特表2023-549863多層真空電子デバイスおよび製造方法

発明の名称　多層真空電子デバイスおよび製造方法

出願人　エルヴ・インコーポレーテッド　（識別番号 523178042）

　　　　特許公開件数ランキング 3236 位（5件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25131 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2023-549863

公報発行日　2023年11月29

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2023-549863

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