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特表2024-501139薄層を転写するためのドナー基板及び関連する転写方法
発明の名称 薄層を転写するためのドナー基板及び関連する転写方法
出願人 コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ エナジーズ アルタナティブス （識別番号 510094104）
特許公開件数ランキング 14682 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 4182 位（1件）（共同出願を含む）
出願人 ソイテック （識別番号 507088071）
特許公開件数ランキング 1079 位（7件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 4182 位（2件）（共同出願を含む）
公報番号 特表-2024-501139
公報発行日 2024年1月11
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2024-501139
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