▶ 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司の特許一覧 ▶ 成都京東方光電科技有限公司の特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-11-28
(54)【発明の名称】表示パネル及びその製造方法、並びに表示装置
(51)【国際特許分類】
G09F 9/302 20060101AFI20231120BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20231120BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20231120BHJP
H10K 50/816 20230101ALI20231120BHJP
H10K 59/131 20230101ALI20231120BHJP
H10K 59/122 20230101ALI20231120BHJP
H10K 59/65 20230101ALI20231120BHJP
H10K 59/123 20230101ALI20231120BHJP
H10K 71/60 20230101ALI20231120BHJP
【ＦＩ】
G09F9/302 Z
G09F9/30 365
G09F9/30 338
G09F9/00 366Z
G09F9/00 338
H10K50/816
H10K59/131
H10K59/122
H10K59/65
H10K59/123
H10K71/60
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023524422
(86)(22)【出願日】2020-11-20
(85)【翻訳文提出日】2023-04-20
(86)【国際出願番号】 CN2020130434
(87)【国際公開番号】W WO2022104702
(87)【国際公開日】2022-05-27
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ
(71)【出願人】
【識別番号】511121702
【氏名又は名称】成都京東方光電科技有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＣＨＥＮＧＤＵ ＢＯＥ ＯＰＴＯＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１１８８，Ｈｅｚｕｏ Ｒｄ．，（Ｗｅｓｔ Ｚｏｎｅ），Ｈｉ－ｔｅｃｈ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｚｏｎｅ，Ｃｈｅｎｇｄｕ，Ｓｉｃｈｕａｎ，６１１７３１，Ｐ．Ｒ．ＣＨＩＮＡ
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】黄 耀
(72)【発明者】
【氏名】▲龍▼ ▲躍▼
(72)【発明者】
【氏名】黄 ▲ウェイ▼▲ユン▼
【テーマコード（参考）】
3K107
5C094
5G435
【Ｆターム（参考）】
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC41
3K107DD22
3K107DD39
3K107DD89
3K107EE68
3K107GG11
3K107HH05
5C094AA51
5C094BA03
5C094BA27
5C094CA20
5C094DA14
5C094DB01
5C094EA05
5C094FA01
5C094GB10
5C094HA07
5C094HA08
5G435AA00
5G435BB05
5G435CC09
5G435EE49
5G435KK05
5G435KK10
5G435LL04
5G435LL07
5G435LL08
(57)【要約】
本発明は、表示パネル及びその製造方法、並びに表示装置を提供する。表示パネルの表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を含み、前記第１表示領域における画素回路の分布密度は、第２表示領域における画素回路の分布密度より小さく、表示パネルは、ベース基板と、ベース基板の一方側に設けられ、且つ第２表示領域内に位置する複数の第１画素回路と、第１画素回路のベース基板から離れた側に設けられる配線と、配線のベース基板から離れた側に設けられ、且つ第１表示領域内に位置する第１発光素子と、第１透明電極と同一の層に位置し且つ電気的に接続されるように設けられる接続線と、を含み、ここで、第１発光素子における第１陽極は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層は、少なくとも第１透明電極を含み、配線は、第１画素回路が第１発光素子を駆動して発光させるように、前記第１画素回路と前記接続線とを電気的に接続するためのものである。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
表示パネルの表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を含み、前記第１表示領域における画素回路の密度は、前記第２表示領域における画素回路の密度より小さく、前記表示パネルは、ベース基板と、
前記ベース基板の一方側に設けられ、且つ前記第２表示領域内に位置する複数の第１画素回路と、
前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に設けられる配線と、
前記配線の前記ベース基板から離れた側に設けられ、且つ前記第１表示領域内に位置する第１発光素子と、
第１透明電極と同一の層に位置し且つ電気的に接続されるように設けられる接続線と、を含み、
前記ベース基板から離れた方向において、前記第１発光素子における第１陽極の有効発光陽極領域は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層は、前記第１透明電極を含み、
前記配線は、前記第１画素回路が前記第１発光素子を駆動して発光させるように、前記第１画素回路と前記接続線とを電気的に接続するためのものである
ことを特徴とする表示パネル。
【請求項2】
前記配線は、第１ビアホールを介して前記接続線に電気的に接続され、前記第１ビアホールは、前記第１表示領域内に位置することを特徴とする、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項3】
前記ベース基板から離れた方向において、前記第１陽極は、順次に積層されている前記第１透明電極、銀電極及び第２透明電極を含み、前記接続線と前記第１透明電極とは、一体構造であることを特徴とする、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項4】
前記表示パネルは、前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に設けられ、且つ貫通する第２ビアホールを有する第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記ベース基板から離れた側に設けられ、前記配線を覆い、且つ貫通する前記第１ビアホールを有する第２絶縁層と、をさらに含み、
前記配線は、前記第１絶縁層のベース基板から離れた側に位置し、且つ、前記配線は、前記第２ビアホールを介して前記第１画素回路に電気的に接続され、
前記接続線は、前記第２絶縁層のベース基板から離れた側に設けられる
ことを特徴とする、請求項２に記載の表示パネル。
【請求項5】
複数の前記第１ビアホールは、複数行で並んで設けられており、前記配線は、隣接する２行の前記第１ビアホールの間に位置することを特徴とする、請求項２又は４に記載の表示パネル。
【請求項6】
前記第１陽極は、前記有効発光陽極領域と、前記有効発光陽極領域を取り囲む非発光陽極領域と、を含み、ベース基板における前記有効発光陽極領域の正投影は、前記ベース基板における、前記第１発光素子における画素定義層により限定される開口の正投影よりも大きいか同じであり、前記非発光陽極領域は、前記画素定義層により覆われており、前記非発光陽極領域は、前記第１透明電極のみを含むことを特徴とする、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項7】
前記表示領域は、アンダーディスプレー機能領域をさらに含み、前記アンダーディスプレー機能領域と前記第１表示領域とは、重畳領域を有することを特徴とする、請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項8】
前記表示パネルは、複数の第２画素回路及び複数の第２発光素子をさらに含み、且つ、前記第２画素回路及び前記第２発光素子は、いずれも前記第２表示領域内に位置し、前記第２画素回路と前記第２発光素子における第２陽極との接続方式は、以下の少なくとも１つであり、前記第２画素回路は、第３ビアホールを介して前記第２発光素子における第２陽極に直接に電気的に接続されて、前記第２発光素子を駆動して発光させ、
前記表示パネルは、前記配線と同一の層に設けられる導電層をさらに含み、前記第２陽極は、前記第２絶縁層を貫通する第４ビアホールを介して前記導電層に電気的に接続され、前記導電層は、前記第１絶縁層を貫通する第５ビアホールを介して前記第２画素回路に電気的に接続されて、前記第２発光素子を駆動して発光させる
ことを特徴とする、請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項9】
前記表示パネルの表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を含み、前記第１表示領域における画素回路の密度は、前記第２表示領域における画素回路の密度より小さく、方法は、ベース基板の一方側に前記第２表示領域内に位置する複数の第１画素回路を形成するステップと、
前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に前記第１画素回路に電気的に接続される配線を形成するステップと、
前記配線の前記ベース基板から離れた側に前記第１表示領域内に位置する第１発光素子及び接続線を形成するステップと、を含み、
前記ベース基板から離れた方向において、前記第１発光素子における第１陽極の有効発光陽極領域は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層のうちの少なくとも一方は、第１透明電極を含み、前記接続線と前記第１透明電極とは、電気的に接続されるように設けられ且つ同一のステップにより形成され、
前記配線は、前記接続線に電気的に接続されるように設けられることにより、前記第１画素回路は、前記第１発光素子を駆動して発光させる
ことを特徴とする、請求項１から請求項８のうちいずれか１項に記載の表示パネルを製造する方法。
【請求項10】
前記方法は、前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に第１絶縁材料層を積層し、前記第１絶縁材料層に前記第１絶縁材料層を貫通する第２ビアホールを製造することにより、前記第２ビアホールを有する第１絶縁層を形成するステップと、
前記第１絶縁層の前記ベース基板から離れた側に第２絶縁材料層を積層し、前記第２絶縁材料層に前記第２絶縁材料層を貫通する第１ビアホールを製造することにより、前記第１ビアホールを有する第２絶縁層を形成するステップと、をさらに含み、
前記配線は、前記第１絶縁層と第２絶縁層との間に位置し、且つ前記第２ビアホールを介して前記第１画素回路に電気的に接続され、前記接続線は、前記第２絶縁層のベース基板から離れた側に設けられ、且つ前記第１ビアホールを介して前記配線に電気的に接続される
ことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
前記第１陽極及び前記接続線を形成するステップは、前記第２絶縁層のベース基板から離れた表面に第１透明導電層、銀層及び第２透明導電層を順次に積層して形成するステップと、
前記第２透明導電層の表面に位置する第１領域及び第２領域に第１フォトレジスト及び第２フォトレジストをそれぞれ形成し、前記第１フォトレジストの厚さが前記第２フォトレジストの厚さよりも大きいステップと、
前記第１フォトレジスト及び前記第２フォトレジストにより覆われていない前記第１透明導電層、前記銀層及び前記第２透明導電層を除去するステップと、
前記第１フォトレジスト及び前記第２フォトレジストに対してアッシング処理を行うことにより、前記第２フォトレジストを除去するとともに、前記第１フォトレジストを薄くするステップと、
エッチングプロセスにより第２領域での前記第２透明導電層及び前記銀層を除去し、前記第１透明導電層を残すことにより、前記接続線を得るステップと、
薄くした前記第１フォトレジストを除去して、前記第１陽極を得るステップと、を含む
ことを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項12】
表示領域が第１表示領域及び第２表示領域を含む請求項１から請求項８のうちいずれか１項に記載の表示パネルと、アンダーディスプレー機能層と、を含み、
前記表示パネルにおける前記アンダーディスプレー機能層の正投影と前記第１表示領域とは、重畳領域を有する
ことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、表示技術分野に関し、特に、表示パネル及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
現在、アンダーディスプレーカメラ（ｕｎｄｅｒ ｄｉｓｐｌａｙ ｃａｍｅｒａ）に対応する高透光表示領域の光透過率を向上させるとともに、アンダーディスプレーカメラの撮影効果を確保するために、高透光表示領域に発光素子のみを残すが、発光素子の発光を制御する信号は、非高透光表示領域における画素回路から引き出される。しかし、現在のアンダーディスプレーカメラの撮影品質は依然として比較的よくない。
【0003】
このため、アンダーディスプレーカメラを有する表示パネルに対して鋭意検討を行う必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、少なくともある程度に関連技術における１つの技術問題を解決することを意図している。そこで、本発明の１つの目的は、第１表示領域が高い光透過率を有し、アンダーディスプレーカメラの撮影品質を向上させる表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の一態様によれば、本発明は、表示パネルを提供する。本発明の実施例によれば、前記表示パネルの表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を含み、前記第１表示領域における画素回路の密度は、前記第２表示領域における画素回路の密度より小さく、前記表示パネルは、ベース基板と、前記ベース基板の一方側に設けられ、且つ前記第２表示領域内に位置する複数の第１画素回路と、前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に設けられる配線と、前記配線の前記ベース基板から離れた側に設けられ、且つ前記第１表示領域内に位置する第１発光素子と、前記第１透明電極と同一の層に位置し且つ電気的に接続されるように設けられる接続線と、を含み、ここで、前記ベース基板から離れた方向において、前記第１発光素子における第１陽極の有効発光陽極領域は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層は、第１透明電極を含み、前記配線は、前記第１画素回路が前記第１発光素子を駆動して発光させるように、前記第１画素回路と前記接続線とを電気的に接続するためのものである。これにより、接続線は、第１陽極における第１透明電極から引き出されて、配線に電気的に接続されることにより、第１画素回路と第１発光素子との電気的接続を実現するので、第１陽極に配線に電気的に接続されるための突起部をさらに設ける必要がなくなり、このようにして、第１表示領域の光透過率をさらに向上させることができる。
【0006】
本発明の実施例によれば、前記配線は、第１ビアホールを介して前記接続線に電気的に接続され、前記第１ビアホールは、前記第１表示領域内に位置する。
【0007】
本発明の実施例によれば、前記ベース基板から離れた方向において、前記第１陽極は、順次に積層されている前記第１透明電極、銀電極及び第２透明電極を含み、前記接続線と前記第１透明電極とは、一体構造である。
【0008】
本発明の実施例によれば、前記表示パネルは、前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に設けられ、且つ前記第１絶縁層を貫通する第２ビアホールを有する第１絶縁層と、前記第１絶縁層の前記ベース基板から離れた側に設けられ、前記配線を覆い、且つ前記第２絶縁層を貫通する前記第１ビアホールを有する第２絶縁層と、をさらに含み、ここで、前記配線は、前記第１絶縁層のベース基板から離れた側に位置し、且つ、前記配線は、前記第２ビアホールを介して前記第１画素回路に電気的に接続され、前記接続線は、前記第２絶縁層のベース基板から離れた側に設けられる。
【0009】
本発明の実施例によれば、複数の前記第１ビアホールは、複数行で並んで設けられており、前記配線は、隣接する２行の前記第１ビアホールの間に位置する。
【0010】
本発明の実施例によれば、前記第１陽極は、前記有効発光陽極領域と、前記有効発光陽極領域を取り囲む非発光陽極領域と、を含み、ベース基板における前記有効発光陽極領域の正投影は、前記ベース基板における、前記第１発光素子における画素定義層により限定される開口の正投影よりも大きいか同じであり、前記非発光陽極領域は、前記画素定義層により覆われており、ここで、前記非発光陽極領域は、前記第１透明電極のみを含む。
【0011】
本発明の実施例によれば、前記表示領域は、アンダーディスプレー機能領域をさらに含み、前記アンダーディスプレー機能領域と前記第１表示領域とは、重畳領域を有する。
【0012】
本発明の実施例によれば、前記表示パネルは、複数の第２画素回路及び複数の第２発光素子をさらに含み、且つ、前記第２画素回路及び前記第２発光素子は、いずれも前記第２表示領域内に位置し、前記第２画素回路と前記第２発光素子における第２陽極との接続方式は、以下の少なくとも１つである。前記第２画素回路は、第３ビアホールを介して前記第２発光素子における第２陽極に直接に電気的に接続されて、前記第２発光素子を駆動して発光させる。前記表示パネルは、前記配線と同一の層に設けられる導電層をさらに含み、前記第２陽極は、前記第２絶縁層を貫通する第４ビアホールを介して前記導電層に電気的に接続され、前記導電層は、前記第１絶縁層を貫通する第５ビアホールを介して前記第２画素回路に電気的に接続されて、前記第２発光素子を駆動して発光させる。
【0013】
本発明の他の態様によれば、本発明は、前記表示パネルを製造する方法を提供する。本発明の実施例によれば、前記表示パネルの表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を含み、前記第１表示領域における画素回路の密度は、前記第２表示領域における画素回路の密度より小さく、前記表示パネルを製造する方法は、ベース基板の一方側に前記第２表示領域内に位置する複数の第１画素回路を形成するステップと、前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に前記第１画素回路に電気的に接続される配線を形成するステップと、前記配線の前記ベース基板から離れた側に前記第１表示領域内に位置する第１発光素子及び接続線を形成するステップと、を含み、ここで、前記ベース基板から離れた方向において、前記第１発光素子における第１陽極の有効発光陽極領域は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層のうちの少なくとも一方は、第１透明電極を含み、前記接続線と前記第１透明電極とは、電気的に接続されるように設けられ且つ同一のステップにより形成され、ここで、前記配線は、前記接続線に電気的に接続されるように設けられることにより、前記第１画素回路は、前記第１発光素子を駆動して発光させる。これにより、接続線は、第１陽極における第１透明電極から引き出されて、配線に電気的に接続されることにより、第１画素回路と第１発光素子との電気的接続を実現するので、第１陽極に配線に電気的に接続されるための突起部をさらに設ける必要がなくなり、このようにして、第１表示領域の光透過率をさらに向上させることができる。
【0014】
本発明の実施例によれば、表示パネルを製造する方法は、前記第１画素回路の前記ベース基板から離れた側に第１絶縁材料層を積層し、前記第１絶縁材料層に前記第１絶縁材料層を貫通する第２ビアホールを製造することにより、前記第２ビアホールを有する第１絶縁層を形成するステップと、前記第１絶縁層の前記ベース基板から離れた側に第２絶縁材料層を積層し、前記第２絶縁材料層に前記第２絶縁材料層を貫通する第１ビアホールを製造することにより、前記第１ビアホールを有する第２絶縁層を形成するステップと、をさらに含み、ここで、前記配線は、前記第１絶縁層と第２絶縁層との間に位置し、且つ前記第２ビアホールを介して前記第１画素回路に電気的に接続され、前記接続線は、前記第２絶縁層のベース基板から離れた側に設けられ、且つ前記第１ビアホールを介して前記配線に電気的に接続される。
【0015】
本発明の実施例によれば、前記第１陽極及び前記接続線を形成するステップは、前記第２絶縁層のベース基板から離れた表面に第１透明導電層、銀層及び第２透明導電層を順次に積層して形成するステップと、前記第２透明導電層の表面に位置する第１領域及び第２領域に第１フォトレジスト及び第２フォトレジストをそれぞれ形成し、前記第１フォトレジストの厚さが前記第２フォトレジストの厚さよりも大きいステップと、前記第１フォトレジスト及び前記第２フォトレジストにより覆われていない前記第１透明導電層、前記銀層及び前記第２透明導電層を除去するステップと、前記第１フォトレジスト及び前記第２フォトレジストに対してアッシング処理を行うことにより、前記第２フォトレジストを除去するとともに、前記第１フォトレジストを薄くするステップと、エッチングプロセスにより第２領域での前記第１透明導電層及び前記銀層を除去し、前記第２透明導電層を残すことにより、前記接続線を得るステップと、薄くした前記第１フォトレジストを除去して、前記第１陽極を得るステップと、を含む。
【0016】
本発明の別の態様によれば、本発明は、表示装置を提供する。本発明の実施例によれば、この表示装置は、表示領域が第１表示領域及び第２表示領域を含む前記表示パネルと、アンダーディスプレー機能層と、を含み、前記表示パネルにおける前記アンダーディスプレー機能層の正投影と前記第１表示領域とは、重畳領域を有する。これにより、この表示装置では、アンダーディスプレー機能層の高入光量に対する要求を満たすことができる。アンダーディスプレー機能層がアンダーディスプレーカメラである場合、アンダーディスプレーカメラは、良好な入光量を有し、さらにその高い撮影品質を確保する。当業者は、この表示装置は前記表示パネルのすべての特徴と利点を有することを理解することができるが、ここでは詳細な説明を省略する。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明の一実施例における表示パネルの平面模式図である。
【図2】本発明の他の実施例における表示パネルの平面模式図である。
【図3】本発明の別の実施例における表示パネルの一部の構造の平面模式図である。
【図4】本発明の別の実施例における表示パネルの構造模式図である。
【図5】本発明の別の実施例における第１陽極及び接続線の構造模式図である。
【図6】本発明の別の実施例における第１陽極及び接続線の構造模式図である。
【図7】本発明の別の実施例における第１陽極及び接続線の構造模式図である。
【図8】従来技術における第１陽極の構造模式図である。
【図9】本発明の別の実施例における表示パネルの一部の構造の平面構造の模式図である。
【図10】本発明の別の実施例における表示パネルの構造模式図である。
【図11】本発明の別の実施例における表示パネルの構造模式図である。
【図12】本発明の別の実施例における表示パネルの構造模式図である。
【図13】本発明の別の実施例における表示パネルの構造模式図である。
【図14】本発明の別の実施例において表示パネルを製造する構造模式図である。
【図15】本発明の別の実施例において第１陽極及び接続線を製造する構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。以下に説明する実施例は、例示的なものであり、本発明に対する解釈に用いられるものに過ぎず、本発明に対する限定として理解すべきではない。実施例に具体的な技術や条件が明記されていない場合、当該分野内の文献に記載されている技術や条件や製品説明書に従って行う。
【0019】
本発明の一態様によれば、本発明は、表示パネルを提供する。本発明の実施例によれば、図１を参照すると、表示パネルの表示領域は、第１表示領域ａ及び第２表示領域ｂを含み、いくつかの実施例において、第２表示領域ｂは、前記第１表示領域ａの外縁に設けられ、即ち、第２表示領域ｂが第１表示領域ａの外側に設けられ、又は、第２表示領域ｂが第１表示領域ａの周辺に設けられることを意味する。また、第１表示領域ａの具体的な設置位置も特に限定されず、当業者は、アンダーディスプレー機能領域に対する設計要求に応じて柔軟に選択可能であり、例えば、第２表示領域は、表示パネルの中央であってもよく、表示パネルの隅であってもよく、図１に示すように表示パネルの額縁付近且つ中央に位置してもよい。
【0020】
また、第１表示領域ａの具体的な形状も特に限定されず、当業者は、実際の状況に応じて柔軟に選択可能であり、例えば、第１表示領域ａの形状は、円形、楕円形、四辺形、五辺形、六辺形などの多辺形又は不規則な図形などを含むが、これらに限定されない。
【0021】
ここで、第１表示領域の画素回路の密度は、第２表示領域における画素回路の密度よりも小さく、即ち、第１表示領域における画素回路の分布密度は、前記第２表示領域における画素回路（即ち、後述する第１画素回路に対応する）分布密度よりも小さい。なお、本明細書で記載した画素回路とは、ＯＬＥＤ発光素子に駆動電圧を提供するための駆動回路であり、７Ｔ１Ｃ、９Ｔ２Ｃなどの回路構造であってもよい。
【0022】
また、図１に示すように、表示パネルの表示領域は、第２表示領域ｂの第１表示領域ａから離れた側に位置する第３表示領域ｃをさらに含む。ここで、第３表示領域における画素回路の密度は、第２表示領域の画素回路の密度よりも大きい。いくつかの実施例において、第１表示領域における画素回路の密度は、０であってもよく、即ち、第１表示領域に画素回路を設けなくてもよく、第１表示領域に位置する第１発光素子は、いずれも第２表示領域における第１画素回路により駆動される。
【0023】
また、第１表示領域ａの発光素子の分布密度は、第２表示領域ｂの発光素子の分布密度以下であってもよく、第２表示領域ｂの発光素子の分布密度は、第３表示領域ｃの発光素子の分布密度以下であってもよい。上記の構造に基づいて、第１表示領域ａにおける画素回路の分布密度が最小となるので、十分な光線が第１表示領域を通過して表示パネルの裏面に到達することを確保することができる。同時に、第２表示領域ｂにおける第１画素回路は、第１表示領域ａの発光素子に駆動電圧を提供することにより、第１表示領域ａの表示解像度（ＰＰＩ）を他の領域と同等又はそれよりも小さくすることができる。
【0024】
なお、画素回路は、発光素子（ＯＬＥＤ素子）を駆動して発光させ、活性層、ゲート、ソース・ドレイン電極、蓄積キャパシタ、データ線、走査線などの構造を含む。
【0025】
本発明の実施例によれば、図２を参照すると、表示領域は、アンダーディスプレー機能領域ｅをさらに含み、アンダーディスプレー機能領域ｅと第１表示領域ａとは、重畳領域を有する。いくつかの具体的な実施例において、図２（Ａ）に示すように、第１表示領域ａは、アンダーディスプレー機能領域ｅと重なっている。他の実施例において、図２（Ｂ）に示すように、第１表示領域ａは、アンダーディスプレー機能領域ｅにより覆われている。別の実施例において、図２（Ｃ）に示すように、アンダーディスプレー機能領域ｅは、第１表示領域ａにより覆われている。ここで、アンダーディスプレー機能領域とは、アンダーディスプレー機能層が対応して設けられる領域を指し、即ち、アンダーディスプレー機能領域に対応する表示パネルの裏面は、アンダーディスプレー機能層（例えばアンダーディスプレーカメラ）を設けるためのものであり、第１表示領域は高い光透過率を有するので、アンダーディスプレーカメラの入光量に対する要求を満たすとともに、表示パネルの画面占有率を大幅に向上させることができる。
【0026】
本発明の実施例によれば、図３、図４及び図５を参照すると、表示パネルは、ベース基板１０と、前記ベース基板１０の一方側に設けられ、且つ前記第２表示領域ｂ内に位置する複数の第１画素回路２１と、前記第１画素回路２１の前記ベース基板１０から離れた側に設けられる配線３０と、前記配線３０の前記ベース基板１０から離れた側に設けられ、且つ前記第１表示領域ａ内に位置する第１発光素子４１と、第１透明電極４１２と同一の層に位置し且つ電気的に接続されるように設けられる接続線５０と、を含み、ここで、前記ベース基板１０から離れた方向において、前記第１発光素子４１における第１陽極４１１の有効発光陽極領域は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層は、第１透明電極４１２（図４において、第１陽極４１１において順次に積層されている第１透明電極４１２、銀電極４１３及び第２透明電極４１４を例とする）を含む。ここで、前記配線３０は、前記第１画素回路２１が前記第１発光素子４１を駆動して発光させるように、前記第１画素回路２１と前記接続線５０とを電気的に接続するためのものである。これにより、接続線５０は、第１陽極４１１における第１透明電極４１２から引き出されて、配線３０に電気的に接続されることにより、第１画素回路２１と第１発光素子４１との電気的接続を実現するので、第１陽極４１１に配線に電気的に接続されるための突起部４１１１（図８に示すように、この突起部４１１１は、第１陽極と同一の構造を有し、即ち、第１透明電極、銀電極及び第２透明電極の３層構造を含む）を設ける必要がなくなり、このようにして、第１表示領域の光透過率をさらに向上させることができる。また、表示領域がアンダーディスプレー機能領域を有する場合、アンダーディスプレー機能領域に対応する表示パネルの裏面は、アンダーディスプレーカメラを配置するためのものである。本発明者らは、第１陽極４１１が突起部４１１１を介して配線に電気的に接続される場合、この突起部によって、アンダーディスプレーカメラにより撮影する時により深刻なギラツキ及び回折を発生させ、さらにその撮影性能を低下させることを発見したが、本願において、陽極に電気的に接続される透明な接続線を設けることにより、ギラツキ及び回折を効果的に緩和し、撮影効果を大幅に最適化し、撮影性能を向上させることができる。
【0027】
ここで、上記の有効発光陽極領域とは、画素定義層により限定される開口内に位置する第１陽極の領域を指す。
【0028】
ここで、第１画素回路２１の具体的な構造は特に限定されないが、当業者は、実際の状況に応じて柔軟に選択可能である。いくつかの実施例において、第１画素回路２１は、７Ｔ１Ｃ回路（即ち、７つのトランジスタ及び１つのキャパシタ）構造であり、例えば、駆動トランジスタ、データ書込みトランジスタ、蓄積キャパシタ、閾値補償トランジスタ、第１リセットトランジスタ、第２リセットトランジスタ、第１発光制御トランジスタ及び第２発光制御トランジスタを含む。第１画素回路１１の縦方向の構造も特に限定されず、いくつかの実施例において、図４を参照すると、第１画素回路２１は、活性層２１１、ゲート電極２１２、ソース・ドレイン電極２１３などの構造を含む。ここで、活性層２１１は、ベース基板１０の一方側に設けられ、ゲート絶縁層６１は、活性層２１１を覆い、ゲート２１２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた表面に設けられ、層間誘電体層６２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた側に設けられ、且つゲート２１２を覆い、ソース・ドレイン電極層２１３は、層間誘電体層６２のベース基板から離れた側に設けられ、ここで、ソース・ドレイン電極２１３は、ゲート絶縁層及び層間誘電体層を貫通するビアホールを介して活性層に電気的に接続される。ここで、図４に示すように、配線３０と第１画素回路２１との電気的接続は、配線３０とソース・ドレイン電極２１３との電気的接続により実現される。
【0029】
また、図４を参照すると、第１発光素子４１は、前記第１陽極４１１に加えて、発光層４１６及び陰極４１７を含む。いくつかの実施例において、第１発光素子４１は、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層及び電子注入層などの構造のうちの少なくとも１つをさらに含むことができるが、当業者は、実際の設計要求に応じて柔軟に選択すればよい。
【0030】
本発明の実施例によれば、図４及び図５を参照すると、配線３０は、第１ビアホール６４１を介して接続線５０に電気的に接続され、第１ビアホール６４１は、前記第１表示領域内に位置する。本発明の実施例によれば、図４及び図６を参照すると、前記ベース基板１０から離れた方向において、第１陽極４１１において、第１透明電極４１２、銀電極４１３及び第２透明電極４１４が順次に積層されており、接続線５０と前記第１透明電極４１２とは、一体構造であり、即ち、接続線５０は、前記第１透明電極４１２と同一の層に設けられ、且つ、同一のステップにより製造される。これにより、第１表示領域の光透過率を高めるだけでなく、アンダーディスプレーカメラにより撮影する時に発生したギラツキや回折などの不具合を効果的に緩和することができる。
【0031】
また、図４及び図１１を参照すると、表示パネルは、画素定義層６５をさらに含み、画素定義層６５は、第２絶縁層６４のベース基板から離れた表面に設けられ、且つ複数の開口を限定し、ここで、第１発光素子及び第２発光素子は、前記開口内に設けられる。
【0032】
本発明の実施例によれば、図５を参照すると、第１陽極４１１は、前記有効発光陽極領域４１１１と、前記有効発光陽極領域４１１１を取り囲む非発光陽極領域４１１２と、を含み、ベース基板における前記有効発光陽極領域４１１１の正投影は、前記ベース基板における、前記第１発光素子における画素定義層６５により限定される開口６５１の正投影よりも大きいか同じであり、前記非発光陽極領域４１１２は、前記画素定義層により覆われている。いくつかの実施例において、非発光陽極領域の構造も順次に設けられる第１透明電極４１２、銀電極４１３及び第２透明電極４１４を含み、即ち、有効発光陽極領域４１１１の構造と同じである。他の実施例において、非発光陽極領域４１１２は、前記第１透明電極４１２のみを含み、即ち、製造過程において、エッチングにより接続線の上層の銀電極４１３及び第２透明電極４１４を除去する場合、非発光陽極領域４１１２に対応する銀電極４１３及び第２透明電極４１４も除去され、第１透明電極４１２のみを残し、構造模式図は、図７を参照することができる。
【0033】
本発明の実施例によれば、接続線、第１透明電極、第２透明電極及び配線の材料は特に限定されないが、当業者は、実際の状況に応じて柔軟に選択可能である。いくつかの実施例において、接続線、第１透明電極、第２透明電極及び配線の材料は、それぞれ独立にＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明導電材料である。
【0034】
本発明の実施例によれば、図４を参照すると、表示パネルは、前記第１画素回路（図４において、第１絶縁層６３はソース・ドレイン電極２１３のベース基板から離れた側に設けられる）の前記ベース基板１０から離れた側に設けられ、且つ前記第１絶縁層６３を貫通する第２ビアホール６３１を有する第１絶縁層６３と、前記第１絶縁層６３の前記ベース基板１０から離れた側に設けられ、前記配線３０を覆い、且つ、前記第２絶縁層６４を貫通する前記第１ビアホール６４１を有する第２絶縁層６４と、をさらに含み、ここで、前記配線３０は、前記第１絶縁層６３のベース基板１０から離れた側に設けられ、且つ、前記配線３０は、前記第２ビアホール６３１を介して前記第１画素回路２１（ソース・ドレイン電極２１３）に電気的に接続され、前記接続線５０は、前記第２絶縁層６４のベース基板１０から離れた側に設けられ、且つ第１ビアホール６４１を介して配線３０に電気的に接続される。
【0035】
本発明の実施例によれば、図９を参照すると、複数の前記第１ビアホール６４１は、複数行で並んで設けられており、前記配線３０は、隣接する２行の前記第１ビアホール６４１の間に位置する。これにより、配線３０のレイアウトを合理的に配置し、限られたスペース内でより多くの配線３０を配置するのに有利である。ここで、図９から分かるように、第１陽極４１１と当該第１陽極に電気的に接続される配線３０との間に重畳領域を有してもよく、重畳領域を有しなくてもよい。具体的に、図９におけるｍ－ｍ’に沿う断面図は、図１０を参照することができ、ベース基板における第１陽極４１１の正投影とベース基板における当該第１陽極に電気的に接続される配線３０の正投影とは、重畳領域を有しなく、即ち、この配線３０は、第１ビアホール６４１を介して接続線５０に電気的に接続されてから、当該第１陽極４１１から離れた方向に延びて配置される。図９におけるｎ－ｎ’に沿う断面図は、図１１を参照することができ、ベース基板における第１陽極４１１の正投影とベース基板における当該第１陽極に電気的に接続される配線３０の正投影とは、一部の重畳領域を有し、即ち、この配線３０は、第１ビアホール６４１を介して接続線５０に電気的に接続されてから、当該第１陽極４１１に近づく方向に延びて配置される。
【0036】
本発明の実施例によれば、図３、図１２及び図１３を参照すると、表示パネルは、複数の第２画素回路２２及び複数の第２発光素子４２をさらに含み、且つ、前記第２画素回路２２及び前記第２発光素子４２は、いずれも前記第２表示領域ｂ内に位置する。いくつかの実施例において、図１２に示すように、前記第２画素回路２２は、第１絶縁層６３及び第２絶縁層６４を貫通する第３ビアホール６４３を介して前記第２発光素子４２における第２陽極４２１に直接に電気的に接続されることにより、前記第２発光素子を駆動して発光させる。他の実施例において、図１３に示すように、表示パネルは、導電層７０をさらに含み、導電層７０は、配線３０と同一の層に設けられ（即ち、導電層７０は、配線３０と同一の材料且つ同期のプロセスにより形成される）、第２陽極４２１は、導電層７０を介して第２画素回路２２に電気的に接続され、即ち、第２陽極４２１は、第２絶縁層６４を貫通する第４ビアホール６４４を介して導電層に電気的に接続され、導電層７０は、また、第１絶縁層６３を貫通する第５ビアホール６３５を介して第２画素回路に電気的に接続されることにより、第２画素回路と第２陽極との電気的接続を実現し、これにより、第２画素回路は、第２発光素子を駆動して発光させる。
【0037】
また、図１２及び図１３を参照すると、第２発光素子４２は、前記第２陽極４２１に加えて、発光層４２２及び陰極４２３を含む。いくつかの実施例において、第２発光素子４２は、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層及び電子注入層などの構造のうちの少なくとも１つをさらに含んでもよいが、当業者は、実際の設計要求に応じて柔軟に選択すればよい。
【0038】
ここで、図１２及び図１３を参照すると、第２画素回路２２は、活性層２２１、ゲート電極２２２、ソース・ドレイン電極２２３などの構造を含み、ここで、活性層２２１は、ベース基板１０の一方側に設けられ、ゲート絶縁層６１は、活性層２２１を覆い、ゲート２２２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた表面に設けられ、層間誘電体層６２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた側に設けられ、且つゲート２２２を覆い、ソース・ドレイン電極層２２３は、層間誘電体層６２のベース基板から離れた側に設けられ、ここで、ソース・ドレイン電極２２３は、ゲート絶縁層及び層間誘電体層を貫通するビアホールを介して活性層に電気的に接続され、且つ、図１２及び図１３に示すように、第２画素回路におけるソース・ドレイン電極２２３は、第２陽極４２１に電気的に接続される。
【0039】
いくつかの実施例において、図３を参照すると、第１画素回路２１及び第２画素回路２２は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにおいてアレイ状に分布される。ここで、第２表示領域内の輝度を均一にすることを確保するために、複数の第１画素回路２１及び第２画素回路２２は、均一に分散して設けられてもよく、具体的な設置方式については、当業者は、画素ユニットの配列などの具体的な状況に応じて柔軟に選択可能であるが、ここでは特に限定しない。
【0040】
本発明の実施例によれば、第１陽極と第２陽極の形状は一致している。これにより、第１陽極に突起部を設ける必要がなくなり、第１陽極と第２陽極の形状を一致させることにより、第１発光素子の発光効率を効果的に確保するだけでなく、第１表示領域が高い光透過率を有することを効果的に確保することができる。当業者は、異なる色の発光素子の陽極の形状が異なる可能性があり、即ち、青色発光素子、赤色発光素子及び緑色発光素子の陽極の形状が異なるので、上記「第１陽極と第２陽極の形状は一致している」とは、第１表示領域及び第２表示領域とで同色の発光素子における陽極の形状が同じであることを意味し、即ち、第１表示領域内の赤色発光素子における第１陽極と第２表示領域内の赤色発光素子における第２陽極の形状は同じであり、第１表示領域内の青色発光素子における第１陽極と第２表示領域内の青色発光素子における第２陽極の形状は同じであり、第１表示領域内の緑色発光素子における第１陽極と第２表示領域内の緑色発光素子における第２陽極の形状は同じであることを理解することができる。
【0041】
なお、プロセスなどの要因により、第１陽極と第２陽極の形状を完全に一致させることは困難であるので、第１陽極と第２陽極の形状がほぼ一致していれば、「第１陽極と第２陽極の形状は一致している」と考えられる。
【0042】
本発明の他の態様によれば、本発明は、前記表示パネルを製造する方法を提供する。本発明の実施例によれば、前記表示パネルの表示領域は、第１表示領域及び第２表示領域を含み、前記第１表示領域における画素密度は、前記第２表示領域における画素密度よりも小さい。図１４を参照すると、前記表示パネルを製造する方法は、以下のステップを含む。
【0043】
Ｓ１００：ベース基板１０の一方側に前記第２表示領域ｂ内に位置する複数の第１画素回路２１を形成する。
【0044】
ここで、第１画素回路２１の具体的な構造は特に限定されないが、当業者は、実際の状況に応じて柔軟に選択可能である。いくつかの実施例において、第１画素回路２１は、７Ｔ１Ｃ回路（即ち、７つのトランジスタ及び１つのキャパシタ）構造であり、例えば、駆動トランジスタ、データ書込みトランジスタ、蓄積キャパシタ、閾値補償トランジスタ、第１リセットトランジスタ、第２リセットトランジスタ、第１発光制御トランジスタ及び第２発光制御トランジスタを含む。第１画素回路１１の縦方向の構造も特に限定されず、いくつかの実施例において、図４を参照すると、第１画素回路２１は、活性層２１１、ゲート２１２、ソース・ドレイン電極２１３などの構造を含み、ここで、活性層２１１は、ベース基板１０の一方側に設けられ、ゲート絶縁層６１は、活性層２１１を覆い、ゲート電極２１２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた表面に設けられ、層間誘電体層６２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた側に設けられ、且つゲート電極２１２を覆い、ソース・ドレイン電極層２１３は、層間誘電体層６２のベース基板から離れた側に設けられ、ここで、ソース・ドレイン電極２１３は、ゲート絶縁層及び層間誘電体層を貫通するビアホールを介して活性層に電気的に接続される。
【0045】
本発明の実施例によれば、表示パネルを製造する方法は、第２表示領域内に第２画素回路２２を形成するステップ（図３及び図１２に示すように）をさらに含む。当業者は、第２画素回路が第１画素回路と同時に製造されることを理解することができる。図８を参照すると、第２画素回路２２は、活性層２２１、ゲート電極２２２、ソース・ドレイン電極２２３などの構造を含み、ここで、活性層２２１は、ベース基板１０の一方側に設けられ、ゲート絶縁層６１は、活性層２２１を覆い、ゲート電極２２２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた表面に設けられ、層間誘電体層６２は、ゲート絶縁層６１のベース基板から離れた側に設けられ、且つゲート電極２２２を覆い、ソース・ドレイン電極層２２３は、層間誘電体層６２のベース基板から離れた側に設けられ、ここで、ソース・ドレイン電極２２３は、ゲート絶縁層及び層間誘電体層を貫通するビアホールを介して活性層に電気的に接続される。
【0046】
また、図３を参照すると、第１画素回路２１及び第２画素回路２２は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにおいてアレイ状に分布される。ここで、第２表示領域内の輝度を均一にすることを確保するために、複数の第１画素回路２１及び第２画素回路２２は、均一に分散して設けられてもよく、具体的な設置方式については、当業者は、画素ユニットの配列などの具体的な状況に応じて柔軟に選択可能であるが、ここでは特に限定しない。
【0047】
Ｓ２００：前記第１画素回路２１の前記ベース基板１０から離れた側に前記第１画素回路２１に電気的に接続される配線３０を形成する。図１３に示すように、配線３０が第１画素回路２１に電気的に接続されることは、配線３０がソース・ドレイン電極層２１３に電気的に接続されることを指す。
【0048】
ここで、図１３に示すように、配線３０を形成する前に、予め第１画素回路２１のベース基板１０から離れた側に第１絶縁層材料を積層して形成し、第１絶縁材料層において第１絶縁材料層を貫通する第２ビアホール６３１を製造することにより、第２ビアホール６３１を有する第１絶縁層６３を形成する。ここで、配線３０は、第１絶縁層６３のベース基板１０から離れた側に位置し、且つ、配線３０は、第２ビアホール６３１を介して第１画素回路２１に電気的に接続される（ソース・ドレイン電極層２１３に電気的に接続される）。
【0049】
さらに、配線３０を形成した後、第１絶縁層６３のベース基板１０から離れた側に第２絶縁材料層を積層して形成し、第２絶縁材料層において第２絶縁材料層を貫通する第１ビアホール６４１を製造することにより、第１ビアホール６４１を有する第２絶縁層６４を形成し、即ち、配線３０が第１絶縁層６３と第２絶縁層６４との間に位置するステップをさらに含む。ここで、その後に形成される接続線５０は、第２絶縁層６４のベース基板１０から離れた側に設けられ、且つ第１ビアホール６４１を介して配線３０に電気的に接続される。
【0050】
Ｓ３００：配線３０のベース基板から離れた側に第１表示領域ａ内に位置する第１発光素子４１及び接続線５０を形成し、ベース基板１０から離れた方向において、第１発光素子４１における第１陽極４１１の有効発光陽極領域は、少なくとも２層の導電層を含み、前記少なくとも２層の導電層のうちの少なくとも１つは、第１透明電極４１２（図１３において、第１陽極４１１が順次に積層されている第１透明電極４１２、銀電極４１３及び第２透明電極４１４を含む場合を例とする）を含み、接続線５０は、第１透明電極４１２に電気的に接続され且つ同一のステップにより形成され、配線３０は、接続線５０に電気的に接続されることにより、第１画素回路２１は、第１発光素子４１を駆動して発光させる。
【0051】
ここで、いくつかの実施例において、図１３に示すように、第１発光素子４１及び接続線５０は、第２絶縁層６４のベース基板１０から離れた表面に形成され、接続線５０は、第２ビアホール６３１を介して配線３０に電気的に接続される。
【0052】
本発明の実施例によれば、接続線は、第１陽極における第１透明電極から引き出されて、配線に電気的に接続されることにより、第１画素回路と第１発光素子との電気的接続を実現するので、第１陽極に配線に電気的に接続されるための突起部を設ける必要がなくなり、このようにして、第１表示領域の光透過率をさらに向上させることができる。
【0053】
本発明の実施例によれば、図１５を参照すると、第１陽極４１１及び接続線５０を形成するステップは、以下のステップを含む。
【0054】
Ｓ３１０：第２絶縁層６４のベース基板１０から離れた表面に第１透明導電層４１２０、銀層４１３０及び第２透明導電層４１４０を順次に積層して形成する。
【0055】
Ｓ３２０：第２透明導電層４１４０の表面に位置する第１領域及び第２領域に第１フォトレジスト７１及び第２フォトレジスト７２をそれぞれ形成し、第１フォトレジスト７１の厚さは、第２フォトレジスト７２の厚さよりも大きい。当業者は、上記の第１領域が第２絶縁層６４の表面における形成すべき第１陽極の正投影と重なっており、第２領域が第２絶縁層６４の表面における形成すべき接続線５０の正投影と重なっていることを理解することができる。
【0056】
ここで、いくつかの具体的な実施例において、第１フォトレジスト７１及び第２フォトレジスト７２を形成するステップは、第２絶縁層６４の表面に同じ厚さのフォトレジスト層全体を形成し、その後、ハーフトーンマスク及びアッシングプロセスにより第１領域及び第２領域以外のフォトレジストを除去するとともに、第２領域に設けられたフォトレジストを薄くすることにより、第１フォトレジスト７１及び第２フォトレジスト７２を得るステップを含む。
【0057】
Ｓ３３０：第１フォトレジスト７１及び第２フォトレジスト７２により覆われていない第１透明導電層４１２０、銀層４１３０及び第２透明導電層４１４０を除去する。上記のステップにより第１陽極及び接続線の予備形状を得る。
【0058】
Ｓ３４０：第１フォトレジスト７１及び第２フォトレジスト７２に対してアッシング処理を行うことにより、第２フォトレジスト７２を除去するとともに、第１フォトレジスト７１を薄くする。いくつかの実施例において、アッシングプロセスにより第２フォトレジスト７２を除去するとともに、第１フォトレジスト７１を薄くすることができる。
【0059】
Ｓ３５０：エッチングプロセスにより第２領域での第２透明導電層４１４０及び前記銀層４１３０を除去し、前記第１透明導電層４１２０を残すことにより、前記接続線５０を得る。
【0060】
上記のステップにおいて、エッチング速度及びエッチング時間を制御することにより第２領域での第２透明導電層４１４０及び前記銀層４１３０を除去するとともに、第１透明導電層４１２０を残すことができる。ここで、具体的なエッチング速度及びエッチング時間については、当業者は、各層の構造の厚さ、材料などの実際の状況に応じて柔軟に選択可能であるが、ここでは特に限定しない。
【0061】
Ｓ３６０：薄くした前記第１フォトレジスト７１を除去して、前記第１陽極４１１を得る。
【0062】
本発明の実施例によれば、表示パネルを製造する方法は、以下のステップをさらに含む。図１３を参照すると、第２絶縁層６４のベース基板から離れた表面に画素定義層６５を形成し、第１陽極及び接続線を形成した後に画素定義層６５を形成し、且つ、画素定義層６５は、接続線５０および第１陽極４１１の一部を覆い、画素定義層６５は、複数の開口を限定し、発光素子は、前記開口内に設けられる。
【0063】
本発明の実施例によれば、図３、図１２及び図１３を参照すると、表示パネルを製造する方法は、前記第２表示領域ｂ内に位置する複数の第２発光素子４２を製造するステップをさらに含む。いくつかの実施例において、図１２に示すように、第２画素回路２２は、第１絶縁層６３及び第２絶縁層６４を貫通する第３ビアホール６４３を介して前記第２発光素子４２における第２陽極４２１に直接に電気的に接続されることにより、前記第２発光素子を駆動して発光させる。他の実施例において、図１３に示すように、表示パネルは、導電層７０をさらに含み、導電層７０は、配線３０と同一の層に設けられ（即ち、導電層７０は、配線３０と同一の材料且つ同期プロセスにより形成される）、第２陽極４２１は、導電層７０を介して第２画素回路２２に電気的に接続され、即ち、第２陽極４２１は、第２絶縁層６４を貫通する第１ビアホール６４１を介して導電層に電気的に接続され、導電層７０は、また、第１絶縁層６３を貫通する第２ビアホール６３１を介して第２画素回路に電気的に接続されることにより、第２画素回路と第２陽極との電気的接続を実現し、これにより、第２画素回路は、第２発光素子を駆動して発光させる。
【0064】
また、図１２及び図１３を参照すると、第２発光素子４２は、前記第２陽極４２１に加えて、発光層４２２及び陰極４２３を含む。いくつかの実施例において、第２発光素子４２は、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層及び電子注入層などの構造のうちの少なくとも１つをさらに含んでもよいが、当業者は、実際の設計要求に応じて柔軟に選択すればよい。
【0065】
本発明の実施例によれば、図４及び図５を参照すると、配線３０は、第１ビアホール６４１を介して接続線５０に電気的に接続され、第１ビアホール６４１は、前記第１表示領域内に位置する。本発明の実施例によれば、図４及び図６を参照すると、前記ベース基板１０から離れた方向において、第１陽極４１１において、第１透明電極４１２、銀電極４１３及び第２透明電極４１４が順次に積層されており、接続線５０と前記第１透明電極４１２とは、一体構造であり、即ち、接続線５０は、前記第１透明電極４１２と同一の層に設けられ、且つ、同一のステップにより製造される。これにより、第１表示領域の光透過率を高めるだけでなく、アンダーディスプレーカメラにより撮影する時に発生したギラツキや回折などの不具合を効果的に緩和することができる。
【0066】
また、図４及び図１２を参照すると、表示パネルは、画素定義層６５をさらに含み、画素定義層６５は、第２絶縁層６４のベース基板から離れた表面に設けられ、且つ複数の開口を限定し、ここで、第１発光素子及び第２発光素子は、前記開口内に設けられる。
【0067】
本発明の実施例によれば、図５を参照すると、第１陽極４１１は、前記有効発光陽極領域４１１１と、前記有効発光陽極領域４１１１を取り囲む非発光陽極領域４１１２と、を含み、ベース基板における前記有効発光陽極領域４１１１の正投影は、前記ベース基板における、前記第１発光素子における画素定義層６５により限定される開口６５１の正投影よりも大きいか同じであり、前記非発光陽極領域４１１２は、前記画素定義層により覆われている。いくつかの実施例において、非発光陽極領域の構造も順次に設けられる第１透明電極４１２、銀電極４１３及び第２透明電極４１４を含み、即ち、有効発光陽極領域４１１１の構造と同じである。他の実施例において、非発光陽極領域４１１２は、前記第１透明電極４１２のみを含み、即ち、製造過程において、エッチングにより接続線の上層の銀電極４１３及び第２透明電極４１４を除去する場合、非発光陽極領域４１１２に対応する銀電極４１３及び第２透明電極４１４も除去され、第１透明電極４１２のみを残し、構造模式図は、図７を参照することができる。
【0068】
当業者は、第２発光素子が第１発光素子と同期して製造され、即ち、第１陽極も第２発光素子における第２陽極と同期して製造されることを理解することができる。
【0069】
本発明の別の態様によれば、本発明は、表示装置を提供する。本発明の実施例によれば、この表示装置は、表示領域が第１表示領域及び第２表示領域を含む前記表示パネルと、アンダーディスプレー機能層と、を含み、前記表示パネルにおける前記アンダーディスプレー機能層の正投影と前記第１表示領域とは、重畳領域を有し、又は、前記表示パネルにおけるアンダーディスプレー機能層の正投影は、アンダーディスプレー機能領域と重なっている。これにより、この表示装置では、アンダーディスプレー機能層の高入光量に対する要求を満たすことができる。アンダーディスプレー機能層がアンダーディスプレーカメラである場合、アンダーディスプレーカメラは、良好な入光量を有し、さらにその高い撮影品質を確保する。当業者は、この表示装置は前記表示パネルのすべての特徴と利点を有することを理解することができるが、ここでは詳細な説明を省略する。
【0070】
本発明の実施例によれば、上記の表示装置の具体的な種類は特に限定されないが、当業者は、実際の状況に応じて柔軟に選択可能である。いくつかの実施例において、表示装置の具体的な種類は、携帯電話、ノートパソコン、ｋｉｎｄｌｅ、ｉＰａｄ（登録商標）、テレビ、ゲーム機などの表示機能を有するすべての表示装置を含むが、これらに限定されない。
【0071】
当業者は、この表示装置には、前述の表示パネルのほか、通常の表示装置に必要な構造や部品が含まれており、携帯電話を例とすると、前記表示パネルのほか、ガラスカバープレート、電池バックカバー、中間フレーム、マザーボード、タッチモジュール、オーディオモジュール、撮像モジュールなどの必要な構造や部品が含まれることを理解することができる。
【0072】
本明細書の記述において、用語「一実施例」、「いくつかの実施例」、「例」、「具体的な例」、「いくつかの例」などの記述とは、この実施例又は例を組み合わせて説明された特定の特徴、構造、材料又は特点が本発明の少なくとも１つの実施例又は例に含まれることを意味する。本明細書において、上記の用語の例示的な表現は、必ずしも同じ実施例または例を対象とする必要はない。また、記載された特定の特徴、構造、材料又は特点は、適切な方式でいかなる１つ又は複数の実施例又は一例に組み合わせることができる。なお、当業者は、本明細書に記載の異なる実施例または例と、異なる実施例または例の特徴とを、互いに矛盾しない限り、結合する又は組み合わせることができる。
【0073】
以上、本発明の実施例を図示および説明したが、上記の実施例は、例示的なものであり、本発明に対する制限として理解することはできず、当業者は、本発明の範囲内で上記の実施例に対して変更、修正、置換及び変形を行うことができる。
【符号の説明】
【0074】
ａ 第１表示領域
ｂ 第２表示領域
ｃ 第３表示領域
ｅ アンダーディスプレー機能領域
１０ ベース基板
２１ 第１画素回路
２１１ 活性層
２１２ ゲート電極
２１３ ソース・ドレイン電極
２２ 第２画素回路
２２１ 活性層
２２２ ゲート電極
２２３ ソース・ドレイン電極
３０ 配線
４１ 第１発光素子
４１１ 第１陽極
４１１１ 突起部、有効発光陽極領域
４１１２ 非発光陽極領域
４１２ 第１透明電極
４１３ 銀電極
４１４ 第２透明電極
４１２０ 第１透明導電層
４１３０ 銀層
４１４０ 第２透明導電層
４１６ 発光層
４１７ 陰極
４２１ 第２陽極
５０ 接続線
６１ ゲート絶縁層
６２ 層間誘電体層
６３ 第１絶縁層
６３１ 第２ビアホール
６３５ 第５ビアホール
６４ 第２絶縁層
６４１ 第１ビアホール
６４３ 第３ビアホール
６４４ 第４ビアホール
６５ 画素定義層
６５１ 開口
７０ 導電層
７１ 第１フォトレジスト
７２ 第２フォトレジスト
ｂ 第２表示領域
ｃ 第３表示領域
ｅ アンダーディスプレー機能領域
１０ ベース基板
２１ 第１画素回路
２１１ 活性層
２１２ ゲート電極
２１３ ソース・ドレイン電極
２２ 第２画素回路
２２１ 活性層
２２２ ゲート電極
２２３ ソース・ドレイン電極
３０ 配線
４１ 第１発光素子
４１１ 第１陽極
４１１１ 突起部、有効発光陽極領域
４１１２ 非発光陽極領域
４１２ 第１透明電極
４１３ 銀電極
４１４ 第２透明電極
４１２０ 第１透明導電層
４１３０ 銀層
４１４０ 第２透明導電層
４１６ 発光層
４１７ 陰極
４２１ 第２陽極
５０ 接続線
６１ ゲート絶縁層
６２ 層間誘電体層
６３ 第１絶縁層
６３１ 第２ビアホール
６３５ 第５ビアホール
６４ 第２絶縁層
６４１ 第１ビアホール
６４３ 第３ビアホール
６４４ 第４ビアホール
６５ 画素定義層
６５１ 開口
７０ 導電層
７１ 第１フォトレジスト
７２ 第２フォトレジスト
【図1】
【図2(A)】
【図2(B)】
【図2(C)】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【国際調査報告】