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特表2023-554318Ｃｕ及びＦｅを含む低Ｎ２ＯのＳＣＲ触媒を製造するための方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2023-12-27
(54)【発明の名称】Ｃｕ及びＦｅを含む低Ｎ２ＯのＳＣＲ触媒を製造するための方法
(51)【国際特許分類】
B01J 29/76 20060101AFI20231220BHJP
B01J 37/30 20060101ALI20231220BHJP
B01J 37/04 20060101ALI20231220BHJP
B01J 37/08 20060101ALI20231220BHJP
B01J 37/02 20060101ALI20231220BHJP
B01D 53/94 20060101ALI20231220BHJP
F01N 3/08 20060101ALI20231220BHJP
F01N 3/10 20060101ALI20231220BHJP
F01N 3/24 20060101ALI20231220BHJP
F01N 3/035 20060101ALI20231220BHJP
F01N 3/023 20060101ALI20231220BHJP
【ＦＩ】
B01J29/76 A
B01J37/30 ZAB
B01J37/04 102
B01J37/08
B01J37/02 301C
B01D53/94 222
B01D53/94 228
B01D53/94 243
B01D53/94 280
F01N3/08 B
F01N3/10 A
F01N3/24 C
F01N3/24 E
F01N3/035 A
F01N3/023 A
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023535365
(86)(22)【出願日】2021-12-08
(85)【翻訳文提出日】2023-08-03
(86)【国際出願番号】 EP2021084733
(87)【国際公開番号】W WO2022122799
(87)【国際公開日】2022-06-16
(31)【優先権主張番号】20212706.4
(32)【優先日】2020-12-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】505470786
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(74)【代理人】
【識別番号】100167106
【弁理士】
【氏名又は名称】倉脇 明子
(74)【代理人】
【識別番号】100194135
【弁理士】
【氏名又は名称】山口 修
(74)【代理人】
【識別番号】100206069
【弁理士】
【氏名又は名称】稲垣 謙司
(74)【代理人】
【識別番号】100185915
【弁理士】
【氏名又は名称】長山 弘典
(72)【発明者】
【氏名】ヤング，ジェフ エイチ．
(72)【発明者】
【氏名】シュエ，ウェン－メイ
(72)【発明者】
【氏名】ロト，スタンリー エー．
【テーマコード（参考）】
3G091
3G190
4D148
4G169
【Ｆターム（参考）】
3G091AA18
3G091AB02
3G091AB05
3G091AB13
3G091BA14
3G091CA17
3G091GB01W
3G091GB09W
3G091GB10W
3G091HA08
3G190AA12
3G190BA17
3G190CB12
3G190CB13
4D148AA06
4D148AA08
4D148AA13
4D148AA18
4D148AB01
4D148AB02
4D148AB09
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4D148BA35X
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4D148DA03
4D148DA11
4G169AA03
4G169AA08
4G169AA09
4G169BA05B
4G169BA07A
4G169BA07B
4G169BA07C
4G169BC17A
4G169BC18A
4G169BC31A
4G169BC31B
4G169BC31C
4G169BC66A
4G169BC66B
4G169BC66C
4G169BD03A
4G169CA03
4G169CA08
4G169CA13
4G169DA06
4G169EA19
4G169FA01
4G169FA06
4G169FB06
4G169FB15
4G169FB30
4G169FC02
4G169FC08
4G169ZA03A
4G169ZA06A
4G169ZA11A
4G169ZA13A
4G169ZA14A
4G169ZA14B
4G169ZA19A
4G169ZA32A
4G169ZA37A
4G169ZD01
4G169ZF02A
4G169ZF05A
4G169ZF05B
4G169ZF07A
(57)【要約】
本発明は、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の調製方法に関するものである。窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の調製方法は、
（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む。さらに、本発明は、本発明の方法により得られた窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒及びその使用方法に関するものである。さらに、本発明は、内燃機関から出る排ガスを処理するための排ガス処理システムであって、本発明による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を含むシステムに関する。最後に、本発明は、本発明による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を用いる、窒素酸化物の選択的接触還元のための方法に関する。
（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む。さらに、本発明は、本発明の方法により得られた窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒及びその使用方法に関するものである。さらに、本発明は、内燃機関から出る排ガスを処理するための排ガス処理システムであって、本発明による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を含むシステムに関する。最後に、本発明は、本発明による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を用いる、窒素酸化物の選択的接触還元のための方法に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を調製するための方法であって、（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む方法。
【請求項2】
前記ゼオライト材料が、ＬＴＡ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＳＡＶ、ＳＦＷ、ＴＳＣ、ＦＡＵ、ＭＦＩ、ＢＥＡ、ＦＥＲ、ＭＯＲ、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、及びＡＦＸ、及びさらにこれらの２つ以上の混合構造からなる群から選択される骨格型構造を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
工程（３）で調製されたスラリーに含まれる鉄の総量と、工程（３）で調製されたスラリーに含まれるＣｕイオン交換ゼオライト材料に含有される銅の総量とのＦｅ：Ｃｕモル比が、０．１～１５の範囲に含まれる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項4】
工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料が、ＣｕＯとして計算されるＣｕを、Ｃｕイオン交換ゼオライト材料中のＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、及びＣｕＯとして計算されるＣｕ１００質量％に対して、０．１～８質量％の範囲の量で含有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
工程（３）で得られたスラリーが、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるＦｅを、か焼スラリー１００質量％に対して０．１～８質量％の範囲の量で含有する、請求項４に記載の方法。
【請求項6】
Ｘが、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択される、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
工程（１）で提供されたゼオライト材料が、ＳｉＯ２：Ｘ２Ｏ３のモル比を１～２００の範囲に示す、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
工程（３）で調製されたスラリーが１つ以上のバインダーさらに含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
請求項１から８のいずれか一項に記載の方法により得られた窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒。
【請求項10】
内燃機関から出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムであって、請求項９に記載の窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒と、ディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、選択的接触還元触媒、触媒化すすフィルタ及びＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒のうちの１つ以上とを含む、システム。
【請求項11】
ディーゼル酸化触媒と、触媒化すすフィルタと、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒とを含む請求項１０に記載のシステムであって、前記ディーゼル酸化触媒が前記触媒化すすフィルタの上流に位置し、前記触媒化すすフィルタが前記窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置するシステム。
【請求項12】
ディーゼル酸化触媒と、触媒化すすフィルタと、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒とを含む請求項１０に記載のシステムであって、前記ディーゼル酸化触媒が前記窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、そして前記窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒が前記触媒化すすフィルタの上流に位置する、システム。
【請求項13】
窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒と、触媒化すすフィルタとを含む請求項１０に記載のシステムであって、前記窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒が前記触媒化すすフィルタの上流に位置する、システム。
【請求項14】
窒素酸化物の選択的接触還元のための方法であって、前記窒素酸化物が排気ガス流中に含まれており、（１） 前記排気ガス流を提供すること、
（２） （１）で提供された排気ガス流を、請求項９に記載の選択的接触還元用の触媒、又は請求項１０から１３のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムに通すこと
を含む方法。
【請求項15】
請求項９に記載の触媒又は請求項１０から１３のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムを、窒素酸化物の選択的接触還元に使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を調製するための方法、及び本発明の方法により得られた窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒、及びその使用方法に関するものである。さらに、本発明は、内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムに関し、このシステムは、本発明による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を含む。最後に、本発明は、本発明による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を用いる、窒素酸化物の選択的接触還元の方法に関する。
【背景技術】
【0002】
傾向として、最新の大型ディーゼルエンジンのＮＯｘエンジンアウト排出は、より燃料効率の高いエンジンが作られているために増加し、そして同時に、後処理システムのＮＯｘ転化率の要求も高まる。一部のエンジンでは、９５％を超えるＮＯｘ転化率がすでに義務付けられている。同時に、亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）の目標値が０．１～０．１４ｇ／ｋＷｈの範囲にあるため、その達成はより困難になっている。従って、ＮＯｘ転化率が高く、Ｎ２Ｏ形成量が中程度から少ない（０．１ｇ／ｋＷｈ未満）ＳＣＲ触媒は、市場の要求に応えるために必須のようである。
【0003】
１つの触媒システムにおけるＦｅ－ゼオライトとＣｕ－ゼオライトの組み合わせが、この最適化要件に対処できることはよく知られている。例えば、ＷＯ２０１６／０７００９０Ａ１は、銅で促進された第１モレキュラーシーブ、及び鉄で促進された第２モレキュラーシーブを含む触媒物品を開示している。ＵＳ２０１１／０３０５６１４Ａ１も、触媒、特にＣｕ－ＣＨＡとＦｅ－ＭＦＩの混合物を含む選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒を開示している。最後に、ＷＯ２０１７／１５３８９４Ａ１は、少なくとも１つのさらなる金属、好ましくはＡｌでイオン交換された金属イオン交換モレキュラーシーブ、Ｃｕ－ＣＨＡを開示している。
【0004】
一方で、ＷＯ２０１５／１０１９３０Ａ１は、ＢＥＡ型骨格構造を有する二金属交換されたゼオライト材料を調製するための方法に関し、この方法は、銅とのイオン交換の最初の工程と、それに続く鉄とのイオン交換工程を含む。同様に、ＷＯ２０１７／１３４５８１Ａ１は、鉄及び銅と二金属交換されたＣＨＡ型骨格構造を有するゼオライトを調製するための方法を開示しており、二金属交換されたゼオライトは、続いてＳＣＲウォッシュコートの調製に用いられる。
【0005】
ＷＯ２０１８／１０７１８Ａは、Ｃｕイオン交換ゼオライトか、又はＦｅイオン交換ゼオライトを調製するためのスラリー内イオン交換方法に関する。
【0006】
このような開発の現状から、向上したＮＯｘ転化活性を示すと同時に、特に長期間の使用による経年後にＮ２Ｏ排出を増加させない触媒に対する必要性が残っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】ＷＯ２０１６／０７００９０Ａ１
【特許文献2】ＵＳ２０１１／０３０５６１４Ａ１
【特許文献3】ＷＯ２０１７／１５３８９４Ａ１
【特許文献4】ＷＯ２０１５／１０１９３０Ａ１
【特許文献5】ＷＯ２０１７／１３４５８１Ａ１
【特許文献6】ＷＯ２０１８／１０７１８Ａ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明の目的は、標準的なＳＣＲ及び高速ＳＣＲのガス供給条件の両方で高いＮＯｘ転化レベルを維持しながらＮ２Ｏ排出を著しく低減することができる選択的接触還元触媒、及びこのような触媒性能を呈する選択的接触還元触媒の調製方法を提供することである。驚くべきことに、触媒の調製中に銅イオン交換ゼオライトのスラリーに鉄を加えることによって、特により高い銅の担持量をゼオライトに使用した場合に、Ｎ２Ｏ生成が低下することが見出された。さらに、極めて意外にも、本発明によれば、より低い銅の担持量を銅イオン交換ゼオライト中に使用した場合、触媒の調製中にスラリーに鉄を加えることによって、非常に低いＮ２Ｏ生成を増加させることなく、得られた触媒のＮＯｘ転化を促進されることが見出された。特に、極めて驚くべきことに、銅イオン交換ゼオライトのスラリーに鉄を加えることによって、銅イオン交換ゼオライト中の銅の量が低減でき、それにもかかわらず予想されていたように得られた触媒のＮＯｘ転化活性を犠牲にすることなく、より低いＮ２Ｏ生成が達成されることが見出された。その結果、非常に意外にも、本発明は特に高速ＳＣＲ条件下で、高いＮＯｘ変換と低いＮ２Ｏ生成の間の最適なバランスを提供できることが見出された。
【課題を解決するための手段】
【0009】
従って、本発明は、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を調製するための方法に関し、該方法は、
（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む。
（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本発明によれば、ゼオライト材料が、ＬＴＡ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＳＡＶ、ＳＦＷ、ＴＳＣ、ＦＡＵ、ＭＦＩ、ＢＥＡ、ＦＥＲ、ＭＯＲ、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、及びＡＦＸ、及びさらにこれらの２つ以上の混合構造からなる群から、より好ましくは、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、及びＡＦＸ、及びさらにこれらの２つ以上の混合構造からなる群から選択される骨格型構造を有することが好ましく、より好ましくは、ゼオライト材料はＣＨＡ及び／又はＡＥＩ型の骨格型構造、好ましくはＣＨＡ型の骨格構造を有する。
【0011】
本発明によれば、工程（３）で調製されたスラリーに含まれる鉄の総量と、工程（３）で調製されたスラリーに含まれるＣｕイオン交換ゼオライト材料に含有される銅の総量とのＦｅ：Ｃｕモル比が、０．１～１５の範囲、より好ましくは０．５～１０、より好ましくは０．８～７、より好ましくは１～５、より好ましくは１．５～４、より好ましくは２～３．５、より好ましくは２．５～３．２、より好ましくは２．７～３、及びより好ましくは２．８～２．９に含まれることが好ましい。
【0012】
本発明によれば、工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料が、ＣｕＯとして計算されるＣｕを、Ｃｕイオン交換ゼオライト材料中のＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、及びＣｕＯとして計算されるＣｕ１００質量％に対して、０．１～８質量％の範囲、より好ましくは０．３～５質量％、より好ましくは０．５～３．５質量％、より好ましくは０．８～２．４質量％、より好ましくは１．０～１．８質量％、及びより好ましくは１．２～１．４質量％の量で含有することが好ましい。
【0013】
本発明によれば、工程（５）で得られた触媒が、ＣｕＯとして計算されるＣｕを、５～１５０ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは１５～１００ｇ／ｆｔ３、より好ましくは２５～７０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは３５～５０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは４０～４６ｇ／ｆｔ３、及びより好ましくは４３～４４ｇ／ｆｔ３の量で含有することが好ましい。
【0014】
本発明によれば、工程（３）で得られたスラリーが、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるＦｅを、か焼スラリー１００質量％に対して０．１～８質量％の範囲、より好ましくは０．５～７質量％、より好ましくは１～６質量％、より好ましくは１．５～５質量％、より好ましくは２～４．５質量％、より好ましくは２．５～４質量％、より好ましくは３～３．６質量％、及びより好ましくは３．２～３．４質量％の量で含有することが好ましい。
【0015】
本発明によれば、工程（５）で得られた触媒が、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるＦｅを、５～４００ｇ／ｆｔ３の範囲、より好ましくは１０～３００ｇ／ｆｔ３、より好ましくは３０～２５０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは５０～２００ｇ／ｆｔ３、より好ましくは８０～１７０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは１００～１５０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは１１０～１３５ｇ／ｆｔ３、及びより好ましくは１２０～１２５ｇ／ｆｔ３の量で含有することが好ましい。
【0016】
本発明によれば、Ｘが、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から、より好ましくは、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択されることが好ましく、より好ましくは、ＸはＡｌ及び／又はＢを表し、Ｘは好ましくはＡｌである。
【0017】
本発明によれば、工程（１）で提供されたゼオライト材料が、ＳｉＯ２：Ｘ２Ｏ３のモル比を、１～２００の範囲、より好ましくは５～１２０、より好ましくは１０～８０、より好ましくは１５～５０、より好ましくは２０～４０、より好ましくは２５～３５、及びより好ましくは２８～３０に示すことが好ましい。
【0018】
本発明によれば、工程（１）で提供されたゼオライト材料が、元素として計算される銅を多くとも１０００ｐｐｍ、より好ましくは０～１００ｐｐｍ、及びより好ましくは０～１０ｐｐｍ含むことが好ましい。
【0019】
本発明によれば、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物が、ＣｕＯ、銅（ＩＩ）クロリド、銅（ＩＩ）ブロミド、銅（ＩＩ）ペルクロラート、銅（ＩＩ）スルフィット、銅（ＩＩ）ヒドロゲンスルフェート、銅（ＩＩ）スルフェート、銅（ＩＩ）ニトリット、銅（ＩＩ）ニトラート、銅（ＩＩ）ジヒドロゲンホスフェート、銅（ＩＩ）ヒドロゲンホスフェート、銅（ＩＩ）ホスフェート、銅（ＩＩ）ヒドロゲンカーボネート、銅（ＩＩ）カーボネート、銅（ＩＩ）アセテート、銅（ＩＩ）シトラート、銅（ＩＩ）マロネート、銅（ＩＩ）オキサラート、銅（ＩＩ）タートラート、及びこれらの２つ以上の混合物からなる群から、より好ましくはＣｕＯ、銅（ＩＩ）クロリド、銅（ＩＩ）スルフェート、銅（ＩＩ）ニトラート、銅（ＩＩ）アセテート、及びこれらの２つ以上の混合物からなる群から選択されることが好ましく、より好ましくは銅（ＩＩ）含有化合物はＣｕＯである。
【0020】
本発明によれば、工程（２）のイオン交換は、１つ以上の溶媒を含む溶媒系で行うことが好ましく、前記１つ以上の溶媒は、好ましくは、水、有機溶媒、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、アルコール、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、メタノール、エタノール、プロパノール、及びこれらの混合物からなる群から選択され、より好ましくは、１つ以上の溶媒は水を含み、そしてより好ましくは、脱イオン水を溶媒系として使用する。
【0021】
本発明によれば、工程（２）のイオン交換は、２０～１００℃の範囲、より好ましくは３０～９０℃、より好ましくは４０～８０℃、より好ましくは５０～７０℃、及びより好ましくは５５～６５℃の温度で行うことが好ましい。
【0022】
本発明によれば、工程（２）のイオン交換は、０．１５～１０時間の範囲、より好ましくは０．２５～５時間、より好ましくは０．５～３時間、及びより好ましくは０．７５～１．５時間の期間で行うことが好ましい。
【0023】
本発明によれば、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物が、鉄スルフェート、鉄スルフィット、鉄ヒドロゲンスルフェート、鉄クロリド、鉄ブロミド、鉄ヨージド、鉄フルオリド、鉄ペルクロラート、鉄ニトラート、鉄ニトリット、鉄ホスフェート、鉄ジヒドロゲンホスフェート、鉄ヒドロゲンホスフェート、鉄カーボネート、鉄ヒドロゲンカーボネート、鉄アセテート、鉄シトラート、鉄マロネート、鉄オキサラート、鉄タートラート、ヘキサシアノフェラート塩、フェロセン、及びフェロセニウム塩、及びさらにこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から、より好ましくは鉄（ＩＩＩ）ニトラート、鉄（ＩＩ）アセテート、アンモニウム鉄（ＩＩＩ）シトラート、鉄（ＩＩ）スルフェート、及び鉄（ＩＩ）オキサラート、及びさらにこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択されることが好ましく、より好ましくは、鉄（ＩＩＩ）ニトラート及び／又は鉄（ＩＩ）アセテートを１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物として用いる。
【0024】
本発明によれば、工程（３）の溶媒系が１つ以上の溶媒を含むことが好ましく、前記１つ以上の溶媒は、好ましくは、水、有機溶媒、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、アルコール、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、メタノール、エタノール、プロパノール、及びこれらの混合物からなる群から選択され、より好ましくは、１つ以上の溶媒は水を含み、そしてより好ましくは、脱イオン水を溶媒系として使用する。
【0025】
本発明によれば、工程（３）で得られたスラリーが、スラリー１００質量％に対して１５～７５質量％、より好ましくは２０～６５質量％、より好ましくは２５～６０質量％、より好ましくは３０～５５質量％、より好ましくは３３～５０質量％、より好ましくは３５～４５質量％、及びより好ましくは３８～４２質量％の固形分含量を示すことが好ましい。
【0026】
本発明によれば、工程（３）で調製されたスラリーが、１つ以上のバインダー、より好ましくはＡｌ、Ｓｉ、及び／又はＺｒ、好ましくはＡｌ及び／又はＺｒ、及びより好ましくはＺｒをベースとする１つ以上のバインダーをさらに含むことが好ましく、より好ましくは、工程（３）で調製されたスラリーは、バインダーとしてＺｒＯ２の１つ以上の源をさらに含有し、ＺｒＯ２の１つ以上の源は、好ましくは、１つ以上のジルコニウム塩、より好ましくはジルコニルクロリド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムアセチルアセトナート、ジルコニウムヒドロキシド、ジルコニウムオキシニトラート、ジルコニウムカーボネート、及びジルコニウムオキシクロリド、及びさらにこれらの２つ以上の混合物からなる群から、より好ましくはジルコニウムアセテート、ジルコニウムアセチルアセトナート、ジルコニウムヒドロキシド、及びジルコニウムカーボネート、及びさらにこれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される、１つ以上のジルコニウム塩を含み、より好ましくは、１つ以上のジルコニウム塩はジルコニウムアセテートを含み、より好ましくは、工程（３）で調製されたスラリーは、バインダーとしてジルコニウムアセテートをさらに含む。前記特定の好ましい実施形態によれば、スラリーが、１つ以上のバインダーを、か焼スラリー１００質量％に対して０．５～１５質量％の範囲、より好ましくは１～１０質量％、より好ましくは３～７質量％、より好ましくは４～６質量％、及びより好ましくは４．５～５．５質量％の量で含むことが好ましい。
【0027】
本発明によれば、工程（３）で調製されたスラリーが１つ以上の緩衝剤をさらに含むことが好ましく、１つ以上の緩衝剤は、好ましくはアンモニウムアセテートを含み、より好ましくは、アンモニウムアセテートを１つ以上の緩衝剤として用いる。前記特定の好ましい実施形態によれば、工程（３）で調製されたスラリーのｐＨを、１つ以上の緩衝剤を用いてｐＨ３～６の範囲、より好ましくはｐＨ３．５～５．５の範囲、好ましくは３．８～５．２、より好ましくは４．１～４．９、より好ましくは４．３～４．７、及びより好ましくは４．４～４．６に調整することがさらに好ましい。
【0028】
本発明によれば、工程（４）のスラリーのコーティングの前に、工程（３）で得られたスラリーを５～６０℃の範囲、より好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは１５～４５℃の範囲、より好ましくは１８～３０℃の範囲、及びより好ましくは２０～２５℃の範囲の温度に維持することが好ましい。前記特定の好ましい実施形態によれば、スラリーをその温度に０．１～７２時間の範囲、より好ましくは０．５～４８時間、より好ましくは１～３６時間、より好ましくは３～３０時間、より好ましくは６～２４時間、より好ましくは１０～２０時間、より好ましくは１２～１８時間、及びより好ましくは１４～１６時間の範囲の期間、維持することがさらに好ましい。
【0029】
本発明によれば、工程（４）で提供された基材が、ウォールフロー又はフロースルー基材、より好ましくはウォールフロー又はフロースルーハニカム基材、及びより好ましくはフロースルーハニカム基材であることが好ましい。
【0030】
本発明によれば、工程（４）で提供された基材が、セラミック物質を含む、より好ましくはセラミック物質からなることが好ましく、セラミック物質は、好ましくは、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、コージェライト、ムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニアのうちの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージェライトの１つ以上、より好ましくはコージェライトを含む、より好ましくはこれらからなる。
【0031】
本発明によれば、工程（４）の後、且つ工程（５）のか焼の前に、コーティングされた基材を、８０～２５０℃の範囲、より好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲、より好ましくは１１０～１３０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥することが好ましく、ガス雰囲気は、より好ましくは空気である。前記特定の好ましい実施形態によれば、乾燥を、１０～１８０分の範囲、より好ましくは２０～１２０分の範囲、より好ましくは３０～９０分の範囲、より好ましくは４０～８０分の範囲の期間で行うことがさらに好ましい。
【0032】
本発明によれば、工程（５）のか焼を、３５０～８００℃の範囲、好ましくは４００～７００℃の範囲、より好ましくは４５０～６５０℃の範囲、及びより好ましくは５００～６００℃の範囲の温度で行うことが好ましい。
【0033】
本発明によれば、工程（５）のか焼は、１０～１８０分の範囲、より好ましくは２０～１２０分の範囲、より好ましくは３０～９０分の範囲、より好ましくは４０～８０分の範囲の期間で行うことが好ましい。
【0034】
本発明によれば、工程（５）のか焼を、空気を含有するガス雰囲気中で行うことが好ましく、より好ましくは、工程（５）のか焼を空気中で行う。
【0035】
本発明によれば、本方法は工程（１）、（２）、（３）、（４）及び（５）からなることが好ましい。
【0036】
本発明はさらに、本発明の方法の特定の好ましい実施形態の任意により得ることができる及び／又は得られた窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒に関する。
【0037】
さらに本発明は、内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムにも関し、このシステムは、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒と、ディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、選択的接触還元触媒、触媒化すすフィルタ及びＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒のうちの１つ以上とを含む。
【0038】
本発明によれば、ディーゼル酸化触媒と、触媒化すすフィルタと、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒とを含むシステムが好ましく、ディーゼル酸化触媒は触媒化すすフィルタの上流に位置し、触媒化すすフィルタは窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、ディーゼル酸化触媒は、好ましくは、システムの第１の触媒であり、そして好ましくは、エンジンとディーゼル酸化触媒との間に触媒は存在しない。さらに、システムが、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の下流に位置する選択的接触還元触媒をさらに含むことが好ましく、システムは、好ましくは、アンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒は、選択的接触還元触媒の下流に位置する。さらにまた、そしてこれとは独立して、システムが還元剤インジェクタをさらに含むことが好ましく、その還元剤インジェクタは、触媒化すすフィルタの下流及び窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、還元剤は好ましくは尿素である。
【0039】
代替的に、ディーゼル酸化触媒と、触媒化すすフィルタと、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒とを含む本発明によるシステムが好ましく、ディーゼル酸化触媒は、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、そして窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒は、触媒化すすフィルタの上流に位置し、ディーゼル酸化触媒は、好ましくは、システムの第１の触媒であり、そして好ましくは、エンジンとディーゼル酸化触媒との間に触媒は存在しない。前記代替の好ましい実施形態によれば、システムが、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する選択的接触還元触媒をさらに含むことが好ましく、システムは、好ましくは、アンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒は、選択的接触還元触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する。これに加え、又はこれとは独立して、前記代替の好ましい実施形態によれば、システムが触媒化すすフィルタの下流に位置するＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒をさらに含むことが好ましく、システムは、好ましくは、ＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒の上流且つ触媒化すすフィルタの下流に位置する還元剤インジェクタをさらに含み、還元剤は、より好ましくは尿素である。さらにまたこれに加え、又はこれとは独立して、前記代替の好ましい実施形態によれば、システムが還元剤インジェクタをさらに含み、還元剤インジェクタが、ディーゼル酸化触媒の下流且つ窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置することがさらにまた好ましく、還元剤は好ましくは尿素である。
【0040】
さらに代替的に、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒と、触媒化すすフィルタとを含む本発明によるシステムが好ましく、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒は、触媒化すすフィルタの上流に位置し、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒は、好ましくはシステムの第１の触媒であり、好ましくは、エンジンと窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒との間に触媒は存在しない。前記代替の好ましい実施形態によれば、システムは、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する選択的接触還元触媒をさらに含むことが好ましく、システムは、好ましくはアンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒は、選択的接触還元触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する。これに加え、又はこれとは独立して、前記代替の好ましい実施形態によれば、システムが第１の還元剤インジェクタをさらに含み、その第１の還元剤インジェクタは窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置することが好ましく、還元剤は好ましくは尿素である。さらにまたこれに加え、又はこれとは独立して、前記代替の好ましい実施形態によれば、システムが、触媒化すすフィルタの下流に位置するＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒をさらに含むことがさらにまた好ましく、システムが、好ましくは、ＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒の上流且つ触媒化すすフィルタの下流に位置する還元剤インジェクタをさらに含み、還元剤はより好ましくは尿素である。
【0041】
前述のことに加えて、本発明はさらに、窒素酸化物の選択的接触還元の方法に関し、該方法において、窒素酸化物が排気ガス流に含まれ、前記方法は以下の工程、
（１） 好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供された排気ガス流を、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による選択的接触還元用の触媒、又は本発明の特定の好ましい実施形態の任意による排気ガス処理システムを通過させる工程
を含む。
（１） 好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供された排気ガス流を、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による選択的接触還元用の触媒、又は本発明の特定の好ましい実施形態の任意による排気ガス処理システムを通過させる工程
を含む。
【0042】
最後に、本発明はさらに、窒素酸化物、好ましくはディーゼルエンジンから出る窒素酸化物の選択的接触還元のための、本発明の特定の好ましい実施形態の任意による触媒、又は本発明の特定の好ましい実施形態の任意による排ガス処理システムの使用方法に関するものである。
【0043】
本発明を、示される従属関係及び後方参照から得られる以下の実施形態のセット及び実施形態の組み合わせによって、さらに例示する。特に、実施形態の範囲が言及される各例において、例えば「実施形態１から４のいずれか一項に記載の・・・」のような用語の文脈では、この範囲内のすべての実施形態が当業者に明示的に開示されることが意図されており、すなわち、この用語の文言は、「実施形態１、２、３、及び４のいずれか一項に記載の・・・」と同義であると当業者には理解されることに留意されたい。さらに、以下の実施形態のセットは、保護の範囲を決定する特許請求の範囲のセットではなく、本発明の一般的及び好ましい側面に向けられた説明の好適に構成された部分を表すものであることを明示的に留意されたい。
【0044】
１．窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒を調製するための方法であって、
（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む方法。
（１） ＳｉＯ２及びＸ２Ｏ３（式中、Ｘは３価の元素である）を骨格構造中に含むゼオライト材料を提供する工程、
（２） 工程（１）で提供されたゼオライト材料を、１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物とのイオン交換処理に供する工程、
（３） 工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料、１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物、及び溶媒系を含むスラリーを調製する工程、
（４） 基材を提供し、工程（３）で得られたスラリーを基材上にコーティングする工程、
（５） 工程（４）で得られたコーティングされた基材をか焼する工程
を含む方法。
【0045】
２．ゼオライト材料が、ＬＴＡ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＳＡＶ、ＳＦＷ、ＴＳＣ、ＦＡＵ、ＭＦＩ、ＢＥＡ、ＦＥＲ、ＭＯＲ、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、及びＡＦＸ、及びさらにこれらの２つ以上の混合構造からなる群から、好ましくは、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、及びＡＦＸ、及びさらにこれらの２つ以上の混合構造からなる群から選択される骨格型構造を有し、より好ましくは、ゼオライト材料がＣＨＡ及び／又はＡＥＩ型の骨格型構造、好ましくはＣＨＡ型の骨格構造を有する、実施形態１に記載の方法。
【0046】
３．工程（３）で調製されたスラリーに含まれる鉄の総量と、工程（３）で調製されたスラリーに含まれるＣｕイオン交換ゼオライト材料に含有される銅の総量とのＦｅ：Ｃｕモル比が、０．１～１５の範囲、より好ましくは０．５～１０、より好ましくは０．８～７、より好ましくは１～５、より好ましくは１．５～４、より好ましくは２～３．５、より好ましくは２．５～３．２、より好ましくは２．７～３、及びより好ましくは２．８～２．９に含まれる、実施形態１又は２に記載の方法。
【0047】
４．工程（２）で得られたＣｕイオン交換ゼオライト材料が、ＣｕＯとして計算されるＣｕを、Ｃｕイオン交換ゼオライト材料中のＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、及びＣｕＯとして計算されるＣｕ１００質量％に対して、０．１～８質量％の範囲、好ましくは０．３～５質量％、より好ましくは０．５～３．５質量％、より好ましくは０．８～２．４質量％、より好ましくは１．０～１．８質量％、及びより好ましくは１．２～１．４質量％の量で含有する、実施形態１から３のいずれか一項に記載の方法。
【0048】
５．工程（５）で得られた触媒が、ＣｕＯとして計算されるＣｕを、５～１５０ｇ／ｆｔ３の範囲、好ましくは１５～１００ｇ／ｆｔ３、より好ましくは２５～７０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは３５～５０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは４０～４６ｇ／ｆｔ３、及びより好ましくは４３～４４ｇ／ｆｔ３の量で含有する、実施形態１から４のいずれか一項に記載の方法。
【0049】
６．工程（３）で得られたスラリーが、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるＦｅを、か焼スラリー１００質量％に対して０．１～８質量％の範囲、好ましくは０．５～７質量％、より好ましくは１～６質量％、より好ましくは１．５～５質量％、より好ましくは２～４．５質量％、より好ましくは２．５～４質量％、より好ましくは３～３．６質量％、及びより好ましくは３．２～３．４質量％の量で含有する、実施形態１から５のいずれか一項に記載の方法。
【0050】
７．工程（５）で得られた触媒が、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるＦｅを、５～４００ｇ／ｆｔ３の範囲、好ましくは１０～３００ｇ／ｆｔ３、より好ましくは３０～２５０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは５０～２００ｇ／ｆｔ３、より好ましくは８０～１７０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは１００～１５０ｇ／ｆｔ３、より好ましくは１１０～１３５ｇ／ｆｔ３、及びより好ましくは１２０～１２５ｇ／ｆｔ３の量で含有する、実施形態１から６のいずれか一項に記載の方法。
【0051】
８．Ｘが、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から、好ましくは、Ａｌ、Ｂ、Ｉｎ、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、より好ましくは、ＸはＡｌ及び／又はＢを表し、Ｘは好ましくはＡｌである、実施形態１から７のいずれか一項に記載の方法。
【0052】
９．工程（１）で提供されたゼオライト材料が、ＳｉＯ２：Ｘ２Ｏ３のモル比を、１～２００の範囲、好ましくは５～１２０、より好ましくは１０～８０、より好ましくは１５～５０、より好ましくは２０～４０、より好ましくは２５～３５、及びより好ましくは２８～３０に示す、実施形態１から８のいずれか一項に記載の方法。
【0053】
１０．工程（１）で提供されたゼオライト材料が、元素として計算される銅を多くとも１０００ｐｐｍ、好ましくは０～１００ｐｐｍ、及びより好ましくは０～１０ｐｐｍ含む、実施形態１から９のいずれか一項に記載の方法。
【0054】
１１．１つ以上の銅（ＩＩ）含有化合物が、ＣｕＯ、銅（ＩＩ）クロリド、銅（ＩＩ）ブロミド、銅（ＩＩ）ペルクロラート、銅（ＩＩ）スルフィット、銅（ＩＩ）ヒドロゲンスルフェート、銅（ＩＩ）スルフェート、銅（ＩＩ）ニトリット、銅（ＩＩ）ニトラート、銅（ＩＩ）ジヒドロゲンホスフェート、銅（ＩＩ）ヒドロゲンホスフェート、銅（ＩＩ）ホスフェート、銅（ＩＩ）ヒドロゲンカーボネート、銅（ＩＩ）カーボネート、銅（ＩＩ）アセテート、銅（ＩＩ）シトラート、銅（ＩＩ）マロネート、銅（ＩＩ）オキサラート、銅（ＩＩ）タートラート、及びこれらの２つ以上の混合物からなる群から、好ましくはＣｕＯ、銅（ＩＩ）クロリド、銅（ＩＩ）スルフェート、銅（ＩＩ）ニトラート、銅（ＩＩ）アセテート、及びこれらの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは銅（ＩＩ）含有化合物はＣｕＯである、実施形態１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【0055】
１２．工程（２）のイオン交換を、１つ以上の溶媒を含む溶媒系で行い、前記１つ以上の溶媒は、好ましくは、水、有機溶媒、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、アルコール、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、メタノール、エタノール、プロパノール、及びこれらの混合物からなる群から選択され、より好ましくは、１つ以上の溶媒は水を含み、そしてより好ましくは、脱イオン水を溶媒系として使用する、実施形態１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【0056】
１３．工程（２）のイオン交換を、２０～１００℃の範囲、より好ましくは３０～９０℃、より好ましくは４０～８０℃、より好ましくは５０～７０℃、及びより好ましくは５５～６５℃の温度で行う、実施形態１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【0057】
１４．工程（２）のイオン交換を、０．１５～１０時間の範囲、好ましくは０．２５～５時間、より好ましくは０．５～３時間、及びより好ましくは０．７５～１．５時間の期間で行う、実施形態１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【0058】
１５．１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物が、鉄スルフェート、鉄スルフィット、鉄ヒドロゲンスルフェート、鉄クロリド、鉄ブロミド、鉄ヨージド、鉄フルオリド、鉄ペルクロラート、鉄ニトラート、鉄ニトリット、鉄ホスフェート、鉄ジヒドロゲンホスフェート、鉄ヒドロゲンホスフェート、鉄カーボネート、鉄ヒドロゲンカーボネート、鉄アセテート、鉄シトラート、鉄マロネート、鉄オキサラート、鉄タートラート、ヘキサシアノフェラート塩、フェロセン、及びフェロセニウム塩、及びさらにこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から、好ましくは鉄（ＩＩＩ）ニトラート、鉄（ＩＩ）アセテート、アンモニウム鉄（ＩＩＩ）シトラート、鉄（ＩＩ）スルフェート、及び鉄（ＩＩ）オキサラート、及びさらにこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、より好ましくは、鉄（ＩＩＩ）ニトラート及び／又は鉄（ＩＩ）アセテートを１つ以上の鉄（ＩＩ）及び／又は鉄（ＩＩＩ）含有化合物として用いる、実施形態１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【0059】
１６．工程（３）の溶媒系が１つ以上の溶媒を含み、前記１つ以上の溶媒は、好ましくは、水、有機溶媒、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、アルコール、及びこれらの混合物からなる群から、より好ましくは脱イオン水、メタノール、エタノール、プロパノール、及びこれらの混合物からなる群から選択され、より好ましくは、１つ以上の溶媒は水を含み、そしてより好ましくは、脱イオン水を溶媒系として使用する、実施形態１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【0060】
１７．工程（３）で得られたスラリーが、スラリー１００質量％に対して１５～７５質量％、好ましくは２０～６５質量％、より好ましくは２５～６０質量％、より好ましくは３０～５５質量％、より好ましくは３３～５０質量％、より好ましくは３５～４５質量％、及びより好ましくは３８～４２質量％の固形分含量を示す、実施形態１から１６のいずれか一項に記載の方法。
【0061】
１８．工程（３）で調製されたスラリーが、１つ以上のバインダー、好ましくはＡｌ、Ｓｉ、及び／又はＺｒ、好ましくはＡｌ及び／又はＺｒ、及びより好ましくはＺｒをベースとする１つ以上のバインダーをさらに含み、より好ましくは、工程（３）で調製されたスラリーは、バインダーとしてＺｒＯ２の１つ以上の源をさらに含有し、ＺｒＯ２の１つ以上の源は、好ましくは、１つ以上のジルコニウム塩、より好ましくはジルコニルクロリド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムアセチルアセトナート、ジルコニウムヒドロキシド、ジルコニウムオキシニトラート、ジルコニウムカーボネート、及びジルコニウムオキシクロリド、及びさらにこれらの２つ以上の混合物からなる群から、より好ましくはジルコニウムアセテート、ジルコニウムアセチルアセトナート、ジルコニウムヒドロキシド、及びジルコニウムカーボネート、及びさらにこれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される、１つ以上のジルコニウム塩を含み、より好ましくは、１つ以上のジルコニウム塩はジルコニウムアセテートを含み、より好ましくは、工程（３）で調製されたスラリーは、バインダーとしてジルコニウムアセテートをさらに含む、実施形態１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【0062】
１９．スラリーが、１つ以上のバインダーを、か焼スラリー１００質量％に対して０．５～１５質量％の範囲、好ましくは１～１０質量％、より好ましくは３～７質量％、より好ましくは４～６質量％、及びより好ましくは４．５～５．５質量％の量で含む、実施形態１８に記載の方法。
【0063】
２０．工程（３）で調製されたスラリーが１つ以上の緩衝剤をさらに含み、１つ以上の緩衝剤は、好ましくはアンモニウムアセテートを含み、より好ましくは、アンモニウムアセテートを１つ以上の緩衝剤として用いる、実施形態１から１９のいずれか一項に記載の方法。
【0064】
２１．工程（３）で調製されたスラリーのｐＨを、１つ以上の緩衝剤を用いてｐＨ３～６の範囲、好ましくはｐＨ３．５～５．５の範囲、好ましくは３．８～５．２、より好ましくは４．１～４．９、より好ましくは４．３～４．７、及びより好ましくは４．４～４．６に調整する、実施形態２０に記載の方法。
【0065】
２２．工程（４）のスラリーのコーティングの前に、工程（３）で得られたスラリーを５～６０℃の範囲、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは１５～４５℃の範囲、より好ましくは１８～３０℃の範囲、及びより好ましくは２０～２５℃の範囲の温度に維持する、実施形態１から２１のいずれか一項に記載の方法。
【0066】
２３．スラリーを前記温度に０．１～７２時間の範囲、好ましくは０．５～４８時間、より好ましくは１～３６時間、より好ましくは３～３０時間、より好ましくは６～２４時間、より好ましくは１０～２０時間、より好ましくは１２～１８時間、及びより好ましくは１４～１６時間の範囲の期間維持する、実施形態２２に記載の方法。
【0067】
２４．工程（４）で提供された基材が、ウォールフロー又はフロースルー基材、好ましくはウォールフロー又はフロースルーハニカム基材、及びより好ましくはフロースルーハニカム基材である、実施形態１から２３のいずれか一項に記載の方法。
【0068】
２５．工程（４）で提供された基材が、セラミック物質を含み、より好ましくはセラミック物質からなり、セラミック物質が、好ましくは、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、コージェライト、ムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニアのうちの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージェライトの１つ以上、より好ましくはコージェライトを含む、より好ましくはこれらからなる、実施形態１から２４のいずれか一項に記載の方法。
【0069】
２６．工程（４）の後、且つ工程（５）のか焼の前に、コーティングされた基材を、８０～２５０℃の範囲、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲、より好ましくは１１０～１３０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥し、ガス雰囲気は、より好ましくは空気である、実施形態１から２５のいずれか一項に記載の方法。
【0070】
２７．乾燥を、１０～１８０分の範囲、好ましくは２０～１２０分の範囲、より好ましくは３０～９０分の範囲、より好ましくは４０～８０分の範囲の期間で行う、実施形態２６に記載の方法。
【0071】
２８．工程（５）のか焼を、３５０～８００℃の範囲、好ましくは４００～７００℃の範囲、より好ましくは４５０～６５０℃の範囲、及びより好ましくは５００～６００℃の範囲の温度で行う、実施形態１から２７のいずれか一項に記載の方法。
【0072】
２９．工程（５）のか焼を、１０～１８０分の範囲、好ましくは２０～１２０分の範囲、より好ましくは３０～９０分の範囲、より好ましくは４０～８０分の範囲の期間で行う、実施形態１から２８のいずれか一項に記載の方法。
【0073】
３０．工程（５）のか焼を空気を含有するガス雰囲気中で行う、好ましくは、工程（５）のか焼を空気中で行う、実施形態１から２９のいずれか一項に記載の方法。
【0074】
３１．工程（１）、（２）、（３）、（４）及び（５）からなる、実施形態１から３０のいずれか一項に記載の方法。
【0075】
３２．実施形態１から３１のいずれか一項に記載の方法により得ることができる及び／又は得られた窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒。
【0076】
３３．内燃機関、好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムであって、実施形態３２に記載の窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒と、ディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、選択的接触還元触媒、触媒化すすフィルタ及びＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒のうちの１つ以上とを含む、システム。
【0077】
３４．ディーゼル酸化触媒と、触媒化すすフィルタと、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒とを含む実施形態３３に記載のシステムであって、ディーゼル酸化触媒が触媒化すすフィルタの上流に位置し、触媒化すすフィルタが窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、ディーゼル酸化触媒が好ましくはシステムの第１の触媒であり、そして好ましくは、エンジンとディーゼル酸化触媒との間に触媒が存在しない、システム。
【0078】
３５．実施形態３４に記載のシステムであって、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の下流に位置する選択的接触還元触媒をさらに含み、好ましくはアンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒が選択的接触還元触媒の下流に位置する、システム。
【0079】
３６．還元剤インジェクタをさらに含み、前記還元剤インジェクタが、触媒化すすフィルタの下流及び窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、還元剤が好ましくは尿素である、実施形態３４又は３５に記載のシステム。
【0080】
３７．ディーゼル酸化触媒と、触媒化すすフィルタと、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒とを含む実施形態３３に記載のシステムであって、ディーゼル酸化触媒が窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、そして窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒が、触媒化すすフィルタの上流に位置し、ディーゼル酸化触媒が好ましくはシステムの第１の触媒であり、そして好ましくはエンジンとディーゼル酸化触媒との間に触媒が存在しないシステム。
【0081】
３８．実施形態３７に記載のシステムであって、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する選択的接触還元触媒をさらに含み、好ましくはアンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒が、選択的接触還元触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する、システム。
【0082】
３９．実施形態３７又は３８に記載のシステムであって、触媒化すすフィルタの下流に位置するＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒をさらに含み、好ましくは、ＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒の上流且つ触媒化すすフィルタの下流に位置する還元剤インジェクタをさらに含み、還元剤はより好ましくは尿素である、システム。
【0083】
４０．実施形態３７から３９のいずれか一項に記載のシステムであって、還元剤インジェクタをさらに含み、この還元剤インジェクタがディーゼル酸化触媒の下流且つ窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、還元剤は好ましくは尿素である、システム。
【0084】
４１．実施形態３３に記載のシステムであって、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒及び触媒化すすフィルタを含み、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒が触媒化すすフィルタの上流に位置し、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒が好ましくはシステムの第１触媒であり、そして好ましくはエンジンと窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒との間に触媒が存在しない、システム。
【0085】
４２．実施形態４１に記載のシステムであって、窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する選択的接触還元触媒をさらに含み、
好ましくはアンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒が選択的接触還元触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する、システム。
好ましくはアンモニア酸化触媒をさらに含み、前記アンモニア酸化触媒が選択的接触還元触媒の下流且つ触媒化すすフィルタの上流に位置する、システム。
【0086】
４３．第１の還元剤インジェクタをさらに含み、第１の還元剤インジェクタが窒素酸化物の選択的接触還元用の触媒の上流に位置し、還元剤は好ましくは尿素である、実施形態４１又は４２に記載のシステム。
【0087】
４４．実施形態４１から４３のいずれか一項に記載のシステムであって、触媒化すすフィルタの下流に位置するＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒をさらに含み、好ましくは、ＳＣＲ／ＡＭＯｘ触媒の上流且つ触媒化すすフィルタの下流に位置する還元剤インジェクタをさらに含み、還元剤はより好ましくは尿素である、システム。
【0088】
４５．窒素酸化物の選択的接触還元のための方法であって、その窒素酸化物が排気ガス流中に含まれており、
（１） 好ましくはディーゼルエンジンからの、排気ガス流を提供すること、
（２） （１）で提供された排気ガス流を、実施形態３０に記載の選択的接触還元用の触媒、又は実施形態３３から４４のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムに通すこと
を含む方法。
（１） 好ましくはディーゼルエンジンからの、排気ガス流を提供すること、
（２） （１）で提供された排気ガス流を、実施形態３０に記載の選択的接触還元用の触媒、又は実施形態３３から４４のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムに通すこと
を含む方法。
【0089】
４６．実施形態３２に記載の触媒又は実施形態３３から４４のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムを、窒素酸化物、好ましくはディーゼルエンジンを出る窒素酸化物の選択的接触還元に使用する方法。
【実施例】
【0090】
参考実施例１：ＣＨＡ型骨格構造を有するゼオライト材料の調製
ＷＯ２０１１／０６４１８６Ａ１の比較実施例１及び比較実施例２の工程２．１に記載の手順に従ってチャバザイトを調製した。
ＷＯ２０１１／０６４１８６Ａ１の比較実施例１及び比較実施例２の工程２．１に記載の手順に従ってチャバザイトを調製した。
【0091】
参考実施例２：ＣＨＡ型骨格構造を有するゼオライト材料の調製
ＵＳ１０，３１５，９２４Ｂ２の実施例１及び２に記載の合成方法に従ってゼオライト材料を調製し、シリカ対アルミナ比２８を示すゼオライトを得た。
ＵＳ１０，３１５，９２４Ｂ２の実施例１及び２に記載の合成方法に従ってゼオライト材料を調製し、シリカ対アルミナ比２８を示すゼオライトを得た。
【0092】
参考実施例３：液相イオン交換（ＬＰＩＥ）プロセスにより調製したＣｕ－ＣＨＡ
参考実施例１により得られたゼオライト材料を、本質的にＵＳ８，２９３，１９９Ｂ２に開示の手順に従い、特にＵＳ８，２９３，１９９Ｂ２の発明実施例２、第１５欄、第３１～４６行を参照して、銅でイオン交換した。イオン交換は、Ｃｕ－ＣＨＡゼオライト材料中のＣｕ含有量が、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ－ＣＨＡの質量に対して２．３５質量％となるように行った。
参考実施例１により得られたゼオライト材料を、本質的にＵＳ８，２９３，１９９Ｂ２に開示の手順に従い、特にＵＳ８，２９３，１９９Ｂ２の発明実施例２、第１５欄、第３１～４６行を参照して、銅でイオン交換した。イオン交換は、Ｃｕ－ＣＨＡゼオライト材料中のＣｕ含有量が、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ－ＣＨＡの質量に対して２．３５質量％となるように行った。
【0093】
参考実施例４：液相イオン交換（ＬＰＩＥ）プロセスにより調製したＣｕ－ＣＨＡ
参考実施例２により得られたゼオライト材料を、参考実施例３に従って銅でイオン交換し、イオン交換は、Ｃｕ－ＣＨＡゼオライト材料中のＣｕ含有量が、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ－ＣＨＡの質量に対して１．２質量％となるように行った。
参考実施例２により得られたゼオライト材料を、参考実施例３に従って銅でイオン交換し、イオン交換は、Ｃｕ－ＣＨＡゼオライト材料中のＣｕ含有量が、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕ－ＣＨＡの質量に対して１．２質量％となるように行った。
【0094】
参考実施例５：一般的なコーティング方法
フロースルー基材をコーティングで被覆するために、フロースルー基材を所与のスラリーの一部に垂直方向で、適用するコーティングの目標長さと等しい基材の特定の長さで浸漬した。このようにして、ウォッシュコートを基材の壁と接触させた。サンプルを特定の時間、通常は１～１０秒の間、スラリー中に放置した。次いで、基材をスラリーから取り出し、余分なスラリーを、基材から排出させてから圧縮空気を（スラリーの浸透方向に逆らって）吹き付けることにより除去した。
フロースルー基材をコーティングで被覆するために、フロースルー基材を所与のスラリーの一部に垂直方向で、適用するコーティングの目標長さと等しい基材の特定の長さで浸漬した。このようにして、ウォッシュコートを基材の壁と接触させた。サンプルを特定の時間、通常は１～１０秒の間、スラリー中に放置した。次いで、基材をスラリーから取り出し、余分なスラリーを、基材から排出させてから圧縮空気を（スラリーの浸透方向に逆らって）吹き付けることにより除去した。
【0095】
比較実施例１：Ｃｕ－ＣＨＡを含有するＳＣＲ触媒の調製
水と参考実施例３のＣｕ－ＣＨＡとを混合してバインダーを含有する目標固形分４０質量％のスラリーを生成することにより、ウォッシュコートスラリーを調製した。この混合物を含有する触媒コーティングを、参考実施例５のウォッシュコートプロセスを介して、４００ｃｐｓｉのセル密度及び６ミルの壁厚を有するセル状フロースルーセラミックモノリス上に堆積させた。コーティングされたモノリスを、１１０℃で乾燥させた。コーティングプロセスにより、２．１ｇ／ｉｎ３の触媒担持量を得た。
水と参考実施例３のＣｕ－ＣＨＡとを混合してバインダーを含有する目標固形分４０質量％のスラリーを生成することにより、ウォッシュコートスラリーを調製した。この混合物を含有する触媒コーティングを、参考実施例５のウォッシュコートプロセスを介して、４００ｃｐｓｉのセル密度及び６ミルの壁厚を有するセル状フロースルーセラミックモノリス上に堆積させた。コーティングされたモノリスを、１１０℃で乾燥させた。コーティングプロセスにより、２．１ｇ／ｉｎ３の触媒担持量を得た。
【0096】
より具体的には、ウォッシュコートスラリーを調製するために、ジルコニルアセテートの水溶液を、参考実施例３のＣｕ－ＣＨＡゼオライト（か焼スラリー１００質量％に対して５質量％のＺｒ－ＯＡｃ）及び脱イオン水と混合して、スラリーを形成した。次いでこのスラリーを、コーティングされていないフロースルーハニカムコージェライトモノリス基材の全長にわたって配置した。前記基材は、参考実施例５に記載の方法に従って、２．１ｇ／ｉｎ３の担持量でコーティングされた。その後、基材を乾燥させ、次いで５５０℃で６０分間か焼した。
【0097】
比較実施例２：Ｃｕ－ＣＨＡを含有するＳＣＲ触媒の調製
参考実施例４のＣｕ－チャバザイトを用いて、比較実施例１に記載の手順に従い、コーティングされたセラミックモノリスを調製した。
参考実施例４のＣｕ－チャバザイトを用いて、比較実施例１に記載の手順に従い、コーティングされたセラミックモノリスを調製した。
【0098】
実施例１：Ｃｕ－ＣＨＡ、及びＦｅ２Ｏ３として計算される２．０質量％のＦｅを含有するＳＣＲ触媒の調製
スラリー内イオン交換プロセスを使用して参考実施例３のＣｕ－ＣＨＡに鉄を加え、Ｃｕ／Ｆｅ促進ゼオライトを形成した（ＥＰ３５４９９１３Ａ１に記載のスラリー内イオン交換（ＩＳＩＥ）プロセスをこの効果に使用した）。この実施例では、追加のＦｅの源であるＦｅ（ＩＩＩ）ニトラートを用いてスラリー中の必要なレベルまでＦｅ含有量を追加し、その後、スラリー内イオン交換が完了するように十分に混合した。
スラリー内イオン交換プロセスを使用して参考実施例３のＣｕ－ＣＨＡに鉄を加え、Ｃｕ／Ｆｅ促進ゼオライトを形成した（ＥＰ３５４９９１３Ａ１に記載のスラリー内イオン交換（ＩＳＩＥ）プロセスをこの効果に使用した）。この実施例では、追加のＦｅの源であるＦｅ（ＩＩＩ）ニトラートを用いてスラリー中の必要なレベルまでＦｅ含有量を追加し、その後、スラリー内イオン交換が完了するように十分に混合した。
【0099】
より具体的には、コーティングされたセラミックモノリスを比較実施例１に従って調製し、ウォッシュコートスラリーを調製する際に、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるスラリー中のＦｅ含有量が、か焼スラリーの質量に対して２．０質量％となるような量でＦｅ（ＩＩＩ）ニトラートをさらに添加した。これにより、スラリー中に含まれる鉄の総量とスラリー中に含まれるＣｕイオン交換ゼオライト材料に含有される銅の総量とのＦｅ：Ｃｕモル比は、０．８５と算出された。そこで、Ｃｕ－ＣＨＡを鉄ニトラートと、続けて５質量％のＺｒ－ｏＡｃと混合し、ＮＨ４－ｏＡｃを加えてｐＨを４．３～４．７（目標ｐＨ＝４．５）に低下させた。次いで、スラリーを一晩放置した後、フロースルー基材に２．１ｇ／ｉｎ３の担持量でコーティングした。
【0100】
実施例２：Ｃｕ－ＣＨＡ、及びＦｅ２Ｏ３として計算される３．４質量％のＦｅを含有するＳＣＲ触媒の調製
参考実施例４のＣｕ－チャバザイトを用いて、実施例１に記載の手順に従い、コーティングされたセラミックモノリスを調製した。Ｆｅ２Ｏ３として計算されるスラリー中のＦｅ含有量が、か焼スラリーの質量に対して３．４質量％となるような量でＦｅ（ＩＩＩ）ニトラートを添加した。これにより、スラリー中に含まれる鉄の総量とスラリー中に含まれるＣｕイオン交換ゼオライト材料に含有される銅の総量とのＦｅ：Ｃｕモル比は、２．８３と算出された。
参考実施例４のＣｕ－チャバザイトを用いて、実施例１に記載の手順に従い、コーティングされたセラミックモノリスを調製した。Ｆｅ２Ｏ３として計算されるスラリー中のＦｅ含有量が、か焼スラリーの質量に対して３．４質量％となるような量でＦｅ（ＩＩＩ）ニトラートを添加した。これにより、スラリー中に含まれる鉄の総量とスラリー中に含まれるＣｕイオン交換ゼオライト材料に含有される銅の総量とのＦｅ：Ｃｕモル比は、２．８３と算出された。
【0101】
実施例２：ＮＯｘ転化及びＮ２Ｏ生成における触媒の試験
比較実施例１及び２、及びさらに実施例１及び２の触媒は、新鮮な状態及び水熱老化させた状態で試験した。コーティングされたモノリスの水熱処理は水蒸気を用いて行い、約１０％のＯ２、１０％のＨ２ＯのＮ２を、モノリス上に必要な温度（６５０℃）で空間速度９０００ｈ－１で規定量の時間（５０時間）流すことにより達成した。
比較実施例１及び２、及びさらに実施例１及び２の触媒は、新鮮な状態及び水熱老化させた状態で試験した。コーティングされたモノリスの水熱処理は水蒸気を用いて行い、約１０％のＯ２、１０％のＨ２ＯのＮ２を、モノリス上に必要な温度（６５０℃）で空間速度９０００ｈ－１で規定量の時間（５０時間）流すことにより達成した。
【0102】
ＳＣＲ試験条件：
空間速度（ＳＶ）＝８０ｋ ｈ－１、温度：２５０℃、２００℃
標準的なＳＣＲのガス供給：５５０ｐｐｍのＮＨ３、５００ｐｐｍのＮＯ、５％のＨ２Ｏ、１０％のＯ２、残りＮ２
高速ＳＣＲのガス供給：５００ｐｐｍのＮＨ３、２５０ｐｐｍのＮＯ、２５０ｐｐｍのＮＯ２、５％のＨ２Ｏ、１０％のＯ２、残りＮ２。
空間速度（ＳＶ）＝８０ｋ ｈ－１、温度：２５０℃、２００℃
標準的なＳＣＲのガス供給：５５０ｐｐｍのＮＨ３、５００ｐｐｍのＮＯ、５％のＨ２Ｏ、１０％のＯ２、残りＮ２
高速ＳＣＲのガス供給：５００ｐｐｍのＮＨ３、２５０ｐｐｍのＮＯ、２５０ｐｐｍのＮＯ２、５％のＨ２Ｏ、１０％のＯ２、残りＮ２。
【0103】
新鮮な状態の触媒サンプル及びエージングした状態の触媒サンプルを、標準的なＳＣＲ条件及び高速ＳＣＲ条件下で触媒試験した結果を、それぞれ以下の表１及び表２に示す。
【0104】
【表1】
【0105】
【表2】
【0106】
このように表１及び２に示す結果から分かるように、Ｃｕ－ＣＨＡは標準及び高速条件下で優れたＮＯｘ転化率をもたらすが、その使用は高いＮ２Ｏ生成をもたらし、Ｎ２Ｏ生成のレベルは用いたＣｕ－ＣＨＡの量と相関している。表１及び表２に示す結果からさらに分かるように、驚くべきことに、触媒の調製中にスラリーに鉄を添加すると、特に実施例１のようにゼオライト中に銅を高担持量で用いた場合、Ｎ２Ｏ生成が低下することが見出された。しかし、全く予想外なことに、本発明によれば、Ｃｕ－ＣＨＡに銅を低担持量で用いた場合、触媒の調製中にスラリーに鉄を添加することによって、比較的低いＮ２Ｏ生成を増加させることなく、得られた触媒のＮＯｘ転化が促進されることが見出された。表２に示す結果から分かるように、これは高速ＳＣＲ条件下で特に明らかであり、新鮮な触媒において、銅担持量が１．２質量％の比較実施例２で観察されたＮＯｘ転化率は、実施例２によりスラリーに鉄を添加すると、新鮮な状態で実施例１で観察された活性をさらに上回るレベルまで促進される。この効果は、エージングした触媒においても顕著であり、比較実施例２のＣｕ－ＣＨＡ触媒の２８％のＮＯｘ転化率は実施例２による鉄の添加によって７２％に促進され、対応するＮ２Ｏ生成の増加はもたらさなかった。
【0107】
よって、極めて驚くべきことに、鉄をスラリーに添加することにより、Ｃｕ－ＣＨＡ中の銅の量が低減でき、それにもかかわらず予想されていたように得られた触媒のＮＯｘ転化活性を犠牲にすることなく、より低いＮ２Ｏ生成が達成されることが見出された。その結果、極めて予想外にも、銅の担持量が少ないＣｕ－ＣＨＡ触媒を使用し、担持触媒の調製時にＣｕ－ＣＨＡスラリーに鉄を添加することにより、特に高速ＳＣＲ条件下で、高いＮＯｘ転化率と低いＮ２Ｏ生成の間の最適なバランスを提供できることが見出された。
【0108】
引用文献
－ ＷＯ２０１６／０７００９０Ａ１
－ ＵＳ２０１１／０３０５６１４Ａ１
－ ＷＯ２０１７／１５３８９４Ａ１
－ ＷＯ２０１５／１０１９３０Ａ１
－ ＷＯ２０１７／１３４５８１Ａ１
－ ＷＯ２０１８／１０７１８Ａ
－ ＷＯ２０１１／０６４１８６Ａ１
－ ＵＳ１０，３１５，９２４Ｂ２
－ ＵＳ８，２９３，１９９Ｂ２
－ ＥＰ３５４９９１３Ａ１
－ ＷＯ２０１６／０７００９０Ａ１
－ ＵＳ２０１１／０３０５６１４Ａ１
－ ＷＯ２０１７／１５３８９４Ａ１
－ ＷＯ２０１５／１０１９３０Ａ１
－ ＷＯ２０１７／１３４５８１Ａ１
－ ＷＯ２０１８／１０７１８Ａ
－ ＷＯ２０１１／０６４１８６Ａ１
－ ＵＳ１０，３１５，９２４Ｂ２
－ ＵＳ８，２９３，１９９Ｂ２
－ ＥＰ３５４９９１３Ａ１
【国際調査報告】