特表2023-548826加水分解酵素活性速度が低下した医薬組成物を得るための精製プラットフォーム
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-11-21
(54)【発明の名称】加水分解酵素活性速度が低下した医薬組成物を得るための精製プラットフォーム
(51)【国際特許分類】
C07K 1/18 20060101AFI20231114BHJP
C07K 1/34 20060101ALI20231114BHJP
C07K 1/20 20060101ALI20231114BHJP
C07K 16/00 20060101ALI20231114BHJP
C07K 16/46 20060101ALI20231114BHJP
C07K 16/28 20060101ALI20231114BHJP
C07K 16/24 20060101ALI20231114BHJP
C07K 16/18 20060101ALI20231114BHJP
A61K 39/395 20060101ALI20231114BHJP
A61K 38/46 20060101ALI20231114BHJP
A61K 35/54 20150101ALI20231114BHJP
A61K 35/74 20150101ALI20231114BHJP
A61K 47/26 20060101ALI20231114BHJP
B01D 24/00 20060101ALI20231114BHJP
B01D 61/14 20060101ALI20231114BHJP
B01D 61/58 20060101ALI20231114BHJP
B01D 15/36 20060101ALI20231114BHJP
B01J 39/05 20170101ALI20231114BHJP
B01J 39/09 20170101ALI20231114BHJP
B01J 39/18 20170101ALI20231114BHJP
B01J 39/26 20060101ALI20231114BHJP
B01J 41/05 20170101ALI20231114BHJP
B01J 41/10 20060101ALI20231114BHJP
B01J 41/12 20170101ALI20231114BHJP
B01J 41/14 20060101ALI20231114BHJP
B01J 41/20 20060101ALI20231114BHJP
B01J 47/04 20060101ALI20231114BHJP
【ＦＩ】
C07K1/18
C07K1/34
C07K1/20
C07K16/00
C07K16/46
C07K16/28
C07K16/24
C07K16/18
A61K39/395 K
A61K39/395 N
A61K38/46
A61K35/54
A61K35/74 B
A61K47/26
B01D29/00 Z
B01D61/14 500
B01D61/58
B01D15/36
B01J39/05
B01J39/09
B01J39/18
B01J39/26
B01J41/05
B01J41/10
B01J41/12
B01J41/14
B01J41/20
B01J47/04
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023526026
(86)(22)【出願日】2021-10-28
(85)【翻訳文提出日】2023-05-10
(86)【国際出願番号】 US2021057100
(87)【国際公開番号】W WO2022094116
(87)【国際公開日】2022-05-05
(31)【優先権主張番号】63/108,194
(32)【優先日】2020-10-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＲＩＴＯＮ
(71)【出願人】
【識別番号】509012625
【氏名又は名称】ジェネンテック， インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110002077
【氏名又は名称】園田・小林弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】シーイ， アレックス
(72)【発明者】
【氏名】ウォン， マーク
(72)【発明者】
【氏名】ウーン， スティーヴン
(72)【発明者】
【氏名】リー， マイケル
(72)【発明者】
【氏名】クー， ステファニー
(72)【発明者】
【氏名】オドワイアー， ウィリアム
(72)【発明者】
【氏名】ドゥエニャス， アイリーン ティー．
(72)【発明者】
【氏名】イグゾー， インゲス
(72)【発明者】
【氏名】リム， エイミー
【テーマコード（参考）】
4C076
4C084
4C085
4C087
4D006
4D017
4D116
4H045
【Ｆターム（参考）】
4C076DD09
4C076DD09Q
4C076FF63
4C084AA02
4C084AA06
4C084BA44
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4C087NA03
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4H045GA23
4H045GA25
4H045GA26
(57)【要約】
本開示は、デプスフィルタ工程および／または疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含む精製プラットフォームを提供し、前記精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法を提供するのに有用である。本明細書に記載の精製プラットフォームを使用する方法およびそれから得られる組成物、例えば医薬組成物も本明細書に開示される。
【選択図】図５
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；
１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および
深層濾過工程、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、
それにより、前記深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較して、前記組成物の前記加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【請求項2】
前記１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル陽イオン交換／陰イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項4】
ウイルス濾過工程をさらに含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項6】
前記精製プラットフォームが、順に、前記捕捉工程；
前記ＣＥＸクロマトグラフィー工程；
前記ＡＥＸクロマトグラフィー工程；
前記深層濾過工程；
前記ウイルス濾過工程；および
前記ＵＦ／ＤＦ工程、を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項7】
前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタ、またはＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタである、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを介した処理を含むＨＩＣ工程をさらに含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程； マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および
疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、
それにより、前記ＨＩＣ工程および／または前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない前記サンプルの精製と比較して、前記組成物の前記加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【請求項10】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体を介した処理を含み、前記処理が、約４．５～約９のｐＨで実施される、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル疎水性相互作用／陰イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程である、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項12】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル疎水性相互作用／陽イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程である、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項14】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣまたはＣａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ ＩｍｐＲｅｓを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項15】
前記精製プラットフォームが、順に、前記捕捉工程；
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程；および
前記ＨＩＣ工程、を含む、請求項９～１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項16】
ウイルス濾過工程をさらに含む、請求項９～１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項17】
限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、請求項９～１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項18】
前記精製プラットフォームが、順に、前記捕捉工程；
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；
前記ＨＩＣ工程；
前記ウイルス濾過工程；および
前記ＵＦ／ＤＦ工程、を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項19】
深層濾過工程をさらに含む、請求項９～１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項20】
前記精製プラットフォームが、順に、前記捕捉工程；
前記深層濾過工程；
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；および
前記ＨＩＣ工程、を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項21】
前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタが、Ｘ０ＳＰデプスフィルタである、請求項１９または２０に記載の方法。
【請求項22】
前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタがＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタまたはＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタである、請求項１９または２０に記載の方法。
【請求項23】
前記デプスフィルタが、前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と共にロードフィルタとして使用される、請求項１９～２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項24】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項25】
前記精製プラットフォームが、順に、前記捕捉工程；
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；
前記深層濾過工程；および
前記ＨＩＣ工程、を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項26】
前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタが、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタである、請求項２５に記載の方法。
【請求項27】
前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタが、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタまたはＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタである、請求項２５に記載の方法。
【請求項28】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、請求項２５～２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項29】
精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；
１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および
疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、
それにより、前記ＨＩＣ工程を含まない前記サンプルの精製と比較して、前記組成物の前記加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【請求項30】
前記１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程が、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程である、請求項２９に記載の方法。
【請求項31】
ウイルス濾過工程をさらに含む、請求項２９または３０に記載の方法。
【請求項32】
限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、請求項２９～３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項33】
前記ＵＦ／ＤＦ工程の前の任意の段階で実施される深層濾過工程をさらに含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項34】
前記精製プラットフォームが、順に、前記捕捉工程；
前記ＣＥＸクロマトグラフィー工程；
前記ＨＩＣ工程；
前記ウイルス濾過工程；および
前記ＵＦ／ＤＦ工程、を含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項35】
精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；
疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および
深層濾過工程、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、
それにより、前記ＨＩＣ工程または前記深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較して、前記組成物の前記加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【請求項36】
前記低下が、前記ＨＩＣおよび前記深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較したものである、請求項３５に記載の方法。
【請求項37】
前記１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される、請求項３５または３６に記載の方法。
【請求項38】
前記ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル陽イオン交換／陰イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む、請求項３７に記載の方法。
【請求項39】
限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、請求項３５～３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項40】
前記精製プラットフォームが、順に、前記ＣＥＸクロマトグラフィー工程；
前記ＨＩＣ工程；
前記ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程；
前記ＡＥＸクロマトグラフィー工程；
前記デプスフィルタ工程；および
前記ＵＦ／ＤＦ工程、を含む、請求項３９に記載の方法。
【請求項41】
精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；
１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；
マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；ならびに
疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および
深層濾過工程の一方または両方、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、
それにより、前記ＨＩＣ工程または前記深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較して、前記組成物の前記加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【請求項42】
前記低下が、前記ＨＩＣおよび前記深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較したものである、請求項４１に記載の方法。
【請求項43】
ウイルス濾過工程をさらに含む、請求項４１または４２に記載の方法。
【請求項44】
限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、請求項４１～４３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項45】
前記深層濾過工程が、前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程のロードフィルタとして、前記ＨＩＣ工程のロードフィルタとして、または前記ＨＩＣ工程に続いて実施される、請求項４１～４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項46】
前記１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される、請求項４１～４５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項47】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル疎水性相互作用／陰イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程である、請求項４１～４６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項48】
前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、請求項４７に記載の方法。
【請求項49】
前記捕捉工程がアフィニティークロマトグラフィーを介した処理を含む、請求項１～３４および４１～４８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項50】
前記捕捉工程が結合溶出モードで実施される、請求項１～３４および４１～４８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項51】
前記アフィニティークロマトグラフィーが、プロテインＡクロマトグラフィー、プロテインＧクロマトグラフィー、プロテインＡ／Ｇクロマトグラフィー、ＦｃＸＬクロマトグラフィー、プロテインＸＬクロマトグラフィー、カッパクロマトグラフィー、およびカッパＸＬクロマトグラフィーからなる群から選択される、請求項４９または５０に記載の方法。
【請求項52】
前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含む、請求項１～６、１９、２０、および３５～５１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項53】
前記デプスフィルタがロードフィルタとして使用される、請求項５２に記載の方法。
【請求項54】
前記デプスフィルタが、珪藻土組成物、シリカ組成物、セルロース繊維、ポリマー繊維、凝集樹脂、および灰組成物のうちの１以上を含む基材を含む、請求項５２または５３に記載の方法。
【請求項55】
前記デプスフィルタの前記基材の少なくとも一部が表面改質を含む、請求項５４に記載の方法。
【請求項56】
前記表面改質が、第四級アミン表面改質、陽イオン表面改質、および陰イオン表面改質の１以上である、請求項５５に記載の方法。
【請求項57】
前記デプスフィルタが、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタ、ＰＤＤ１デプスフィルタ、ＰＤＥ１デプスフィルタ、ＰＤＨ５デプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）１２０ＺＡデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）１２０ＺＢデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）ＤＥＬＩデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）ＤＥＬＰデプスフィルタ、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタからなる群から選択される、請求項５２～５６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項58】
前記デプスフィルタが、前記Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、前記Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、または前記Ｃ０ＳＰデプスフィルタであり、前記デプスフィルタを介した前記処理が、約４．５～約８のｐＨで実施される、請求項５７に記載の方法。
【請求項59】
前記デプスフィルタが前記ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタであり、前記デプスフィルタを介した処理が約７～約９．５のｐＨで実施される、請求項５７に記載の方法。
【請求項60】
前記デプスフィルタが前記Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタであり、前記デプスフィルタを介した処理が約４．５～約９のｐＨで実施される、請求項５７に記載の方法。
【請求項61】
前記ＨＩＣ工程が、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理を含む、請求項９～６０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項62】
前記ＨＩＣ膜または前記ＨＩＣカラムを介した処理が、低い塩濃度を使用して実施される、請求項６１に記載の方法。
【請求項63】
前記ＨＩＣ膜または前記ＨＩＣカラムを介した処理がフロースルーモードで実施される、請求項５９～６１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項64】
前記ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムが、エーテル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、およびフェニル基のうちの１以上を含む基材を含む、請求項６１～６３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項65】
前記ＨＩＣ膜または前記ＨＩＣカラムが、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（フェニル－ＳＦＦ）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｈｉ－ｓｕｂ（フェニル－ＳＦＦ ＨＳ）、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｍ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｓ、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａ、およびＳａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルからなる群から選択される、請求項６１～６４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項66】
前記ＨＩＣ膜または前記ＨＩＣカラムを介した処理が、約４．５～約７のｐＨで実施される、請求項６４または６５に記載の方法。
【請求項67】
前記１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、ＩＥＸクロマトグラフィー膜またはＩＥＸクロマトグラフィーカラムを介した処理を含む、請求項１～８および２９～６６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項68】
前記ＩＥＸクロマトグラフィー膜または前記ＩＥＸクロマトグラフィーカラムが、ＳＰＳＦＦ、ＱＳＦＦ、ＳＰＸＬ、Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ、ＡＢｘ（商標）、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ、ＤＥＡＥ、ＤＭＡＥ、ＴＭＡＥ、ＱＡＥ、およびＭＥＰ－Ｈｙｐｅｒｃｅｌ（商標）からなる群から選択される、請求項６７に記載の方法。
【請求項69】
前記精製プラットフォームが、前記サンプルから標的を精製するためのものであり、前記サンプルが、前記標的および１以上の宿主細胞不純物を含む、請求項１～６８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項70】
前記標的がポリペプチドを含む、請求項６９に記載の方法。
【請求項71】
前記標的が抗体部分である、請求項１～７０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項72】
前記抗体部分がモノクローナル抗体である、請求項７１に記載の方法。
【請求項73】
前記抗体部分がヒト抗体、ヒト化抗体またはキメラ抗体である、請求項７１または７２に記載の方法。
【請求項74】
前記抗体部分が、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される、請求項７１～７３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項75】
前記抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、請求項７１～７４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項76】
前記１以上の宿主細胞不純物が宿主細胞タンパク質を含む、請求項６９～７５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項77】
前記宿主細胞タンパク質が加水分解酵素である、請求項７６に記載の方法。
【請求項78】
前記加水分解酵素が、リパーゼ、エステラーゼ、チオエステラーゼ、ホスホリパーゼ、カルボキシルエステラーゼ、ヒドロラーゼ、クチナーゼ、またはセラミダーゼである、請求項７７に記載の方法。
【請求項79】
前記サンプルが、宿主細胞またはそれに由来する成分を含む、請求項１～７８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項80】
前記サンプルが、細胞培養サンプルであるか、または細胞培養サンプルに由来する、請求項１～７９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項81】
前記細胞培養サンプルが宿主細胞を含み、前記宿主細胞がチャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞または大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ）細胞である、請求項８０に記載の方法。
【請求項82】
サンプル処理工程をさらに含む、請求項１～８１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項83】
前記加水分解酵素活性速度の前記低下が少なくとも約２０％である、請求項１～８２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項84】
前記組成物の前記加水分解酵素活性速度を決定することをさらに含む、請求項１～８３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項85】
前記組成物中の１以上の加水分解酵素のレベルを決定することをさらに含む、請求項１～８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項86】
前記組成物がポリソルベートを含む、請求項１～８５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項87】
前記ポリソルベートが、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される、請求項８６に記載の方法。
【請求項88】
請求項１～８７のいずれか一項に記載の方法から得られる医薬組成物。
【請求項89】
抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、前記組成物の貯蔵寿命が１２ヶ月を超える、製剤化された抗体部分組成物。
【請求項90】
抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解活性の速度が低下しており、前記組成物の貯蔵寿命が、前記製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示される貯蔵寿命と比較して延長されており、前記貯蔵寿命が、前記文書に示される貯蔵寿命と比較して少なくとも３ヶ月延長されている、製剤化された抗体部分組成物。
【請求項91】
前記ポリソルベート加水分解の速度が、少なくとも約２０％低下している、請求項８９または９０に記載の製剤化された抗体部分組成物。
【請求項92】
抗体部分を含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベートの分解が低下しており、前記分解が、前記製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示された分解と比較して少なくとも約２０％低減している、製剤化された抗体部分組成物。
【請求項93】
抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、前記ポリソルベートが、液体組成物の貯蔵中に年間５０％以下分解される、製剤化された抗体部分組成物。
【請求項94】
前記抗体部分がモノクローナル抗体である、請求項８９～９３のいずれか一項に記載の製剤化された抗体部分組成物。
【請求項95】
前記抗体部分がヒト抗体、ヒト化抗体またはキメラ抗体である、請求項８９～９４のいずれか一項に記載の製剤化された抗体部分組成物。
【請求項96】
前記抗体が、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される、請求項８９～９５のいずれか一項に記載の製剤化された抗体部分組成物。
【請求項97】
前記抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、請求項８９～９６のいずれか一項に記載の製剤化された抗体部分組成物。
【請求項98】
前記ポリソルベートが、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される、請求項８９～９７のいずれか一項に記載の製剤化された抗体部分組成物。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
本出願は、２０２０年１０月３０日に出願された米国仮出願第６３／１０８，１９４号の優先権利益を主張し、その内容は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
本出願は、２０２０年１０月３０日に出願された米国仮出願第６３／１０８，１９４号の優先権利益を主張し、その内容は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【0002】
技術分野
本開示は、加水分解酵素活性速度が低下した医薬組成物などの組成物を得るための精製プラットフォームに関する。本明細書に記載の精製プラットフォームおよびそれから得られる組成物を使用する方法も本明細書に開示される。
本開示は、加水分解酵素活性速度が低下した医薬組成物などの組成物を得るための精製プラットフォームに関する。本明細書に記載の精製プラットフォームおよびそれから得られる組成物を使用する方法も本明細書に開示される。
【背景技術】
【0003】
背景
宿主細胞培養物から産生された抗体などの生物治療製品は、宿主細胞タンパク質、ならびに、例えば、製品品質および治療有効性に影響を及ぼし得る他の不純物を除去するために精製を必要とする。現在の精製方法は、宿主細胞加水分解酵素を含む全ての宿主細胞タンパク質および不純物を除去するわけではない。したがって、宿主細胞タンパク質および精製標的と共に残存する不純物は、精製標的自体ならびに他の添加剤、例えば界面活性剤などの製剤目的のために添加される成分に影響を及ぼし得る。したがって、薬学的使用のために宿主細胞培養物から産生された生物療法製品を精製するための改善された方法が必要とされている。
宿主細胞培養物から産生された抗体などの生物治療製品は、宿主細胞タンパク質、ならびに、例えば、製品品質および治療有効性に影響を及ぼし得る他の不純物を除去するために精製を必要とする。現在の精製方法は、宿主細胞加水分解酵素を含む全ての宿主細胞タンパク質および不純物を除去するわけではない。したがって、宿主細胞タンパク質および精製標的と共に残存する不純物は、精製標的自体ならびに他の添加剤、例えば界面活性剤などの製剤目的のために添加される成分に影響を及ぼし得る。したがって、薬学的使用のために宿主細胞培養物から産生された生物療法製品を精製するための改善された方法が必要とされている。
【0004】
特許出願および刊行物を含む本明細書で引用される全ての参考文献は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【発明の概要】
【0005】
簡単な概要
いくつかの態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、それにより、深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
いくつかの態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程、を含む前記精製プラットフォームに供することを含み、それにより、深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0006】
いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々は、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程は、マルチモーダル陽イオン交換／陰イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む。
【0007】
いくつかの実施形態では、本方法は、ウイルス濾過工程をさらに含む。
【0008】
いくつかの実施形態では、本方法は、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む。
【0009】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程；ＣＥＸクロマトグラフィー工程；ＡＥＸクロマトグラフィー工程；深層濾過工程；ウイルス濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む。
【0010】
いくつかの実施形態では、深層濾過工程はデプスフィルタを介した処理を含み、デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、またはＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタである。
【0011】
いくつかの実施形態では、本方法は、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを介した処理を含むＨＩＣ工程をさらに含む。
【0012】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0013】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体を介した処理を含み、約５．５～約８のｐＨで実施される。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、マルチモーダル疎水性相互作用／陰イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、マルチモーダル疎水性相互作用／陽イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣまたはＣａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ ＩｍｐＲｅｓを含む。
【0014】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程；およびＨＩＣ工程を含む。
【0015】
いくつかの実施形態では、本方法は、ウイルス濾過工程をさらに含む。
【0016】
いくつかの実施形態では、本方法は、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む。
【0017】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；ＨＩＣ工程；ウイルス濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む。
【0018】
いくつかの実施形態では、本方法は、深層濾過工程をさらに含む。
【0019】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程；深層濾過工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；およびＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、デプスフィルタを介した処理を含み、デプスフィルタはＸ０ＳＰデプスフィルタである。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、デプスフィルタを介した処理を含み、デプスフィルタはＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタである。
【0020】
いくつかの実施形態では、前記デプスフィルタは、前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と共にロードフィルタとして使用される。
【0021】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む。
【0022】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；深層濾過工程；およびＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタである。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、デプスフィルタを介した処理を含み、デプスフィルタはＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタである。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む。
【0023】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0024】
いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程は、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程である。
【0025】
いくつかの実施形態では、本方法は、ウイルス濾過工程をさらに含む。
【0026】
いくつかの実施形態では、本方法は、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む。
【0027】
いくつかの実施形態では、本方法は、ＵＦ／ＤＦ工程の前の任意の段階で実施される深層濾過工程をさらに含む。
【0028】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程；ＣＥＸクロマトグラフィー工程；ＨＩＣ工程；ウイルス濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む。
【0029】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程または深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。いくつかの実施形態では、低下は、ＨＩＣおよび深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較したものである。
【0030】
いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々は、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程は、マルチモーダル陽イオン交換／陰イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む。
【0031】
いくつかの実施形態では、本方法は、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む。
【0032】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に：ＣＥＸクロマトグラフィー工程；ＨＩＣ工程；ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程；ＡＥＸクロマトグラフィー工程；深層濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む。
【0033】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；ならびに疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程および深層濾過工程の一方または両方を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程または深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0034】
いくつかの実施形態では、低下は、ＨＩＣおよび深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較したものである。
【0035】
いくつかの実施形態では、本方法は、ウイルス濾過工程をさらに含む。
【0036】
いくつかの実施形態では、本方法は、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む。
【0037】
いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程のロードフィルタとして、ＨＩＣ工程のロードフィルタとして、またはＨＩＣ工程に続いて実施される。
【0038】
いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々は、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される。
【0039】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、マルチモーダル疎水性相互作用／陰イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む。
【0040】
いくつかの実施形態では、捕捉工程はアフィニティークロマトグラフィーを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程結合溶出モードで実施される。いくつかの実施形態では、アフィニティークロマトグラフィーは、プロテインＡクロマトグラフィー、プロテインＧクロマトグラフィー、プロテインＡ／Ｇクロマトグラフィー、ＦｃＸＬクロマトグラフィー、プロテインＸＬクロマトグラフィー、カッパクロマトグラフィーおよびカッパＸＬクロマトグラフィーからなる群から選択される。
【0041】
いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、デプスフィルタを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはロードフィルタとして使用される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、珪藻土組成物、シリカ組成物、セルロース繊維、ポリマー繊維、凝集性樹脂、および灰組成物のうちの１つ以上を含む基材を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタの基材の少なくとも一部は、表面改質を含む。いくつかの実施形態では、表面改質は、第四級アミン表面改質（第四級アンモニウム、Ｑ官能性など）、グアニジニウム表面改質、陽イオン性表面改質、および陰イオン性表面改質の１以上である。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、ＥＭＰＨＡＺＥ（登録商標）デプスフィルタ、ＰＤＤ１デプスフィルタ、ＰＤＥ１デプスフィルタ、ＰＤＨ５デプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（登録商標）１２０ＺＡデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（登録商標）１２０ＺＢデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（登録商標）ＤＥＬＩデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（登録商標）ＤＥＬＰデプスフィルタ、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴ（耐塩性）デプスフィルタからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、またはＣ０ＳＰデプスフィルタであり、デプスフィルタを介した処理は、約４．５～約８のｐＨで実施される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＥＭＰＨＡＺＥ（登録商標）デプスフィルタであり、デプスフィルタを介した処理は約７～約９．５のｐＨで実施される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタであり、デプスフィルタを介した処理は約５～約９のｐＨで実施される。
【0042】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理は、低塩濃度を使用して実施される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理は、フロースルーモードで実施される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムは、エーテル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、およびフェニル基の１以上を含む基質を含む。いくつかの実施形態では、前記ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムは、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（フェニル－ＳＦＦ）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｈｉ－ｓｕｂ（フェニル－ＳＦＦ ＨＳ）、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｍ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｓ、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａ、およびＳａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、前記ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理は、約４．５～約７のｐＨで実施される。
【0043】
いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々は、ＩＥＸクロマトグラフィー膜またはＩＥＸクロマトグラフィーカラムを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィーまたはＩＥＸクロマトグラフィーカラムは、ＳＰＳＦＦ、ＱＳＦＦ、ＳＰＸＬ、Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ、ＡＢｘ（商標）、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ、ＤＥＡＥ、ＤＭＡＥ、ＴＭＡＥ、ＱＡＥ、およびＭＥＰ－Ｈｙｐｅｒｃｅｌ（商標）からなる群から選択される。
【0044】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、前記サンプルから標的を精製するためのものであり、前記サンプルが、前記標的および１以上の宿主細胞不純物を含む。いくつかの実施形態では、標的は、ポリペプチドを含む。いくつかの実施形態では、標的は抗体部分である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、モノクローナル抗体である。いくつかの実施形態では、抗体は、ヒト抗体、ヒト化抗体、またはキメラ抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される。
【0045】
いくつかの実施形態では、１以上の宿主細胞不純物は宿主細胞タンパク質を含む。いくつかの実施形態では、宿主細胞タンパク質は加水分解酵素である。いくつかの実施形態では、加水分解酵素は、リパーゼ、エステラーゼ、チオエステラーゼ、ホスホリパーゼ、カルボキシルエステラーゼ、ヒドロラーゼ、クチナーゼ、またはセラミダーゼである。
【0046】
いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞またはそれに由来する成分を含む。いくつかの実施形態では、サンプルは、細胞培養サンプルであるか、または細胞培養サンプルに由来する。いくつかの実施形態では、細胞培養サンプルは宿主細胞を含み、宿主細胞はチャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞または大腸菌細胞である。
【0047】
いくつかの実施形態では、本方法は、サンプル処理工程をさらに含む。
【0048】
いくつかの実施形態では、加水分解酵素活性速度の低下は少なくとも約２０％である
【0049】
いくつかの実施形態では、本方法は、組成物の加水分解酵素活性速度を決定することをさらに含む。
【0050】
いくつかの実施形態では、本方法は、組成物中の１つ以上の加水分解酵素のレベルを決定することをさらに含む。
【0051】
いくつかの実施形態では、組成物はポリソルベートを含む。いくつかの実施形態では、ポリソルベートは、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される。
【0052】
別の態様では、本明細書に記載の方法から得られる医薬組成物が提供される。
【0053】
別の態様では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命が１２ヶ月を超える、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0054】
別の態様では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解活性の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命が、製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示される貯蔵寿命と比較して延長されており、貯蔵寿命が、前記文書に示される貯蔵寿命と比較して少なくとも３ヶ月延長されている、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0055】
いくつかの実施形態では、ポリソルベート加水分解の速度は、少なくとも約２０％低下している
【0056】
別の態様では、抗体部分を含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベートの分解が低下しており、前記分解が、前記製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示された分解と比較して少なくとも約２０％低減している、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0057】
別の態様では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、前記ポリソルベートが、液体組成物の貯蔵中に年間５０％以下分解される、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0058】
いくつかの実施形態では、抗体部分は、モノクローナル抗体である。いくつかの実施形態では、抗体は、ヒト抗体、ヒト化抗体、またはキメラ抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、
【0059】
いくつかの実施形態では、ポリソルベートは、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される。
【0060】
当業者は、いくつかの実施形態が本発明の範囲および趣旨内で可能であることを認識するだろう。本開示は、以下の実施例によってさらに説明されるが、これらの実施例は、本開示の範囲または趣旨を、そこに記載されている特定の手順に限定するものと解釈されるべきではない。
【図面の簡単な説明】
【0061】
【0062】
【0063】
【0064】
【0065】
【0066】
【0067】
【発明を実施するための形態】
【0068】
詳細な説明
本出願は、いくつかの態様では、標的を含むサンプルから標的を精製する方法であって、サンプルを、１以上の深層濾過工程および／または１以上の疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程および／または１以上のマルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む本明細書に開示される精製プラットフォームに供することを含む、方法が提供される。いくつかの実施形態では、精製された標的は、医薬組成物に使用するためのものである。いくつかの実施形態では、標的は、組換えポリペプチドなどのポリペプチド、例えば抗体部分である。
本出願は、いくつかの態様では、標的を含むサンプルから標的を精製する方法であって、サンプルを、１以上の深層濾過工程および／または１以上の疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程および／または１以上のマルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む本明細書に開示される精製プラットフォームに供することを含む、方法が提供される。いくつかの実施形態では、精製された標的は、医薬組成物に使用するためのものである。いくつかの実施形態では、標的は、組換えポリペプチドなどのポリペプチド、例えば抗体部分である。
【0069】
本開示は、少なくとも部分的には、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１つ以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含む精製プラットフォームは、１つ以上の深層濾過工程および／または１つ以上のＨＩＣ工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製プラットフォームから得られる組成物と比較して、そこから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させることを示す予想外の知見に基づく。予想外の所見は、本明細書に記載の精製プラットフォームが宿主細胞によって産生された標的を精製するのに特に有用であることを実証した。本明細書で考察するように、宿主細胞加水分解酵素を含む特定の宿主細胞タンパク質および不純物は、標的と共精製する傾向があり得る。そのような宿主細胞加水分解酵素は、その組成物を調製および製剤化するのに有用な標的および／または標的に添加された添加剤を分解し得る。本明細書に記載の精製プラットフォームから得られた組成物中の加水分解酵素活性速度の低下が実証されたことにより、標的の組成物に含まれる添加剤、例えば界面活性剤、例えばポリソルベートが宿主細胞不純物によって分解されないことが保証され、それにより標的の安定性および組成物の貯蔵寿命が改善される。
【0070】
したがって、いくつかの態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームに供給することを含み、それにより、深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0071】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0072】
他の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0073】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程または深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0074】
別の態様では、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；ならびに疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程および深層濾過工程の一方または両方を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程または深層濾過工程および／または ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法が提供される。
【0075】
他の態様では、本明細書に記載の方法から得られる医薬組成物が本明細書で提供される。
【0076】
別の態様では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命が１２ヶ月を超える、製剤化された抗体部分が本明細書で提供される。
【0077】
別の態様では、別の態様では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命が、製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示される貯蔵寿命と比較して延長されており、貯蔵寿命が、前記文書に示される貯蔵寿命と比較して少なくとも３ヶ月延長されている、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0078】
別の態様では、抗体部分を含む製剤化された抗体部分組成物であって、製剤化された抗体部分組成物はポリソルベートの分解が低下しており、分解が、前記製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示された分解と比較して少なくとも約５０％低減している、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0079】
別の態様では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、前記ポリソルベートが、液体組成物の貯蔵中に年間５０％以下分解される、製剤化された抗体部分組成物が提供される。
【0080】
本開示の範囲から逸脱することなく、本明細書に記載の実施態様の形態および詳細の変更を行い得ることも当業者には理解されよう。さらに、様々な実施態様を参照して様々な利点、態様、および目的を説明したが、本開示の範囲は、そのような利点、態様、および目的を参照することによって限定されるべきではない。
【0081】
Ｉ．定義
本明細書を解釈する目的で、以下の定義が適用され、適切な場合にはいつでも、単数形で使用される用語は、複数形も含み、その逆に、複数形で使用される用語は、単数形も含む。以下に記載されるいずれかの定義が、参照により本明細書に組み込まれているいずれかの文献と矛盾する場合には、以下に記載される定義が優先するものとする。
本明細書を解釈する目的で、以下の定義が適用され、適切な場合にはいつでも、単数形で使用される用語は、複数形も含み、その逆に、複数形で使用される用語は、単数形も含む。以下に記載されるいずれかの定義が、参照により本明細書に組み込まれているいずれかの文献と矛盾する場合には、以下に記載される定義が優先するものとする。
【0082】
「抗体部分」という用語は、全長抗体およびその抗原結合断片を含む。いくつかの実施形態では、完全長抗体は、２つの重鎖および２つの軽鎖を含む。軽鎖および重鎖の可変領域は、抗原結合を担う。両方の鎖の可変領域は、一般に、相補性決定領域（ＣＤＲ）と呼ばれる３つの高度に可変なループを含む（ＬＣ－ＣＤＲ１、ＬＣ－ＣＤＲ２およびＬＣ－ＣＤＲ３を含む軽鎖（ＬＣ）ＣＤＲ、ＨＣ－ＣＤＲ１、ＨＣ－ＣＤＲ２およびＨＣ－ＣＤＲ３を含む重鎖（ＨＣ）ＣＤＲ）。本明細書に開示される抗体および抗原結合断片のＣＤＲ境界は、Ｋａｂａｔ、Ｃｈｏｔｈｉａ、またはＡｌ－Ｌａｚｉｋａｎｉ（Ａｌ－Ｌａｚｉｋａｎｉ １９９７；Ｃｈｏｔｈｉａ １９８５；Ｃｈｏｔｈｉａ １９８７；Ｃｈｏｔｈｉａ １９８９；Ｋａｂａｔ １９８７；Ｋａｂａｔ １９９１）の慣例によって定義または同定され得る。重鎖または軽鎖の３つのＣＤＲは、ＣＤＲよりも高度に保存されており、超可変ループを支持するための足場を形成するフレームワーク領域（ＦＲ）として公知の隣接するストレッチの間に介在する。重鎖および軽鎖の定常領域は抗原結合に関与しないが、様々なエフェクター機能を示す。抗体は、その重鎖の定常領域のアミノ酸配列に基づいてクラスに割り当てられる。抗体の５つの主要なクラスまたはアイソタイプは、ＩｇＡ、ＩｇＤ、ＩｇＥ、ＩｇＧおよびＩｇＭであり、それぞれα、δ、ε、γおよびμ重鎖の存在を特徴とする。主要な抗体クラスのいくつかは、ＩｇＧ１（γ１重鎖）、ＩｇＧ２（γ２重鎖）、ＩｇＧ３（γ３重鎖）、ＩｇＧ４（γ４重鎖）、ＩｇＡ１（α１重鎖）、またはＩｇＡ２（α２重鎖）などのサブクラスに分けられる。いくつかの実施形態では、抗体はキメラ抗体である。いくつかの実施形態では、抗体は、半合成抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分はダイアボディである。いくつかの実施形態では、抗体部分はヒト化抗体である。ある特定の実施形態では、抗体は多重特異性抗体、例えば二重特異性抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、融合タンパク質に連結される。いくつかの実施形態では、抗体部分は、インターロイキンなどの免疫刺激タンパク質に結合している。いくつかの実施形態では、抗体部分は、血液脳関門を通過する侵入を促進するタンパク質に連結される。
【0083】
本明細書で使用される「抗原結合断片」という用語は、例えば、ダイアボディ、Ｆａｂ、Ｆａｂ’、Ｆ（ａｂ’）２、Ｆｖ断片、ジスルフィド安定化Ｆｖ断片（ｄｓＦｖ）、（ｄｓＦｖ）２、二重特異性ｄｓＦｖ（ｄｓＦｖ－ｄｓＦｖ’）、ジスルフィド安定化ダイアボディ（ｄｓダイアボディ）、一本鎖抗体分子（ｓｃＦｖ）、ｓｃＦｖ二量体（二価ダイアボディ）、１つ以上のＣＤＲを含む抗体の一部から形成された多重特異性抗体、ラクダ化単一ドメイン抗体、ナノボディ、ドメイン抗体、二価ドメイン抗体、または抗原に結合するが完全な抗体構造を含まない任意の他の抗体断片を含む抗体断片を指す。抗原結合断片は、親抗体または親抗体断片（例えば、親ｓｃＦｖ）が結合する同じ抗原に結合し得る。いくつかの実施形態では、抗原結合断片は、１つ以上の異なるヒト抗体由来のフレームワーク領域にグラフトされた特定のヒト抗体由来の１つ以上のＣＤＲを含み得る。
【0084】
「キメラ抗体」という用語は、重鎖および／または軽鎖の一部が、特定の種に由来するか、または特定の抗体クラスもしくはサブクラスに属する抗体内の対応する配列と同一または相同である一方で、鎖（複数可）の残りが、別の種に由来するか、または別の抗体クラスもしくはサブクラスに属する抗体内の対応する配列と同一または相同である抗体を指し、ならびにそれらが所望の生物学的活性を呈する限り、そのような抗体の断片を含む（例えば、米国特許第４，８１６，５６７号およびＭｏｒｒｉｓｏｎら、Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ，８１：６８５１～６８５５（１９８４）を参照されたい）。
【0085】
「多重特異性抗体」という用語は、本明細書で使用するとき、少なくとも２つの異なる部位、すなわち、異なる抗原上の異なるエピトープまたは同じ抗原上の異なるエピトープに対して結合特異性を有するモノクローナル抗体を指す。特定の態様では、多重特異性抗体は２つの結合特異性を有する（二重特異性抗体）。ある特定の態様では、多重特異性抗体は３つ以上の結合特異性を有する。多重特異性抗体は、全長抗体または抗体断片として調製し得る。
【0086】
抗体または抗体部分に関して「半合成」という用語は、抗体または抗体部分が１つ以上の天然に存在する配列および１つ以上の非天然に存在する（すなわち、合成）配列を有することを意味する。
【0087】
「Ｆｖ」とは、完全な抗原認識および抗原結合部位を含む最小抗体断片である。この断片は１つの重鎖可変領域ドメインと１つの軽鎖可変領域ドメインが、非共有結合で緊密に結合した二量体からなる。これらの２つのドメインの折り畳みにより、抗原結合のためのアミノ酸残基を提供し、かつ抗原結合特異性を抗体に与える６つの超可変ループ（重鎖および軽鎖から各３つのループ）が生じる。しかしながら、単一の可変ドメイン（または抗原に特異的なＣＤＲを３つのみ含むＦｖの半分）でさえも、全結合部位よりも低い親和性ではあるが、抗原を認識してそれに結合する能力を有する。
【0088】
「ｓＦｖ」または「ｓｃＦｖ」とも略される「一本鎖Ｆｖ」は、単一のポリペプチド鎖に接続されたＶＨおよびＶＬ抗体ドメインを含む抗体断片である。いくつかの実施形態では、ｓｃＦｖポリペプチドは、ＶＨドメインとＶＬドメインとの間にポリペプチドリンカーをさらに含み、これにより、ｓｃＦｖが抗原結合に望ましい構造を形成することが可能になる。ｓｃＦｖに関する概説については、例えば、Ｐｌｕｃｋｔｈｕｎ ｉｎ Ｔｈｅ Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｍｏｎｏｃｌｏｎａｌ Ａｎｔｉｂｏｄｉｅｓ，ｖｏｌ．１１３，ＲｏｓｅｎｂｕｒｇおよびＭｏｏｒｅ編，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ－Ｖｅｒｌａｇ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，ｐｐ．２６９－３１５（１９９４）を参照されたい。
【0089】
「ダイアボディ」という用語は、Ｖドメインの鎖内ではなく鎖間の対合が達成され、二価断片、すなわち、２つの抗原結合部位を有する断片をもたらすように、ＶＨドメインとＶＬドメインとの間にｓｃＦｖ断片（前段落を参照のこと）を短いリンカー（約５～１０個の残基）で構築することによって調製された小さい抗体断片を指す。二重特異性ダイアボディは、２つの抗体のＶＨおよびＶＬドメインが異なるポリペプチド鎖上に存在する２つの「交差」ｓｃＦｖ断片のヘテロ二量体である。ダイアボディは、例えば、欧州特許第４０４，０９７号、国際公開第９３／１１１６１号、およびＨｏｌｌｉｎｇｅｒら，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ，９０：６４４４－６４４８（１９９３）にさらに詳述されている。
【0090】
非ヒト（例えば、げっ歯類）抗体の「ヒト化」形態とは、非ヒト抗体に由来する配列を最小限含むキメラ抗体である。大部分は、ヒト化抗体は、レシピエントの超可変領域からの残基が、所望の抗体特異性、親和性、および能力を有するマウス、ラット、ウサギ、または非ヒト霊長類などの非ヒト種（ドナー抗体）の超可変領域からの残基によって置き換えられる、ヒト免疫グロブリン（レシピエント抗体）である。一部の場合において、ヒト免疫グロブリンのフレームワーク領域（ＦＲ）の残基は、対応する非ヒト残基によって置き換えられている。さらに、ヒト化抗体は、レシピエント抗体またはドナー抗体には見られない残基を含み得る。これらの修飾は、抗体性能をさらに洗練させるために行われる。一般に、ヒト化抗体は、少なくとも１つ、典型的には２つの可変ドメインのうちの実質的に全てを含み、超可変ループのうちの全て、または実質的に全てが、非ヒト免疫グロブリンの超可変ループに対応し、ＦＲのうちの全て、または実質的に全てがヒト免疫グロブリン配列のＦＲである。ヒト化抗体はまた、任意選択で免疫グロブリン定常領域（Ｆｃ）、典型的にはヒト免疫グロブリンの定常領域の少なくとも一部分も含む。さらなる詳細については、例えば、Ｊｏｎｅｓら、Ｎａｔｕｒｅ、３２１：５２２～５２５（１９８６）、Ｒｉｅｃｈｍａｎｎら、Ｎａｔｕｒｅ３３２：３２３～３２９（１９８８）、およびＰｒｅｓｔａ、Ｃｕｒｒ．Ｏｐ．Ｓｔｒｕｃｔ．Ｂｉｏｌ．２：５９３～５９６（１９９２）を参照されたい。
【0091】
本明細書で使用される「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」、および「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」という用語、ならびにそれらの文法的同等物は、これらの単語のいずれか１つに続く１つ以上の項目が、そのような１つ以上の項目の網羅的な列挙であることを意味しないか、列挙された１つ以上の項目のみに限定されることを意味しないという点で、意味において同等であり、オープンエンドであることを意図している。例えば、構成要素Ａ、Ｂ、およびＣを「含む」物品は、構成要素Ａ、Ｂ、およびＣからなり（すなわち、のみを含有する）得るか、または構成要素Ａ、Ｂ、およびＣだけでなく１つ以上の他の構成要素も含むこともできる。したがって、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」およびその類似の形態、ならびにその文法上の等価物は、「から本質的になる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」または「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」の実施形態の開示を含むことが意図され、理解される。
【0092】
値の範囲が提供される場合、文脈上明確に指示されない限り、その範囲の上限と下限との間の下限の単位の１０分の１までの各介在値、およびその記載された範囲内の任意の他の記載された値または介在値は、記載された範囲内の任意の具体的に除外された制限を条件として、本開示内に包含されることが理解される。記載された範囲が限界の一方または両方を含む場合、それら包含される限界のいずれかまたは両方を除いた範囲もまた、本開示に含まれる。
【0093】
本明細書における値またはパラメータへの「約」という言及は、その値またはパラメータ自体を対象とする変形を含む（かつ記載する）。例えば、「約Ｘ」に言及する記載は、「Ｘ」の記載を含む。
【0094】
本明細書および添付の特許請求の範囲で使用されるとき、単数形「ａ（１つの）」、「ｏｒ（または）」、および「ｔｈｅ（その）」は、文脈が別途明確に指示しない限り、複数の指示対象を含む。
【0095】
ＩＩ．精製プラットフォームおよびその工程
いくつかの態様では、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のマルチモーダル疎水性相互作用クロマトグラフィー／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む、サンプルから標的を精製するために設計された精製プラットフォームが本明細書で提供される。記載された精製プラットフォームは、深層濾過工程および／またはＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まないサンプルの精製と比較して、加水分解酵素活性速度が低下した精製組成物を得るのに有用である。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、深層濾過工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームはＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、深層濾過工程およびＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、１以上の追加の工程をさらに含み、各工程は、イオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程、捕捉工程、ウイルス濾過工程、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦＤＦ）工程、およびコンディショニング工程から選択される。
いくつかの態様では、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のマルチモーダル疎水性相互作用クロマトグラフィー／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む、サンプルから標的を精製するために設計された精製プラットフォームが本明細書で提供される。記載された精製プラットフォームは、深層濾過工程および／またはＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まないサンプルの精製と比較して、加水分解酵素活性速度が低下した精製組成物を得るのに有用である。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、深層濾過工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームはＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、深層濾過工程およびＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、１以上の追加の工程をさらに含み、各工程は、イオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程、捕捉工程、ウイルス濾過工程、限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦＤＦ）工程、およびコンディショニング工程から選択される。
【0096】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、標的を含むサンプルから標的を任意の程度まで精製するためのワークフローを表す。本開示のいくつかの例では、精製プラットフォームの構成要素および特徴、ならびにその使用方法の説明は、モジュール方式で提供される。当業者は、そのような開示が本出願の範囲を限定することを意味するものではなく、本開示が本明細書の記載に包含される精製プラットフォームまたはその特徴の多数の配置を包含することを容易に理解するであろう。例えば、いくつかの実施形態では、特定の種類のクロマトグラフィー媒体は、クロマトグラフィー媒体の属を含むものとしての精製プラットフォームの記載に包含されると容易に理解され得る。本明細書に包含される精製プラットフォームの特定の特徴および実施形態、例えばその工程を実施するための方法は、ＰＣＴ／ＵＳ２０２０／０３１１６４に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0097】
さらに、当業者は、本明細書に記載の特定のクロマトグラフィー媒体が、媒体と標的などの成分との相互作用を規定する２つ以上の異なる特徴を有し得ることを認識するであろう。例えば、マルチモーダルＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、疎水性相互作用特徴および静電相互作用特徴の両方を有するリガンドを有し得る。以下の項におけるクロマトグラフィー媒体の説明は、その上に存在し得る特徴の種類を限定しない。
【0098】
Ａ．深層濾過工程
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、深層濾過工程を含む。本明細書に記載されるように、深層濾過工程は、精製プラットフォーム内の１つ以上の位置のいずれかに配置し得る。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、プロセスワークフローの任意の段階に配置された１つ以上の深層濾過工程、例えば２、３、４、または５つの深層濾過工程のいずれかを含む。精製プラットフォームが２つ以上の深層濾過工程を含むいくつかの実施形態では、深層濾過工程は直接連続して実施されない、すなわち、深層濾過工程の間に精製プラットフォームの何らかの介在工程が実施されない。精製プラットフォームが２つ以上の深層濾過工程を含むいくつかの実施形態では、深層濾過工程は同じである。精製プラットフォームが２つ以上の深層濾過工程を含むいくつかの実施形態では、深層濾過工程は異なり、例えば、異なるデプスフィルタの使用を含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、深層濾過工程を含む。本明細書に記載されるように、深層濾過工程は、精製プラットフォーム内の１つ以上の位置のいずれかに配置し得る。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、プロセスワークフローの任意の段階に配置された１つ以上の深層濾過工程、例えば２、３、４、または５つの深層濾過工程のいずれかを含む。精製プラットフォームが２つ以上の深層濾過工程を含むいくつかの実施形態では、深層濾過工程は直接連続して実施されない、すなわち、深層濾過工程の間に精製プラットフォームの何らかの介在工程が実施されない。精製プラットフォームが２つ以上の深層濾過工程を含むいくつかの実施形態では、深層濾過工程は同じである。精製プラットフォームが２つ以上の深層濾過工程を含むいくつかの実施形態では、深層濾過工程は異なり、例えば、異なるデプスフィルタの使用を含む。
【0099】
いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、精製プラットフォームの別の態様と組み合わせてロード濾過として使用される。いくつかの実施形態では、「深層濾過工程」における「工程」という用語の使用は、精製プラットフォームの深層濾過特徴が別の特徴と直接組み合わされる、例えば深層濾過溶出液が精製プラットフォームの後続の特徴または工程に直接流れる精製プラットフォームを除外しない。
【0100】
デプスフィルタを介した処理に関連するものを含む深層濾過工程は、当技術分野で知られている。例えば、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、Ｙｉｇｚａｗら、Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌ Ｐｒｏｇ，２２，２００６，およびＬｉｕら，ｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、深層濾過工程の実施に関与する成分、条件、および試薬を理解するであろう。
【0101】
いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、デプスフィルタを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、細胞成分および残屑などのサンプルの一部を保持し得る多孔質濾過媒体を含み、濾過は、例えば、フィルタ材料の深度内で実施される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、合成材料、非合成材料、またはそれらの組み合わせを含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、珪藻土組成物、シリカ組成物、セルロース繊維、ポリマー繊維、ポリアクリル繊維、凝集樹脂、合成粒子、イオン荷電樹脂、および灰組成物のうちの１以上を含む基材を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは珪藻土を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは陰イオン交換媒体を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは疎水性相互作用媒体を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタの基材の少なくとも一部は、表面改質を含む。いくつかの実施形態では、表面改質は、第四級アミン表面改質（第四級アンモニウム、Ｑ官能性など）、グアニジニウム表面改質、陽イオン性表面改質、陰イオン性表面改質、および疎水性改質の１以上である。いくつかの実施形態では、表面改質は、標的などの別の成分との相互作用を促進するように設計された１以上の特徴を有するリガンドを含み、そのような特徴は、例えば、水素結合、親水性相互作用、疎水性相互作用、およびイオン性相互作用（陽イオンおよび陰イオン）に関与する部分を含み得る。
【0102】
いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、所定のｐＨまたはその範囲で実施されるように構成され、例えば、投入材料は所定のｐＨまたはその範囲を有する。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約４．５～約９．５、例えば、約４．５～約７、約５～約６、約５～約５．５、約７～約９．５、約４．５～約９、約５～約８．５、または約７．５～約８．５のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、例えば、投入材料が少なくとも約４．５のｐＨ、例えば少なくとも約４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、９、９．１、９．２、９．３、９．４、または９．５のいずれかを有するときに実行されるように構成される。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約９．５未満、例えば約９．４、９．３、９．２、９．１、９、８．９、８．８、８．７、８．６、８．５、８．４、８．３、８．２、８．１、８、７．９、７．８、７．７、７．６、７．５、７．４、７．３、７．２、７．１、７、６．９、６．８、６．７、６．６、６．５、６．４、６．３、６．２、６．１、６、５．９、５．８、５．７、５．６、５．５、５．４、５．３、５．２、５．１、５、４．９、４．８、４．７、４．６、または４．５のいずれかより低いｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、９、９．１、９．２、９．３、９．４、または９．５のいずれかのｐＨを有するときに実行されるように構成される。
【0103】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタ、ＰＤＤ１デプスフィルタ、ＰＤＥ１デプスフィルタ、ＰＤＨ５デプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）１２０ＺＡデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）１２０ＺＢデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）ＤＥＬＩデプスフィルタ、およびＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）ＤＥＬＰデプスフィルタからなる群から選択される。
【0104】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ポリアクリル系繊維の有無にかかわらず、シリカ濾過助剤などのシリカ材料を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは２層以上の濾材を含み、第１の層はシリカ濾過助剤などのシリカ材料を含み、第２の層はポリアクリル繊維パルプなどのポリアクリル繊維を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、合成材料を含むデプスフィルタであり、珪藻土および／またはパーライトを含まない。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＸ０ＳＰデプスフィルタである。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＤ０ＳＰ深度フィルタである。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＣ０ＳＰデプスフィルタである。
【0105】
いくつかの実施形態では、シリカ濾過助剤は沈降シリカ濾過助剤である。いくつかの実施形態では、濾過助剤は、フィルタ機能の実行を助ける層などのフィルタの一態様である。いくつかの実施形態では、シリカ濾過助剤はシリカゲル濾過助剤である。いくつかの実施形態では、シリカ濾過助剤は、ｐＨ７でイオン化された約５０％のシラノールを有する。いくつかの実施形態では、シリカ濾過助剤はシリカゲル濾過助剤であり、シリカ濾過助剤のシラノールの約５０％がｐＨ７でイオン化される。いくつかの実施形態では、シリカ濾過助剤は、ＳＩＰＥＲＮＡＴ（登録商標）（Ｅｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ＡＧ）などのシリカ、またはＫｉｅｓｅｉｇｅｌ ６０（Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ）などのシリカゲルから沈殿する。いくつかの実施形態では、ポリアクリル系繊維は、不織ポリアクリル系繊維パルプである。いくつかの実施形態では、ポリアクリル系繊維は電界紡糸ポリアクリルナノファイバーである。いくつかの実施形態では、ポリアクリル系繊維のフィブリル化度は、約１０ｍＬ～約８００ｍＬのカナダ標準ろ水度（ＣＳＦ）と相関する。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、約０．０５μｍ～約０．２μｍ、例えば約０．１μｍの孔径を有する。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、約０．１ｍ２～約１．５ｍ２、例えば約０．１１ｍ２，約０．５５ｍ２，０．７７ｍ２、または約１．１ｍ２の表面積を有する。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、珪藻土および／またはパーライトを含まない。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、濾材の２つの層を含み、第１の層は、ｐＨ７でイオン化された約５０％のシラノールを有するシリカ濾過助剤を含み、第２の層は、約１０ｍＬ～約８００ｍＬのカナダ標準ろ水度（ＣＳＦ）と相関するポリアクリル系繊維のフィブリル化度を有するポリアクリル系繊維パルプを含み、デプスフィルタは珪藻土を含まない。
【0106】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、シリカ濾過助剤などのシリカと、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約４．５～約８、約５～約６、約５．３～約５．７、または約７．３～約７．７のｐＨを有するときに実行されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、シリカ濾過助剤などのシリカと、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が少なくとも約４．５、例えば少なくとも約４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、または８のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、シリカ濾過助剤などのシリカと、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約８未満、例えば約７．９、７．８、７．７、７．６、７．５、７．４、７．３、７．２、７．１、７、６．９、６．８、６．７、６．６、６．５、６．４、６．３、６．２、６．１、６、５．９、５．８、５．７、５．６、５．５、５．４、５．３、５．２、５．１、５、４．９、４．８、４．７、４．６、ｏｒ ４．５のいずれか未満のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、シリカ濾過助剤などのシリカと、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、または８のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0107】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料と、マルチゾーン微多孔膜とを含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ヒドロゲルＱ官能化不織布材料および９ゾーン微多孔膜を含む４つの層を含む。いくつかの実施形態では、不織布材料はポリプロピレンを含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、合成材料を含むデプスフィルタであり、珪藻土および／またはパーライトを含まない。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタ、例えばＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタである。
【0108】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、複数の構成要素または層を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、陰イオン交換（ＡＥＸ）官能性ポリマーを含む１つ以上の層を含む複数の層を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸ官能性ポリマーを含む層は、Ｑ官能性ヒドロゲルなどの第四級アンモニウム（Ｑ）を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸ官能性ポリマーを含む層は、不織布物品と会合した第四級アンモニウム（Ｑ）官能性ポリマーを含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸ官能性ポリマーを含む層は、微細繊維ポリプロピレン不織布足場に共有結合的にグラフト化された第四級アンモニウム（Ｑ）官能性ヒドロゲルを含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、約０．０５μｍ～約０．３μｍ、例えば約０．２２μｍの孔径を有する９ゾーン膜を含むマルチゾーン膜を含む層を含む複数の層を含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは珪藻土を含まない。
【0109】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタなどのヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７～約９．５、例えば約７．５～約８．５または約７．８～約８．２のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスなどのヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が少なくとも約７、例えば少なくとも約７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、９、９．１、９．２、９．３、９．４、または９．５のいずれかのｐＨで実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタなどのヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約９．５未満、例えば約９．４、９．３、９．２、９．１、９、８．９、８．８、８．７、８．６、８．５、８．４、８．３、８．２、８．１、８、７．９、７．８、７．７、７．６、７．５、７．４、７．３、７．２、７．１、または７のいずれか未満のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタなどのヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、９、９．１、９．２、９．３、９．４、または９．５のいずれかのｐＨを有するときに実行されるように構成される。
【0110】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料、およびＧｕ（グアニジニウム）官能化膜を含む。いくつかの実施形態では、Ｑ官能化不織布材料は、１以上、例えば、１、２、または３つのいずれかの層で構成される。いくつかの実施形態では、Ｇｕ官能化膜は、１以上、例えば、１、２、３または４つのいずれかの層で構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ官能化不織布材料の３つの層、およびＧｕ官能化膜の４つの層を含む。いくつかの実施形態では、不織布材料はポリプロピレンを含む。いくつかの実施形態では、Ｇｕ官能化膜はポリアミド膜である。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタである。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ官能化不織布材料、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタなどのＧｕ官能化膜を含み、デプスフィルタを使用するデプスフィルタ処理工程は、例えば、投入材料が約４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５．０、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６．０、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７．０、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８．０、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、または９．０のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0111】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタなどのＧｕ（グアニジニウム）官能化膜を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約４．５～約９、例えば約５～約８または約７～約９のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタなどのＧｕ（グアニジニウム）官能化膜を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が、少なくとも約４．５、例えば少なくとも約４．６、４．７、４．８、４．９、５．０、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６．０、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７．０、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８．０、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、または９．０のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタなどのＧｕ（グアニジニウム）官能化膜を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約９．０未満、例えば約８．９、８．８、８．７、８．６、８．５、８．４、８．３、８．２、８．１、８、７．９、７．８、７．７、７．６、７．５、７．４、７．３、７．２、７．１、７、６．９、６．８、６．７、６．６、６．５、６．４、６．３、６．２、６．１、６．０、５．９、５．８、５．７、５．６、５．５、５．４、５．３、５．２、５．１、５．０、４．９、４．８、４．７、４．６、または４．５のいずれか未満のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、Ｑ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタなどのＧｕ（グアニジニウム）官能化膜を含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が、約４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５．０、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６．０、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、７．０、７．１、７．２、７．３、７．４、７．５、７．６、７．７、７．８、７．９、８．０、８．１、８．２、８．３、８．４、８．５、８．６、８．７、８．８、８．９、または９．０のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0112】
いくつかの実施形態では、デプスフィルタは、セルロース繊維、珪藻土、およびパーライトを含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは２つの層を含み、各層はセルロースフィルタマトリックスを含み、セルロースフィルタマトリックスは、珪藻土またはパーライトの１つ以上を含む濾過助剤で含浸されている。いくつかの実施形態では、デプスフィルタは２つの層を含み、各層はセルロースフィルタマトリックスを含み、セルロースフィルタマトリックスは珪藻土またはパーライトの１つ以上を含む濾過助剤で含浸され、各層は樹脂バインダーをさらに含む。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＰＤＤ１デプスフィルタである。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＰＤＥ１デプスフィルタである。いくつかの実施形態では、デプスフィルタはＰＤＨ５デプスフィルタである。
【0113】
Ｂ．ＨＩＣ工程
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、ＨＩＣ工程を含む。本明細書に記載されるように、ＨＩＣ工程は、精製プラットフォーム内の任意の１つ以上の位置に配置し得る。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、プロセスワークフローの任意の段階に配置された１つ以上のＨＩＣ工程、例えば２、３、４、または５つのＨＩＣ工程のいずれかを含む。精製プラットフォームが２つ以上のＨＩＣ工程を含むいくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は直接連続して実施されない、すなわち、ＨＩＣ工程の間に実施される精製プラットフォームの何らかの介在工程を伴わずに実施されない。精製プラットフォームが２つ以上のＨＩＣ工程を含むいくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は同じである。精製プラットフォームが２つ以上のＨＩＣ工程を含むいくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は異なり、例えば、異なるＨＩＣ媒体の使用を含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、ＨＩＣ工程を含む。本明細書に記載されるように、ＨＩＣ工程は、精製プラットフォーム内の任意の１つ以上の位置に配置し得る。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、プロセスワークフローの任意の段階に配置された１つ以上のＨＩＣ工程、例えば２、３、４、または５つのＨＩＣ工程のいずれかを含む。精製プラットフォームが２つ以上のＨＩＣ工程を含むいくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は直接連続して実施されない、すなわち、ＨＩＣ工程の間に実施される精製プラットフォームの何らかの介在工程を伴わずに実施されない。精製プラットフォームが２つ以上のＨＩＣ工程を含むいくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は同じである。精製プラットフォームが２つ以上のＨＩＣ工程を含むいくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は異なり、例えば、異なるＨＩＣ媒体の使用を含む。
【0114】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、精製プラットフォームの別の態様と組み合わせて使用される。いくつかの実施形態では、「ＨＩＣ工程」における「工程」という用語の使用は、精製プラットフォームのＨＩＣ特徴が別の特徴と直接組み合わされる、例えば溶離液がＨＩＣ特徴に直接流れる精製プラットフォームを除外しない。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸなどのＨＩＣ特徴を含むマルチモーダルクロマトグラフィー媒体を含む、ＨＩＣ特徴を含むクロマトグラフィー媒体を含む。
【0115】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣカラムおよび／またはＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体を介した処理を含む。ＨＩＣ媒体を介した処理に関与するものを含むＨＩＣ工程は、当技術分野で知られている。例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、例えば、ＨＩＣ工程に関与する成分、条件および試薬を理解するであろう。
【0116】
ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ媒体の疎水性リガンドとサンプルの成分、例えば標的または非標的成分との間の疎水性相互作用に基づく分離を可能にする。例えば、いくつかの実施形態では、高塩条件を使用して標的の溶媒和を減少させ、それによって疎水性領域を露出させ、次いでこれをＨＩＣ媒体と相互作用させ得る。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、不活性マトリックス、例えば架橋アガロース、セファロースまたは樹脂マトリックスなどの基質を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体の基材の少なくとも一部は、疎水性リガンドを含む表面改質を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣリガンドは、約１～１８個の炭素を含むリガンドである。いくつかの実施形態では、ＨＩＣリガンドは、１個以上の炭素、例えば２個以上の炭素、３個以上の炭素、４個以上の炭素、５個以上の炭素、６個以上の炭素、７個以上の炭素、８個以上の炭素、９個以上の炭素、１０個以上の炭素、１１個以上の炭素、１２個以上の炭素、１３個以上の炭素、１４個以上の炭素、１５個以上の炭素、１６個以上の炭素、１７個以上の炭素、または１８個以上の炭素のいずれかを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣリガンドは、１個の炭素、２個の炭素、３個の炭素、４個の炭素、５個の炭素、６個の炭素、７個の炭素、８個の炭素、９個の炭素、１０個の炭素、１１個の炭素、１２個の炭素、１３個の炭素、１４個の炭素、１５個の炭素、１６個の炭素、１７個の炭素、または１８個の炭素のいずれかを含む。いくつかの実施形態では、疎水性リガンドは、エーテル基、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、およびポリプロピレングリコール基からなる群から選択される。いくつかの態様では、ＨＩＣ媒体は疎水性電荷誘導クロマトグラフィー媒体である。
【0117】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、所定のｐＨまたはその範囲で実施されるように構成され、例えば、投入材料は所定のｐＨまたはその範囲を有する。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約４．５～約７、例えば約５～約６、約５～約５．５、または約５．３～約５．７のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が少なくとも約４．５、例えば少なくとも約４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、または７のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約７未満、例えば約６．９、６．８、６．７、６．６、６．５、６．４、６．３、６．２、６．１、６、５．９、５．８、５．７、５．６、５．５、５．４、５．３、５．２、５．１、５、４．９、４．８、４．７、４．６、または４．５のいずれか未満のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、または７のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0118】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ媒体を介した処理を含み、ＨＩＣ媒体を介した処理は、結合溶出モードで実施される（すなわち、ＨＩＣ工程は結合および溶出モードのＨＩＣ工程である）。いくつかの実施形態では、塩濃度を低下させ、界面活性剤濃度を上昇させ、および／またはｐＨを調整した水性緩衝液による段階的溶出を使用して、標的ポリペプチドをＨＩＣ媒体から溶出する。
【0119】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ媒体を介した処理を含み、ＨＩＣ媒体を介した処理は、フロースルーモードで実施される（すなわち、ＨＩＣ工程はフロースルーモードＨＩＣ工程である）。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理は、低塩条件を使用して実施され、例えば、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に添加されない。例えば、いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩の添加による導電率調整を含まない。いくつかの実施形態では、ＨＩＣコンディショニング塩は、硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム、クエン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム、またはＨＩＣのロードを調整するために使用される任意の他の塩の１以上を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、平衡緩衝液および約４．５～約６、例えば約５または約６のｐＨで酢酸ナトリウムを含む洗浄緩衝液を使用して実施されるフロースルーモードＨＩＣ工程である。
【0120】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムなどのＨＩＣ媒体は、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（フェニル－ＳＦＦ）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｈｉ－ｓｕｂ（フェニル－ＳＦＦ ＨＳ）、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａ、およびＳａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０は、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｍである。いくつかの実施形態では、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０は、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃである。いくつかの実施形態では、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０は、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｓである。
【0121】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、基材に結合したポリエチレンイミン（ＰＥＩ）リガンド上の窒素に共有結合したプロピル基を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体はＢａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）である。いくつかの実施形態では、基材は粒子であり、粒子は４０μｍの平均サイズを有する（例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）Ｃ３）。
【0122】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む。いくつかの実施形態では、アガロースビーズは９０μｍの平均直径を有する。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ）である。本明細書に記載されるように、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦへの一般的な言及は、特に明記しない限り、Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｌｏｗ Ｓｕｂ（Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳ）およびＳｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｈｉｇｈ Ｓｕｂ（Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ）のいずれをも含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、約２０μｍｏｌフェニル／ｍＬ媒体または約２５μｍｏｌフェニル／ｍＬ媒体等の、約１５μｍｏｌフェニル／ｍＬ～約３０μｍｏｌフェニル／ｍＬ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｌｏｗ Ｓｕｂ（Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳ）である。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、約４０μｍｏｌフェニル／ｍＬ媒体または約４５μｍｏｌフェニル／ｍＬ媒体等の、約３５μｍｏｌフェニル／ｍＬ～約５０μｍｏｌフェニル／ｍＬ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｈｉｇｈ Ｓｕｂ（Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ）である。
【0123】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した、孔径が１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、１００μｍの平均サイズおよび１００ｎｍの平均細孔サイズを有するポリメタクリレート系粒子（例えば、トヨパール（登録商標）ヘキシル－６５０Ｃ）を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、６５μｍの平均サイズおよび１００ｎｍの平均細孔サイズを有するポリメタクリレート系粒子（例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｍ）を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、３５μｍの平均サイズおよび１００ｎｍの平均細孔サイズを有するポリメタクリレート系粒子（例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｓ）を含む。
【0124】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体はＰｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａである。
【0125】
いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、疎水性リガンドを含む膜吸着体である。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルである。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、安定化強化細胞フィルタ、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルにコンジュゲートされたフェニル部分を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約４．５～約７、約５～約６、または約５．３～約５．７のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、安定化強化細胞フィルタ、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルにコンジュゲートされたフェニル部分を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が少なくとも約４．５、例えば少なくとも約４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、または７のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、安定化強化細胞フィルタ、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルにコンジュゲートされたフェニル部分を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約７未満、例えば約６．９、６．８、６．７、６．６、６．５、６．４、６．３、６．２、６．１、６、５．９、５．８、５．７、５．６、５．５、５．４、５．３、５．２、５．１、５、４．９、４．８、４．７、４．６、または４．５のいずれか未満のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ媒体は、安定化強化細胞フィルタ、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルにコンジュゲートされたフェニル部分を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６、６．１、６．２、６．３、６．４、６．５、６．６、６．７、６．８、６．９、または７のいずれかのｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0126】
Ｃ．イオン交換クロマトグラフィー工程
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む。本明細書に記載されるように、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、精製プラットフォーム内の任意の１つ以上の位置に配置し得る。いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程は、２、３、４、または５つのＩＥＸクロマトグラフィー工程のいずれかなど、プロセスワークフローの任意の段階における１以上の位置を含む。精製プラットフォームが２以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、直接連続して実施されない、すなわち、ＩＥＸクロマトグラフィー工程の間に精製プラットフォームの何らかの介在工程は実施されない。精製プラットフォームが２以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は同じである。精製プラットフォームが２以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は異なり、例えば、異なるＩＥＸクロマトグラフィー媒体の使用を含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む。本明細書に記載されるように、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、精製プラットフォーム内の任意の１つ以上の位置に配置し得る。いくつかの実施形態では、１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程は、２、３、４、または５つのＩＥＸクロマトグラフィー工程のいずれかなど、プロセスワークフローの任意の段階における１以上の位置を含む。精製プラットフォームが２以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、直接連続して実施されない、すなわち、ＩＥＸクロマトグラフィー工程の間に精製プラットフォームの何らかの介在工程は実施されない。精製プラットフォームが２以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は同じである。精製プラットフォームが２以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は異なり、例えば、異なるＩＥＸクロマトグラフィー媒体の使用を含む。
【0127】
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、精製プラットフォームの別の態様との組み合わせで使用される。いくつかの実施形態では、「ＩＥＸクロマトグラフィー工程」における「工程」という用語またはそれに包含される用語の使用は、精製プラットフォームのＩＥＸクロマトグラフィーの特徴が別の特徴と直接組み合わされ、例えば、溶出液がＩＥＸクロマトグラフィーフィーチャに直接流れる精製プラットフォームを除外しない。
【0128】
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＩＥＸカラムおよび／またはＩＥＸ膜などのＩＥＸクロマトグラフィー媒体を介した処理を含む。ポリペプチドＩＥＸクロマトグラフィー工程の処理に関与するものを含むＩＥＸクロマトグラフィー工程は、当技術分野で公知である。例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、例えば、ＩＥＸクロマトグラフィー工程に関与する成分、条件および試薬を理解するであろう。
【0129】
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、結合溶出モードで実施される（すなわち、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は結合溶出モードのＩＥＸクロマトグラフィー工程である）。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程はフロースルーモードで実施される（すなわち、ＩＥＸクロマトグラフィー工程はフロースルーモードＩＥＸクロマトグラフィー工程である）。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、過負荷ポリペプチド精製工程で実施される（すなわち、ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、過負荷モードＩＥＸクロマトグラフィー工程である）。
【0130】
ＩＥＸクロマトグラフィー工程により、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体のリガンドとサンプルの成分、例えば、標的または非標的成分との間の静電相互作用（陰イオンおよび陽イオン）に基づく分離が可能になる。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、陽イオン交換（ＣＥＸ）媒体および／または特徴を含む。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は強力なＣＥＸ媒体および／または特徴を含む。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、弱いＣＥＸ媒体および／または特徴を含む。
【0131】
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、陰イオン交換（ＡＥＸ）媒体および／または特徴を含む。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、強いＡＥＸ媒体および／または特徴を含む。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、弱いＡＥＸ媒体および／または特徴を含む。
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体はマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー媒体である。
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体はマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー媒体である。
【0132】
ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、陽イオン交換成分および／または特徴、ならびに陰イオン交換成分および／または特徴の両方を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭＩＥＸ媒体は、マルチモーダル陰イオン／陽イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー媒体である。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー媒体はセラミックヒドロキシアパタイトクロマトグラフィー媒体である。
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィーカラム媒体またはＩＥＸクロマトグラフィー膜などのＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、スルホプロピル（ＳＰ）Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）、第四級アンモニウム（Ｑ）Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）、Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ、ＡＢｘ（商標）（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ媒体）、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ、ジエチルアミノエチル（ＤＥＡＥ）、ジメチルアミノエチル（ＤＭＡＥ）、トリメチルアミノエチル（ＴＭＡＥ）、第四級アミノエチル（ＱＡＥ）、メルカプトエチルピリジン（ＭＥＰ）－Ｈｙｐｅｒｃｅｌ（商標）、ＨｉＰｒｅｐ（商標）ＱＸＬ、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ、およびＨｉＰｒｅｐ（商標）ＳＰ ＸＬからなる群から選択される。
いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィーカラム媒体またはＩＥＸクロマトグラフィー膜などのＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、スルホプロピル（ＳＰ）Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）、第四級アンモニウム（Ｑ）Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）、Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ、ＡＢｘ（商標）（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ媒体）、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ、ジエチルアミノエチル（ＤＥＡＥ）、ジメチルアミノエチル（ＤＭＡＥ）、トリメチルアミノエチル（ＴＭＡＥ）、第四級アミノエチル（ＱＡＥ）、メルカプトエチルピリジン（ＭＥＰ）－Ｈｙｐｅｒｃｅｌ（商標）、ＨｉＰｒｅｐ（商標）ＱＸＬ、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ、およびＨｉＰｒｅｐ（商標）ＳＰ ＸＬからなる群から選択される。
【0133】
いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー媒体は、第４級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー媒体は強陰イオン交換媒体である。いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー媒体は、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）である。
【0134】
いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は強陽イオン交換媒体である。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）である。
【0135】
いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基で修飾されたアガロースマトリックスに共有結合したデキストラン鎖を有する架橋６％アガロースビーズを含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は強陽イオン交換媒体である。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体はＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）である。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬである。
【0136】
いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含む。いくつかの実施形態では、平均粒径は５０μｍである。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は強陽イオン交換媒体である。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体はＰｏｒｏｓ（商標）ＸＳである。
【0137】
いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含む。いくつかの実施形態では、平均粒径は５０μｍである。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は強陽イオン交換媒体である。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー媒体はＰｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳである。
【0138】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、混合モード陰イオン／陽イオン交換体を含むシリカゲル固相粒子を含む。いくつかの実施形態では、シリカゲル固相粒子は、約４５μｍ～約６５μｍの平均粒径を有する。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー媒体はＢａｋｅｒｂｏｎｄ ＡＢｘ（商標）である。
【0139】
Ｄ．マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む。
【0140】
本明細書に記載されるように、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、精製プラットフォーム内の任意の１以上の位置に配置し得る。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームは、プロセスワークフローの任意の段階に配置された１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程、例えば２、３、４、または５つのＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程のいずれかを含む。精製プラットフォームが２以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、直接連続した順序で、すなわち、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程の間に実施される精製プラットフォームの何らかの介在工程なしでは実施されない。精製プラットフォームが２以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、２以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は同じである。精製プラットフォームが２以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含むいくつかの実施形態では、２以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は異なり、例えば、異なるＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体の使用を含む。
【0141】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、精製プラットフォームの別の態様との組み合わせで使用される。いくつかの実施形態では、「ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程」における「工程」という用語の使用は、精製プラットフォームのＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィーの特徴が別の特徴と直接組み合わされる、例えば、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程と組み合わせてデプスフィルタがロードフィルタに使用される精製プラットフォームを除外しない。
【0142】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、陰イオン交換（ＡＥＸ）材料および／または特徴（例えば、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー媒体）を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸ材料および／または特徴は、強い陰イオン交換材料および／または特徴である。いくつかの実施形態では、ＡＥＸ材料および／または特徴は、弱い陰イオン交換材料および／または特徴である。
【0143】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体は、陽イオン交換材料および／または特徴（例えば、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー媒体）を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸ材料および／または特徴は、強い陰イオン交換材料および／または特徴である。いくつかの実施形態では、ＣＥＸ材料および／または特徴は、弱い陰イオン交換材料および／または特徴である。
【0144】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィーカラムまたはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー膜を介した処理を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィーカラムまたは膜は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸリガンドを含む不活性媒体を含む。いくつかの実施形態では、不活性媒体は、剛性アガロースベースのマトリックス、例えばアガロース粒子である。
【0145】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓ、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣまたはＣａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む。
【0146】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー媒体は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体である。いくつかの実施形態では、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドは、水素結合、疎水性相互作用、および静電相互作用（陰イオンとの）を含むタンパク質相互作用が可能である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー媒体は、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅである。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー媒体はＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓである。
【0147】
いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー媒体は、Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体である。いくつかの実施形態では、Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドは、疎水性相互作用、水素結合、チオフィリック相互作用、および静電相互作用（陽イオン）を含むタンパク質相互作用が可能である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー媒体はＣａｐｔｏ（商標）ＭＭＣである。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー媒体はＣａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ ＩｍｐＲｅｓである。
【0148】
Ｅ．捕捉工程
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは捕捉工程を含む。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の捕捉工程は、抗体などの標的またはその一部に特異的に結合するために固定化リガンドを利用するアフィニティークロマトグラフィーの使用を含む。
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは捕捉工程を含む。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の捕捉工程は、抗体などの標的またはその一部に特異的に結合するために固定化リガンドを利用するアフィニティークロマトグラフィーの使用を含む。
【0149】
例えば、アフィニティークロマトグラフィーを介した処理に関与するものを含む捕捉工程は、当技術分野で公知である。例えば、参照により本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、捕捉工程の実施に関与する成分、条件および試薬を理解するであろう。
【0150】
いくつかの実施形態では、アフィニティークロマトグラフィーは、プロテインＡクロマトグラフィー、プロテインＧクロマトグラフィー、プロテインＡ／Ｇクロマトグラフィー、ＦｃＸＬクロマトグラフィー、プロテインＸＬクロマトグラフィー、カッパクロマトグラフィーおよびカッパＸＬクロマトグラフィーからなる群から選択される。いくつかの態様では、アフィニティークロマトグラフィーは、アフィニティー媒体、例えばプロテインＡまたはその一部などのアフィニティーリガンドが固定化された不活性マトリックスの使用を含む。いくつかの実施形態では、アフィニティーリガンドは、プロテインＡまたはその一部である。いくつかの実施形態では、プロテインＡは組換えプロテインＡである。いくつかの実施形態では、プロテインＡは天然のプロテインＡである。いくつかの実施形態では、プロテインＡは、プロテインＡ誘導体、例えばプロテインＡ配列に基づいて設計され、アミノ酸の付加、欠失および／または置換などの特定の修飾を有するポリペプチドである。いくつかの実施形態では、不活性マトリックスは、シリカ系フィルタまたは粒子などのシリカ系不活性マトリックスである。いくつかの実施形態では、不活性マトリックスはアガロース系マトリックス、例えばアガロース粒子である。いくつかの実施形態では、不活性マトリックスは、有機ポリマー粒子などの有機ポリマー系マトリックスである。
【0151】
いくつかの実施形態では、捕捉工程は、アフィニティークロマトグラフィーを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程はプロテインＡクロマトグラフィーを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、結合溶出モードで実施される。
【0152】
いくつかの実施形態では、プロテインＡクロマトグラフィー媒体は、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）ＬＸ、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ Ｘｔｒａ（商標）、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ、ＰｒｏＳｅｐ（登録商標）－ｖＡ、Ｐｒｏｓｅｐ（登録商標）－ｖＡ Ｕｌｔｒａ、プロテインＡ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）ＡおよびＭａｂＣａｐｔｕｒｅ（商標）からなる群から選択される。
【0153】
いくつかの実施形態では、プロテインＡクロマトグラフィー媒体は、アルカリに特に感受性のアミノ酸は、アルカリ環境においてより安定な残基で置換されている、剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定化プロテインＡ由来リガンドを含む。いくつかの実施形態では、マトリックスは球状粒子である。いくつかの実施形態では、プロテインＡクロマトグラフィー媒体はＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）である。
【0154】
いくつかの実施形態では、プロテインＡクロマトグラフィー媒体は、剛性高流量アガロースマトリックスと、アルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドとを含む。いくつかの実施形態では、マトリックスは球状粒子である。いくつかの実施形態では、プロテインＡクロマトグラフィー媒体はＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡである。
【0155】
Ｆ．ウイルス濾過工程
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームはウイルス濾過工程を含む。いくつかの実施形態では、ウイルス濾過工程は、１以上の精製工程の後に実施される。
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームはウイルス濾過工程を含む。いくつかの実施形態では、ウイルス濾過工程は、１以上の精製工程の後に実施される。
【0156】
ウイルス濾過工程の処理に関与するものを含むウイルス濾過工程は、当技術分野で公知である。例えば、参照により本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０、および米国特許出願公開第２０１４０３０９４０３号を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、捕捉工程の実施に関与する成分、条件および試薬を理解するであろう。
【0157】
いくつかの実施形態では、ウイルス濾過工程は、ウイルスフィルタを介した処理を含む。いくつかの実施形態では、ウイルスフィルタは、エンベロープウイルスおよび非エンベロープウイルスの両方を保持する孔径を含む。いくつかの実施形態では、ウイルスフィルタの孔径は、標的ウイルスのサイズに基づく。
【0158】
Ｇ．限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、ＩＥＸクロマトグラフィー工程、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程、ＨＩＣ工程、深層濾過工程などの精製プラットフォームの工程の後に実施される。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、ウイルス濾過工程の後に実施される。
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、ＩＥＸクロマトグラフィー工程、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程、ＨＩＣ工程、深層濾過工程などの精製プラットフォームの工程の後に実施される。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、ウイルス濾過工程の後に実施される。
【0159】
ＵＦ／ＤＦ工程の処理に関与するものを含むＵＦ／ＤＦ工程は、当技術分野で公知である。例えば、参照により本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、ＵＦ／ＤＦ工程の実施に関与する成分、条件および試薬を理解するであろう。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、限外濾過を介した処理を含む。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、接線流濾過（ＴＦＦ）モードで実施される。いくつかの実施形態では、ＵＦ／ＤＦ工程は、高性能接線流濾過などの接線流濾過を介した処理を含む。
【0160】
Ｈ．コンディショニング工程
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームはコンディショニング工程を含む。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、精製プラットフォームから得られたサンプルまたは組成物をさらなる処理に供する前に、精製プラットフォームから得られたサンプルまたは組成物の特徴または特性を調整することを含む。例えば、いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、ｐＨを調整することを含む。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、温度を調整することを含む。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、緩衝液または塩濃度を調整することを含む。
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームはコンディショニング工程を含む。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、精製プラットフォームから得られたサンプルまたは組成物をさらなる処理に供する前に、精製プラットフォームから得られたサンプルまたは組成物の特徴または特性を調整することを含む。例えば、いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、ｐＨを調整することを含む。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、温度を調整することを含む。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、緩衝液または塩濃度を調整することを含む。
【0161】
いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、捕捉工程の後に実施される。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、深層濾過工程の前に実施される。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、ＨＩＣ工程の前に実施される。いくつかの実施形態では、コンディショニング工程は、ウイルス濾過工程の前に実施される。
【0162】
コンディショニング工程は、コンディショニング工程のための処理に関与するものを含めて、当該技術分野において公知である。例えば、参照により本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。最新技術および本明細書の開示に基づいて、当業者は、コンディショニング工程の実施に関与する成分、条件および試薬を理解するであろう。
【0163】
Ｉ．例示的な精製プラットフォーム
いくつかの態様では、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含み、精製プラットフォームは、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製プラットフォームと比較して、加水分解酵素活性速度が低下した組成物を得ることが可能な、サンプルから標的を精製するための精製プラットフォームが本明細書で提供される。いくつかの態様では、加水分解酵素活性速度の低下は、少なくとも約２０％、例えば少なくとも約２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、８５％、９０％、または９５％のいずれかである。
いくつかの態様では、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含み、精製プラットフォームは、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製プラットフォームと比較して、加水分解酵素活性速度が低下した組成物を得ることが可能な、サンプルから標的を精製するための精製プラットフォームが本明細書で提供される。いくつかの態様では、加水分解酵素活性速度の低下は、少なくとも約２０％、例えば少なくとも約２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、８５％、９０％、または９５％のいずれかである。
【0164】
いくつかの態様では、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程を含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程および／またはＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ウイルス濾過工程またはＵＦ／ＤＦ工程の直前である。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ＩＥＸクロマトグラフィー工程と連続的であるか、またはＩＥＸクロマトグラフィー工程の直後である。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタ上にＸ０ＳＰデプスフィルタを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＨＩＣ工程をさらに含む。記載された精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ａに示し、以下により詳細に記載する。
【0165】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程；（ｃ）ＡＥＸクロマトグラフィー工程；（ｄ）深層濾過工程；（ｅ）ウイルス濾過工程；および（ｆ）ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズ、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカ、および／またはポリアクリル系繊維、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタを含むデプスフィルタを含む。
【0166】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む、ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）シリカ濾過助剤などのシリカ、および／または例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、もしくはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維を含むデプスフィルタを含む、深層濾過工程と、ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカ、および／またはポリアクリル繊維、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタ等のデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば投入材料が約５～約６．５、例えば、約５～約５．５または約５．８～約６．２のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７．５～約８．５、例えば約８のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0167】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む、ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）ハイドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含む深層濾過工程と；ウイルス濾過工程と；ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含むデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７．５～約８．５、例えば約８のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0168】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む、ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）安定化強化セルロースフィルタ、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルにコンジュゲートさせたフェニル部分を含むＨＩＣ媒体を含むＨＩＣ工程と；ウイルス濾過工程と；ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含むデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７．５～約８．５、例えば約８のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0169】
いくつかの態様では、捕捉工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程を含む精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。記載された精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｂに示し、以下により詳細に説明する。
【0170】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程；および（ｃ）ＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳまたはＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳなどのＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体、例えばＴｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。
【0171】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電で化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳまたはＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳなどのＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ媒体を含むＨＩＣ工程とを含む精製プラットフォームが提供される。
【0172】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0173】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0174】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電で化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳまたはＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳなどのＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ媒体を含むＨＩＣ工程とを含む精製プラットフォームが提供される。
【0175】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0176】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含む。
【0177】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；（ｃ）ＨＩＣ工程；（ｄ）ウイルス濾過工程；および（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体を含み、この媒体は、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えばＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。
【0178】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む捕捉工程であって、捕捉工程が結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電で化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体を含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒を含むＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程；および（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0179】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0180】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0181】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）捕捉工程；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用するＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；および（ｃ）ＨＩＣ工程を有する精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定化プロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体（アルカリに特に感受性のアミノ酸は、アルカリ環境下で安定な残基で置換されたもの）、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はフロースルーモードＨＩＣ工程である。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体を含み、この媒体は、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えばＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約４．５～約６のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0182】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）剛性高流量アガロースマトリックス、およびアルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ媒体を含む、捕捉工程と；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用し、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）、Ａｄｈｅｒｅ媒体を含み、深層濾過工程が、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、フロースルーモードＨＩＣ工程である、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約４．５～約５．５、例えば約５．０のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0183】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）剛性高流量アガロースマトリックス、およびアルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ媒体を含む、捕捉工程と；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用し、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）、Ａｄｈｅｒｅ媒体を含み、深層濾過工程が、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）フロースルーモードＨＩＣ工程であり、芳香族疎水性ベンジルリガンドを含む、架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約４．５～約５．５、例えば約５．０のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0184】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定化プロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体（アルカリに特に感受性のアミノ酸がアルカリ環境中のより安定な残基で置換されている）例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）媒体を含む、捕捉工程と；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用し、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）、Ａｄｈｅｒｅ媒体を含み、深層濾過工程が、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み；（ｃ）非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬの媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む、ＨＩＣ工程がフロースルーモードＨＩＣ工程である、ＨＩＣ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約５．０～約６．０、例えば約５．５のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0185】
いくつかの実施形態では、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程を含む精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程はＣＥＸクロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、深層濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＨＩＣ工程をさらに含む。記載される精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｃに示し、以下により詳細に説明する。
【0186】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程；（ｃ）ＨＩＣ工程；（ｄ）ウイルス濾過工程；および（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えばＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。
【0187】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0188】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0189】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0190】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0191】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。
【0192】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含む。
【0193】
いくつかの実施形態では、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程および／またはＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程および／またはＨＩＣ工程は、ＵＦ／ＤＦ工程のウイルス濾過工程の直前である。いくつかの実施形態では、深層濾過工程および／またはＨＩＣ工程は、ＩＥＸクロマトグラフィース工程と連続的であるか、またはその直後である。記載された精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｄに示し、以下により詳細に説明する。
【0194】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｂ）ＨＩＣ工程と；（ｃ）ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）深層濾過工程と；（ｆ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基で修飾されたアガロースマトリックスに共有結合したデキストラン鎖を有する架橋６％アガロースビーズ、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）媒体またはＳｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、基質に結合したポリエチレンイミン（ＰＥＩ）リガンド上の窒素に共有結合したプロピル基を含むＨＩＣ媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程は、混合モード陰イオン／陽イオン交換体を含むシリカゲル固相粒子を含むＭＭＩＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＡＢｘ（商標）媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む。
【0195】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、順に、（ａ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基で修飾されたアガロースマトリックスに共有結合したデキストラン鎖を有する架橋６％アガロースビーズ、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）媒体またはＳｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｂ）基質に結合したポリエチレンイミン（ＰＥＩ）リガンド上の窒素に共有結合したプロピル基を含むＨＩＣ媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）媒体を含むＨＩＣ工程と；（ｃ）混合モード陰イオン／陽イオン交換体を含むシリカゲル固相粒子を含むＭＭＩＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＡＢｘ（商標）媒体を含むＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｅ）シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む深層濾過工程と；（ｆ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含むデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約６～約７、例えば約６．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約８．５～約９．５、例えば約９．１のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約６～約７、例えば約６．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0196】
いくつかの実施形態では、順に（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程などの１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；（ｃ）マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；ならびに（ｄ）（ｉ）疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および（ｉｉ）深層濾過工程の一方または両方を含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。記載の精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｅに示す。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳを含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含む。
【0197】
ＩＩ．精製プラットフォームを使用する方法
いくつかの態様では、本開示は、本明細書に記載の精製プラットフォームを使用する方法を提供する。いくつかの実施形態では、本方法は、標的を含むサンプルを本明細書に記載の精製プラットフォームに供することを含む。
いくつかの態様では、本開示は、本明細書に記載の精製プラットフォームを使用する方法を提供する。いくつかの実施形態では、本方法は、標的を含むサンプルを本明細書に記載の精製プラットフォームに供することを含む。
【0198】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の方法は、精製プラットフォームから得られる組成物の加水分解酵素活性速度を低下させ得る。いくつかの実施形態では、加水分解酵素活性速度は、１以上の加水分解酵素、例えば１以上の異なる加水分解酵素の活性速度を表す。本明細書の他の項で論じられるように、いくつかの実施形態では、加水分解酵素活性速度は、組成物中の１以上の酵素の活性の代用測定値である。いくつかの実施形態では、加水分解酵素活性速度は、代用基質を介して測定される。いくつかの実施形態では、加水分解酵素活性速度は、１以上の加水分解酵素の加水分解生成物を測定することによって評価される。いくつかの態様では、加水分解酵素活性速度の低下は、少なくとも約２０％、例えば少なくとも約２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、８５％、９０％、または９５％のいずれかである。
【0199】
いくつかの態様では、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含む方法であって、精製プラットフォームが、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程を含む方法が提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程および／またはＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ウイルス濾過工程またはＵＦ／ＤＦ工程の直前である。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ＩＥＸクロマトグラフィー工程と連続的であるか、またはＩＥＸクロマトグラフィー工程の直後である。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタ上にＸ０ＳＰデプスフィルタを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＨＩＣ工程をさらに含む。
【0200】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程；（ｃ）ＡＥＸクロマトグラフィー工程；（ｄ）深層濾過工程；（ｅ）ウイルス濾過工程；（ｆ）ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズ、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカ、および／またはポリアクリル系繊維、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタを含むデプスフィルタを含む。
【0201】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む、ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）シリカ濾過助剤などのシリカ、および／または例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、もしくはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維を含むデプスフィルタを含む、深層濾過工程と、ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカ、および／またはポリアクリル繊維、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタ等のデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば投入材料が約５～約６．５、例えば、約５～約５．５または約５．８～約６．２のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７．５～約８．５、例えば約８のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0202】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む、ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）ハイドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含む深層濾過工程と；ウイルス濾過工程と；ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含むデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0203】
いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７．５～約８．５、例えば約８のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む、ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）安定化強化セルロースフィルタ、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルにコンジュゲートさせたフェニル部分を含むＨＩＣ媒体を含むＨＩＣ工程と；ウイルス濾過工程と；ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含むデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約７．５～約８．５、例えば約８のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約５～約６、例えば約５．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0204】
いくつかの態様では、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含む方法であって、精製プラットフォームが、マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程を含む方法が提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。記載された精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｂに示し、以下により詳細に説明する。
【0205】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）捕捉工程と；（ｂ）ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）ＨＩＣ工程とを含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程は、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳまたはＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳなどのＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体、例えばＴｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。
【0206】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電で化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳまたはＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳなどのＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ媒体を含むＨＩＣ工程とを含む。
【0207】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む。
【0208】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む。
【0209】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む捕捉工程であって、捕捉工程が結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電で化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳまたはＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＬＳなどのＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ媒体を含むＨＩＣ工程とを含む。
【0210】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む。
【0211】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンゾイル－ホモシステインリガンドを使用するマルチモーダル弱陽イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含む。
【0212】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；（ｃ）ＨＩＣ工程；（ｄ）ウイルス濾過工程；および（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を介した処理を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体を含み、この媒体は、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えばＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。
【0213】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む捕捉工程であって、捕捉工程が結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電で化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体を含む媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒を含むＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程；および（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0214】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0215】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0216】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）捕捉工程；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用するＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；および（ｃ）ＨＩＣ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定化プロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体（アルカリに特に感受性のアミノ酸は、アルカリ環境下で安定な残基で置換されたもの）、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はフロースルーモードＨＩＣ工程である。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含む媒体を含み、この媒体は、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えばＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約４．５～約６のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0217】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）剛性高流量アガロースマトリックス、およびアルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ媒体を含む、捕捉工程と；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用し、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）、Ａｄｈｅｒｅ媒体を含み、深層濾過工程が、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、フロースルーモードＨＩＣ工程である、ＨＩＣ工程とを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約４．５～約５．５、例えば約５．０のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0218】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）剛性高流量アガロースマトリックス、およびアルカリ安定性を有するプロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｓｍＡ媒体を含む、捕捉工程と；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用し、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）、Ａｄｈｅｒｅ媒体を含み、深層濾過工程が、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）フロースルーモードＨＩＣ工程であり、芳香族疎水性ベンジルリガンドを含む、架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む、ＨＩＣ工程とを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約４．５～約５．５、例えば約５．０のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0219】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）剛性高流量アガロースマトリックスおよびアルカリ安定化プロテインＡ由来リガンドを含むプロテインＡベースの親和性媒体（アルカリに特に感受性のアミノ酸がアルカリ環境中のより安定な残基で置換されている）例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）媒体を含む、捕捉工程と；（ｂ）ロード濾過工程として深層濾過工程を使用し、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）、Ａｄｈｅｒｅ媒体を含み、深層濾過工程が、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み；（ｃ）非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬの媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む、ＨＩＣ工程がフロースルーモードＨＩＣ工程である、ＨＩＣ工程とを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程はｐＨ調整工程を含み、投入材料のｐＨは約５．０～約６．０、例えば約５．５のｐＨに調整される。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムに材料を充填する前に、ＨＩＣコンディショニング塩などの塩を添加しないなどの低塩ＨＩＣ工程である。
【0220】
いくつかの実施形態では、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含む方法であって、精製プラットフォームが、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程を含む方法が提供される。いくつかの実施形態では、ＩＥＸクロマトグラフィー工程はＣＥＸクロマトグラフィー工程である。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、深層濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＨＩＣ工程をさらに含む。記載される精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｃに示し、以下により詳細に説明する。
【0221】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程；（ｃ）ＨＩＣ工程；（ｄ）ウイルス濾過工程；および（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳを含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えばＰｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む。
【0222】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0223】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0224】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0225】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）非荷電の化学的に安定なエーテル結合を介して芳香族フェニル基で修飾された架橋６％アガロースビーズを含み、約４０～４５μｍｏｌのフェニル／ｍＬ媒体、例えば、Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0226】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）Ｃ６基（ヘキシル）と結合した孔径１００ｎｍのポリメタクリレート系材料を含む媒体、例えば、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。
【0227】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含み、結合溶出アフィニティークロマトグラフィー工程であるように構成されている、捕捉工程と；（ｂ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｃ）芳香族疎水性ベンジルリガンドを有する架橋ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）ＰＯＲＯＳ（商標）系ビーズ、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａを含む媒体を含む、ＨＩＣ工程と；（ｄ）ウイルス濾過工程と；（ｅ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含む。
【0228】
いくつかの実施形態では、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含む方法であって、精製プラットフォームが、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程、；疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および深層濾過工程を含む方法が提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程および／またはＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程および／またはＨＩＣ工程は、ＵＦ／ＤＦ工程のウイルス濾過工程の直前である。いくつかの実施形態では、深層濾過工程および／またはＨＩＣ工程は、ＩＥＸクロマトグラフィース工程と連続的であるか、またはその直後である。記載された精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｄに示し、以下により詳細に説明する。
【0229】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｂ）ＨＩＣ工程と；（ｃ）ＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）深層濾過工程と；（ｆ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基で修飾されたアガロースマトリックスに共有結合したデキストラン鎖を有する架橋６％アガロースビーズ、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）媒体またはＳｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＨＩＣ工程は、基質に結合したポリエチレンイミン（ＰＥＩ）リガンド上の窒素に共有結合したプロピル基を含むＨＩＣ媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程は、混合モード陰イオン／陽イオン交換体を含むシリカゲル固相粒子を含むＭＭＩＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＡＢｘ（商標）媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含む。いくつかの実施形態では、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む。
【0230】
いくつかの実施形態では、方法は、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含み、精製プラットフォームは、順に（ａ）スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基で修飾されたアガロースマトリックスに共有結合したデキストラン鎖を有する架橋６％アガロースビーズ、例えば、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）媒体またはＳｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ媒体を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体を含む、ＣＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｂ）基質に結合したポリエチレンイミン（ＰＥＩ）リガンド上の窒素に共有結合したプロピル基を含むＨＩＣ媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）媒体を含むＨＩＣ工程と；（ｃ）混合モード陰イオン／陽イオン交換体を含むシリカゲル固相粒子を含むＭＭＩＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＡＢｘ（商標）媒体を含むＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｄ）第四級アンモニウム（Ｑ）強陰イオン交換基を有する架橋６％アガロースビーズを含むＡＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）媒体を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程と；（ｅ）シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル系繊維とを含むデプスフィルタを含む深層濾過工程と；（ｆ）ＵＦ／ＤＦ工程とを含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、シリカ濾過助剤などのシリカと、例えば、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタなどのポリアクリル繊維とを含むデプスフィルタを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約６～約７、例えば約６．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含み、深層濾過工程は、ヒドロゲルＱ（第四級アンモニウムとも呼ばれる第四級アミン）官能化不織布材料を含むデプスフィルタと、マルチゾーン微多孔膜、例えば、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタとを含み、深層濾過工程は、例えば、投入材料が約８．５～約９．５、例えば約９．１のｐＨを有するときに実施されるように構成される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置されたＨＩＣ工程をさらに含み、ＨＩＣ工程は、安定化強化セルロースフィルタにコンジュゲートされたフェニル部分を含むＨＩＣ膜などのＨＩＣ媒体、例えば、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル媒体を含み、ＨＩＣ工程は、例えば、投入材料が約６～約７、例えば約６．５のｐＨを有するときに実施されるように構成される。
【0231】
いくつかの実施形態では、サンプルから標的を精製するためにサンプルを精製プラットフォームに供することを含む方法であって、精製プラットフォームが、（ａ）捕捉工程；（ｂ）ＣＥＸクロマトグラフィー工程などの１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；（ｃ）マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；ならびに（ｄ）（ｉ）疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および（ｉｉ）深層濾過工程の一方または両方を含む、精製プラットフォームが提供される。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ウイルス濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、ＵＦ／ＤＦ工程をさらに含む、方法が提供される。記載の精製プラットフォーム内に包含される例示的な精製プラットフォームを図１Ｅに示す。いくつかの実施形態では、捕捉工程は、プロテインＡベースの親和性媒体、例えば、ＭａｂＳｅｌｅｃｔ ＳｕＲｅ（商標）またはＭａｂＳｅｌｅｃｔ（商標）ＰｒｉｍａＡ媒体を含む。いくつかの実施形態では、捕捉工程は結合溶出モードアフィニティークロマトグラフィー工程を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ媒体を含む。いくつかの実施形態では、ＣＥＸクロマトグラフィー工程は、スルホプロピル（ＳＰ）強陽イオン交換基でさらに官能化されたポリヒドロキシル表面コーティングを有する架橋ポリ［スチレン－ジビニルベンゼン］を含む剛性ポリマー樹脂粒子を含むＣＥＸクロマトグラフィー媒体、例えば、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳを含む。いくつかの実施形態では、ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程は、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルエタノールアミンリガンドを使用するマルチモーダル強陰イオン交換体を含む媒体、例えば、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ媒体を含む。いくつかの実施形態では、精製プラットフォームは、任意の位置に配置された深層濾過工程をさらに含む。
【0232】
ＩＩＩ．さらなる工程および方法
いくつかの態様では、本開示は、本明細書に記載の精製プラットフォームに関与するまたは関連する追加の工程を提供する。精製プラットフォームに関与するかまたは関連する追加の工程、およびそのような工程を行うための方法が知られている。例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。
いくつかの態様では、本開示は、本明細書に記載の精製プラットフォームに関与するまたは関連する追加の工程を提供する。精製プラットフォームに関与するかまたは関連する追加の工程、およびそのような工程を行うための方法が知られている。例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれるＬｉｕらｍＡｂｓ，２，２０１０を参照されたい。
【0233】
いくつかの実施形態では、本方法は、細胞培養工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、サンプル調製工程などのサンプル処理工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、例えば、ＨＣＣＦを清澄化するための清澄化工程をさらに含む。いくつかの態様では、本方法は、宿主細胞および宿主細胞の破片を、サンプルおよび／または精製プラットフォームから得られた組成物から除去するなどのための、宿主細胞および宿主細胞の破片の除去工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、遠心分離工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、滅菌濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、接線流精密濾過工程をさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、凝集／沈殿工程をさらに含む。
【0234】
いくつかの実施形態では、上記方法は、薬学的に許容可能な組成物またはその前駆物質を形成するために組成物を処理する等の製剤化工程をさらに含む。
【0235】
いくつかの実施形態では、本方法は、組成物の加水分解酵素活性速度を決定することをさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、本明細書に記載の精製プラットフォームから得られた組成物に対して加水分解活性アッセイを実施することをさらに含む。いくつかの実施形態では、加水分解活性アッセイは、非蛍光基質などの基質から蛍光生成物などの加水分解酵素の検出可能な生成物への変換をモニターすることによって、１以上の加水分解酵素の加水分解活性を測定することを含む。いくつかの実施形態では、基材はエステル結合を含む。いくつかの実施形態では、上記方法は、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる国際公開第２０１８０３５０２５号に記載されているように、１つ以上の加水分解酵素の生成物を決定することをさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、脂肪酸質量分析（ＦＡＭＳ）アッセイを実施することによって、本明細書に記載の精製プラットフォームから得られた組成物中の遊離脂肪酸（ＦＦＡ）のレベルを決定することをさらに含む。いくつかの実施形態では、それぞれの溶出プールにおけるＰＳ２０分解後の遊離脂肪酸の含有量をモニターするために、サンプルを、ＰＳ２０安定性試験のために最初に調製し、続いて質量分析によって分析した。いくつかの実施形態では、本方法は、組成物中の１つ以上の加水分解酵素のレベルを決定することをさらに含む。
【0236】
いくつかの実施形態では、本方法は、組成物の貯蔵寿命を決定することをさらに含む。いくつかの実施形態では、本方法は、組成物中の標的の凝集体のレベルを決定することをさらに含む。いくつかの実施形態では、加水分解活性アッセイ（ＬＥＡＰアッセイ）は、基質エステル結合の切断による非蛍光基質の蛍光生成物への変換をモニターすることによって加水分解活性を測定することを含む。いくつかの実施形態では、［μＭＭＵ／ｈ］での加水分解活性は、サンプルの反応速度（ｋｒａｗ［ＲＦＵ／ｈ］）から酵素ブランクの反応速度（ｋｓｅｌｆ－ｃｌｅａｖａｇｅ［ＲＦＵ／ｈ］）を差し引き、蛍光シグナルを項を変換係数ａ［ＲＦＵ／μＭ］で割ることによってμＭＭＵ／ｈに変換することによって決定される。いくつかの実施形態では、加水分解活性は、ウェルあたりに適用されるタンパク質濃度に対して正規化される。いくつかの実施形態では、加水分解活性は、基準サンプルが１００％の加水分解活性を表す場合、基準サンプルの加水分解活性に対する割合として報告される。
【0237】
いくつかの実施形態では、脂肪酸質量分析（ＦＡＭＳ）アッセイは、ラウリン酸、ミリスチン酸、ならびに同位体標識（Ｄ２３）－ラウリン酸および（１３Ｃ１４）ミリスチン酸の質量について抽出イオンクロマトグラム（ＸＩＣ）を得ることを含む。いくつかの実施形態では、それぞれのピークを積分し、ラウリン酸およびＤ２３－ラウリン酸のピーク面積比、ならびにミリスチン酸および１３Ｃ１４－ミリスチン酸の比を決定する。いくつかの実施形態では、ピーク面積比は、サンプル中のラウリン酸および／またはミリスチン酸の濃度を算出するために使用される。いくつかの実施形態では、ＦＦＡ（ラウリン酸（ＬＡ）および／またはミリスチン酸（ＭＡ））の量は、基準サンプルの量を１００％に設定した場合の割合として報告される。
【0238】
ＩＶ．サンプルおよびその成分
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームおよび方法は、標的を含むサンプルから標的を任意の程度まで精製するのに有用である。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の精製プラットフォームおよび方法は、標的を含むサンプルから標的を任意の程度まで精製するのに有用である。
【0239】
いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞サンプルである。いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞培養液（ＨＣＣＦ）である。いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞培養液の一部を含む。いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞培養液に由来する。いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞を含む。いくつかの実施形態では、サンプルは、宿主細胞残屑などの宿主細胞の成分を含む。いくつかの実施形態では、宿主細胞は、細菌細胞である。いくつかの実施形態では、宿主細胞は、大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ）細胞である。いくつかの実施形態では、宿主細胞は、昆虫細胞である。いくつかの実施形態では、宿主細胞は、哺乳類細胞である。いくつかの実施形態では、宿主細胞は、チャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞である。いくつかの実施形態では、宿主細胞はヒト細胞である。
【0240】
いくつかの実施形態では、サンプルは、サンプルを本明細書に記載の精製プラットフォームに供する前に実行される処理工程に供されるなど、処理されている。いくつかの実施形態では、サンプルは界面活性剤を含む。いくつかの実施形態では、サンプルはポリソルベートを含む。いくつかの実施形態では、ポリソルベートは、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される。
【0241】
いくつかの実施形態では、サンプルは標的を含む。いくつかの実施形態では、標的は、ポリペプチドを含む。いくつかの実施形態では、標的はポリペプチドである。いくつかの実施形態では、標的は組換えポリペプチドである。いくつかの実施形態では、標的はポリペプチド複合体である。いくつかの実施形態では、標的は抗体部分である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、モノクローナル抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分はヒト化抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、
【0242】
いくつかの実施形態では、サンプルは１つ以上の宿主細胞タンパク質を含む。いくつかの実施形態では、宿主細胞タンパク質は加水分解酵素である。いくつかの実施形態では、加水分解酵素は、リパーゼ、エステラーゼ、チオエステラーゼ、ホスホリパーゼ、カルボキシルエステラーゼ、ヒドロラーゼ、クチナーゼ、またはセラミダーゼである。いくつかの実施形態では、加水分解酵素は多酵素タンパク質である。いくつかの実施形態では、多酵素タンパク質は脂肪酸シンターゼである。いくつかの実施形態では、脂肪酸シンターゼはチオエステラーゼサブユニットを含む。
【0243】
いくつかの実施形態では、サンプルは、例えば本明細書に記載の加水分解酵素活性アッセイによって測定されるような、ベースライン加水分解酵素活性速度を有する。いくつかの実施形態では、サンプルのベースライン加水分解酵素活性速度は、少なくとも部分的に、宿主細胞加水分解酵素の存在に基づく。いくつかの実施形態では、加水分解酵素は、リパーゼ、エステラーゼ、チオエステラーゼ、ホスホリパーゼ、カルボキシルエステラーゼ、ヒドロラーゼ、クチナーゼ、またはセラミダーゼである。
【0244】
いくつかの実施形態では、サンプルは、界面活性剤、例えば、ポリソルベートなどの添加成分を含む。いくつかの実施形態では、成分は、精製前にサンプルに、例えば、ＨＣＣＦに添加される。
【0245】
Ｖ．精製プラットフォームから得られた組成物および医薬組成物
本明細書に記載の精製プラットフォームは、多数の工程を含む。いくつかの実施形態では、「組成物」という用語は、本明細書では、精製プラットフォームの任意の段階の任意の入力（精製プラットフォームへの最初のサンプル入力を除く）、中間、または出力を説明するために使用される。例えば、いくつかの実施形態では、「組成物」という用語の使用は、精製プラットフォームの最終出力を記述することに限定されない。いくつかの実施形態では、組成物は、ＨＩＣ工程および／または深層濾過工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィース工程によって処理されている。
本明細書に記載の精製プラットフォームは、多数の工程を含む。いくつかの実施形態では、「組成物」という用語は、本明細書では、精製プラットフォームの任意の段階の任意の入力（精製プラットフォームへの最初のサンプル入力を除く）、中間、または出力を説明するために使用される。例えば、いくつかの実施形態では、「組成物」という用語の使用は、精製プラットフォームの最終出力を記述することに限定されない。いくつかの実施形態では、組成物は、ＨＩＣ工程および／または深層濾過工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィース工程によって処理されている。
【0246】
いくつかの実施形態では、組成物は界面活性剤を含む。いくつかの実施形態では、組成物はポリソルベートを含む。いくつかの実施形態では、ポリソルベートは、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される。
【0247】
いくつかの実施形態では、組成物は標的を含む。いくつかの実施形態では、標的は、ポリペプチドを含む。いくつかの実施形態では、標的はポリペプチドである。いくつかの実施形態では、標的はポリペプチド複合体である。いくつかの実施形態では、標的は抗体部分である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、モノクローナル抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分はヒト化抗体である。いくつかの実施形態では、抗体部分は、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、
【0248】
いくつかの実施形態では、組成物は、１つ以上の宿主細胞タンパク質を含む。いくつかの実施形態では、宿主細胞タンパク質は加水分解酵素である。いくつかの実施形態では、加水分解酵素は、リパーゼ、エステラーゼ、チオエステラーゼ、ホスホリパーゼ、カルボキシルエステラーゼ、ヒドロラーゼ、クチナーゼ、またはセラミダーゼである。
【0249】
いくつかの実施形態では、組成物は、加水分解酵素活性速度が低下しており、加水分解酵素活性速度の低下は、関連する参考文献、例えばＨＩＣ工程および／または深層濾過工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製プラットフォームから得られる組成物と比較して、少なくとも約２０％、例えば少なくとも約２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、または９５％のいずれかである。いくつかの実施形態では、基準は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程なしで同じ精製プラットフォームを使用して精製されたサンプルからのものである。
【0250】
いくつかの実施形態では、本開示は、本明細書に記載の精製プラットフォームから得られる医薬組成物を提供する。いくつかの実施形態では、医薬組成物は、本明細書に記載の方法から得られる。いくつかの実施形態では、医薬組成物は精製組成物である。いくつかの実施形態では、医薬組成物は滅菌医薬組成物である。
【0251】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は抗体部分を含む。いくつかの実施形態では、医薬組成物は、抗体部分およびポリソルベートを含む。いくつかの実施形態では、医薬組成物は、抗体部分、ポリソルベート、および宿主細胞タンパク質、例えば加水分解酵素等の宿主細胞不純物を含む。
【0252】
いくつかの実施形態では、医薬組成物はポリソルベートを含む。いくつかの実施形態では、医薬組成物は、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される。
【0253】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は、加水分解酵素活性速度が低下しており、加水分解酵素活性速度の低下は、関連する参考文献、例えばＨＩＣ工程および／または深層濾過工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製プラットフォームから得られる医薬組成物と比較して、少なくとも約２０％、例えば少なくとも約２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、または９５％のいずれかである。いくつかの実施形態では、基準は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームを使用して精製されたサンプルからのものである。
【0254】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームを使用した同じサンプルの精製から得られる組成物と比較して、１以上の加水分解酵素のレベルが低下している。
【0255】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームを使用した同じサンプルの精製から得られる組成物と比較して、ポリソルベートの分解が低減されている。
【0256】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームを使用して同じサンプルの精製から得られる組成物と比較して、貯蔵寿命が増大している。
【0257】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームを使用した同じサンプルの精製から得られる組成物と比較して、ポリソルベートの分解が少ない。
【0258】
いくつかの実施形態では、医薬組成物は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームを使用した同じサンプルの精製から得られる組成物と比較して、標的の凝集が減少している。
【0259】
いくつかの態様では、本開示は、本明細書に記載の精製プラットフォームから得られる製剤化された抗体部分組成物を提供する。いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物は、本明細書に記載の方法から得られる。
【0260】
いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物は抗体部分を含む。いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物は、抗体部分およびポリソルベートを含む。いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物は、抗体部分、ポリソルベート、および宿主細胞タンパク質などの宿主細胞不純物、例えば、１つ以上の加水分解酵素を含む。
【0261】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の製剤化された抗体部分組成物は、基準、例えば１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られた製剤化された抗体部分組成物と比較して、貯蔵寿命が増大している。いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物の抗体部分の凝集により、貯蔵寿命が評価される（例えば、測定される）。いくつかの実施形態では、貯蔵寿命は、製剤化された抗体部分組成物の抗体部分の１つ以上の官能性の保存によって、測定などによって評価される。いくつかの実施形態では、貯蔵寿命は、製剤化された抗体部分組成物の抗体部分の活性、例えば結合活性により測定されるなどして評価される。
【0262】
いくつかの実施形態では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物は、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命は、約８ヶ月超、例えば約９ヶ月、１０ヶ月、１１ヶ月、１２ヶ月、１３ヶ月、１４ヶ月、１５ヶ月、１６ヶ月、１７ヶ月、１８ヶ月、１９ヶ月、２０ヶ月、２１ヶ月、２２ヶ月、２３ヶ月、２４ヶ月、２５ヶ月、２６ヶ月、２７ヶ月、２８ヶ月、２９ヶ月、３０ヶ月、３１ヶ月、３２ヶ月、３３ヶ月、３４ヶ月、３５ヶ月、または３６ヶ月のいずれかを超えている。いくつかの実施形態では、ポリソルベート加水分解の速度が低下した製剤化された抗体部分組成物は、基準、例えば１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られる製剤化された抗体部分組成物と比較される。いくつかの実施形態では、ポリソルベート加水分解の速度の低下は、ポリソルベート加水分解の相対速度の低下である。
【0263】
いくつかの実施形態では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物は、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命は、製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示された貯蔵寿命と比較して延長され、貯蔵寿命は、前記文書に示された貯蔵寿命と比較して、少なくとも約２ヶ月、例えば少なくとも約３ヶ月、４ヶ月、５ヶ月、６ヶ月、７ヶ月、８ヶ月、９ヶ月、１０ヶ月、１１ヶ月、または１２ヶ月のいずれか延長される。いくつかの実施形態では、ポリソルベート加水分解の速度が低下した製剤化された抗体部分組成物は、基準、例えば１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られる製剤化された抗体部分組成物と比較される。いくつかの実施形態では、ポリソルベート加水分解の速度の低下は、ポリソルベート加水分解の相対速度の低下である。
【0264】
いくつかの実施形態では、抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物は、ポリソルベートの分解が低下しており、その分解は、製剤化された抗体部分組成物に関する保健当局に提出された文書に示された分解と比較して、少なくとも約５％、例えば少なくとも約１０％、１５％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９５％、または１００％のいずれか低下する。いくつかの実施形態では、ポリソルベートの分解が低減した製剤化された抗体部分組成物は、基準、例えば、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られた製剤された化抗体部分組成物と比較される。いくつかの実施形態では、ポリソルベートの分解の低減は、ポリソルベートの相対分解の低減である。
【0265】
いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物のポリソルベート加水分解の速度は、基準と比較して、少なくとも約５％、例えば少なくとも約１０％、１５％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９５％、または１００％のいずれか低下する。
【0266】
いくつかの実施形態では、製剤化された抗体部分組成物は、抗体部分およびポリソルベートを含み、ポリソルベートは、液体組成物の貯蔵中に年間約６０％以下、例えば年間約５５％以下、年間５０％以下、年間４５％以下、年間４０％以下、年間３５％以下、年間３０％以下、年間２５％以下、年間２０％以下、年間１５％以下、年間１０％以下または年間５％以下のいずれかが分解される。
【0267】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の製剤化された抗体部分組成物は、基準、例えば１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られた製剤化された抗体部分組成物と比較して、少なくとも約６ヶ月間、例えば少なくとも約７ヶ月、８ヶ月、９ヶ月、１０ヶ月、１１ヶ月、１２ヶ月、１３ヶ月、１４ヶ月、１５ヶ月、１６ヶ月、１７ヶ月、１８ヶ月、１９ヶ月、２０ヶ月、２１ヶ月、２２ヶ月、２３ヶ月、または２４ヶ月のいずれかの間、凝集体形成が減少している。いくつかの実施形態では、本明細書に記載の製剤化された抗体部分組成物は、少なくとも約６ヶ月間、例えば少なくとも約７ヶ月間、８ヶ月間、９ヶ月間、１０ヶ月間、１１ヶ月間、１２ヶ月間、１３ヶ月間、１４ヶ月間、１５ヶ月間、１６ヶ月間、１７ヶ月間、１８ヶ月間、１９ヶ月間、２０ヶ月間、２１ヶ月間、２２ヶ月間、２３ヶ月間、または２４ヶ月間、基準と比較し、少なくとも約２０％、例えば少なくとも約２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９５％、または１００％、凝集体形成が低下しており、ここで、基準は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られた製剤化された抗体部分組成物である。凝集体形成を評価する、例えば測定する方法は、当該技術分野で知られており、例えば、目視検査、動的光散乱、静的光散乱、および光学密度測定を含む。
【0268】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載される製剤化された抗体部分組成物は、基準と比較して、少なくとも約６ヶ月間、例えば少なくとも約７ヶ月、８ヶ月、９ヶ月、１０ヶ月、１１ヶ月、１２ヶ月、１３ヶ月、１４ヶ月、１５ヶ月、１６ヶ月、１７ヶ月、１８ヶ月、１９ヶ月、２０ヶ月、２１ヶ月、２２ヶ月、２３ヶ月、または２４ヶ月のいずれかの間、抗体部分活性の少なくとも約５０％、例えば少なくとも約５５％、６０％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９５％、９６％、９７％、９８％、９９％維持し、ここで、基準は、１以上の深層濾過工程および／または１以上のＨＩＣ工程および／または１以上のＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まない同じ精製プラットフォームから得られた製剤化された抗体部分組成物である。
【0269】
いくつかの実施形態では、抗体部分は、モノクローナル抗体である。
【0270】
いくつかの実施形態では、抗体は、ヒト抗体、ヒト化抗体、またはキメラ抗体である。
【0271】
いくつかの実施形態では、抗体部分は、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される。
【0272】
いくつかの実施形態では、抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、
【0273】
いくつかの実施形態では、ポリソルベートは、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される。
【0274】
本明細書で報告されるさらなる態様は、保存中のポリソルベート分解が低い製剤化された抗体組成物である。本発明の一態様は、抗体／タンパク質およびポリソルベートを含む製剤化された抗体組成物であって、ポリソルベートが、製剤化された抗体組成物の貯蔵期間／貯蔵寿命の間に、１年当たり約５０％以下（例えば、約４５％以下、４０％以下、３５％以下、３０％以下、２５％以下、２０％以下、１５％以下、１０％以下、９％以下、８％以下、７％以下、６％以下、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、または１％以下のいずれか）分解される、製剤化された抗体組成物である。一実施形態では、ポリソルベートは、液体組成物の貯蔵中に年間１０％以下分解される。
【0275】
別の態様は、抗体およびポリソルベートを含む製剤化された抗体組成物であり、１年後、ポリソルベートが、初期濃度の少なくとも約５０％、例えば少なくとも約５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、９６％、９７％、９８％、または９９％のいずれかの濃度で組成物中に存在し、ここで、初期濃度は、液体組成物中の抗体の製剤化時または貯蔵開始時の濃度である。当業者は、いくつかの実施形態が本発明の範囲および趣旨内で可能であることを認識するだろう。本開示は、以下の実施例によってさらに説明されるが、これらの実施例は、本開示の範囲または趣旨を、そこに記載されている特定の手順に限定するものと解釈されるべきではない。
【0276】
例示的な実施形態
実施形態１．精製プラットフォームから得られた組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームに供給することを含み、それにより、深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
実施形態１．精製プラットフォームから得られた組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームに供給することを含み、それにより、深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【0277】
実施形態２．１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される、実施形態１に記載の方法。
【0278】
実施形態３．ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル陽イオン交換／陰イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む、実施形態２に記載の方法。
【0279】
実施形態４．ウイルス濾過工程をさらに含む、実施形態１～３のいずれか１つに記載の方法。
【0280】
実施形態５．限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、実施形態１～４のいずれか１つに記載の方法。
【0281】
実施形態６．精製プラットフォームが、順に、捕捉工程；ＣＥＸクロマトグラフィー工程；ＡＥＸクロマトグラフィー工程；深層濾過工程；ウイルス濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む、実施形態５に記載の方法。
【0282】
実施形態７．深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタ、またはＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタである、実施形態１～６のいずれか１つに記載の方法。
【0283】
実施形態８．Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを介した処理を含むＨＩＣ工程をさらに含む、実施形態１～６のいずれか１つに記載の方法。
【0284】
実施形態９．精製プラットフォームから得られた組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程および／またはＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【0285】
実施形態１０．ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー媒体を介した処理を含み、処理が、約４．５～約９のｐＨで実施される、実施形態９に記載の方法。
【0286】
実施形態１１．ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル疎水性相互作用／陰イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程である、実施形態９または１０に記載の方法。
【0287】
実施形態１２．ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、実施形態１１に記載の方法。
【0288】
実施形態１３．ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル疎水性相互作用／陽イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程である、実施形態９または１０に記載の方法。
【0289】
実施形態１４．ＭＭ－ＨＩＣ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＭＭＣまたはＣａｐｔｏ（商標）ＭＭＣ ＩｍｐＲｅｓを含む、実施形態１３に記載の方法。
【0290】
実施形態１５．精製プラットフォームが、順に、捕捉工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程；およびＨＩＣ工程を含む、実施形態９～１４のいずれか１つに記載の方法。
【0291】
実施形態１６．ウイルス濾過工程をさらに含む、実施形態９～１５のいずれか１つに記載の方法。
【0292】
実施形態１７．限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、実施形態９～１６のいずれか１つに記載の方法。
【0293】
実施形態１８．精製プラットフォームが、順に、捕捉工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；ＨＩＣ工程；ウイルス濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む、実施形態１７に記載の方法。
【0294】
実施形態１９．深層濾過工程をさらに含む、実施形態９～１８のいずれか１つに記載の方法。
【0295】
実施形態２０．精製プラットフォームが、順に、捕捉工程；深層濾過工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；およびＨＩＣ工程を含む、実施形態１９に記載の方法。
【0296】
実施形態２１．深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタは、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタ、またはＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタである、実施形態１９または２０に記載の方法。
【0297】
実施形態２２．深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタがＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタまたはＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタである、実施形態１９または２０に記載の方法。
【0298】
実施形態２３．前記デプスフィルタが、前記ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程と共にロードフィルタとして使用される、実施形態１９～２２のいずれか１つに記載の方法。
【0299】
実施形態２４．ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、実施形態２３に記載の方法。
【0300】
実施形態２５．精製プラットフォームが、順に、捕捉工程；ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程；深層濾過工程；およびＨＩＣ工程を含む、実施形態１９に記載の方法。
【0301】
実施形態２６．前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタが、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、またはＤ０ＳＰデプスフィルタである、実施形態２５に記載の方法。
【0302】
実施形態２７．前記深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含み、前記デプスフィルタがＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタまたはＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタである、実施形態２５に記載の方法。
【0303】
実施形態２８．ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、実施形態２５～２７のいずれか１つに記載の方法。
【0304】
実施形態２９．精製プラットフォームから得られた組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；および疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程、を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【0305】
実施形態３０．１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程が、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程である、実施形態２９に記載の方法。
【0306】
実施形態３１．ウイルス濾過工程をさらに含む、実施形態２９または３０に記載の方法。
【0307】
実施形態３２．限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、実施形態２９～３１のいずれか１つに記載の方法。
【0308】
実施形態３３．前記ＵＦ／ＤＦ工程の前の任意の段階で実施される深層濾過工程をさらに含む、実施形態３２に記載の方法。
【0309】
実施形態３４．精製プラットフォームが、順に、捕捉工程；ＣＥＸクロマトグラフィー工程；ＨＩＣ工程；ウイルス濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む、実施形態３３に記載の方法。
【0310】
実施形態３５．精製プラットフォームから得られた組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程；および深層濾過工程を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程または深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【0311】
実施形態３６．低下が、ＨＩＣおよび深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較したものである、実施形態３５に記載の方法。
【0312】
実施形態３７．１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される、実施形態３５または３６に記載の方法。
【0313】
実施形態３８．ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル陽イオン交換／陰イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程を含む、実施形態３７に記載の方法。
【0314】
実施形態３９．限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、実施形態３５～３８のいずれか１つに記載の方法。
【0315】
実施形態４０．精製プラットフォームが、順に：ＣＥＸクロマトグラフィー工程；ＨＩＣ工程；ＭＭＩＥＸクロマトグラフィー工程；ＡＥＸクロマトグラフィー工程；深層濾過工程；およびＵＦ／ＤＦ工程を含む、実施形態３９に記載の方法。
【0316】
実施形態４１．精製プラットフォームから得られた組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる方法であって、サンプルを、捕捉工程；１以上のイオン交換（ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；マルチモーダル疎水性相互作用／イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸ）クロマトグラフィー工程；ならびに疎水性相互作用クロマトグラフィー（ＨＩＣ）工程および深層濾過工程の一方または両方を含む精製プラットフォームに供することを含み、それにより、ＨＩＣ工程または深層濾過工程を含まないサンプルの精製と比較して、組成物の加水分解酵素活性速度を低下させる、方法。
【0317】
実施形態４２．低下が、ＨＩＣおよび深層濾過工程を含まない前記サンプルの精製と比較したものである、実施形態４１に記載の方法。
【0318】
実施形態４３．ウイルス濾過工程をさらに含む、実施形態４１または４２に記載の方法。
【0319】
実施形態４４．限外濾過／ダイアフィルトレーション（ＵＦ／ＤＦ）工程をさらに含む、実施形態４１～４３のいずれか１つに記載の方法。
【0320】
実施形態４５．深層濾過工程が、ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程のロードフィルタとして、ＨＩＣ工程のロードフィルタとして、またはＨＩＣ工程に続いて実施される、実施形態４１～４４のいずれか１つに記載の方法。
【0321】
実施形態４６．１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、陽イオン交換（ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、陰イオン交換（ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびマルチモーダルイオン交換（ＭＭＩＥＸ）クロマトグラフィー工程からなる群から選択される、実施形態４１～４５のいずれか１つに記載の方法。
【0322】
実施形態４７．ＭＭ－ＨＩＣ／ＩＥＸクロマトグラフィー工程が、マルチモーダル疎水性相互作用／陰イオン交換（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程である、実施形態４１～４６のいずれか１つに記載の方法。
【0323】
実施形態４８．ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程が、Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅまたはＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ ＩｍｐＲｅｓを介した処理を含む、実施形態４７に記載の方法。
【0324】
実施形態４９．前記捕捉工程がアフィニティークロマトグラフィーを介した処理を含む、実施形態１～３４および４１～４８のいずれか１つに記載の方法。
【0325】
実施形態５０．捕捉工程が結合溶出モードで実施される、実施形態１～３４および４１～４８のいずれか１つに記載の方法
【0326】
実施形態５１．アフィニティークロマトグラフィーが、プロテインＡクロマトグラフィー、プロテインＧクロマトグラフィー、プロテインＡ／Ｇクロマトグラフィー、ＦｃＸＬクロマトグラフィー、プロテインＸＬクロマトグラフィー、カッパクロマトグラフィー、およびカッパＸＬクロマトグラフィーからなる群から選択される、実施形態４９または５０に記載の方法。
【0327】
実施形態５２．深層濾過工程が、デプスフィルタを介した処理を含む、実施形態１～６、１９、２０、および３５～５１のいずれか１つに記載の方法。
【0328】
実施形態５３．デプスフィルタがロードフィルタとして使用される、実施形態５２に記載の方法。
【0329】
実施形態５４．デプスフィルタが、珪藻土組成物、シリカ組成物、セルロース繊維、ポリマー繊維、凝集樹脂、および灰組成物のうちの１以上を含む基材を含む、実施形態５２または５３に記載の方法。
【0330】
実施形態５５．デプスフィルタの基材の少なくとも一部が表面改質を含む、実施形態５４に記載の方法。
【0331】
実施形態５６．表面改質が、１つ以上の第四級アミン表面改質、陽イオン表面改質、および陰イオンである、実施形態５５に記載の方法。
【0332】
実施形態５７．デプスフィルタが、Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、Ｃ０ＳＰデプスフィルタ、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタ、ＰＤＤ１デプスフィルタ、ＰＤＥ１デプスフィルタ、ＰＤＨ５デプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）１２０ＺＡデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）１２０ＺＢデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）ＤＥＬＩデプスフィルタ、ＺＥＴＡ ＰＬＵＳ（商標）ＤＥＬＰデプスフィルタ、およびＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタからなる群から選択される、実施形態５２～５６のいずれか１つに記載の方法。
【0333】
実施形態５８．デプスフィルタが、前記Ｘ０ＳＰデプスフィルタ、前記Ｄ０ＳＰデプスフィルタ、または前記Ｃ０ＳＰデプスフィルタであり、前記デプスフィルタを介した前記処理が、約４．５～約８のｐＨで実施される、実施形態５７に記載の方法。
【0334】
実施形態５９．デプスフィルタが前記ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）デプスフィルタであり、前記デプスフィルタを介した処理が約７～約９．５のｐＨで実施される、実施形態５７に記載の方法。
【0335】
実施形態６０．デプスフィルタが前記Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタであり、前記デプスフィルタを介した処理が約４．５～約９のｐＨで実施される、実施形態５７に記載の方法。
【0336】
実施形態６１．ＨＩＣ工程が、ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理を含む、実施形態９～６０のいずれか一項に記載の方法。
【0337】
実施形態６２．ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理が、低い塩濃度を使用して実施される、実施形態６１に記載の方法。
【0338】
実施形態６３．ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理がフロースルーモードで実施される、実施形態５９～６１のいずれか１つに記載の方法。
【0339】
実施形態６４．ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムが、エーテル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、およびフェニル基のうちの１以上を含む基材を含む、実施形態６１～６３のいずれか１つに記載の方法。
【0340】
実施態様６５．ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムが、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（フェニル－ＳＦＦ）、Ｐｈｅｎｙｌ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ Ｈｉ－ｓｕｂ（フェニル－ＳＦＦ ＨＳ）、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｍ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｓ、Ｐｏｒｏｓ（商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａ、およびＳａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルからなる群から選択される、実施形態６１～６４のいずれか１つに記載の方法。
【0341】
実施形態６６．ＨＩＣ膜またはＨＩＣカラムを介した処理が、約４．５～約７のｐＨで実施される、実施形態６４または６５に記載の方法。
【0342】
実施形態６７．１以上のＩＥＸクロマトグラフィー工程の各々が、ＩＥＸクロマトグラフィー膜またはＩＥＸクロマトグラフィーカラムを介した処理を含む、実施形態１～８および２９～６６のいずれか１つに記載の方法。
【0343】
実施形態６８．ＩＥＸクロマトグラフィーまたはＩＥＸクロマトグラフィーカラムが、ＳＰＳＦＦ、ＱＳＦＦ、ＳＰＸＬ、Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ（商標）ＳＰＸＬ、ＡＢｘ（商標）、Ｐｏｒｏｓ（商標）ＸＳ、Ｐｏｒｏｓ（商標）５０ＨＳ、ＤＥＡＥ、ＤＭＡＥ、ＴＭＡＥ、ＱＡＥ、およびＭＥＰ－Ｈｙｐｅｒｃｅｌ（商標）からなる群から選択される、実施形態６７に記載の方法。
【0344】
実施形態６９．精製プラットフォームが、前記サンプルから標的を精製するためのものであり、サンプルが、標的および１以上の宿主細胞不純物を含む、実施形態１～６８のいずれか１つに記載の方法。
【0345】
実施形態７０．標的がポリペプチドを含む、実施形態６９に記載の方法。
【0346】
実施形態７１．標的が抗体部分である、実施形態１～７０のいずれか１つに記載の方法。
【0347】
実施形態７２．抗体部分がモノクローナル抗体である、実施形態７１に記載の方法。
【0348】
実施形態７３．抗体部分がヒト抗体、ヒト化抗体またはキメラ抗体である、実施形態７１または７２に記載の方法。
【0349】
実施形態７４．抗体部分が、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される、実施形態７１～７３のいずれか１つに記載の方法。
【0350】
実施形態７５．抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、実施形態７１～７４のいずれか１つに記載の方法。
【0351】
実施形態７６．１以上の宿主細胞不純物が宿主細胞タンパク質を含む、実施形態６９～７５のいずれか１つに記載の方法。
【0352】
実施形態７７．宿主細胞タンパク質が加水分解酵素である、実施形態７６に記載の方法。
【0353】
実施形態７８．加水分解酵素が、リパーゼ、エステラーゼ、チオエステラーゼ、ホスホリパーゼ、カルボキシルエステラーゼ、ヒドロラーゼ、クチナーゼ、またはセラミダーゼである、実施形態７７に記載の方法。
【0354】
実施形態７９．サンプルが、宿主細胞またはそれに由来する成分を含む、実施形態１～７８のいずれか１つに記載の方法。
【0355】
実施形態８０．サンプルが、細胞培養サンプルであるか、または細胞培養サンプルに由来する、実施形態１～７９のいずれか１つに記載の方法。
【0356】
実施形態８１．細胞培養サンプルが宿主細胞を含み、宿主細胞がチャイニーズハムスター卵巣（ＣＨＯ）細胞または大腸菌（Ｅ．ｃｏｌｉ）細胞である、実施形態８０に記載の方法。
【0357】
実施形態８２．サンプル処理工程をさらに含む、実施形態１～８１のいずれか一項に記載の方法。
【0358】
実施形態８３．加水分解酵素活性速度の低下が少なくとも約２０％である、実施形態１～８２のいずれか１つに記載の方法。
【0359】
実施形態８４．組成物の加水分解酵素活性速度を決定することをさらに含む、実施形態１～８３のいずれか１つに記載の方法。
【0360】
実施形態８５．組成物中の１以上の加水分解酵素のレベルを決定することをさらに含む、実施形態１～８４のいずれか１つに記載の方法。
【0361】
実施形態８６．組成物がポリソルベートを含む、実施形態１～８５のいずれか１つに記載の方法。
【0362】
実施形態８７．ポリソルベートが、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される、実施形態８６に記載の方法。
【0363】
実施形態８８．実施形態１～８７のいずれか一項に記載の方法から得られる医薬組成物。
【0364】
実施形態８９．抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解の速度が低下しており、組成物の貯蔵寿命が１２ヶ月を超える、製剤化された抗体部分組成物。
【0365】
実施形態９０．抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベート加水分解活性の速度が低下しており、前記組成物の貯蔵寿命が、前記製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示される貯蔵寿命と比較して延長されており、前記貯蔵寿命が、前記文書に示される貯蔵寿命と比較して少なくとも３ヶ月延長されている、製剤化された抗体部分組成物。
【0366】
実施形態９１．ポリソルベート加水分解の速度が、少なくとも約２０％低下している、実施形態８９または９０に記載の製剤化された抗体部分組成物。
【0367】
実施形態９２．抗体部分を含む製剤化された抗体部分組成物であって、ポリソルベートの分解が低下しており、前記分解が、前記製剤化された抗体部分組成物に関連する保健当局に提出された文書に示された分解と比較して少なくとも約２０％低減している、製剤化された抗体部分組成物。
【0368】
実施形態９３．抗体部分およびポリソルベートを含む製剤化された抗体部分組成物であって、前記ポリソルベートが、液体組成物の貯蔵中に年間５０％以下分解される、製剤化された抗体部分組成物。
【0369】
実施形態９４．抗体部分がモノクローナル抗体である、実施形態８９～９３のいずれか１つに記載の製剤化された抗体部分組成物。
【0370】
実施形態９５．抗体部分がヒト抗体、ヒト化抗体またはキメラ抗体である、実施形態８９～９４のいずれか１つに記載の製剤化された抗体部分組成物。
【0371】
実施形態９６．抗体部分が、抗ＴＡＵ抗体、抗ＴＧＦβ３抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ抗体、抗ＣＤ２０抗体、抗ＣＤ４０抗体、抗ＨＥＲ２抗体、抗ＩＬ６抗体、抗ＩｇＥ抗体、抗ＩＬ１３抗体、抗ＴＩＧＩＴ抗体、抗ＰＤ－Ｌ１抗体、抗ＶＥＧＦ－Ａ／ＡＮＧ２抗体、抗ＣＤ７９ｂ抗体、抗ＳＴ２抗体、抗Ｄ因子抗体、抗第ＩＸ因子抗体、抗第Ｘ因子抗体、抗ａｂｅｔａ抗体、抗ＣＥＡ抗体、抗ＣＥＡ／ＣＤ３抗体、抗ＣＤ２０／ＣＤ３抗体、抗ＦｃＲＨ５／ＣＤ３抗体、抗Ｈｅｒ２／ＣＤ３抗体、抗ＦＧＦＲ１／ＫＬＢ抗体、ＦＡＰ－４－１ＢＢＬ融合タンパク質、ＦＡＰ－ＩＬ２ｖ融合タンパク質、およびＴＹＲＰ１ ＴＣＢ抗体からなる群から選択される、実施形態８９～９５のいずれか１つに記載の製剤化された抗体部分組成物。
【0372】
実施形態９７．抗体部分が、オクレリズマブ、ペルツズマブ、ラニビズマブ、トラスツズマブ、トシリズマブ、ファリシマブ、ポラツズマブ、ガンテネルマブ、シビサタマブ、クレネズマブ、モスネツズマブ、チラゴルマブ、ベバシズマブ、リツキシマブ、アテゾリズマブ、オビヌツズマブ、ランパリズマブ、オマリズマブ、ラニビズマブ、エミシズマブ、セリクレルマブ、プラシネズマブ、ＲＯ６８７４２８１およびＲＯ７１２２２９０からなる群から選択される、実施形態８９～９６のいずれか１つに記載の製剤化された抗体部分組成物。
【0373】
実施形態９８．ポリソルベートが、ポリソルベート２０、ポリソルベート４０、ポリソルベート６０およびポリソルベート８０からなる群から選択される、実施形態８９～９７のいずれか１つに記載の製剤化された抗体部分組成物。
【実施例】
【0374】
実施例１
この実施例は、以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、ウイルス濾過工程およびＵＦ／ＤＦ工程（対照精製プラットフォーム）を含み；（２）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを含むＨＩＣ工程、ウイルス濾過工程およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（３）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｘ０ＳＰデプスフィルターを含む深層濾過工程、ウイルス濾過工程およびＵＦＦ／ＤＦ工程を含む。
この実施例は、以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、ウイルス濾過工程およびＵＦ／ＤＦ工程（対照精製プラットフォーム）を含み；（２）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを含むＨＩＣ工程、ウイルス濾過工程およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（３）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｘ０ＳＰデプスフィルターを含む深層濾過工程、ウイルス濾過工程およびＵＦＦ／ＤＦ工程を含む。
【0375】
得られた精製組成物の加水分解活性を、材料および方法の項に記載されているようにＦＡＭＳアッセイを用いて測定した。図２に示すように、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを含むＨＩＣ工程を有する精製プラットフォーム（２）、およびＸ０ＳＰデプスフィルタを含む深層濾過工程を有する精製プラットフォーム（３）は、対照精製プラットフォームと比較して加水分解活性が低下していた。
【0376】
実施例２
この実施例は、以下を順に含む以下の精製プラットフォームを用いて３つの異なるＨＩＣ工程を使用する場合の比較を実証する。（１）捕捉工程、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびＨＩＣ工程。試験した３つの異なるＨＩＣ媒体は：Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃ、およびＰｏｒｏｓ（登録商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａであった。各ＨＩＣ工程は、ＨＩＣコンディショニング塩をＨＩＣロードに添加しない低塩フロースルーモードを使用して実施した。ＨＩＣ工程前（ＨＩＣロード）およびＨＩＣ工程後（ＨＩＣプール）の組成物の加水分解活性を測定した。ＨＩＣ工程はフロースルーおよび低塩モードで実施した（ＨＩＣコンディショニング塩はＨＩＣロードに添加しなかった）。フロースルーおよび低塩モードでのＨＩＣ工程の動作条件を以下の表１に示す。
この実施例は、以下を順に含む以下の精製プラットフォームを用いて３つの異なるＨＩＣ工程を使用する場合の比較を実証する。（１）捕捉工程、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ（ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸ）クロマトグラフィー工程、およびＨＩＣ工程。試験した３つの異なるＨＩＣ媒体は：Ｐｈｅｎｙｌ ＳＦＦ ＨＳ、Ｔｏｙｏｐｅａｒｌ（登録商標）Ｈｅｘｙｌ－６５０Ｃ、およびＰｏｒｏｓ（登録商標）Ｂｅｎｚｙｌ Ｕｌｔｒａであった。各ＨＩＣ工程は、ＨＩＣコンディショニング塩をＨＩＣロードに添加しない低塩フロースルーモードを使用して実施した。ＨＩＣ工程前（ＨＩＣロード）およびＨＩＣ工程後（ＨＩＣプール）の組成物の加水分解活性を測定した。ＨＩＣ工程はフロースルーおよび低塩モードで実施した（ＨＩＣコンディショニング塩はＨＩＣロードに添加しなかった）。フロースルーおよび低塩モードでのＨＩＣ工程の動作条件を以下の表１に示す。
【表1】
【0377】
ＨＩＣロードおよびＨＩＣプールの加水分解活性を、材料および方法の項に記載されているようにＦＡＭＳアッセイを使用して測定した。図３に示すように、ＨＩＣ工程は、ＨＩＣロードの出発材料と比較して、得られたＨＩＣプールの加水分解活性を低下させた。
【0378】
実施例３
この実施例は、２つの分子を精製するための精製プラットフォームにＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含めることの影響を実証し、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程、ＣＥＸ工程、例えば、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）５０ＨＳを含み、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅを含むＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含んでいてもよい。ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製組成物、すなわちＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ（Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅロード）およびＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅクロマトグラフィー工程（Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅプール）後の精製組成物の加水分解活性を評価した。Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ工程をフロースルーモードで実施し、試験はｐＨ５．５および８の両方で実施した。ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸのフロースルーモードでの動作条件を以下の表２に示す。
この実施例は、２つの分子を精製するための精製プラットフォームにＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含めることの影響を実証し、精製プラットフォームは、順に、捕捉工程、ＣＥＸ工程、例えば、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）５０ＨＳを含み、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅを含むＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含んでいてもよい。ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程を含まない精製組成物、すなわちＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ（Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅロード）およびＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅクロマトグラフィー工程（Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅプール）後の精製組成物の加水分解活性を評価した。Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅ工程をフロースルーモードで実施し、試験はｐＨ５．５および８の両方で実施した。ＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸのフロースルーモードでの動作条件を以下の表２に示す。
【表2】
【0379】
Ｃａｐｔｏ（商標）ＡｄｈｅｒｅロードおよびＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅプールの加水分解活性は、材料および方法の項に記載されるようにＦＡＭＳアッセイを使用して測定した。図４に示すように、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅクロマトグラフィー工程は、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅロードの出発物質と比較して、各分子精製で得られたＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅプールの加水分解活性を低下させた。この加水分解活性の低下は、ｐＨ５．５（分子Ａについて）および８（分子Ｂについて）のいずれにおいても観察された。
【0380】
実施例４
この実施例は、以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むマルチモーダル陰イオン／陽イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（２）ＳＰＸＬを含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程、ＱＳＦＦを含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタを含む深層濾過工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（３）ＳＰＸＬを含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程、ＱＳＦＦを含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを含むＨＩＣ工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（４）ＳＰＸＬを含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程、ＱＳＦＦを含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｘ０ＳＰデプスフィルタを含む深層濾過過工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含む。
この実施例は、以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）ＸＬ（ＳＰＸＬ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むマルチモーダル陰イオン／陽イオン交換（ＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸ）クロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（２）ＳＰＸＬを含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程、ＱＳＦＦを含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタを含む深層濾過工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（３）ＳＰＸＬを含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程、ＱＳＦＦを含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを含むＨＩＣ工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含み；（４）ＳＰＸＬを含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｂａｋｅｒｂｏｎｄ ＷＰ ＨＩ－Ｐｒｏｐｙｌ（商標）を含むＨＩＣ工程、ＡＢｘ（商標）を含むＭＭ－ＡＥＸ／ＣＥＸクロマトグラフィー工程、ＱＳＦＦを含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｘ０ＳＰデプスフィルタを含む深層濾過過工程、およびＵＦ／ＤＦ工程を含む。
【0381】
精製プラットフォーム（１）および深層濾過工程（（２）および（４）について）後、またはＳａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニル ＨＩＣ工程後の組成物の加水分解活性を、材料および方法の項に記載されているようにＦＡＭＳアッセイを使用して各プラットフォームから測定した。図５に示すように、ＥＭＰＨＡＺＥ（商標）ＡＥＸデプスフィルタを含む深層濾過工程を含む精製プラットフォーム（２）、Ｓａｒｔｏｂｉｎｄ（登録商標）フェニルを含むＨＩＣ工程を含む精製プラットフォーム（３）、およびＸ０ＳＰデプスフィルタを含む深層濾過工程を含む精製プラットフォーム（４）は、対照精製プラットフォーム（１）と比較して加水分解活性が低下していた。
【0382】
材料および方法
タンパク質濃度の決定
タンパク質濃度を、Ｃａｒｙ（登録商標）５０ ＵＶ－Ｖｉｓ分光光度計（Ｖａｒｉａｎ）またはＮａｎｏＤｒｏｐ（商標）ＯｎｅＣ（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）のいずれかを使用するＵＶ分光法によって決定した。タンパク質サンプルをそれぞれの緩衝液で希釈し、二連として測定した。ランベルト・ベールの法則から導き出される以下の式に従って濃度を決定した：＝（２８０ｎｍ－３２０ｎｍ）／・Ｆ（タンパク質濃度［ｍｇ／ｍｌ］、吸光度、ε吸光係数［ｍｌ／（ｍｇ・ｃｍ）］、細胞長［ｃｍ］およびＦ希釈係数）。
タンパク質濃度の決定
タンパク質濃度を、Ｃａｒｙ（登録商標）５０ ＵＶ－Ｖｉｓ分光光度計（Ｖａｒｉａｎ）またはＮａｎｏＤｒｏｐ（商標）ＯｎｅＣ（Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）のいずれかを使用するＵＶ分光法によって決定した。タンパク質サンプルをそれぞれの緩衝液で希釈し、二連として測定した。ランベルト・ベールの法則から導き出される以下の式に従って濃度を決定した：＝（２８０ｎｍ－３２０ｎｍ）／・Ｆ（タンパク質濃度［ｍｇ／ｍｌ］、吸光度、ε吸光係数［ｍｌ／（ｍｇ・ｃｍ）］、細胞長［ｃｍ］およびＦ希釈係数）。
【0383】
加水分解活性アッセイ（ＬＥＡＰアッセイ）
加水分解活性アッセイは、基質のエステル結合の切断による非蛍光基質（４－ＭＵ、Ｃｈｅｍ Ｉｍｐｅｘ Ｉｎｔ’ｌ Ｉｎｃ社）の蛍光生成物（ＭＵ，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）への変換をモニタリングすることによって加水分解活性を測定した。分析対象のタンパク質プールサンプルを、Ａｍｉｃｏｎ Ｕｌｔｒａ－０．５ｍｌ遠心フィルタユニット（１０，０００Ｄａカットオフ、Ｍｅｒｃｋ Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ）を使用することによって１５０ｍＭ Ｔｒｉｓ－Ｃｌ ｐＨ８．０に再緩衝化した。アッセイ反応混合物は、８０μＬの反応緩衝液（１５０ｍＭ Ｔｒｉｓ－Ｃｌ ｐＨ８．０、０．２５％（ｗ／ｖ）Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ－１００および０．１２５％（ｗ／ｖ）アラビアガム）、１０μＬの４－ＭＵ基質（ＤＭＳＯ中１ｍＭ）、および１０μＬのタンパク質プールサンプルを含んでいた。タンパク質プールサンプル濃度を１０～３０ｇ／Ｌに調整し、３つの異なる濃度で試験した。各反応を９６ウェル半面積ポリスチレンプレート（蓋付き黒色透明平底、Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）に３回の技術的反復でセットアップし、Ｉｎｆｉｎｉｔｅ ２００Ｐｒｏプレートリーダー（Ｔｅｃａｎ Ｌｉｆｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）において反応プレートを３７℃で２時間インキュベートすることによって蛍光シグナル（３５５ｎｍで励起、４６０ｎｍで発光）の増加を１０分ごとにモニターした。ＭＵ生成速度を、蛍光時間経過（０．５時間～２時間）の傾きから求め、反応の生の速度（ｋｒａｗ［ＲＦＵ／ｈ］）を表す。
加水分解活性アッセイは、基質のエステル結合の切断による非蛍光基質（４－ＭＵ、Ｃｈｅｍ Ｉｍｐｅｘ Ｉｎｔ’ｌ Ｉｎｃ社）の蛍光生成物（ＭＵ，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ）への変換をモニタリングすることによって加水分解活性を測定した。分析対象のタンパク質プールサンプルを、Ａｍｉｃｏｎ Ｕｌｔｒａ－０．５ｍｌ遠心フィルタユニット（１０，０００Ｄａカットオフ、Ｍｅｒｃｋ Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ）を使用することによって１５０ｍＭ Ｔｒｉｓ－Ｃｌ ｐＨ８．０に再緩衝化した。アッセイ反応混合物は、８０μＬの反応緩衝液（１５０ｍＭ Ｔｒｉｓ－Ｃｌ ｐＨ８．０、０．２５％（ｗ／ｖ）Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ－１００および０．１２５％（ｗ／ｖ）アラビアガム）、１０μＬの４－ＭＵ基質（ＤＭＳＯ中１ｍＭ）、および１０μＬのタンパク質プールサンプルを含んでいた。タンパク質プールサンプル濃度を１０～３０ｇ／Ｌに調整し、３つの異なる濃度で試験した。各反応を９６ウェル半面積ポリスチレンプレート（蓋付き黒色透明平底、Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）に３回の技術的反復でセットアップし、Ｉｎｆｉｎｉｔｅ ２００Ｐｒｏプレートリーダー（Ｔｅｃａｎ Ｌｉｆｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ）において反応プレートを３７℃で２時間インキュベートすることによって蛍光シグナル（３５５ｎｍで励起、４６０ｎｍで発光）の増加を１０分ごとにモニターした。ＭＵ生成速度を、蛍光時間経過（０．５時間～２時間）の傾きから求め、反応の生の速度（ｋｒａｗ［ＲＦＵ／ｈ］）を表す。
【0384】
酵素ブランク反応をさらに設定して、緩衝マトリックスによって引き起こされる基質の非酵素的切断を測定した。１０μＬのタンパク質プールサンプルを、反応混合物中の１０μＬの１５０ｍＭ Ｔｒｉｓ－Ｃｌ ｐＨ８．０に置き換えた。自己開裂速度（ｋｓｅｌｆ開裂［ＲＦＵ／ｈ］）を、蛍光の時間経過（０．５時間～２時間）の傾きから求めた。蛍光シグナル（ＲＦＵ）をμＭのＭＵに変換するために、標準的なＭＵ ３連をプレートごとに添加した。１０μＬのＭＵ（ＤＭＳＯ中１００μＭ）に、１０μＬの１５０ｍＭ Ｔｒｉｓ－Ｃｌ ｐＨ８．０および８０μＬの反応緩衝液を補充した。変換係数ａ［ＲＦＵ／μＭ］は、蛍光シグナル（０．５時間－２時間）を平均し、ウェル中に存在するＭＵの最終濃度で割ることによって算出した。
【0385】
サンプルの加水分解活性は、サンプルの反応速度（ｋｒａｗ［ＲＦＵ／ｈ］）から酵素ブランクの反応速度（ｋｓｅｌｆ－開裂［ＲＦＵ／ｈ］）を差し引き、項を変換係数ａ［ＲＦＵ／μＭ］で割ることによって蛍光シグナルをμＭＭＵ／ｈに変換することによって決定し、［μＭＭＵ／ｈ］で示す。活性を、ウェルあたりに適用されたタンパク質濃度に対して正規化した。加水分解活性を割合で報告するために、基準サンプルの加水分解活性を１００％に設定した。
【0386】
遊離脂肪酸および質量分析（ＦＡＭＳ）アッセイ
ＰＳ２０分解後の遊離脂肪酸の含有量をそれぞれの溶出プールにおけるモニターするために、ＰＳ２０安定性試験のためにサンプルを最初に調製し、続いて質量分析によって分析した。特に明記しない限り、タンパク質プールサンプルを、０．０４％（ｗ／ｖ）ＳＲ－ＰＳ２０、１０ｍＭ Ｌ－メチオニンおよび１００ｍＭ Ｔｒｉｓ ｐＨ８を含有する同じタンパク質濃度（それぞれの実験の説明に示される通り）に調整した。実験の時間経過中にＰＳ２０の酸化分解を制御するための効率的な酸化防止剤としてＬ－メチオニンを添加した。緩衝液対照サンプルとして、適用したタンパク質体積を同じ体積の対応する溶出緩衝液系で置き換えた。
ＰＳ２０分解後の遊離脂肪酸の含有量をそれぞれの溶出プールにおけるモニターするために、ＰＳ２０安定性試験のためにサンプルを最初に調製し、続いて質量分析によって分析した。特に明記しない限り、タンパク質プールサンプルを、０．０４％（ｗ／ｖ）ＳＲ－ＰＳ２０、１０ｍＭ Ｌ－メチオニンおよび１００ｍＭ Ｔｒｉｓ ｐＨ８を含有する同じタンパク質濃度（それぞれの実験の説明に示される通り）に調整した。実験の時間経過中にＰＳ２０の酸化分解を制御するための効率的な酸化防止剤としてＬ－メチオニンを添加した。緩衝液対照サンプルとして、適用したタンパク質体積を同じ体積の対応する溶出緩衝液系で置き換えた。
【0387】
全ての反応混合物をＴｈｅｒｍｏｍｉｘｅｒ（Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ）中で２５℃または４０℃のいずれかでインキュベートした。サンプルを規定の時点（それぞれの図に示す）の後に取り出し、その後の分析まで－８０℃で保存した。
【0388】
５０μＬのサンプルを新しいエッペンドルフカップに移した。２００μＬのＦＦＡ溶解溶液（アセトニトリル中５００ｎｇ／ｍＬのＤ２３ラウリン酸および５００ｎｇ／ｍＬの１３Ｃ１４－ミリスチン酸）を添加し、短時間ボルテックスした。サンプルを１４．０００ｒｐｍで５分間遠心分離し、ＭＳ分析のためＨＰＬＣバイアルに移した。５μＬの注入サンプルからの脂肪酸の分離を、ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ（登録商標）Ｐｅｐｔｉｄｅ ＢＥＨ Ｃ１８カラム（１．７μｍ ２．１×１５０ｍｍおよび３００Å）を使用してＴｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ（商標）Ｖａｎｑｕｉｓｈ（商標）ＵＨＰＬＣシステムで行った。溶離液Ａ（０．１％水酸化アンモニウム水溶液）および溶離液Ｂ（１００％アセトニトリル）を０．３ｍＬ／分の流速および６０℃のカラム温度で以下の勾配に使用した。初期条件は７０％溶離液Ｂであった。勾配を０．２分から５．５分まで直線的に変化させ、溶離液Ａを１００％まで増加させ、６．０まで保持した。溶離液Ｂを６．１分で７０％に設定し、平衡化のために１０．０分まで保持した。質量分析計（Ｔｒｉｐｌｅ ＴＯＦ（登録商標）６６００，ＡＢ Ｓｃｉｅｘ）を－４５００Ｖのイオンスプレー電圧で負イオン化モードで操作した。ソース温度を４５０℃に設定し、ＴＯＦ質量範囲を１００～１０００ｍ／Ｚとした。減衰電位は－１２０Ｖ、衝突エネルギーは－１０Ｖであった。
【0389】
ラウリン酸、ミリスチン酸、および同位体標識された（Ｄ２３）－ラウリン酸および（１３Ｃ１４）ミリスチン酸の質量に対するＸＩＣを生成した。それぞれのピークを積分し、ラウリン酸とＤ２３－ラウリン酸との間のピーク面積比、ならびにミリスチン酸と１３Ｃ１４－ミリスチン酸との間の比を決定した。ピーク面積比を使用して、サンプル中のラウリン酸およびミリスチン酸の濃度を計算した。測定を２連で行った。ＦＦＡ（ラウリン酸（ＬＡ）およびミリスチン酸（ＭＡ））の量をパーセントで報告するため、基準サンプルの量を１００％に設定した。
【0390】
実施例５
この実施例は、分子Ｄを精製するための以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、ウイルス濾過工程、およびＵＦ／ＤＦ工程（対照精製プラットフォーム）を含み；（２）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタを含む深層濾過工程、ウイルス濾過工程、およびＵＦＦ／ＤＦ工程を含む。精製プラットフォーム（２）については、深層濾過工程をｐＨ６で実施した。
この実施例は、分子Ｄを精製するための以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、ウイルス濾過工程、およびＵＦ／ＤＦ工程（対照精製プラットフォーム）を含み；（２）捕捉工程、ＳＰ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｅ Ｆｌｏｗ（ＳＰＳＦＦ）を含むＣＥＸクロマトグラフィー工程、Ｑ Ｓｅｐｈａｒｏｓｅ（登録商標）Ｆａｓｔ Ｆｌｏｗ（ＱＳＦＦ）を含むＡＥＸクロマトグラフィー工程、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタを含む深層濾過工程、ウイルス濾過工程、およびＵＦＦ／ＤＦ工程を含む。精製プラットフォーム（２）については、深層濾過工程をｐＨ６で実施した。
【0391】
得られた精製組成物の加水分解活性を、実施例４の材料および方法の項に記載されているようにＦＡＭＳアッセイを用いて測定した。図６に示すように、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタを含む深度濾過工程を含む精製プラットフォーム（２）は、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴ深層濾過工程を含まない対照精製プラットフォームと比較して、加水分解活性が低下した組成物を提供した。
【0392】
実施例６
この実施例は、分子Ｅを精製するための以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）捕捉工程、ＣＥＸ工程、例えば、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）５０ＨＳ、およびＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅを含むＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程（対照精製プラットフォーム）を含み；（２）捕捉工程、ＣＥＸ工程、例えば、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）５０ＨＳ、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅを含むＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程のためにロードをフィルタリングするためのＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタを含む深層濾過工程を含む。精製プラットフォーム（２）については、深層濾過工程をｐＨ８で実施した。
この実施例は、分子Ｅを精製するための以下の精製プラットフォームの間の比較を実証する。精製プラットフォームは、順に、（１）捕捉工程、ＣＥＸ工程、例えば、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）５０ＨＳ、およびＣａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅを含むＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程（対照精製プラットフォーム）を含み；（２）捕捉工程、ＣＥＸ工程、例えば、Ｐｏｒｏｓ（登録商標）５０ＨＳ、Ｃａｐｔｏ（商標）Ａｄｈｅｒｅを含むＭＭ－ＨＩＣ／ＡＥＸクロマトグラフィー工程のためにロードをフィルタリングするためのＰｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタを含む深層濾過工程を含む。精製プラットフォーム（２）については、深層濾過工程をｐＨ８で実施した。
【0393】
得られた精製組成物の加水分解活性を、実施例４の材料および方法の項に記載されているようにＦＡＭＳアッセイを用いて測定した。図７に示すように、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴデプスフィルタを含む深度濾過工程を含む精製プラットフォーム（２）は、Ｐｏｌｉｓｈｅｒ ＳＴ深層濾過工程を含まない対照精製プラットフォームと比較して、加水分解活性が低下した組成物を提供した。
【図1A】
【図1B】
【図1C】
【図1D】
【図1E】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【国際調査報告】