特表 2023-548602 アンビエントコントラスト強調を伴う光ディスプレイデバイス及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2023-11-17

(54)【発明の名称】アンビエントコントラスト強調を伴う光ディスプレイデバイス及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   F21S 2/00 20160101AFI20231110BHJP

   G02B 5/00 20060101ALI20231110BHJP

   G02B 1/11 20150101ALI20231110BHJP

   H10K 59/10 20230101ALI20231110BHJP

   H10K 59/38 20230101ALI20231110BHJP

   F21V 11/02 20060101ALI20231110BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20231110BHJP

   G09F 9/00 20060101ALI20231110BHJP

   H01L 33/00 20100101ALI20231110BHJP

   H01L 33/58 20100101ALI20231110BHJP

   H10K 50/86 20230101ALN20231110BHJP

   F21Y 115/10 20160101ALN20231110BHJP

   F21Y 113/10 20160101ALN20231110BHJP

【ＦＩ】

F21S2/00 481

G02B5/00 Z

G02B5/00 B

G02B1/11

H10K59/10

H10K59/38

F21V11/02

G09F9/30 365

G09F9/00 338

H01L33/00 L

H01L33/58

H10K50/86

F21Y115:10

F21Y113:10

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023527338

(86)(22)【出願日】2021-11-03

(85)【翻訳文提出日】2023-07-10

(86)【国際出願番号】 US2021057803

(87)【国際公開番号】W WO2022098683

(87)【国際公開日】2022-05-12

(31)【優先権主張番号】10-2020-0147757

(32)【優先日】2020-11-06

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】397068274

【氏名又は名称】コーニング インコーポレイテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100103610

【弁理士】

【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100098475

【弁理士】

【氏名又は名称】倉澤 伊知郎

(74)【代理人】

【識別番号】100130937

【弁理士】

【氏名又は名称】山本 泰史

(74)【代理人】

【識別番号】100144451

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 博子

(74)【代理人】

【識別番号】100170634

【弁理士】

【氏名又は名称】山本 航介

(72)【発明者】

【氏名】ジュン サン－チョル

(72)【発明者】

【氏名】キム デ ヨン

(72)【発明者】

【氏名】リ グ ス

(72)【発明者】

【氏名】リ キュン－ジン

(72)【発明者】

【氏名】シン ドン クン

(72)【発明者】

【氏名】ユン ホン

【テーマコード（参考）】

2H042

2K009

3K107

3K244

5C094

5F142

5G435

【Ｆターム（参考）】

2H042AA02

2H042AA03

2H042AA06

2H042AA10

2H042AA11

2H042AA15

2H042AA26

2K009AA02

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC32

3K107EE22

3K107EE27

3K107FF03

3K107FF06

3K107FF15

3K244AA09

3K244BA18

3K244BA48

3K244CA02

3K244DA01

3K244DA17

3K244GA02

3K244GA06

3K244GA20

3K244GC23

3K244GC29

3K244GC30

3K244LA10

5C094BA27

5C094DA13

5C094ED01

5C094ED12

5C094ED20

5C094FA03

5C094FA04

5C094FB06

5C094GB10

5C094JA01

5C094JA08

5C094JA13

5F142BA32

5F142CB14

5F142CB23

5F142DB35

5F142DB37

5F142GA02

5F142HA03

5G435BB05

5G435FF14

5G435HH03

5G435KK05

5G435KK07

(57)【要約】

バックプレーン基板と、バックプレーン基板の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタとを有する光学ディスプレイデバイス。バックプレーン基板は、複数のエレクトロルミネセント素子を含み、アンビエントコントラストフィルタは、列状に配置された複数の光吸収楔形特徴を含む。幾つかの実施形態では、アンビエントコントラストフィルタは、ガラス基板層を含むことができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光ディスプレイデバイスであって、
その上に平行な列状に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子を含むバックプレーン基板であって、前記エレクトロルミネセント素子の各列がアライメント軸を含む、バックプレーン基板と、
前記バックプレーン基板の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタであって、前記アンビエントコントラストフィルタが、ポリマー支持層と、前記ポリマー支持層上に配置されたマイクロ複製薄膜ベース層とを含み、前記マイクロ複製薄膜ベース層は、平行な列状に配置された複数の光吸収楔形特徴を含み、前記各光吸収楔形特徴が長手方向軸を含む、アンビエントコントラストフィルタと、
を備え、前記アンビエントコントラストフィルタがガラス層を含まない、光ディスプレイデバイス。

【請求項2】

前記アンビエントコントラストフィルタは、前記マイクロ複製薄膜ベース層上に配置された光吸収層を更に含む、請求項１に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項3】

前記光吸収層の厚さは、約１０ｎｍから約１μｍの範囲である、請求項２に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項4】

前記複数の光吸収楔形特徴の高さＨ１が、約１０μｍから約１００μｍの範囲にある、請求項１に記載の光学ディスプレイデバイス。

【請求項5】

Ｈ１が約１０μｍから約４０μｍの範囲にある、請求項４に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項6】

前記複数の楔形特徴の各楔形特徴は、約５μｍから約１５μｍの範囲の最大断面幅Ｗ１を有する、請求項５に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項7】

Ｈ１／Ｗ１が約２以上である、請求項６に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項8】

Ｈ１／Ｗ１が約２から約６の範囲にある、請求項７に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項9】

前記複数の楔形特徴のピッチＰ１が、約５μｍから約４０μｍの範囲にある、請求項１に記載の光学ディスプレイデバイス。

【請求項10】

前記複数の楔形特徴の各楔形特徴のベースと前記各楔形特徴の隣接する側壁との間の角度が、約８５度から９０度未満の範囲にある、請求項１に記載の光学ディスプレイデバイス。

【請求項11】

前記アンビエントコントラストフィルタは、反射防止層を含む、請求項１に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項12】

前記アンビエントコントラストフィルタは、前記光吸収層上に配置された反射防止層を含む、請求項１に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項13】

前記複数の楔形特徴の屈折率がｎＢであり、前記マイクロ複製薄膜ベース層の屈折率がｎＦであると、Δｎ＝ｎＢ－ｎＦ及び－０．３＜Δｎ＜０である。

【請求項14】

アンビエントコントラストフィルタを形成する方法であって、
第１のパターニングローラを第１の方向に回転させるステップであって、前記第１のパターニングローラは、そこから延びる複数の突出部を有する第１の円周面を含む、ステップと、
第１の支持ローラを、第１の方向とは反対の第２の方向に回転させるステップであって、前記第１の支持ローラは、前記第１の円周面から第１のギャップだけ離間した第２の円周面を含む、ステップと、
第２の支持ローラを第２の方向に回転させるステップであって、前記第２の支持ローラは第３の円周面を含み、前記第３の円周面は、前記第１の円周面から第２のギャップだけ離間しており、前記第１のパターニングローラは、前記第１の支持ローラと前記第２の支持ローラとの間に位置する、ステップと、
ポリマー支持層を前記第１のギャップに誘導するステップと、
前記ポリマー支持層と前記第１のパターニングローラの前記第１の円周面との間の前記第１のギャップにポリマーマトリックス材料を分配するステップであって、前記第１のパターニングローラは前記ポリマーマトリックス材料に複数の凹部を形成する、ステップと、
前記ポリマー支持層及び前記ポリマーマトリックス材料に第１のＵＶ光を照射するステップであって、前記第１のＵＶ光によって前記ポリマーマトリックス材料を硬化させて、前記ポリマー支持層に結合されたマイクロ複製薄膜ベース層を形成し、前記マイクロ複製薄膜ベース層及び前記ポリマー支持層がマイクロ複製薄膜を形成する、ステップと、
を含む、方法。

【請求項15】

前記マイクロ複製薄膜を前記第２の支持ローラの第３の円周面と前記第１の方向に回転する塗布ローラの第４の円周面との間の第３のギャップに誘導するステップと、
前記マイクロ複製薄膜と前記塗布ローラの第４の円周面との間の前記第３のギャップに光吸収材料を分配するステップであって、前記光吸収材料が前記凹部を充填する、ステップと、
前記光吸収材料に第２のＵＶ光を照射して、前記光吸収材料を少なくとも部分的に硬化させ、前記マイクロ複製薄膜ベース層に複数の光吸収楔形特徴を形成するステップであって、前記ポリマー支持層、前記マイクロ複製薄膜ベース層、及び前記複数の光吸収楔形特徴がアンビエントコントラスト強化層を形成する、ステップと、
を更に含む、請求項１４に記載の方法。

【請求項16】

前記アンビエントコントラスト強調層を、前記塗布ローラの下流の第３の支持ローラの第５の円周面と第２のパターニングローラの第６の円周面との間の第４のギャップに誘導するステップと、
前記アンビエントコントラスト強調層と前記第３の支持ローラの第５の円周面との間の第３のギャップに第２のポリマー材料を分配するステップと、
前記第２のポリマー材料に第３のＵＶ光を照射して前記第２のポリマー材料を少なくとも部分的に硬化させ、前記硬化した第２のポリマー材料が、前記アンビエントコントラスト強調層に結合されるＩＲ層を形成する、ステップと、
を更に含む、請求項１５に記載の方法。

【請求項17】

前記第２のパターニングローラは、粗面化された円周面を含む、請求項１６に記載の方法。

【請求項18】

前記分配中の前記ポリマーマトリックス材料の粘度が、約５０ｍＰａ・ｓから約１０００ｍＰａ・ｓの範囲である、請求項１４に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

（関連出願に対する相互参照）
本出願は、２０２０年１１月０６日に出願された韓国特許出願シリアル第１の０－２０２０－０１４７７５７号の米国特許法第１の１９条に基づく優先権の利益を主張し、その内容は引用により全体が本明細書に組み込まれる。

【0002】

（技術分野）
本開示は、光ディスプレイデバイスに関し、より詳細には、環境光の存在下で表示される画像のコントラストを改善するように構成されたアンビエントコントラスト強調層を含む光ディスプレイデバイスに関する。

【背景技術】

【0003】

環境光コントラストは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）及びマイクロ発光ダイオード（ｍｉｃｒｏ－ＬＥＤ）ディスプレイのような自発光型エレクトロルミネセントディスプレイにとって問題となる可能性がある。金属電極及び／又は他の反射性材料を含む表面を有するディスプレイパネルは、太陽放射又は室内照明からの光を反射することができる。例えば、ＯＬＥＤパネルは、主に金属電極による約８０％の表面反射率を有することができる。環境光の反射を低減し、ディスプレイのコントラスト比の損失を回避するための光学機能フィルムとしては、多くの場合、円偏光子が使用される。しかしながら、このような偏光フィルムは、最大で５０％の入射光を吸収する可能性があるので、ディスプレイの明るさが低下する可能性がある。

【発明の概要】

【0004】

バックプレーン基板に隣接するアンビエントコントラスト強調層を含む光ディスプレイデバイスが記載される。バックプレーン基板は、その上に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子を含むことができる。アンビエントコントラスト強調層は、列状に配置された複数の光吸収楔形特徴を含むことができる。

【0005】

従って、その上に平行な列状に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子を含むバックプレーン基板を備え、エレクトロルミネセント素子の各列がアライメント軸を含む、光ディスプレイデバイスが開示される。ディスプレイデバイスは、バックプレーン基板の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタを更に備え、アンビエントコントラストフィルタは、ポリマー支持層と、ポリマー支持層上に配置されたマイクロ複製薄膜ベース層とを含み、マイクロ複製薄膜ベース層は、平行な列状に配置された複数の光吸収楔形特徴を含み、各光吸収楔形特徴は長手方向軸を含む。更に、アンビエントコントラストフィルタは、ガラス基材層を含まない。

【0006】

アンビエントコントラストフィルタは更に、マイクロ複製薄膜ベース層上に配置された光吸収層を含むことができる。光吸収層の厚さは、約１０ｎｍから約１μｍの範囲とすることができる。

【0007】

複数の楔形特徴の高さＨ１は、約１０μｍから約１００μｍの範囲、例えば約１０μｍから約４０μｍの範囲とすることができる。複数の楔形特徴の各楔形特徴は、約５μｍから約１５μｍの範囲の第１の最大断面幅Ｗ１を含むことができる。

【0008】

比Ｈ１／Ｗ１は、約２以上、例えば約２から約６の範囲とすることができる。

【0009】

複数の楔形特徴のピッチＰ１は、約５μｍから約４０μｍの範囲とすることができる。

【0010】

複数の楔形特徴の各楔形特徴のベースと各楔形特徴の隣接する側壁との間の角度は、約８５度から９０度未満の範囲とすることができる。

【0011】

アンビエントコントラストフィルタは、反射防止層を含むことができる。例えば、反射防止層は、光吸収層上に配置することができる。

【0012】

複数の楔形特徴の屈折率がｎＢ、マイクロ複製薄膜ベース層の屈折率がｎＦであり、Δｎ＝ｎＢ－ｎＦ及び－０．３＜Δｎ＜０．

【0013】

アンビエントコントラストフィルタを形成する方法も記載され、本方法は、第１のパターニングローラを第１の方向に回転させるステップを含み、第１のパターニングローラは、そこから延びる複数の突出部を有する第１の円周面を含む。本方法は更に、第１の支持ローラを、第１の方向とは反対の第２の方向に回転させるステップを含むことができ、第１の支持ローラは、第１の円周面から第１のギャップだけ離間した第２の円周面を含む。本方法は、第２の支持ローラを第２の方向に回転させるステップを含むことができ、第２の支持ローラは、第３の円周面を含み、第３の円周面は、第２のギャップだけ第１の円周面から離間しており、第１のパターニングローラは、第１の支持ローラと第２の支持ローラとの間に配置される。本方法は、ポリマー支持層を第１のギャップに誘導するステップと、ポリマー支持層と第１のパターニングローラの第１の円周面との間の第１のギャップにポリマーマトリックス材料を分配するステップであって、第１のパターニングローラはポリマーマトリックス材料に複数の凹部を形成する、ステップと、ポリマー支持層及びポリマーマトリックス材料に第１のＵＶ光を照射するステップであって、第１のＵＶ光によりポリマーマトリックス材料を硬化させて、ポリマー支持層に結合されたマイクロ複製薄膜ベース層を形成し、マイクロ複製薄膜ベース層及びポリマー支持層がマイクロ複製薄膜を形成する、ステップと、を含む。

【0014】

本方法は更に、マイクロ複製薄膜を第２の支持ローラの第３の円周面と第１の方向に回転する塗布ローラの第４の円周面との間の第３のギャップに誘導するステップと、マイクロ複製薄膜と塗布ローラの第４の円周面との間の第３のギャップに光吸収材料を分配するステップであって、光吸収材料が凹部を充填する、ステップと、光吸収材料に第２のＵＶ光を照射して光吸収材料を少なくとも部分的に硬化させ、マイクロ複製薄膜ベース層に複数の光吸収楔形特徴を形成するステップと、を含む。支持層、マイクロ複製薄膜ベース層、及び複数の光吸収楔形特徴が、アンビエントコントラスト強調層を形成する。

【0015】

本方法は更に、アンビエントコントラスト強調層を塗布ローラの下流の第３の支持ローラの第５の円周面と第２のパターニングローラの第６の円周面との間の第４のギャップに誘導するステップと、第２のポリマー材料を、アンビエントコントラスト強調層と第３の支持ローラの第５の円周面との間の第３のギャップに分配するステップと、第２のポリマー材料を第３のＵＶ光で照射して第２のポリマー材料を少なくとも部分的に硬化し、硬化した第２のポリマー材料がアンビエントコントラスト強調層に結合されるＩＲ層を形成する、ステップと、を含むことができる。

【0016】

第２のパターニングローラは、粗面化された円周面を含むことができる。

【0017】

本明細書に開示された実施形態の追加の特徴及び利点は、以下の詳細な説明に記載され、一部は、本明細書から当業者には明らかであり、又は以下の詳細な説明、特許請求の範囲及び添付図面を含む、本明細書に記載される実施形態を実施することによって認識されるであろう。

【0018】

上述の概要及び以下の詳細な説明の両方は、本明細書に開示された実施形態の性質及び特性を理解するための概説又は構想を提供することを意図した実施形態を提示している。添付図面は、更なる理解を提供するために含められ、本明細書に組み込まれて、本明細書の一部を構成する。図面は、本開示の様々な実施形態を例示し、本明細書と共にその原理及び動作を説明するものである。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】円偏光子を利用したエレクトロルミネセントディスプレイの概略図である。

【図2】本明細書に開示された実施形態によるエレクトロルミネッセントディスプレイの概略図である。

【図3】エレクトロルミネセント素子の上に配置された角度付き楔形特徴を示す例示的なピクセルの上面図である。

【図4A】コントラスト強調層の要素を示す、図２のエレクトロルミネッセントディスプレイの一部の側断面図である。

【図4B】図５Ａに描かれた楔形特徴の拡大断面図である（明瞭化のため、塗りつぶしなし）。

【図5】特徴幅Ｗ１の関数としてモデル化されたカバープレートの透過率を示すプロットである。

【図6】ＬＥＤ放射角度の関数として、楔形特徴の高さＨ１を変化させた場合の透過率を示すプロットである。

【図7】入射角の関数として様々な楔形特徴高さＨ１の反射率を示すプロットである。

【図8】本明細書に開示される実施形態による、楔形特徴と交差するエレクトロルミネセント素子によって放出される光を示す概略図である。

【図9】図８の一部の拡大図である。

【図10】Δｎの複数の値についての視野角（θｖ）の関数としてのモデル化及び正規化された光強度をランバーシャン分布と比較したプロットである。

【図11】楔形特徴（ＷＳＦ）１１８を含むカバープレートと、円偏光子（ＣＰ）を含むディスプレイデバイスとの間のモデル化された透過率を示すプロットである。

【図12】楔形特徴（ＷＳＦ）１１８を含むカバープレートと円偏光子（ＣＰ）を含むディスプレイデバイスとの間のモデル化された反射率を示すプロットである。

【図13】ＭＲＴベース層上、例えばＭＲＴベース層と基板層１１２との間に配置された任意選択の光吸収層を含むアンビエントコントラストフィルタの断面図である。

【図14】光吸収層のマイクロメートル単位の厚さの関数として、波長５５０ｎｍでのモデル化された透過率の自然対数（ｌｎ）のプロットである。

【図15】光吸収層のマイクロメートル単位の厚さの関数としての波長５５０ｎｍでの吸収のプロットである。

【図16】層厚ｄ（０．１μｍから１０μｍ）に対する薄い吸収層１５０の光透過率（又は吸収率）の理論的予測と、透過率Ｔの関数としてのその消散係数ｋを示す図である。

【図17】ｋの様々な値と７０μｍの楔形特徴高さＨ１についてのピッチＰ１の関数としての透過率のプロットである。

【図18】ｋの様々な値と５０μｍの楔形特徴高さＨ１についてのピッチの関数としてのモデル化された反射率のグラフである。

【図19】ｋの様々な値と７０μｍの楔形特徴高さＨ１についてのピッチの関数としてのモデル化された反射率のグラフである。

【図20】５０μｍの楔形特徴の高さＨ１について、光吸収層がある場合とない場合のエレクトロルミネセント素子の放射角度の関数としてモデル化された正規化強度を示す図である。

【図21】７０μｍの楔形の特徴高さＨ１について、光吸収層がある場合とない場合のエレクトロルミネセント素子の放射角度の関数としてのモデル化された正規化強度を示す図である。

【図22】全反射率の関数としてアンビエントコントラストフィルタのモデル化されたアンビエントコントラスト比を示すグラフである。

【図23】基板層と、そこに埋め込まれた異なる高さの複数の楔形特徴を含むＡＣＥ層とを備えたアンビエントコントラストフィルタの一部の断面図である。

【図24】２つの異なる高さの楔形特徴を含むアンビエントコントラストフィルタのピッチの関数としてモデル化された透過率を示すグラフである。

【図25】２つの異なる高さの楔形特徴を含むアンビエントコントラストフィルタのピッチの関数としてモデル化された反射率を示すグラフである。

【図26】異なる高さの２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイデバイスのモデル化された透過率データを、第２の高さの関数として示すプロットである。

【図27】異なる高さの２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイデバイスのモデル化された反射率データを、第２の高さの関数として示すプロットである。

【図28】単一の（第１の）複数の楔形特徴を有するディスプレイと、２つの（第１の及び第２の）複数の楔形特徴を有するディスプレイのエレクトロルミネセント素子から放出される光についてのモデル化された角放出プロファイルのプロットである。

【図29】その上に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子を含むバックプレーン基板と、バックプレーン基板上に配置され、ガラス基板層を欠いているアンビエントコントラストフィルタとを備える本開示による別のエレクトロルミネセントディスプレイデバイスの断面図である。

【図30】ＭＲＴベース層と支持層とを含むＭＲＴフィルムを生成するように構成された第１の段階の処理装置の側面図である。

【図31】図３０の装置によって生成されたＭＲＴフィルムを使用してアンビエントコントラストフィルタを生成するための第２の段階の処理装置の側面図である。

【図32】連続的なインラインプロセスでアンビエントコントラストフィルタを生成するための別の処理装置の側面図である。

【図33】本開示の実施形態による例示的なディスプレイデバイスの側断面図である。

【図34】本開示の実施形態による別の例示的なディスプレイデバイスの側断面図である。

【図35】本開示の実施形態による更に別の例示的なディスプレイデバイスの側断面図である。

【図36】本開示の実施形態による更に別の例示的なディスプレイデバイスの側断面図である。

【図37】図３３～図３６のディスプレイデバイス上のアンビエントコントラストフィルタについて測定された光透過度及びアンビエントコントラスト比を示すプロットである。

【発明を実施するための形態】

【0020】

ここで、その実施例が添付図面に例示されている、本開示の実施形態について詳細に説明する。可能な限り、同じ参照数字は、同じ又は同様の要素を参照するために図面全体を通して使用される。しかしながら、本開示は、多くの異なる形態で具現化することができ、本明細書に記載された実施形態に限定されると解釈されるべきではない。

【0021】

本明細書で使用される場合、用語「約」は、量、サイズ、配合、パラメータ、及び他の量及び特性が正確ではなく、正確である必要はないが、必要に応じて、公差、変換係数、丸め、測定誤差など及び当業者には知られる他の要因を反映して、近似及び／又はより大きく又はより小さくすることができることを意味する。

【0022】

範囲は、本明細書において、「約」１つの特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値までとして表現することができる。このような範囲が表現される場合、別の実施形態では、１つの特定の値から他の特定の値までを含む。同様に、先行詞「約」の使用により値が近似値として表現される場合、特定の値は別の実施形態を形成することは理解されるであろう。更に、範囲の各々の端点は、他の端点との関係においても、及び他の端点から独立しても有意であることが理解されよう。

【0023】

本明細書で使用される方向性用語、例えば、上、下、右、左、前、後、上、下は、描かれている図を参照するためのものに過ぎず、絶対的方向を意味するものではない。

【0024】

特に明示しない限り、本明細書に記載された方法が、そのステップが特定の順序で実行されることを要求すると解釈されることは意図されておらず、また、いかなる装置においても、特定の方向性が要求されることはない。従って、方法のクレームがそのステップに従うべき順序を実際に記載していない場合、又は装置クレームが個々の構成要素に対する順序又は方向を実際に記載していない場合、或いは、ステップが特定の順序に限定されることが請求項又は明細書において他に明示されていない場合、もしくは装置の構成要素に対する特定の順序又は方向が記載されていない場合、順序又は方向は、いかなる点においても推測されることは意図されていない。これは、ステップの配置、動作の流れ、構成要素の順序、又は構成要素の向きに関する論理の問題、文法的な構成又は句読点から得られる一般的な意味、及び明細書に記載された実施形態の数又はタイプを含む、解釈に関するあらゆる可能な非表現の根拠について成り立つ。

【0025】

本明細書で使用される場合、単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、文脈が明らかにそうでないことを指示しない限り、複数形の照応を含む。従って、例えば、「ａ」構成要素への言及は、文脈が明確にそうでないことを示さない限り、２又は３以上のこのような構成要素を有する態様を含む。

【0026】

用語「例示的な」、「実施例」、又はその様々な形態は、本明細書において、実施例、事例、又は例証としての機能を果たすことを意味するのに使用される。本明細書で「例示的」又は「実施例」として記載される任意の態様又は設計は、他の態様又は設計よりも好ましい又は有利であると解釈されるべきではない。更に、実施例は、明確化及び理解の目的でのみ提供され、開示された主題又は本開示の関連部分をいかなる方法によっても限定又は制限することを意図するものではない。様々な範囲の無数の追加又は代替の実施例が提供されたが、簡潔さを目的として省略されていることは理解できる。

【0027】

本明細書で使用される場合、用語「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」及び「ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ」、並びにその変形形態は、特に指示されない限り、同義であり、オープンエンドであると解釈されるものとする。移行部のｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ又はｉｎｃｌｕｄｉｎｇに続く要素のリストは、リストに具体的に記載されたものに加えて要素もまた存在し得るような、非排他的なリストである。

【0028】

本明細書で使用される用語「実質的な」、「実質的に」、及びその変形形態は、記載された特徴が値又は記載内容と等しいか又はほぼ等しいことを注記するよう意図されている。例えば、「実質的に平坦な」表面は、平坦であるか又はほぼ平坦である表面を示すことが意図される。更に、「実質的に」は、２つの値が等しいかほぼ等しいことを示すことを意図している。幾つかの実施形態では、「実質的に」は、互いの約１０％以内、例えば、互いの約５％以内、又は互いの約２％以内の値を示すことができる。

【0029】

本明細書で使用される場合、ローラの円周面とは、ローラの円周周りに延びるローラの外面である。

【0030】

エレクトロルミネセントディスプレイは、アンビエントコントラスト劣化につながる表面反射が生じやすい可能性がある。例えば、図１は、その上に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子１４（例えばＬＥＤ）を備えたバックプレーン基板１２を含むマイクロＬＥＤディスプレイ１０の一部を示す断面像である。エレクトロルミネセントディスプレイ１０は更に、カバープレート１８を含む。カバープレート１８は、位相遅延層２０及び直線偏光層２２を含むことができ、これらが全体で円偏光子２４を形成する。図１に示すように、環境光線２６は、カバープレート１８を通ってディスプレイ１０に入り、バックプレーン基板１２の第１の表面２８に第１の表面２８の法線に対する入射角θｉｎｃで入射し、光線３０によって表される反射角θｒｅｆでバックプレーン基板１２から反射される。また、複数のエレクトロルミネセント素子１４は、光線３２で表される光を発生し放出する。放出された光線３２は、カバープレート１８を透過して、像として外部視聴者３４に向かう方向に透過することができる。反射された環境光３０は、放出された光３２と競合し、その結果、表示された画像が、ビューア３４によって見たときに減少したコントラストを有する可能性がある。このため、ディスプレイ１０又はその一部は、ビューアにとって色褪せたように見える可能性がある。

【0031】

アンビエントコントラスト劣化を回避するために、発光ダイオード（ＬＥＤ）ディスプレイ、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、又は量子ドットディスプレイを含むエレクトロルミネセントディスプレイ用途としてコントラスト強調層が提供されるが、コントラスト強調層は、マイクロＬＥＤディスプレイにとって特に有用である。コントラスト強調層は、反射された環境光がエレクトロルミネセント素子によって放出された光と競合するのを抑制するように構成されたマイクロ複製コントラスト強化フィルムを含むことができる。エレクトロルミネセントディスプレイは、およそ数十マイクロメートルから数百マイクロメートルのピクセルサイズを有することができる。例えば、エレクトロルミネセントディスプレイは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）のＬＥＤを含むことができ、赤、緑、及び青のＬＥＤの各セットがピクセルを形成する。マイクロＬＥＤのサイズ（例えば、ＬＥＤの片側に沿った寸法）は、約１０μｍから約１０００μｍの範囲とすることができる。例えば、ＬＥＤチップは、約１０μｍ²から約１０００μｍ²の範囲の面積を有するサイズにすることができる。このような実施形態では、各ＬＥＤチップの発光領域のサイズは、ピクセル領域の約２０％未満とすることができる。

【0032】

コントラスト強調層は、ピクセル又はその構成要素からの環境光の反射を低減又は除去するための要素を含むことができる。本明細書に開示されるように、これらの要素は、列状に配置された複数の光吸収楔形特徴（例えば台形特徴）を含むことができる。楔形特徴は、ピクセルエレクトロルミネセント素子（例えば、個々のＬＥＤ）によって反射される環境光を低減又は除去するように数値的に評価及び最適化することができる。

【0033】

図２は、その上に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子１０４を含むバックプレーン基板１０２と、アンビエントコントラストフィルタ１０６とを備える、本開示による例示的なエレクトロルミネセントディスプレイデバイス１００の断面図である。エレクトロルミネセント素子１０４は、画像ピクセルの個々のピクセル要素を含むことができ、これに応じて、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）のような異なる色を表示するように構成することができる。アンビエントコントラストフィルタ１０６は、エアギャップ１１０によってバックプレーン基板１０２から離間して配置することができる。エアギャップ１１０は、約５０μｍから約５ｍｍの範囲、例えば、約１００μｍから約５ｍｍの範囲、例えば、約２００μｍから約４ｍｍの範囲、約３００μｍから約３ｍｍの範囲、又は約１ｍｍから約３ｍｍの範囲（その間の全ての範囲及び部分範囲を含む）にわたることができる。

【0034】

アンビエントコントラストフィルタ１０６は、基板層１１２、アンビエントコントラスト強化（ＡＣＥ）層１１４、及び任意選択の反射防止（ＡＲ）層１１６を含むことができる。基板層１１２は、ガラス材料、例えばアルミノシリケートガラス材料のようなシリケートガラス材料を含むことができるが、基板層１１２は、ポリマー材料を含むことができる。ＡＲ層１１６は、例えば感圧接着剤のような接着層１２２によって基板層１１２に接合することができる。

【0035】

ＡＣＥ層１１４は、マイクロ複製薄膜（ＭＲＴフィルム１２０）中に配置された第１の複数の光吸収特徴、例えば、楔形特徴１１８を含む。ＭＲＴフィルム１２０は、支持層１２５上に配置されたＭＲＴベース層１２４を含む。支持層１２５は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のようなポリマー材料を含むことができる。楔形特徴部１１８は、光透過性領域１２６によってＭＲＴベース層１２４内に分離されている。

【0036】

第１の複数の光吸収楔形特徴１１８は、少なくとも可視スペクトルの一部において光を吸収又は遮断することができる何れかの好適な材料を含むことができる。例えば、光吸収特徴は、黒色着色剤、例えば、カーボンブラックのような黒色微粒子を含むことができる。カーボンブラックは、約５００ｎｍ以下の粒径、例えば、その間の全ての範囲及び部分範囲を含めて、約１０ｎｍ～約５００ｎｍの範囲、約１０ｎｍ～約４００ｎｍの範囲、約１０ｎｍ～約３００ｎｍの範囲、又は約１０ｎｍ～約２００ｎｍの範囲の粒径を含むことができる。しかしながら、光吸収材料は、白、赤、緑、又は黄色などの他の色を有する着色剤を含むことができる。光吸収材料、（例えば、カーボンブラック、顔料もしくは染料、又はこれらの組み合わせ）は、適切なマトリックス材料、例えば、ポリマー樹脂に分散させることができる。

【0037】

図３は、ディスプレイのビューア側から見たエレクトロルミネセントディスプレイの一部（例えば、単一ピクセル）の上面図であり、平行な列状の第１の複数の細長い楔形特徴１１８を示し、第１の複数の楔形特徴の各楔形特徴が長手方向軸１３６を含む。図示のように、楔形特徴１１８は、エレクトロルミネセント素子とビューアとの間に位置する細長い構造体である。更に図示されるように、第１の複数の楔形特徴１１８は、エレクトロルミネセント素子１０４の列のアライメント軸１３８と整列されていない場合があるが、代わりに、アライメント軸１３８に対して角度σだけエレクトロルミネセント素子にわたって角度を付けることができる。角度σは、約０度から約１０度の範囲、例えば、０度より大きい値から約１０度の範囲である。

【0038】

ＡＣＥ層１１４の設計のための条件は、構造的なバリエーション及び楔形特徴の屈折率に関するパラメータ研究によって特定することができる。例えば、幾つかの実施形態では、楔形特徴のベース１４０で取られた、第１の複数の楔形特徴の個々の楔形特徴の最大幅Ｗ１は、５０％を超える透過率Ｔに対して、ディスプレイピクセルの長さＬ（ピクセル）の半分（Ｌ（ピクセル）／２）未満とすることができる。透過率は、法線方向に沿った導入された光パワーに対する所与の幾何形状を通る透過光パワーの比率である。例えば、楔形特徴１１８の最大幅Ｗ１は、約１０μｍから約１００μｍの範囲とすることができる。幾つかの特定のバックプレーン基板設計（例えば、ＬＥＤチップサイズ：３８ｘ５４μｍ²、Ｌ（ピクセル）＝４３２μｍ、Ｄ（チップ間）＝１００μｍ）については、Ｗ１は、約５μｍから約２５μｍの範囲、例えば、約５μｍから約１５μｍの範囲など、約５μｍから約２０μｍの範囲とすることができる。Ｌ（ピクセル）は、約１０μｍから約１０００μｍの範囲とすることができる。

【0039】

図４Ａ及び図４Ｂは、楔形特徴１１８の寸法パラメータを示す、アンビエントコントラストフィルタ１０６の一部を示している。第１の複数の楔形特徴の各楔形特徴１１８は、特徴のベース１４０にて取られた最大幅Ｗ１（図４Ｂ参照、明瞭化のために塗りつぶしは省略）と、ベース１４０から楔形特徴の対向端部１４２まで取られた高さＨ１と、ある楔形特徴１１８の中心から直近の楔形特徴１１８の中心までの距離として取られたピッチＰ１と、楔形特徴１１８のベース１４０と楔形特徴の隣接側部１４４との間で値を求められた楔角βと、を含むことができる。

【0040】

幾つかの実施形態では、楔角βは、約７０度から９０度未満の範囲、例えば、約８０度から９０度未満の範囲、又は約８５度から９０度未満の範囲などの約７５度から９０度未満の範囲にあることができる。このように、ベース１４０における最大幅Ｗ１は、対向端１４２における狭い幅よりも大きい。言い換えれば、楔形特徴は、対向端１４２がベース１４０から複数のエレクトロルミネセント素子１０４に向かって突出している台形断面形状を含むことができる。この配置は、環境光の低減を改善すると同時に、エレクトロルミネセントディスプレイに対してより大きな視野角を提供することができる。視野角は、視聴者に対するエレクトロルミネセントディスプレイの輝度が、エレクトロルミネセントディスプレイの法線（例えば、カバープレートの法線）に沿って評価した輝度の１／２となる角度である。

【0041】

図５は、モデル化されたアンビエントコントラストフィルタの透過率を特徴幅Ｗ１の関数として示すグラフである。このデータは、楔形特徴幅Ｗ１が減少するにつれて、透過率が増加することを示す。

【0042】

図６及び図７は、ＬＥＤ放射角度（図６）及び入射角度（図７）の関数として、楔形特徴高さＨ１を変化させた場合の透過率及び反射率をそれぞれ示す。図６に示すデータは、楔形の特徴高さＨ１が減少するにつれて、透過率が望ましく増加することを示す。逆に、図７に示すデータは、楔形の特徴高さＨ１が減少するにつれて、反射率が望ましくないほど増加することを示している。エレクトロルミネセント素子の放射角度が大きくなると、透過率は低下する。環境光の入射角が大きくなると、反射率は約６０°の入射角に達するまで減少し、その後、大きな高さ（約５０μｍより大きい）と小さな高さ（約５０μｍ未満、例えば、２０μｍ）の間で発散挙動がある。高さＨ１が２０μｍ及び１０μｍで入射角が約６０°より大きい場合、反射率は増加するが、約５０μｍから約１５０μｍの範囲内の高さでは減少する。このように、楔形特徴の高さは、特定のディスプレイデバイスの構成に対して最適な高さＨ１を見つけるために、透過率と反射率の間のトレードオフを含むことができる。

【0043】

高さＨ１は、約１０μｍから約１００μｍの範囲、例えば約１０μｍから約８０μｍの範囲、約１０μｍから約６０μｍの範囲、約１０μｍから約４０μｍの範囲などにあることができる。楔形特徴１１８の高さ対幅のアスペクト比Ｈ１／Ｗ１は、約２以上、例えば約３以上とすることができる。例えば、アスペクト比Ｈ１／Ｗ１は、約２～約６、又は約３～約５、又は約５未満、又は約４未満の範囲とすることができる。

【0044】

楔形特徴１１８のピッチＰ１は、約５μｍから約５００μｍの範囲、例えば、その間の全ての範囲及び部分範囲を含めて、約５μｍから約１００μｍ、約５μｍから約６０μｍ、又は約５μｍから約４０μｍの範囲など、約５μｍから約２００μｍの範囲とすることができる。

【0045】

更に、各楔形特徴１１８は、屈折率ｎＢを含むことができ、ＭＲＴベース層１２４は、屈折率ｎＦを含むことができる。楔形特徴１１８の屈折率ｎＢは、ディスプレイの視野角を改善するように選択することができる。例えば、図８は、２つの隣接する楔形特徴及びエレクトロルミネセント素子１０４によって放出された光線３２が、交差面の法線１４８に対して角度θＢで楔形特徴１１８の側面１４６と交差しているのを示す概略図である。図９は、θＢが全反射が起こる臨界角θｃ（θｃ＝ａｒｃｓｉｎ ｎＢ／ｎＦ）以上である場合を例示する拡大図である。楔形特徴１１８の屈折率ｎＢと周囲のＭＲＴベース層１２４の屈折率ｎＦとの間の差Δｎ、すなわちΔｎ＝ｎＢ－ｎＦは、図１０のモデル化データに示すように、全内部反射に起因する高い入射角で大きな反射率値を生成する可能性があり、例えば、θＢ＞θｃである。図１０は、Δｎの幾つかの値について視野角の関数（θｖ）としてモデル化され正規化された光強度をランバーシャン分布と比較したプロットである。複数の楔形特徴１１８の平行な列状の配置、楔形特徴のベースと楔形特徴の隣接する側面との間の楔角β、高さ対幅（Ｈ／Ｗ）アスペクト比、及びベースと複数のエレクトロルミネセント素子に向かって突出する対向する頂部とを有する台形断面形状、これら全てが透過率及び視野角で観測される改善に寄与する。データは、楔形特徴１１８を囲むＭＲＴベース層１２４の屈折率ｎＦよりも小さい屈折率ｎＢを有する楔形特徴のための材料を選択することによって、視野角が改善（増加）できることを示している。例えば、視野角は、３０度より大きい、又は４０度より大きい、又は４５度より大きいように改善することができる。ＭＲＴベース層１２４及び／又は楔形特徴１１８は、約－０．５から約０の範囲、例えば約－０．３から０までの範囲でΔｎを提供するように選択することができる。

【0046】

図１１及び図１２は、それぞれ、楔形特徴（ＷＳＦ）１１８を含むカバープレートと円偏光子（ＣＰ）を含むディスプレイデバイスとの間のモデル化された透過率及び反射率を示す。図１１のデータは、本明細書に記載されるような楔形特徴を使用したアンビエントコントラストフィルタの透過率が約２２％増加することを予測している。図１２は、入射角０°及び５０°の入射環境光線に対して、楔形特徴のディスプレイでは周囲の反射光の量がより大きくなる可能性があるが、円偏光子を備えたディスプレイでは、同じ入射角のＷＳＦディスプレイと比較して、５０°の入射角θｉｎｃで反射光の著しい増加を示している。ＷＳＦアンビエントコントラストフィルタの改善された光透過率は、円偏光カバープレートと同じ輝度を得るために、エレクトロルミネセント素子（例えば、マイクロＬＥＤ）へのより低い電流注入を利用することができる。これは、例えば、より長いディスプレイ寿命及び信頼性を含む、ディスプレイデバイス（例えば、マイクロＬＥＤディスプレイ）に対する追加の利点を提供する。幾つかの実施形態では、アンビエントコントラストフィルタの光透過率は、少なくとも５０％、例えば少なくとも６０％、少なくとも７０％、少なくとも８０％、又は少なくとも９０％とすることができる。

【0047】

ここで図１３に目を向けると、ＡＣＥフィルタ層１１４は、ＭＲＴベース層１２４上、例えばＭＲＴベース層１２４と基板層１１２との間に配置された任意選択の吸収層１５０を含むことができる。光吸収層１５０は、楔形特徴１１８と同じ又は類似の材料から形成することができる。従って、光吸収層１５０の透過率は、光吸収層１５０に配置された光吸収材料の密度及び／又は光吸収層１５０の厚さ１５１を制御して、所定の透過率を得ることによって制御することができる。例えば、光吸収層１５０は、約１重量％～約２０重量％の範囲、例えば、約５重量％～約１５重量％の範囲、約５重量％～約１０重量％の範囲、約５重量％～約９重量％の範囲、又は約６重量％～約８重量％の範囲の密度を有する炭素粒子（例えば、カーボンブラック）又は他の適切な粒子を含有することができる。カーボンブラックの割合は、約７．５重量％とすることができる。光吸収層１５０を構成する材料は、楔形特徴１１８を構成する材料と同じとすることができる。光吸収層１５０の厚さ１５１は、約１０ｎｍ～約１マイクロメートルの範囲、例えば、約０．１μｍ～約１０μｍの範囲とすることができる。以下でより詳細に説明するように、光吸収層１５０の粒子密度及び／又は厚さを使用して、光吸収層１５０を通して少なくとも約６０％の透過率を得ることができる。

【0048】

図１４は、光吸収層１５０について、波長５５０ｎｍにおけるモデル化された透過率の自然対数（ｌｎ）をマイクロメートル単位の厚さの関数としてプロットしたものである。図１４のプロットは、データへの線形フィットを描いている。このプロットは、光吸収層１５０の厚さを増加させることによって、透過率の減少を得ることができることを示している。図１５は、波長５５０ｎｍにおける光吸収層１５０の吸収をやはりマイクロメートル単位の厚さの関数として表したプロットである。図１５のプロットは、光吸収層の厚さが増加するにつれて、吸収が増加することを示している。これは、表面反射の減少につながり、結果として、光吸収材料の層を含むアンビエントコントラストフィルタのアンビエントコントラスト比は、光吸収層がない実施形態に優り改善される。光吸収層１５０は、楔形特徴１１８を有するが光吸収層１５０を有していないアンビエントコントラストフィルタと比較して、アンビエントコントラストフィルタ１０６の小さな透過率低下をもたらす可能性があるが、光吸収層１５０を含む結果として、コントラスト比の増大となることができる。例えば、約５００以上であるコントラスト比は、楔形特徴１１８及び光吸収層１５０の両方を含むことによって達成することができる。

【0049】

光吸収層１５０の消散係数ｋは、目標透過率、例えば、６０％以上の透過率に一致するように選択することができる。消散係数ｋは、複素屈折率（ｎ＋ｉｋ）の虚数成分であり、光吸収層１５０の粒子密度及び又は厚さを選択することによって変化させることができ、これにより吸収レベルを決定することができる。消散係数ｋは、次式、
Ｔ＝ｅ＾（４ｎｋ／λ）ｄ、
から算出することができ、ここでＴは透過率、ｄは膜厚、ｎは屈折率（＾は指数を示す）である。図１６は、層厚ｄ（０．１μｍから１０μｍ）に対する薄い吸収層１５０の光透過率（又は吸収率）、及びその消散係数ｋを透過率Ｔ（１－Ａに等しく、ここでＡは吸光度を表す）の関数としての理論的予測を示す。

【0050】

光吸収層１５０の性能上の影響は、光線光学シミュレーションによって数値的に評価し、その解析結果が、図１７～１９に示されている。楔形特徴部１１８のピッチＰ１（空間周期）は、ｋと共に検討した幾何学パラメータの１つである。この解析では、バックプレーン基板１０２での反射率は、入射環境光の１０％とした。アンビエントコントラストフィルタの目標透過率及び反射率は、それぞれ６０％及び７０％であった。図１７は、ｋの様々な値と、７０μｍの楔形特徴高さＨ１について、ピッチＰ１の関数として透過率をプロットしたものである。このデータは、ｋが増加する（光吸収層１５０がより吸収的になる）と、例えば０．０５より大きくなると、透過率が減少することを示している（反射率はアンビエントコントラスト比（ＡＣＲ）に反比例するので、光透過率とＡＣＲは相反する関係にある）。ＡＣＲは、１＋Ｉｏ／（Ｉａｍｂ－Ｒａｍｂ）として計算され、ここで、Ｉｏはエレクトロルミネセント素子が「オン」状態で発光する光の強度、Ｉａｍｂは環境光の強度、Ｒａｍｂはバックプレーン基板１０２からの環境光の反射率である。透過率と反射率の両方の要求を満たすために、ｋは約０．０５から約１の範囲になるように選択することができる。ｋの選択はまた、光吸収層１５０の厚さに依存することができる。

【0051】

更に、楔形特徴１１８の高さＨ１は、約５０μｍから約７０μｍまでの範囲にわたって評価された。図１８は、ｋの様々な値及び楔形特徴の高さＨ１が５０μｍの場合のピッチの関数としてのモデル化反射率のグラフであり、図１９は、ｋの様々な値及び楔形特徴の高さＨ１が７０μｍの場合のピッチの関数としてのモデル化反射率のグラフである。このデータから、ｋが大きくなると反射率は低下するが、逆にピッチが大きくなると反射率は上昇することがわかる。テストの結果は、楔形形状の高さＨ１を低くすることで、楔形形状の幾何形状を定める凹部のパターニングと、その凹部に光吸収材料を充填するプロセスの両方をより確実にできることを示している。これらの挙動を利用して、反射率を最小化する、ピッチ、楔形の高さ、及びｋ間の適切なトレードオフを見出すことができる。興味深いことに、両方のシミュレーションにおいて、ｋの値が大きい場合（例えば、ｋ＝０．５）のデータは、ピッチと高さの両方に対して低い反射率感度を示し、この傾向は、ｋの値が小さい場合に顕著である。すなわち、このデータは、ｋの値が大きい場合、楔形特徴のピッチと高さの変化の結果として、反射率がほとんど変化しないことを示している。

【0052】

発光プロファイルがエレクトロルミネセントディスプレイの視野角を決定するのに役立つため、光吸収層１５０の存在下でディスプレイから（例えば、アンビエントコントラストフィルタ１０６から）放出されるＬＥＤ光の角放出プロファイルも分析した。Ｈ１＝５０μｍ（図１８）及び７０μｍ（図１７及び図１９）の場合を再び評価し、光吸収層１５０のないアンビエントコントラストフィルタと比較した。図２０及び２１は、エレクトロルミネセント素子放射角度の関数として、モデル化され正規化された強度を示す。この分析により、楔形特徴１１８に加えて光吸収層１５０の存在が、光吸収層１５０のないアンビエントコントラストフィルタと比較して増加した視野角を提供できることが確認された。このデータは、約０．０１から約０．１の範囲の消光比を示す、楔形特徴１１８と光吸収層１５０の両方を含むアンビエントコントラストフィルタが、マイクロＬＥＤディスプレイにおいて５００を超えるＡＣＲを提供できることを示す。

【0053】

図２２は、モデル化されたアンビエントコントラスト比を全反射率の関数として示すグラフである。データは、異なるレベルの周囲照明の下でのアンビエントコントラスト比（ＡＣＲ）の予測をｎｉｔ単位で示し、達成可能なＡＣＲを示す。例えば、軸１５３は、本明細書に開示されるような複数の楔形特徴及び光吸収層１５０を含むディスプレイデバイスを表し、一方、軸１５５は、楔形特徴１１８を有するが光吸収層１５０のない同じディスプレイを表す。比較として、軸１５７は、楔形特徴１１８がなく、光吸収層１５０がない同じディスプレイを表す。バックプレーン基板からの環境光の反射量は、１０％と仮定した。このデータは、光吸収層１５０と組み合わされた光吸収楔形特徴１１８の両方を有するアンビエントコントラストフィルタを有するディスプレイデバイスによって、５００を超えるＡＣＲが達成可能であることを示す。

【0054】

図２３に示されるのは、アンビエントコントラストフィルタ１０６の更に別の実施形態であり、アンビエントコントラストフィルタは、異なる高さ及び異なる幅の楔形特徴の交互する列を含むことができる。図２３は、その中に埋め込まれた複数の楔形特徴、第１の複数の楔形特徴１１８及び第２の複数の楔形特徴１６０を含む基板層１１２及びＡＣＥ層１１４を備えたアンビエントコントラストフィルタ１０６の一部の断面図を描写する。第１の複数の楔形特徴１１８は、先に説明したように、最大幅Ｗ１及び高さＨ１を有する細長い楔形特徴の列として配置することができる。第２の複数の楔形特徴１６０も、楔形特徴１６０のベースにおける最大幅Ｗ２及び高さＨ２を有する細長い楔形特徴の平行な列として配置することができ、高さＨ２は、楔形特徴１１８と同様に、楔形１６０のベースから対向する端部（基板層１１２から最も遠い端部）までの値が求められる。第２の複数の楔形特徴部１６０は、第１の複数の楔形特徴部１１８と交互配列で配置することができる。第２の複数の楔形特徴部の楔形特徴部１６０の高さＨ２は、第１の複数の楔形特徴部の楔形特徴部１１８の高さＨ１より小さいとすることができる。第２の複数の楔形特徴の楔形特徴１６０の最大幅Ｗ２は、第１の複数の楔形特徴の楔形特徴１１８の最大幅Ｗ１未満とすることができる。従って、高さＨ２及び最大幅Ｗ２の両方は、それぞれ、第１の複数の楔形特徴の楔形特徴１１８の高さＨ１及び最大幅Ｗ１未満とすることができる。Ｈ１／Ｗ１として定義されるアスペクト比は、例えば、約３から約６の範囲において、約３に等しいか、又はそれ以上とすることができる。

【0055】

更に図２３を参照すると、第１の複数の楔形特徴１１８は、楔形特徴１１８の中心１から隣接する楔形特徴１１８の中心まで測定された、隣接する楔形特徴間の分離距離を定めるピッチＰ１で周期的に離間して配置することができる。第１の複数の楔形特徴のピッチＰ１は、約５０μｍから約２００μｍの範囲、例えば、約６０μｍから約１５０μｍの範囲、約６０μｍから約１００μｍの範囲、又は約６０μｍから約９０μｍの範囲とすることができる。更に、楔形特徴１６０はまた、周期的に離間することができ、ピッチＰ２は、ある楔形特徴１６０の中心から別の隣接する楔形特徴１６０の中心まで測定された隣接する楔形特徴１６０間の分離距離を定める。各楔形特徴１６０は、Ｐ２がＰ１に等しくなるように、隣接する楔形特徴１１８間の中間位置に配置することができる。すなわち、第２の複数の楔形特徴１６０は、第１の複数の楔形特徴１１８の間に等間隔で配置することができる。従って、楔形特徴１１８の中心と隣接する楔形特徴１６０との間の距離は、（Ｐ１）／２とすることができる。

【0056】

図２４及び図２５は、ピッチＰ１の関数とし、Ｐ２＝Ｐ１と仮定した場合の透過率（図２４）及び反射率（図２５）を示すモデル化されたデータを示す。データは、単一の複数の楔形特徴を有するディスプレイと、２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイとの比較を示し、第２の複数の楔形特徴の高さは、第１の複数の楔形特徴の高さとは異なっている。データは更に、２つの異なる高さをそれぞれ有し、ピッチＰ１が大きい（例えば、９０μｍ）２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイが、６０％を超える透過率と８％を下回る反射率を維持しながら、同じ高さと短いピッチ（例えば、６０μｍ）の単一の複数の楔形特徴を有するディスプレイと同様の光学性能を有することができることを示す。第２の複数の楔形特徴の追加は、視聴者の視点から見たときに、楔形特徴の全体のパターンを密にすることができるが、低いアスペクト比を有する追加の複数の楔形特徴は、人間の観察者の視野角を大きくは悪化せず、環境光の阻止の助けとなる吸収性の幾何形状を提供することができる。

【0057】

図２６及び図２７は、異なる高さの２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイのモデル化データを提示し、また、高さＨ２の関数としての透過率（図２６）及び反射率（図２７）を示している。Ｈ２が１０μｍから７０μｍの範囲では、ピッチ変動に伴って観察される傾向とは異なる結果となる。しかしながら、Ｈ２の影響はそれほど大きくなく、光吸収材料が高吸収性である、例えば０．１より大きい消散係数ｋを含むという仮定の下で、１０％未満の透過率の変化及び１％未満の反射率の変化を与える。

【0058】

高さＨ２が大きいほど透過率が高く、反射率が低いというデータが示している。高さＨ２が大きいほど、全反射を引き起こす表面積が広くなるので、透過率は高くなる。しかしながら、反射率は、第２の複数の楔形特徴のアスペクト比が増加することにより低下する。

【0059】

図２８は、単一の（第１の）複数の楔形特徴を有するエレクトロルミネセント素子と、２つの（第１の及び第２の）複数の楔形特徴を有するディスプレイから放出される光についてのモデル化された角度エミッションプロファイルのプロットである。図２８のプロットは、放出された光について視野角の関数としての光強度を示している。この比較において、単一の複数の楔形特徴を有するディスプレイと、２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイとは、それぞれ６０μｍ及び９０μｍのピッチ（Ｐ１、Ｐ２）を有する。このデータから、基本的な光学性能を犠牲にすることなく、アスペクト比の異なる２つの複数の楔形特徴を有するディスプレイは、単一の複数の楔形特徴を有するディスプレイに比べて、視野角を向上させることができることがわかる。

【0060】

アンビエントコントラストフィルタ１０６は、ガラス基板層１１２なしで利用することができる。例えば、図２９は、その上に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子１０４を含むバックプレーン基板１０２と、バックプレーン基板１０２上に配置されたアンビエントコントラストフィルタ１０６とを備える本開示による別の例示的なエレクトロルミネセントディスプレイデバイス１００の断面図である。エレクトロルミネセント素子１０４は、画像ピクセルの個々のピクセル要素を含み、これに応じて、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の異なる色を表示するように構成することができる。しかしながら、図２９の実施形態では、アンビエントコントラストフィルタ１０６は、基板層１１２、例えば、ガラス基板層を欠いている。従って、様々な実施形態において、アンビエントコントラストフィルタ１０６は、支持層１２５、ＭＲＴベース層１２４、楔形特徴１１８（及び任意選択的に楔形特徴１６０）及び光吸収層１５０を含むＡＣＥ層１１４によって形成することができる。ＡＣＥ層１１４は、接着層１２２によって、バックプレーン基板１０２に直接、及び／又はエレクトロルミネセント素子１０４に、接着することができ、従って、エレクトロルミネセント素子１０４とアンビエントコントラストフィルタ１０６との間にギャップがない。接着剤層１２２は、例えば、光学的に透明な接着剤とすることができる。アンビエントコントラストフィルタ１０６は、少なくとも１つのＡＲ層１１６、例えば、光吸収層１５０の上に配置されたＡＲ層１１６を含むことができる。

【0061】

有利には、ガラス基板層を含まないアンビエントコントラストフィルタは、エレクトロルミネセントディスプレイパネル、例えばバックプレーン基板１０２に直接適用することができ、ディスプレイデバイスは、ガラス基板層を利用した実施形態よりもかなり薄くすることができる。更に、ガラス基板層を含むディスプレイパネルは、典型的には、単一のバックプレーン「マザーボード」上に複数のディスプレイパネルを形成し、マザーボードを個々のディスプレイパネルにダイシングする前に、ガラス基板層を含むカバープレートをバックプレーンに取り付けることによって製造される。この場合、バックプレーンだけでなくガラス基板層も切断する必要があるため、切断の難易度が高くなり、表示パネルのコストアップにつながる。ガラス基板層をなくすことで、より大きなディスプレイ用マザーボードからディスプレイパネルを切断することが容易になり、コストも削減できる。更に、ガラス基板層をなくすことで、輸送や設置のコストを削減することができる。ガラス基板層のないフィルムタイプのアンビエントコントラストフィルタを使用したディスプレイパネルは、小型・軽量であるため、取り扱いが容易である。フィルムタイプの場合、製造は、ＭＲＴベース層のパターニングから光吸収材の凹部充填、低反射パターニングまで大量生産に適したプロセスであるロールツーロールプロセスで製造できる。

【0062】

従って、アンビエントコントラストフィルタ１０６を形成するための装置２００が、図３０～３１に示される。最初に図３０に目を向けると、装置２００は、ＭＲＴベース層１２４及び支持層１２５を含むＭＲＴフィルム１２０を製造するように構成された第１のステップ処理装置２０２を含むことができる。第１のステップ処理装置２０２は、パターニングローラ２０４、第１の支持ローラ２０６、第２の支持ローラ２０８、第１の分配ノズル２１０、及び第１の硬化装置２１２を含む。パターニングローラ２０４は、パターニングローラの第１の円周面２１６の周りに配置され、パターニングローラの長さに沿って延びる複数の突出部２１４（例えば、歯）を含む略円形断面を有する細長いローラであり、突出部２１４は楔形特徴１１８に対応する。複数の突出部２１４は、周期的に離間して配置することができる。例えば、各突出部２１４は、各突出部間の角距離が等分されるように、第１の円周面２１６の周りの隣接する突出部から等距離で離間して配置することができる。説明の目的であって限定するものではないが、パターニングローラ２０４が６０個の突出部を有する場合、６０個の突出部は、パターニングローラの円周表面について１°ごとに角度的に間隔を空けることができる。パターニングローラ２０４が１２０個の突出部を有する場合、１２０個の突出部は、０．５°ごとに間隔を空けることができる。勿論、実用的な用途では、突出部間の間隔はマイクロメートルのオーダーであり、例えば、楔形特徴１１８に望まれる周期Ｐ１を生成するのに相当することが認識されるはずである。すなわち、楔形特徴１１８及び／又は１６０についての周期を生成するには、約４０μｍから約５００μｍの範囲、例えば、その間の全ての範囲及び部分範囲を含めて、約６０μｍから約１５０μｍ、約６０μｍから約１００μｍ、又は約６０μｍから約９０μｍの範囲など、約５０μｍから約２００μｍの範囲が適切である。

【0063】

しかしながら、突出部１０８は、隣接する突出部の１ペア間の角距離が、隣接する突出部の別のペア間の角距離とは異なるように、異なる間隔に配置することができる。例えば、角距離は、パターニングローラの周りに所定の回転方向に対して、隣接する突出部の１つのペアから隣接する突出部の次のペアまで増加することができる。この場合も同様に、限定ではなく例として、４つの順次的に配置された突出部である、第１の突出部、第１の突出部に隣接する第２の突出部、第２の突出部に隣接する第３の突出部、及び第３の突出部に隣接する第４の突出部を考える。第１の突出部と隣接する第２の突出部との間の角距離は、例えば時計方向に進む１°とすることができる。第２の突出部と第３の突出部との間の角距離は、１．０１°とすることができる。第３の突出部と第４の突出部との間の角度的な距離は、１．０２°などとすることができ、各突出部は、先行する突出部から更に０．０１°だけ角度の間隔で配置される。勿論、隣接する突出部間の角距離は、再び第１の及び第２の突出部に到達すると、１°に戻る。パターニングローラ２０４は、突出部のサブパターンを含むことができ、ここで、第１の突出部に戻ったときの繰り返しは、例えば１０個の突出部ごとに発生することは明らかであろう。実際に、楔形特徴の類似のパターンを生成するのに望ましい又は必要とされる突出部間の何れかの角度又は円周方向の距離を含む何れかの所定のパターンで突出部を提供することができる。

【0064】

パターニングローラ２０４は、第１の回転軸２１８を含み、第１の回転軸２１８の周りに回転可能である。突出部２１４は、互いに平行なパターニングローラの長さに沿って延びることができる。例えば、各突出部は、高さＨ１だけ第１の円周表面２１６の上に延びる細長い構造とすることができる。突出部２１４は、第１の回転軸２１８と平行とすることができるが、代替的に、突出部２１４は、第１の円周面２１６上で第１の回転軸２１８の周りに螺旋状に配置することができる。幾つかの実施形態では、第１の円周面２１６に垂直な線に沿った第１の円周面２１６に対する突出部２１４の高さは、変化することができる。例えば、先に説明したように、２つの異なる高さＨ１及びＨ２が、それぞれ楔形特徴１１８及び１６０の高さに対応して設けることができるが、追加の数の高さ、例えば、別の複数の楔形特徴に対応して、２よりも多い高さを提供することができる。

【0065】

第１の支持ローラ２０６は、第２の回転軸２２２の周りに配置され、第２の回転軸２２２の周りに回転可能な第２の円周面２２０を備える。第２の円周面２２０は、滑らかな表面とすることができる。第２の回転軸２２２は、第１の回転軸２１８と平行とすることができる。第２の周方向表面２２０は、第１の円周面２１６から第１の所定距離２２４だけ離間して配置することができる。すなわち、第１の円周面２１６は、第１のギャップ２２６によって第２の円周面２２０から離間して配置することができる。第１の所定距離２２４は、突出部２１４の最大高さよりも大きく、例えば、Ｈ１よりも大きい。

【0066】

第２の支持ローラ２０８は、第３回転軸２３０の周りに配置され、第３回転軸２３０の周りに回転可能な第３円周面２２８を備える。第１の支持ローラ２０６と同様に、第３の円周面２２８は、滑らかな表面とすることができる。第３の回転軸２３０は、第１の回転軸２１８と平行とすることができる。第３の円周面２２８は、第１の円周面２１６から第２の所定距離２３２だけ離間して配置することができる。すなわち、第１の円周面２１６は、第２のギャップ２３４によって第３の円周面２２８から離間している。第２の所定距離２３２は、突出部２１４の最大高さよりも大きく、例えば、Ｈ１よりも大きい。第１の回転軸２１８、第２の回転軸２２２、及び第３の回転軸２３０は、同一平面上にあり、すなわち、同じ平面上に存在することができる。

【0067】

第１の分配ノズル２１０は、マトリックス材料２３６をパターニングローラ２０４と第１の支持ローラ２０６との間の第１のギャップ２２６に分配するように構成される。更に、第１の硬化装置２１２は、マトリックス材料２３６を硬化させてＭＲＴベース層１２４を形成するように構成されている。第１の硬化装置２１２は、第１のＵＶ光２４０を第１のギャップ２２６に誘導するように構成された、硬化装置２３８、例えばＵＶ照明装置を含む。

【0068】

図３０に描かれているように、予め形成されたポリマーフィルム、例えばＰＥＴなどの支持層１２５は、第１の支持ローラ２０６の上で第１のステップ処理装置２０２に導かれ、第１のギャップ２２６に誘導される。支持層１２５は、第１の主要面２４２と、第１の主要面２４２の反対側の第２の主要面２４４とを含む。支持層１２５の第２の主要面２４４が第１の支持ローラ２０６の第２の円周面２２０に接触して支持されている状態で、マトリックス材料２３６は、第１のギャップ２２６の上方から第１の分配ノズル２１０によって液体形態で第１のギャップ２２６に分配され、支持層１２５の第１の主要面２４２とパターニングローラ２０４の第１の円周面２１６間に堆積される。マトリックス材料２３６は、例えば、ポリマー樹脂、例えば、ＵＶ硬化性アクリレートモノマー、多官能アクリレートオリゴマー、光開始剤、及び必要に応じて何れかの追加の添加剤とすることができる。ベース樹脂のラジカル型重合光開始剤としては、例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、α－ヒドロキシフェニルケトン、２，２－ジメトキシ－２－フェニル－アセトフェノン、トリアリルホスフィンオキシド、又はビスアシルホスフィンオキシドを挙げることができる。

【0069】

マトリックス材料が第１の分配ノズル２１０から分配されるときのマトリックス材料２３６の粘度は、約５０ミリパスカル秒（ｍＰａ・ｓ）から約１０００ｍＰａ・ｓまでの範囲、例えば約７５ｍＰａ・ｓから約３００ｍＰａ・ｓまでの範囲とすることができる。 突出部２１４は、パターニングローラ２０４及び第１の支持ローラ２０６が回転すると、第１のギャップ２２６内のマトリックス材料２３６を変位させる。例えば、図３０に描かれた実施形態では、プロセスは右から左に実行され、パターニングローラ２０４は時計回り方向に回転し、第１の支持ローラ２０６は反時計回り方向に回転していることが示されている。液体マトリックス材料２３６が支持層１２５の第１の主要面２４２に付着した第１のギャップ２２６を離れると、マトリックス材料は、第１のギャップ２２６及び／又はパターニングローラ２０４の下に位置する第１の硬化装置２１２によって硬化される。例えば、マトリックス材料２３６は、紫外線（ＵＶ）光硬化性ポリマー材料とすることができる。従って、第１のＵＶ照明装置２３８は、第１のギャップ２２６及び／又はパターニングローラ２０４の下側に、支持層１２５を通して、第１のＵＶ光２４０を上方に放出し、これにより、マトリックス材料２３６を、支持層１２５及びＭＲＴベース層１２４を含むＭＲＴフィルム１２０に硬化させ、ＭＲＴフィルム１２０は、突出部２１４を模した複数の凹部２４６を含む。すなわち、凹部２４６は、突出部２１４のネガである。硬化したＭＲＴベース層１２４の屈折率は、約１．４５～約１．６５の範囲とすることができる。

【0070】

図３０に更に示されるように、パターニングローラ２０４が時計回り方向に回転すると、ＭＲＴフィルム１２０は、突出部２１４が凹部２４６に係合した状態で、第１の円周面２１６の周囲及び下方を移動する。次に、ＭＲＴフィルム１２０は、支持層１２５の第２の主要面２４４が第２の支持ローラ２０８の第３の円周面２２８に接触し、凹部２４６が第３の円周面２２８から離れた外側に向くように、第２の支持ローラ２０８上に巻きつく。図示されていないが、ＭＲＴフィルム１２０は、第２の支持ローラ２０８の下流に集められ、ロール状に巻かれ、後の使用のために保管されるか、第２のプロセスステップを実行する第２の装置に提供することができる。

【0071】

従って、ここで図３１を参照すると、装置２００は更に、第２のステップ処理装置２５０を備えることができる。第２のステップ処理装置２５０は、塗布ローラ３０２、第３の支持ローラ３０４、第４の支持ローラ３０６、第２の分配ノズル３０８、第２の硬化装置３１０、及び任意選択で第３の硬化装置３１２を含む。

【0072】

塗布ローラ３０２は、第４の回転軸３１６の周りに配置され回転可能な第４の円周面３１４を含む。パターニングローラ２０４とは異なり、第４の円周面３１４は、滑らかな表面とすることができる。

【0073】

第３の支持ローラ３０４は、第５回転軸３２０の周りに配置され回転可能な第５の円周面３１８を含む、第５の円周面３１８は、滑らかな表面とすることができる。実施形態では、第５の回転軸３２０は、第４の回転軸３１６と平行である。第５の周方向表面３１８は、第４の周方向表面３１４から第３の所定距離３２２だけ離間して配置することができる。すなわち、第４の円周面３１４は、第３のギャップ３２４によって第５の円周面３１８から離間される。

【0074】

第４の支持ローラ３０６は、第６回転軸３２８の周りに配置され回転可能な第６の円周面３２６を備える。第６の円周面３２６は、滑らかな表面とすることができる。実施形態では、第６の回転軸３２８は、第４の回転軸３１６と平行である。第６の周方向表面３２６は、第４の周方向表面３１４から第４の所定距離３３０だけ離間して配置することができる。すなわち、第６の円周面３２６は、第４の円周面３１４から第４のギャップ３３２だけ離間される。

【0075】

図３１に描かれているように、ＭＲＴフィルム１２０は、第３の支持ローラ３０４によって第３のギャップ３２４に導かれ、ＭＲＴフィルム１２０は、第３の支持ローラ３０４と塗布ローラ３０２との間の第３のギャップ３２４に捕捉される（支持層１２５が図Ｗに示されていないが、それにもかかわらず含まれることに留意されたい）。例えば、図３２に描かれた実施形態では、プロセスは右から左に実行され、塗布ローラ３０２は時計回り方向に回転し、第３の支持ローラ３０４は反時計回り方向に回転する。ＭＲＴフィルム１２０は、凹部２４６が第５の円周面３１８から離れた外側に向いた状態で第３の支持ローラ３０４上を進み、第３のギャップ３２４に入る。ＭＲＴフィルム１２０が塗布ローラ３０２と第３の支持ローラ３０４との間の第３のギャップ３２４に入ると、凹部２４６は塗布ローラ３０２の第４円周面３１４に面する。光吸収材料３３４は、第２の分配ノズル３０８によって、塗布ローラ３０２とＭＲＴフィルム１２０との間の第３のギャップ３２４に分配され、塗布ローラ３０２によって凹所２４６に押し込まれる。光吸収材料３３４は、例えば、カーボンブラックのような光吸収添加剤を含むポリマー材料とすることができ、カーボンブラックはポリマー材料中に分散されている。カーボンブラック粒子の粒径は、約１０ナノメートル（ｎｍ）～約５００ｎｍの範囲、例えば約１０ｎｍ～約４００ｎｍの範囲、例えば約１０ｎｍ～約３００ナノメートルの範囲、又は約１０ｎｍ～約２００ｎｍの範囲とすることができる。カーボンブラック粒子は、約５重量％～約１０重量％の範囲、例えば約６重量％～約８重量％の範囲の量で光吸収材料中に存在することができる。幾つかの実施形態において、カーボンブラック粒子は、７．５重量パーセントの量で光吸収材料中に存在してもよい。第２の分配ノズル３０８から分配される光吸収材料の粘度は、約７５ｍＰａ・～約３００ｍＰａ・ｓの範囲とすることができる。

【0076】

光吸収材料３３４は、第２の硬化装置３１０によって少なくとも部分的に硬化され、これによりＡＣＥ層１１４が形成される。例えば、光吸収材料３３４は、紫外線（ＵＶ）光硬化性ポリマー材料とすることができる。従って、第２の硬化装置３１０は、第３のギャップ３２４及び／又は塗布ローラ３０２の下方に配置され、第２のＵＶ光３４０を第３のギャップ３２４内及び／又は塗布ローラ３０２上のＡＣＥ層１１４に向かって誘導するように配置されたＵＶ光源３３８を含むことができる。光吸収材料３３４の第１の硬化は、ＭＲＴフィルム１２０の裏面（凹部２４６と反対側の面）を通って行われるので、硬化はＭＲＴフィルム１２０の厚さによって阻害される可能性がある。従って、任意選択の第３の硬化装置３１２は、第４のギャップ３３２の上方及び／又は第４の支持ローラ３０６の上方に配置することができる。第３の硬化装置３１２は、第３のＵＶ光３４８をＭＲＴフィルム１２０及び光吸収材料３３４上に誘導するように配置された第３のＵＶ光源３４６を含む。例えば、ＭＲＴフィルム１２０が塗布ローラ３０２（例えば、塗布ローラ３０２の底部）の周りを進むと、第４の支持ローラ３０６が反時計回り方向に回転するため、ＭＲＴフィルム１２０は第４のギャップ３３２を通って第４の支持ローラ３０６上に誘導される。この構成では、ここでは少なくとも部分的に硬化した光吸収材料３３４が充填された凹部２４６は、光吸収材料３３４が第３のＵＶ光３４８によって直接衝突され、これにより所望の硬化を提供できるように、第６の円周面３２６から離れて外方に面している。硬化したＭＲＴフィルム１２０（例えば、ＭＲＴベース層１２４）と硬化した光吸収材料との間の屈折率差は、０から約０．０８の範囲、例えば０から約０．０６の範囲、例えば約０から約０．０５の範囲、約０から約０．０４、又は約０から約０．０３までの範囲とすることができる。例えば、硬化した光吸収材料の屈折率は、約１．４５から約１．５１の範囲とすることができる。結果として得られたアンビエントコントラストフィルタ１０６は、その後、本明細書に開示されるようなアンビエントコントラスト強化エレクトロルミネセントディスプレイの製造に使用することができる。

【0077】

図示されていないが、追加の第２の塗布ローラ及び第５の支持ローラ、並びに第３の分配ノズルが、第４の支持ローラ３０６及び第４の硬化装置の下流に配置することができ、ここで追加のローラ、分配装置、及び硬化装置は、光吸収層１５０をＡＣＥ層１１４に堆積するために使用することができる。ＡＲ層１１６も同様に追加することができる。ただし、光吸収層１５０は、第４の円周面３１４と第５の円周面３１８との距離３２２を調整することにより、第３の支持ローラ３０４及び塗布ローラ３０２を用いた凹部２４６と同時に塗布することができる。

【0078】

図３０～図３１に関して上述した装置は、凹部を有するＭＲＴフィルム１２０の形成と、その後の光吸収材料のＭＲＴフィルム凹部への充填とが、別々の個別のプロセスとして実施されるプロセスを提供する。しかしながら、これらのプロセスは、必ずしも別々に実施される必要はない。すなわち、上述したように、ＭＲＴフィルム１２０は、光吸収材料が充填される前に保管することができる。しかしながら、図３０～図３１に関して説明したステップは、インラインプロセスにおいて、順次、連続的に、次々に実行することができる。

【0079】

従って、図３２は、ＡＣＥ層１１４を形成するためのインラインプロセスを描写している。説明のためであり限定するものではないが、図３２のプロセス装置は、右から左に配置されている。

【0080】

図３３によれば、アンビエントコントラストフィルタ１０６のインライン製造のために構成された装置４００が示される。装置４００は、第１の支持ローラ４０２、第１のディスペンスノズル４０４、第１の硬化装置４０６、第１のパターニングローラ４０８、第２の支持ローラ４１０、アプリケーションローラ４１２、第２のディスペンスノズル４１４、第２の硬化装置４１６、及び第３の支持ローラ４１８を備える。装置４００は、第３のディスペンシングノズル４２０、第２のパターニングローラ４２２、第３の硬化装置４２４、及び第４の支持ローラ４２６を更に備えることができる。

【0081】

図３１に示すように、第１のパターニングローラ４０８は、第１のパターニングローラ４０８の第１の円周面４３２について配置され、第１のパターニングローラの長さに沿って延びる複数の突出部４３０（例えば、歯）を備える細長いローラである。複数の突出部４３０は、隣接する突出部の間又は突出部のグループの間に周期的に離間して配置することができる。例えば、パターニングローラ２０４と同様に、第１のパターニングローラ４０８の各突出部４３０は、各突出部間の角距離が等分になるように、隣接する突出部から等距離の間隔を空けることができる。しかしながら、突出部４３０は、１組の隣接する突出部間の角距離が、別の組の隣接する突出部間の角距離と異なるように、異なる間隔で配置することができる。突出部４３０は、所望に応じて、突出部間の任意の所定の角距離又は周方向距離を含む何れかの所定のパターンで配置することができる。

【0082】

第１のパターニングローラ４０８は、第１の回転軸４３４の周りに回転可能である。様々な実施形態において、突出部４３０は、互いに平行に第１のパターニングローラ４０８の長さに沿って延びることができる。例えば、各突出部４３０は、第１の円周面４３２から所定の高さＨ１だけ離れて、外側に延びる細長い構造とすることができる。突出部４３０は、第１の回転軸４３４と平行に延びることができる。或いは、突出部４３０は、第１の円周表面４３２上に螺旋状に配置することができる。突出部４３０は、プロセスによって生成された隣接する楔形特徴間の距離を、約４０μｍから約５００μｍの範囲、例えば、その間の全ての範囲及び部分範囲を含めて、約６０μｍから約１５０μｍ、約６０μｍから約１００μｍ、又は約６０μｍから約９０μｍ、範囲など、約５０μｍから約２００μｍで得るように必要に応じて配置することができる。第１の円周面４３２に垂直な線に沿った第１の円周面４３２に対する突出部４３０の高さは変化してもよい。例えば、幾つかの突出部は、Ｈ１とは異なる高さＨ２、例えばＨ１より小さい高さを有することができる。

【0083】

第１の支持ローラ４０２は、第２の円周面４３６を含む細長いローラであり、第２の回転軸４３８の周りに回転可能である。第２の円周面４３６は、滑らかな表面とすることができる。第２の回転軸４３８は、第１の回転軸４３４と平行に延びることができる。第２の周方向表面４３６は、第１の円周面４３２から第１の所定距離４４０だけ間隔を空けることができる。すなわち、第１の円周面４３２は、第１のギャップ４４２によって第２の周方向表面４３６から離間して配置される。第１の所定距離４４０は、突出部４３０の最大高さと等しいか、又はそれより大きくてもよい。

【0084】

第２の支持ローラ４１０は、第３の円周面４４４を含む細長いローラであり、第３回転軸４４６の周りに回転可能である。第３の円周面４４４は、滑らかな表面とすることができる。実施形態において、第３の回転軸４４は、第１の回転軸４３４と平行に延びることができる。第３の周方向表面４４４は、第１の円周面４３２から第２の所定距離４４８離間して配置することができる。すなわち、第１の円周面４３２は、第３の周方向表面４４４から第２のギャップ４５０だけ離間している。第２の所定距離４４８は、突出部４３０の最大高さに等しいか、又はそれより大きくてもよい。第１の回転軸４３４、第２の回転軸４３８、及び第３の回転軸４４６は、同一平面上にあるものとすることができる。

【0085】

第１の分配ノズル４０４は、マトリックス材料４５２を第１のパターニングローラ４０８と第１の支持ローラ４０２との間の第１のギャップ４４２に誘導するように構成される。例えば、分配ノズル４０４は、液体形態のマトリックス材料４５２の供給源と流体連通し、第１のギャップ４４２の上に配置することができる。マトリックス材料４５２は、第１の分配ノズル４０４にポンプ送給することができる。

【0086】

図３３に描かれているように、支持層１２５が第１のギャップ４４２に供給されると、マトリックス材料４５２も第１のギャップ４４２の上方から第１の分配ノズル４０４によって液体形態で第１のギャップ４４２に分配され、マトリックス材料４５２は第１のパターニングローラ４０８と第１の支持ローラ４０２との間、より詳細には支持層１２５と第１のパターニングローラ４０８との間で第１のギャップ４４２に捕捉される。突出部４３０は、第１のパターニングローラ４０８及び第１のサポートローラ４０２が回転すると、第１のギャップ４４２内のマトリックス材料４５２を変位させる。例えば、図３３に描かれているように、プロセスは右から左に実行され、第１のパターニングローラ４０８は時計回り方向に回転し、第１のサポートローラ４０２は反時計回り方向に回転する。マトリックス材料４５２が第１のギャップ４４２を離れると、マトリックス材料４５２は、第１のギャップ４４２及び／又は第１のパターニングローラ４０８の下に配置された第１の硬化装置４０６によって硬化し、支持層１２５に結合したＭＲＴベース層１２４となって、ＭＲＴフィルム１２０を形成する。マトリックス材料４５２は、紫外線（ＵＶ）光硬化性ポリマー材料とすることができる。従って、第１の硬化装置４０６は、第１のＵＶ光４５６を第１のギャップ４４２の中及び／又は第１のパターニングローラ４０８の下の支持層１２５に向かって上向きに放出するように配置されたＵＶ照明装置４５４を含むことができ、これにより、マトリックス材料４５２を、突出部４３０及び支持層１２５を模した複数の凹部４６０を含むＭＲＴベース層１２４を含むＭＲＴフィルム１２０に硬化する。凹部４６０は、突出部４３０のネガである。

【0087】

図３２に更に示されるように、第１のパターニングローラ４０８が時計回り方向に回転すると、ＭＲＴフィルム１２０は、突出部４３０が凹部４６０に係合した状態で、第１のパターニングローラ４０８の下方を移動する。その後、ＭＲＴフィルム１２０は、第２のギャップ４５０に導かれ、凹部４６０が第３の円周面４４４から離れた外側に向くように、第２の支持ローラ４１０の上に巻きつけられる。

【0088】

第２の支持ローラ４１０の第３の円周面４４４は、塗布ローラ４１２の第４の円周面４６２から所定距離４６４だけ離れている。すなわち、第２の支持ローラ４１０の第３の円周面４４４は、塗布ローラ４１２の第４の円周面４６２から第３のギャップ４６６だけ離間している。ＭＲＴフィルム１２０は、第２の支持ローラ４１０の第３の円周面４４４上を進み、第３のギャップ４６６に誘導される。ＭＲＴフィルム１２０は、凹部４６０が第３の円周面４４４から離れた外側に向いた状態で、第２の支持ローラ４１０の上を前進する。ＭＲＴフィルム１２０が塗布ローラ４１２と第２の支持ローラ４１０との間の第３のギャップ４６６に入ると、凹部４６０は塗布ローラ４１２の第４円周面４６２に面する。光吸収材料４６８は、第２の分配ノズル４１４によって液体状で第３のギャップ４６６に分配され、塗布ローラ４１２によって凹部４６０に押し込まれる。所定の距離４６４は、凹部４６０を光吸収材料４６８で満たすことに加えて、光吸収材料がＭＲＴフィルム１２０上に連続層を形成し得るように調整することができる。ＭＲＴフィルム１２０が第３のギャップ４６６を抜けると、光吸収材料４６８（適用されていれば光吸収層１５０を含む）が第２の硬化装置４１６によって硬化され、楔状特徴１１８（及び／又は楔状特徴１６０及び／又は光吸収層１５０）を形成する。例えば、光吸収材料４６８は、紫外線（ＵＶ）光硬化性ポリマー材料であってよい。従って、第２の硬化装置４１６は、第２のＵＶ光４７２を第３のギャップ４６６に誘導するように配置されたＵＶ光放出装置４７０を含むことができ、光吸収材料４６８は、第２の硬化装置４１６によって少なくとも部分的に硬化され、楔状特徴１１８及び任意に光吸収層１５０、例えば、ＡＣＥ層１１４を形成する。塗布ローラ４１２は、第４の回転軸４７２を中心に回転するように構成され、塗布ローラ４１２が回転すると、ＡＣＥ層１１４は、塗布ローラ４１２の少なくとも一部の周囲（例えば、塗布ローラの下）で、第３の支持ローラ４１８の第５の円周面４８０と接触するように案内される。

【0089】

第３の支持ローラ４１８は、第５の回転軸４７８の周りに回転可能である。第５の円周面４８０は、平滑面とすることができる。第５の回転軸４７８は、第１の回転軸４３４と平行とすることができる。図３２に示すように、ＡＣＥ層１１４は第３の支持ローラ４１８上に乗り、第３の支持ローラ４１８から収集することができる。例えば、幾つかの実施形態では、少なくとも部分的に硬化した光吸収材料を含むＡＣＥ層１１４は、後の使用のためにＡＣＥ層１１４を加工（例えば、ロール）するように構成された下流装置（図示せず）に誘導することができる。しかしながら、追加の層がＡＣＥ層１１４に追加されることもある。例えば、装置４００は、第６の回転軸４８４の周りに回転可能な第６の円周面４８２の周りに回転可能な第２のパターニングローラ４２２を更に含むことができる。第６の円周面４８２は、第５の円周面４８０から第３の所定距離４８６だけ離間して配置することができる。すなわち、第６の円周面４８２は、第４のギャップ４８８によって第５の円周面４８０から離間している。ＡＣＥ層１１４が第３の支持ローラ４１８の第５の円周面４８０から離れると、ＡＣＥ層１１４は第４のギャップ４８８に誘導される。第３分配ノズル４２０は、ポリマー樹脂４９０の流れを第２のパターニングローラ４２２とＡＣＥ層１１４との間の第４のギャップ４８８に誘導するように配置することができる。ポリマー樹脂４９０は、例えば、１，６ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）のような機能的アクリレート又はトリメチロールプロパントリメタクリレート（ＴＭＰＴＭＡ）又はこれらの何れかの組み合わせのような機能的メタクリレートを含むことができる。幾つかの実施例では、第６の円周面４８２は、所定の粗さを有するテクスチャ表面、例えば粗面である。図３２を参照すると、ＡＣＥ層１１４は、ポリマー樹脂４９０が、適用されていれば楔形特徴１１８（及び／又は楔形特徴１６０）又は光吸収層１５０と接触し、これによりＡＲ層１１６を形成するように配向される。ポリマー樹脂４９０は第６の円周面４８２に接触するので、第６の円周面４８２に存在するテクスチャは、ポリマー樹脂の外向き面に押し付けられる。第３の硬化装置４２４は、第４のギャップ４８８及び／又は第２のパターニングローラ４２２の下方に配置され、第３ＵＶ光４９６をＡＣＥ層１１４を通して誘導し、ポリマー樹脂４９０を少なくとも部分的に硬化させてアンビエントコントラストフィルタ１０６を形成するように構成されたＵＶ照明装置４９４を含むことができる。幾つかの実施例では、ＡＲ層１１６は、例えばＳｉＯ２のような無機層とすることができる。ＡＲ層４９０は、適用された厚みで少なくとも９０％の透明性を有するべきである。

【0090】

図３３の実施形態によって提供される配置と比較して、アンビエントコントラストフィルタ１０６の異なる層を異なるように配置することができるように、装置４００の様々なローラを交換することができることは、本開示から明らかであろう。言い換えれば、様々なパターニングローラ、分配ノズル、及び硬化装置は、様々な数及び順序の層を有するアンビエントコントラストフィルタを製造するために、適宜配置することができる。

【0091】

層の様々な配置を有するアンビエントコントラストフィルタ１０６を有するディスプレイデバイスの非限定的な例は、図３３～図３６で見ることができる。図３３は、その上に配置された複数のエレクトロルミネセント素子１０４を含むバックプレーン基板１０２を備える例示的なディスプレイデバイス１００を描写し、ディスプレイデバイス１００は、バックプレーン基板１０２の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタ１０６を含む。アンビエントコントラストフィルタ１０６は、下から上に向かって、支持層１２５及びＭＲＴベース層１２４を含むＡＣＥ層１１４を含み、ＭＴＲベース層１２４は、そこに配置された複数の楔形特徴１１８を含む。光吸収層１５０は、ＭＲＴベース層１２４の上に配置される。アンビエントコントラストフィルタ１０６は、接着剤層１２２によってバックプレーン基板１０２に取り付けることができる。図３３の実施形態では、アンビエントコントラストフィルタ１０６は、ガラス基板層（例えば、ガラス基板層１１２）を含まず、アンビエントコントラストフィルタは、バックプレーン基板１０２及び／又はエレクトロルミネセント素子１０４に直接取り付けられる。すなわち、図３３のディスプレイデバイスは、バックプレーン及びエレクトロルミネセント素子の上にあるガラスカバープレートを含まない。

【0092】

図３４は、その上に配置された複数のエレクトロルミネセント素子１０４を含むバックプレーン基板１０２を含む別の例示的なディスプレイデバイス１００を描写し、ディスプレイデバイス１００は、バックプレーン基板１０２の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタ１０６を含む。図３５のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、図３４のアンビエントコントラストフィルタが光吸収層１５０の上に反射防止層を更に含むことを除いて、図３４のアンビエントコントラストフィルタ１０６と同様である。図３４のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、接着剤層１２２によってバックプレーン基板１０２に取り付けることができる。図３３のディスプレイデバイスと同様に、図３４のアンビエントコントラストフィルタ１０６はガラス基板層を含まず、アンビエントコントラストフィルタはバックプレーン基板１０２及び／又はエレクトロルミネセント素子１０４に直接取り付けられる。すなわち、図３５のディスプレイデバイスは、バックプレーン及びエレクトロルミネセント素子の上にあるガラスカバープレートを含まない。

【0093】

図３５は、その上に配置された複数のエレクトロルミネセント素子１０４を含むバックプレーン基板１０２を含む更に別の例示的なディスプレイデバイス１００を描写し、ディスプレイデバイス１００は、バックプレーン基板１０２の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタ１０６を含む。図３５のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、下から上に向かって、光吸収層１５０と、その中に配置された複数の楔形特徴部１１８を含むＭＲＴベース層と、ＭＲＴベース層の上に配置された支持層１２５とを含む。図３５のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、接着剤層１２２によってバックプレーン基板１０２に取り付けることができる。図３３及び図３４のディスプレイデバイスと同様に、図３５のアンビエントコントラストフィルタ１０６はガラス基板層を含まず、アンビエントコントラストフィルタはバックプレーン基板１０２及び／又はエレクトロルミネセント素子１０４に直接取り付けられる。すなわち、図３５のディスプレイデバイスは、バックプレーン及びエレクトロルミネセント素子の上にあるガラスカバープレートを含まない。

【0094】

図３６は、その上に配置された複数のエレクトロルミネセント素子１０４を含むバックプレーン基板１０２を含む更に別の例示的なディスプレイデバイス１００を描写し、ディスプレイデバイス１００は、バックプレーン基板１０２の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタ１０６を含む。図３６のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、下から上に向かって、ＡＲ層１１６と、支持層１２５と、その中に配置された複数の楔形特徴１１８を含むＭＲＴベース層と、光吸収層１５０と、光吸収層の上に配置された第２のＡＲ層１１６と、ＭＲＴベース層の上に配置された支持層１２５とを含む。図３６のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、接着剤層１２２によってバックプレーン基板１０２に取り付けることができる。図３３～図３５のディスプレイデバイスと同様に、図３６のアンビエントコントラストフィルタ１０６は、ガラス基板層を含まず、アンビエントコントラストフィルタは、バックプレーン基板１０２及び／又はエレクトロルミネセント素子１０４に直接取り付けられる。すなわち、図３６のディスプレイデバイスは、バックプレーン及びエレクトロルミネセント素子の上にあるガラスカバープレートを含まない。

【0095】

図３７は、図３３～図３６に示した構造の幾つかの光学特性を示すプロットである。透過率（Ｔ）は分光計で測定し、ＡＣＲ（Ａｍｂｉｅｎｔ Ｃｏｎｔｒａｓｔ Ｒａｔｉｏ）はプラズマディスプレイパネルを用いてＩＥＣ ６２３４１－６－２に基づき測定した。ＴとＡＣＲは、構造や材料の選択を変えることで調整することができる。その結果、楔形の上にＡＲ層を設けた場合、ＡＲ層を設けない場合と比較して、透過率の増加はほとんどなく、ＡＣＲも同程度であることがわかった。一方、支持層側に配置されたＡＲ層は、ＡＲなしの場合と同様に光透過率が４３．６％となった。しかしながら、ＡＣＲは１４０に増加した。透過率がＮｏ－ＡＲの場合と同じか、それ以上に低くなったのは、楔形特徴パターンの向きを反転させることで透過率が低下し、その反転によって下側の光の入口が小さくなったためと考えられる。両面ＡＲ構造は、４つのケースの中で最も高い透過率を示し、ＡＣＲのレベルは第１の及び第２のケースと同程度であった。

【0096】

本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、本開示の実施形態に様々な修正及び変形を加えることができることは、当業者にとって明らかであろう。従って、本開示は、添付の特許請求の範囲及びその等価物の範囲内に入ることを条件として、このような修正及び変形をカバーすることが意図される。

【符号の説明】

【0097】

１００ エレクトロルミネセントディスプレイデバイス
１０２ バックプレーン基板
１０６ アンビエントコントラストフィルタ
１１４ ＡＣＥ層
１１６ ＡＲ層
１１８ 楔形特徴
１２０ ＭＲＴフィルム
１２２ 接着層
１２４ ＭＲＴベース層
１２５ 支持層
１５０ 光吸収層

【図1】

【図2】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】

【図33】

【図34】

【図35】

【図36】

【図37】

【手続補正書】

【提出日】2023-07-10

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光ディスプレイデバイスであって、
その上に平行な列状に堆積された複数のエレクトロルミネセント素子を含むバックプレーン基板であって、前記エレクトロルミネセント素子の各列がアライメント軸を含む、バックプレーン基板と、
前記バックプレーン基板の上に配置されたアンビエントコントラストフィルタであって、前記アンビエントコントラストフィルタが、ポリマー支持層と、前記ポリマー支持層上に配置されたマイクロ複製薄膜ベース層とを含み、前記マイクロ複製薄膜ベース層は、平行な列状に配置された複数の光吸収楔形特徴を含み、前記各光吸収楔形特徴が長手方向軸を含む、アンビエントコントラストフィルタと、
を備え、前記アンビエントコントラストフィルタがガラス層を含まない、光ディスプレイデバイス。

【請求項2】

前記アンビエントコントラストフィルタは、前記マイクロ複製薄膜ベース層上に配置された光吸収層を更に含む、請求項１に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項3】

前記光吸収層の厚さは、約１０ｎｍから約１μｍの範囲である、請求項２に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項4】

前記複数の光吸収楔形特徴の高さＨ１が、約１０μｍから約１００μｍの範囲にある、請求項１～３の何れか１項に記載の光学ディスプレイデバイス。

【請求項5】

前記複数の楔形特徴の各楔形特徴は、約５μｍから約１５μｍの範囲の最大断面幅Ｗ１を有する、請求項４に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項6】

前記複数の楔形特徴のピッチＰ１が、約５μｍから約４０μｍの範囲にある、請求項１～５の何れか１項に記載の光学ディスプレイデバイス。

【請求項7】

前記アンビエントコントラストフィルタは、反射防止層を含む、請求項１～６の何れか１項に記載の光ディスプレイデバイス。

【請求項8】

アンビエントコントラストフィルタを形成する方法であって、
第１のパターニングローラを第１の方向に回転させるステップであって、前記第１のパターニングローラは、そこから延びる複数の突出部を有する第１の円周面を含む、ステップと、
第１の支持ローラを、第１の方向とは反対の第２の方向に回転させるステップであって、前記第１の支持ローラは、前記第１の円周面から第１のギャップだけ離間した第２の円周面を含む、ステップと、
第２の支持ローラを第２の方向に回転させるステップであって、前記第２の支持ローラは第３の円周面を含み、前記第３の円周面は、前記第１の円周面から第２のギャップだけ離間しており、前記第１のパターニングローラは、前記第１の支持ローラと前記第２の支持ローラとの間に位置する、ステップと、
ポリマー支持層を前記第１のギャップに誘導するステップと、
前記ポリマー支持層と前記第１のパターニングローラの前記第１の円周面との間の前記第１のギャップにポリマーマトリックス材料を分配するステップであって、前記第１のパターニングローラは前記ポリマーマトリックス材料に複数の凹部を形成する、ステップと、
前記ポリマー支持層及び前記ポリマーマトリックス材料に第１のＵＶ光を照射するステップであって、前記第１のＵＶ光によって前記ポリマーマトリックス材料を硬化させて、前記ポリマー支持層に結合されたマイクロ複製薄膜ベース層を形成し、前記マイクロ複製薄膜ベース層及び前記ポリマー支持層がマイクロ複製薄膜を形成する、ステップと、
を含む、方法。

【請求項9】

前記マイクロ複製薄膜を前記第２の支持ローラの第３の円周面と前記第１の方向に回転する塗布ローラの第４の円周面との間の第３のギャップに誘導するステップと、
前記マイクロ複製薄膜と前記塗布ローラの第４の円周面との間の前記第３のギャップに光吸収材料を分配するステップであって、前記光吸収材料が前記凹部を充填する、ステップと、
前記光吸収材料に第２のＵＶ光を照射して、前記光吸収材料を少なくとも部分的に硬化させ、前記マイクロ複製薄膜ベース層に複数の光吸収楔形特徴を形成するステップであって、前記ポリマー支持層、前記マイクロ複製薄膜ベース層、及び前記複数の光吸収楔形特徴がアンビエントコントラスト強化層を形成する、ステップと、
を更に含む、請求項８に記載の方法。

【請求項10】

前記アンビエントコントラスト強調層を、前記塗布ローラの下流の第３の支持ローラの第５の円周面と第２のパターニングローラの第６の円周面との間の第４のギャップに誘導するステップと、
前記アンビエントコントラスト強調層と前記第３の支持ローラの第５の円周面との間の第３のギャップに第２のポリマー材料を分配するステップと、
前記第２のポリマー材料に第３のＵＶ光を照射して前記第２のポリマー材料を少なくとも部分的に硬化させ、前記硬化した第２のポリマー材料が、前記アンビエントコントラスト強調層に結合されるＩＲ層を形成する、ステップと、
を更に含む、請求項９に記載の方法。

【国際調査報告】