量も増加するにつれて、変換率が徐々に増加した。ターンオーバー頻度（turnover frequency、ＴＯＦ）は、反応変換率と同様のパターンに従うことが見出され、Ｒｕ－ＰＮＮ触媒反応についての値は、Ｒｕ－ＳＮＳによって触媒されるものよりも高く、Ｒｕ－ＰＮＮがより低い水素圧力でより活性な触媒であることを示唆した。したがって、実施例２ｃは、より多量の塩基を使用することにより、低い水素圧力で触媒活性及び変換率を改善することができることを示す。
【0170】
実施例３ａ：温度の変化
エステル含有基質として安息香酸エチル（ＥＥ１）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ（５０，０００／１又は１００，０００／１のいずれかのＳ／Ｃ充填量で）を使用して、上記の一般的手順を行った。圧力及び塩基の量を一定に保ったが、反応を行う温度を変化させた。結果を下記表３に示す。
エステル含有基質として安息香酸エチル（ＥＥ１）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ（５０，０００／１又は１００，０００／１のいずれかのＳ／Ｃ充填量で）を使用して、上記の一般的手順を行った。圧力及び塩基の量を一定に保ったが、反応を行う温度を変化させた。結果を下記表３に示す。
【0171】
第１の点として、触媒を用いなかった場合（エントリ１）に０％の変換率が観察されたので、このエステル含有基質の水素化をもたらすために触媒が必要であることが明らかである。
【0172】
エントリ２及び３は、同じ実験の繰り返しであり、ここでは以下の条件を使用した：５０，０００／１触媒充填量、３０バール水素圧力、５０ｍｏｌ％ＮａＯＥｔ塩基、２０ｍｍｏｌ基質、及び４０℃温度。水素化反応について高い変換率が観察された（それぞれ９９．０％及び９９．２％）。６５℃のより高い温度を使用して実験を繰り返した場合、変換率は、７９．０％に有意に減少した（エントリ４）。
【0173】
エントリ５及び６は、同じ実験の繰り返しであり、ここでは以下の条件を使用した：１００，０００／１触媒充填量、３０バール水素圧、５０ｍｏｌ％ＮａＯＥｔ塩基、２０ｍｍｏｌ基質、及び４０℃温度。水素化反応について高い変換率が観察された（それぞれ９９．０％及び９９．４％）。６５℃のより高い温度を使用して実験を繰り返した場合、変換率は、８２．５％に有意に減少した（エントリ７）。
【0174】
表３の結果は、エステル水素化反応がより低い温度でより高い変換率を達成することを示す。
【0175】
実施例３ｂ及び３ｃ：温度の変化
オレイン酸エチルＥＥ３（工業グレード、７０％、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ製）を最初に純度についてＧＣによって分析した。結果は、実施例３ｂ及び３ｃで使用したオレイン酸エチルが以下の組成を有することを示し、いくつかの副生成物がその後の水素化反応において予想されることを示した。
オレイン酸エチルＥＥ３（工業グレード、７０％、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ製）を最初に純度についてＧＣによって分析した。結果は、実施例３ｂ及び３ｃで使用したオレイン酸エチルが以下の組成を有することを示し、いくつかの副生成物がその後の水素化反応において予想されることを示した。
【0176】
【表1】
【0177】
実施例３ｂ
エステル含有基質としてオレイン酸エチル（ＥＥ３）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳを使用して、上記の一般的手順を行った。圧力、基質量、及び塩基量を一定に保ったが、反応が行われる触媒充填量（Ｓ／Ｃ）及び温度を変化させた。結果を下記表４に示す。
エステル含有基質としてオレイン酸エチル（ＥＥ３）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳを使用して、上記の一般的手順を行った。圧力、基質量、及び塩基量を一定に保ったが、反応が行われる触媒充填量（Ｓ／Ｃ）及び温度を変化させた。結果を下記表４に示す。
【0178】
２５，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、４０℃及び６５℃の温度を用い、他の全ての条件を一定に保った場合と同様であった。温度を８０℃に上昇させた場合、Ｃ１８：１変換率の有意な減少が観察された（エントリ１、４、及び７）。
【0179】
５０，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、温度を４０℃から６５℃に上昇させ、全ての他の条件を一定に維持した場合、１００％から９３．２％に減少した（エントリ２及び５）。
【0180】
１００，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、温度を４０℃から及び６５℃に上昇させ、全ての他の条件を一定に維持した場合、９９．１％から９．７％に劇的に減少した（エントリ３及び６）。
【0181】
表４の結果は、エステル水素化がより低い温度でより高いＣ１８：１変換率を達成することを示している。更に、この効果は、より低い触媒充填量でより顕著であり、温度が増加するにつれて、Ｃ１８：１変換率のより大きい減少が見られる。
【0182】
実施例３ｃ
エステル含有基質としてオレイン酸エチル（ＥＥ３）及び触媒としてＲｕ－ＰＮＮを使用して、上記の一般的手順を行った。圧力、基質量、及び塩基量を一定に保ったが、反応が行われる触媒充填量（Ｓ／Ｃ）及び温度を変化させた。結果を下記表５に示す。
エステル含有基質としてオレイン酸エチル（ＥＥ３）及び触媒としてＲｕ－ＰＮＮを使用して、上記の一般的手順を行った。圧力、基質量、及び塩基量を一定に保ったが、反応が行われる触媒充填量（Ｓ／Ｃ）及び温度を変化させた。結果を下記表５に示す。
【0183】
２５，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、４０℃、６５℃及び８０℃の温度を用い、他の全ての条件を一定に保った場合（エントリ１、４、及び７）と同様であった。
【0184】
１００，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、温度を４０℃から６５℃に上昇させ、全ての他の条件を一定に維持した場合、１００％から５１．６％に劇的に減少した（エントリ３及び６）。
【0185】
表５の結果は、エステル水素化がより低い温度でより高いＣ１８：１変換率を達成することを示している。再び、この効果は、より低い触媒充填量でより顕著であり、温度が増加するにつれてＣ１８：１変換率のより大きい減少が見られる。
【0186】
実施例３ａ、３ｂ及び３ｃの結果は、エステル水素化反応が温度に敏感であり、より低い温度（例えば、約４０℃）での反応変換に関して最良に機能することを示す。これは、一連のエステル含有基質及び触媒にわたって実証されている。より低い反応温度は、非常に低い触媒充填量が使用される場合に特に有益である。
【0187】
実施例３ｄ：温度の変化
最初に、オレイン酸メチル（ＴｈｅｒｍｏＦｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃからの工業グレード、Ｃ１８’７０～８５％）を純度についてＧＣによって分析した。結果は、実施例３ｄで使用したオレイン酸メチルが以下の組成を有することを示し、いくつかの副生成物がその後の水素化反応において予想されることを示した。
最初に、オレイン酸メチル（ＴｈｅｒｍｏＦｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃからの工業グレード、Ｃ１８’７０～８５％）を純度についてＧＣによって分析した。結果は、実施例３ｄで使用したオレイン酸メチルが以下の組成を有することを示し、いくつかの副生成物がその後の水素化反応において予想されることを示した。
【0188】
【表2】
【0189】
エステル含有基質としてオレイン酸メチルを使用し、触媒としてＲｕ－ＳＮＳを使用して、上記の一般的手順を行った。圧力、基質量、及び塩基量を一定に保ったが、反応が行われる触媒充填量（Ｓ／Ｃ）及び温度を変化させた。結果を下記表６に示す。
【0190】
２５，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、４０℃、５０℃及び６０℃の温度を用い、他の全ての条件を一定に保った場合と同様であった。温度を７０℃に上昇させると、Ｃ１８：１変換率の有意な減少が観察された。
【0191】
５０，０００／１（Ｓ／Ｃ）の触媒充填量では、Ｃ１８：１水素化反応変換率は、温度が４０℃から７０℃（１０℃の増分で）に増加するにつれて一貫して減少し、他の全ての条件は、一定に保たれた。
【0192】
表６の結果は、エステル水素化がより低い温度でより高いＣ１８：１変換率を達成することを示している。再び、この効果は、より低い触媒充填量でより顕著であり、温度が増加するにつれてＣ１８：１変換率のより大きい減少が見られる。
【0193】
実施例４：圧力の変化
実施例３ｂ及び３ｃで使用したオレイン酸エチル（ＥＥ３）試料を、実施例４でも用いた。
実施例３ｂ及び３ｃで使用したオレイン酸エチル（ＥＥ３）試料を、実施例４でも用いた。
【0194】
エステル含有基質としてオレイン酸エチル（ＥＥ３）及び触媒としてＲｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮを使用して、上記の一般的手順を実施した。この実施例において、エステル水素化反応は、１０バールのより低い水素圧力で行った。結果を下記表７に示す。
【0195】
表７のエントリ１と表４のエントリ２との比較は、匹敵する結果を示す。したがって、全ての他の変数が一定のままである場合、Ｒｕ－ＳＮＳを使用して行われるエステル水素化反応は、（表４のエントリ２における３０バールと比較して）１０バールのはるかに低い水素圧であっても高いＣ１８：１変換率を達成する。
【0196】
表７のエントリ２と表５のエントリ２との比較もまた、匹敵する結果を示す。したがって、全ての他の変数が一定のままである場合、Ｒｕ－ＰＮＮを使用して行われるエステル水素化反応は、（表５のエントリ２における３０バールと比較して）１０バールのはるかに低い水素圧であっても高いＣ１８：１変換率を達成する。
【0197】
本発明のエステル水素化プロセスをより低い圧力で操作することができることは、コストの削減及び安全性の改善という追加の利点を提供する。加えて、高圧に耐えなければならない特別な装置の必要性が回避される。
【0198】
実施例５：塩基の再循環／再利用
一連の実験を行って、水素化反応の１回目の実行からの塩基を後続の２回目の実行において再循環／再使用することが可能であるかどうかを判定した。
一連の実験を行って、水素化反応の１回目の実行からの塩基を後続の２回目の実行において再循環／再使用することが可能であるかどうかを判定した。
【0199】
・１回目の実行
エステル含有基質として酢酸エチルを、触媒としてＲｕ－ＰＮＮを（５０，０００／１のＳ／Ｃの充填量で）使用して、上記の一般的手順を実施した。以下の表８ａに示す条件を使用して、反応を３回繰り返した。
エステル含有基質として酢酸エチルを、触媒としてＲｕ－ＰＮＮを（５０，０００／１のＳ／Ｃの充填量で）使用して、上記の一般的手順を実施した。以下の表８ａに示す条件を使用して、反応を３回繰り返した。
【0200】
・２回目の実行
水素化反応のエタノール生成物を、１回目の実行の反応混合物の各々から真空下で除去した。次いで、各反応から回収された塩基（この場合、ＮａＯＥｔ）を、第２の実行のために３つの別個のバイアルに移した。次いで、バイアルを以下のように調製した。
水素化反応のエタノール生成物を、１回目の実行の反応混合物の各々から真空下で除去した。次いで、各反応から回収された塩基（この場合、ＮａＯＥｔ）を、第２の実行のために３つの別個のバイアルに移した。次いで、バイアルを以下のように調製した。
【0201】
試験（ｉ）、表８ａの実験１の反応混合物を使用－新鮮な酢酸エチル基質（２ｍＬ、２０．４７ｍｍｏｌ）の添加、新鮮なＲｕ－ＰＮＮ触媒（０．３０９ｍｇ、４．０９×１０－３ｍｍｏｌ）の添加、及び新鮮なＮａＯＥｔ塩基の最大５０ｍｏｌ％までの添加、
試験（ｉｉ）、表８ａの実験２の反応混合物を使用－新鮮な酢酸エチル基質（２ｍＬ、２０．４７ｍｍｏｌ）の添加及び新鮮なＲｕ－ＰＮＮ触媒（０．３０９ｍｇ、４．０９×１０－３ｍｍｏｌ）の添加。
試験（ｉｉ）、表８ａの実験２の反応混合物を使用－新鮮な酢酸エチル基質（２ｍＬ、２０．４７ｍｍｏｌ）の添加及び新鮮なＲｕ－ＰＮＮ触媒（０．３０９ｍｇ、４．０９×１０－３ｍｍｏｌ）の添加。
【0202】
次いで、バイアルをＢｉｏｔａｇｅ Ｅｎｄｅａｖｏｒスクリーニングシステムに添加し、上記の一般的手順に従って水素化反応を行った。結果を下記表８ｂに示す。
【0203】
結果は、再循環／再使用された塩基のみを使用して行われた反応（試験（ｉｉ））が、新鮮な塩基で補充された反応（試験（ｉ））と比較して、変換率に関して同等に良好に機能し、同様の反応速度が両方について観察されたことを示す。これらの結果は、水素化反応の１回目の実行において生成された塩基が、２回目の実行において効果的に再循環／再使用され得ることを示す。生成された塩基の更なる再循環／再使用が、例えば３回目の実行において行われ得ることも想定される。これは、特に工業規模で、プロセス全体をより費用効果的にする可能性を有する。結果はまた、例えばプロセスを小規模で操作する場合に、機械的損失を軽減するために、再循環／再使用される塩基を新鮮な塩基で補充することが可能であることを示す。
【0204】
【表3】
【0205】
【表4】
【0206】
【表5】
【0207】
【表6】
【0208】
【表7】
【0209】
【表8】
【0210】
【表9】
【0211】
【表10】
【0212】
【表11】
【0213】
【表12】
【0214】
【表13】
【0215】
【表14】
【国際調査報告】