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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-02-14
(54)【発明の名称】低せん断粘度低減添加剤
(51)【国際特許分類】
C08L 83/04 20060101AFI20240206BHJP
C08K 3/013 20180101ALI20240206BHJP
C08L 83/06 20060101ALI20240206BHJP
【ＦＩ】
C08L83/04
C08K3/013
C08L83/06
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023544390
(86)(22)【出願日】2022-01-13
(85)【翻訳文提出日】2023-07-21
(86)【国際出願番号】 US2022012262
(87)【国際公開番号】W WO2022164641
(87)【国際公開日】2022-08-04
(31)【優先権主張番号】63/142,086
(32)【優先日】2021-01-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】590001418
【氏名又は名称】ダウ シリコーンズ コーポレーション
(71)【出願人】
【識別番号】502141050
【氏名又は名称】ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
(74)【代理人】
【識別番号】100092783
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 浩
(74)【代理人】
【識別番号】100095360
【弁理士】
【氏名又は名称】片山 英二
(74)【代理人】
【識別番号】100120134
【弁理士】
【氏名又は名称】大森 規雄
(74)【代理人】
【識別番号】100156476
【弁理士】
【氏名又は名称】潮 太朗
(72)【発明者】
【氏名】チャオ、ダン
(72)【発明者】
【氏名】マンゴールド、シェーン
(72)【発明者】
【氏名】クーパー、リチャード
(72)【発明者】
【氏名】アン、ドンチャン
(72)【発明者】
【氏名】マクドナルド、カイル
(72)【発明者】
【氏名】スーツマン、ジョセフ
(72)【発明者】
【氏名】ハンセン、ダレン
【テーマコード（参考）】
4J002
【Ｆターム（参考）】
4J002CP03W
4J002CP04Y
4J002CP05X
4J002CP06W
4J002CP13W
4J002DA010
4J002DA020
4J002DA076
4J002DA080
4J002DA090
4J002DE070
4J002DE106
4J002DE146
4J002DF000
4J002DK000
4J002EX018
4J002EX037
4J002EZ009
4J002FA040
4J002FD010
4J002FD016
4J002FD14Y
4J002FD159
4J002FD207
4J002FD208
4J002GJ00
4J002GQ00
(57)【要約】
組成物は、（ａ）第１のポリオルガノシロキサンと、（ｂ）組成物の体積に基づいて、５０～８０体積パーセントの伝導性充填剤と、（ｃ）組成物の重量に基づいて、第１のポリオルガノシロキサンとは異なる０．１～２．０重量パーセントの第２のポリオルガノシロキサンと、を含有し、第２のポリオルガノシロキサンは、１分子当たり平均０．５～１．５個の無水物基を有する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
組成物であって、ａ．第１のポリオルガノシロキサンと、
ｂ．組成物の体積に基づいて、５０～８０体積パーセントの伝導性充填剤と、
ｃ．組成物の重量に基づいて、前記第１のポリオルガノシロキサンとは異なる０．１～２．０重量パーセントの第２のポリオルガノシロキサンと、を含み、前記第２のポリオルガノシロキサンが、１分子当たり平均０．５～１．５個の無水物基を有する、組成物。
【請求項2】
前記第１のポリオルガノシロキサンが、無水物基を含まない、請求項１に記載の組成物。
【請求項3】
前記第１のポリオルガノシロキサンが、前記第２のポリオルガノシロキサンよりも低い動的粘度を有する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項4】
前記第１のポリオルガノポリシロキサンが、平均化学構造（Ｉ）を有し：【化1】
式中、各Ｒ及びＲ’が、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基からなる群から選択され、「ｍ」は、前記第１のポリオルガノシロキサンが、０．０４～５５パスカル＊秒の範囲内の平均動的粘度を有するように選択される、請求項２に記載の組成物。
【請求項5】
各Ｒ’が、独立してビニル基及びメチル基から選択される、請求項４に記載の組成物。
【請求項6】
前記伝導性充填剤が、アルミナ、酸化亜鉛、アルミナ三水和物、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、銀フレーク、及び銀コーティングされた微粒子からなる群から選択される２つ以上のうちのいずれか１つ又は任意の組み合わせである、請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項7】
前記第２のポリオルガノシロキサンが、平均化学構造（ＩＩ）を有し：【化2】
式中、「ｎ」が、４０～２００の範囲内にある平均値を有し、Ｒが、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基からなる群から選択され、Ｒ”は、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基、シリルヒドリド、及び無水物基からなる群から選択される、請求項１～６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項8】
前記無水物基が、平均化学構造（ＩＩＩ）を有し：【化3】
式中、Ｘが、各出現において独立して、水素及びＣ１－Ｃ８ヒドロカルビル含有基から選択され、「ａ」が、各出現において独立して、１～６の範囲内にある値である、請求項１～７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項9】
Ｘが、各出現において独立して、水素及び芳香族基から選択され、「ａ」が２であるか、又はＸが水素であり、「ａ」が３であるかのいずれかである、請求項８に記載の組成物。
【請求項10】
Ｘが、各出現において独立して、芳香族基である、請求項８に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、低せん断粘度低減添加剤を含むポリオルガノシロキサンマトリックス中に分散された伝導性充填剤の伝導性組成物に関する。
【0002】
序論
熱伝導性及び電気伝導性（併せて「伝導性」）複合体は、概して、マトリックス材料を通る伝導性を高めるために伝導性充填剤粒子で充填されたポリオルガノシロキサンマトリックス材料である。伝導性複合体は、２つの成分間の界面材料として機能することによって、２つの成分間の伝導性を高めるのに有用である。いくつかの用途では、位置安定性を有するために、すなわち、適用時に伝導性複合体が特定の位置及び形状に留まる能力を高めるために、伝導性複合体が比較的高い低せん断粘度を有することが望ましい。しかしながら、セルフレベリング用途、及び組成物が成分間で特に薄い層にプレスされなければならない用途においてなど、他の用途では、伝導性組成物が低せん断で低粘度を有することが望ましい。伝導性組成物が、ある型又は基材上に注がれる用途もまた、伝導性組成物が、型若しくは基材上を流れるか、孔、空隙若しくは間隙を充填するか、及び／又はワイヤなどの物体の周りを流れることができるため低い低せん断粘度から恩恵を受ける。低せん断で低粘度を有するこれらの後者の伝導性組成物が、本発明の主題である。
熱伝導性及び電気伝導性（併せて「伝導性」）複合体は、概して、マトリックス材料を通る伝導性を高めるために伝導性充填剤粒子で充填されたポリオルガノシロキサンマトリックス材料である。伝導性複合体は、２つの成分間の界面材料として機能することによって、２つの成分間の伝導性を高めるのに有用である。いくつかの用途では、位置安定性を有するために、すなわち、適用時に伝導性複合体が特定の位置及び形状に留まる能力を高めるために、伝導性複合体が比較的高い低せん断粘度を有することが望ましい。しかしながら、セルフレベリング用途、及び組成物が成分間で特に薄い層にプレスされなければならない用途においてなど、他の用途では、伝導性組成物が低せん断で低粘度を有することが望ましい。伝導性組成物が、ある型又は基材上に注がれる用途もまた、伝導性組成物が、型若しくは基材上を流れるか、孔、空隙若しくは間隙を充填するか、及び／又はワイヤなどの物体の周りを流れることができるため低い低せん断粘度から恩恵を受ける。低せん断で低粘度を有するこれらの後者の伝導性組成物が、本発明の主題である。
【0003】
伝導性複合体における技術的課題は、用途の必要性を満たすのに十分に低い複合体粘度を達成しながら、充填剤装填量を増加させることによって伝導性を高めることにある。概して、伝導性充填剤の濃度を増加させると、複合体の伝導率が増加するが、また複合体の粘度も増加する。伝導性充填剤の量を最大にするために、伝導性充填剤の濃度を低減させることなく、伝導性複合体の低せん断粘度を低減させるための方法を見出すことが望ましい。添加剤が伝導性複合体のポリオルガノシロキサンマトリックスと最適に適合可能であるように、ポリシロキサン系添加剤であるかかる添加剤を特定することが更に望ましい。
【発明の概要】
【0004】
本発明は、伝導性充填剤の濃度を低減させることなく、伝導性複合体の低せん断粘度を低下させるポリオルガノシロキサン系添加剤を提供する。本発明は、ポリオルガノシロキサン１分子当たり平均０．５～１．５個の無水物基を有するポリオルガノシロキサン添加剤を、伝導性複合体の重量に基づいて、０．１～２．０重量パーセントの濃度で伝導性複合体に添加することができ、充填剤装填量を低減させることなく、伝導性複合体の低せん断粘度を低減させることができることを発見した結果である。
【0005】
驚くべきことに、無水物官能性ポリオルガノシロキサン添加剤は、添加剤が添加される組成物の主要マトリックス材料として機能するポリマーよりも高い動的粘度を有することができ、更に、添加剤は、組成物粘度を低減させることができる。
【0006】
第１の態様では、本発明は、組成物であって、（ａ）第１のポリオルガノシロキサンと、（ｂ）組成物の体積に基づいて、５０～８０体積パーセントの伝導性充填剤と、（ｃ）組成物の重量に基づいて、第１のポリオルガノシロキサンとは異なる０．１～２．０重量パーセントの第２のポリオルガノシロキサンと、を含み、第２のポリオルガノシロキサンが、１分子当たり平均０．５～１．５個の無水物基を有する、組成物である。
【0007】
本発明は、伝導性複合体として有用である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
試験方法は、日付が試験方法の番号とともに示されていない場合、本文書の優先日に直近の試験方法を指す。試験方法への言及は、試験の協会及び試験方法番号への参照の両方を含む。本明細書では、以下の試験方法の略語及び識別子が適用される。ＡＳＴＭは、ＡＳＴＭインターナショナル試験法（ASTM International method）を指し、ＥＮは、欧州規格（European Norm）を指し、ＤＩＮは、ドイツ規格協会（Deutsches Institut fur Normung）を指し、ＩＳＯは、国際標準化機構（International Organization for Standards）を指し、ＵＬは、米国保険業者安全試験所（Underwriters Laboratory）を指す。
【0009】
商品名で識別される製品は、本文書の優先日において、それらの商品名で入手可能な組成物を指す。
【0010】
「複数の」とは、２つ以上を意味する。「及び／又は」とは、「及び、又は代替として」を意味する。全ての範囲は、特に指示がない限り、終点を含む。
【0011】
「ヒドロカルビル」は、炭化水素から水素原子を除去することによって形成される一価の基を指し、アルキル基及びアリール基を含む。
【0012】
「アルキル」は、水素原子を除去することによってアルカンから誘導可能な炭化水素基を指す。アルキルは、線状又は分岐状であり得る。
【0013】
「アリール」は、芳香族炭化水素から水素原子を除去することにより形成可能な基を指す。
【0014】
組成物に関する「低せん断粘度」は、以下の振動せん断ひずみ振幅掃引（「ひずみ掃引」）法に従って判定される。直径２５ミリメートル（ｍｍ）の円形平行鋸歯状プレート（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｎｅｗ Ｃａｓｔｌｅ，ＤＥ，ＵＳＡ）から部品番号４０１９７８．９０１）を提供する。試料組成物を一方のプレートに配置し、プレートが互いに平行になり、プレート間のギャップ間隔が１．０ｍｍになり、試料組成物が両方のプレートと熱接触し、プレート間のギャップ間隔が満たされるまで、もう一方のプレートを試料組成物に押し付ける。ＡＲＥＳ－Ｇ２ひずみ制御レオメータ（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、Ｎｅｗ Ｃａｓｔｌｅ，ＤＥ，ＵＳＡ）を使用して、摂氏２５度（℃）で、１秒当たり１０ラジアンの角周波数を使用して、１桁当たり２０個のサンプリング点を有する試料組成物で０．０１パーセント（％）～３００％のひずみ振幅の対数掃引を行う。パーセント振動ひずみ振幅の関数として、パスカル＊秒（Ｐａ＊ｓ）の複素粘度を記録する。「低せん断粘度」は、記録された振動トルク振幅が、０．１マイクロニュートン＊メートルを上回る（又は同等に、記録された振動応力振幅が、０．０３２６パスカルを上回る）最低せん断振幅値で記録された複素粘度である。
【0015】
２５ミリメートルのステンレス鋼コーンインプレート固定具を取り付けたＡｎｔｏｎ－Ｐａａｒ Ｐｈｙｓｉｃａｌ ＭＣＲ ３０１レオメータを使用して、２５℃の動作温度でポリオルガノシロキサンの動的粘度を測定する。０．１～５００秒－１の範囲のせん断速度で定常せん断測定を実施する。各測定の前に、材料を少なくとも５分間平衡化させる。動的粘度は、０．１～１０秒－１のせん断速度にわたる平均粘度である。
【0016】
２９Ｓｉ、１３Ｃ、及び１Ｈ核磁気共鳴スペクトル法を使用して、ポリシロキサン中の組成物及びシロキサン単位の平均数を測定する（例えば、Ｔｈｅ Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ，Ｓｍｉｔｈ，Ａ．Ｌｅｅ，ｅｄ．，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，ｐ．３４７ｆｆを参照されたい）。
【0017】
本発明の組成物は、第１のポリオルガノシロキサン、第２のポリオルガノシロキサン及び伝導性充填剤を含む。第１及び第２のポリオルガノシロキサンは、伝導性充填剤が、ポリマーマトリックス全体に分散した粒子として存在するポリマーマトリックスを形成する。
【0018】
第１のポリオルガノシロキサンは、主要マトリックス材料成分であることが望ましい。第１のポリオルガノシロキサンは、無水物官能基を含まなくてもよく、望ましくは無水物官能基を含まない。
【0019】
第１のポリオルガノシロキサンは、望ましくは、線状ポリオルガノシロキサンである。線状ポリオルガノシロキサンは、主に、Ｒ３ＳｉＯ１／２及びＲ２ＳｉＯ２／２シロキサン単位を含み、及びこれらからなることができ、式中、各Ｒは、有機基、望ましくは、アルキル基及びアリール基を含むヒドロカルビル基からなる群から独立して選択される。第１のポリオルガノシロキサンは、化学構造（Ｉ）を有することができる：
式中、各Ｒ及びＲ’は、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基からなる群から選択され、「ｍ」は、第１のポリオルガノシロキサンが０．０４～５５パスカル＊秒（Ｐａ＊ｓ）の範囲内の動的粘度を有するように選択される。
【化1】
式中、各Ｒ及びＲ’は、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基からなる群から選択され、「ｍ」は、第１のポリオルガノシロキサンが０．０４～５５パスカル＊秒（Ｐａ＊ｓ）の範囲内の動的粘度を有するように選択される。
【0020】
例えば、Ｒ’基は、各出現において独立して、アルケニル基から選択することができ、一方、Ｒ基は、各出現において独立して、アリール基及びアルキル基から選択することができる。例えば、Ｒ’基は、ビニル基であり得、Ｒ基は、各出現において独立して、フェニル基及びメチル基から選択され得る。
【0021】
第１のポリオルガノシロキサンの動的粘度は、望ましくは、０．０４パスカル＊秒（Ｐａ＊ｓ）以上、０．１０Ｐａ＊ｓ以上、０．５Ｐａ＊ｓ以上、１．０Ｐａ＊ｓ以上、５．０Ｐａ＊ｓ以上、１０Ｐａ＊ｓ以上、１５Ｐａ＊ｓ以上、２０Ｐａ＊ｓ以上、２５Ｐａ＊ｓ以上、３０Ｐａ＊ｓ以上、３５Ｐａ＊ｓ以上、４０Ｐａ＊ｓ以上、４５Ｐａ＊ｓ以上、更には５０Ｐａ＊ｓ以上であり、同時に、典型的には、１００Ｐａ＊ｓ以下、７５Ｐａ＊ｓ以下、６０Ｐａ＊ｓ以下、５５Ｐａ＊ｓ以下、５０Ｐａ＊ｓ以下、４５Ｐａ＊ｓ以下、４０Ｐａ＊ｓ以下、３５Ｐａ＊ｓ以下、３０Ｐａ＊ｓ以下、２５Ｐａ＊ｓ以下、２０Ｐａ＊ｓ以下、１５Ｐａ＊ｓ以下、１０Ｐａ＊ｓ以下、５Ｐａ＊ｓ以下、更には１．０Ｐａ＊ｓ以下の動的粘度を有し、「ｍ」の値は、Ｒ及びＲ’の選択に基づいて、その粘度を達成するように選択される。
【0022】
「ｍ」の値は、例えば、３０以上、４０以上、５０以上、６０以上、７０以上、８０以上、９０以上、１００以上、１２０以上、１４０以上、１６０以上、１８０以上、２００以上、２５０以上、３００以上、３５０以上、４００以上、４５０以上、更には５００以上であり得るが、同時に、「ｍ」の値は、典型的には、８００以下、７００以下、６００以下、又は更には５００以下である。
【0023】
第２のポリオルガノシロキサンは、第１のポリオルガノシロキサンとは異なり、無水物基官能性を有するポリオルガノシロキサンであるか、又はそれを含む。第２のポリオルガノシロキサンは、１分子当たり、０．５以上、好ましくは、０．５６以上、及び、０．６以上、０．７０以上、０．８０以上、０．９０以上、１．０以上、１．１以上、１．２以上、１．３以上、更には１．４以上であり得、同時に、２．０未満、好ましくは、１．７５以下、１．５以下であり、及び１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、１．０以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、更には０．６以下であり得る、平均濃度の無水物基を有する。第２のポリオルガノシロキサンが、２つ以上のポリオルガノシロキサンのブレンドである場合、最大濃度で存在するポリオルガノシロキサンは、１分子当たり２個未満の無水物基を有する。
【0024】
第２のポリオルガノシロキサンは、第１のポリオルガノシロキサンよりも高い動的粘度を有することができる。更に驚くべきことに、第２のポリオルガノシロキサンの添加は、組成物の充填剤含有量を同じに維持しながら、ポリマーマトリックスとして第１のポリオルガノシロキサンを含む組成物の低せん断粘度の低減をもたらし得る。
【0025】
第２のポリオルガノシロキサンは、無水物官能基をポリオルガノシロキサン上に導入する官能化反応から得られる反応生成物の組み合わせを含む反応生成物であり得る。例えば、無水物は、ラジカルグラフト化又はヒドロシリル化のいずれかによってポリシロキサン上に導入することができ、各々固有の反応生成物を有する。
【0026】
無水物官能基は、ラジカルグラフト化によってポリシロキサン上に付加することができる。例えば、アルケニル官能性ポリシロキサン（例えば、ビニル官能性ポリオルガノシロキサン）は、ラジカル開始剤の存在下で不飽和無水物（例えば、無水マレイン酸）と組み合わせることができ、ポリシロキサンのアルケニル基と無水物の不飽和部分との間でフリーラジカルグラフト反応を生じさせて、無水物をポリオルガノシロキサンにグラフト化することができる。反応は、芳香族開始剤を用いて及び／又は芳香族溶媒中で行われることが多く、その結果、開始剤及び／又は溶媒のラジカルも無水物上にグラフト化される。一例として、ビニル官能性ポリオルガノシロキサンは、ジベンゾイルペルオキシドなどのラジカル開始剤とともに芳香族溶媒（キシレン又はトルエンなど）中で無水マレイン酸と組み合わされ、次いで加熱して、フリーラジカル反応を開始することができる：
ここで、反応生成物は、反応物のモル比に応じて、以下の化合物のいずれかを有することができる：
（ａ）未反応ビニル官能性ポリオルガノシロキサン：ＶｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ｖｉ、
（ｂ）単官能化ポリオルガノシロキサン：ＶｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ
（ｃ）二官能化ポリオルガノシロキサン：ＡＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ、
式中、Ｒは、上記定義のとおりであり、Ｖｉは、ビニル基を指し、「Ａ」は、以下のとおりであり：
Ｘは、溶媒の残留物（例えば、トリル基又はキシリル基）若しくは開始剤の残留物（例えば、ベンゾイル基）である芳香族基、又はラジカルが無水物上にグラフト化しなかったか若しくはグラフト化したままではなかった場合は水素である。
【化2】
ここで、反応生成物は、反応物のモル比に応じて、以下の化合物のいずれかを有することができる：
（ａ）未反応ビニル官能性ポリオルガノシロキサン：ＶｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ｖｉ、
（ｂ）単官能化ポリオルガノシロキサン：ＶｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ
（ｃ）二官能化ポリオルガノシロキサン：ＡＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ、
式中、Ｒは、上記定義のとおりであり、Ｖｉは、ビニル基を指し、「Ａ」は、以下のとおりであり：
【化3】
Ｘは、溶媒の残留物（例えば、トリル基又はキシリル基）若しくは開始剤の残留物（例えば、ベンゾイル基）である芳香族基、又はラジカルが無水物上にグラフト化しなかったか若しくはグラフト化したままではなかった場合は水素である。
【0027】
１分子当たり２未満の無水物濃度を確実とするために、モル過剰のビニル官能性ポリオルガノシロキサンを用いて第２のポリオルガノシロキサンを調製する。本発明では、主要なグラフト反応生成物（最も高い濃度で存在するもの）が単官能化ポリオルガノシロキサン（ｂ）であることが望ましい。（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含むことができる反応生成物混合物は、第１のポリオルガノシロキサンとしてともに使用することができる。
【0028】
第２のポリオルガノシロキサンは、ヒドロシリル化反応を使用して調製することができる。例えば、シリルヒドリド（silylhydride、ＳｉＨ）末端ポリオルガノシロキサンは、触媒の存在下でアルケニル官能性無水物（アリルコハク酸無水物など）と反応させることができる。反応物のモル比を選択して、反応生成物の平均無水物濃度を提供する。反応は、望ましくは、反応生成物上の平均無水物濃度が２未満であるように、モル過剰のＳｉＨ末端ポリオルガノシロキサンを用いて行われる。
【0029】
シリルヒドリド反応合成の一例として、線状ＳｉＨ末端ポリオルガノシロキサンは、ヒドロシリル化触媒（白金触媒など）の存在下で、アリルコハク酸無水物と反応させることができる：
ここで、反応生成物は、反応物のモル比に応じて、以下の化合物のいずれかを有することができる：
（ａ）未反応ビニル官能性ポリオルガノシロキサン：ＨＳｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２ＳｉＨ、
（ｂ）単官能化ポリオルガノシロキサン：ＨＳｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ’
（ｃ）二官能化ポリオルガノシロキサン：ＡＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ’、
式中、「Ａ’」は、以下のとおりであり：
Ｘは、水素（Ｈ）である。反応生成物は、典型的には、主に（ｂ）単官能化ポリオルガノシロキサンを含有する。反応生成物は、ポリオルガノシロキサン１分子当たりの平均無水物官能価が必要な範囲内にあることを条件として、更に精製することなく第２のポリオルガノシロキサンとして使用することができる。
【化4】
ここで、反応生成物は、反応物のモル比に応じて、以下の化合物のいずれかを有することができる：
（ａ）未反応ビニル官能性ポリオルガノシロキサン：ＨＳｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２ＳｉＨ、
（ｂ）単官能化ポリオルガノシロキサン：ＨＳｉＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ’
（ｃ）二官能化ポリオルガノシロキサン：ＡＲ２ＳｉＯ－（Ｒ２ＳｉＯ）ｍ－ＳｉＲ２Ａ’、
【化5】
式中、「Ａ’」は、以下のとおりであり：
Ｘは、水素（Ｈ）である。反応生成物は、典型的には、主に（ｂ）単官能化ポリオルガノシロキサンを含有する。反応生成物は、ポリオルガノシロキサン１分子当たりの平均無水物官能価が必要な範囲内にあることを条件として、更に精製することなく第２のポリオルガノシロキサンとして使用することができる。
【0030】
第２のポリオルガノシロキサンは、平均化学構造（ＩＩ）を有することができる：
式中、「ｎ」は、４０～２００の範囲内にある平均値を有し、Ｒは、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基からなる群から選択され、Ｒ”は、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基、シリルヒドリド、及び無水物基からなる群から選択される。無水物基は、化学構造（ＩＩＩ）のコハク酸無水物であり得：
式中、Ｘは、各出現において独立して、水素及びＣ１－Ｃ８ヒドロカルビル含有基から選択され、「ａ」は、各出現において独立して、１以上、２以上、３以上、４以上、更には５以上、同時に、６以下、５以下、４以下、３以下、又は更には２以下の値を有する。Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル含有基は、ベンゾイルなどの芳香族ラジカル開始剤からの残留物、又はキシリル若しくはトリルなどの芳香族溶媒からの残留物などの任意の１つ又は２つ以上の芳香族基であり得る。
【化6】
式中、「ｎ」は、４０～２００の範囲内にある平均値を有し、Ｒは、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基からなる群から選択され、Ｒ”は、各出現において独立して、Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル基、シリルヒドリド、及び無水物基からなる群から選択される。無水物基は、化学構造（ＩＩＩ）のコハク酸無水物であり得：
【化7】
式中、Ｘは、各出現において独立して、水素及びＣ１－Ｃ８ヒドロカルビル含有基から選択され、「ａ」は、各出現において独立して、１以上、２以上、３以上、４以上、更には５以上、同時に、６以下、５以下、４以下、３以下、又は更には２以下の値を有する。Ｃ１－Ｃ８ヒドロカルビル含有基は、ベンゾイルなどの芳香族ラジカル開始剤からの残留物、又はキシリル若しくはトリルなどの芳香族溶媒からの残留物などの任意の１つ又は２つ以上の芳香族基であり得る。
【0031】
第２のポリオルガノシロキサンは、平均化学構造（ＩＩ）を有することができ、式中、「ａ」が２であるとき、Ｘは、各出現において独立して、芳香族基又は水素から選択され、「ａ」が３であるとき、Ｘは、水素である。
【0032】
第２のポリオルガノシロキサン上の無水物官能基の平均濃度は、無水物で官能化し、次いで、第２のポリオルガノシロキサン中の反応性部位の数に対する無水物基の比を測定する前に、ポリオルガノシロキサン中の反応性部位（例えば、アルケニル及びシリルヒドリド基）の数に基づいて、測定することができる。反応性部位及び無水物基の数を、１Ｈ核磁気共鳴（nuclear magnetic resonance、ＮＭＲ）分光法、又は代替的にフーリエ変換赤外（Fourier Transform Infrared、ＦＴＩＲ）分光法を使用して測定する。反応部位及び無水物基の数を、内部標準として１，４－ジオキサンを使用する１Ｈ ＮＭＲ分光法を使用して測定する。シリルヒドリド、アルケニル及び無水物などの官能基の濃度は、以下の計算を使用して計算することができる：
Ｃｘ＝（Ｉｘ／Ｉｉｓ）（Ｎｉｓ／Ｎｘ）（Ｃｉｓ）
式中、Ｉｘは、対象となる官能基の積分面積（アルケニルについては６．３～５．６ｐｐｍ、シリルヒドリドについては４．８～４．５ｐｐｍ、無水物については３．５～２．０ｐｐｍ）であり、Ｉｉｓは、内部標準（３．６８ｐｐｍ）の積分面積であり、Ｎｉｓは、内部標準の核の数（この場合Ｎｉｓ＝８）であり、Ｎｘは、対象となる官能基についての核の数（シリルヒドリドについて１、アルケニルについて６、及び無水物について５）であり、Ｃｘは、対象となる官能基の濃度であり、Ｃｉｓは、内部標準の濃度である。
Ｃｘ＝（Ｉｘ／Ｉｉｓ）（Ｎｉｓ／Ｎｘ）（Ｃｉｓ）
式中、Ｉｘは、対象となる官能基の積分面積（アルケニルについては６．３～５．６ｐｐｍ、シリルヒドリドについては４．８～４．５ｐｐｍ、無水物については３．５～２．０ｐｐｍ）であり、Ｉｉｓは、内部標準（３．６８ｐｐｍ）の積分面積であり、Ｎｉｓは、内部標準の核の数（この場合Ｎｉｓ＝８）であり、Ｎｘは、対象となる官能基についての核の数（シリルヒドリドについて１、アルケニルについて６、及び無水物について５）であり、Ｃｘは、対象となる官能基の濃度であり、Ｃｉｓは、内部標準の濃度である。
【0033】
本発明の組成物は、伝導性充填剤を含む。充填剤は、電気伝導性充填剤及び熱伝導性充填剤からなる群から選択される２つ以上の充填剤のタイプのうちのいずれか１つ又は任意の組み合わせである充填剤粒子である。熱伝導性充填剤としては、アルミニウム、銀及び銅の粒子などの金属粒子、アルミニウム、銀及び銅などの金属でコーティングされた任意のタイプの粒子を含む金属コーティングされた粒子、窒化ホウ素、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、窒化アルミニウム、及びアルミニウム三水和物などの無機粒子、並びにカーボンナノチューブ、グラフェン、及び炭素繊維などの炭素質材料が挙げられる。熱伝導性充填剤としては、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、銅及びこれらの合金の粒子などの金属粒子、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、銅及びこれらの合金などの金属でコーティングされた任意の種類の粒子、並びに、カーボンブラック、炭素繊維、カーボンナノチューブ、及びグラフェンが挙げられる。望ましくは、伝導性充填剤は、アルミナ、酸化亜鉛、アルミナ三水和物、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、銀フレーク、及び銀コーティングされた微粒子からなる群から選択される２つ以上の充填剤のうちのいずれか１つ又は任意の組み合わせである。
【0034】
伝導性充填剤は、組成物の体積に基づいて、５０体積パーセント（体積％）以上、５５体積％以上、６０体積％以上、６５体積％以上、７０体積％以上、更に７５体積％以上の濃度で組成物中に存在し、同時に、典型的には、８０体積％以下、７５体積％以下、７０体積％以下、６５体積％以下、６０体積％以下、更に５５体積％以下の濃度で存在する。
【0035】
伝導性充填剤は、典型的には、０．０１マイクロメートル（μｍ）以上、０．０５μｍ以上、０．１μｍ以上、０．２μｍ以上、０．５μｍ以上、１．０μｍ以上、２．０μｍ以上、３．０μｍ以上、５．０μｍ以上、１０μｍ以上、２０μｍ以上、３０μｍ以上、４０μｍ以上、５０μｍ以上、及び６０μｍ以上であり得、７０μｍ以上、８０μｍ以上、９０μｍ以上、更には１００μｍ以上の平均粒径を有し、同時に、典型的には、２５０μｍ以下、２００μｍ以下、１５０以下、１００μｍ以下、９０μｍ以下、８０μｍ以下、７０μｍ以下、６０μｍ以下、５０μｍ以下、４０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、１０μｍ以下、５．０μｍ以下、更には３．０μｍ以下、１．０μｍ以下の平均粒径を有する。Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製のＭａｓｔｅｒｓｉｚｅｒ（商標）３０００レーザー回折粒径分析器を用いて、ポリオルガノシロキサンの粒径分布の体積加重中央値（Ｄｖ５０）として平均粒径を測定する。
【0036】
伝導性充填剤は、２つ以上の平均粒径を有する粒子の組み合わせであり得る。例えば、伝導性充填剤は、上で説明されたように各々が平均粒径を有するが、群内の他のタイプの伝導性充填剤とは異なる平均粒径を有する、２つのタイプ、３つのタイプ、更には４つ以上のタイプの伝導性充填剤を含む伝導性充填剤の群であり得る。
【0037】
本発明の組成物は、本明細書において既に考察されたもの以外の追加の成分のうちのいずれか１つ又はその組み合わせを更に含むことができるか、又は含まなくてもよい。例えば、組成物は、マトリックス材料の一部として充填剤処理剤を更に含むことができる（又は含まなくてもよい）。充填剤処理剤は、典型的には、充填剤凝集及び充填剤－充填剤相互作用を低減させることによって、マトリックス材料への充填剤の分散を改善するために望ましい。充填剤処理剤はまた、マトリックス材料による充填剤表面のウェットアウトを改善し、組成物の粘度を低減させ、充填剤表面上の反応性基をキャップして、組成物の貯蔵寿命を低減させ得る充填剤との反応を防止することができる。望ましくは、処理剤は、アルキルトリアルコキシシラン及びモノトリアルコキシシロキシ末端ジオルガノポリシロキサンの一方又は両方を含むか、又はこれらからなる。
【0038】
適なアルキルトリアルコキシシランの例は、一般式：（Ｒ１）（Ｒ２Ｏ）３Ｓｉを有し、式中、Ｒ１は、望ましくは１分子当たり平均で、６個以上、７個以上、８個以上、９個以上、１０個以上、１１個以上、１２個以上、１３個以上、１４個以上、１５個以上、更には１６個以上の炭素原子を有するアルキルであり、かつ同時に典型的には１８個以下の炭素原子を有し、１７個以下、１６個以下、１５個以下、１４個以下、１３個以下、１２個以下、１１個以下、又は更には１０個以下の炭素原子を有してもよく、Ｒ２は、望ましくは、１個以上、２個以上、３個以上、４個以上、５個以上、更には６個以上の炭素原子を有するアルキルであり、かつ同時に典型的には１０個以下、９個以下、８個以下、７個以下、６個以下、５個以下、４個以下、３個以下、更には２個以下の炭素原子を有する。望ましくは、アルキルトリアルコキシシランは、上記のアルキル基を有するアルキルトリメトキシシランである。望ましいアルキルトリアルコキシシランの一例は、ｎ－デシルトリメトキシシランである。組成物中のアルキルトリアルコキシシランの濃度は、組成物の重量に基づいて、概ね０重量％以上、０．０５重量％以上、０．１０重量％以上、０．２０重量％以上、０．２２重量％以上、０．２４重量％以上であり、かつ同時に、概ね０．３０重量％以下、好ましくは、０．２８重量％以下、０．２６重量％以下、０．２４重量％以下、及び０．２２重量％以下であり得る。
【0039】
好適なモノトリアルコキシシロキシ末端ジオルガノポリシロキサンの例は、概して、以下の化学構造（ＩＶ）を有し：
式中、Ｒ及びＲ２は各々、各出現において独立して、上記で定義されたとおりであり、下付き文字ｈは、１分子当たりの（Ｒ２ＳｉＯ）単位の平均数であり、典型的には１０以上、１５以上、２０以上、２５以上、更には３０以上の値を有し、かつ同時に、概ね１５０以下、１４０以下、１３０以下、１２０以下、１１０以下、１００以下、９０以下、８０以下、７０以下、６０以下、５０以下、４５以下、４０以下、３５以下、又は更には３０以下であり、下付き文字ｅは、各出現において独立して、０以上、１以上、更には２以上の値を有し、かつ同時に通常、４以下、３以下、又は更には２以下であり、下付き文字ｆは、典型的には０以上、１以上、２以上、３以上の値を有し、同時に概ね、６以下、５以下、４以下、３以下、又は更には２以下であり、下付き文字ｇは、典型的には０以上、１以上、２以上、３以上、更には４以上の値を有し、同時に概ね、６以下、更には５以下、４以下、又は３以下の値を有する。
【化8】
式中、Ｒ及びＲ２は各々、各出現において独立して、上記で定義されたとおりであり、下付き文字ｈは、１分子当たりの（Ｒ２ＳｉＯ）単位の平均数であり、典型的には１０以上、１５以上、２０以上、２５以上、更には３０以上の値を有し、かつ同時に、概ね１５０以下、１４０以下、１３０以下、１２０以下、１１０以下、１００以下、９０以下、８０以下、７０以下、６０以下、５０以下、４５以下、４０以下、３５以下、又は更には３０以下であり、下付き文字ｅは、各出現において独立して、０以上、１以上、更には２以上の値を有し、かつ同時に通常、４以下、３以下、又は更には２以下であり、下付き文字ｆは、典型的には０以上、１以上、２以上、３以上の値を有し、同時に概ね、６以下、５以下、４以下、３以下、又は更には２以下であり、下付き文字ｇは、典型的には０以上、１以上、２以上、３以上、更には４以上の値を有し、同時に概ね、６以下、更には５以下、４以下、又は３以下の値を有する。
【0040】
望ましくは、モノトリアルコキシシロキシ末端ジオルガノポリシロキサンは、一般分子構造（Ｖ）を有する：
１つの特に望ましいトリアルコキシシロキシ末端ジオルガノポリシロキサンは、Ｒ２がメチルに等しく、下付き文字ｔが、１３０以下、好ましくは、１２０以下、好ましくは、１１０以下、より好ましくは、１１０以下１００以下、９０以下、８０以下、７０以下、６０以下、５０以下、４０以下、又は３０以下、同時に２０以上、好ましくは、３０以上の平均値を有する式（Ｖ）の組成物を有することで、末端トリメトキシ官能化ケイ素原子を形成する。
【化9】
１つの特に望ましいトリアルコキシシロキシ末端ジオルガノポリシロキサンは、Ｒ２がメチルに等しく、下付き文字ｔが、１３０以下、好ましくは、１２０以下、好ましくは、１１０以下、より好ましくは、１１０以下１００以下、９０以下、８０以下、７０以下、６０以下、５０以下、４０以下、又は３０以下、同時に２０以上、好ましくは、３０以上の平均値を有する式（Ｖ）の組成物を有することで、末端トリメトキシ官能化ケイ素原子を形成する。
【0041】
モノトリアルコキシシロキシ末端ジオルガノシロキサンの濃度は、組成物の重量に基づいて典型的には０重量％以上、０．１０重量％以上、０．２０重量％以上、０．３０重量％以上、０．４０重量％以上、０．５０重量％以上、０．７５重量％以上、更には１．０重量％以上又は２．０重量％以上であり、かつ同時に、概ね３．０重量％以下、２．０重量％以下、１．２０重量％以下、１．１５重量％以下、又は更には１．１０重量％以下である。
【0042】
組成物は、複数の追加成分のうちのいずれか１つ若しくは任意の組み合わせを更に含んでもよい（又は含まなくてもよい）。そのような追加成分の例としては、硬化阻害剤、酸化防止安定剤、顔料、粘度調整剤、シリカ充填剤、及びスペーサー添加剤が挙げられる。誤解を避けるため、組成物は、このような追加成分のいずれか１つ又は任意の組み合わせ又は複数のものを含まなくてもよい。例えば、組成物は、シリカ充填剤を含まなくてもよい。「シリカ充填剤」とは、天然シリカ（結晶石英、粉砕石英、及び珪藻土シリカなど）、並びに合成シリカ（ヒュームドシリカ、溶融シリカ、シリカゲル、及び沈降シリカ）を含む、シリカを含む固体微粒子を指す。上記に加え、又は上記に代えて、本発明の組成物は、ポリエーテル及び／又はシラノール官能性ポリジメチルシロキサンを含まなくてもよい。
【0043】
硬化阻害剤の一例としては、メチル（トリス（１，１－ジメチル－２－プロピニルオキシ））シランがある。存在する場合、阻害剤は、典型的には組成物の重量に基づいて０．０００１重量％以上又は０．００１重量％以上の濃度で存在し、同時に、概ね５重量％以下、又は更には１重量％以下、更には０．５重量％以下の濃度で存在する。
【0044】
酸化防止剤は、存在する場合、典型的には組成物の重量の０．００１～１重量％の濃度で含まれてもよい。酸化防止剤は、単独で、又は安定剤と組み合わせて存在してもよい。酸化防止剤としてはフェノール系酸化防止剤が挙げられ、安定剤としては有機リン誘導体が挙げられる。
【0045】
顔料の例としては、カーボンブラック、グラファイト、二酸化チタン、及び銅フタロシアニンが挙げられる。存在する場合、顔料は、組成物の重量に基づいて０．０００１～１重量％の濃度で存在しやすい。
【0046】
スペーサー添加剤は非熱伝導性充填剤であり、５０～２５０マイクロメートルの範囲の平均粒径を有する。スペーサーの例としては、ガラス及びポリマービーズが挙げられる。
【0047】
組成物は、ヒドロキシル官能性ポリシロキサン及びヒドロキシル官能性炭化水素を含まなくてもよい。
【0048】
本発明の組成物は、硬化性組成物であり得る。例えば、組成物は、アルケニル（例えば、ビニル）基含有ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン含有シリルヒドリド基、及びシリル化触媒の両方を含有することができる。かかる組成物は、ヒドロシリル化架橋を受けることができる。
【0049】
本発明の組成物は、２つ以上の成分を伝導的に結合するための伝導性界面材料として使用することができる。例えば、本発明の熱伝導性組成物は、組成物を熱源と熱放散構成要素との間に位置決めして、熱的に接触させることによって、熱源を熱放散構成要素に熱的に結合するために使用することができる。本発明の電気伝導性組成物は、組成物を構成要素と電気的に接触させて位置決めすることによって、２つ以上の構成要素を電気的に結合するために使用することができる。電気伝導性組成物はまた、電磁干渉（electromagnetic interference、ＥＭＩ）遮蔽のために使用することもできる。組成物は、組成物が伝導的に結合されている構成要素若しくは他の構成要素の特徴部の中に、特徴部を通って、及び／又は特徴部の周りに流入するように、構成要素の中に又は構成要素上に注ぐなど、自己平滑化又は低せん断流動性が所望されるか又は必要とされる場所に適用するのに特に有用である。
【実施例】
【0050】
材料及び組成物の特徴付け
低せん断粘度。本明細書において上で説明したように組成物に関する低せん断粘度を測定する。
低せん断粘度。本明細書において上で説明したように組成物に関する低せん断粘度を測定する。
【0051】
１Ｈ ＮＭＲ分析。Ｖａｒｉａｎ Ｕｎｉｔｙ ＩＮＯＶＡ ４００（４００ＭＨｚ）分光計を使用して１Ｈ ＮＭＲスペクトルを収集する。１，４－ジオキサン（３．６８ｐｐｍ）を内部標準として使用する。６４のスキャン及び１５秒の緩和遅延を使用する。
【0052】
２９Ｓｉ ＮＭＲ分析。Ｖａｒｉａｎ Ｕｎｉｔｙ ＩＮＯＶＡ ４００（４００ＭＨｚ）分光計を使用して２９Ｓｉ ＮＭＲスペクトルを収集する。０．２Ｍのクロム（ＩＩＩ）アセチルアセトネートを含有する溶媒として重水素化クロロホルムを使用する。２５６のスキャン及び１３秒の緩和遅延を使用する。
【0053】
材料
表１及び表２は、本明細書において説明された試料を調製する際に使用するための材料を特定する。「Ｍｅ」は、メチル基を指し、「Ｈｅｘ」は、ヘキシル基を指し、及び「Ｖｉ」は、ビニル基を指す。
表１及び表２は、本明細書において説明された試料を調製する際に使用するための材料を特定する。「Ｍｅ」は、メチル基を指し、「Ｈｅｘ」は、ヘキシル基を指し、及び「Ｖｉ」は、ビニル基を指す。
【表1】
【表2】
【0054】
阻害剤溶液１の調製
まず２．００ｇの阻害剤１、続いて１８．００ｇのポリマー４を添加することによって、歯科用カップ中で阻害剤溶液１を調製する。ＦｌａｃｋＴｅｋ ＤＡＣ１５０スピードミキサを使用して、２０００ＲＰＭで３０秒間、成分を一緒に混合する。
まず２．００ｇの阻害剤１、続いて１８．００ｇのポリマー４を添加することによって、歯科用カップ中で阻害剤溶液１を調製する。ＦｌａｃｋＴｅｋ ＤＡＣ１５０スピードミキサを使用して、２０００ＲＰＭで３０秒間、成分を一緒に混合する。
【0055】
触媒溶液１の調製
まず０．４３ｇの白金触媒１を１０ｇのトルエン（Ｓｉｇｍａ）に添加することによって、２０ｍＬのガラスバイアル中で触媒溶液１を調製する。撹拌棒を加え、内容物を３００ＲＰＭで１５分間撹拌する。
まず０．４３ｇの白金触媒１を１０ｇのトルエン（Ｓｉｇｍａ）に添加することによって、２０ｍＬのガラスバイアル中で触媒溶液１を調製する。撹拌棒を加え、内容物を３００ＲＰＭで１５分間撹拌する。
【0056】
触媒溶液２の調製
まず２．００ｇの白金触媒２、続いて１８．００ｇのポリマー４を添加することによって、歯科用カップ中で触媒溶液２を調製する。次いで、ＦｌａｃｋＴｅｋ ＤＡＣ１５０スピードミキサを使用して、２０００ＲＰＭで３０秒間、添加された成分を混合する。
まず２．００ｇの白金触媒２、続いて１８．００ｇのポリマー４を添加することによって、歯科用カップ中で触媒溶液２を調製する。次いで、ＦｌａｃｋＴｅｋ ＤＡＣ１５０スピードミキサを使用して、２０００ＲＰＭで３０秒間、添加された成分を混合する。
【0057】
添加剤１の合成
８０℃のオーブンで焼成した清浄で乾燥した５００ミリリットル（ｍＬ）丸底４つ口バッフル付きフラスコに、１５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１００ｇの添加剤６を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１２０回転（revolutions per minute、ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、５００ｍＬサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで１．５３ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比１：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、６．４５ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１６０ＲＰＭに増加させる。混合物を２時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で、淡黄色の材料を１リットルのロータリーエバポレータフラスコに移し、ロータリーエバポレータを使用して真空下で溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
８０℃のオーブンで焼成した清浄で乾燥した５００ミリリットル（ｍＬ）丸底４つ口バッフル付きフラスコに、１５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１００ｇの添加剤６を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１２０回転（revolutions per minute、ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、５００ｍＬサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで１．５３ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比１：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、６．４５ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１６０ＲＰＭに増加させる。混合物を２時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で、淡黄色の材料を１リットルのロータリーエバポレータフラスコに移し、ロータリーエバポレータを使用して真空下で溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
【0058】
添加剤２の合成
８０℃のオーブンで焼成した清浄で、乾燥した３リットル丸底４つ口バッフル付きフラスコに、８５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び６００ｇの添加剤６を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１５５回転（ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、３リットルサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで１８．３ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比２：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、３９ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。追加の２５ｇのメタ－キシレンを添加して、ジャーをすすぎ、丸底フラスコに移す。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１９０ＲＰＭに増加させる。混合物を３時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で淡黄色の材料を１リットルのナルゲンボトルに移す。真空下でロータリーエバポレータを使用して溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
８０℃のオーブンで焼成した清浄で、乾燥した３リットル丸底４つ口バッフル付きフラスコに、８５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び６００ｇの添加剤６を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１５５回転（ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、３リットルサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで１８．３ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比２：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、３９ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。追加の２５ｇのメタ－キシレンを添加して、ジャーをすすぎ、丸底フラスコに移す。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１９０ＲＰＭに増加させる。混合物を３時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で淡黄色の材料を１リットルのナルゲンボトルに移す。真空下でロータリーエバポレータを使用して溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
【0059】
添加剤３の合成
８０℃のオーブンで焼成した清浄で乾燥した５００ミリリットル（ｍＬ）丸底４つ口バッフル付きフラスコに、１５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１５０ｇのポリマー５を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１００回転（ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、５００ｍＬサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで７．３４ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比１：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、７．８ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１９０ＲＰＭに増加させる。混合物を２時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で淡黄色の物質を１リットルのロータリーエバポレータフラスコに移し、溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
８０℃のオーブンで焼成した清浄で乾燥した５００ミリリットル（ｍＬ）丸底４つ口バッフル付きフラスコに、１５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１５０ｇのポリマー５を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１００回転（ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、５００ｍＬサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで７．３４ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比１：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、７．８ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１９０ＲＰＭに増加させる。混合物を２時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で淡黄色の物質を１リットルのロータリーエバポレータフラスコに移し、溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
【0060】
添加剤４の合成
８０℃のオーブンで焼成した清浄で乾燥した５００ミリリットル（ｍＬ）丸底４つ口バッフル付きフラスコに、１５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１５０ｇのポリマー５を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１００回転（ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、５００ｍＬサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで７．３４ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比１：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、７．８ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１９０ＲＰＭに増加させる。混合物を２時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で淡黄色の材料を１リットルのロータリーエバポレータフラスコに移し、溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように、１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
８０℃のオーブンで焼成した清浄で乾燥した５００ミリリットル（ｍＬ）丸底４つ口バッフル付きフラスコに、１５０グラム（ｇ）の乾燥メタ－キシレン（Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１５０ｇのポリマー５を添加する。フラスコに水冷還流冷却器を取り付け、ヘッドスペースを通して乾燥窒素を流し、窒素のわずかな陽圧を作製する。ポリテトラフルオロエチレンブレードを用いて１分当たり１００回転（ＲＰＭ）で混合物を撹拌し、５００ｍＬサイズの加熱マントルで加熱する。反応混合物中に浸漬した二重独立Ｋ型熱電対でフラスコの内容物の温度を監視する。混合物を６０℃に加熱し、次いで７．３４ｇの無水マレイン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ、無水物対ビニルモル比１：１）を添加し、これを撹拌下で完全に溶解させた。次いで、７．８ｇのジベンゾイルペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加する。フラスコネック上の試薬残留物をすすぎ、反応溶液との混合物に漏斗で落とす。温度を１２０℃に上げ、撹拌速度を１９０ＲＰＭに増加させる。混合物を２時間反応させ、次いで加熱マントルをコルクリングに置き換え、窒素掃引及び撹拌を維持しながらフラスコ内容物を２５℃に冷却させる。得られた透明で淡黄色の材料を１リットルのロータリーエバポレータフラスコに移し、溶媒を除去する。無水物濃度を、本明細書において上で説明されるように、１Ｈ ＮＭＲ分光法によって測定する。
【0061】
添加剤５の合成
まず、ＳｉＨ末端シロキサン１を以下の様式で調製する：還流冷却器、撹拌棒、温度プローブ及び窒素パージを装備した、オーブン乾燥させた１リットルの３つ口フラスコに、４９４．０３グラム（ｇ）のデカメチルシクロペンタシロキサン（Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＣｏｍｐａｎｙからＤＯＷＳＩＬ（商標）２４５ Ｆｌｕｉｄとして入手可能）及び６．０３ｇのテトラメチルジシロキサン（Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＣｏｍｐａｎｙからＤＯＷＳＩＬ（商標）３－７０１０ Ｆｌｕｉｄとして入手可能）を添加する。トリフルオロメタンスルホン酸（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ製０．２５ミリリットル）を添加し、１７５ＲＰＭで撹拌する。フラスコの内容物を７０℃に加熱し、８時間撹拌させる。フラスコの内容物を４０℃に冷却し、６．４７ｇの重炭酸ナトリウム（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加して、混合物を形成する。全ての混合物を２時間混合し続け、次いで混合物を２５℃に冷却させる。ナイロンメッシュ（０．４５マイクロメートル、Ｗｈａｔｍａｎから入手可能）を通して混合物を濾過する。濾液を真空下（１．３パスカル、１０ミリトール）で４時間１５０℃に加熱して、揮発性物質を除去し、ＳｉＨ末端シロキサン１を取得する。
まず、ＳｉＨ末端シロキサン１を以下の様式で調製する：還流冷却器、撹拌棒、温度プローブ及び窒素パージを装備した、オーブン乾燥させた１リットルの３つ口フラスコに、４９４．０３グラム（ｇ）のデカメチルシクロペンタシロキサン（Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＣｏｍｐａｎｙからＤＯＷＳＩＬ（商標）２４５ Ｆｌｕｉｄとして入手可能）及び６．０３ｇのテトラメチルジシロキサン（Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＣｏｍｐａｎｙからＤＯＷＳＩＬ（商標）３－７０１０ Ｆｌｕｉｄとして入手可能）を添加する。トリフルオロメタンスルホン酸（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ製０．２５ミリリットル）を添加し、１７５ＲＰＭで撹拌する。フラスコの内容物を７０℃に加熱し、８時間撹拌させる。フラスコの内容物を４０℃に冷却し、６．４７ｇの重炭酸ナトリウム（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）を添加して、混合物を形成する。全ての混合物を２時間混合し続け、次いで混合物を２５℃に冷却させる。ナイロンメッシュ（０．４５マイクロメートル、Ｗｈａｔｍａｎから入手可能）を通して混合物を濾過する。濾液を真空下（１．３パスカル、１０ミリトール）で４時間１５０℃に加熱して、揮発性物質を除去し、ＳｉＨ末端シロキサン１を取得する。
【0062】
次いで、以下の様式で添加剤５を調製する：磁気撹拌棒、水冷冷却器、ガラス熱電対及び追加の漏斗を装備した、オーブン乾燥した１００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、４８．８４ｇのＳｉＨ末端シロキサン１を添加する。フラスコの内容物を６０℃に加熱し、５滴のアリルコハク酸無水物（Ｗａｋｏ）を添加し、６００ＲＰＭで５分間撹拌させる。３３マイクロリットルの触媒溶液１を添加し、６０℃で１０分間撹拌する。０．３５ｇのアリルコハク酸無水物を２０分かけて滴下供給する。反応物を１時間混合し続ける。混合物を２５℃に冷却し、１Ｈ ＮＭＲ分光法２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法によって反応生成物（添加剤５）を分析して、構造を測定する。
【0063】
添加剤７の合成
還流冷却器、撹拌棒、温度プローブ、及び窒素パージを装備した１リットルの三つ口フラスコに、１９２．４２ｇのポリマー６、７．５８ｇのアリルコハク酸無水物（Ｗａｋｏ）、及び２２．２０ｇのイソドデカン（Ｆｉｓｃｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を添加する。フラスコの内容物を撹拌しながら７５℃に加熱する。０．７６グラムの触媒溶液１を添加する。溶液を８０℃で２時間撹拌する。フラスコの内容物を真空下（１．３パスカル、１０ミリトール）で２時間、１３５℃に加熱して、揮発性物質を除去し、添加剤７を取得する。１Ｈ ＮＭＲ分光法２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法によって添加剤７を特徴付けて、構造を測定する。
還流冷却器、撹拌棒、温度プローブ、及び窒素パージを装備した１リットルの三つ口フラスコに、１９２．４２ｇのポリマー６、７．５８ｇのアリルコハク酸無水物（Ｗａｋｏ）、及び２２．２０ｇのイソドデカン（Ｆｉｓｃｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を添加する。フラスコの内容物を撹拌しながら７５℃に加熱する。０．７６グラムの触媒溶液１を添加する。溶液を８０℃で２時間撹拌する。フラスコの内容物を真空下（１．３パスカル、１０ミリトール）で２時間、１３５℃に加熱して、揮発性物質を除去し、添加剤７を取得する。１Ｈ ＮＭＲ分光法２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法によって添加剤７を特徴付けて、構造を測定する。
【0064】
添加剤９の合成
０．３５ｇのアリルコハク酸無水物の代わりに、１．１６ｇのアリルコハク酸無水物を２０分かけて供給することを除いて、添加剤５と同様の様式で添加剤９を調製する。
０．３５ｇのアリルコハク酸無水物の代わりに、１．１６ｇのアリルコハク酸無水物を２０分かけて供給することを除いて、添加剤５と同様の様式で添加剤９を調製する。
【0065】
添加剤１０の合成
還流冷却器、撹拌棒、温度プローブ、及び窒素パージを装備した１リットルの三つ口フラスコに、４１２．１８ｇのポリマー７、６１．９６ｇのアリルコハク酸無水物（Ｗａｋｏ）、及び５５．５６ｇのイソドデカン（Ｆｉｓｃｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を添加する。フラスコの内容物を撹拌しながら７６℃に加熱し、次いで０．５３グラムの触媒溶液１を添加し、８０℃で２時間撹拌する。６０℃に減熱し、次いで４５グラムの１－ヘキセン（Ｓｉｇｍａ）及び０．２５グラムの触媒溶液１を添加する。６０℃で２時間撹拌する。フラスコの内容物を真空下（１．３パスカル、１０ミリトール）で２時間、１３５℃に加熱して、揮発性物質を除去する。１Ｈ ＮＭＲ分光法２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法によって添加剤１０を特徴付けて、構造を測定する。
還流冷却器、撹拌棒、温度プローブ、及び窒素パージを装備した１リットルの三つ口フラスコに、４１２．１８ｇのポリマー７、６１．９６ｇのアリルコハク酸無水物（Ｗａｋｏ）、及び５５．５６ｇのイソドデカン（Ｆｉｓｃｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を添加する。フラスコの内容物を撹拌しながら７６℃に加熱し、次いで０．５３グラムの触媒溶液１を添加し、８０℃で２時間撹拌する。６０℃に減熱し、次いで４５グラムの１－ヘキセン（Ｓｉｇｍａ）及び０．２５グラムの触媒溶液１を添加する。６０℃で２時間撹拌する。フラスコの内容物を真空下（１．３パスカル、１０ミリトール）で２時間、１３５℃に加熱して、揮発性物質を除去する。１Ｈ ＮＭＲ分光法２９Ｓｉ ＮＭＲ分光法によって添加剤１０を特徴付けて、構造を測定する。
【0066】
組成物
パートＩ：様々な添加剤を有する熱伝導性組成物
試料の調製。まずポリマー１成分を添加することによって、歯科用カップ中で試料を調製する。組成物が添加剤を含有する場合、添加剤成分を添加し、ＦｌａｃｋＴｅｋ ＤＡＣ１５０スピードミキサを使用して２０００ＲＰＭで２０秒間混合し、そうでなければ、充填剤１の添加を続ける。充填剤１成分を添加し、２０００ＲＰＭで２０秒間混合し、続いて手動で混合する。充填剤２成分を添加し、２０００ＲＰＭで２０秒間混合し、続いて手動で混合する。充填剤３成分を添加し、２５００ＲＰＭで２０秒間混合し、続いて手動で混合する。２回目の混合を、２５００ＲＰＭで２０秒間行う。得られた混合物を３．０６６キロパスカル（２３ミリメートル水銀柱）圧の真空オーブン中で１５０℃に１時間加熱して、最終試料を取得する。
パートＩ：様々な添加剤を有する熱伝導性組成物
試料の調製。まずポリマー１成分を添加することによって、歯科用カップ中で試料を調製する。組成物が添加剤を含有する場合、添加剤成分を添加し、ＦｌａｃｋＴｅｋ ＤＡＣ１５０スピードミキサを使用して２０００ＲＰＭで２０秒間混合し、そうでなければ、充填剤１の添加を続ける。充填剤１成分を添加し、２０００ＲＰＭで２０秒間混合し、続いて手動で混合する。充填剤２成分を添加し、２０００ＲＰＭで２０秒間混合し、続いて手動で混合する。充填剤３成分を添加し、２５００ＲＰＭで２０秒間混合し、続いて手動で混合する。２回目の混合を、２５００ＲＰＭで２０秒間行う。得られた混合物を３．０６６キロパスカル（２３ミリメートル水銀柱）圧の真空オーブン中で１５０℃に１時間加熱して、最終試料を取得する。
【0067】
表３は、各成分のグラム（ｇ）を示すパートＩの試料配合物及びそれらの試料の特徴を列挙する。
【0068】
表３のデータからのいくつかの観察は、以下を含む：
（ａ）８２体積％の充填剤の使用は、添加剤による低せん断粘度低減を達成するには高すぎる。
（ａ）８２体積％の充填剤の使用は、添加剤による低せん断粘度低減を達成するには高すぎる。
【0069】
（ｂ）添加剤１分子当たりの無水物基の平均数は、低せん断粘度低減を引き起こすために２未満でなければならない。例えば、試料Ｔを試料９、１１、１５及び２２と比較されたい。
【0070】
（ｃ）添加剤１分子当たりの無水物基の平均数は、低せん断粘度低減を引き起こすために０より大きくなければならない。例えば、試料Ｑを試料９及び１１と、並びに試料Ｐを試料８及び１０と比較されたい。
１低せん断粘度変化は、同じ体積％の充填剤を有する試料参照Ａ～Ｆに対するものである
２組成物は、粘度を測定するには濃すぎる。
【表3】
１低せん断粘度変化は、同じ体積％の充填剤を有する試料参照Ａ～Ｆに対するものである
２組成物は、粘度を測定するには濃すぎる。
【0071】
パートＩＩ：ビニルシロキサン熱伝導性組成物中の添加剤１
手順においてポリマー１の代わりにポリマー２を使用することを除いて、パートＩと同様の様式で試料参照Ｙ及び２４を調製する。参照Ｙについては、２．８６４ｇのポリマー２、１．７１４ｇの充填剤１、５．１４１ｇの充填剤２、及び１０．２８２ｇの充填剤３を使用する。試料２４では、０．３０５の添加剤１、２．５５８ｇのポリマー２、１．７１４ｇの充填剤１、５．１４２ｇの充填剤２、及び１０．２８５ｇの充填剤３を使用する。表４は、これらの２つの試料に関する特徴を提示する。試料２４に関する「低せん断粘度％低減」は、参照Ｙに対するものである。
手順においてポリマー１の代わりにポリマー２を使用することを除いて、パートＩと同様の様式で試料参照Ｙ及び２４を調製する。参照Ｙについては、２．８６４ｇのポリマー２、１．７１４ｇの充填剤１、５．１４１ｇの充填剤２、及び１０．２８２ｇの充填剤３を使用する。試料２４では、０．３０５の添加剤１、２．５５８ｇのポリマー２、１．７１４ｇの充填剤１、５．１４２ｇの充填剤２、及び１０．２８５ｇの充填剤３を使用する。表４は、これらの２つの試料に関する特徴を提示する。試料２４に関する「低せん断粘度％低減」は、参照Ｙに対するものである。
【表4】
【0072】
パートＩＩＩ：酸化亜鉛及びアルミニウム三水和物添加剤を有する熱伝導性組成物
充填剤１、２及び３の代わりに充填剤４、５及び６を使用することを除いて、パートＩと同様の様式で試料参照Ｚ及び２５を調製する。参照Ｚについては、３．４６１ｇのポリマー１、３．５３０ｇの充填剤４、４．７６２ｇの充填剤５、及び８．２４５ｇの充填剤６を使用する。試料２５については、０．３０５の添加剤１、３．１５５ｇのポリマー１、３．５２９ｇの充填剤４、４．７６６ｇの充填剤５、及び８．２５０ｇの充填剤６を使用する。表５は、これらの２つの試料の特徴を提示する。試料２５についての「低せん断粘度％低減」は、参照Ｚに対するものである。
充填剤１、２及び３の代わりに充填剤４、５及び６を使用することを除いて、パートＩと同様の様式で試料参照Ｚ及び２５を調製する。参照Ｚについては、３．４６１ｇのポリマー１、３．５３０ｇの充填剤４、４．７６２ｇの充填剤５、及び８．２４５ｇの充填剤６を使用する。試料２５については、０．３０５の添加剤１、３．１５５ｇのポリマー１、３．５２９ｇの充填剤４、４．７６６ｇの充填剤５、及び８．２５０ｇの充填剤６を使用する。表５は、これらの２つの試料の特徴を提示する。試料２５についての「低せん断粘度％低減」は、参照Ｚに対するものである。
【表5】
【0073】
パートＩＶ：添加剤１を有する硬化性電気伝導性組成物
表６は、参照試料ＡＡ並びに試料ＢＢ、ＣＣ及び２６～２９に関する配合物（グラムで列挙された成分量）を提示する。表７は、配合物の特徴を提示する。「低せん断粘度％低減」は、参照ＡＡに対するものである。
表６は、参照試料ＡＡ並びに試料ＢＢ、ＣＣ及び２６～２９に関する配合物（グラムで列挙された成分量）を提示する。表７は、配合物の特徴を提示する。「低せん断粘度％低減」は、参照ＡＡに対するものである。
【0074】
指定された量のポリマー３、ポリマー４、任意の指定された添加剤、シラン１、シラン２、及び充填剤７を添加することによって、歯科用カップ中で試料配合物を調製する。成分を一緒に穏やかに手動で混合し、次いでＦｌａｃｋＴｅｋスピードミキサを用いて１６００ＲＰＭで３０秒間混合する。充填剤８を添加し、穏やかに手動で混合し、次いでＦｌａｃｋＴｅｋスピードミキサを用いて１６００ＲＰＭで３０秒間混合する。充填剤９を添加し、次いでＦｌａｃｋＴｅｋスピードミキサを用いて１６００ＲＰＭで３０秒間混合する。特定量の阻害剤溶液１及び架橋剤１を添加する。穏やかに手動で混合し、次いで、ＦｌａｃｋＴｅｋスピードミキサを用いて１６００ＲＰＭで３０秒間混合する。特定量の触媒溶液２を添加する。穏やかに手動で混合し、次いで、ＦｌａｃｋＴｅｋスピードミキサを用いて１６００ＲＰＭで３０秒間混合する。
＊添加剤６は、この配合物中のマトリックスポリマーよりも低い粘度を有するので、おそらく粘度低減をもたらす。
【表6】
【表7】
＊添加剤６は、この配合物中のマトリックスポリマーよりも低い粘度を有するので、おそらく粘度低減をもたらす。
【国際調査報告】